JP2001214212A - ＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法 - Google Patents
ＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法Info
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- Y02P10/25—Process efficiency
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、疲労寿命を低下するＴｉＮ系介在
物の長さが１０μｍ以下の含Ｔｉ鋼の製造方法を提供す
ること。 【解決手段】 リターン材を含まない含Ｔｉ鋼用原材料
を真空誘導炉で溶解し、鋳造して製造した含Ｔｉ鋼材を
電極とし、真空アーク溶解法で再溶解することを特徴と
するＴｉＮ系介在物を微細にした含Ｔｉ鋼の製造方法。
物の長さが１０μｍ以下の含Ｔｉ鋼の製造方法を提供す
ること。 【解決手段】 リターン材を含まない含Ｔｉ鋼用原材料
を真空誘導炉で溶解し、鋳造して製造した含Ｔｉ鋼材を
電極とし、真空アーク溶解法で再溶解することを特徴と
するＴｉＮ系介在物を微細にした含Ｔｉ鋼の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、含有するＴｉＮ系
介在物を微細にするマルエージング鋼などの含Ｔｉ鋼の
製造方法に関する。
介在物を微細にするマルエージング鋼などの含Ｔｉ鋼の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】含Ｔｉ鋼の一種であるマルエイジング鋼
は、硬度、強度が高く、熱間及び冷間における疲労特性
が高いため各種金型、固体燃料ロケット、超高速遠心分
離機、トルク伝達軸、強力歯車などの用途に用いられて
いる。一般的に、このマルエージング鋼は、真空誘導溶
解炉で溶解して製造した真空誘導溶解材を真空アーク再
溶解法で溶解し、鋳造する二重溶解法などで製造されて
いた。
は、硬度、強度が高く、熱間及び冷間における疲労特性
が高いため各種金型、固体燃料ロケット、超高速遠心分
離機、トルク伝達軸、強力歯車などの用途に用いられて
いる。一般的に、このマルエージング鋼は、真空誘導溶
解炉で溶解して製造した真空誘導溶解材を真空アーク再
溶解法で溶解し、鋳造する二重溶解法などで製造されて
いた。
【０００３】この二重溶解法は、先ず真空誘導炉によっ
て合金成分の調整し、Ｃ、Ｎ、Ｈ、Ｏなどの不純物
の低減が行われ、第２段の真空アーク再溶解によって更
にＣ，Ｎ，Ｈ，Ｏなどの低減を行い、かつ積層凝固によ
り偏析を少なくするものである。この二重溶解法で製造
されたマルエージング鋼は、硬度、強度が高く、清浄性
が優れ、また疲労特性が高いため上記の多くの用途に使
用されているが、１０7回以上の超高疲労特性の改善が
要求されるアイテムは、１０μｍ程度のＴｉＮ系介在物
を起点として疲労破壊するため、更なる疲労特性の改善
が要求され、真空アーク再溶解などにおいてＴｉＮ系介
在物の低減および微細化が必要となった。
て合金成分の調整し、Ｃ、Ｎ、Ｈ、Ｏなどの不純物
の低減が行われ、第２段の真空アーク再溶解によって更
にＣ，Ｎ，Ｈ，Ｏなどの低減を行い、かつ積層凝固によ
り偏析を少なくするものである。この二重溶解法で製造
されたマルエージング鋼は、硬度、強度が高く、清浄性
が優れ、また疲労特性が高いため上記の多くの用途に使
用されているが、１０7回以上の超高疲労特性の改善が
要求されるアイテムは、１０μｍ程度のＴｉＮ系介在物
