JP2001201736A - Optoelectronic device, its manufacturing method and projection mode display device - Google Patents

Optoelectronic device, its manufacturing method and projection mode display device

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JP2001201736A
JP2001201736A JP2000009348A JP2000009348A JP2001201736A JP 2001201736 A JP2001201736 A JP 2001201736A JP 2000009348 A JP2000009348 A JP 2000009348A JP 2000009348 A JP2000009348 A JP 2000009348A JP 2001201736 A JP2001201736 A JP 2001201736A
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light
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce deterioration of picture quality in the lapse of time generated in adjacency of a picture frame region in the picture display region due to deformation of an adhesive in the lapse of time in an optoelectronic device composed of various plate-shaped members such as a micro lens array plate stuck to substrates such as a cover glass, a counter substrate, an element substrate or the like. SOLUTION: The optoelectronic device is provided with the cover glass 200 and the counter substrate 20 with the micro lens array. The cover glass and the counter substrate are stuck to each other with the adhesive 210 in a peripheral region located on the periphery of the picture display region and are not stuck to each other in the picture display region so as to leave a space 220.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置、EL(E
lectro-Luminescence)装置等の電気光学装置及びその製
造方法並びに投射型表示装置の技術分野に属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device, an EL (E
The invention belongs to the technical field of an electro-optical device such as an electro-luminescence device, a method of manufacturing the same, and a projection display device.

【0002】[0002]

【背景技術】この種の電気光学装置は一般に、例えばT
FTアレイ基板等の素子基板及びカバーガラス(或いは
対向基板)といった一対の基板間に液晶等の電気光学物
質を挟持してなる。そして、基板の外側(即ち、液晶に
面する側と反対側の面)には、光の利用効率を向上させ
て明るい画像表示を行うためのマイクロレンズアレイ
板、基板を埃や塵から守るための防塵ガラス板、当該電
気光学装置の温度上昇を抑制するための放熱ガラス板、
基板表面の塵や埃の影による表示画像への悪影響をデフ
ォーカスにより低減するためのデフォーカス用ガラス板
などの各種の板状部材が取り付けられる。
2. Description of the Related Art An electro-optical device of this kind is generally manufactured by, for example, T
An electro-optical material such as liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates such as an element substrate such as an FT array substrate and a cover glass (or a counter substrate). On the outside of the substrate (that is, on the surface opposite to the side facing the liquid crystal), there is provided a microlens array plate for improving light use efficiency and displaying a bright image, and for protecting the substrate from dust and dirt. A dust-proof glass plate, a heat-dissipating glass plate for suppressing a temperature rise of the electro-optical device,
Various plate-like members such as a defocusing glass plate for reducing adverse effects on display images due to dust or dust shadows on the substrate surface are attached.

【0003】例えば特開昭60−165621号〜16
5624号公報、特開平5−196926号公報等に
は、入射光の利用効率を向上するためのマイクロレンズ
が対向基板上に設けられた形式の液晶装置が開示されて
いる。また例えば、特開平9−113906号公報に
は、放熱機能及びデフォーカス機能を有する透明ガラス
板を液晶装置の透明基板の一方又は両方の外面に配置し
た液晶装置が開示されている。
[0003] For example, JP-A-60-165621-16
JP-A-5624 and JP-A-5-196926 disclose a liquid crystal device in which a microlens for improving the efficiency of using incident light is provided on a counter substrate. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-113906 discloses a liquid crystal device in which a transparent glass plate having a heat dissipation function and a defocusing function is arranged on one or both outer surfaces of a transparent substrate of the liquid crystal device.

【0004】上述のようにマイクロレンズアレイ板等の
各種の板状部材が取り付けられた電気光学装置の本体
は、プラスチック等の遮光性のケースに納められ、表示
光を透過したり反射したりする画像表示領域の縁を規定
する額縁領域がケースの窓部の縁により規定される。或
いはこのようなケースの窓部よりも一回り小さい額縁状
の遮光膜が、一対の基板の少なくとも一方に設けられて
おり、額縁領域が規定されている。
The main body of the electro-optical device to which various plate members such as the microlens array plate are attached as described above is housed in a light-shielding case made of plastic or the like, and transmits and reflects display light. A frame area that defines the edge of the image display area is defined by the edge of the window of the case. Alternatively, a frame-shaped light-shielding film slightly smaller than the window of such a case is provided on at least one of the pair of substrates, and the frame region is defined.

【0005】このような各種板状部材を備えた電気光学
装置の製造方法では、素子基板やカバーガラスの外側
に、光硬化性接着剤や熱硬化性接着剤を用いてマイクロ
レンズアレイ板等の板状部材を貼り付ける。この際、接
着剤は、液状のものがスピンコート等により素子基板や
カバーガラスの全面に塗布され、貼り合わせ後に硬化さ
れるのが一般的である。その後、この板状部材やその他
の部材が取り付けられた基板を含む電気光学装置の本体
を遮光性のケースに入れて、電気光学装置を完成させ
る。
In a method of manufacturing an electro-optical device having such various plate-like members, a microlens array plate or the like is formed on the outside of an element substrate or a cover glass by using a photo-curing adhesive or a thermosetting adhesive. A plate member is attached. At this time, the adhesive is generally applied in a liquid state by spin coating or the like on the entire surface of the element substrate or the cover glass, and is cured after bonding. Thereafter, the main body of the electro-optical device including the substrate to which the plate-shaped member and other members are attached is placed in a light-shielding case, thereby completing the electro-optical device.

【0006】こうして製造される電気光学装置は、例え
ばプロジェクタのライトバルブ用の液晶装置であれば、
ケースの窓部から覗く画像表示領域を表示光(投射光)
が透過し、画像信号に応じて画素毎にコントラストが変
調されて画像表示が行われる。
An electro-optical device manufactured in this manner is, for example, a liquid crystal device for a light valve of a projector.
Display light (projection light) indicating the image display area viewed through the window of the case
Is transmitted, and the contrast is modulated for each pixel in accordance with the image signal, and the image is displayed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
電気光学装置の場合、プロジェクタのライトバルブ用な
どに使用しているうちに、額縁領域付近における画像表
示領域で額縁領域に沿ってコントラスト異常が経時的に
発生するという問題点がある。より具体的には、例えば
黒表示の際に額縁に沿って白っぽい領域が発生して、コ
ントラスト異常の不連続面が見えるようになってしま
う。特にプロジェクタのライトバルブ用の液晶装置等の
ように比較的強力な光が透過する装置の場合には、この
ような経時劣化が顕著であり、更に本願発明の発明者に
よる研究によれば、カラーのプロジェクタのライトバル
ブ用の液晶装置の場合に、R(赤色)G(緑色)B(青
色)用の3個の液晶装置のうちB用の装置においてこの
ような経時劣化が最も顕著であることが判明している。
例えば数百時間程度の使用後にこのようなコントラスト
異常が現われたりするため、少なくとも数千時間の寿命
が望まれるプロジェクタにおいてはこの問題は実用上極
めて深刻である。
However, in the case of the above-mentioned electro-optical device, while the device is used for a light valve of a projector or the like, a contrast abnormality occurs along the frame region in the image display region near the frame region with time. There is a problem that it occurs. More specifically, for example, when displaying black, a whitish area is generated along the frame, and a discontinuous surface with abnormal contrast becomes visible. In particular, in the case of a device that transmits relatively strong light, such as a liquid crystal device for a light valve of a projector, such deterioration over time is remarkable. Of the three liquid crystal devices for R (red), G (green), and B (blue) in the case of a liquid crystal device for a light valve of a projector, the deterioration over time is most remarkable in the device for B. Is known.
For example, since such a contrast abnormality appears after several hundred hours of use, this problem is extremely serious in practical use in a projector that requires a lifetime of at least several thousand hours.

【0008】更に、上述の電気光学装置の場合、素子基
板やカバーガラスの外側にマイクロレンズアレイ板等の
板状部材を貼り付けるために用いられる光硬化性接着剤
や熱硬化性接着剤などに気泡や不純物が混入すると、画
質低下に繋がるという問題点もある。また、このような
接着剤としては、マイクロレンズアレイのレンズ機能を
発揮させるためには、マイクロレンズアレイを構成する
材料と比べて十分に低屈折率の接着剤を用いる必要があ
り、加えて特にプロジェクタのライトバルブ用の液晶装
置等のように比較的強力な光が透過する装置の場合には
光により劣化しない化学特性をも有する接着剤を用いる
必要がある。しかも、このような接着剤は、光透過性で
ある必要があり且つマイクロレンズアレイとの界面で光
反射を起し難い性質であることも要求される。以上のよ
うに接着剤の材質及び塗布技術についての要求は極めて
厳しいため、製造コストの上昇を招くか或いは接着剤に
起因したある程度の画質劣化は犠牲にせざるを得ないと
いう問題点もある。
Further, in the case of the above-mentioned electro-optical device, a light-curing adhesive or a thermosetting adhesive used for attaching a plate member such as a microlens array plate to the outside of an element substrate or a cover glass is used. When air bubbles and impurities are mixed, there is also a problem that image quality is reduced. Further, as such an adhesive, in order to exert the lens function of the microlens array, it is necessary to use an adhesive having a sufficiently low refractive index as compared with the material constituting the microlens array, and in addition, in particular, In the case of a device that transmits relatively strong light, such as a liquid crystal device for a light valve of a projector, it is necessary to use an adhesive that also has chemical properties that do not deteriorate due to light. In addition, such an adhesive is required to be light-transmissive and to have a property of not easily causing light reflection at an interface with the microlens array. As described above, since the requirements for the material and application technique of the adhesive are extremely severe, there is also a problem that the manufacturing cost is increased or a certain degree of image quality deterioration due to the adhesive has to be sacrificed.

【0009】本発明は上述の問題点に鑑みなされたもの
であり、素子基板やカバーガラス(或いは対向基板)な
どの基板に、マイクロレンズアレイ板等の各種板状部材
が接着されてなる電気光学装置であって、画像表示領域
の額縁付近に発生する画質の経時劣化を低減し得る電気
光学装置及びその製造方法並びに係る電気光学装置をラ
イトバルブとして備えた投射型表示装置を提供すること
を課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and has an electro-optical structure in which various plate members such as a microlens array plate are adhered to a substrate such as an element substrate or a cover glass (or a counter substrate). An object of the present invention is to provide an electro-optical device capable of reducing deterioration over time of image quality occurring near a frame of an image display area, a method of manufacturing the same, and a projection display device including the electro-optical device as a light valve. And

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の電気光学装置は
上記課題を解決するために、表示領域及び表示領域の周
辺に位置する周辺領域を有する透明な基板と、前記基板
に所定間隙を隔てて対向配置された透明な板状部材とを
備え、前記周辺領域において、前記板状部材と前記基板
とが接着剤により接着されてなることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, an electro-optical device according to the present invention comprises: a transparent substrate having a display area and a peripheral area located around the display area; And a transparent plate-shaped member that is disposed so as to face the substrate, wherein the plate-shaped member and the substrate are bonded with an adhesive in the peripheral region.

