JP2001202909A - 表示装置 - Google Patents
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- JP2001202909A JP2001202909A JP2000010459A JP2000010459A JP2001202909A JP 2001202909 A JP2001202909 A JP 2001202909A JP 2000010459 A JP2000010459 A JP 2000010459A JP 2000010459 A JP2000010459 A JP 2000010459A JP 2001202909 A JP2001202909 A JP 2001202909A
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- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 この発明は、電界放出陰極を利用した表示装
置に関し、平面型陰極を用いた表示装置をマトリクス駆
動させ、大画面化することを課題とする。 【解決手段】 陰極が形成された第１の基板と、陽極が
形成された第２の基板とが対向配置されて形成された表
示装置であって、第１の基板が、第２の基板と対向する
表面に、ストライプ状に配置された電子を放出するため
の陰極ラインと、前記陰極ラインの間に形成された第１
の隔壁とを備え、第２の基板が、第１の基板と対向する
表面に、電子を吸引するための陽極導電膜と、陽極導電
膜の上であって、前記陰極ラインのそれぞれと対向する
位置にストライプ状に配置された蛍光膜と、蛍光膜と直
交する方向にストライプ状に一定間隔をあけて配置され
た第２の隔壁と、第２の隔壁のそれぞれの先端部に形成
されたゲート電極膜とを備えてなる。
置に関し、平面型陰極を用いた表示装置をマトリクス駆
動させ、大画面化することを課題とする。 【解決手段】 陰極が形成された第１の基板と、陽極が
形成された第２の基板とが対向配置されて形成された表
示装置であって、第１の基板が、第２の基板と対向する
表面に、ストライプ状に配置された電子を放出するため
の陰極ラインと、前記陰極ラインの間に形成された第１
の隔壁とを備え、第２の基板が、第１の基板と対向する
表面に、電子を吸引するための陽極導電膜と、陽極導電
膜の上であって、前記陰極ラインのそれぞれと対向する
位置にストライプ状に配置された蛍光膜と、蛍光膜と直
交する方向にストライプ状に一定間隔をあけて配置され
た第２の隔壁と、第２の隔壁のそれぞれの先端部に形成
されたゲート電極膜とを備えてなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、表示装置に関
し、特に薄型の表示装置として開発されている電界放出
陰極を利用した表示装置に関する。
し、特に薄型の表示装置として開発されている電界放出
陰極を利用した表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、微小な電界放出陰極を利用した自
発光の薄型表示装置として、ＦＥＤ（Field Emission
Display）が注目されている。図１１に、従来の電界放
出陰極を用いた表示装置の概略斜視図を示す。この表示
装置は、陰極を形成した陰極基板１０９と蛍光膜１０８
を形成した陽極基板１０７を対向させて内部を真空排気
した構造である。
発光の薄型表示装置として、ＦＥＤ（Field Emission
Display）が注目されている。図１１に、従来の電界放
出陰極を用いた表示装置の概略斜視図を示す。この表示
装置は、陰極を形成した陰極基板１０９と蛍光膜１０８
を形成した陽極基板１０７を対向させて内部を真空排気
した構造である。
【０００３】陰極基板１０９において、ガラス基板１０
５上に、エミッタ電極１０２とゲート電極１０３とが絶
縁層１０４を介してマトリクス状に形成されその交差点
となる画素１０６に陰極１０１が形成されている。微小
電界放出陰極としては、図１１に示すような先端がとが
った形状のスピント型が使用されることが多い（C.A.Sp
indt, Jonrnal of Appllied Physics, Vol. 47, 5248,
1976年参照）。また、微小な電界放出陰極として、ダイ
ヤモンド，カーボンチューブなどの材料を用いた平面型
の陰極基板も開発されている。
５上に、エミッタ電極１０２とゲート電極１０３とが絶
縁層１０４を介してマトリクス状に形成されその交差点
となる画素１０６に陰極１０１が形成されている。微小
電界放出陰極としては、図１１に示すような先端がとが
った形状のスピント型が使用されることが多い（C.A.Sp
indt, Jonrnal of Appllied Physics, Vol. 47, 5248,
1976年参照）。また、微小な電界放出陰極として、ダイ
ヤモンド，カーボンチューブなどの材料を用いた平面型
の陰極基板も開発されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、スピント型の
陰極１０１は、真空蒸着法という形成方法を使用する必
要があるため、大型の陰極基板を形成することは困難で
ある。また、真空蒸着法は工程数が多いため、歩留りが
悪く、低コストでの量産が難しい。
陰極１０１は、真空蒸着法という形成方法を使用する必
要があるため、大型の陰極基板を形成することは困難で
ある。また、真空蒸着法は工程数が多いため、歩留りが
悪く、低コストでの量産が難しい。
【０００５】一方、平面型の陰極基板は、工程数も少な
く、大型の基板を製造することも原理的には可能であ
る。しかし、ゲート電極の形成が困難で、表示装置とし
て応用するために不可欠なマトリックス素子として作成
するのが難しいという問題点がある。
く、大型の基板を製造することも原理的には可能であ
る。しかし、ゲート電極の形成が困難で、表示装置とし
て応用するために不可欠なマトリックス素子として作成
するのが難しいという問題点がある。
【０００６】この発明は、以上のような事情を考慮して
