JP2001208804A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JP2001208804A
JP2001208804A JP2000015610A JP2000015610A JP2001208804A JP 2001208804 A JP2001208804 A JP 2001208804A JP 2000015610 A JP2000015610 A JP 2000015610A JP 2000015610 A JP2000015610 A JP 2000015610A JP 2001208804 A JP2001208804 A JP 2001208804A
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JP
Japan
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circuit
delay
signal
clock signal
memory
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Application number
JP2000015610A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Suzuki
武史 鈴木
Shigeru Nakahara
茂 中原
Keiichi Higeta
恵一 日下田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit device with a test circuit capable of measuring a memory access time precisely while using a clock signal formed insides. SOLUTION: In this semiconductor integrated circuit device including a clock generating circuit for forming the internal clock signal synchronized with a clock signal supplied from an external terminal, and a memory circuit actuated by the internal clock signal formed in the clock generating circuit, the internal clock signal is supplied to a variable delay circuit, a phase difference between a delayed signal thereof and the internal clock signal is compared to form a control loop so as to comform the both, plural delayed signals are formed by selecting delay stages of the variable delay circuit to start the memory access with respect to the memory circuit by the internal clock signal, and an output signal of the memory circuit is held by the selected delayed signal of the variable delay circuit to prpovide the test circuit for conducting the measurement of the access time of the memory circuit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体集積回路装
置に関し、例えば、内蔵されたメモリ回路のアクセス時
間を測定するテスト回路に利用して有効な技術に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and, more particularly, to a technique effective for use in a test circuit for measuring an access time of a built-in memory circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】論理回路とRAMとが混在してなる半導
体集積回路装置において、上記内蔵のRAMのアクセス
時間を測定する方法として、2相のクロック信号を用意
し、この2相のクロック信号を論理回路に供給し、その
位相差をパルス幅とする内部クロックを形成し、メモリ
回路のアクセス時間の測定に用いるものがある。メモリ
回路の出力部にD型ラッチ回路を設け、上記内部クロッ
ク信号がハイレベルの期間にD型ラッチ回路がスルーに
なってメモリ回路の出力信号を取り込む。つまり、上記
2つのクロック信号の位相差がメモリアクセス時間より
短いと、D型ラッチ回路にメモリ回路の出力信号が伝わ
らないことを利用するものである。
2. Description of the Related Art In a semiconductor integrated circuit device in which a logic circuit and a RAM are mixed, a two-phase clock signal is prepared as a method of measuring the access time of the built-in RAM. In some cases, the internal clock is supplied to a logic circuit to form an internal clock having a pulse width based on the phase difference, and is used for measuring an access time of a memory circuit. A D-type latch circuit is provided at an output portion of the memory circuit, and the D-type latch circuit becomes through during a period in which the internal clock signal is at a high level to take in an output signal of the memory circuit. In other words, it utilizes the fact that the output signal of the memory circuit is not transmitted to the D-type latch circuit if the phase difference between the two clock signals is shorter than the memory access time.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】外部端子から供給され
たクロック信号を受けて、内部でそれと同期したクロッ
ク信号を形成するクロック発生回路を備えた半導体集積
回路装置では、内部のクロック信号が上記クロック発生
回路で生成されてしまうので、仮にそれと位相差を持つ
ようなにしたクロック信号を供給しても、内部クロック
信号のパルス幅を正確に制御することは困難であり、パ
ルス幅を利用した上記のようなメモリアクセス時間の測
定方法ではその精度が落ちてしまう。
SUMMARY OF THE INVENTION In a semiconductor integrated circuit device provided with a clock generation circuit for receiving a clock signal supplied from an external terminal and internally forming a clock signal synchronized with the clock signal, the internal clock signal is Since it is generated by the generation circuit, it is difficult to accurately control the pulse width of the internal clock signal even if a clock signal having a phase difference with the clock signal is supplied. In such a method of measuring the memory access time, the accuracy is reduced.

【0004】この発明の目的は、内部で形成されたクロ
ック信号を用いつつ、高い精度でのメモリアクセス時間
の測定が可能なテスト回路を備えた半導体集積回路装置
を提供することにある。この発明の前記ならびにその他
の目的と新規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面
から明らかになるであろう。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having a test circuit capable of measuring a memory access time with high accuracy while using a clock signal formed inside. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、外部端子から供給されたクロ
ック信号に同期した内部クロック信号を形成するクロッ
ク発生回路と、かかるクロック発生回路で形成された内
部クロック信号により動作するメモリ回路とを含む半導
体集積回路装置において、上記内部クロック信号を可変
遅延回路に供給して、その遅延信号と上記内部クロック
信号との位相差を比較して両者を一致させるような制御
ループを形成し、上記可変遅延回路の遅延段の選択によ
り複数通りの遅延信号を形成して上記内部クロック信号
により上記メモリ回路に対するメモリアクセスを開始
し、上記可変遅延回路の選択された遅延信号によりメモ
リ回路の出力信号を保持して、上記メモリ回路のアクセ
スタイムの測定を行なうテスト回路を設ける。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. That is, in a semiconductor integrated circuit device including a clock generation circuit that forms an internal clock signal synchronized with a clock signal supplied from an external terminal, and a memory circuit that operates with the internal clock signal formed by the clock generation circuit, An internal clock signal is supplied to a variable delay circuit, a phase difference between the delayed signal and the internal clock signal is compared, and a control loop is formed so as to match the two. By selecting a delay stage of the variable delay circuit, A plurality of types of delay signals are formed, memory access to the memory circuit is started by the internal clock signal, an output signal of the memory circuit is held by a selected delay signal of the variable delay circuit, and access to the memory circuit is performed. A test circuit for measuring time is provided.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】図1には、この発明に係る半導体
集積回路装置(以下、単にLSIという)に設けられる
メモリ回路とそのテスト回路の一実施例のブロック図が
示されている。同図には、複数の機能ブロックを有する
LSIのうち、上記メモリ回路に関する部分のみが示さ
れている。かかるLSIは、公知の半導体集積回路の製
造技術によって、単結晶シリコンのような1個の半導体
基板上において形成される。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a memory circuit and a test circuit provided in a semiconductor integrated circuit device (hereinafter simply referred to as an LSI) according to the present invention. FIG. 1 shows only a portion related to the memory circuit among LSIs having a plurality of functional blocks. Such an LSI is formed on one semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

【0007】この実施例では、メモリ回路のメモリアク
セス時間の測定用の可変遅延回路をLSI内部に設け、
この可変遅延段の遅延時間とRAM(ランダム・アクセ
ス・メモリ)のアクセス時間とを比較することで、RA
Mのアクセス時間を測定するものである。この場合、半
導体集積回路装置に形成される遅延回路の遅延時間を高
精度に設定するため、各RAMマクロに埋め込んだ可変
遅延段をPLL回路で形成された内部クロックICKの
サイクル時間を利用して自己補正する。つまり、PLL
回路の周波数は、外部クロック信号CKの周波数に依存
しており、精度よく決まっている。このため、サイクル
時間を使用して可変遅延段を補正すれば、可変遅延段の
遅延時間も精度よく決まる。これを利用してメモリアク
セス時間を測定することにより、高い精度での測定結果
が得られる。
In this embodiment, a variable delay circuit for measuring a memory access time of a memory circuit is provided inside an LSI,
By comparing the delay time of this variable delay stage with the access time of a RAM (random access memory), RA
The access time of M is measured. In this case, in order to set the delay time of the delay circuit formed in the semiconductor integrated circuit device with high precision, a variable delay stage embedded in each RAM macro is used by using the cycle time of the internal clock ICK formed by the PLL circuit. Self-correct. That is, PLL
The frequency of the circuit depends on the frequency of the external clock signal CK and is determined accurately. For this reason, if the variable delay stage is corrected using the cycle time, the delay time of the variable delay stage is also determined accurately. By using this to measure the memory access time, a highly accurate measurement result can be obtained.

【0008】PLL回路は、周知のように外部端子から
供給されたクロック信号CKと同期した内部クロック信
号ICKを形成する。このため、内部クロック信号IC
Kのサイクルタイム(1周期)は、上記外部端子から供
給されたクロック信号CKと正しく一致するように形成
される。上記内部クロック信号ICKは、特に制限され
ないが、第1の可変遅延回路VDL1と第2の可変遅延
回路VDL2を通して遅延されて遅延信号ICK’とさ
れる。位相比較回路PDは、上記内部クロック信号IC
Kと上記遅延信号ICK’とを比較し、両信号ICKと
ICK’の位相を一致させるような制御電圧VCを形成
して上記第1及び第2の可変遅延回路の遅延時間を制御
する。
The PLL circuit forms an internal clock signal ICK synchronized with a clock signal CK supplied from an external terminal, as is well known. Therefore, the internal clock signal IC
The cycle time (one cycle) of K is formed so as to correctly match the clock signal CK supplied from the external terminal. Although not particularly limited, the internal clock signal ICK is delayed through a first variable delay circuit VDL1 and a second variable delay circuit VDL2 to be a delayed signal ICK '. The phase comparison circuit PD is connected to the internal clock signal IC
K is compared with the delay signal ICK ', and a control voltage VC is generated to match the phases of the two signals ICK and ICK' to control the delay times of the first and second variable delay circuits.

【0009】上記第1と第2の可変遅延回路VDL1と
VDL2は、インバータ回路等の遅延段により構成され
ており、上記のような位相比較動作によって各段の遅延
段での遅延時間は上記内部クロック信号ICKの1周期
を等分に分割するものである。この実施例では、第1の
可変遅延回路VDL1の遅延段を選択して、上記内部ク
ロック信号ICKに対して、第1の可変遅延回路VDL
1での遅延時間に対応した位相差を持つテストクロック
信号TLCKを発生させる。
The first and second variable delay circuits VDL1 and VDL2 are constituted by delay stages such as inverter circuits, and the delay time in each stage is reduced by the above-described phase comparison operation. One cycle of the clock signal ICK is equally divided. In this embodiment, the delay stage of the first variable delay circuit VDL1 is selected, and the first variable delay circuit VDL1 is supplied to the internal clock signal ICK.
A test clock signal TLCK having a phase difference corresponding to the delay time at 1 is generated.

【0010】メモリ回路RAMは、アドレス信号等の入
力信号を取り込むフリップフロップ回路FFinと、か
かるフリップフロップ回路FFinに取り込まれたアド
レス信号をデコーダDECで解読し、メモリセルがマト
リックス配置されてなるメモリアレイMARYから上記
アドレス信号により指定されたメモリセルを選択し、セ
ンスアンプSAによりセンスして出力用のフリップフロ
ップ回路FFoutに出力させる。
The memory circuit RAM includes a flip-flop circuit FFin which receives an input signal such as an address signal, and a decoder DEC which decodes the address signal which is received by the flip-flop circuit FFin, and a memory array in which memory cells are arranged in a matrix. The memory cell designated by the address signal is selected from MARY, sensed by the sense amplifier SA, and output to the output flip-flop circuit FFout.