【0011】本発明の電気光学装置によれば、板状部材
は、マイクロレンズアレイ板、防塵ガラス板、放熱ガラ
ス板、デフォーカス用ガラス板等の各種機能を有する透
明な板状部材であり、画像表示領域の周辺に位置する周
辺領域で、光硬化性接着剤、熱硬化性接着剤等の接着剤
により透明な基板(例えば、カバーガラス、対向基板、
素子基板等)に接着されている。ここに「周辺領域」と
は、画像表示領域の額縁を規定する額縁領域及び更にそ
の周囲に位置する狭義の周辺領域を含む意味である。こ
こで、接着剤は、周辺領域に配置されているので、当該
電気光学装置の使用中に画像表示領域に対して、紫外
線、熱線等を含む表示光が入射される際に(特に、プロ
ジェクタ用途のように強力な表示光が入射される際
に)、表示光が接着剤に照射されて接着剤が劣化する事
態を防ぐことが可能となる。従って、接着剤の劣化によ
る画像表示領域と周辺領域との境界付近における応力集
中や基板の変形は、殆ど又は全く起生じない。このため
画像表示領域における高品位の画像表示が可能となる。
特にこのような劣化は経時的に発生する(即ち経時劣化
として起る)ので、装置寿命の延命も可能となるので有
利である。更に、例えば周辺領域に配置された接着剤が
劣化により変質して不透明になったり亀裂が入ったりし
ても、画像表示領域における表示品位を直接害すること
がない観点からも有利である。また製造当初から接着剤
にボイドが入っていたり、接着剤が基板又は板状部材と
の界面で大きな光反射を起こすような材料からなってい
ても(特に表示光の光路から離して接着剤を設けるよう
にすれば)、表示品位を低下させる原因とはならない観
点からも大変有利である。
According to the electro-optical device of the present invention, the plate member is a transparent plate member having various functions such as a micro lens array plate, a dustproof glass plate, a heat radiation glass plate, a defocus glass plate, and the like. In a peripheral area located around the image display area, a transparent substrate (for example, a cover glass, a counter substrate,
Element substrate, etc.). Here, the “peripheral region” is meant to include a frame region that defines the frame of the image display region and a narrowly defined peripheral region located therearound. Here, since the adhesive is disposed in the peripheral area, when display light including ultraviolet rays, heat rays, and the like is incident on the image display area during use of the electro-optical device (particularly, in a projector application). (When strong display light is incident as described above), it is possible to prevent the adhesive from being irradiated with the display light and the adhesive from being deteriorated. Therefore, little or no stress concentration or deformation of the substrate near the boundary between the image display area and the peripheral area due to the deterioration of the adhesive occurs. Therefore, a high-quality image can be displayed in the image display area.
In particular, such deterioration occurs over time (that is, occurs as time elapses), so that the life of the apparatus can be extended, which is advantageous. Further, it is advantageous from the viewpoint that even if the adhesive disposed in the peripheral area is deteriorated and deteriorated to become opaque or cracked, the display quality in the image display area is not directly impaired. Even if the adhesive has voids from the beginning of manufacture, or if the adhesive is made of a material that causes large light reflection at the interface with the substrate or plate-like member (especially if the adhesive is separated from the display light path). This is very advantageous from the viewpoint of not deteriorating the display quality.

【0012】因みに本願発明者の研究によれば、マイク
ロレンズアレイ板等の板状部材を光硬化性接着剤で、周
辺領域のみならず画像表示領域においても基板(例え
ば、カバーガラス)に接着すると、特にプロジェクタの
ライトバルブ用途のように強力な表示光が画像表示領域
を透過する場合には、この光硬化性接着剤がヒケ(薄く
なる変形)などの経時変形を起こすことが判明してい
る。ここで通常は、画像表示領域の額縁を規定する額縁
領域に遮光手段を設けた完成品の形で、投射光等の表示
光が照射されるため、遮光手段により遮光されておらず
その分だけ紫外線等を含む光による変形が大きい画像表
示領域にある光硬化性接着剤の部分と、遮光手段により
遮光されておりその分だけ紫外線等を含む光による変形
が小さい額縁領域にある光硬化性接着剤の部分との間
で、光硬化性接着剤の変形量に差が生じてしまう。この
結果、板状部材が光硬化性接着剤により接着されている
基板が、これらの2つの部分の境界付近において構造的
な応力集中により径時的に変形して、最終的には、この
付近における画質の経時劣化(コントラスト異常の経時
的な増加)につながると考察される。
According to the study of the present inventor, when a plate-like member such as a microlens array plate is bonded to a substrate (for example, a cover glass) not only in the peripheral region but also in the image display region using a photocurable adhesive. In particular, when strong display light is transmitted through an image display area, such as in a light valve application of a projector, it has been found that this photocurable adhesive causes temporal deformation such as sink marks (thinning deformation). . Here, normally, display light such as projection light is applied in the form of a completed product in which a light-blocking means is provided in a frame area that defines a frame of an image display area. The photo-curable adhesive in the image display area that is largely deformed by light including ultraviolet light, etc., and the photo-curable adhesive in the frame area that is shielded by the light-shielding means and is less deformed by light including ultraviolet light. There is a difference in the amount of deformation of the photocurable adhesive between the agent and the part of the agent. As a result, the substrate to which the plate member is adhered by the photocurable adhesive is deformed temporally due to structural stress concentration near the boundary between these two portions, and finally, in the vicinity of this boundary. It is considered that this leads to deterioration of image quality with time (contrast abnormal increase with time).

【0013】しかるに本発明の電気光学装置では上述の
ように、接着剤は、周辺領域に配置されているので、光
硬化性接着剤のエージングに起因した、画像表示領域と
額縁領域との境界付近における応力集中や基板の変形
は、殆ど又は全く起こらないで済む。従って、このよう
な境界付近において局所的に発生する画質の経時劣化を
低減し得る。
However, in the electro-optical device according to the present invention, as described above, since the adhesive is disposed in the peripheral area, the vicinity of the boundary between the image display area and the frame area due to the aging of the photo-curable adhesive. And little or no deformation of the substrate occurs. Therefore, it is possible to reduce the temporal deterioration of the image quality locally occurring near such a boundary.

【0014】以上の結果、本発明の電気光学装置によれ
ば、板状部材の持つ各種機能に応じて高品位の画像表示
を長期に亘り行える。しかも、接着剤としては、概ね安
定した接着特性や汚染源とならないこと程度が要求され
るのみであり、接着剤の光学特性は問題とならない。従
って、当該電気光学装置の製造工程において利用可能な
接着剤の材質や塗布技術についての自由度は格段に広が
り、製造コストの削減も可能となる。
As a result, according to the electro-optical device of the present invention, high-quality image display can be performed for a long time in accordance with various functions of the plate member. Moreover, the adhesive only needs to have generally stable adhesive properties and a degree that does not become a contamination source, and the optical properties of the adhesive do not matter. Therefore, the degree of freedom regarding the material and application technique of the adhesive that can be used in the manufacturing process of the electro-optical device is greatly expanded, and the manufacturing cost can be reduced.

【0015】本発明の電気光学装置の一態様では、前記
板状部材は、マイクロレンズアレイ板を含む。
In one aspect of the electro-optical device of the present invention, the plate-like member includes a microlens array plate.

【0016】この態様によれば、マイクロレンズアレイ
板が接着剤によりカバーガラス等の基板に接着されてい
る。従って、マイクロレンズアレイ板が有する複数のマ
イクロレンズによって、表示光は各画素の開口領域に入
るように集光される。ここで特に、接着剤は周辺領域に
配置されているので、画像表示領域でマイクロレンズア
レイ板と基板との間の所定間隙に空気、窒素等の低屈折
率の気体や液体などを配置することにより、このような
気体などと感光性樹脂材料等からなる各マイクロレンズ
との界面における屈折率差を容易に大きくすることがで
きる。これにより各マイクロレンズにおけるレンズ能力
(集光能力)を高めることが可能となる。これらの結
果、画像表示領域の額縁付近における画質の経時劣化を
抑制しつつ、画素開口率が同じであっても各開口を通過
する光の強度を極めて効率よく増加させることにより、
電気光学装置により表示される画像をより明るく出来
る。
According to this aspect, the microlens array plate is adhered to the substrate such as the cover glass by the adhesive. Therefore, the display light is collected by the plurality of microlenses of the microlens array plate so as to enter the aperture region of each pixel. Here, in particular, since the adhesive is disposed in the peripheral region, air, a gas or liquid having a low refractive index such as nitrogen or the like is disposed in a predetermined gap between the microlens array plate and the substrate in the image display region. Accordingly, the difference in the refractive index at the interface between such a gas or the like and each microlens made of a photosensitive resin material or the like can be easily increased. This makes it possible to increase the lens capability (light-collecting capability) of each microlens. As a result, by suppressing the temporal deterioration of the image quality in the vicinity of the frame of the image display area, the intensity of light passing through each aperture is increased extremely efficiently even if the pixel aperture ratio is the same,
An image displayed by the electro-optical device can be made brighter.

【0017】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記板状部材は、防塵ガラス板を含む。
In another aspect of the electro-optical device according to the present invention, the plate member includes a dust-proof glass plate.

【0018】この態様によれば、防塵ガラス板が接着剤
により基板に接着されている。従って画像表示領域の額
縁付近における画質の経時劣化を抑制しつつ、防塵ガラ
ス板によって傷や埃等による画質劣化の防止を図ること
ができる。
According to this aspect, the dust-proof glass plate is bonded to the substrate with the adhesive. Therefore, it is possible to prevent deterioration of image quality due to scratches, dust, and the like by the dust-proof glass plate while suppressing temporal deterioration of image quality near the frame of the image display area.

【0019】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記板状部材は、放熱ガラス板を含む。
In another aspect of the electro-optical device according to the present invention, the plate member includes a heat radiation glass plate.

【0020】この態様によれば、放熱ガラス板が、接着
剤により基板に接着されている。従って画像表示領域の
額縁付近における画質の経時劣化を抑制しつつ、同時に
電気光学装置の温度上昇の防止を図ることができる。特
に電気光学装置をプロジェクタにおけるライトバルブと
して用いる場合、スクリーン上に拡大投射を行うため
に、電気光学装置には、例えばメタルハライドランプ等
の光源からの強力な光源光が集光された状態で入射する
が、当該放熱ガラスにより、温度上昇を効果的に抑制可
能である。
According to this aspect, the heat radiation glass plate is bonded to the substrate with the adhesive. Accordingly, it is possible to prevent the image quality near the frame of the image display area from deteriorating with time and at the same time to prevent the temperature of the electro-optical device from rising. In particular, when the electro-optical device is used as a light valve in a projector, in order to perform enlarged projection on a screen, the electro-optical device is incident on the electro-optical device in a state where strong light from a light source such as a metal halide lamp is collected. However, the heat dissipation glass can effectively suppress the temperature rise.

【0021】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記板状部材は、デフォーカス用ガラス板を含む。
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the plate member includes a defocus glass plate.

【0022】この態様によれば、デフォーカス用ガラス
板が、接着剤により基板に接着されている。従って画像
表示領域の額縁付近における画質の経時劣化を抑制しつ
つ、同時に埃や塵による画像表示をデフォーカスにより
目立た無くすることができる。特に、プロジェクタ用途
のように小さな埃や塵が拡大投影される場合に、このよ
うにデフォーカス用ガラス板を用いてデフォーカスする
ことは非常に有効である。
According to this aspect, the defocusing glass plate is bonded to the substrate with the adhesive. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the image quality over time in the vicinity of the frame of the image display area, and at the same time, to make the image display due to dust or dirt less noticeable by defocusing. In particular, when small dust or dust is enlarged and projected as in a projector, it is very effective to use a defocusing glass plate to perform defocusing.

【0023】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記接着剤は前記画像表示領域の大半に存在しない。
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the adhesive does not exist in most of the image display area.

【0024】この態様によれば、画像表示領域の大半に
接着剤が存在しない。ここに「大半に存在しない」と
は、半分以下の面積のみに存在するという意味であり、
全く存在しない場合をも含む意味である。このため、仮
に当該電気光学装置の使用中に光照射等により接着剤に
経時劣化が生じても、或いは製造当初から接着剤中にボ
イドや亀裂が生じていても、これらが画像品位に及ぼす
悪影響は、画像表示領域中に占める接着剤の少なさに応
じて軽微で済む。尚、画像表示領域内に接着剤が全く存
在しないように構成したり、更に、その額縁を規定する
額縁領域内にも接着剤が全く存在しないように構成して
よいことは言うまでもない。
According to this aspect, the adhesive does not exist in most of the image display area. Here, "not present in the majority" means that it exists only in less than half the area,
This means that it does not exist at all. For this reason, even if the adhesive deteriorates with time due to light irradiation or the like during use of the electro-optical device, or even if voids or cracks are generated in the adhesive from the beginning of manufacturing, these adversely affect the image quality. Is small according to the small amount of the adhesive occupying the image display area. It goes without saying that the image display area may be configured so that no adhesive is present at all, and furthermore, it may be configured such that no adhesive exists at all in the frame area that defines the frame.

【0025】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記接着剤は、前記周辺領域における3個所以上に離散的
に配置されている。
In another aspect of the electro-optical device according to the present invention, the adhesive is discretely arranged at three or more locations in the peripheral area.

【0026】この態様によれば、接着剤は、周辺領域で
離散的に配置されているので、画像表示領域における基
板と板状部材との間の空間は、接着剤により密封される
ことはない。従って、当該電気光学装置の使用中の温度
変化により、当該画像表示領域における基板と板状部材
との間の空間に密封された空気等が膨張したり収縮した
りして基板や板状部材に応力を発生させたり変形させた
りする事態を比較的簡易に未然防止できる。しかも、接
着剤は、3個所以上に配置されているので、板状部材を
基板に対して安定的に固定できる。
According to this aspect, since the adhesive is discretely arranged in the peripheral area, the space between the substrate and the plate-like member in the image display area is not sealed by the adhesive. . Therefore, due to a temperature change during use of the electro-optical device, air or the like sealed in the space between the substrate and the plate-shaped member in the image display area expands or contracts, and the air or the like is formed on the substrate or the plate-shaped member. A situation where stress is generated or deformed can be relatively easily prevented. In addition, since the adhesive is provided at three or more locations, the plate member can be stably fixed to the substrate.