なされたものであり、平面型の陰極をマトリックス形状
に形成して、マトリックス動作させることのできる大画
面用の表示装置を実現することを課題とする。
なされたものであり、平面型の陰極をマトリックス形状
に形成して、マトリックス動作させることのできる大画
面用の表示装置を実現することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、陰極が形成
された第１の基板と、陽極が形成された第２の基板とが
対向配置されて形成された表示装置であって、第１の基
板が、第２の基板と対向する表面に、ストライプ状に配
置された電子を放出するための陰極ラインと、前記陰極
ラインの間に形成された第１の隔壁とを備え、第２の基
板が、第１の基板と対向する表面に、電子を吸引するた
めの陽極導電膜と、陽極導電膜の上であって、前記陰極
ラインのそれぞれと対向する位置にストライプ状に配置
された蛍光膜と、蛍光膜と直交する方向にストライプ状
に一定間隔をあけて配置された第２の隔壁と、第２の隔
壁のそれぞれの先端部に形成されたゲート電極膜とを備
えてなることを特徴とする表示装置を提供するものであ
る。これにより、電界放出陰極を利用した表示装置の大
画面化を図ることができる。
された第１の基板と、陽極が形成された第２の基板とが
対向配置されて形成された表示装置であって、第１の基
板が、第２の基板と対向する表面に、ストライプ状に配
置された電子を放出するための陰極ラインと、前記陰極
ラインの間に形成された第１の隔壁とを備え、第２の基
板が、第１の基板と対向する表面に、電子を吸引するた
めの陽極導電膜と、陽極導電膜の上であって、前記陰極
ラインのそれぞれと対向する位置にストライプ状に配置
された蛍光膜と、蛍光膜と直交する方向にストライプ状
に一定間隔をあけて配置された第２の隔壁と、第２の隔
壁のそれぞれの先端部に形成されたゲート電極膜とを備
えてなることを特徴とする表示装置を提供するものであ
る。これにより、電界放出陰極を利用した表示装置の大
画面化を図ることができる。
【０００８】ここで、前記陰極ラインは、エミッタ電極
膜と、その上に形成された電子放出材料膜とから構成し
てもよい。また、前記ゲート電極膜は、前記陰極ライン
と交差する領域内で、櫛歯形状に形成してもよい。さら
に、前記ゲート電極膜は、前記第１の隔壁と接する部分
の厚さよりも前記第１の隔壁と接しない部分の厚さのほ
うが厚くなるように凹凸形状に形成してもよい。また、
この発明の表示装置において、前記第２の基板に形成さ
れた第２の隔壁は、その先端部及び陽極電極膜とは接し
ない部分の一部に、電子を収束するための収束電極膜を
備えてもよい。
膜と、その上に形成された電子放出材料膜とから構成し
てもよい。また、前記ゲート電極膜は、前記陰極ライン
と交差する領域内で、櫛歯形状に形成してもよい。さら
に、前記ゲート電極膜は、前記第１の隔壁と接する部分
の厚さよりも前記第１の隔壁と接しない部分の厚さのほ
うが厚くなるように凹凸形状に形成してもよい。また、
この発明の表示装置において、前記第２の基板に形成さ
れた第２の隔壁は、その先端部及び陽極電極膜とは接し
ない部分の一部に、電子を収束するための収束電極膜を
備えてもよい。
【０００９】また、この発明は、陰極が形成された第１
の基板と、陽極が形成された第２の基板とが対向配置さ
れて形成された表示装置であって、第１の基板が、第２
の基板と対向する表面にストライプ状に配置された第１
の隔壁と、第１の隔壁の先端部に形成された電子を放出
するための陰極ラインとを備え、第２の基板が、第１の
基板と対向する表面に電子を吸収するための陽極導電膜
と、陽極導電膜の上であって前記陰極ラインのそれぞれ
と対向する位置にストライプ状に配置された蛍光膜と、
蛍光膜と直交する方向にストライプ状に一定間隔をあけ
て配置された第２の隔壁とを備えてなることを特徴とす
る表示装置を提供するものである。これによれば、ゲー
ト電極を備えない構成の表示装置とすることができ、両
基板内部の真空度を向上させることができる。
の基板と、陽極が形成された第２の基板とが対向配置さ
れて形成された表示装置であって、第１の基板が、第２
の基板と対向する表面にストライプ状に配置された第１
の隔壁と、第１の隔壁の先端部に形成された電子を放出
するための陰極ラインとを備え、第２の基板が、第１の
基板と対向する表面に電子を吸収するための陽極導電膜
と、陽極導電膜の上であって前記陰極ラインのそれぞれ
と対向する位置にストライプ状に配置された蛍光膜と、
蛍光膜と直交する方向にストライプ状に一定間隔をあけ
て配置された第２の隔壁とを備えてなることを特徴とす
る表示装置を提供するものである。これによれば、ゲー
ト電極を備えない構成の表示装置とすることができ、両
基板内部の真空度を向上させることができる。
【００１０】さらに、この発明は、陽極が形成された第
１の基板と、陰極が形成された第２の基板とが対向配置
されて形成された表示装置であって、第１の基板が、第
２の基板と対向する表面に、ストライプ状に配置された
第１の隔壁と、第１の隔壁の先端部に形成された陽極導
電膜と陽極導電膜の上に形成された蛍光膜とを備え、第
２の基板が、第１の基板と対向する表面に、前記第１の
隔壁と直交する方向に、ストライプ状に一定間隔をあけ
て交互に配置された透明の陰極ラインと第２の隔壁とを
備えたことを特徴とする表示装置を提供するものであ
る。これによれば、高輝度のいわゆる反射型の表示装置
を提供できる。
１の基板と、陰極が形成された第２の基板とが対向配置
されて形成された表示装置であって、第１の基板が、第
２の基板と対向する表面に、ストライプ状に配置された
第１の隔壁と、第１の隔壁の先端部に形成された陽極導
電膜と陽極導電膜の上に形成された蛍光膜とを備え、第
２の基板が、第１の基板と対向する表面に、前記第１の
隔壁と直交する方向に、ストライプ状に一定間隔をあけ
て交互に配置された透明の陰極ラインと第２の隔壁とを
備えたことを特徴とする表示装置を提供するものであ
る。これによれば、高輝度のいわゆる反射型の表示装置
を提供できる。
【００１１】また、この発明は、陰極が形成された第１