【0011】かかるメモリ回路RAMのメモリアクセス
時間tcaを測定するために、上記内部クロック信号I
CKは、入力用のフリップフロップ回路FFinに供給
され、かかるクロック信号ICKと上記テストクロック
信号TLCKをマルチプレクサMXを介してメモリ回路
RAMの出力部に設けられたフリップフロップ回路FF
outに供給する。マルチプレクサMXは、通常動作で
は上記内部クロック信号ICKを選択し、上記テスト動
作では上記テストクロック信号TLCKを選択して上記
フリップフロップ回路FFoutに伝える。
In order to measure the memory access time tca of the memory circuit RAM, the internal clock signal I
CK is supplied to an input flip-flop circuit FFin, and the clock signal ICK and the test clock signal TLCK are supplied via a multiplexer MX to a flip-flop circuit FF provided at an output portion of a memory circuit RAM.
supply to out. The multiplexer MX selects the internal clock signal ICK in the normal operation, and selects the test clock signal TLCK in the test operation and transmits the same to the flip-flop circuit FFout.

【0012】上記可変遅延回路VDL1がm段の遅延段
で構成され、上記可変遅延回路VDL2がn段の遅延段
で構成されると、1つの遅延段での遅延時間は、内部ク
ロック信号ICKの1周期をTとすると、T/m+nに
等分された遅延時間を持つようにされる。それ故、1周
期遅れの遅延信号ICK’に対して内部クロックICK
との位相が正しく一致した状態においては、上記テスト
クロック信号TLCKは、第1の可変遅延回路VDL1
の遅延段数に対応した遅延信号とされ、かかる遅延時間
によりメモリ回路RAMのメモリアクセス時間tcaを
測定することができる。
When the variable delay circuit VDL1 is composed of m delay stages and the variable delay circuit VDL2 is composed of n delay stages, the delay time in one delay stage is equal to the internal clock signal ICK. Assuming that one cycle is T, the delay time is made equal to T / m + n. Therefore, the internal clock ICK is applied to the delayed signal ICK 'delayed by one cycle.
And the test clock signal TLCK is supplied to the first variable delay circuit VDL1
, And the memory access time tca of the memory circuit RAM can be measured based on the delay time.

【0013】特に制限されないが、フリップフロップ回
路FFoutを論理0にリセットしておき、内部クロッ
ク信号ICKによりメモリセルから論理1の情報を読み
出すようなメモリアクセスを行い、上記遅延段数を順次
に大きくしてフリップフロップ回路FFoutの出力信
号が論理0のリセット状態から上記読み出し信号に対応
した論理1に変わったときの遅延段数に対応した遅延時
間からメモリアクセス時間tcaを測定することができ
る。逆に、遅延時間を大きくして、論理0のままにされ
る直前の遅延時間からメモリアクセス時間tcaを測定
してもよいし、上記フリップフロップ回路FFoutの
初期値に対して異なる記憶情報を読み出すようにすれば
よい。
Although not particularly limited, the flip-flop circuit FFout is reset to logic 0, memory access is performed such that information of logic 1 is read from a memory cell by the internal clock signal ICK, and the number of delay stages is sequentially increased. Thus, the memory access time tca can be measured from the delay time corresponding to the number of delay stages when the output signal of the flip-flop circuit FFout changes from the reset state of logic 0 to the logic 1 corresponding to the read signal. Conversely, the delay time may be increased to measure the memory access time tca from the delay time immediately before the logic 0 is maintained, or read out different storage information from the initial value of the flip-flop circuit FFout. What should I do?

【0014】図2には、この発明に係る半導体集積回路
装置に搭載されるRAMマクロの一実施例の回路図が示
されている。メモリ回路は、スタティック型RAM(S
RAM)により構成される。このSRAMは、アドレス
ラッチ回路ALと、アドレスデコーダAD及びメモリア
レイMARY、センスアンプSA及び出力ラッチ回路O
Lと、判定出力回路FBAを備えている。PLL回路で
形成されたクロック信号ICKは、SRAMのタイミン
グ発生回路により遅延されて、アドレスラッチAL用ク
ロックICK1、アドレスデコーダ用クロックICK2
及びセンスアンプ用クロックICK3が形成され、これ
らの各クロック信号ICK1〜ICK3に対応してSR
AMの内部回路の動作が順次に行なわれる。
FIG. 2 is a circuit diagram showing one embodiment of a RAM macro mounted on a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. The memory circuit is a static RAM (S
RAM). This SRAM includes an address latch circuit AL, an address decoder AD, a memory array MARY, a sense amplifier SA, and an output latch circuit O.
L and a decision output circuit FBA. The clock signal ICK formed by the PLL circuit is delayed by the timing generation circuit of the SRAM, and the clock ICK1 for the address latch AL and the clock ICK2 for the address decoder are delayed.
And a sense amplifier clock ICK3 are formed.
The operation of the internal circuit of the AM is performed sequentially.

【0015】可変遅延回路は、前記図1の実施例と同様
に第1と第2の可変遅延回路VDL1とVDL2により
構成される。このうち第1の可変遅延回路VDL1は、
高い精度での遅延信号を形成するために遅延段DA0〜
DA8からなる低速遅延段と、DB0〜DB8からなる
高速遅延段とから構成される。上記低速遅延段DA0〜
DA8は固定的に縦列接続される。上記高速遅延段DB
0〜DB8は、初段回路DB0を除いて、遅延回路DB
1からDB8のそれぞれの入力には、切り換えスイッチ
S0〜S6が設けられて制御信号信号cd0〜cd7に
対応して、対応する段数毎に低速段信号又は高速段の出
力信号が切り換えられ、高速段の最終段DB8の出力部
には、ダミースイッチS8が設けられて高速最終段に定
常的に接続される。
The variable delay circuit is composed of first and second variable delay circuits VDL1 and VDL2 as in the embodiment of FIG. Among them, the first variable delay circuit VDL1 is
In order to form a delay signal with high accuracy, delay stages DA0
It comprises a low-speed delay stage consisting of DA8 and a high-speed delay stage consisting of DB0 to DB8. The low-speed delay stages DA0
DA8 is fixedly connected in cascade. The high-speed delay stage DB
0 to DB8 are delay circuits DB except for the first stage circuit DB0.
Changeover switches S0 to S6 are provided at the respective inputs of 1 to DB8, and corresponding to the control signal signals cd0 to cd7, the output signal of the low speed stage or the high speed stage is switched for each corresponding number of stages, and the high speed stage The output section of the last stage DB8 is provided with a dummy switch S8, which is constantly connected to the high-speed last stage.

【0016】この実施例では、上記第1の可変遅延回路
VDL1は、各遅延段の遅延時間を自動設定するモード
では、特に制限されないが、内部クロック信号ICKの
周期に対応して上記スイッチS0〜S7のうちいずれか
が選ばれて、上記低速遅延段と上記第2の可変遅延回路
VDL2と縦列接続され、前記位相比較回路PDを構成
する位相比較器PCMPの一方の入力に供給される。こ
の位相比較器PDの他方の入力には、上記クロック信号
ICLK1が供給される。位相比較器PDは、両者の位
相差に対応してアップup又はダウンdownの比較出
力を形成する。この比較出力upとdownは、アップ
/ダウンのカウンタ回路CTRに供給される。このカウ
ンタCTRの出力信号は、2進の重みを持つMOSFE
TM1〜M4に供給され、上記カウンタCTRの計数値
に対応するようにされてデジタル/アナログ変換動作を
行なう。
In this embodiment, the first variable delay circuit VDL1 is not particularly limited in the mode for automatically setting the delay time of each delay stage, but the switches S0 to S0 correspond to the cycle of the internal clock signal ICK. One of S7 is selected and cascade-connected to the low-speed delay stage and the second variable delay circuit VDL2 to be supplied to one input of a phase comparator PCMP constituting the phase comparison circuit PD. The clock signal ICLK1 is supplied to the other input of the phase comparator PD. The phase comparator PD forms an up-up or down-down comparison output corresponding to the phase difference between the two. The comparison outputs up and down are supplied to an up / down counter circuit CTR. The output signal of this counter CTR is MOSFE having a binary weight.
It is supplied to TM1 to M4, and performs a digital / analog conversion operation corresponding to the count value of the counter CTR.

【0017】制御電流回路DCCにより上記D/A変換
素子として動作するMOSFETM1〜M4に対応して
制御電流を形成し、電流ミラー回路により上記遅延段を
構成するインバータ回路に流す動作電流を制御する。こ
れにより、クロック信号ICK1の1周期が上記可変遅
延回路VDL1とVDL2により遅延された遅延信号n
s2と一致するような位相制御ループが形成されて、上
記可変遅延回路VDL1とVDL2の自動調整が行なわ
れる。上記クロック信号ICK1の複数サイクル(15
0サイクル程度)分のトレーニング期間が設けられて遅
延段の遅延時間の自動調整が終了すると、信号ADJL
OCKによりカウンタ回路UDCTRに上記位相が一致
した状態で保持させる。これにより、可変遅延回路VD
L1とVDL2の遅延時間が維持される。
The control current circuit DCC forms a control current corresponding to the MOSFETs M1 to M4 operating as the D / A conversion elements, and the current mirror circuit controls the operation current flowing to the inverter circuit constituting the delay stage. As a result, one cycle of the clock signal ICK1 is delayed by the variable delay circuits VDL1 and VDL2.
A phase control loop that matches s2 is formed, and the automatic adjustment of the variable delay circuits VDL1 and VDL2 is performed. A plurality of cycles of the clock signal ICK1 (15
When a training period for about 0 cycle) is provided and the automatic adjustment of the delay time of the delay stage is completed, the signal ADJL
OCK causes the counter circuit UDCTR to hold the phase coincident. Thereby, the variable delay circuit VD
The delay time of L1 and VDL2 is maintained.

【0018】この後、制御信号C0〜C2により選択デ
コーダCDECを介してスイッチS0〜S7をオン状態
にさせることにより、第1の可変遅延回路VDL1の出
力から得られる遅延信号は、そのスイッチS0〜S7に
より選ばれた段数に対応して遅延時間に設定されたテス
トクロック信号TLCKが形成される。テストモードで
は、信号TCAによりマルチプレクサMXを上記のよう
に生成したテストクロックTLCKに切り換えることに
より前記のようなテスト動作が行なわれる。
Thereafter, by turning on the switches S0 to S7 through the selection decoder CDEC by the control signals C0 to C2, the delay signal obtained from the output of the first variable delay circuit VDL1 is changed to the switches S0 to S7. A test clock signal TLCK set to a delay time corresponding to the number of stages selected by S7 is formed. In the test mode, the above-described test operation is performed by switching the multiplexer MX to the test clock TLCK generated as described above by the signal TCA.