を起点として疲労破壊するため、更なる疲労特性の改善
が要求され、真空アーク再溶解などにおいてＴｉＮ系介
在物の低減および微細化が必要となった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、含有するＴ
ｉＮ系介在物の最大長さを１０μｍ以下にする含Ｔｉ鋼
の製造方法を提供することを課題とするものである。
ｉＮ系介在物の最大長さを１０μｍ以下にする含Ｔｉ鋼
の製造方法を提供することを課題とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明者は、含Ｔｉ鋼中のＴｉＮ系介在物の微細化
方法について、成分組成、製造プロセスなどについて種
々研究していたところ、ＴｉＮ系介在物は１０μｍより
大きくなると疲労寿命が短くなること、真空アーク再溶
解では、原料に含まれているＴｉＮ系介在物を除去する
ことができないこと、ＴｉＮ系介在物を小さくする一方
法は、ＴｉＮ系介在物の量を少なくすればよいこと、真
空エレクトロスラグ溶解法で再溶解するとＴｉＮ系介在
物を低減することができることなどの知見を得た。
め、本発明者は、含Ｔｉ鋼中のＴｉＮ系介在物の微細化
方法について、成分組成、製造プロセスなどについて種
々研究していたところ、ＴｉＮ系介在物は１０μｍより
大きくなると疲労寿命が短くなること、真空アーク再溶
解では、原料に含まれているＴｉＮ系介在物を除去する
ことができないこと、ＴｉＮ系介在物を小さくする一方
法は、ＴｉＮ系介在物の量を少なくすればよいこと、真
空エレクトロスラグ溶解法で再溶解するとＴｉＮ系介在
物を低減することができることなどの知見を得た。
【０００６】また、含Ｔｉ鋼用原材料のＴｉＮ系介在物
量を少なくすると、製造された含Ｔｉ鋼中のＴｉＮ系介
在物を低減することができること、含Ｔｉ鋼用原材料の
ＴｉＮ系介在物量を少なくするには、原材料を厳選して
リターン材を含まないことが望ましいこと、溶解中にＴ
ｉＮ系介在物の凝集を防止すれば、ＴｉＮ系介在物を小
さくすることができること、真空アーク再溶解法で溶解
する場合、溶解速度が速いとＴｉＮ系介在物が大きくな
ることなどの知見を得て本発明をなしたものである。
量を少なくすると、製造された含Ｔｉ鋼中のＴｉＮ系介
在物を低減することができること、含Ｔｉ鋼用原材料の
ＴｉＮ系介在物量を少なくするには、原材料を厳選して
リターン材を含まないことが望ましいこと、溶解中にＴ
ｉＮ系介在物の凝集を防止すれば、ＴｉＮ系介在物を小
さくすることができること、真空アーク再溶解法で溶解
する場合、溶解速度が速いとＴｉＮ系介在物が大きくな
ることなどの知見を得て本発明をなしたものである。
【０００７】すなわち、上記課題を解決するため、本発
明のＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法に
おいては、ＴｉＮ系介在物を含まない含Ｔｉ鋼用原材料
（リターン材を含まないほうが望ましい。）を真空誘導
炉で溶解し、鋳造して製造した含Ｔｉ鋼材を電極として
真空アーク溶解法で再溶解することである。
明のＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法に
おいては、ＴｉＮ系介在物を含まない含Ｔｉ鋼用原材料
（リターン材を含まないほうが望ましい。）を真空誘導
炉で溶解し、鋳造して製造した含Ｔｉ鋼材を電極として
真空アーク溶解法で再溶解することである。
【０００８】さらに、上記課題を解決するため、本発明
のＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法にお