【0027】本発明の電気光学装置の他の態様では、前
記接着剤は、平面的に見て前記画像表示領域の周囲を包
囲している。
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the adhesive surrounds the periphery of the image display area in a plan view.

【0028】この態様によれば、画像表示領域の周囲を
包囲する接着剤により、板状部材を基板に対して極めて
安定的に固定でき、基板と板状部材との間の所定間隙を
画像表示領域の全体に渡って極めて均一化することも可
能となる。
According to this aspect, the plate member can be extremely stably fixed to the substrate by the adhesive surrounding the periphery of the image display area, and the predetermined gap between the substrate and the plate member can be displayed on the image display. It is also possible to make it extremely uniform over the entire area.

【0029】この接着剤で包囲する態様では、前記接着
剤は、相互に連通する多数の微細孔が設けられた空気を
通す材質からなってもよい。
[0029] In this embodiment, the adhesive may be made of an air-permeable material provided with a large number of fine holes communicating with each other.

【0030】このように構成すれば、微細孔を通じて、
画像表示領域における基板と板状部材との間の空間に装
置外部から空気を導入することができる。特に、当該電
気光学装置の使用中の温度変化により、当該画像表示領
域における基板と板状部材との間の空間に密封された空
気等が膨張したり収縮したりして基板や板状部材に応力
を発生させたり変形させたりする事態を比較的簡易に未
然防止できる。従って、基板や板状部材の変形を低減し
つつ、板状部材を基板に対して極めて安定的に固定で
き、基板と板状部材との間の所定間隙を画像表示領域の
全体に渡って極めて均一化することも可能となる。
According to this structure, through the fine holes,
Air can be introduced into the space between the substrate and the plate member in the image display area from outside the device. In particular, due to a temperature change during use of the electro-optical device, air or the like sealed in the space between the substrate and the plate-like member in the image display area expands or contracts, causing the substrate or the plate-like member to expand. A situation where stress is generated or deformed can be relatively easily prevented. Therefore, the plate-like member can be fixed to the substrate very stably while reducing the deformation of the substrate and the plate-like member, and the predetermined gap between the substrate and the plate-like member can be extremely reduced over the entire image display area. It is also possible to make them uniform.

【0031】或いはこの接着剤で包囲する態様では、前
記接着剤は、空気を通さない材質からなり、前記接着剤
により包囲された空間に対して空気を通すための開口が
設けられてもよい。
Alternatively, in the aspect surrounded by the adhesive, the adhesive may be made of a material that does not allow air to pass through, and an opening may be provided for passing air into the space surrounded by the adhesive.

【0032】このように構成すれば、開口を通じて、画
像表示領域における基板と板状部材との間の空間に装置
外部から空気を導入することができる。特に、当該電気
光学装置の使用中の温度変化により、当該画像表示領域
における基板と板状部材との間の空間に密封された空気
等が膨張したり収縮したりして基板や板状部材に応力を
発生させたり変形させたりする事態を比較的簡易に未然
防止できる。従って、基板や板状部材の変形を低減しつ
つ、板状部材を基板に対して極めて安定的に固定でき、
基板と板状部材との間の所定間隙を画像表示領域の全体
に渡って極めて均一化することも可能となる。
With this configuration, it is possible to introduce air from the outside of the apparatus into the space between the substrate and the plate-like member in the image display area through the opening. In particular, due to a temperature change during use of the electro-optical device, air or the like sealed in the space between the substrate and the plate-like member in the image display area expands or contracts, causing the substrate or the plate-like member to expand. A situation where stress is generated or deformed can be relatively easily prevented. Therefore, the plate member can be fixed to the substrate extremely stably while reducing the deformation of the substrate and the plate member,
It is also possible to make the predetermined gap between the substrate and the plate-like member extremely uniform over the entire image display area.

【0033】或いはこの接着剤で包囲する態様では、前
記接着剤は、空気を通さない材質からなり、前記接着剤
により包囲された空間には所定種類の気体又は液体が封
入されてもよい。
Alternatively, in this embodiment, the adhesive is made of a material that does not allow air to pass through, and a predetermined type of gas or liquid may be sealed in a space surrounded by the adhesive.

【0034】このように構成すれば、密封空間内に外部
から塵や埃が侵入することを防止し得る。この密封され
た空間には、窒素等の負活性ガス、化学的に安定した液
体等を、従来の液晶装置における液晶封入技術を援用し
て封入すればよい。
With this configuration, it is possible to prevent dust and dirt from entering the sealed space from the outside. A negative active gas such as nitrogen, a chemically stable liquid, or the like may be sealed in the sealed space with the help of a liquid crystal sealing technique in a conventional liquid crystal device.

【0035】本発明の電気光学装置の製造方法は上記課
題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置
(上述した各種態様も含む)を製造する電気光学装置の
製造方法であって、前記基板上の前記周辺領域に硬化前
の接着剤を配置する工程と、前記硬化前の接着剤が配置
された基板上に前記板状部材を配置する工程と、前記硬
化前の接着剤を硬化させる工程とを含む。
In order to solve the above-mentioned problems, an electro-optical device manufacturing method according to the present invention is a method for manufacturing the above-described electro-optical device (including the various aspects described above) according to the present invention. Arranging the uncured adhesive in the peripheral region on the substrate, arranging the plate-shaped member on the substrate on which the uncured adhesive is arranged, and curing the uncured adhesive And the step of causing

【0036】本発明の電気光学装置の製造方法によれば
先ず、例えばカバーガラス、対向基板等の基板上の周辺
領域に、硬化前の接着剤が配置される。この接着剤とし
ては、シアンアクリレートの如く硬化時に汚染物質を発
生するものを除けば、光学特性(屈折率等)の如何を問
わずに公知の各種接着剤を使用可能である。例えばエポ
キシ系、アクリル系の接着剤を使用可能である。このよ
うな接着剤の配置方法としては、ディスペンサ、スクリ
ーン印刷等の公知技術を利用できる。特に本発明では、
接着剤中に気泡やボイドが入っても構わないため、なる
べく低コストで基板上に接着剤を配置すればよい。次
に、硬化前の接着剤が配置された基板上に、マイクロレ
ンズアレイ板、防塵ガラス板、放熱ガラス板、デフォー
カス用ガラス板等の各種機能を有する透明な板状部材が
配置される。次に、これら板状部材と基板との所定間隙
内に配置されている接着剤を硬化させる。例えば、光硬
化性の接着剤であれば、基板及び板状部材のうち少なく
とも一方を介して紫外線等の光を照射すればよく、熱硬
化性接着剤であれば、熱線照射等により加熱すればよ
い。以上の結果、上述した本発明の電気光学装置を比較
的容易に且つ安価に製造できる。
According to the method of manufacturing an electro-optical device of the present invention, first, an adhesive before curing is arranged in a peripheral region on a substrate such as a cover glass or a counter substrate. As the adhesive, various known adhesives can be used irrespective of optical characteristics (refractive index, etc.), except for those which generate contaminants upon curing, such as cyan acrylate. For example, an epoxy-based or acrylic-based adhesive can be used. As a method for disposing such an adhesive, a known technique such as a dispenser or screen printing can be used. In particular, in the present invention,
Since bubbles and voids may enter the adhesive, the adhesive may be disposed on the substrate at as low a cost as possible. Next, a transparent plate-like member having various functions such as a microlens array plate, a dust-proof glass plate, a heat-radiation glass plate, and a defocusing glass plate is disposed on the substrate on which the adhesive before curing is disposed. Next, the adhesive disposed in a predetermined gap between the plate member and the substrate is cured. For example, if it is a photo-curable adhesive, it may be irradiated with light such as ultraviolet rays through at least one of the substrate and the plate-like member. Good. As a result, the above-described electro-optical device of the present invention can be manufactured relatively easily and at low cost.

【0037】本発明の投射型表示装置は上記課題を解決
するために、上述した本発明の電気光学装置(上述した
各種態様も含む)からなるライトバルブと、該ライトバ
ルブに投射光を入射する光源と、該ライトバルブから出
射した前記投射光を投射する光学系とを備える。
In order to solve the above problems, a projection type display device according to the present invention includes a light valve including the above-described electro-optical device according to the present invention (including the various aspects described above), and projects light to the light valve. A light source; and an optical system that projects the projection light emitted from the light valve.

【0038】本発明の投射型表示装置によれば、上述し
た本発明の電気光学装置(その各種態様も含む)をライ
トバルブとして備えているので、長期に亘って高品位の
画像表示が可能となる。
According to the projection type display device of the present invention, since the above-described electro-optical device (including its various aspects) of the present invention is provided as a light valve, it is possible to display high-quality images for a long period of time. Become.

【0039】本発明のこのような作用及び他の利得は次
に説明する実施の形態から明らかにされる。
The operation and other advantages of the present invention will become more apparent from the embodiments explained below.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0041】(電気光学装置の全体構成)先ず、本発明
の各実施形態における電気光学装置の全体構成につい
て、図1及び図2を参照して説明する。ここでは、駆動
回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液
晶装置を例にとる。
(Overall Configuration of Electro-Optical Device) First, the overall configuration of the electro-optical device according to each embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, a liquid crystal device of a TFT active matrix drive system with a built-in drive circuit is taken as an example.

【0042】図1は、TFTアレイ基板をその上に形成
された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図で
あり、図2は、図1のH−H’断面図である。
FIG. 1 is a plan view of a TFT array substrate together with components formed thereon viewed from the counter substrate side, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line HH ′ of FIG.

【0043】図1及び図2において、液晶装置は、TF
Tアレイ基板10と対向基板20が対向配置されてお
り、対向基板20の下側の面には、多数のマイクロレン
ズが形成されており、対向基板20はマイクロレンズア
レイ板として構成されている。このようにマイクロレン
ズが形成された対向基板20の下側の面には接着剤21
0により、基板の一例としてのカバーガラス200が接
着されている。そしてTFTアレイ基板10とカバーガ
ラス200との間に液晶層50が封入されており、TF
Tアレイ基板10とカバーガラス200とは、画像表示
領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシ
ール材52により相互に接着されている。
In FIGS. 1 and 2, the liquid crystal device has a TF
The T array substrate 10 and the opposing substrate 20 are arranged to face each other, and a large number of microlenses are formed on the lower surface of the opposing substrate 20, and the opposing substrate 20 is configured as a microlens array plate. An adhesive 21 is provided on the lower surface of the counter substrate 20 on which the microlenses are formed as described above.
With 0, the cover glass 200 as an example of the substrate is adhered. The liquid crystal layer 50 is sealed between the TFT array substrate 10 and the cover glass 200,
The T array substrate 10 and the cover glass 200 are adhered to each other by a seal member 52 provided in a seal area located around the image display area 10a.

【0044】シール材52は、両基板を貼り合わせるた
めの、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、
後述の製造プロセスにおいてTFTアレイ基板10上に
塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられ
たものである。また、シール材52中には、当該液晶装
置がプロジェクタ用途のように小型で拡大表示を行う液
晶装置であれば、両基板間の距離(基板間ギャップ)を
所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ
等のギャップ材(スペーサ)が散布されてもよい。或い
は、当該液晶装置が液晶ディスプレイや液晶テレビのよ
うに大型で等倍表示を行う液晶装置であれば、このよう
なギャップ材は、液晶層50中に含まれてよい。
The sealing material 52 is made of, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or the like for bonding the two substrates together.
After being applied on the TFT array substrate 10 in a manufacturing process to be described later, it is cured by ultraviolet irradiation, heating, or the like. If the liquid crystal device is a small-sized liquid crystal device such as a projector, which performs enlarged display, a glass fiber or a glass fiber for setting a distance between the two substrates (a gap between the substrates) to a predetermined value is included in the sealing material 52. A gap material (spacer) such as glass beads may be sprayed. Alternatively, such a gap material may be included in the liquid crystal layer 50 if the liquid crystal device is a large-sized liquid crystal device such as a liquid crystal display or a liquid crystal television that displays images at the same magnification.