【0019】図3には、上記可変遅延回路VDL1とV
DL2の一実施例の回路図が示されている。各遅延段
は、電源電圧と回路の接地電位に、動作電流を形成する
Pチャンネル型MOSFETとNチャンネル型MOSF
ETが設けられ、かかる2つのMOSFETを介して動
作電流が供給されるCMOSインバータ回路から構成さ
れる。上記動作電流を流すPチャンネル型MOSFET
は、位相比較出力に基づいて形成されたデジタル/アナ
ログ変換出力である制御電流ciが流れるダイオード接
続のPチャンネル型MOSFETP2と電流ミラー形態
に接続されることにより、上記制御電流ciに対応した
電流が流れるようにされる。この制御電流ciは、Pチ
ャンネル型MOSFETP3を介して、遅延段の動作電
流を流すNチャンネル型MOSFETと電流ミラー形態
にされたNチャンネル型MOSFETN4に流して、上
記同じ制御電流ciが流れるようにされる。
FIG. 3 shows the variable delay circuits VDL1 and VDL1.
A circuit diagram of one embodiment of DL2 is shown. Each delay stage includes a P-channel MOSFET and an N-channel MOSFET for forming an operating current between a power supply voltage and a ground potential of the circuit.
An ET is provided, and is constituted by a CMOS inverter circuit to which an operating current is supplied via the two MOSFETs. P-channel type MOSFET for passing the above operating current
Is connected to a diode-connected P-channel MOSFET P2 through which a control current ci, which is a digital / analog conversion output formed based on the phase comparison output, flows and a current mirror form, so that a current corresponding to the control current ci is generated. Let it flow. The control current ci flows through a P-channel MOSFET P3 to an N-channel MOSFET N4 in which a delay stage operating current flows and an N-channel MOSFET N4 in a current mirror form, so that the same control current ci flows. You.

【0020】スイッチS0〜S8は、2つのCMOSス
イッチと、それの制御信号を形成するインバータ回路に
より構成される。スイッチS8は、ダミースイッチとさ
れて定常的にハイレベル(VDD)が入力されて、高速
側の出力信号を選択する。他のスイッチS0〜S7は、
制御信号C0〜C2からなる3ビットの2進信号をゲー
ト回路NA0〜NA7によりデコードして形成された制
御信号により、1つがロウレベルになり、低速段の出力
信号を高速段に伝える。
Each of the switches S0 to S8 is composed of two CMOS switches and an inverter circuit for generating a control signal therefor. The switch S8 is a dummy switch to which a high level (VDD) is constantly input and selects an output signal on the high-speed side. The other switches S0 to S7 are
A control signal formed by decoding a 3-bit binary signal including the control signals C0 to C2 by the gate circuits NA0 to NA7 causes one of the signals to go to a low level, and transmits the output signal of the low speed stage to the high speed stage.

【0021】図4には、図2及び図3の可変遅延回路V
DLY1の動作を説明するための等価回路図が示されて
いる。この実施例において、遅延段DA0〜DA8及び
DB0〜DB8は、高い精度でのメモリアクセス時間を
測定するために、各遅延段はインバータ回路で構成され
る。このようにインバータ回路を用いた場合、入力信号
を反転させてしまうので、通常は遅延回路として動作さ
せるためには、2つのインバータ回路を単位の遅延段と
して用いる必要があるが、そのようにすると時間分解能
が低下してテスト精度が悪くなる。
FIG. 4 shows the variable delay circuit V shown in FIGS.
An equivalent circuit diagram for explaining the operation of DLY1 is shown. In this embodiment, each of the delay stages DA0 to DA8 and DB0 to DB8 is constituted by an inverter circuit in order to measure the memory access time with high accuracy. When an inverter circuit is used in this way, the input signal is inverted, so that it is usually necessary to use two inverter circuits as a unit delay stage in order to operate as a delay circuit. The time resolution decreases and the test accuracy deteriorates.

【0022】この実施例では、上記のように低速遅延段
DA0〜DA8と高速遅延段DB0〜DB8により可変
遅延回路が構成される。そして、低速側を縦列接続し、
高速側を初段回路を除いて前段又は対応する段数の高速
側とをスイッチにより切り換える構成にすることによ
り、可変遅延回路VDL1の全体の遅延段数はいずれの
スイッチS0〜S8を選んでも同じ9段となり、入力信
号に対して一定の出力信号(同図の例では反転信号)が
得られるものとなる。したがって、単位遅延段の遅延時
間を1つのインバータ回路で決めることができる上に、
その時間差を利用することにより、次に説明するように
いっそう高い時間分解能を実現するこができる。なお、
この反転信号は可変遅延回路VDL2を加えたインバー
タ回路列を含めて位相比較の段階で調整すればよいから
問題ない。
In this embodiment, a variable delay circuit is constituted by the low-speed delay stages DA0 to DA8 and the high-speed delay stages DB0 to DB8 as described above. And connect the low-speed side in tandem,
By changing the high-speed side to the preceding stage or the corresponding high-speed side by a switch except for the first stage circuit, the total number of delay stages of the variable delay circuit VDL1 becomes the same nine stages regardless of which switch S0 to S8 is selected. Thus, a constant output signal (an inverted signal in the example of FIG. 1) with respect to the input signal is obtained. Therefore, the delay time of the unit delay stage can be determined by one inverter circuit, and
By utilizing the time difference, a higher time resolution can be realized as described below. In addition,
This inversion signal can be adjusted at the phase comparison stage including the inverter circuit row to which the variable delay circuit VDL2 is added, so that there is no problem.

【0023】例えば、PLL回路により1GHzの内部
クロック信号ICKを形成し、低速側のインバータ回路
DA0〜DA8の遅延時間を75psとし、高速側のイ
ンバータ回路DB0〜DB8の遅延時間を50psにす
るために、第2の可変遅延回路VDLY2のインバータ
回路DB9〜DB12での遅延時間を87.5psにし
て全体で350psの遅延時間を割り当てる。
For example, in order to form an internal clock signal ICK of 1 GHz by a PLL circuit, set the delay time of the low-speed inverter circuits DA0 to DA8 to 75 ps, and set the delay time of the high-speed inverter circuits DB0 to DB8 to 50 ps. The delay time in the inverter circuits DB9 to DB12 of the second variable delay circuit VDLY2 is set to 87.5 ps, and a total delay time of 350 ps is allocated.

【0024】この場合、上記第1の可変遅延回路VDL
Y1により650psの遅延時間にするためにスイッチ
S5により低速段と高速段を接続して低速段では(75
×6)450psの遅延時間を得るものとし、高速遅延
段では(50× 4)200psを得ることにより、1周
期が1μsの上記内部クロック信号ICKに同期化させ
ることができる。上記のような遅延段の遅延時間は、イ
ンバータ回路に動作電流を流すMOSFETのサイズ比
を上記遅延時間の逆比例するように設定することにより
回路設計される。上記のスイッチ状態でクロック信号I
CK1と遅延信号ns2の位相を一致させることによ
り、上記可変遅延回路VDLY1〜VDLY3の各遅延
段の遅延時間は、それぞれ75ps、50ps及び8
7.5psに自動調整される。
In this case, the first variable delay circuit VDL
The low-speed stage and the high-speed stage are connected by the switch S5 to make the delay time of 650 ps by Y1.
× 6) A delay time of 450 ps is obtained, and (50 × 4) 200 ps is obtained in the high-speed delay stage, whereby one cycle can be synchronized with the internal clock signal ICK of 1 μs. The delay time of the delay stage as described above is designed by setting the size ratio of the MOSFET for flowing the operation current to the inverter circuit so as to be inversely proportional to the delay time. In the above switch state, the clock signal I
By matching the phases of CK1 and the delay signal ns2, the delay times of the delay stages of the variable delay circuits VDLY1 to VDLY3 are 75 ps, 50 ps and 8 ps, respectively.
Automatically adjusted to 7.5 ps.

【0025】上記の自動調整が行なわれた後に、スイッ
チS0〜S7の組み合わせにより、最小単位が25ps
のような高い精度でのテストクロック信号TLCKを得
るようにすることがきる。例えば、上記スイッチS5に
代えてスイッチS6を低速側に接続させると、低速側で
1段増加して75psだけ遅延時間が増加し、高速側で
は1段減少して50psだけ遅延時間が減少するので全
体ではその差分である25ps増加する。逆に、上記ス
イッチS5に代えてスイッチS4を低速側に切り換える
と、低速側が75psだけ減少し、高速側が50psだ
け増加するので全体ではその差分である25psだけ減
少する。このようにして、MOSFETで構成された1
つのインバータ回路からなる単位遅延段では、到底形成
できないような短い遅延時間25psを回路的な手段に
より形成することができるものとなる。
After the above automatic adjustment is performed, the minimum unit is 25 ps by the combination of the switches S0 to S7.
Thus, the test clock signal TLCK can be obtained with high accuracy. For example, if the switch S6 is connected to the low-speed side instead of the switch S5, the delay time increases by one stage at the low-speed side and increases by 75 ps, and the delay time decreases by one stage at the high-speed side and decreases by 50 ps. As a whole, the difference is increased by 25 ps. Conversely, when the switch S4 is switched to the low speed side instead of the switch S5, the low speed side decreases by 75 ps and the high speed side increases by 50 ps, so that the difference is reduced by 25 ps as a whole. In this way, the 1
In a unit delay stage composed of two inverter circuits, a short delay time of 25 ps, which cannot be formed at all, can be formed by circuit means.

【0026】この構成では、高速側の遅延段のみを用い
ることにより、50×9=450psの遅延時間を得る
ことができ、低速側の遅延段のみを用いることで75×
8=600psの遅延時間を得ることができる。したが
って、メモリ回路RAMのメモリアクセス時間の測定範
囲は、450〜600psとなり、25psの時間分解
能でのメモリアクセス時間の判別を行なうことができ
る。
In this configuration, a delay time of 50 × 9 = 450 ps can be obtained by using only the delay stage on the high-speed side, and 75 × 9 by using only the delay stage on the low-speed side.
8 = 600 ps delay time can be obtained. Therefore, the measurement range of the memory access time of the memory circuit RAM is 450 to 600 ps, and it is possible to determine the memory access time with a time resolution of 25 ps.

【0027】図5には、この発明に係るLSIに設けら
れるメモリ回路とそのテスト回路の他の一実施例のブロ
ック図が示されている。この実施例では、外部から供給
されるクロック信号CKに対して、位相差Tskをもっ
てテスト用クロックDCKが入力される。上記外部クロ
ック信号CKとテスト用クロックCDKとは、位相比較
回路PDで比較されて、両者が一致するようにクロック
信号CKを遅延させる可変遅延回路DL1を制御する。
これの遅延回路と同じ回路で構成された遅延回路DL2
を設け、その遅延時間を上記位相比較回路PDの出力信
号で制御する。これにより、遅延回路DL1とDL2と
は同じ遅延時間を持つようにされる。この遅延時間は、
上記クロック信号CKとDCKの位相差Tskに対応し
たものとされる。
FIG. 5 is a block diagram showing another embodiment of the memory circuit and the test circuit provided in the LSI according to the present invention. In this embodiment, a test clock DCK is input with a phase difference Tsk to a clock signal CK supplied from the outside. The external clock signal CK and the test clock CDK are compared by a phase comparison circuit PD, and control a variable delay circuit DL1 that delays the clock signal CK so that they match.
A delay circuit DL2 composed of the same circuit as the delay circuit
And the delay time is controlled by the output signal of the phase comparison circuit PD. Thereby, the delay circuits DL1 and DL2 have the same delay time. This delay time is
The signal corresponds to the phase difference Tsk between the clock signals CK and DCK.