いては、ＴｉＮ系介在物を含まない含Ｔｉ鋼用原材料
（リターン材を含まないほうが望ましい。）を真空誘導
炉で溶解し、鋳造して製造した含Ｔｉ鋼材を電極として
真空エレクトロスラグ溶解法で再溶解し、更にこの真空
エレクトロスラグ溶解法で溶解した再溶解材を電極とし
て真空アーク溶解法で再溶解することである。
のＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法にお
いては、ＴｉＮ系介在物を含まない含Ｔｉ鋼用原材料
（リターン材を含まないほうが望ましい。）を真空誘導
炉で溶解し、鋳造して製造した含Ｔｉ鋼材を電極として
真空エレクトロスラグ溶解法で再溶解し、更にこの真空
エレクトロスラグ溶解法で溶解した再溶解材を電極とし
て真空アーク溶解法で再溶解することである。
【０００９】また、上記課題を解決するため、本発明の
ＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法におい
ては、真空アーク再溶解法での溶解を湯上がり速度で
０．４ｃｍ／分以下の速度にすることである。
ＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法におい
ては、真空アーク再溶解法での溶解を湯上がり速度で
０．４ｃｍ／分以下の速度にすることである。
【００１０】
【作用】本発明のＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼
の製造方法においては、ＴｉＮ系介在物を含まない含Ｔ
ｉ鋼用原材料を真空誘導炉で溶解するので、ＴｉＮ系介
在物が少ない含Ｔｉ鋼材を製造することができ、この含
Ｔｉ鋼材を電極として真空アーク溶解法で再溶解する
と、ＴｉＮ系介在物が少なく、かつ小さい含Ｔｉ鋼を製
造することができる。さらに、真空誘導炉で溶解し、鋳
造して製造したＴｉＮ系介在物が少ない含Ｔｉ鋼材を電
極として真空エレクトロスラグ溶解法で再溶解するの
で、大気中のＮ2 に汚染されることなくＴｉＮ系介在物
がスラグに捕捉され、ＴｉＮ系介在物がさらに少く、か
つ小さい含Ｔｉ鋼を製造することができる。
の製造方法においては、ＴｉＮ系介在物を含まない含Ｔ
ｉ鋼用原材料を真空誘導炉で溶解するので、ＴｉＮ系介
在物が少ない含Ｔｉ鋼材を製造することができ、この含
Ｔｉ鋼材を電極として真空アーク溶解法で再溶解する
と、ＴｉＮ系介在物が少なく、かつ小さい含Ｔｉ鋼を製
造することができる。さらに、真空誘導炉で溶解し、鋳
造して製造したＴｉＮ系介在物が少ない含Ｔｉ鋼材を電
極として真空エレクトロスラグ溶解法で再溶解するの
で、大気中のＮ2 に汚染されることなくＴｉＮ系介在物
がスラグに捕捉され、ＴｉＮ系介在物がさらに少く、か
つ小さい含Ｔｉ鋼を製造することができる。
【００１１】また、真空エレクトロスラグ溶解法で再溶
解して製造した電極などを真空アーク溶解法で再溶解す
ることにより、Ｃ、Ｎ、Ｈ、Ｏなどの不純物の低減、Ｔ
ｉＮ系介在物の微細化及び偏析の低減をすることができ
る。また、真空エレクトロスラグ溶解法で再溶解して製
造した電極を真空アーク溶解法で再溶解する際、溶解速
度を極力低くする（望ましくは、湯上がり速度を０．４
ｃｍ／分以下にする）ことにより、プールが小さく、か
つ浅くなるため、プール中でのＴｉＮ系介在物の凝集時
間が短くなるので、ＴｉＮ系介在物を微細にすることが
できる。
解して製造した電極などを真空アーク溶解法で再溶解す
ることにより、Ｃ、Ｎ、Ｈ、Ｏなどの不純物の低減、Ｔ
ｉＮ系介在物の微細化及び偏析の低減をすることができ
る。また、真空エレクトロスラグ溶解法で再溶解して製