【0045】シール材52が配置されたシール領域の内
側に並行して、画像表示領域10aを規定する遮光性の
額縁53が対向基板20側に設けられている。
A light-shielding frame 53 for defining the image display area 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal area in which the seal material 52 is disposed.

【0046】シール材52が配置されたシール領域の外
側の周辺領域には、データ線駆動回路101及び外部回
路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿っ
て設けられており、走査線駆動回路104が、この一辺
に隣接する2辺に沿って設けられている。更にTFTア
レイ基板10の残る一辺には、画像表示領域の両側に設
けられた走査線駆動回路104間をつなぐための複数の
配線105が設けられている。また、対向基板20のコ
ーナー部の少なくとも一個所において、TFTアレイ基
板10と対向基板20との間で電気的導通をとるための
上下導通材106が設けられている。
A data line driving circuit 101 and an external circuit connection terminal 102 are provided along a side of the TFT array substrate 10 in a peripheral region outside the sealing region where the sealing material 52 is disposed. 104 are provided along two sides adjacent to this one side. Further, on the remaining one side of the TFT array substrate 10, a plurality of wirings 105 for connecting between the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display area are provided. Further, at least one corner portion of the opposite substrate 20 is provided with an upper / lower conductive material 106 for establishing electrical conduction between the TFT array substrate 10 and the opposite substrate 20.

【0047】図2において、TFTアレイ基板10上に
は、画素スイッチング用TFT30や走査線、データ
線、容量線等の配線が形成された後の画素電極上に、ポ
リイミド系材料からなる配向膜が形成されている。他
方、カバーガラス200上(図2において下側の面)に
は、対向電極の他、各画素毎に非開口領域を規定する遮
光膜23、カラーフィルタ等が形成された最上層部分
に、ポリイミド系材料からなる配向膜が形成されてい
る。これらの一対の配向膜は夫々、ポリイミド系材料を
塗布し、焼成した後、液晶層50中の液晶を所定方向に
配向させると共に液晶に所定のプレチルト角を付与する
ように配向処理が施されている。尚、遮光膜23は、表
示画像におけるコントラストの向上、カラーフィルタを
形成した場合の色材の混色防止などの機能を有する。こ
のような遮光膜23を対向基板20の側ではなく、TF
Tアレイ基板10上に形成してもよい。
In FIG. 2, an alignment film made of a polyimide-based material is formed on the TFT array substrate 10 and on the pixel electrodes after the pixel switching TFTs 30 and the wirings such as the scanning lines, the data lines, and the capacitance lines are formed. Is formed. On the other hand, on the cover glass 200 (the lower surface in FIG. 2), a polyimide film is formed on the uppermost layer on which a light-shielding film 23 defining a non-opening area for each pixel, a color filter, and the like are formed in addition to a counter electrode. An alignment film made of a base material is formed. Each of the pair of alignment films is coated with a polyimide material and baked, and then subjected to an alignment process to align the liquid crystal in the liquid crystal layer 50 in a predetermined direction and to give the liquid crystal a predetermined pretilt angle. I have. The light-shielding film 23 has a function of improving contrast in a display image, preventing color mixture of a color material when a color filter is formed, and the like. Such a light-shielding film 23 is formed on the TF
It may be formed on the T array substrate 10.

【0048】また、液晶層50は、例えば一種又は数種
類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の
配向膜間で、所定の配向状態をとる。
The liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several kinds of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between a pair of alignment films.

【0049】図2において、破線で示すように、上述の
如き構成を持つ液晶装置の本体は、プラスチック等から
なる遮光性のケース300内に収容される。ケース30
0の中央には、画像表示領域10aに対応して窓が設け
られており、ケース300の窓を規定する縁部分が額縁
領域に対応して設けられている。
In FIG. 2, as indicated by a broken line, the main body of the liquid crystal device having the above-described configuration is housed in a light-shielding case 300 made of plastic or the like. Case 30
At the center of 0, a window is provided corresponding to the image display area 10a, and an edge portion defining the window of the case 300 is provided corresponding to the frame area.

【0050】本実施形態では特に、接着剤210は、対
向基板20(マイクロレンズアレイ板)とカバーガラス
200との間隙内に配置されており、画像表示領域10
aの周囲に広がる周辺領域で、対向基板20とカバーガ
ラス200とを接着している。従って、当該液晶装置の
使用中に画像表示領域10aに対して、プロジェクタ用
の強力な表示光が入射される際に、表示光が接着剤21
0に照射されて接着剤210が劣化する事態を防ぐこと
が可能となる。この結果、接着剤210の劣化による画
像表示領域10aと周辺領域との境界付近における応力
集中や対向基板20やカバーガラス200の変形は、殆
ど又は全く起生じない。更に、接着剤210が劣化によ
り変質して不透明になったり亀裂が入ったりしても、図
2から明らかなように、画像表示領域10aにおける表
示品位を直接害することはない。これに加えて、画像表
示領域10aにおける対向基板20とカバーガラス20
0との間の空間220は、空気で満たされているので、
従来の如く画像表示領域の全面に塗布された接着剤によ
りマイクロレンズアレイ板にカバーガラスを接着する場
合と比較して、各マイクロレンズにおけるレンズ能力
(集光能力)は顕著に高められている。
In this embodiment, in particular, the adhesive 210 is disposed in the gap between the opposing substrate 20 (microlens array plate) and the cover glass 200, and the image display area 10
The opposing substrate 20 and the cover glass 200 are adhered to each other in a peripheral area extending around the area a. Therefore, when strong display light for a projector is incident on the image display area 10a during use of the liquid crystal device, the display light is applied to the adhesive 21.
It is possible to prevent a situation in which the adhesive 210 is deteriorated by being irradiated with zero. As a result, stress concentration near the boundary between the image display area 10a and the peripheral area due to the deterioration of the adhesive 210 and deformation of the counter substrate 20 and the cover glass 200 hardly occur at all. Further, even if the adhesive 210 deteriorates due to deterioration and becomes opaque or cracks, as is clear from FIG. 2, the display quality in the image display area 10a is not directly impaired. In addition, the counter substrate 20 and the cover glass 20 in the image display area 10a
The space 220 between 0 and 0 is filled with air,
Compared with the case where a cover glass is adhered to a microlens array plate with an adhesive applied to the entire surface of an image display area as in the related art, the lens ability (light collecting ability) of each microlens is significantly increased.

【0051】更に本実施形態では、接着剤210は、図
1の平面図上でシール剤52とほぼ同じ領域に形成され
ており、画像表示領域10aの周囲を包囲している。従
って、接着剤210により、対向基板20にカバーガラ
ス200を極めて安定的に固定でき、両者間の空間22
0を画像表示領域10aの全体に渡って均一化できる。
Further, in this embodiment, the adhesive 210 is formed in substantially the same area as the sealant 52 in the plan view of FIG. 1, and surrounds the periphery of the image display area 10a. Therefore, the cover glass 200 can be extremely stably fixed to the opposing substrate 20 by the adhesive 210, and the space 22 between them can be fixed.
0 can be uniformed over the entire image display area 10a.

【0052】本実施形態の如く接着剤210で画像表示
領域10aを包囲する構成を採用する場合、接着剤21
0を、相互に連通する多数の微細孔が設けられた空気を
通す材質から構成してもよい。このように構成すれば、
微細孔を通じて画像表示領域10aにおける対向基板2
0とカバーガラス200との間の空間220に液晶装置
外部から空気を導入することができる。特に、当該液晶
装置の使用中の温度変化により、接着剤210で包囲さ
れた空間220内の空気が膨張したり収縮したりして
も、対向基板20やカバーガラス200に応力を発生さ
せたり変形させたりすることはなくなる。或いは、この
接着剤210を空気を通さない材質から構成すると共に
図1に示したシール材52の液晶注入口の場合と同様
に、接着剤210の一部を欠如させることにより、接着
剤210により包囲された空間に対して空気を通すため
の開口を設けても、同様の効果が得られる。
In the case of employing a configuration in which the image display area 10a is surrounded by the adhesive 210 as in this embodiment, the adhesive 21
0 may be made of an air-permeable material provided with a number of fine holes communicating with each other. With this configuration,
Counter substrate 2 in image display area 10a through micro holes
Air can be introduced into the space 220 between the cover glass 200 and the outside from the liquid crystal device. In particular, even if the air in the space 220 surrounded by the adhesive 210 expands or contracts due to a temperature change during use of the liquid crystal device, the counter substrate 20 or the cover glass 200 may be stressed or deformed. And no more. Alternatively, the adhesive 210 is made of a material that does not allow air to pass through, and a part of the adhesive 210 is omitted as in the case of the liquid crystal injection port of the sealing material 52 shown in FIG. The same effect can be obtained by providing an opening for passing air through the enclosed space.

【0053】但し、本実施形態の如く接着剤210で画
像表示領域10aを包囲する構成を採用する場合、接着
剤210を空気を通さない材質から構成すると共に、接
着剤210により包囲された空間220には所定種類の
気体又は液体を封入してもよい。このように構成すれ
ば、密封された空間220内に外部から塵や埃が侵入す
ることを防止し得る。この密封された空間220には、
窒素等の負活性ガス、化学的に安定した液体等を、従来
の液晶装置における液晶封入技術を援用して封入すれば
よい。特に各マイクロレンズによる集光機能を高めるべ
く、なるべく低屈折率の気体や液体を封入するのが好ま
しい。
However, when the configuration in which the image display area 10a is surrounded by the adhesive 210 as in the present embodiment is adopted, the adhesive 210 is made of a material that does not allow air to pass through, and the space 220 surrounded by the adhesive 210 is used. May be filled with a predetermined type of gas or liquid. With this configuration, it is possible to prevent dust and dirt from entering the sealed space 220 from the outside. In this sealed space 220,
A negative active gas such as nitrogen, a chemically stable liquid, or the like may be sealed using liquid crystal sealing technology in a conventional liquid crystal device. In particular, it is preferable that a gas or liquid having a low refractive index is sealed as much as possible in order to enhance the light collecting function of each microlens.

【0054】尚、図1及び図2に示した実施形態では、
画像表示領域10aには、全く接着剤210が存在して
いないが、接着剤210の接着能力に鑑み、画像表示領
域10a内にも若干の接着剤210が存在しても上述し
た本実施形態の効果は多少なりとも発揮される。いずれ
にせよ、画像表示領域10aの大半には、接着剤210
が存在しない様に構成するとよい。
In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2,
Although the adhesive 210 is not present in the image display area 10a at all, in view of the adhesive ability of the adhesive 210, even if a small amount of the adhesive 210 is present also in the image display area 10a, the present embodiment described above is used. The effect is exhibited to some extent. In any case, most of the image display area 10a includes the adhesive 210
It is good to constitute so that does not exist.

【0055】また、以上説明した実施形態では、接着剤
210は、額縁53に沿って画像表示領域10aを包囲
するように配置されているが、接着剤210は、周辺領
域における3個所以上に離散的に配置してもよい。この
ように3個所に配置すれば、対向基板20に対してカバ
ーガラス200を安定的に接着固定できる。しかも、画
像表示領域10aにおけるカバーガラス200と対向基
板20との間の空間220は、接着剤210により密封
されることはないので、当該液晶装置の使用中の温度変
化により、画像表示領域10aにおける空間220に密
封された空気等が膨張したり収縮したりして対向基板2
0やカバーガラス200に応力を発生させたり変形させ
たりする事態を比較的簡易に未然防止できる。例えば、
接着剤210を額縁53の4辺に沿って4個所に離散的
に配置してもよい。これにより、対向基板20をカバー
ガラス200に対して、より安定的に固定でき、同時に
両者間の距離を、画像表示領域10aの全体に渡って均
一化できる。
In the embodiment described above, the adhesive 210 is arranged so as to surround the image display area 10a along the frame 53. However, the adhesive 210 is discrete at three or more places in the peripheral area. It may be arranged in a way. By arranging the cover glass 200 at the three positions in this manner, the cover glass 200 can be stably bonded to the counter substrate 20. Moreover, since the space 220 between the cover glass 200 and the counter substrate 20 in the image display area 10a is not sealed by the adhesive 210, the temperature change during use of the liquid crystal device causes the space 220 in the image display area 10a. When the air or the like sealed in the space 220 expands or contracts,
It is possible to relatively easily prevent the stress or deformation of the cover glass 200 from being generated. For example,
The adhesive 210 may be discretely arranged at four locations along the four sides of the frame 53. Thereby, the opposing substrate 20 can be more stably fixed to the cover glass 200, and at the same time, the distance between them can be made uniform over the entire image display area 10a.