【0028】上記外部端子から供給されたクロック信号
CKは、PLL回路により内部クロック信号ICKが形
成される。この実施例では、この内部クロック信号IC
Kを上記遅延回路DL2により遅延(Tsk)させた遅
延信号DCK’を生成し、上記内部クロック信号ICK
と組み合わせて、その位相差(Tsk)に対応したパル
ス幅のクロック信号を形成する。このようなパルス幅を
持つパルス信号と、上記PLLで形成されたクロック信
号ICKとをマルチプレクサMXを通してメモリ回路R
AMに供給することにより、テスト動作では上記位相差
(Tsk)に対応したパルス幅のクロックCLKがメモ
リ回路を動作させることができ、そのパルス幅、つまり
は上記外部クロック信号CKとテスト用クロックDCK
との位相差(Tsk)によりメモリアクセス時間を測定
することができる。この構成では、各RAMマクロに遅
延段を埋め込む必要がない。PLL回路もくしは初段ク
ロックドライバにクロック信号を生成する回路を埋め込
む必要がある。
The clock signal CK supplied from the external terminal forms an internal clock signal ICK by a PLL circuit. In this embodiment, the internal clock signal IC
K is delayed (Tsk) by the delay circuit DL2 to generate a delayed signal DCK ′, and the internal clock signal ICK is generated.
To form a clock signal having a pulse width corresponding to the phase difference (Tsk). A pulse signal having such a pulse width and a clock signal ICK formed by the PLL are transferred to a memory circuit R through a multiplexer MX.
By supplying the clock to the AM, the clock CLK having a pulse width corresponding to the phase difference (Tsk) can operate the memory circuit in the test operation, and the pulse width, that is, the external clock signal CK and the test clock DCK can be used.
The memory access time can be measured by the phase difference (Tsk) from the above. In this configuration, there is no need to embed a delay stage in each RAM macro. It is necessary to embed a circuit for generating a clock signal in the PLL circuit or the first stage clock driver.

【0029】図6には、本発明が適用されるシステムL
SIの一実施例の全体の回路ブロック図が示されてい
る。この実施例の半導体集積回路装置CHIPは、図示
のような複数の回路ブロック、すなわち入出力回路I/
O、基板バイアス制御回路VBBC、制御回路ULC、
リードオンリメモリROM、D/A変換器DAC、A/
D変換器ADC、割り込み制御回路IVC、クロック発
生回路CGCを有するシステムパワーマネジメント回路
SPMC、中央処理部CPU、スタティックメモリSR
AM、DMAコントローラDMAC、ダイナミック型メ
モリDRAMを含む。
FIG. 6 shows a system L to which the present invention is applied.
An overall circuit block diagram of one embodiment of the SI is shown. The semiconductor integrated circuit device CHIP of this embodiment has a plurality of circuit blocks as shown in FIG.
O, substrate bias control circuit VBBC, control circuit ULC,
Read only memory ROM, D / A converter DAC, A /
D converter ADC, interrupt control circuit IVC, system power management circuit SPMC having clock generation circuit CGC, central processing unit CPU, static memory SR
AM, DMA controller DMAC, and dynamic memory DRAM.

【0030】それらの回路ブロックは、内部バスBU
S、制御バスCBUSに結合されている。それらは半導
体集積回路装置を構成すべき図示しない半導体基板に搭
載される。上記システムパワーマネジメント回路SPM
Cは、システムLSIに搭載される各モジュールにおい
て、消費される電力を制御する機能を有する。
The circuit blocks are composed of an internal bus BU
S, which is coupled to the control bus CBUS. They are mounted on a semiconductor substrate (not shown) that forms a semiconductor integrated circuit device. The above system power management circuit SPM
C has a function of controlling power consumed in each module mounted on the system LSI.

【0031】半導体集積回路装置は、入出力回路I/O
につながる入出力外部端子Tio1ないしTionと、
負論理レベルのようなリセット信号resbが供給され
る外部端子T1と、制御用外部端子T2と、第1動作制
御信号cmqが供給される第1動作制御用外部端子T3
と、第2動作制御信号cpmqが供給される第2動作制
御用外部端子T4と、外部クロック信号clkが供給さ
れるクロック用外部端子T5と、複数の電源電圧(vd
d、vccdr、vss)が供給される複数の電源用外
部端子T6、T7、T8とを持つ。
The semiconductor integrated circuit device has an input / output circuit I / O
Input / output external terminals Tio1 to Tion connected to
An external terminal T1 to which a reset signal resb such as a negative logic level is supplied, a control external terminal T2, and a first operation control external terminal T3 to which a first operation control signal cmq is supplied.
A second operation control external terminal T4 to which the second operation control signal cpmq is supplied, a clock external terminal T5 to which the external clock signal clk is supplied, and a plurality of power supply voltages (vd
d, vccdr, vss) are supplied to the power supply external terminals T6, T7, T8.

【0032】特に制限されないが、電源電圧vddは、
内部回路ブロックの動作のための電源電圧とされ、1.
8ボルト±0.15ボルトのような値を取る。電源電圧
vccdrは、半導体集積回路装置に要求される入出力
レベルに応じて、主として入出力回路I/Oのために設
定される電源電圧であり、3.3ボルト±0.3ボル
ト、2.5ボルト±0.25ボルト、及び1.8ボルト
±0.15ボルトのような値のうちの一つを取るように
される。電位vssは、いわゆるアース電位と称される
ような回路の基準電位である。
Although not particularly limited, the power supply voltage vdd is
The power supply voltage is used for the operation of the internal circuit block.
Take a value like 8 volts ± 0.15 volts. The power supply voltage vccdr is a power supply voltage mainly set for the input / output circuit I / O according to the input / output level required for the semiconductor integrated circuit device, and is 3.3 volts ± 0.3 volts. It is made to take one of the values such as 5 volts ± 0.25 volts, and 1.8 volts ± 0.15 volts. The potential vss is a reference potential of a circuit which is called a so-called ground potential.

【0033】図示の半導体集積回路装置は、いわゆるA
SIC(アプリケーション・スペシファイド・インテグ
レーテッド・サーキッツ)すなわち特定用途ICを構成
するようにされる。すなわち、図示のほとんどの回路ブ
ロックは、ASIC構成を容易ならしめるように、それ
ぞれ独立的な回路機能単位としてのいわゆるモジュール
ないしはマクロセルをなすようにされる。各機能単位
は、それぞれその規模、構成が変更可能にされる。AS
ICとしては、図示の回路ブロックの内、実現すべき電
子システムが必要としない回路ブロックは、半導体基板
上に搭載しないようにすることができる。逆に、図示さ
れていない機能単位の回路ブロックを追加することもで
きる。
The semiconductor integrated circuit device shown in FIG.
An SIC (Application Specific Integrated Circuits), that is, a special purpose IC is constituted. That is, most of the illustrated circuit blocks form so-called modules or macro cells as independent circuit functional units so as to facilitate the ASIC configuration. The size and configuration of each functional unit can be changed. AS
As the IC, circuit blocks that are not required by the electronic system to be realized among the illustrated circuit blocks can be prevented from being mounted on the semiconductor substrate. Conversely, a circuit block of a functional unit (not shown) can be added.

【0034】半導体集積回路装置は、特に制限されない
が、1.8ボルト±0.15ボルトのような低電源電圧
vddの基でも十分な動作特性を示すように、低電源電
圧可能なCMOS構造の半導体集積回路装置とされる。
The semiconductor integrated circuit device is not particularly limited, but has a CMOS structure capable of a low power supply voltage so as to exhibit sufficient operation characteristics even under a low power supply voltage vdd such as 1.8 volts ± 0.15 volts. This is a semiconductor integrated circuit device.

【0035】半導体集積回路装置に搭載されるダイナミ
ック型メモリは、上記電源電圧vddによって動作され
ても良い。しかし、この実施例の半導体集積回路装置に
は、ダイナミック型メモリのために、上記電源電圧vd
dとともに、上記電源電圧vddによって動作される電
圧発生回路から発生される高電源電圧も利用される。ダ
イナミック型メモリにおいては、ダイナミック型メモリ
セルを選択するロウデコーダのような回路はかかる高電
源電圧にて動作され、半導体集積回路装置の内部バスB
USとの間に信号を入出力するような回路は低電源電圧
vddのような電源電圧によって動作される。この構成
は、ダイナミック型メモリセルに与えられる情報として
の電荷量を増大させる。これにより、ダイナミック型メ
モリの情報保持時間特性をより良好にできる。同様に、
センスアンプを前記のような昇圧電圧vbsを用いたオ
ーバードライブ方式で駆動することにより、高速な読み
出し動作が可能になる。
The dynamic memory mounted on the semiconductor integrated circuit device may be operated by the power supply voltage vdd. However, in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, the power supply voltage vd
Along with d, a high power supply voltage generated from a voltage generation circuit operated by the power supply voltage vdd is used. In the dynamic memory, a circuit such as a row decoder for selecting a dynamic memory cell is operated at such a high power supply voltage, and the internal bus B of the semiconductor integrated circuit device is operated.
A circuit that inputs and outputs a signal to and from the US is operated by a power supply voltage such as a low power supply voltage vdd. This configuration increases the amount of charge as information provided to the dynamic memory cell. As a result, the information retention time characteristics of the dynamic memory can be improved. Similarly,
By driving the sense amplifier by the overdrive method using the boosted voltage vbs as described above, a high-speed read operation can be performed.

【0036】中央処理部CPUは、特に制限されない
が、いわゆるマイクロプロセッサと同様な構成にされ
る。すなわち中央処理部CPUは、その詳細を図示しな
いけれども、その内部に命令レジスタ、命令レジスタに
書込まれた命令をデコードし、各種のマイクロ命令ない
しは制御信号を形成するマイクロ命令ROM、演算回
路、汎用レジスタ(RG6等)、内部バスBUSに結合
するバスドライバ、バスレシーバなどの入出力回路を持
つ。
Although not particularly limited, the central processing unit CPU has a configuration similar to a so-called microprocessor. That is, although not shown in detail, the central processing unit CPU internally decodes an instruction register, an instruction written in the instruction register, a micro instruction ROM for forming various micro instructions or control signals, an arithmetic circuit, a general-purpose circuit, and the like. It has input / output circuits such as a register (RG6, etc.), a bus driver connected to the internal bus BUS, and a bus receiver.