の基板と、陽極が形成された第２の基板とが対向配置さ
れて形成された表示装置であって、第１の基板が、一定
の間隔をあけて配置された複数の平行な陰極ラインと、
陰極ラインと直交する方向に配置された複数のゲート電
極ラインと、前記ゲート電極ラインと陰極ラインとの交
点となる画素領域に配置された電子放出素子と、前記各
陰極ラインの間に配置された第１の隔壁とを備え、第２
の基板が、第１の基板と対向する表面に、電子を吸引す
るための陽極導電膜と、陽極導電膜の上であって前記陰
極ラインのそれぞれと対向する位置に配置された蛍光膜
と、蛍光膜と直交する方向にストライプ状に一定間隔を
あけて配置された第２の隔壁と、第２の隔壁のそれぞれ
の先端部に形成された収束電極とを備えてなることを特
徴とする表示装置を提供するものである。
の基板と、陽極が形成された第２の基板とが対向配置さ
れて形成された表示装置であって、第１の基板が、一定
の間隔をあけて配置された複数の平行な陰極ラインと、
陰極ラインと直交する方向に配置された複数のゲート電
極ラインと、前記ゲート電極ラインと陰極ラインとの交
点となる画素領域に配置された電子放出素子と、前記各
陰極ラインの間に配置された第１の隔壁とを備え、第２
の基板が、第１の基板と対向する表面に、電子を吸引す
るための陽極導電膜と、陽極導電膜の上であって前記陰
極ラインのそれぞれと対向する位置に配置された蛍光膜
と、蛍光膜と直交する方向にストライプ状に一定間隔を
あけて配置された第２の隔壁と、第２の隔壁のそれぞれ
の先端部に形成された収束電極とを備えてなることを特
徴とする表示装置を提供するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】この発明は、陰極が形成された第
１の基板と、陽極が形成された第２の基板とが対向配置
されて形成された表示装置であって、第１の基板が、第
２の基板と対向する表面に、ストライプ状に配置された
電子を放出するための陰極ラインと、前記陰極ラインの
間に形成された第１の隔壁とを備え、第２の基板が、第
１の基板と対向する表面に、電子を吸引するための陽極
導電膜と、陽極導電膜の上であって、前記陰極ラインの
それぞれと対向する位置にストライプ状に配置された蛍
光膜と、蛍光膜と直交する方向にストライプ状に一定間
隔をあけて配置された第２の隔壁と、第２の隔壁のそれ
ぞれの先端部に形成されたゲート電極膜とを備えてなる
ことを特徴とする表示装置である。
１の基板と、陽極が形成された第２の基板とが対向配置
されて形成された表示装置であって、第１の基板が、第
２の基板と対向する表面に、ストライプ状に配置された
電子を放出するための陰極ラインと、前記陰極ラインの
間に形成された第１の隔壁とを備え、第２の基板が、第
１の基板と対向する表面に、電子を吸引するための陽極
導電膜と、陽極導電膜の上であって、前記陰極ラインの
それぞれと対向する位置にストライプ状に配置された蛍
光膜と、蛍光膜と直交する方向にストライプ状に一定間
隔をあけて配置された第２の隔壁と、第２の隔壁のそれ
ぞれの先端部に形成されたゲート電極膜とを備えてなる
ことを特徴とする表示装置である。
【００１３】この発明の表示装置において、第１の基板
及び第２の基板は、どちらもガラス基板を基体とし、そ
の上に陰極，陽極及び隔壁等の構成要素が形成される。
第２の基板について第１の基板とは反対側の表面の外側
から表示を見る場合には、陽極導電膜はＩＴＯ膜のよう
な透明な導電膜によって形成される。ここで、以下に示
す実施例では、第１の基板を背面基板、第２の基板を前
面基板とも呼ぶ。
及び第２の基板は、どちらもガラス基板を基体とし、そ
の上に陰極，陽極及び隔壁等の構成要素が形成される。
第２の基板について第１の基板とは反対側の表面の外側
から表示を見る場合には、陽極導電膜はＩＴＯ膜のよう
な透明な導電膜によって形成される。ここで、以下に示
す実施例では、第１の基板を背面基板、第２の基板を前
面基板とも呼ぶ。
【００１４】第１の隔壁の先端部と、第２の隔壁の先端
部に形成されたゲート電極膜とが接することになるが、
第１の基板と第２の基板との距離は、第１の隔壁及び第
２の隔壁によって画定される。また、第１の基板と第２
の基板の間に形成される空間は電子放出空間であり、こ
の空間はほぼ真空状態となるように密封排気される。
部に形成されたゲート電極膜とが接することになるが、
第１の基板と第２の基板との距離は、第１の隔壁及び第
２の隔壁によって画定される。また、第１の基板と第２
の基板の間に形成される空間は電子放出空間であり、こ
の空間はほぼ真空状態となるように密封排気される。
【００１５】また、陰極ラインとは、負電位が印加さ
れ、電子が放出される電極であり、いわゆるエミッタ電
極ラインである。このエミッタ電極ライン上から効果的
に電子放出するために、モリブデンなどの金属材料で形
成した電極膜の上に、導電性粉末を主成分とする電子放
出材料膜が形成される。ここで電子放出材料膜（以下、
エミッタ膜とも呼ぶ）は、モリブデン、シリコン、タン
グステンまたはカーボンナノチューブ等の粉末を用いる
ことができる。たとえば、カーボンナノチューブは、直
径１μｍ程度の微粒子である。
れ、電子が放出される電極であり、いわゆるエミッタ電
極ラインである。このエミッタ電極ライン上から効果的
に電子放出するために、モリブデンなどの金属材料で形
成した電極膜の上に、導電性粉末を主成分とする電子放
出材料膜が形成される。ここで電子放出材料膜（以下、
エミッタ膜とも呼ぶ）は、モリブデン、シリコン、タン
グステンまたはカーボンナノチューブ等の粉末を用いる
ことができる。たとえば、カーボンナノチューブは、直
径１μｍ程度の微粒子である。
【００１６】第１及び第２の隔壁はどちらもＰｂＯ・Ｂ
2Ｏ3・ＳｉＯ2等を材料とする低融点ガラスによって形
成できる。また、蛍光膜としては、カラー表示装置の場
合は３原色の蛍光膜が順に形成される。ゲート電極膜
は、陰極ラインと同様に、モリブデン等の金属材料を用
いることができる。
2Ｏ3・ＳｉＯ2等を材料とする低融点ガラスによって形
成できる。また、蛍光膜としては、カラー表示装置の場
合は３原色の蛍光膜が順に形成される。ゲート電極膜