造した電極を真空アーク溶解法で再溶解する際、溶解速
度を極力低くする（望ましくは、湯上がり速度を０．４
ｃｍ／分以下にする）ことにより、プールが小さく、か
つ浅くなるため、プール中でのＴｉＮ系介在物の凝集時
間が短くなるので、ＴｉＮ系介在物を微細にすることが
できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、本発明をより詳細に説明す
る。本発明の含有するＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔ
ｉ鋼とは、マルエージング鋼（Ｃ；０．０１０％以下、
Ｓｉ：０．０５％以下、Ｍｎ：０．０５％以下、Ｐ：０
０６％以下、Ｓ：０．００６％以下、Ｎｉ：１６〜２６
％、Ｔｉ：０．１〜２．０％を含有し、必要に応じてＣ
ｏ：５〜１６％、Ｍｏ：２〜１０％及びＡｌ：０．０３
〜０．４％のうちの１種又は２種以上を含有し、残部Ｆ
ｅ及び不可避的不純物からなる鋼）、ＪＩＳ ＳＵＨ６
６０（Ｃ；０．０８％以下、Ｓｉ：１．００％以下、Ｍ
ｎ：２．００％以下、Ｐ：０４０％以下、Ｓ：０．０３
０％以下、Ｎｉ：２４〜２７％、Ｃｒ：１３．５０〜１
６．００％、Ｍｏ：１．００〜１．５０％、Ｖ：０．１
０〜０．５０％、Ｔｉ：１．９０〜２．３５％、Ａｌ：
０．３５％以下、Ｂ：０．００１〜０．０１０％を含有
し、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる鋼）、ＰＨス
テンレス鋼などである。
る。本発明の含有するＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔ
ｉ鋼とは、マルエージング鋼（Ｃ；０．０１０％以下、
Ｓｉ：０．０５％以下、Ｍｎ：０．０５％以下、Ｐ：０
０６％以下、Ｓ：０．００６％以下、Ｎｉ：１６〜２６
％、Ｔｉ：０．１〜２．０％を含有し、必要に応じてＣ
ｏ：５〜１６％、Ｍｏ：２〜１０％及びＡｌ：０．０３
〜０．４％のうちの１種又は２種以上を含有し、残部Ｆ
ｅ及び不可避的不純物からなる鋼）、ＪＩＳ ＳＵＨ６
６０（Ｃ；０．０８％以下、Ｓｉ：１．００％以下、Ｍ
ｎ：２．００％以下、Ｐ：０４０％以下、Ｓ：０．０３
０％以下、Ｎｉ：２４〜２７％、Ｃｒ：１３．５０〜１
６．００％、Ｍｏ：１．００〜１．５０％、Ｖ：０．１
０〜０．５０％、Ｔｉ：１．９０〜２．３５％、Ａｌ：
０．３５％以下、Ｂ：０．００１〜０．０１０％を含有
し、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる鋼）、ＰＨス
テンレス鋼などである。
【００１３】本発明の真空誘導炉で溶解する含Ｔｉ鋼用
原材料は、ＴｉＮ系介在物を含まないもの、すなわち、
全ての原料が、バージン材からなるものが望ましい。含
Ｔｉ鋼用原材料中にリターン材が含まれると製造される
含Ｔｉ鋼中のＴｉＮ系介在物が多くなり、その結果とし
てＴｉＮ系介在物が大きくなるからである。
原材料は、ＴｉＮ系介在物を含まないもの、すなわち、
全ての原料が、バージン材からなるものが望ましい。含
Ｔｉ鋼用原材料中にリターン材が含まれると製造される
含Ｔｉ鋼中のＴｉＮ系介在物が多くなり、その結果とし
てＴｉＮ系介在物が大きくなるからである。
【００１４】本発明に使用する真空誘導炉は、真空状態
で溶解できる誘導炉であれば、普通の構造のものでもよ
いし、特別の構造のものでもよい。さらに、本発明に使
用する真空エレクトロスラグ溶解法は、真空状態で溶解
するエレクトロスラグ溶解法であり、溶融スラグでＴｉ
Ｎ系介在物を捕捉できるものであれば、特に限定されな
いが、溶融スラグの材料としては、例えばＣａＦ2：７