【0037】中央処理部CPUは、リードオンリメモリ
ROMなどに格納されている命令を読み出し、その命令
に対応する動作を行う。中央処理装置CPUは、入出力
回路I/Oを介して入力される外部データの取り込み、
制御回路ULCに対するデータの入出力、リードオンリ
メモリROMからの命令や命令実行のために必要となる
固定データのようなデータの読み出し、D/A変換器D
ACへのD/A変換すべきデータの供給、A/D変換器
によってA/D変換されたデータの読み出し、スタティ
ック型メモリSRAM、ダイナミック型メモリDRAM
へのデータの読み出し、書込み、DMAコントローラD
MACの動作制御等を行う。制御バスCBUSは、中央
処理部CPUによる図示の回路ブロックの動作制御のた
めに利用され、またDMAコントローラDMACなどの
回路ブロックからの状態指示信号を中央処理部CPUに
伝えるために使用される。
The central processing unit CPU reads an instruction stored in a read only memory ROM or the like and performs an operation corresponding to the instruction. The central processing unit CPU captures external data input via the input / output circuit I / O,
Input / output of data to / from the control circuit ULC, reading of data such as fixed data required for executing instructions and instructions from the read-only memory ROM, D / A converter D
Supply of data to be subjected to D / A conversion to AC, reading of A / D converted data by A / D converter, static memory SRAM, dynamic memory DRAM
Read / write data to / from DMA controller D
It performs MAC operation control and the like. The control bus CBUS is used by the central processing unit CPU to control the operation of the illustrated circuit block, and is used to transmit a state instruction signal from a circuit block such as the DMA controller DMAC to the central processing unit CPU.

【0038】中央処理部CPUは、また割り込み制御回
路IVCにおける指示レジスタRG5などにセットされ
た動作制御信号を内部バスBUSを介して参照し、必要
な処理を行う。中央処理部CPUは、クロック発生回路
CGCから発生されるシステムクロック信号C2を受け
そのシステムクロック信号C2によって決められる動作
タイミング、周期をもって動作される。
The central processing unit CPU performs necessary processing by referring to the operation control signal set in the instruction register RG5 or the like in the interrupt control circuit IVC via the internal bus BUS. The central processing unit CPU receives a system clock signal C2 generated from the clock generation circuit CGC, and operates at an operation timing and a period determined by the system clock signal C2.

【0039】中央処理部CPUは、クロック発生回路C
GCからのシステムクロック信号C2の供給が停止され
たなら、それに応じて動作停止状態にされる。停止状態
において、ダイナミック回路の出力信号は、回路に生じ
る不所望なリーク電流によって不所望に変化されてしま
う。スタテックフリップフロップ回路構成のレジスタ回
路のような回路は、システムクロック信号の非供給期間
であっても、以前のデータを保持する。
The central processing unit CPU includes a clock generation circuit C
When the supply of the system clock signal C2 from the GC is stopped, the operation is stopped accordingly. In the stop state, the output signal of the dynamic circuit is undesirably changed by an undesired leak current generated in the circuit. A circuit such as a register circuit having a static flip-flop circuit configuration retains previous data even during a non-supply period of a system clock signal.

【0040】割り込み制御回路IVCは、外部端子T1
に負論理レベルのようなリセット信号を受け、外部端子
T3を介して第1動作信号cmqを受け、外部端子T4
を介して第2動作制御信号cpmqを受け、また、外部
端子T2に、半導体集積回路装置の動作状態を指示する
状態指示信号を出力する。割り込み制御回路IVCは、
かかるリセット信号resb、動作制御信号cmq、c
pmq及び状態指示信号に対応してそれぞれの位置のビ
ットが設定されるようなレジスタRG5を持つ。
The interrupt control circuit IVC has an external terminal T1
Receives a reset signal such as a negative logic level, receives a first operation signal cmq via an external terminal T3, and receives an external terminal T4
And outputs a state instruction signal to the external terminal T2 to indicate the operation state of the semiconductor integrated circuit device. The interrupt control circuit IVC
The reset signal resb and the operation control signals cmq and c
It has a register RG5 in which bits at respective positions are set corresponding to the pmq and the state instruction signal.

【0041】レジスタRG5における状態指示信号は、
内部バスBUSを介して中央処理部CPUによって更新
される。外部端子T3、T4を介してレジスタRG5に
セットされた動作制御信号cmq、cpmqは、前述の
ように、内部バスBUSを介し中央処理部CPUによっ
て参照される。
The state indicating signal in the register RG5 is
It is updated by the central processing unit CPU via the internal bus BUS. The operation control signals cmq and cpmq set in the register RG5 via the external terminals T3 and T4 are referred to by the central processing unit CPU via the internal bus BUS as described above.

【0042】特に制限されないが、割り込み制御回路I
VCは、その内部にダイナミック型メモリのリフレッシ
ュ動作のための図示しないリフレッシュアドレスカウン
タを持つ。割り込み制御回路IVCにおけるかかるリフ
レッシュアドレスカウンタは、第1、第2動作制御信号
cmq、cpmqによって第1及び第3モードが指示さ
れているなら、すなわち半導体集積回路装置に対して動
作モードか、動作スタンバイモードが指示されているな
ら、クロック発生回路CGCからのシステムクロック信
号に基づいて歩進され、周期的に更新されるリフレッシ
ュアドレス情報を形成する。
Although not particularly limited, the interrupt control circuit I
The VC has a refresh address counter (not shown) therein for a refresh operation of the dynamic memory. The refresh address counter in the interrupt control circuit IVC operates in the first or third mode by the first and second operation control signals cmq and cpmq, that is, in the operation mode or the operation standby mode for the semiconductor integrated circuit device. If the mode is designated, the refresh address information is incremented and periodically updated based on the system clock signal from the clock generation circuit CGC.

【0043】クロック発生回路CGCは、外部端子T5
を介して外部クロック信号clkを受け、その外部クロ
ック信号clkに対応した周期のシステムクロック信号
C2を形成する。なお、クロック発生回路CGCと中央
制御部CPUとの間の信号線が単純化されて表現されて
いるけれども、システムクロック信号C2は、中央制御
部CPU内の図示しない回路の順序立った動作のため
に、一般的なプロセッサに対するクロック信号と同様
に、多相信号からなると理解されたい。
The clock generation circuit CGC has an external terminal T5
, And forms a system clock signal C2 having a cycle corresponding to the external clock signal clk. Although the signal lines between the clock generation circuit CGC and the central control unit CPU are represented in a simplified manner, the system clock signal C2 is generated because of the orderly operation of a circuit (not shown) in the central control unit CPU. It should be understood that the clock signal comprises a multi-phase signal, as well as a clock signal for a general processor.

【0044】クロック発生回路CGCによるシステムク
ロック信号C2の発生は、割り込み制御回路IVCから
の第1及び第2動作制御信号cmq、cpmqに応答す
るモード信号MODE2やイニシャル動作指示信号IN
TLのような制御信号C1及び中央処理部CPUからの
制御信号C3によって制御される。動作制御信号cmq
によって完全スタンバイ動作が指示されたなら、中央処
理部CPUによって、スタテイック的に保持すべきデー
タのスタテイック型メモリSRAMへの書込み処理動作
を含むような、完全スタンバイ動作へ移行するための必
要な処理動作が行われ、次いで、中央処理部CPUから
クロック発生回路CGCへシステムクロック発生動作停
止のための制御信号C3が発生される。
The generation of the system clock signal C2 by the clock generation circuit CGC is performed when the mode signal MODE2 or the initial operation instruction signal IN responding to the first and second operation control signals cmq and cpmq from the interrupt control circuit IVC.
It is controlled by a control signal C1 such as TL and a control signal C3 from the central processing unit CPU. Operation control signal cmq
When the complete standby operation is instructed by the CPU, the central processing unit CPU performs necessary processing operations for shifting to the complete standby operation, including the operation of writing data to be statically stored in the static memory SRAM. Then, a control signal C3 for stopping the system clock generation operation is generated from the central processing unit CPU to the clock generation circuit CGC.

【0045】動作制御信号cpmqによって動作スタン
バイ動作が指示された場合は上記完全スタンバイ動作と
同様に、中央処理部CPUによって、スタテイック的に
保持すべきデータのスタテイック型メモリSRAMへの
書込み処理動作を含むような、動作スタンバイ動作へ移
行するための必要な処理動作が行われる。この場合のそ
の後の動作は、上記完全スタンバイ動作の場合とは異な
り、中央処理部CPUからクロック発生回路CGCへシ
ステムクロック信号の選択的出力のための制御信号C3
が発生される。
When the operation standby signal is instructed by the operation control signal cpmq, the central processing unit CPU includes a process of writing data to be held statically into the static memory SRAM, similarly to the complete standby operation. Such processing operations necessary for shifting to the operation standby operation are performed. The subsequent operation in this case is different from the case of the complete standby operation described above, in that the control signal C3 for selectively outputting the system clock signal from the central processing unit CPU to the clock generation circuit CGC is provided.
Is generated.

【0046】入出力回路I/Oは、外部端子Tio1な
いしTionの内の所望の外部端子を介して外部から供
給される信号を受け、また外部端子Tio1ないしTi
onの内の所望の端子に出力すべき信号を内部バスBU
Sを介して受ける。入出力回路I/Oは、その内部にそ
れぞれCMOSスタテック回路からなるような制御レジ
スタRG4と図示しないデータレジスタとを持つ。
The input / output circuit I / O receives a signal supplied from the outside through a desired external terminal among the external terminals TiO1 to Tion.
signal to be output to a desired terminal of the internal bus BU
Receive via S. The input / output circuit I / O has therein a control register RG4 such as a CMOS static circuit and a data register (not shown).

【0047】制御レジスタRG4は、中央処理部CPU
によって選択され、かつ中央処理部CPUによって、当
該入出力回路I/Oのための制御データ、例えば、デー
タ入力/出力指示や高出力インピーダンス状態指示など
の制御データが与えられる。データレジスタは、外部端
子Tio1ないしTionと、内部バスBUSとの間の
データの転送のために利用される。外部端子Tio1な
いしTionのビット幅すなわち端子数と、内部バスB
USのビット幅が異なるような場合、データレジスタ
は、大きいビット幅に対応されるようなビット数を持つ
ようにされ、中央処理部CPUによる動作制御に従って
ビット数変換を行う。
The control register RG4 is a central processing unit CPU
And the central processing unit CPU provides control data for the input / output circuit I / O, for example, control data such as a data input / output instruction and a high output impedance state instruction. The data register is used for transferring data between the external terminals Tio1 to Tion and the internal bus BUS. Bit width of external terminals Tio1 to Tion, that is, the number of terminals, and internal bus B
When the bit width of the US is different, the data register is made to have a bit number corresponding to the large bit width, and performs the bit number conversion according to the operation control by the central processing unit CPU.

【0048】入出力回路I/Oの信号入力のための回路
及び信号出力のための回路は、その入力及び出力動作が
システムクロック信号によって制御されるようにされ
る。それ故に、入出力回路I/Oは、システムクロック
信号が供給されなくなった時には、上記中央処理部CP
Uと同様に低消費電力状態にされることになる。
The circuit for signal input and the circuit for signal output of the input / output circuit I / O have their input and output operations controlled by a system clock signal. Therefore, when the system clock signal is no longer supplied, the input / output circuit I / O outputs the central processing unit CP.
As in the case of U, a low power consumption state is set.