【0056】(電気光学装置の製造方法)次に図1及び
図2に示した如き全体構成を有する液晶装置の製造プロ
セスの実施形態について図3を参照しながら説明する。
(Method of Manufacturing Electro-Optical Device) Next, an embodiment of a process of manufacturing a liquid crystal device having the overall configuration as shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIG.

【0057】先ず図3の工程(1)に示すように、図示
しない額縁53、遮光膜23や更に対向電極、配向膜等
が形成される前又は後におけるカバーガラス200に対
して、マイクロレンズアレイが形成された対向基板20
が光硬化前の光硬化性の接着剤210aにより接着され
る。ここで特に、接着剤210aは、額縁53に沿って
周辺領域のみに塗布され、カバーガラス200と対向基
板20との間には、空気で満たされた空間220が構築
される。
First, as shown in step (1) of FIG. 3, a microlens array is formed on the cover glass 200 before or after the frame 53 (not shown), the light shielding film 23, the counter electrode, the alignment film, etc. are formed. Opposing substrate 20 on which is formed
Are bonded by a photocurable adhesive 210a before photocuring. Here, in particular, the adhesive 210a is applied only to the peripheral region along the frame 53, and a space 220 filled with air is constructed between the cover glass 200 and the counter substrate 20.

【0058】この際、接着剤210aとしては、シアノ
アクリレートの如く硬化時に汚染物質を発生するものを
除けば、光学特性(屈折率等)の如何を問わずに公知の
各種接着剤を使用可能である。例えばエポキシ系、アク
リル系の接着剤を使用可能である。このような接着剤の
配置方法としては、ディスペンサ、スクリーン印刷等の
公知技術を利用できる。特に本実施形態では、接着剤2
10a中に気泡やボイドが入っても構わないため、なる
べく低コストでカバーガラス200上に接着剤210a
を配置すればよい。尚、対向基板20をカバーガラス2
00上に対向配置した後に、カバーガラス200と対向
基板20との間隙内に周辺領域の脇から接着剤210a
を毛細管現象を利用して注入することも可能である。
At this time, various known adhesives can be used as the adhesive 210a irrespective of optical characteristics (refractive index, etc.), except for those which generate contaminants during curing, such as cyanoacrylate. is there. For example, an epoxy-based or acrylic-based adhesive can be used. As a method for disposing such an adhesive, a known technique such as a dispenser or screen printing can be used. Particularly, in the present embodiment, the adhesive 2
Since bubbles and voids may enter the inside of the cover glass 200 as much as possible, the adhesive 210a
Should be arranged. The opposite substrate 20 is covered with the cover glass 2.
After opposing the adhesive 210a, the adhesive 210a is placed in the gap between the cover glass 200 and the opposing substrate 20 from the side of the peripheral region.
Can also be injected using capillary action.

【0059】次に図3の工程(2)に示すように、UV
(Ultra-Violet:紫外線)光が対向基板20及びカバー
ガラス200のうち少なくとも一方を介して、光硬化前
の光硬化性の接着剤210aに照射され、硬化後の接着
剤210となる。
Next, as shown in step (2) of FIG.
(Ultra-Violet: ultraviolet) light is irradiated to the photocurable adhesive 210a before photocuring via at least one of the counter substrate 20 and the cover glass 200, and becomes the adhesive 210 after curing.

【0060】次に図3の工程(3)に示すように、カバ
ーガラス200が接着された対向基板20と、各種の素
子や配線等が形成されたTFTアレイ基板10とを、シ
ール材52により貼り合せる。尚この例では、TFTア
レイ基板10の外側にも、偏光板や位相差板等の光学板
10’が取り付けられている。
Next, as shown in step (3) of FIG. 3, the opposing substrate 20 to which the cover glass 200 is adhered and the TFT array substrate 10 on which various elements, wirings, and the like are formed are sealed with a sealing material 52. Paste. In this example, an optical plate 10 'such as a polarizing plate or a retardation plate is also attached outside the TFT array substrate 10.

【0061】次に図3の工程(4)に示すように、工程
(3)により完成した液晶装置本体を、ケース300内
に収容する。
Next, as shown in step (4) of FIG. 3, the liquid crystal device main body completed in step (3) is housed in case 300.

【0062】以上の結果、上述した本実施形態の液晶装
置を比較的容易に且つ安価に製造できる。
As a result, the above-described liquid crystal device of the present embodiment can be manufactured relatively easily and at low cost.

【0063】尚、工程(2)において、UV光に代えて
または加えて、接着剤210に対して熱を照射して、接
着剤210に対する硬化処理を行ってもよい。更に、図
3の工程(4’)に示すように、ケース300の額縁で
画像表示領域10aを規定するのではなく、幅広の額縁
53’をカバーガラス200上に設けるようにしてもよ
い。
In the step (2), the adhesive 210 may be irradiated with heat in place of or in addition to the UV light to cure the adhesive 210. Furthermore, as shown in the step (4 ′) of FIG. 3, instead of defining the image display area 10a with the frame of the case 300, a wide frame 53 ′ may be provided on the cover glass 200.

【0064】(電気光学装置の画素部)本発明による電
気光学装置の画素部について、図4から図6を参照して
説明する。図4は、電気光学装置の画像表示領域を構成
するマトリクス状に形成された複数の画素における各種
素子、配線等の等価回路である。図5は、データ線、走
査線、画素電極、遮光膜等が形成されたTFTアレイ基
板の相隣接する複数の画素群並びに対向基板に形成され
た遮光膜及びマイクロレンズの平面図である。図6は、
対向基板に形成されたマイクロレンズにより入射光が集
光される様子を擬似断面にて示す模式図である。尚、図
6においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度
の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならし
めてあり、更に、集光の様子を理解し易く描くために、
マイクロレンズ及びTFTの配置関係を、実際の配置関
係とは異ならしめてある。即ち、実際には、図5に示す
ように、マイクロレンズは、そのレンズ中心が各画素中
心に一致するように配置されており、TFTは、遮光領
域の交点にほぼ対応するように配置されている。
(Pixel Section of Electro-Optical Device) The pixel section of the electro-optical device according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is an equivalent circuit of various elements, wirings, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix forming an image display area of the electro-optical device. FIG. 5 is a plan view of a plurality of pixel groups adjacent to each other on a TFT array substrate on which data lines, scanning lines, pixel electrodes, light-shielding films, etc. are formed, and light-shielding films and microlenses formed on a counter substrate. FIG.
It is a schematic diagram which shows the mode that incident light is condensed by the micro lens formed in the opposing board | substrate in a pseudo cross section. In FIG. 6, in order to make each layer and each member have a size recognizable in the drawing, the scale is different for each layer and each member. ,
The arrangement of the microlenses and the TFT is different from the actual arrangement. That is, in actuality, as shown in FIG. 5, the microlenses are arranged so that the lens centers thereof coincide with the centers of the respective pixels, and the TFTs are arranged so as to substantially correspond to the intersections of the light shielding regions. I have.

【0065】図4において、本実施形態による電気光学
装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成され
た複数の画素は、画素電極9aを制御するためのTFT
30がマトリクス状に複数形成されており、画像信号が
供給されるデータ線6aが当該TFT30のソースに電
気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信
号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給して
も構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対
して、グループ毎に供給するようにしても良い。また、
TFT30のゲートに走査線3aが電気的に接続されて
おり、所定のタイミングで、走査線3aにパルス的に走
査信号G1、G2、…、Gmを、この順に線順次で印加
するように構成されている。画素電極9aは、TFT3
0のドレインに電気的に接続されており、スイッチング
素子であるTFT30を一定期間だけそのスイッチを閉
じることにより、データ線6aから供給される画像信号
S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。
画素電極9aを介して液晶に書き込まれた所定レベルの
画像信号S1、S2、…、Snは、対向基板に形成され
た対向電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加
される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化す
ることにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ノ
ーマリーホワイトモードであれば、印加された電圧に応
じて入射光が通過不可能とされ、ノーマリーブラックモ
ードであれば、印加された電圧に応じて入射光が通過可
能とされ、全体として電気光学装置からは画像信号に応
じたコントラストを持つ光が出射する。ここで、保持さ
れた画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9
aと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積
容量70を付加する。
In FIG. 4, a plurality of pixels formed in a matrix and constituting an image display area of the electro-optical device according to the present embodiment have TFTs for controlling the pixel electrodes 9a.
A plurality of pixels 30 are formed in a matrix, and the data line 6a to which an image signal is supplied is electrically connected to the source of the TFT 30. The image signals S1, S2,..., Sn to be written to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied to a plurality of adjacent data lines 6a for each group. good. Also,
The scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT 30, and is configured to apply the scanning signals G1, G2,..., Gm to the scanning line 3a in a pulsed manner in this order at a predetermined timing. ing. The pixel electrode 9a is a TFT3
., Sn supplied from the data line 6a are written at a predetermined timing by closing the switch of the TFT 30 as a switching element for a predetermined period. .
The image signals S1, S2,..., Sn of a predetermined level written in the liquid crystal via the pixel electrodes 9a are held for a certain period between the counter electrodes formed on the counter substrate. The liquid crystal modulates light by changing the orientation and order of the molecular assembly according to the applied voltage level, thereby enabling gray scale display. In the normally white mode, the incident light cannot be passed according to the applied voltage. In the normally black mode, the incident light can be passed according to the applied voltage. Light having a contrast corresponding to the image signal is emitted from the optical device. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, the pixel electrode 9 is used.
A storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the capacitor a and the counter electrode.

【0066】図5において、電気光学装置のTFTアレ
イ基板上には、マトリクス状に複数の透明な画素電極9
a(点線により輪郭が示されている)が設けられてお
り、画素電極9aの縦横の境界に各々沿ってデータ線6
a、走査線3a及び容量線3bが設けられている。ま
た、これらの配線の各交点にほぼ対応してTFT30が
設けられている。図中、1点鎖線で示されており上下方
向に伸びる各データ線6aは、コンタクトホール5を介
してポリシリコン膜等からなる半導体層1aのうちTF
T30のソース領域に電気的接続されている。画素電極
9aは、コンタクトホール8を介して半導体層1aのう
ちTFT30のドレイン領域に電気的接続されている。
また、図中左右方向に伸びる各走査線3aは、半導体層
1aのうちチャネル領域1a’(図中右下りの斜線の領
域)に対向するように配置されており、走査線3aはT
FT30のゲート電極として機能する。
In FIG. 5, a plurality of transparent pixel electrodes 9 are arranged in a matrix on the TFT array substrate of the electro-optical device.
a (indicated by a dotted line) are provided along the data lines 6 along the vertical and horizontal boundaries of the pixel electrode 9a.
a, a scanning line 3a, and a capacitance line 3b. Further, a TFT 30 is provided substantially corresponding to each intersection of these wirings. In the figure, each data line 6a, which is indicated by a dashed line and extends in the vertical direction, is a TF of the semiconductor layer 1a made of a polysilicon film or the like via the contact hole 5.
It is electrically connected to the source region of T30. The pixel electrode 9a is electrically connected to the drain region of the TFT 30 in the semiconductor layer 1a via the contact hole 8.
Further, each scanning line 3a extending in the left-right direction in the figure is arranged so as to face a channel region 1a ′ (a hatched region in the right-down direction in the figure) of the semiconductor layer 1a.
It functions as the gate electrode of FT30.

【0067】容量線3bは、走査線3aに沿ってほぼ直
線状に伸びる本線部と、データ線6aと交差する箇所か
らデータ線6aに沿って図中上向きに突出した突出部と
を有する。そして、半導体層1aは、TFT30から容
量線3bに沿って蓄積容量電極1fとして延設されてお
り、この蓄積容量電極1fと容量線3bとが誘電体とし
ての絶縁膜(ゲート絶縁膜)を介して対向配置されるこ
とにより、蓄積容量が形成されている。
The capacitance line 3b has a main line extending substantially linearly along the scanning line 3a, and a protruding portion protruding upward in the figure along the data line 6a from a location intersecting the data line 6a. The semiconductor layer 1a extends as a storage capacitor electrode 1f from the TFT 30 along the capacitor line 3b, and the storage capacitor electrode 1f and the capacitor line 3b are interposed via an insulating film (gate insulating film) as a dielectric. The storage capacitors are formed by being opposed to each other.