は、陰極ラインと同様に、モリブデン等の金属材料を用
いることができる。
【００１７】以下、図面に示す実施の形態に基づいてこ
の発明を詳述する。なお、これによってこの発明が限定
されるものではない。図１に、この発明の表示装置の第
1実施例の概略斜視図を示す。また図２に、図１に示し
た表示装置の断面図及び平面図を示す。
の発明を詳述する。なお、これによってこの発明が限定
されるものではない。図１に、この発明の表示装置の第
1実施例の概略斜視図を示す。また図２に、図１に示し
た表示装置の断面図及び平面図を示す。
【００１８】この表示装置は、対向配置される背面基板
１０と、前面基板２０とから構成される。隔壁２３によ
ってはさまれた領域とエミッタライン１１とが交差する
領域が画素２６となる。図２（ｂ）は、図１の表示装置
のうち、エミッタライン１１，隔壁１２及び隔壁２３の
位置関係を示した平面図であり、他の構成要素は図示し
ていない。背面基板１０は陰極が形成された陰極基板に
相当し、前面基板２０は陽極基板に相当し、この実施例
では、図の上方から表示を見ることになる。
１０と、前面基板２０とから構成される。隔壁２３によ
ってはさまれた領域とエミッタライン１１とが交差する
領域が画素２６となる。図２（ｂ）は、図１の表示装置
のうち、エミッタライン１１，隔壁１２及び隔壁２３の
位置関係を示した平面図であり、他の構成要素は図示し
ていない。背面基板１０は陰極が形成された陰極基板に
相当し、前面基板２０は陽極基板に相当し、この実施例
では、図の上方から表示を見ることになる。
【００１９】背面基板１０は、Ｎａ2Ｏ・ＣａＯ・Ｓｉ
Ｏ2等を材料とするガラスで作られるが、その表面上に
３原色ＲＧＢの各色を表示する位置に対応するように、
一定方向に配列されたエミッタライン１１を形成し、そ
の各エミッタライン１１を隔離するように隔壁１２を形
成する。エミッタライン１１は、たとえば、クロム，モ
リブデンなどの金属材料を用い、幅１００μｍ，１５０
μｍピッチ，膜厚１μｍで形成する。
Ｏ2等を材料とするガラスで作られるが、その表面上に
３原色ＲＧＢの各色を表示する位置に対応するように、
一定方向に配列されたエミッタライン１１を形成し、そ
の各エミッタライン１１を隔離するように隔壁１２を形
成する。エミッタライン１１は、たとえば、クロム，モ
リブデンなどの金属材料を用い、幅１００μｍ，１５０
μｍピッチ，膜厚１μｍで形成する。
【００２０】また、このエミッタライン１１の上には、
電子を放出するエミッタ膜１３が形成されるが、エミッ
タ膜１３の材料としては、導電性粉末が用いられる。エ
ミッタ膜１３はスクリーン印刷法等を用いて形成するこ
とができる。導電性粉末としては、モリブデン，シリコ
ン，タングステンまたはカーボンナノチューブを用いる
ことができる。また、エミッタ膜の膜厚は４μｍ程度と
する。
電子を放出するエミッタ膜１３が形成されるが、エミッ
タ膜１３の材料としては、導電性粉末が用いられる。エ
ミッタ膜１３はスクリーン印刷法等を用いて形成するこ
とができる。導電性粉末としては、モリブデン，シリコ
ン，タングステンまたはカーボンナノチューブを用いる
ことができる。また、エミッタ膜の膜厚は４μｍ程度と
する。
【００２１】隔壁１２は、エミッタラインから放出され
る電子が広がって隣接するエミッタラインの領域へ回り
込むのを防止すると共に、両基板１０，２０間の空間を
保持するスペーさとしての役割を果たす。隔壁１２の高
さは１５μｍ，幅は１０μｍ程度とし、低融点ガラスを
スクリーン印刷法で形成することにより図のような隔壁
１２を作る。
る電子が広がって隣接するエミッタラインの領域へ回り
込むのを防止すると共に、両基板１０，２０間の空間を
保持するスペーさとしての役割を果たす。隔壁１２の高
さは１５μｍ，幅は１０μｍ程度とし、低融点ガラスを
スクリーン印刷法で形成することにより図のような隔壁
１２を作る。
【００２２】一方、前面基板２０には背面基板１０と同
じガラス基板を用い、背面基板１０と対向する表面に、
陽極導電膜（アノード電極）２１を形成し、その上に、
ＲＧＢ各色のストライプ状蛍光膜２２を形成する。蛍光
膜２２は、エミッタライン１１と同方向でちょうど対向
する位置に設けられ、その幅を１００μｍ，ピッチを１
５０μｍとする。陽極導電膜２１は、ＩＴＯ膜などの透
明な導電膜を用いる。
じガラス基板を用い、背面基板１０と対向する表面に、
陽極導電膜（アノード電極）２１を形成し、その上に、
ＲＧＢ各色のストライプ状蛍光膜２２を形成する。蛍光
膜２２は、エミッタライン１１と同方向でちょうど対向
する位置に設けられ、その幅を１００μｍ，ピッチを１
５０μｍとする。陽極導電膜２１は、ＩＴＯ膜などの透
明な導電膜を用いる。
【００２３】また、蛍光膜２２を形成した構造の上に、
蛍光膜２２と直交するように、一定間隔で隔壁２３を形
成する。隔壁２３は低融点ガラスを用いて、転写モール
ド法等により形成することができる。ここで隔壁２３
は、高さ１ｍｍ，幅５０μｍ，ピッチ３００μｍ程度と
する。
蛍光膜２２と直交するように、一定間隔で隔壁２３を形
成する。隔壁２３は低融点ガラスを用いて、転写モール
ド法等により形成することができる。ここで隔壁２３
は、高さ１ｍｍ，幅５０μｍ，ピッチ３００μｍ程度と
する。
【００２４】さらに、背面基板１０１に最も近い隔壁２
３の先端部分には、ゲートラインとなる導電膜２４を形
成する。導電膜２４は、銀などの金属材料を用い、１μ
ｍ程度の膜厚となるように印刷法などで形成する。以上
のような、背面基板１０と前面基板２０とはそれぞれ別
々に形成した後、２つの隔壁１２と２３とが直交し、か
つ背面基板１０側の隔壁１２と、前面基板２０の蛍光膜
２２とが対向するように貼り合わせる。このとき、エミ
ッタ膜１３の表面と、ゲートライン２３の表面との距離
は１０μｍ程度となる。
３の先端部分には、ゲートラインとなる導電膜２４を形
成する。導電膜２４は、銀などの金属材料を用い、１μ
ｍ程度の膜厚となるように印刷法などで形成する。以上
のような、背面基板１０と前面基板２０とはそれぞれ別
々に形成した後、２つの隔壁１２と２３とが直交し、か
つ背面基板１０側の隔壁１２と、前面基板２０の蛍光膜