【0049】制御回路ULCは、電子システムの必要に
応じて適宜に設けられる制御回路である。この制御回路
ULCとしては、例えば、ハードデイスク装置における
モータサーボコントロール、ヘッドのトラッキング制
御、誤り訂正処理や、画像、音声処理における画像や音
声データの圧縮伸長処理のようなのような実現すべき電
子システムに応じて適宜に設けられる。制御回路のUL
Cは、中央処理部CPUと同様にその動作がシステムク
ロック信号によって制御される。
The control circuit ULC is a control circuit provided appropriately as required by the electronic system. The control circuit ULC includes, for example, an electronic system to be realized such as a motor servo control in a hard disk device, a head tracking control, an error correction process, and a compression / expansion process of image and audio data in image and audio processing. It is provided appropriately according to. UL of control circuit
The operation of C is controlled by a system clock signal similarly to the central processing unit CPU.

【0050】リードオンリメモリROMは、前述のよう
に、中央処理装置CPUによって読み出され実効される
べき命令、固定データを記憶する。
As described above, the read only memory ROM stores commands and fixed data to be read and executed by the central processing unit CPU.

【0051】D/A変換器DACは、内部バスBUSを
介して供給されるところのアナログ信号に変換すべきデ
ジタルデータを受けるレジスタRG2を持ち、かかるデ
ジタルデータに基づいてアナログ信号を形成する。レジ
スタRG2は、制御回路ULCもしくは中央処理部CP
Uによってデジタルデータがセットされる。D/A変換
器DACのD/A変換開始タイミング、D/A変換結果
の出力タイミングのようなD/A変換動作は、システム
クロック信号によって制御される。D/A変換器DAC
によって形成されたアナログ信号は、特に制限されない
が、内部バスBUS及び入出力回路I/Oを介して外部
端子T1ないしTnの所望の端子に供給される。尚、こ
こでは上記外部端子T1ないしTnを入出力兼用端子
(ピン)としているが、入力用端子と出力用端子に分離
して設けてもよい。
The D / A converter DAC has a register RG2 for receiving digital data to be converted into an analog signal supplied via the internal bus BUS, and forms an analog signal based on the digital data. The register RG2 is connected to the control circuit ULC or the central processing unit CP.
U sets digital data. The D / A conversion operation such as the D / A conversion start timing of the D / A converter DAC and the output timing of the D / A conversion result is controlled by the system clock signal. D / A converter DAC
Is supplied to desired terminals of the external terminals T1 to Tn via the internal bus BUS and the input / output circuit I / O, although not particularly limited. Although the external terminals T1 to Tn are used as input / output terminals (pins) here, they may be provided separately for input terminals and output terminals.

【0052】D/A変換器DACは、その詳細を図示し
ないけれども、高精度DA変換が必要とされる場合は、
得るべきアナログ量の基準とするような基準電圧源もし
くは基準電流源を持つようにされる。かかる基準電圧源
もしくは基準電流源は、一種のアナログ回路を構成する
とみなされ、第2モード及び第3モード、すなわち完全
スタンバイモード、及び動作スタンバイにおいて無視し
得ない電流を消費してしまう危険性を持つ。それ故にそ
のような場合の消費電流の低減を可能にするよう、かか
る基準電圧源もしくは基準電流源に対しては、上記第2
モード、第3モードにおいて、スイッチオフするような
MOSFETスイッチを設定される。
Although the details of the D / A converter DAC are not shown, if high-precision DA conversion is required,
A reference voltage source or a reference current source is used as a reference for an analog quantity to be obtained. Such a reference voltage source or a reference current source is considered to constitute a kind of analog circuit, and there is a danger of consuming a non-negligible current in the second mode and the third mode, that is, the complete standby mode and the operation standby. Have. Therefore, in order to reduce the current consumption in such a case, the second reference
In the mode and the third mode, a MOSFET switch which is turned off is set.

【0053】A/D変換器ADCは、外部端子T1ない
しTnのうちの所望の端子と入出力回路I/Oと内部バ
スBUSを介して供給されるようなアナログ信号を受
け、制御回路ULCもしくは中央処理部CPUによって
そのA/D変換の開始が制御され、システムクロック信
号C2に従うようなクロック制御のもとで上記アナログ
信号をデイジタル信号に変換し、得られたデジタル信号
をレジスタRG1にセットする。
The A / D converter ADC receives a desired one of the external terminals T1 to Tn, an analog signal supplied via the input / output circuit I / O, and the internal bus BUS, and receives a control circuit ULC or The start of the A / D conversion is controlled by the central processing unit CPU, the analog signal is converted into a digital signal under clock control according to the system clock signal C2, and the obtained digital signal is set in the register RG1. .

【0054】A/D変換器ADCもまた、上記D/A変
換器DACと同様に、高精度AD変換が必要とされる場
合は、デジタル変換すべき量子化レベルの基準とされる
ような基準電圧源もしくは基準電流源を持つようにされ
る。A/D変換器ADCにおけるかかる基準電圧源もし
くは基準電流源もまた完全スタンバイモード、及び動作
スタンバイモードにおいて無視し得ない電流を消費する
危険性を持つ。それ故にその場合には、上記同様なMO
SFETスイッチが、かかる基準電圧源もしくは基準電
流源に適用される。
Similarly to the D / A converter DAC, the A / D converter ADC also has a reference such as a reference for a quantization level to be digitally converted when high-precision AD conversion is required. It has a voltage source or a reference current source. Such a reference voltage source or reference current source in the A / D converter ADC also has the risk of consuming considerable current in the full standby mode and the operation standby mode. Therefore, in that case, the MO
An SFET switch is applied to such a reference voltage or current source.

【0055】スタテイック型メモリSRAMは、そのメ
モリセルとして、その詳細は図示しないが、CMOSス
タテック型メモリセル、すなわちCMOSラッチ回路と
それに対するデータ入出力のための一対の伝送デートM
OSFETとからなるような構成のメモリセルを持つ。
CMOSスタテック型メモリセルは、スタテックに情報
を保持し、かつ情報保持のために、著しく小さい動作電
流しか必要しないという特徴を持つ。
Although not shown in detail, the static type memory SRAM is a CMOS static type memory cell, that is, a CMOS latch circuit and a pair of transmission dates M for inputting and outputting data to and from the CMOS latch circuit.
It has a memory cell configured to be composed of an OSFET.
The CMOS static memory cell has a feature that it stores information in a static manner and requires a remarkably small operating current to hold the information.

【0056】かかるスタテイック型メモリSRAMは、
実質上は、CMOSスタテイック型ランダム・アクセス
・メモリを構成するようにされる。すなわち、スタテイ
ック型メモリSRAMは、マトリクス配置の複数のCM
OSスタテック型メモリセルからなるメモリアレイと、
内部バスBUSを介して供給されるようなロウアドレス
信号をデコードしそれによってメモリアレイにおけるワ
ード線を選択するロウ系アドレス・デコード・ドライブ
回路と、カラムアドレス信号をデコードしそれによって
カラム・デコード信号を形成するカラム系アドレスデコ
ード回路と、かかるカラム・デコード信号によって動作
されメモリアレイにおけるデータ線を選択しそれを共通
データ線に結合させるカラムスイッチ回路と、共通デー
タ線に結合された入出力回路と、読み出し書込み制御回
路とを含む構成とされる。
Such a static memory SRAM is
Practically, it constitutes a CMOS static random access memory. That is, the static memory SRAM includes a plurality of CMs arranged in a matrix.
A memory array comprising OS static memory cells;
A row address decode / drive circuit for decoding a row address signal supplied through the internal bus BUS and thereby selecting a word line in the memory array; and decoding a column address signal and thereby a column decode signal. A column address decode circuit to be formed, a column switch circuit operated by such a column decode signal to select a data line in the memory array and couple it to a common data line, and an input / output circuit coupled to the common data line; And a read / write control circuit.

【0057】メモリアレイに関連するかかるアドレス・
デコード・ドライブ回路のような回路すなわちメモリア
レイ周辺回路は、CMOSスタテック回路から構成され
る。それ故に、スタテック型メモリセルSRAMは、読
み出し、書込み動作が行われない情報保持動作のみだけ
なら、比較的低消費電力状態に置かれるととなる。な
お、CMOSスタティック型メモリは、メモリセルサイ
ズが比較的大きくなり、その記憶容量に対する全体のサ
イズが比較的大きくなってしまうという考慮すべき特徴
を持ち、大きな記憶容量にすることが比較的困難であ
る。
Such addresses associated with the memory array
A circuit such as a decode drive circuit, that is, a memory array peripheral circuit is constituted by a CMOS static circuit. Therefore, the static memory cell SRAM is placed in a relatively low power consumption state if only the information holding operation in which the reading and writing operations are not performed. Note that the CMOS static memory has a feature to be considered that the memory cell size is relatively large and the overall size is relatively large with respect to the storage capacity, and it is relatively difficult to increase the storage capacity. is there.

【0058】DMAコントローラ、すなわちダイレクト
・メモリ・アクセス・コントローラDMACは、中央処
理部CPUによってその動作が制御され、中央処理部C
PUによって指示された回路ブロック間の内部バスBU
Sを介するデータ転送を、中央処理部CPUになり代わ
って制御する。DMAコントローラDMACの詳細は、
独立の半導体集積回路装置として構成されるDMAコン
トローラと実質的に同じ構成にし得るので更にの詳細な
説明は行わないが、その内部のレジスタRG7等に、中
央処理部CPUによってセットされる転送元情報、転送
先情報、データ転送量情報等の設定情報に基づいてデー
タ転送制御を行う。
The operation of the DMA controller, that is, the direct memory access controller DMAC, is controlled by the central processing unit CPU.
Internal bus BU between circuit blocks designated by PU
The data transfer via S is controlled on behalf of the central processing unit CPU. For details of the DMA controller DMAC,
Since the configuration can be substantially the same as that of the DMA controller configured as an independent semiconductor integrated circuit device, further detailed description will not be given. However, the transfer source information set by the central processing unit CPU in a register RG7 or the like thereof , Data transfer control based on setting information such as transfer destination information and data transfer amount information.

【0059】ダイナミック型メモリDRAMは、そのメ
モリセルすなわちダイナミック型メモリセルが、典型的
には、電荷の形態をもって情報を蓄積する情報蓄積用キ
ャパシタと、選択用MOSFETとからなるような少な
い数の素子からなり、比較的小さいメモリセルサイズに
され得る。それ故に、ダイナミック型メモリは、大記憶
容量であってもその全体のサイズを比較的小さくするこ
とができる。
A dynamic memory DRAM has a small number of elements such that its memory cell, that is, a dynamic memory cell, typically includes an information storage capacitor for storing information in the form of electric charges and a selection MOSFET. And can be made relatively small in memory cell size. Therefore, the dynamic memory can have a relatively small overall size even with a large storage capacity.