【0068】図中、1点鎖線で示されており走査線3a
及び容量線3bに沿って左右方向に伸びる領域には、複
数の縞状部分からなる第1遮光膜11aが設けられてい
る。これにより、半導体層1aのチャネル領域1a’を
含むTFT30をTFTアレイ基板側から夫々覆うよう
に構成されている。このようにTFTの下側にも遮光膜
を設ければ、TFTアレイ基板10の側からの裏面反射
(戻り光)や複数の液晶装置をプリズム等を介して組み
合わせて一つの光学系を構成する場合に、他の液晶装置
からプリズム等を突き抜けて来る投射光部分等が当該液
晶装置のTFTに入射するのを未然に防ぐことができ
る。
In the drawing, the scanning line 3a is shown by a one-dot chain line.
A first light-shielding film 11a composed of a plurality of striped portions is provided in a region extending in the left-right direction along the capacitor line 3b. Thus, the TFT 30 including the channel region 1a 'of the semiconductor layer 1a is configured to be covered from the TFT array substrate side. If a light-shielding film is also provided below the TFT as described above, one optical system is configured by combining the back surface reflection (return light) from the TFT array substrate 10 side and a plurality of liquid crystal devices via a prism or the like. In this case, it is possible to prevent a projection light portion or the like that penetrates through a prism or the like from another liquid crystal device from entering the TFT of the liquid crystal device.

【0069】図5には更に、対向基板に、各画素電極1
1aに夫々対向して形成される複数のマイクロレンズの
マイクロレンズ端500aと、対向基板上において複数
のマイクロレンズ端500aに夫々対向配置された網目
状の遮光膜23(図中、右上がりの斜線領域)とが示さ
れている。
FIG. 5 further shows that each pixel electrode 1
Micro-lens ends 500a of a plurality of micro-lenses formed so as to face each other, and a mesh-shaped light-shielding film 23 (a hatched line rising to the right in FIG. Area).

【0070】図6に示すように、TFTアレイ基板10
と対向基板20(カバーガラス200)とは対向配置さ
れ、両基板間に液晶層50が挟持される。TFTアレイ
基板10は、例えば石英基板からなり、対向基板20
は、例えばガラス基板や石英基板からなる。
As shown in FIG. 6, the TFT array substrate 10
And the opposing substrate 20 (cover glass 200) are arranged to face each other, and the liquid crystal layer 50 is sandwiched between the two substrates. The TFT array substrate 10 is made of, for example, a quartz substrate, and has a counter substrate 20.
Is made of, for example, a glass substrate or a quartz substrate.

【0071】図6の模式図の上半分の断面図部分に示す
ように、電気光学装置の対向基板20には、対向基板2
0の側から入射される入射光を複数の画素電極9aに夫
々集光するマトリクス状に配置された複数のマイクロレ
ンズ500と、複数のマイクロレンズ500の相互の境
界に夫々対向する位置に形成された第2遮光膜23とを
備える。マイクロレンズ500の表面には、図6では図
示されていない周辺領域で接着剤210により貼り付け
られたカバーガラス200が空間220を介して対向配
置されている。この上に(図中下側に)更に第2遮光膜
23及び対向電極21が形成されている。マイクロレン
ズ500は、後述のように、感光性樹脂からなり、空間
220に満たされた空気とマイクロレンズ500を構成
する感光性樹脂材料との間における屈折率の違いによ
り、レンズ効率の極めて高い集光レンズとしての機能を
果たす。
As shown in the upper half section of the schematic diagram of FIG. 6, the opposing substrate 20 of the electro-optical device
A plurality of microlenses 500 arranged in a matrix for condensing incident light incident from the 0 side on a plurality of pixel electrodes 9a, respectively, and formed at positions facing the mutual boundaries of the plurality of microlenses 500, respectively. And a second light shielding film 23. On the surface of the microlens 500, a cover glass 200 attached by an adhesive 210 in a peripheral area not shown in FIG. A second light-shielding film 23 and a counter electrode 21 are further formed thereon (at the lower side in the figure). As will be described later, the microlens 500 is made of a photosensitive resin, and has a very high lens efficiency due to a difference in refractive index between the air filled in the space 220 and the photosensitive resin material constituting the microlens 500. It functions as an optical lens.

【0072】図6の模式図の下半分の断面図部分におい
て、TFTアレイ基板10には、画素電極9aが設けら
れており、その上側には、ラビング処理等の所定の配向
処理が施された配向膜16が設けられている。画素電極
9aは例えば、ITO膜(インジウム・ティン・オキサ
イド膜)などの透明導電性薄膜からなる。また配向膜1
6は例えば、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる。
In the lower half sectional view of the schematic diagram of FIG. 6, a pixel electrode 9a is provided on the TFT array substrate 10, and a predetermined alignment process such as a rubbing process is performed on the upper side. An alignment film 16 is provided. The pixel electrode 9a is made of, for example, a transparent conductive thin film such as an ITO film (indium tin oxide film). Also, alignment film 1
6 is made of, for example, an organic thin film such as a polyimide thin film.

【0073】他方、図6の模式図の上半分の断面図部分
に示すように、カバーガラス200上には、その全面に
渡って対向電極(共通電極)21が設けられており、そ
の下側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施され
た配向膜22が設けられている。対向電極21は例え
ば、ITO膜などの透明導電性薄膜からなる。また配向
膜22は、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる。
On the other hand, as shown in the upper half sectional view of the schematic diagram of FIG. 6, a counter electrode (common electrode) 21 is provided on the cover glass 200 over the entire surface thereof. Is provided with an alignment film 22 that has been subjected to a predetermined alignment process such as a rubbing process. The counter electrode 21 is made of, for example, a transparent conductive thin film such as an ITO film. The alignment film 22 is made of an organic thin film such as a polyimide thin film.

【0074】以上のように構成されているため、本実施
形態の電気光学装置によれば、対向基板20とカバーガ
ラス200との間に備えられた複数のマイクロレンズ5
00により、対向基板20側からの入射光は、複数の画
素電極9a上に夫々集光される。従って、マイクロレン
ズ500が無い場合と比較して、各画素における実効開
口率が高められている。
With the above configuration, according to the electro-optical device of the present embodiment, a plurality of micro lenses 5 provided between the opposing substrate 20 and the cover glass 200 are provided.
As a result, the incident light from the counter substrate 20 side is focused on the plurality of pixel electrodes 9a. Therefore, the effective aperture ratio in each pixel is increased as compared with the case where the micro lens 500 is not provided.

【0075】そして、マイクロレンズ500により、対
向基板20側からの入射光は画素電極9a上の集光領域
500bに夫々集光されるので(図5参照)、入射光の
利用効率は高められると同時に、第2遮光膜23の存在
により、カバーガラス200における機械的強度及び熱
遮断性能は夫々、第2遮光膜23が無かった場合と比較
して顕著に高められる。
Then, the incident light from the counter substrate 20 side is respectively condensed on the condensing area 500b on the pixel electrode 9a by the microlens 500 (see FIG. 5), so that the utilization efficiency of the incident light is improved. At the same time, due to the presence of the second light-shielding film 23, the mechanical strength and the heat-shielding performance of the cover glass 200 are each significantly improved as compared with the case where the second light-shielding film 23 is not provided.

【0076】(マイクロレンズの製造方法)次に、本実
施形態に用いられるマイクロレンズ500の製造方法に
ついて、図7乃至図9を参照して3つの製造方法につい
て説明する。
(Method of Manufacturing Microlens) Next, three methods of manufacturing the microlens 500 used in the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0077】先ず最初の製造方法について、図7を用い
て説明する。図7(a)に示すように、基板20上に、
感光性を有するとともに、熱変形性を有するレジスト層
711を形成する。次に、図7(b)に示すように、基
板20上のうち、エッチングすべき領域をポジ像として
有するマスク層610をレジスト層711に重なるよう
に位置合わせにし、マスク層610を介して紫外線を照
射してレジスト層711の露光を行う。次に、図7
(c)に示すように、露光後のマスク層610を現像し
て露光された部分を除去する。その結果、マイクロレン
ズが形成される部分にレジスト層711が残り、図7
(c)に示す状態で、加熱工程を行う。その結果、レジ
スト層711は軟化し、図7(d)に示すように、レジ
スト層711の角の部分が丸められる。次に図7(e)
に示すように、レジスト層711が凸面としてマトリク
ス状に配列した面からドライエッチングを行い、基板2
0の表面にマイクロレンズ500が形成されることにな
る。次に図7(f)に示すように、マイクロレンズ50
0の表面に光硬化性の接着剤210を塗布してネオセラ
ム等からなるカバーガラス200を押し付けて接着す
る。
First, the first manufacturing method will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7A, on the substrate 20,
A photosensitive and heat-deformable resist layer 711 is formed. Next, as shown in FIG. 7B, a mask layer 610 having a region to be etched as a positive image on the substrate 20 is positioned so as to overlap the resist layer 711, and ultraviolet rays are passed through the mask layer 610. To expose the resist layer 711. Next, FIG.
As shown in (c), the exposed mask layer 610 is developed to remove the exposed portions. As a result, the resist layer 711 remains in a portion where the microlens is formed, and FIG.
The heating step is performed in the state shown in FIG. As a result, the resist layer 711 is softened, and the corners of the resist layer 711 are rounded as shown in FIG. Next, FIG.
As shown in FIG. 5, dry etching is performed from the surface where the resist layer 711 is arranged in a matrix as a convex surface,
The micro lens 500 is formed on the surface of the zero. Next, as shown in FIG.
A photo-curable adhesive 210 is applied to the surface of No. 0, and a cover glass 200 made of neoceram or the like is pressed and bonded.

【0078】最後に図7(g)に示すように、第2遮光
膜23、対向電極21及び配向膜22をスパッタリン
グ、コーティング等によりこの順に成膜して、図6に示
した如きマイクロレンズ500及び第2遮光膜23を備
えた対向基板20を完成させる。
Finally, as shown in FIG. 7 (g), a second light-shielding film 23, a counter electrode 21 and an alignment film 22 are formed in this order by sputtering, coating or the like, and a micro lens 500 as shown in FIG. Then, the opposing substrate 20 including the second light shielding film 23 is completed.

【0079】次に、別のマイクロレンズの製造方法に関
して図8を用いて説明する。
Next, another method for manufacturing a microlens will be described with reference to FIG.

【0080】図8(a)に示すように、成形型となるガ
ラス基板1の表面にマスク層611を形成する。次に図
8(b)に示すように、マスク層611に所定の平面配
列で開口部611aをフォトリソグラフィ法のパターニ
ング処理により形成する。次に図8(c)に示すよう
に、マスク層611で被覆した面をフッ酸系のエッチャ
ントに入れてウェットエッチングを行う。次に図8
(d)に示すように、マスク層611を除去し、凹部3
が形成された面を再度ウェットエッチングし、次にガラ
ス基板1の表面にフッ酸系またはシリコン系材料からな
る離型剤層4を形成する。次に図8(e)に示すよう
に、離型剤層4を形成した表面に光硬化性あるいは熱硬
化性の高屈折率樹脂材料5を塗布し、さらに、図9
(f)に示すように、基板20を高屈折率樹脂材料5の
上から押しつけ、高屈折率樹脂材料5を展開せしめる。
高屈折率樹脂材料5の上に基板20を重ねた状態で、紫
外線を照射するか加熱することで高屈折率樹脂材料5を
硬化せしめ、図8(g)に示すように、基板6と高屈折
率樹脂材料5からなる凸状のマイクロレンズ500をガ
ラス基板1から剥離する。次に、図8(h)に示すよう
に、凸状のマイクロレンズ500の上に光硬化性の低屈
折率樹脂材料からなる接着剤210を塗布する。次に、
カバーガラス200をマイクロレンズ500上の接着剤
210上から押し付けて硬化させる。
As shown in FIG. 8A, a mask layer 611 is formed on the surface of the glass substrate 1 serving as a molding die. Next, as shown in FIG. 8B, openings 611a are formed in the mask layer 611 in a predetermined planar arrangement by a patterning process using a photolithography method. Next, as shown in FIG. 8C, the surface covered with the mask layer 611 is placed in a hydrofluoric acid-based etchant and wet-etched. Next, FIG.
As shown in (d), the mask layer 611 is removed, and the concave portion 3 is formed.
Is wet-etched again, and then a release agent layer 4 made of a hydrofluoric acid-based or silicon-based material is formed on the surface of the glass substrate 1. Next, as shown in FIG. 8E, a photocurable or thermosetting high refractive index resin material 5 is applied to the surface on which the release agent layer 4 is formed.
As shown in (f), the substrate 20 is pressed from above the high refractive index resin material 5, and the high refractive index resin material 5 is developed.
With the substrate 20 superposed on the high-refractive-index resin material 5, the high-refractive-index resin material 5 is cured by irradiating or heating ultraviolet rays, and as shown in FIG. The convex microlens 500 made of the refractive index resin material 5 is separated from the glass substrate 1. Next, as shown in FIG. 8H, an adhesive 210 made of a photocurable low-refractive-index resin material is applied on the convex microlens 500. next,
The cover glass 200 is pressed from above the adhesive 210 on the microlens 500 and cured.