２２とが対向するように貼り合わせる。このとき、エミ
ッタ膜１３の表面と、ゲートライン２３の表面との距離
は１０μｍ程度となる。
【００２５】両基板を貼り合わせた後、周囲を低融点ガ
ラスでシールし、さらに両基板間に形成された空間内部
を加熱排気（３００℃，１×１０-8Torr）し、密封すれ
ば、この発明の表示装置が完成する。
ラスでシールし、さらに両基板間に形成された空間内部
を加熱排気（３００℃，１×１０-8Torr）し、密封すれ
ば、この発明の表示装置が完成する。
【００２６】背面基板及び前面基板に形成されるエミッ
タライン，ゲートライン及び隔壁などの構成要素は、す
べて、大面積化が容易な方法で形成されるので、歩留り
がよく大画面の表示装置の量産が可能である。
タライン，ゲートライン及び隔壁などの構成要素は、す
べて、大面積化が容易な方法で形成されるので、歩留り
がよく大画面の表示装置の量産が可能である。
【００２７】次に図１に示したこの発明の表示装置の駆
動方法を説明する。発光させたい位置（画素）に相当す
るエミッタライン１１に−５０Ｖ，ゲートライン２４に
＋５０Ｖ，陽極導電膜（アノード電極）２１に＋１ｋｖ
の電圧を、それぞれ印加する。このとき、エミッタライ
ン１１とゲートライン２４との間に、１０ｖ／μｍの電
界が生じるため、エミッタ膜１３から電子が放出され
る。
動方法を説明する。発光させたい位置（画素）に相当す
るエミッタライン１１に−５０Ｖ，ゲートライン２４に
＋５０Ｖ，陽極導電膜（アノード電極）２１に＋１ｋｖ
の電圧を、それぞれ印加する。このとき、エミッタライ
ン１１とゲートライン２４との間に、１０ｖ／μｍの電
界が生じるため、エミッタ膜１３から電子が放出され
る。
【００２８】放出電子のうち５０％程度はゲートライン
２４に入射しゲート電流となるが、残りの電子はアノー
ド電極２１の方向に引っ張られ、直上の蛍光膜２２に入
射し、その蛍光膜２２を発光させる。このとき、１つの
画素を構成するエミッタ膜１３から放出された電子は多
少広がったとしても、その画素を取り囲む隔壁１２と２
３に妨げられて隣接する画素には広がらずに直上の蛍光
膜２２に入射する。すなわち隣接画素へのクロストーク
が抑制され、鮮明な画像表示ができる。
２４に入射しゲート電流となるが、残りの電子はアノー
ド電極２１の方向に引っ張られ、直上の蛍光膜２２に入
射し、その蛍光膜２２を発光させる。このとき、１つの
画素を構成するエミッタ膜１３から放出された電子は多
少広がったとしても、その画素を取り囲む隔壁１２と２
３に妨げられて隣接する画素には広がらずに直上の蛍光
膜２２に入射する。すなわち隣接画素へのクロストーク
が抑制され、鮮明な画像表示ができる。
【００２９】前面基板２０上に隔壁２３を形成する方法
について説明する。以下は、転写モールド法と呼ばれる
形成方法である。まずガラス基板上に高さ１ｍｍ、幅５
０μｍの隔壁を感光性樹脂などで３００μｍピッチで形
成する。次にその表面にニッケル電鋳した後、引き剥が
す。このニッケル電鋳物が隔壁の凹型となる。次にこの
凹型に低融点ガラスペーストを充填して３０分程度乾燥
させる。次に透明導電膜２１とストライプ状蛍光膜２２
を形成した前面基板２０に対して、ペーストを充填した
凹型を押し当てた後、引き剥がすと、低融点ガラスが前
面基板２０に転写される。最後に基板を焼成して前面基
板２０が完成する。
について説明する。以下は、転写モールド法と呼ばれる
形成方法である。まずガラス基板上に高さ１ｍｍ、幅５
０μｍの隔壁を感光性樹脂などで３００μｍピッチで形
成する。次にその表面にニッケル電鋳した後、引き剥が
す。このニッケル電鋳物が隔壁の凹型となる。次にこの
凹型に低融点ガラスペーストを充填して３０分程度乾燥
させる。次に透明導電膜２１とストライプ状蛍光膜２２
を形成した前面基板２０に対して、ペーストを充填した
凹型を押し当てた後、引き剥がすと、低融点ガラスが前
面基板２０に転写される。最後に基板を焼成して前面基
板２０が完成する。
【００３０】また、前面基板２０側に形成する隔壁２３
は、図１のようなストライプ状以外の形状としてもよ
い。図３に、この発明の前面基板側の隔壁２３の一部に
開口部を設けた場合の表示装置の平面図を示す。図３に
おいて、背面基板１０側の構成（エミッタライン１１、
隔壁１２）は、図１と同じである。
は、図１のようなストライプ状以外の形状としてもよ
い。図３に、この発明の前面基板側の隔壁２３の一部に
開口部を設けた場合の表示装置の平面図を示す。図３に
おいて、背面基板１０側の構成（エミッタライン１１、
隔壁１２）は、図１と同じである。
【００３１】前面基板２０の隔壁２３は、高さを１ｍｍ
程度とする。隔壁２３の先端部には、図１と同様のゲー
トライン２４（幅４０μｍ、ピッチ３００μｍ）を数本
ストライプ状に形成し、かつゲートライン２４とエミッ
タライン１１とが交差する部分、すなわち画素となる領
域に、開口部２８（縦２５０μｍ、横５０μｍ）を設け
る。
程度とする。隔壁２３の先端部には、図１と同様のゲー
トライン２４（幅４０μｍ、ピッチ３００μｍ）を数本
ストライプ状に形成し、かつゲートライン２４とエミッ
タライン１１とが交差する部分、すなわち画素となる領
域に、開口部２８（縦２５０μｍ、横５０μｍ）を設け
る。
【００３２】エミッタライン１１の上に形成されたエミ
ッタ膜１３から放出された電子は、この開口部２８を通
過して対応する前面基板２０の蛍光膜２２に入射するこ
とになる。
ッタ膜１３から放出された電子は、この開口部２８を通
過して対応する前面基板２０の蛍光膜２２に入射するこ
とになる。
【００３３】図４に、この発明の隔壁２３を櫛歯形状と
した場合の表示装置の実施例を示す。これは、図１に示
した隔壁２３に加えて、画素となる領域のエミッタライ
ン１１の直上に、櫛歯３１を設けたものである。櫛歯３
１の幅は、隔壁２３と同じように１０μｍ程度とすれば
よい。また、櫛歯３１のエミッタライン３１に平行な方
向の長さは５０μｍ程度とすればよい。図３または図４
のような形状の隔壁２３とすれば、エミッタに強電界が
かかるので、図１の実施例よりも低電圧（７０Ｖ）で電
子を引き出すことができる。