【0060】上記のようなシステムLSIにおいて、例
えば高速動作のSRAMには、前記のような遅延回路V
DL等を用いたテスト回路が内蔵される。他のメモリD
RAMやROMにも必要なら同様のテスト回路を設けて
もよい。
In the above-described system LSI, for example, in the SRAM operating at high speed, the delay circuit V
A test circuit using a DL or the like is built in. Other memory D
A similar test circuit may be provided in the RAM or the ROM if necessary.

【0061】図7には、この発明に係る半導体集積回路
装置の他の一実施例の全体ブロック図が示されている。
この実施例の半導体集積回路装置は、デジタル信号処理
を行うロジック部と、アナログ信号処理を行うアナログ
部、及び上記デジタル信号処理に用いられるメモリ回路
RAMからなる半導体集積回路装置において、そのテス
ト回路として次の各回路が付加される。
FIG. 7 is an overall block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
The semiconductor integrated circuit device of this embodiment is a semiconductor integrated circuit device including a logic unit for performing digital signal processing, an analog unit for performing analog signal processing, and a memory circuit RAM used for the digital signal processing. The following circuits are added.

【0062】メモリテスト回路mBISTは、前記のよ
うに上記メモリ回路RAMのテストを行う。メモリ回路
RAMには、前記のような遅延回路や位相比較回路等含
んだテスト回路が設けられ、上記メモリテスト回路mB
ISTには、メモリ回路RAMに内蔵されたテスト回路
に供給される各種信号を生成する回路が設けられる。ま
た、ロジック部のテストのために、ロジックテスト回路
BIST及び上記ロジック部のフリップフロップに対し
てテスト信号の入力と、かかるフリップフロップの状態
を出力させるバウンダ・スキャン・セル部が設けられ
る。これらの内臓のテスト回路に対して外部端子からテ
スト信号の入力と判定出力等の入出力を行うテスト用入
出力回路JTAGが設けられる。
The memory test circuit mBIST tests the memory circuit RAM as described above. The memory circuit RAM is provided with a test circuit including the delay circuit and the phase comparison circuit as described above, and the memory test circuit mB
The IST is provided with a circuit for generating various signals to be supplied to a test circuit built in the memory circuit RAM. Further, for testing the logic section, a test signal is input to the logic test circuit BIST and the flip-flop of the logic section, and a boundary scan cell section for outputting the state of the flip-flop is provided. A test input / output circuit JTAG for inputting / outputting a test signal from an external terminal and input / output of a judgment output and the like to these built-in test circuits is provided.

【0063】上記テスト用入出力回路は、全部で5個の
外部端子を持つ。TDOはテストデータ出力用端子であ
り、TDIはテストデータ入力用端子であり、TMSは
テストモード設定用端子であり、TRSTNはテスト回
路のリセットを指示する端子であり、TCKは上記各信
号の入力又は出力に用いられるテストクロック端子であ
る。上記テスト用入出力回路JTAGは、上記のように
5個と少ない端子を介して、上記クロック信号TCKに
同期して内蔵のテスト回路の動作に必要なテスト入力信
号及びテスト結果等の出力信号をシリアルに入力又は出
力させるものである。
The test input / output circuit has a total of five external terminals. TDO is a test data output terminal, TDI is a test data input terminal, TMS is a test mode setting terminal, TRSTN is a terminal for instructing reset of the test circuit, and TCK is an input of each of the above signals. Or, a test clock terminal used for output. The test input / output circuit JTAG outputs an output signal such as a test input signal necessary for the operation of the built-in test circuit and an output signal such as a test result in synchronization with the clock signal TCK through five terminals as described above. This is to input or output serially.

【0064】以上の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、(1) 外部端子から供給
されたクロック信号に同期した内部クロック信号を形成
するクロック発生回路と、かかるクロック発生回路で形
成された内部クロック信号により動作するメモリ回路と
を含む半導体集積回路装置において、上記内部クロック
信号を可変遅延回路に供給して、その遅延信号と上記内
部クロック信号との位相差を比較して両者を一致させる
ような制御ループを形成して遅延時間の自動調整を行
い、上記可変遅延回路の遅延段の選択により複数通りの
遅延信号を形成して上記内部クロック信号により上記メ
モリ回路に対するメモリアクセスを開始し、上記可変遅
延回路の選択された遅延信号によりメモリ回路の出力信
号を保持することによりメモリ回路のアクセスタイムの
測定を行なうことができるという効果が得られる。
The operation and effect obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) a semiconductor integrated circuit device including a clock generation circuit that forms an internal clock signal synchronized with a clock signal supplied from an external terminal, and a memory circuit that operates using the internal clock signal formed by the clock generation circuit In the above, the internal clock signal is supplied to a variable delay circuit, the phase difference between the delayed signal and the internal clock signal is compared, and a control loop is formed so as to make the two coincide with each other to automatically adjust the delay time. A plurality of delay signals are formed by selecting the delay stage of the variable delay circuit, a memory access to the memory circuit is started by the internal clock signal, and an output of the memory circuit is selected by the selected delay signal of the variable delay circuit. The effect that the access time of the memory circuit can be measured by holding the signal can get.

【0065】(2) 上記に加えて、上記可変遅延回路
を複数のインバータ回路からなる第1の遅延回路と、上
記第1の遅延回路のインバータ回路の遅延時間より小さ
な遅延時間にされたインバータ回路が複数個からなる第
2の遅延回路とを用い、上記第2の遅延回路のインバー
タ回路の入力部には、初段回路を除いて前段のインバー
タ回路の出力信号又は上記第1の遅延回路の対応する前
段のインバータ回路の出力信号とを切り換えるスイッチ
をそれぞれに設け、上記スイッチを制御して第1の遅延
回路と第2の遅延回路の遅延段数の組み合わせにより所
望の遅延時間の設定を行なことにより、高い時間分解能
の遅延信号を得ることができるという効果が得られる。
(2) In addition to the above, the variable delay circuit has a first delay circuit composed of a plurality of inverter circuits, and an inverter circuit having a delay time smaller than the delay time of the inverter circuit of the first delay circuit. And a second delay circuit comprising a plurality of second delay circuits. An input signal of the inverter circuit of the preceding stage except for the first stage circuit or a corresponding signal of the first delay circuit is provided at an input portion of the inverter circuit of the second delay circuit. A switch for switching between the output signal of the inverter circuit in the preceding stage and a switch for controlling the switch to set a desired delay time by a combination of the number of delay stages of the first delay circuit and the second delay circuit. Accordingly, an effect that a delayed signal with high time resolution can be obtained is obtained.

【0066】(3) 上記に加えて、上記第1の遅延回
路と第2の遅延回路とは、それを構成するインバータ回
路の動作電流を設定する電流源MOSFETの素子サイ
ズを所定の比にすることにより上記遅延時間の差を設定
することにより、プロセスバラツキに影響されないで高
い精度での時間差を得ることができるという効果が得ら
れる。
(3) In addition to the above, the first delay circuit and the second delay circuit have a predetermined ratio of the element size of the current source MOSFET for setting the operating current of the inverter circuit constituting the first and second delay circuits. By setting the difference between the delay times, it is possible to obtain an effect that a time difference can be obtained with high accuracy without being affected by process variations.

【0067】(4) 上記に加えて、マクロセル化され
てメモリ回路に上記テスト回路を内蔵させることによ
り、簡単な構成でしかも高い精度でのメモリアクセス時
間の測定が可能になるという効果が得られる。
(4) In addition to the above, the effect that the memory access time can be measured with a simple configuration and with high accuracy can be obtained by incorporating the test circuit into a memory circuit which is formed into a macro cell. .

【0068】(5) 外部端子から供給されたクロック
信号に同期した内部クロック信号を形成するクロック発
生回路と、かかるクロック発生回路で形成された内部ク
ロック信号により動作するメモリ回路とを含む半導体集
積回路装置において、上記クロック信号を受ける第1の
可変遅延回路の出力信号とテストクロック入力端子から
供給されたテスト用クロック信号と位相比較器で比較
し、両入力信号の位相が一致するような制御信号を形成
して上記第1の可変遅延回路を遅延時間を制御し、上記
第1の可変遅延回路と同等回路で構成され、かつ上記制
御信号により遅延時間が制御される第2の可変遅延回路
を設け、上記クロック発生回路で形成された内部クロッ
ク信号と、上記第2の可変遅延回路により上記内部クロ
ック信号の遅延させた遅延信号との位相差に対応したテ
ストパルスを形成して、テスト時に上記メモリ回路に供
給し、そのアクティブレベルの間にメモリアクセスを行
なって出力信号をラッチ回路に保持させることにより、
上記メモリ回路のアクセスタイムの測定を行なうように
することができるという効果が得られる。
(5) A semiconductor integrated circuit including a clock generation circuit for forming an internal clock signal synchronized with a clock signal supplied from an external terminal, and a memory circuit operated by the internal clock signal formed by the clock generation circuit In the apparatus, the output signal of the first variable delay circuit receiving the clock signal is compared with a test clock signal supplied from a test clock input terminal by a phase comparator, and a control signal such that both input signals have the same phase. To control the delay time of the first variable delay circuit, a second variable delay circuit that is configured by a circuit equivalent to the first variable delay circuit, and whose delay time is controlled by the control signal. Wherein the internal clock signal formed by the clock generation circuit and the internal clock signal are delayed by the second variable delay circuit. By forming a test pulse corresponding to the phase difference with the delay signal, supplying the test pulse to the memory circuit at the time of the test, performing memory access during the active level, and holding the output signal in the latch circuit,
The effect is obtained that the access time of the memory circuit can be measured.

【0069】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。メモ
リ回路は前記のように各種のRAMあるいはROMであ
ってもよいし、遅延時間自動設定の用の可変遅延回路を
設け、常時位相比較ループにより単位遅延段の遅延時間
を内部クロック発生回路で形成されたクロック信号の周
期に一致させるようにし、それとは別に同様な遅延回路
の遅延回路を設け、その遅延段数をスイッチにより選択
して上記内部クロックに対して一定の時間差を持つクロ
ック信号を発生させるようにするものであってもよい。
この発明は、メモリ回路を内蔵した半導体集積回路装置
に広く利用することができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above-described embodiments, and can be variously modified without departing from the gist of the invention. Needless to say, there is. The memory circuit may be various RAMs or ROMs as described above, or a variable delay circuit for automatically setting the delay time is provided, and the delay time of the unit delay stage is always formed by the internal clock generation circuit by the phase comparison loop. In addition, a delay circuit of a similar delay circuit is provided, and the number of delay stages is selected by a switch to generate a clock signal having a certain time difference with respect to the internal clock. It may be something to do.
The present invention can be widely used for a semiconductor integrated circuit device having a built-in memory circuit.