０％、Ａｌ2 Ｏ3 ：３０％からなるものでもよい。溶解
速度については、特に制限はないが、均一な速度で溶解
されるほうが好ましい。
で溶解できる誘導炉であれば、普通の構造のものでもよ
いし、特別の構造のものでもよい。さらに、本発明に使
用する真空エレクトロスラグ溶解法は、真空状態で溶解
するエレクトロスラグ溶解法であり、溶融スラグでＴｉ
Ｎ系介在物を捕捉できるものであれば、特に限定されな
いが、溶融スラグの材料としては、例えばＣａＦ2：７
０％、Ａｌ2 Ｏ3 ：３０％からなるものでもよい。溶解
速度については、特に制限はないが、均一な速度で溶解
されるほうが好ましい。
【００１５】また、本発明に使用する真空アーク再溶解
法は、Ｃ、Ｎ、Ｈ、Ｏなどの不純物の低減、ＴｉＮ系介
在物の微細化及び偏析の低減を目的とし、真空エレクト
ロスラグ溶解法で溶解した再溶解材を電極として真空中
で水冷銅鋳型内においてアークにより再溶解する方法で
ある。この真空アーク再溶解法では水冷銅鋳型の径が大
きく、かつ溶解速度が速いと、溶融金属のプールが大き
くなってＴｉＮ系介在物が凝集して大きくなり、また偏
析も大きくなるので、水冷銅鋳型の径が、例えば３０ｃ
ｍ以下、湯上がり速度が０．４ｃｍ／分より遅いほうが
好ましい。
法は、Ｃ、Ｎ、Ｈ、Ｏなどの不純物の低減、ＴｉＮ系介
在物の微細化及び偏析の低減を目的とし、真空エレクト
ロスラグ溶解法で溶解した再溶解材を電極として真空中
で水冷銅鋳型内においてアークにより再溶解する方法で
ある。この真空アーク再溶解法では水冷銅鋳型の径が大
きく、かつ溶解速度が速いと、溶融金属のプールが大き
くなってＴｉＮ系介在物が凝集して大きくなり、また偏
析も大きくなるので、水冷銅鋳型の径が、例えば３０ｃ
ｍ以下、湯上がり速度が０．４ｃｍ／分より遅いほうが
好ましい。
【００１６】次に、本発明の実施例を説明する。
【実施例】実施例１ 純チタン、純ニッケル、フェロモリブデン、純コバル
ト、純アルミ、電解鉄を下記表１の本発明例 No.１及び
２の成分組成の鋼になるような含Ｔｉ鋼用原材料を真空
誘導溶解炉（ＶＩＦ）で下記表２の本発明例 No.１及び
２に記載したような溶解時間で溶解し、鋳造してインゴ
ットを製造した。このインゴットを電極とし、真空アー
ク溶解法（ＶＡＲ）で下記表２に記載したような真空
度、溶解速度で溶解、鋳造してインゴットを製造した。
このインゴットを鍛造後熱間圧延して厚さ３．５ｍｍホ
ットコイルを製造した。このコイルを切断して断面のＴ
ｉＮ系介在物の大きさを測定した結果を下記表３の本発
明例 No.１及び２に示した。
ト、純アルミ、電解鉄を下記表１の本発明例 No.１及び
２の成分組成の鋼になるような含Ｔｉ鋼用原材料を真空
誘導溶解炉（ＶＩＦ）で下記表２の本発明例 No.１及び
２に記載したような溶解時間で溶解し、鋳造してインゴ
ットを製造した。このインゴットを電極とし、真空アー
ク溶解法（ＶＡＲ）で下記表２に記載したような真空
度、溶解速度で溶解、鋳造してインゴットを製造した。
このインゴットを鍛造後熱間圧延して厚さ３．５ｍｍホ
ットコイルを製造した。このコイルを切断して断面のＴ
ｉＮ系介在物の大きさを測定した結果を下記表３の本発
明例 No.１及び２に示した。
【００１７】実施例２ 純チタン、純ニッケル、フェロモリブデン、純コバル
ト、純アルミ、電解鉄をを下記表１の本発明例 No.３〜
５の成分組成の鋼になるような含Ｔｉ鋼用原材料を真空
誘導溶解炉（ＶＩＦ）で下記表２の本発明例 No.４〜６
に記載したような溶解時間で溶解し、鋳造してインゴッ
トを製造した。このインゴットを電極とし、真空エレク