した場合の表示装置の実施例を示す。これは、図１に示
した隔壁２３に加えて、画素となる領域のエミッタライ
ン１１の直上に、櫛歯３１を設けたものである。櫛歯３
１の幅は、隔壁２３と同じように１０μｍ程度とすれば
よい。また、櫛歯３１のエミッタライン３１に平行な方
向の長さは５０μｍ程度とすればよい。図３または図４
のような形状の隔壁２３とすれば、エミッタに強電界が
かかるので、図１の実施例よりも低電圧（７０Ｖ）で電
子を引き出すことができる。
【００３４】図５に、この発明の表示装置の第２実施例
の断面図を示す。ここで、隔壁１２’は、図１では背面
基板１０上に形成していた隔壁１２に相当する隔壁であ
って、前面基板２０のゲートライン２４のさらに上に形
成したものである。したがって背面基板１０の上には隔
壁を形成する必要はない。ここで、隔壁１２’の配置，
幅，ピッチ等は、図１に示したものと同じとし、隔壁１
２’は、図１に示した前面基板２０を形成した後、さら
に、転写モールド法を用いて形成することができる。図
５の実施例では、背面基板の隔壁１２を形成する必要が
ないので、隔壁１２を背面基板に形成する際に必要であ
ったスクリーン印刷後の焼成工程が不要となり、エミッ
タ膜１３の劣化を防止できる。
の断面図を示す。ここで、隔壁１２’は、図１では背面
基板１０上に形成していた隔壁１２に相当する隔壁であ
って、前面基板２０のゲートライン２４のさらに上に形
成したものである。したがって背面基板１０の上には隔
壁を形成する必要はない。ここで、隔壁１２’の配置，
幅，ピッチ等は、図１に示したものと同じとし、隔壁１
２’は、図１に示した前面基板２０を形成した後、さら
に、転写モールド法を用いて形成することができる。図
５の実施例では、背面基板の隔壁１２を形成する必要が
ないので、隔壁１２を背面基板に形成する際に必要であ
ったスクリーン印刷後の焼成工程が不要となり、エミッ
タ膜１３の劣化を防止できる。
【００３５】図６に、この発明の表示装置の第３実施例
の断面図を示す。図１では、一定の厚さ（１μｍ）でゲ
ートライン２４を形成したが、この実施例では、ゲート
ライン２４が、背面基板１０の隔壁１２と接する部分以
外の厚さを接する部分よりも厚くしたことを特徴とす
る。
の断面図を示す。図１では、一定の厚さ（１μｍ）でゲ
ートライン２４を形成したが、この実施例では、ゲート
ライン２４が、背面基板１０の隔壁１２と接する部分以
外の厚さを接する部分よりも厚くしたことを特徴とす
る。
【００３６】たとえば、接する部分のゲートラインの厚
さを１μｍとし、隔壁１２と接しないゲートライン２４
の厚さを５μｍとする。ゲートラインの厚さに差をもた
せるには、研磨等の処理をすればよい。この場合には、
エミッタライン１１と、ゲートライン２４との距離が図
１の場合よりも近くなるので、電子の引き出し電圧を７
０Ｖ程度にまで下げても同様の明るさの表示ができる。
すなわち駆動電圧の低減が可能である。
さを１μｍとし、隔壁１２と接しないゲートライン２４
の厚さを５μｍとする。ゲートラインの厚さに差をもた
せるには、研磨等の処理をすればよい。この場合には、
エミッタライン１１と、ゲートライン２４との距離が図
１の場合よりも近くなるので、電子の引き出し電圧を７
０Ｖ程度にまで下げても同様の明るさの表示ができる。
すなわち駆動電圧の低減が可能である。
【００３７】図７に、この発明の表示装置の第４実施例
の斜視図を示す。ここでは、図１に示した隔壁２３のほ
ぼ中央付近に、収束電極２５を形成することを特徴とす
る。収束電極２５は、放出された電子が隔壁２３に当た
って消滅するのを防止するためのものであり、これにゲ
ートライン２４よりも低い電圧（５０Ｖ程度）を与える
ことにより、電子を収束させるものである。この収束電
極２５は、隔壁２３の先端部及び陽極導電膜とは接しな
い部分で隔壁２３の一部に設ければよい。たとえば、隔
壁の高さを１ｍｍとした場合、蛍光膜から５００μｍ程
度離れた隔壁２３のほぼ中央部分に設けてもよい。
の斜視図を示す。ここでは、図１に示した隔壁２３のほ
ぼ中央付近に、収束電極２５を形成することを特徴とす
る。収束電極２５は、放出された電子が隔壁２３に当た
って消滅するのを防止するためのものであり、これにゲ
ートライン２４よりも低い電圧（５０Ｖ程度）を与える
ことにより、電子を収束させるものである。この収束電
極２５は、隔壁２３の先端部及び陽極導電膜とは接しな
い部分で隔壁２３の一部に設ければよい。たとえば、隔
壁の高さを１ｍｍとした場合、蛍光膜から５００μｍ程
度離れた隔壁２３のほぼ中央部分に設けてもよい。
【００３８】図８に、この発明の表示装置の第５実施例
の斜視図を示す。ここでは、エミッタライン１１を背面
基板１０側の隔壁１２の先端部分に設け、図１の実施例
のようなゲートライン２４を設けていないことを特徴と
する。背面基板１０のエミッタライン１１の上には、図
１に示したのと同様に、エミッタ膜１３が形成される。
前面基板２０側においては、図１では全面に陽極導電膜
２１を形成したのとは異なり、隔壁２３と、陽極導電膜
２１を同一方向に交互に配列する。陽極導電膜２１の上
には、蛍光膜２２を形成する。
の斜視図を示す。ここでは、エミッタライン１１を背面
基板１０側の隔壁１２の先端部分に設け、図１の実施例
のようなゲートライン２４を設けていないことを特徴と
する。背面基板１０のエミッタライン１１の上には、図
１に示したのと同様に、エミッタ膜１３が形成される。
前面基板２０側においては、図１では全面に陽極導電膜
２１を形成したのとは異なり、隔壁２３と、陽極導電膜
２１を同一方向に交互に配列する。陽極導電膜２１の上
には、蛍光膜２２を形成する。
【００３９】したがって、この実施例では、背面基板１
０上のエミッタライン１１及び隔壁１２の方向と、前面
基板２０の隔壁２３、陽極導電膜２１及び蛍光膜２２の
方向とは互いに直交する方向である。また、背面基板１
０側の隔壁１２の高さを１ｍｍ、前面基板２０側の隔壁
２３の高さを２０μｍ程度とする。この実施例では２つ
の隔壁間の隙間があるため、図１に示した実施例よりも
排気コンダクタンスが大きくなり、２枚の基板１０，２