【0081】次にさらに別のマイクロレンズの製造方法
について図9を用いて説明する。上述の2つのマイクロ
レンズの製造方法は、凸型のレンズを形成しているが、
図9に示すマイクロレンズは、凹型のレンズの形成方法
を示すものである。
Next, still another method of manufacturing a micro lens will be described with reference to FIG. Although the above-described two microlens manufacturing methods form a convex lens,
The microlens shown in FIG. 9 shows a method of forming a concave lens.

【0082】先ず図9(a)に示すように、ネオセラム
等からなる基板20上に、マスク層612を形成する。
次に図9(b)に示すように、マスク層612に所定の
平面配列で開口部612aをフォトリソグラフィ法のパ
ターニング処理により形成する。この時、開口部612
aの開口径は実際に形成しようとする凹曲面部の径より
も小さいことが望ましい。次に図9(c)に示すよう
に、マスク層612の開口部612aから対向基板20
の表面を等方的にエッチング処理し、凹曲面部600を
形成する。このエッッチング処理は、フッ酸を主体とす
るエッチング液を用いた湿式エッチングで行う。次に、
図9(d)に示すようにマスク層612をエッチング処
理によって除去する。
First, as shown in FIG. 9A, a mask layer 612 is formed on a substrate 20 made of neoceram or the like.
Next, as shown in FIG. 9B, openings 612a are formed in the mask layer 612 in a predetermined planar arrangement by a patterning process using a photolithography method. At this time, the opening 612
It is desirable that the opening diameter of a is smaller than the diameter of the concave curved surface portion to be actually formed. Next, as shown in FIG. 9C, the counter substrate 20 is opened through the opening 612a of the mask layer 612.
Is isotropically etched to form a concave curved surface portion 600. This etching is performed by wet etching using an etching solution mainly containing hydrofluoric acid. next,
As shown in FIG. 9D, the mask layer 612 is removed by an etching process.

【0083】次に図9(e)に示すように、マイクロレ
ンズ500の表面に熱硬化性の接着剤210を塗布して
ネオセラム等からなるカバーガラス200gを押し付け
て硬化させる。
Next, as shown in FIG. 9E, a thermosetting adhesive 210 is applied to the surface of the microlens 500, and a cover glass 200g made of neoceram or the like is pressed and cured.

【0084】次に図9(f)に示すように、カバーガラ
ス200gを研磨して、図6に示した如き、所定の厚み
を有するカバーガラス200とする。
Next, as shown in FIG. 9F, 200 g of the cover glass is polished to obtain a cover glass 200 having a predetermined thickness as shown in FIG.

【0085】最後に図9(g)に示すように、第2遮光
膜23、対向電極21及び配向膜22をスパッタリン
グ、コーティング等によりこの順に成膜して、図6に示
した如きマイクロレンズ500及び第2遮光膜23を備
えた対向基板20を完成させる。
Finally, as shown in FIG. 9 (g), a second light-shielding film 23, a counter electrode 21 and an alignment film 22 are formed in this order by sputtering, coating or the like, and a micro lens 500 as shown in FIG. Then, the opposing substrate 20 including the second light shielding film 23 is completed.

【0086】上記のマイクロレンズの製造方法において
は夫々、接着剤210は額縁53に沿って周辺領域にの
み塗布される(画像表示領域10aには塗布されな
い)。このため、接着剤210の経時劣化による弊害を
効率良く防止でき、安価な接着剤210を用いることも
可能となる。これに加えてマイクロレンズ500の前面
に空間220を構築することにより、レンズ効率が非常
に高いマイクロレンズ500を製造できる。
In the above-described microlens manufacturing method, the adhesive 210 is applied only to the peripheral area along the frame 53 (not to the image display area 10a). For this reason, it is possible to efficiently prevent the adverse effects of the adhesive 210 from deteriorating with time, and to use an inexpensive adhesive 210. In addition, by constructing the space 220 in front of the microlens 500, the microlens 500 with extremely high lens efficiency can be manufactured.

【0087】(電気光学装置の変形形態)次に、上述し
た電気光学装置の変形形態について図10及び図11を
参照して説明する。
(Modification of Electro-Optical Device) Next, a modification of the above-described electro-optical device will be described with reference to FIGS.

【0088】第1に、図6に示したマイクロレンズ50
0については、図10に示すように構成されてもよい。
即ち、予め各レンズの凸面が形成された透明板(マイク
ロレンズアレイ)を対向基板20の表面(図中、上面)
に貼り付けてマイクロレンズ500’付きの対向基板2
0を構成するようにしてもよい。この場合、光硬化性の
接着剤210’により周辺領域でカバーガラス200’
を接着することにより、空間220’に面するマイクロ
レンズアレイを構築する。更に、対向基板20の液晶層
50に対面する側の面上に、このようなマイクロレンズ
アレイを貼り付けてもよい。
First, the micro lens 50 shown in FIG.
For 0, it may be configured as shown in FIG.
That is, a transparent plate (microlens array) on which the convex surface of each lens is formed in advance is placed on the surface of the counter substrate 20 (the upper surface in the figure).
Counter substrate 2 with microlens 500 '
0 may be configured. In this case, the photocurable adhesive 210 'covers the cover glass 200' in the peripheral area.
Are bonded to construct a microlens array facing the space 220 '. Further, such a microlens array may be attached on the surface of the opposite substrate 20 facing the liquid crystal layer 50.

【0089】第2に、図6に示したマイクロレンズ50
0に代えて、板状部材の他の例として図11に示すよう
に防塵ガラス202を光硬化性の接着剤により対向基板
20の表面(図中、上面)に接着してもよい。或いは、
放熱ガラス、デフォーカス用ガラス板等を光硬化性の接
着剤により対向基板20の表面に接着してもよい。いず
れの構成においても、接着剤を周辺領域にのみ塗布する
(画像表示領域10aには塗布しない)ことにより、接
着剤の経時劣化による弊害を効率良く防止でき、安価な
接着剤を用いることも可能となる。
Second, the micro lens 50 shown in FIG.
Instead of 0, as another example of the plate-like member, as shown in FIG. 11, a dust-proof glass 202 may be adhered to the surface (the upper surface in the figure) of the counter substrate 20 with a photocurable adhesive. Or,
A heat radiating glass, a glass plate for defocusing, or the like may be bonded to the surface of the counter substrate 20 with a photocurable adhesive. In any configuration, by applying the adhesive only to the peripheral area (not to the image display area 10a), it is possible to efficiently prevent the adverse effects due to the deterioration of the adhesive over time, and it is possible to use an inexpensive adhesive. Becomes

【0090】このように、本実施形態によれば、プロジ
ェクタ用途のライトバルブやそのうち特にB(青色)用
のライトバルブのように強力な投射光が透過する電気光
学装置の場合に、マイクロレンズアレイ板等を接着する
接着剤が当該投射光により経時劣化して悪影響を及ぼす
事態を抑制可能となるので大変有利である。
As described above, according to the present embodiment, in the case of an electro-optical device through which strong projection light is transmitted, such as a light valve for a projector, and particularly a light valve for B (blue), a micro lens array is used. This is very advantageous because it is possible to suppress a situation in which the adhesive bonding the plate or the like is deteriorated with time due to the projection light and adversely affects the adhesive.

【0091】尚、本願発明を、TFTアクティブマトリ
クス駆動方式以外の、TFDアクティブマトリクス方
式、パッシブマトリクス駆動方式などいずれの方式の液
晶装置に適用しても、上述の実施形態の如く接着処理を
施すことにより、同様の効果を期待できる。
Note that, even if the present invention is applied to any liquid crystal device other than the TFT active matrix driving method, such as the TFD active matrix driving method and the passive matrix driving method, the bonding treatment as in the above-described embodiment is performed. Thus, a similar effect can be expected.

【0092】さらに、上述の実施形態では、電気光学装
置毎にマイクロレンズ500等を有する基板20と接着
剤210を介してカバーガラス200に貼り合わせる構
成について説明したが、カバーガラス200が接着され
た対向基板20を複数個まとめて形成してもよい。即
ち、図12に示すように、複数の電気光学装置用のマイ
クロレンズを有する大型基板(マザー基板)20’と大
型カバーガラス200’とを接着剤210aで貼り合わ
せて押し付ける。次に、UV光が大型基板20’及び大
型カバーガラス200’のうち少なくとも一方を介し
て、光硬化前の光硬化性の接着剤210aに照射され、
硬化後の接着剤210となる。その後、ダイシングライ
ン80に沿ってダイシングすることにより、個々の電気
光学装置用にカバーガラス200が接着された対向基板
20が得られる。その後、カバーガラス200が接着さ
れた対向基板20と各種の素子や配線等が形成されたT
FTアレイ基板10とを、シール材52により貼り合わ
せる。このような製造方法を用いることにより、工程時
間及び工程数を短縮することができる。
Furthermore, in the above-described embodiment, the configuration in which the substrate 20 having the microlenses 500 and the like are bonded to the cover glass 200 via the adhesive 210 for each electro-optical device has been described. A plurality of opposing substrates 20 may be collectively formed. That is, as shown in FIG. 12, a large-sized substrate (mother substrate) 20 'having a plurality of microlenses for electro-optical devices and a large-sized cover glass 200' are bonded together with an adhesive 210a and pressed. Next, UV light is irradiated to the photocurable adhesive 210a before photocuring via at least one of the large substrate 20 'and the large cover glass 200',
The cured adhesive 210 is obtained. Thereafter, by dicing along the dicing line 80, the counter substrate 20 to which the cover glass 200 is adhered for each electro-optical device is obtained. Then, the counter substrate 20 to which the cover glass 200 is adhered and the T on which various elements and wirings are formed are formed.
The FT array substrate 10 is bonded with the sealant 52. By using such a manufacturing method, the process time and the number of processes can be reduced.

【0093】以上説明した実施形態における液晶装置で
は、対向基板20の外面及びTFTアレイ基板10の外
面には各々、例えば、TN(Twisted Nematic)モー
ド、VA(Vertically Aligned)モード、PDLC(Polym
er Dispersed Liquid Crystal)モード等の動作モード
や、ノーマリーホワイトモード/ノーマリーブラックモ
ードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏
光板などが所定の方向で配置される。また、対向基板2
0上に、何層もの屈折率の相違する干渉層を堆積するこ
とで、光の干渉を利用して、RGB色を作り出すダイク
ロイックフィルタを形成してもよい。このダイクロイッ
クフィルタ付き対向基板によれば、より明るいカラー液
晶装置が実現できる。
In the liquid crystal device according to the embodiment described above, for example, a TN (Twisted Nematic) mode, a VA (Vertically Aligned) mode, and a PDLC (Polym) are provided on the outer surface of the counter substrate 20 and the outer surface of the TFT array substrate 10, respectively.
A polarizing film, a retardation film, a polarizing plate, and the like are arranged in a predetermined direction according to an operation mode such as an (er Dispersed Liquid Crystal) mode or a normally white mode / normally black mode. In addition, the counter substrate 2
A dichroic filter that produces RGB colors using light interference may be formed by depositing a number of interference layers having different refractive indexes on the zero. According to the counter substrate with the dichroic filter, a brighter color liquid crystal device can be realized.

【0094】(電子機器)次に、以上詳細に説明した実
施形態における電気光学装置を備えた電子機器の実施の
形態について図13及び図14を参照して説明する。
(Electronic Apparatus) Next, an embodiment of an electronic apparatus including the electro-optical device according to the embodiment described in detail above will be described with reference to FIGS.

【0095】先ず図13に、上述の実施形態の電気光学
装置からなる液晶装置100及びその駆動回路1004
を備えた電子機器の概略構成を示す。
First, FIG. 13 shows a liquid crystal device 100 comprising the electro-optical device of the above-described embodiment and a driving circuit 1004 for the same.
1 shows a schematic configuration of an electronic device provided with.