【0070】[0070]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、外部端子から供給されたク
ロック信号に同期した内部クロック信号を形成するクロ
ック発生回路と、かかるクロック発生回路で形成された
内部クロック信号により動作するメモリ回路とを含む半
導体集積回路装置において、上記内部クロック信号を可
変遅延回路に供給して、その遅延信号と上記内部クロッ
ク信号との位相差を比較して両者を一致させるような制
御ループを形成して遅延時間の自動調整を行い、上記可
変遅延回路の遅延段の選択により複数通りの遅延信号を
形成して上記内部クロック信号により上記メモリ回路に
対するメモリアクセスを開始し、上記可変遅延回路の選
択された遅延信号によりメモリ回路の出力信号を保持す
ることによりメモリ回路のアクセスタイムの測定を行な
うことができる。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, in a semiconductor integrated circuit device including a clock generation circuit that forms an internal clock signal synchronized with a clock signal supplied from an external terminal, and a memory circuit that operates with the internal clock signal formed by the clock generation circuit, The internal clock signal is supplied to a variable delay circuit, a phase difference between the delayed signal and the internal clock signal is compared, and a control loop is formed so as to make the two coincide with each other. A plurality of delay signals are formed by selecting a delay stage of the delay circuit, a memory access to the memory circuit is started by the internal clock signal, and an output signal of the memory circuit is held by the selected delay signal of the variable delay circuit. By doing so, the access time of the memory circuit can be measured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係る半導体集積回路装置に設けられ
るメモリ回路とそのテスト回路の一実施例を示すブロッ
ク図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a memory circuit and a test circuit provided in a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図2】この発明に係る半導体集積回路装置に搭載され
るRAMマクロの一実施例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing one embodiment of a RAM macro mounted on the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図3】図2の可変遅延回路VDL1とVDL2の一実
施例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of the variable delay circuits VDL1 and VDL2 of FIG. 2;

【図4】図2及び図3の可変遅延回路VDLY1の動作
を説明するための等価回路図である。
FIG. 4 is an equivalent circuit diagram for explaining an operation of the variable delay circuit VDLY1 of FIGS. 2 and 3;

【図5】この発明に係る半導体集積回路装置に設けられ
るメモリ回路とそのテスト回路の他の一実施例を示すブ
ロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing another embodiment of a memory circuit and a test circuit provided in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【図6】本発明が適用されるシステムLSIの一実施例
を示す全体の回路ブロック図である。
FIG. 6 is an overall circuit block diagram showing an embodiment of a system LSI to which the present invention is applied.

【図7】この発明に係る半導体集積回路装置の他の一実
施例を示す全体ブロック図である。
FIG. 7 is an overall block diagram showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

VDL1…第1の可変遅延回路、VDL2…第2の可変
遅延回路、DA0〜DD8,DB0〜DB12…遅延
段、DEC…デコーダ、MARY…メモリアレイ、PL
L…クロック発生回路、PD…位相比較回路、AL…ア
ドレスラッチ、AD…アドレスデコーダ、SA…センス
アンプ、FBA…判定回路、MX…マルチプレクサ、C
TR…カウンタ、DCC…電流制御回路、CDEC…選
択デコーダ、S0〜S8…スイッチ、IO…入出力回
路、VBBC…基板バイアス制御回路、ULC…制御回
路、ROM…リードオンリメモリ、DAC…D/A変換
器、ADC…A/D変換器、IVC…割り込み制御回
路、CGC…クロック発生回路、CPU…中央処理装
置、SRAM…スタティックメモリ、DMAC…DMA
コントローラ、DRAM…ダイナミックメモリ、BUS
…内部バス、mBIST…内蔵メモリテスト回路、RA
M…メモリ回路、JTAG…テスト用入出力回路。
VDL1 first variable delay circuit, VDL2 second variable delay circuit, DA0 to DD8, DB0 to DB12 delay stage, DEC decoder, MARY memory array, PL
L: clock generation circuit, PD: phase comparison circuit, AL: address latch, AD: address decoder, SA: sense amplifier, FBA: determination circuit, MX: multiplexer, C
TR: counter, DCC: current control circuit, CDEC: selection decoder, S0 to S8: switch, IO: input / output circuit, VBBC: substrate bias control circuit, ULC: control circuit, ROM: read-only memory, DAC: D / A Converter, ADC: A / D converter, IVC: Interrupt control circuit, CGC: Clock generation circuit, CPU: Central processing unit, SRAM: Static memory, DMAC: DMA
Controller, DRAM… Dynamic memory, BUS
... internal bus, mBIST ... built-in memory test circuit, RA
M: memory circuit, JTAG: test input / output circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 日下田 恵一 東京都青梅市新町六丁目16番地の3 株式 会社日立製作所デバイス開発センタ内 Fターム(参考) 2G032 AA07 AB01 AC10 AD06 AG02 AG07 AH04 AK16  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Keiichi Kunishoda 3-16, Shinmachi, Shinmachi, Ome-shi, Tokyo F-term in the Hitachi, Ltd. Device Development Center Co., Ltd. 2G032 AA07 AB01 AC10 AD06 AG02 AG07 AH04 AK16

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部端子から供給されたクロック信号に
同期した内部クロック信号を形成するクロック発生回路
と、 上記クロック発生回路で形成された内部クロック信号に
より動作するメモリ回路とを含み、 上記内部クロック信号を受ける可変遅延回路と、かかる
可変遅延回路の遅延信号と上記内部クロック信号との位
相差を比較して両者を一致させるような制御ループと、
上記可変遅延回路の遅延段の選択により複数通りの遅延
信号を形成する制御回路とを備え、上記内部クロック信
号により上記メモリ回路に対するメモリアクセスを開始
し、上記可変遅延回路の選択された遅延信号によりメモ
リ回路の出力信号を保持して、上記メモリ回路のアクセ
スタイムの測定を行なうテスト回路を設けてなることを
特徴とする半導体集積回路装置。
A clock generation circuit that forms an internal clock signal synchronized with a clock signal supplied from an external terminal; and a memory circuit that operates on the internal clock signal formed by the clock generation circuit. A variable delay circuit that receives the signal, a control loop that compares the phase difference between the delay signal of the variable delay circuit and the internal clock signal to match them,
A control circuit for forming a plurality of types of delay signals by selecting a delay stage of the variable delay circuit, wherein a memory access to the memory circuit is started by the internal clock signal, and a selected delay signal of the variable delay circuit A semiconductor integrated circuit device comprising a test circuit for holding an output signal of a memory circuit and measuring an access time of the memory circuit.
【請求項2】 請求項1において、 上記可変遅延回路は、複数のインバータ回路からなる第
1の遅延回路と、上記第1の遅延回路のインバータ回路
の遅延時間より小さな遅延時間にされたインバータ回路
が複数個からなる第2の遅延回路とを含み、 上記第2の遅延回路のインバータ回路の入力部には、初
段回路を除いて前段のインバータ回路の出力信号又は上
記第1の遅延回路の対応する前段のインバータ回路の出
力信号とを切り換えるスイッチがそれぞれに設けられ、
上記制御回路は、上記スイッチを制御して第1の遅延回
路と第2の遅延回路の遅延段数の組み合わせにより所望
の遅延時間の設定を行なうものであることを特徴とする
半導体集積回路装置。
2. The inverter circuit according to claim 1, wherein the variable delay circuit has a first delay circuit including a plurality of inverter circuits, and an inverter circuit having a delay time smaller than a delay time of the inverter circuit of the first delay circuit. And a second delay circuit comprising a plurality of second delay circuits. An input signal of the inverter circuit of the second delay circuit includes an output signal of an inverter circuit of a preceding stage except for a first-stage circuit or a corresponding signal of the first delay circuit. A switch for switching between the output signal of the inverter circuit of the preceding stage and
The semiconductor integrated circuit device, wherein the control circuit controls the switch to set a desired delay time by a combination of the number of delay stages of the first delay circuit and the second delay circuit.
【請求項3】 請求項2において、 上記第1の遅延回路と第2の遅延回路とは、それを構成
するインバータ回路の動作電流を設定する電流源MOS
FETの素子サイズが所定の比に設定されることによ
り、上記遅延時間の差が設定されるものであることを特
徴とする半導体集積回路装置。
3. The current source MOS according to claim 2, wherein the first delay circuit and the second delay circuit are configured to set an operation current of an inverter circuit constituting the first delay circuit and the second delay circuit.
A semiconductor integrated circuit device wherein the difference in the delay time is set by setting the element size of the FET to a predetermined ratio.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかにおいて、 上記メモリ回路は、マクロセル化されて構成されるもの
であり、 上記テスト回路は、かかるマクロセルに内蔵されるもの
であることを特徴とする半導体集積回路装置。
4. The memory circuit according to claim 1, wherein the memory circuit is configured as a macro cell, and the test circuit is built in the macro cell. Semiconductor integrated circuit device.
【請求項5】 外部端子から供給されたクロック信号に
同期した内部クロック信号を形成するクロック発生回路
と、 上記クロック発生回路で形成された内部クロック信号に
より動作するメモリ回路とを含み、 上記クロック信号を受ける第1の可変遅延回路と、上記
クロック信号に対して所定の位相差を持ったテスト用ク
ロックを入力させるテストクロック入力端子と、上記第
1の可変遅延回路の遅延信号と上記テストクロック入力
端子から供給されたテスト用クロック信号とを受ける位
相比較器と、かかる位相比較器の出力信号に基づいて両
入力信号の位相が一致するような制御信号を形成して上
記第1の可変遅延回路を遅延時間を制御する位相制御ル
ープと、上記第1の可変遅延回路と同等回路で構成さ
れ、かつ上記制御信号により遅延時間が制御される第2
の可変遅延回路と、上記クロック発生回路で形成された
内部クロック信号と、上記第2の可変遅延回路により上
記内部クロック信号を遅延させた遅延信号との位相差に
対応したパルスを形成するテストパルス発生回路とを備
え、上記テストパルスを上記メモリ回路に供給し、その
アクティブレベルの間にメモリアクセスを行なって出力
信号をラッチ回路に保持させて、上記メモリ回路のアク
セスタイムの測定を行なうテスト回路を設けてなること
を特徴とする半導体集積回路装置。
5. A clock signal generator comprising: a clock generation circuit for forming an internal clock signal synchronized with a clock signal supplied from an external terminal; and a memory circuit operated by the internal clock signal formed by the clock generation circuit. A first variable delay circuit, a test clock input terminal for inputting a test clock having a predetermined phase difference with respect to the clock signal, a delay signal of the first variable delay circuit, and the test clock input A phase comparator for receiving a test clock signal supplied from a terminal; and a control signal for forming a control signal such that the phases of both input signals coincide with each other based on an output signal of the phase comparator. And a phase control loop for controlling the delay time, and a circuit equivalent to the first variable delay circuit, and the delay time is controlled by the control signal. Second but controlled
And a test pulse for forming a pulse corresponding to the phase difference between the internal clock signal formed by the clock generation circuit and the delay signal obtained by delaying the internal clock signal by the second variable delay circuit A test circuit for supplying the test pulse to the memory circuit, performing memory access during an active level thereof, holding an output signal in a latch circuit, and measuring an access time of the memory circuit. A semiconductor integrated circuit device comprising:
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