０間の空間の真空度を向上させることができる。
０上のエミッタライン１１及び隔壁１２の方向と、前面
基板２０の隔壁２３、陽極導電膜２１及び蛍光膜２２の
方向とは互いに直交する方向である。また、背面基板１
０側の隔壁１２の高さを１ｍｍ、前面基板２０側の隔壁
２３の高さを２０μｍ程度とする。この実施例では２つ
の隔壁間の隙間があるため、図１に示した実施例よりも
排気コンダクタンスが大きくなり、２枚の基板１０，２
０間の空間の真空度を向上させることができる。
【００４０】図９に、この発明の表示装置の第６実施例
の斜視図を示す。これは、いわゆる反射型の表示装置で
あり、図８の第５実施例と比較すると、背面基板１０が
陽極基板となり、前面基板２０が陰極基板となる点が異
なる。図９でも、利用者が表示を見るのは紙面上方の前
面基板２０の側からである。
の斜視図を示す。これは、いわゆる反射型の表示装置で
あり、図８の第５実施例と比較すると、背面基板１０が
陽極基板となり、前面基板２０が陰極基板となる点が異
なる。図９でも、利用者が表示を見るのは紙面上方の前
面基板２０の側からである。
【００４１】図９において、背面基板１０の隔壁１２
（幅１００μｍ、ピッチ１５０μｍ）の先端部にアノー
ドライン２１とその上に蛍光膜２２とが設けられる。ま
た、前面基板２０のガラス基板の上には、蛍光膜２２と
直交する方向に、ストライプ上のエミッタライン１１
（膜厚１μｍ、幅１００μｍ、ピッチ１５０μｍ）と、
隔壁２３（高さ２０μｍ、幅１０μｍ、ピッチ１５０μ
ｍ）とが交互に設けられる。エミッタライン１１と隔壁
２３との間の間隔は１５μｍ程度とする。さらに、エミ
ッタライン１１は、ＩＴＯ膜などの透明導電膜で形成さ
れ、各エミッタライン１１の上には、第１実施例と同様
に、カーボンナノチューブ（直径１μｍ程度の微粒子）
等のエミッタ膜１３（厚さ１０μｍ）が形成される。
（幅１００μｍ、ピッチ１５０μｍ）の先端部にアノー
ドライン２１とその上に蛍光膜２２とが設けられる。ま
た、前面基板２０のガラス基板の上には、蛍光膜２２と
直交する方向に、ストライプ上のエミッタライン１１
（膜厚１μｍ、幅１００μｍ、ピッチ１５０μｍ）と、
隔壁２３（高さ２０μｍ、幅１０μｍ、ピッチ１５０μ
ｍ）とが交互に設けられる。エミッタライン１１と隔壁
２３との間の間隔は１５μｍ程度とする。さらに、エミ
ッタライン１１は、ＩＴＯ膜などの透明導電膜で形成さ
れ、各エミッタライン１１の上には、第１実施例と同様
に、カーボンナノチューブ（直径１μｍ程度の微粒子）
等のエミッタ膜１３（厚さ１０μｍ）が形成される。
【００４２】この第６実施例の反射型表示装置では、電
子が当たった蛍光膜２２から上方へ出た光は、前面基板
２０を透過して利用者に届くため、第１実施例と比較し
て、輝度を２倍程度向上できる。
子が当たった蛍光膜２２から上方へ出た光は、前面基板
２０を透過して利用者に届くため、第１実施例と比較し
て、輝度を２倍程度向上できる。
【００４３】図１０に、この発明の表示装置の第７実施
例の斜視図を示す。ここでは、陰極となる背面基板１０
には、図１１に示したようなゲート電極を有するマトリ
クス状の従来から用いられている基板を用い、図１１の
絶縁層１０４に相当する位置に、隔壁１２（高さ２０μ
ｍ、幅１０μｍ、ピッチ１５０μｍ）を設ける。
例の斜視図を示す。ここでは、陰極となる背面基板１０
には、図１１に示したようなゲート電極を有するマトリ
クス状の従来から用いられている基板を用い、図１１の
絶縁層１０４に相当する位置に、隔壁１２（高さ２０μ
ｍ、幅１０μｍ、ピッチ１５０μｍ）を設ける。
【００４４】一方、前面基板２０は、ほぼ、図１に示し
た第１実施例の構成と同様であるが、隔壁２３の先端部
には、収束電極２５としての役割を果たす導電膜（材料
銀、膜厚１０μｍ、幅５０μｍ、ピッチ３００μｍ）を
設ける。ここで、隔壁２３の間に、ちょうどゲートライ
ン２４が対応するように、背面基板１０と前面基板２０
とが配置される。
た第１実施例の構成と同様であるが、隔壁２３の先端部
には、収束電極２５としての役割を果たす導電膜（材料
銀、膜厚１０μｍ、幅５０μｍ、ピッチ３００μｍ）を
設ける。ここで、隔壁２３の間に、ちょうどゲートライ
ン２４が対応するように、背面基板１０と前面基板２０
とが配置される。
【００４５】この実施例によればエミッタライン１１と
ゲートライン２４との交点である画素領域から放出され
た電子は、収束電極２５により収束されて所望の蛍光膜
２２へ入射され、クロストークを抑制できる。
ゲートライン２４との交点である画素領域から放出され
た電子は、収束電極２５により収束されて所望の蛍光膜
２２へ入射され、クロストークを抑制できる。
【００４６】
【発明の効果】この発明によれば、平面型の陰極を用い
た表示装置において、いわゆる画素領域をマトリクス状
に形成できるので、電界放出陰極を利用した表示装置の
大画面化が可能である。また、大画面の電界放出陰極を
利用した表示装置を、歩留りよく、低コストで量産する
ことができる。
た表示装置において、いわゆる画素領域をマトリクス状
に形成できるので、電界放出陰極を利用した表示装置の
大画面化が可能である。また、大画面の電界放出陰極を
利用した表示装置を、歩留りよく、低コストで量産する
ことができる。
【図１】この発明の表示装置の第１実施例の概略斜視図
である。
である。
【図２】図１に示した表示装置の断面図及び平面図であ
る。
る。
【図３】この発明の前面基板側の隔壁の一実施例の平面
図である。
図である。
【図４】この発明の前面基板側の隔壁を櫛歯形状とした
場合の表示装置の平面図である。
場合の表示装置の平面図である。
【図５】この発明の表示装置の第２実施例の断面図であ
る。
る。
【図６】この発明の表示装置の第３実施例の断面図であ
る。
る。
【図７】この発明の表示装置の第４実施例の斜視図であ
る。
る。
【図８】この発明の表示装置の第５実施例の斜視図であ
る。
る。
【図９】この発明の表示装置の第６実施例の斜視図であ
る。
る。
【図１０】この発明の表示装置の第７実施例の斜視図で
ある。
ある。
【図１１】従来の電界放出陰極を用いた表示装置の概略
斜視図である。
斜視図である。