トロスラグ溶解法（真空ＥＳＲ）で下記表２に記載した
ような真空度、溶解速度で溶解、鋳造して電極を製造
し、この電極を真空アーク溶解法（ＶＡＲ）で下記表２
に記載したような真空度、溶解速度で溶解、鋳造してイ
ンゴットを製造した。このインゴットを鍛造後熱間圧延
して厚さ３．５ｍｍホットコイルを製造した。このコイ
ルを切断して断面のＴｉＮ系介在物の大きさを測定した
結果を下記表３の本発明例 No.４〜６に示した。
ト、純アルミ、電解鉄をを下記表１の本発明例 No.３〜
５の成分組成の鋼になるような含Ｔｉ鋼用原材料を真空
誘導溶解炉（ＶＩＦ）で下記表２の本発明例 No.４〜６
に記載したような溶解時間で溶解し、鋳造してインゴッ
トを製造した。このインゴットを電極とし、真空エレク
トロスラグ溶解法（真空ＥＳＲ）で下記表２に記載した
ような真空度、溶解速度で溶解、鋳造して電極を製造
し、この電極を真空アーク溶解法（ＶＡＲ）で下記表２
に記載したような真空度、溶解速度で溶解、鋳造してイ
ンゴットを製造した。このインゴットを鍛造後熱間圧延
して厚さ３．５ｍｍホットコイルを製造した。このコイ
ルを切断して断面のＴｉＮ系介在物の大きさを測定した
結果を下記表３の本発明例 No.４〜６に示した。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【００２０】比較例１ 実施例１と同様な含Ｔｉ鋼用原材料を真空誘導溶解炉
（ＶＩＦ）で下記表２の比較例 No.１に記載したような
溶解時間で溶解し、鋳造してインゴットを製造した。こ
のインゴットを電極とし、真空アーク炉で下記表２の比
較例 No.１に記載したような真空度、溶解速度（２２０
ｋｇ／Ｈｒ）で溶解、鋳造してインゴットを製造した。
このインゴットを鍛造後熱間圧延して厚さ３．５ｍｍホ
ットコイルを製造した。このコイルを切断して断面のＴ
ｉＮ系介在物の最大長さを測定した結果を下記表３の比
較例 No.１に示した。
（ＶＩＦ）で下記表２の比較例 No.１に記載したような
溶解時間で溶解し、鋳造してインゴットを製造した。こ
のインゴットを電極とし、真空アーク炉で下記表２の比
較例 No.１に記載したような真空度、溶解速度（２２０
ｋｇ／Ｈｒ）で溶解、鋳造してインゴットを製造した。
このインゴットを鍛造後熱間圧延して厚さ３．５ｍｍホ
ットコイルを製造した。このコイルを切断して断面のＴ
ｉＮ系介在物の最大長さを測定した結果を下記表３の比
較例 No.１に示した。
【００２１】比較例２ Ｎｉ、Ｍｏ、Ｆｅを含有するリターン材：８２％、８８
％及び６５％（比較例の No.３）、純チタン、純ニッケ
ル、フェロモリブデン、純コバルト、純アルミを１８％
（比較例の No.２）、１２％（比較例の No.３）、３５
％（比較例の No.４）からなる下記表１の比較例の No.
２〜４の成分組成の鋼になるような含Ｔｉ鋼用原材料を
真空誘導溶解炉（ＶＩＦ）で上記表２の比較例の No.２
〜４に記載したような溶解時間で溶解し、鋳造してイン
ゴットを製造した。このインゴットを電極とし、真空ア
ーク溶解法（ＶＡＲ）で上記表２に記載したような真空
度、溶解速度で溶解、鋳造してインゴットを製造した。
このインゴットを用いて実施例１と同様な方法で同様な
厚さ３．５ｍｍのホットコイルを製造した。このコイル
を切断して断面のＴｉＮ系介在物の最大長さを測定した
結果を上記表２の比較例 No.２〜４に示した。
％及び６５％（比較例の No.３）、純チタン、純ニッケ
ル、フェロモリブデン、純コバルト、純アルミを１８％
（比較例の No.２）、１２％（比較例の No.３）、３５
％（比較例の No.４）からなる下記表１の比較例の No.