【0096】図13において、電子機器は、表示情報出
力源1000、表示情報処理回路1002、駆動回路1
004、液晶装置100、クロック発生回路1008並
びに電源回路1010を備えて構成されている。表示情
報出力源1000は、ROM(Read Only Memory)、R
AM(Random Access Memory)、光ディスク装置などの
メモリ、画像信号を同調して出力する同調回路等を含
み、クロック発生回路1008からのクロック信号に基
づいて、所定フォーマットの画像信号などの表示情報を
表示情報処理回路1002に出力する。表示情報処理回
路1002は、増幅・極性反転回路、相展開回路、ロー
テーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周
知の各種処理回路を含んで構成されており、クロック信
号に基づいて入力された表示情報からデジタル信号を順
次生成し、クロック信号CLKと共に駆動回路1004に
出力する。駆動回路1004は、液晶装置100を駆動
する。電源回路1010は、上述の各回路に所定電源を
供給する。尚、液晶装置100を構成するTFTアレイ
基板の上に、駆動回路1004を搭載してもよく、これ
に加えて表示情報処理回路1002を搭載してもよい。
In FIG. 13, the electronic equipment includes a display information output source 1000, a display information processing circuit 1002, and a drive circuit 1.
004, a liquid crystal device 100, a clock generation circuit 1008, and a power supply circuit 1010. The display information output source 1000 includes a ROM (Read Only Memory),
It includes a memory such as an AM (Random Access Memory), an optical disk device, and a tuning circuit that tunes and outputs an image signal, and displays display information such as an image signal in a predetermined format based on a clock signal from a clock generation circuit 1008. Output to the information processing circuit 1002. The display information processing circuit 1002 includes various known processing circuits such as an amplification / polarity inversion circuit, a phase expansion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit. Digital signals are sequentially generated from the information and output to the driving circuit 1004 together with the clock signal CLK. The drive circuit 1004 drives the liquid crystal device 100. The power supply circuit 1010 supplies a predetermined power to each of the above-described circuits. Note that the drive circuit 1004 may be mounted on the TFT array substrate included in the liquid crystal device 100, and in addition, the display information processing circuit 1002 may be mounted.

【0097】次に図14に、このように構成された電子
機器の具体例を示す。
Next, FIG. 14 shows a specific example of an electronic device configured as described above.

【0098】図14において、電子機器の一例たる液晶
プロジェクタ(投射型表示装置)1100は、上述した
駆動回路1004がTFTアレイ基板上に搭載された液
晶装置100を含む液晶モジュールを3個用意し、夫々
RGB用のライトバルブ100R、100G及び100
Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液
晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等
の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せ
られると、3枚のミラー1106及び2枚のダイクロイ
ックミラー1108によって、RGBの3原色に対応す
る光成分R、G、Bに分けられ、各色に対応するライト
バルブ100R、100G及び100Bに夫々導かれ
る。この際特にB光は、長い光路による光損失を防ぐた
めに、入射レンズ1122、リレーレンズ1123及び
出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を
介して導かれる。そして、ライトバルブ100R、10
0G及び100Bにより夫々変調された3原色に対応す
る光成分は、ダイクロイックプリズム1112により再
度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリー
ン1120にカラー画像として投射される。
In FIG. 14, a liquid crystal projector (projection display device) 1100, which is an example of electronic equipment, prepares three liquid crystal modules including the liquid crystal device 100 in which the above-described drive circuit 1004 is mounted on a TFT array substrate. Light valves 100R, 100G and 100 for RGB respectively
It is configured as a projector used as B. In the liquid crystal projector 1100, when projection light is emitted from a lamp unit 1102 of a white light source such as a metal halide lamp, three mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108 light components R, G, and R corresponding to the three primary colors of RGB. B, and are led to light valves 100R, 100G, and 100B corresponding to each color. At this time, in particular, the B light is guided through a relay lens system 1121 including an entrance lens 1122, a relay lens 1123, and an exit lens 1124 in order to prevent light loss due to a long optical path. Then, the light valves 100R, 10R
Light components corresponding to the three primary colors modulated by OG and 100B, respectively, are combined again by the dichroic prism 1112, and then projected as a color image on the screen 1120 via the projection lens 1114.

【0099】本発明は、上述した各実施形態に限られる
ものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れ
る発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能
であり、そのような変更を伴なう電気光学装置或いはそ
の製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるもので
ある。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be appropriately modified without departing from the spirit or spirit of the invention which can be read from the claims and the entire specification. An electro-optical device or a method of manufacturing the same is also included in the technical scope of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態の液晶装置の全体構成を示す
平面図である。
FIG. 1 is a plan view illustrating an overall configuration of a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のH−H’断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line H-H 'of FIG.

【図3】実施形態における製造方法を示す工程図であ
る。
FIG. 3 is a process chart showing a manufacturing method in the embodiment.

【図4】実施形態の液晶装置の画像表示領域を構成する
マトリクス状の複数の画素に設けられた各種素子、配線
等の等価回路である。
FIG. 4 is an equivalent circuit of various elements, wiring, and the like provided in a plurality of pixels in a matrix forming an image display area of the liquid crystal device of the embodiment.

【図5】実施形態の液晶装置におけるTFTアレイ基板
をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側か
ら見た平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a TFT array substrate in the liquid crystal device according to the embodiment together with components formed thereon viewed from a counter substrate side.

【図6】実施形態の液晶装置において、対向基板に設け
られたマイクロレンズにより入射光を集光する様子を示
す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a state in which incident light is collected by a microlens provided on a counter substrate in the liquid crystal device of the embodiment.

【図7】図6に示したマイクロレンズの製造方法を順を
追って示す工程図である。
FIG. 7 is a process chart sequentially showing a method of manufacturing the microlens shown in FIG. 6;

【図8】別のマイクロレンズの製造方法を順を追って示
す工程図である。
FIG. 8 is a process chart sequentially showing another method of manufacturing a microlens.

【図9】さらに別のマイクロレンズの製造方法を順を追
って示す工程図である。
FIG. 9 is a process chart sequentially showing another method of manufacturing a microlens.

【図10】実施形態におけるマイクロレンズの他の一例
が形成された画素部における対向基板の拡大断面図であ
る。
FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of a counter substrate in a pixel portion on which another example of a microlens according to the embodiment is formed.

【図11】本発明の他の実施形態における防塵ガラス板
が接着された画素部における対向基板の拡大断面図であ
る。
FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of a counter substrate in a pixel portion to which a dust-proof glass plate is adhered according to another embodiment of the present invention.

【図12】本実施形態の対向基板とカバーガラスとを接
着する構成を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view illustrating a configuration of bonding an opposing substrate and a cover glass according to the present embodiment.

【図13】本発明による電子機器の実施の形態の概略構
成を示すブロック図である。
FIG. 13 is a block diagram illustrating a schematic configuration of an embodiment of an electronic device according to the present invention.

【図14】電子機器の一例としての液晶プロジェクタを
示す断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal projector as an example of an electronic apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3a…走査線 3b…容量線 6a…データ線 9a…画素電極 10…TFTアレイ基板 20…対向基板 23…第2遮光膜 30…画素スイッチング用TFT 50…液晶層 52…シール材 101…データ線駆動回路 104…走査線駆動回路 200…カバーガラス 210…接着剤 220…空間 300…遮光性のケース 500…マイクロレンズ 3a scanning line 3b capacitance line 6a data line 9a pixel electrode 10 TFT array substrate 20 counter substrate 23 second light shielding film 30 pixel switching TFT 50 liquid crystal layer 52 sealing material 101 data line driving Circuit 104: Scan line drive circuit 200: Cover glass 210: Adhesive 220: Space 300: Light shielding case 500: Micro lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 9/31 H04N 9/31 B Fターム(参考) 2H088 EA15 HA03 HA08 HA13 HA14 HA15 HA18 HA23 HA25 JA05 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA21Z FA29Z FA34Z FB04 FC18 FC23 FC26 FD14 GA13 HA07 JA02 LA03 MA07 5C058 EA12 EA26 EA42 EA51 5C060 BC05 EA01 GB06 HC01 HC12 HC21 HD02 5G435 AA14 BB12 BB17 CC12 DD05 GG01 GG02 GG03 KK05 LL15──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H04N 9/31 H04N 9/31 BF term (Reference) 2H088 EA15 HA03 HA08 HA13 HA14 HA15 HA18 HA23 HA25 JA05 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA21Z FA29Z FA34Z FB04 FC18 FC23 FC26 FD14 GA13 HA07 JA02 LA03 MA07 5C058 EA12 EA26 EA42 EA51 5C060 BC05 EA01 GB06 HC01 HC12 HC21 HD02 5G435 AA14 BB12 BB17 CC12 DD05 GG01 GG02 GG02 GG02 GG02 GG02

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表示領域及び表示領域の周辺に位置する
周辺領域を有する透明な基板と、 前記基板に所定間隙を隔てて対向配置された透明な板状
部材とを備え、 前記周辺領域において、前記板状部材と前記基板とが接
着剤により接着されてなることを特徴とする電気光学装
置。
A transparent substrate having a display area and a peripheral area located around the display area; and a transparent plate-shaped member disposed to face the substrate with a predetermined gap therebetween. An electro-optical device, wherein the plate-like member and the substrate are bonded with an adhesive.
【請求項2】 前記板状部材は、マイクロレンズアレイ
板を含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装
置の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the plate member includes a microlens array plate.
【請求項3】 前記板状部材は、防塵ガラス板を含むこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の
製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the plate member includes a dust-proof glass plate.
【請求項4】 前記板状部材は、放熱ガラス板を含むこ
とを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の
電気光学装置の製造方法。
4. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the plate member includes a heat radiation glass plate.
【請求項5】 前記板状部材は、デフォーカス用ガラス
板を含むことを特徴とする請求項1から4のいずれか一
項に記載の電気光学装置の製造方法。
5. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the plate member includes a defocusing glass plate.
【請求項6】 前記接着剤は前記画像表示領域の大半に
存在しないことを特徴とする電気光学装置。
6. The electro-optical device according to claim 1, wherein the adhesive does not exist in most of the image display area.
【請求項7】 前記接着剤は、前記周辺領域における3
個所以上に離散的に配置されていることを特徴とする請
求項1から6のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. The adhesive according to claim 3, wherein said adhesive is
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 6, wherein the electro-optical device is arranged discretely at more than one location.
【請求項8】 前記接着剤は、平面的に見て前記画像表
示領域の周囲を包囲していることを特徴とする請求項1
から6のいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. The apparatus according to claim 1, wherein the adhesive surrounds the periphery of the image display area when viewed in a plan view.
The electro-optical device according to any one of items 1 to 6, wherein
【請求項9】 前記接着剤は、相互に連通する多数の微
細孔が設けられた空気を通す材質からなることを特徴と
する請求項8に記載の電気光学装置。
9. The electro-optical device according to claim 8, wherein the adhesive is made of an air-permeable material provided with a plurality of fine holes communicating with each other.
【請求項10】 前記接着剤は、空気を通さない材質か
らなり、前記接着剤により包囲された空間に対して空気
を通すための開口が設けられていることを特徴とする請
求項8に記載の電気光学装置。
10. The method according to claim 8, wherein the adhesive is made of a material that does not allow air to pass through, and an opening through which air passes through a space surrounded by the adhesive is provided. Electro-optical device.
【請求項11】 前記接着剤は、空気を通さない材質か
らなり、前記接着剤により包囲された空間には所定種類
の気体又は液体が封入されていることを特徴とする請求
項8に記載の電気光学装置。
11. The method according to claim 8, wherein the adhesive is made of a material impermeable to air, and a predetermined type of gas or liquid is sealed in a space surrounded by the adhesive. Electro-optical device.
【請求項12】 請求項1から11のいずれか一項に記
載の電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法で
あって、 前記基板上の前記周辺領域に硬化前の接着剤を配置する
工程と、 前記硬化前の接着剤が配置された基板上に前記板状部材
を配置する工程と、 前記硬化前の接着剤を硬化させる工程とを含むことを特
徴とする電気光学装置の製造方法。
12. A method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein an uncured adhesive is disposed in the peripheral region on the substrate. A step of arranging the plate member on a substrate on which the adhesive before curing is arranged; and a step of curing the adhesive before curing. .
【請求項13】 請求項1から11のいずれか一項に記
載の電気光学装置からなるライトバルブと、 該ライトバルブに投射光を入射する光源と、 該ライトバルブから出射した前記投射光を投射する光学
系とを備えたことを特徴とする投射型表示装置。
13. A light valve comprising the electro-optical device according to claim 1, a light source for projecting light to the light valve, and projecting the projection light emitted from the light valve. And a projection type display device comprising:
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