１０ 背面基板 １１ エミッタライン １２ 隔壁 １３ エミッタ膜 ２０ 前面基板 ２１ 陽極導電膜 ２２ 蛍光膜 ２３ 隔壁 ２４ ゲートライン ２５ 収束電極 ２６ 画素 ２８ 開口部 ３１ 櫛歯
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5C031 DD09 DD17 5C032 CC05 CC10 CD06 5C036 EE14 EE17 EE19 EF01 EF06 EF09 EG01 EG12 EG19 EH01 EH06 5C041 AB19 AC50 AD10 AE02 5C094 AA14 AA42 AA43 AA44 AA46 AA48 BA32 BA34 CA19 DA12 DA13 DB01 DB04 EA04 EA10 EB02 EC03 FA01 FA02 FB02 FB12 FB15 GA10
Claims (8)
- 【請求項１】 陰極が形成された第１の基板と、陽極が
形成された第２の基板とが対向配置されて形成された表
示装置であって、第１の基板が、第２の基板と対向する
表面に、ストライプ状に配置された電子を放出するため
の陰極ラインと、前記陰極ラインの間に形成された第１
の隔壁とを備え、第２の基板が、第１の基板と対向する
表面に、電子を吸引するための陽極導電膜と、陽極導電
膜の上であって、前記陰極ラインのそれぞれと対向する
位置にストライプ状に配置された蛍光膜と、蛍光膜と直
交する方向にストライプ状に一定間隔をあけて配置され
た第２の隔壁と、第２の隔壁のそれぞれの先端部に形成
されたゲート電極膜とを備えてなることを特徴とする表
示装置。 - 【請求項２】 前記陰極ラインが、エミッタ電極膜と、
その上に形成された電子放出材料膜とからなることを特
徴とする請求項１の表示装置。 - 【請求項３】 前記ゲート電極膜が、前記陰極ラインと
交差する領域内で、櫛歯形状に形成されていることを特
徴とする請求項１または２の表示装置。 - 【請求項４】 前記ゲート電極膜が、前記第１の隔壁と
接する部分の厚さよりも前記第１の隔壁と接しない部分
の厚さのほうが厚くなるように凹凸形状に形成されてい
ることを特徴とする請求項１または２の表示装置。 - 【請求項５】 前記第２の基板に形成された第２の隔壁
が、その先端部及び陽極電極膜とは接しない部分の一部
に、電子を収束するための収束電極膜を備えたことを特
徴とする請求項１または２の表示装置。 - 【請求項６】 陰極が形成された第１の基板と、陽極が
形成された第２の基板とが対向配置されて形成された表
示装置であって、第１の基板が、第２の基板と対向する
表面にストライプ状に配置された第１の隔壁と、第１の
隔壁の先端部に形成された電子を放出するための陰極ラ
インとを備え、第２の基板が、第１の基板と対向する表
面に電子を吸収するための陽極導電膜と、陽極導電膜の
上であって前記陰極ラインのそれぞれと対向する位置に
ストライプ状に配置された蛍光膜と、蛍光膜と直交する
方向にストライプ状に一定間隔をあけて配置された第２
の隔壁とを備えてなることを特徴とする表示装置。 - 【請求項７】 陽極が形成された第１の基板と、陰極が
形成された第２の基板とが対向配置されて形成された表
示装置であって、第１の基板が、第２の基板と対向する
表面にストライプ状に配置された第１の隔壁と、第１の
隔壁の先端部に形成された陽極導電膜と陽極導電膜の上
に形成された蛍光膜とを備え、第２の基板が、第１の基
板と対向する表面に、前記第１の隔壁と直交する方向
に、ストライプ状に一定間隔をあけて交互に配置された
透明の陰極ラインと第２の隔壁とを備えたことを特徴と
する表示装置。 - 【請求項８】 陰極が形成された第１の基板と、陽極が
形成された第２の基板とが対向配置されて形成された表
示装置であって、第１の基板が、一定の間隔をあけて配
置された複数の平行な陰極ラインと、陰極ラインと直交
する方向に配置された複数のゲート電極ラインと、前記
ゲート電極ラインと陰極ラインとの交点となる画素領域
に配置された電子放出素子と、前記各陰極ラインの間に
配置された第１の隔壁とを備え、第２の基板が、第１の
基板と対向する表面に、電子を吸引するための陽極導電
膜と、陽極導電膜の上であって前記陰極ラインのそれぞ
れと対向する位置に配置された蛍光膜と、蛍光膜と直交
する方向にストライプ状に一定間隔をあけて配置された
第２の隔壁と、第２の隔壁のそれぞれの先端部に形成さ
れた収束電極とを備えてなることを特徴とする表示装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000010459A JP3717358B2 (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | 表示装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000010459A JP3717358B2 (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | 表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001202909A true JP2001202909A (ja) | 2001-07-27 |
| JP3717358B2 JP3717358B2 (ja) | 2005-11-16 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2003085692A1 (fr) * | 2002-04-11 | 2003-10-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Dispositif d'affichage a cathode froide et procede de production dudit dispositif d'affichage a cathode froide |
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