２〜４の成分組成の鋼になるような含Ｔｉ鋼用原材料を
真空誘導溶解炉（ＶＩＦ）で上記表２の比較例の No.２
〜４に記載したような溶解時間で溶解し、鋳造してイン
ゴットを製造した。このインゴットを電極とし、真空ア
ーク溶解法（ＶＡＲ）で上記表２に記載したような真空
度、溶解速度で溶解、鋳造してインゴットを製造した。
このインゴットを用いて実施例１と同様な方法で同様な
厚さ３．５ｍｍのホットコイルを製造した。このコイル
を切断して断面のＴｉＮ系介在物の最大長さを測定した
結果を上記表２の比較例 No.２〜４に示した。
【００２２】
【表３】
【００２３】これら結果より、本発明例のもののＴｉ系
介在物の最大長さは、６．８〜９．８μｍであり、何れ
も１０μｍ以下であった。これに対して、比較例のもの
のＴｉ系介在物の最大長さは、１２．５〜１５．０μｍ
であり、何れも１０μｍを超えていた。また、ＶＡＲに
おける鋳造の湯上がり速度が０．４ｃｍ／分より遅いも
ののほうが、０．４ｃｍ／分より早いもののよりＴｉＮ
系介在物の最大長さが短くなっていた。
介在物の最大長さは、６．８〜９．８μｍであり、何れ
も１０μｍ以下であった。これに対して、比較例のもの
のＴｉ系介在物の最大長さは、１２．５〜１５．０μｍ
であり、何れも１０μｍを超えていた。また、ＶＡＲに
おける鋳造の湯上がり速度が０．４ｃｍ／分より遅いも
ののほうが、０．４ｃｍ／分より早いもののよりＴｉＮ
系介在物の最大長さが短くなっていた。
【００２４】
【効果】本発明のＴｉＮ系介在物を微細にした含Ｔｉ鋼
の製造方法は、上記構成にしたことによって、含Ｔｉ鋼
中のＴｉＮ系介在物の最大長さを１０μｍ以下にするこ
とができるという優れた効果を奏することができる。
の製造方法は、上記構成にしたことによって、含Ｔｉ鋼
中のＴｉＮ系介在物の最大長さを１０μｍ以下にするこ
とができるという優れた効果を奏することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年１月３１日（２０００．１．３
１）
１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２０】
【表３】 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年２月１日（２０００．２．１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 ＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼
の製造方法
の製造方法
Claims (3)
- 【請求項１】 ＴｉＮ系介在物を含まない含Ｔｉ鋼用原
材料を真空誘導炉で溶解し、鋳造して製造した含Ｔｉ鋼
材を電極として真空アーク溶解法で再溶解することを特
徴とするＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方
法。 - 【請求項２】 ＴｉＮ系介在物を含まない含Ｔｉ鋼用原
材料を真空誘導炉で溶解し、鋳造して製造した含Ｔｉ鋼
材を電極として真空エレクトロスラグ溶解法で再溶解
し、更にこの真空エレクトロスラグ溶解法で溶解した再
溶解材を電極として真空アーク溶解法で再溶解すること
を特徴とするＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製
造方法。 - 【請求項３】 上記真空アーク溶解法による再溶解は、
湯上がり速度が０．４ｃｍ／分以下であることを特徴と
する請求項１又は請求項２記載のＴｉＮ系介在物を微細
にする含Ｔｉ鋼の製造方法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000020938A JP2001214212A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | ＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000020938A JP2001214212A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | ＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001214212A true JP2001214212A (ja) | 2001-08-07 |
Family
ID=18547418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000020938A Pending JP2001214212A (ja) | 2000-01-28 | 2000-01-28 | ＴｉＮ系介在物を微細にする含Ｔｉ鋼の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001214212A (ja) |
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2000
- 2000-01-28 JP JP2000020938A patent/JP2001214212A/ja active Pending
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