JP2001201646A - Die for optical device, master die for optical device, and manufacturing method of optical device - Google Patents

Die for optical device, master die for optical device, and manufacturing method of optical device

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JP2001201646A
JP2001201646A JP2000009756A JP2000009756A JP2001201646A JP 2001201646 A JP2001201646 A JP 2001201646A JP 2000009756 A JP2000009756 A JP 2000009756A JP 2000009756 A JP2000009756 A JP 2000009756A JP 2001201646 A JP2001201646 A JP 2001201646A
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幹大 嶋田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve problems in productivity and cost caused by the request for the submicron optical axis adjustment accuracy when connecting an optical waveguide and an optical fiber and to solve such a problem that it is difficult to obtain a die for collectively forming an optical waveguide pattern and an optical fiber guide as the measure to solve the above mentioned problems. SOLUTION: A master die is manufactured firstly and a forming die is obtained by forming crystallized glass by using this. The optical device of the same shape as the master die is produced by forming by using the obtained forming die.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主として光通信に
用いられる光部品を成形工法で作製するための成形型、
成形型を作製するためのマスタ型、および光学素子の製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a molding die for producing an optical component mainly used for optical communication by a molding method.
The present invention relates to a master mold for producing a molding die and a method for producing an optical element.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光通信はめざましく発展してお
り、CATVやコンピュータネットワーク等においては
実用に至っている。しかしFTTHをはじめ、より広い
普及に対しては光部品として大幅な低コスト化、大量生
産化、小型化などの課題解決が要望されている。
2. Description of the Related Art In recent years, optical communication has been remarkably developed, and has come into practical use in CATV and computer networks. However, for widespread use such as FTTH, there is a demand for solution of problems such as significant cost reduction, mass production and miniaturization as optical components.

【0003】例えば、光送受信器は集積化、小型化のた
めに光導波路を用いた光実装回路基板が提案されてい
る。これは、シリコン基板上に所望の機能を有する石英
系光導波路を形成し、さらに金属電極を配線して半導体
素子や電気回路を実装するもので、V溝のガイドによっ
て光ファイバをアレイ状に配列させたものを光導波路と
接続させることにより光モジュールを構成している(た
とえば特開平5−60940、あるいは特開平5−27
410号公報など)。
For example, an optical mounting circuit board using an optical waveguide has been proposed for integration and miniaturization of an optical transceiver. In this method, a silica-based optical waveguide having a desired function is formed on a silicon substrate, and further, a semiconductor element and an electric circuit are mounted by wiring metal electrodes, and optical fibers are arranged in an array by a V-groove guide. An optical module is formed by connecting the optical module to the optical waveguide (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-60940 or Japanese Patent Laid-Open No. 5-27-27).
No. 410 publication).

【0004】このように光導波路をもちいることによ
り、集積化、小型化された光モジュ−ルが実現できる。
[0004] By using an optical waveguide in this manner, an integrated and miniaturized optical module can be realized.

【0005】しかしながら、これらの光モジュ−ルにお
いてはコスト面で課題を有していた。
[0005] However, these optical modules have a problem in terms of cost.

【0006】一つは光導波路が高コストであるという理
由である。光導波路は火炎堆積法やCVDによる膜形成
や、フォトリソグラフィ、ドライエッチングによるコア
パタ−ニングなどの半導体プロセスを用いて製造されて
いるが、比較的チップサイズが大きいため量産してもコ
スト削減効果が期待できない。
One is that optical waveguides are expensive. Optical waveguides are manufactured using semiconductor processes such as flame deposition, film formation by CVD, core patterning by photolithography and dry etching. However, since the chip size is relatively large, the cost reduction effect can be achieved even in mass production. Can't expect.

【0007】もう一つの問題としては、光導波路と光フ
ァイバの接続コストが高いという理由である。図7に示
すように光導波路が形成された基板と光ファイバ固定用
のガイド溝が形成された基板は個々に独立、分離されて
いる。
[0007] Another problem is that the connection cost between the optical waveguide and the optical fiber is high. As shown in FIG. 7, the substrate on which the optical waveguide is formed and the substrate on which the guide groove for fixing the optical fiber is formed are individually and separately separated.

【0008】ここで、図7において、71はシリコン基
板、72は光導波路、73は光ファイバ、74はV溝ブ
ロック、75はレーザダイオード、76はフォトダイオ
ード、77は電気回路パターンである。
In FIG. 7, reference numeral 71 denotes a silicon substrate, 72 denotes an optical waveguide, 73 denotes an optical fiber, 74 denotes a V-groove block, 75 denotes a laser diode, 76 denotes a photodiode, and 77 denotes an electric circuit pattern.

【0009】光ファイバと光導波路間の光損失を抑制す
るには、シングルモードの場合は±1μm以下の位置調
整、組立、固定が必要となる。これらの光軸調整につい
ては何軸もの自動調整機構を備えたシステムで現状行わ
れており、量産性、経済性の面で多大な問題を有してい
た。また、V溝の作製についてもシリコン基板の選択ウ
エットエッチングや各種基板の研削加工法が用いられて
おり、それぞれ量産性や溝形状の再現性に乏しい欠点を
有していた。
In order to suppress the optical loss between the optical fiber and the optical waveguide, it is necessary to adjust, assemble, and fix the position of ± 1 μm or less in the case of the single mode. These optical axis adjustments are currently performed with a system provided with an automatic adjustment mechanism for a number of axes, and have had great problems in terms of mass productivity and economy. Also, the V-groove is manufactured by selective wet etching of a silicon substrate or a grinding method of various substrates, and has disadvantages of poor mass productivity and poor groove shape reproducibility.

【0010】これを解決する方法として非球面ガラスレ
ンズの製造方法として既に実用化されているプレス成形
を用いてファイバ固定用の溝と光導波路のコアに対応す
る溝を形成し、コアに対応する溝に樹脂などのコア材料
を埋め込んで光導波路を作成する方法が特開平7−28
7141号公報などで提案されている。この方法は例え
ば図8のようにファイバ固定部分と光導波路部分に対応
した凹凸形状を備えた型を被加工物に押しつけて、その
反転形状を転写させるもので、ファイバ固定ガイド、お
よび光導波路用溝を形状再現性よく大量に生産できる。
ここで、81は光ファイバガイド溝成形部であり、82
は光導波路パターン成形部である。
As a method for solving this problem, a groove for fixing the fiber and a groove corresponding to the core of the optical waveguide are formed by using press molding which has already been put into practical use as a method for manufacturing an aspherical glass lens, and the groove corresponding to the core is formed. A method of forming an optical waveguide by embedding a core material such as a resin in a groove is disclosed in
It is proposed in, for example, Japanese Patent No. 7141. In this method, for example, a mold having concave and convex shapes corresponding to a fiber fixing portion and an optical waveguide portion as shown in FIG. 8 is pressed against a workpiece to transfer an inverted shape thereof. Grooves can be mass-produced with good shape reproducibility.
Here, reference numeral 81 denotes an optical fiber guide groove forming portion;
Denotes an optical waveguide pattern forming part.

【0011】光導波路用溝に樹脂などのコア材料を埋め
込めば光導波路として機能させることができファイバ
用、光導波路用の各溝の相対位置が正確な型で形状を転
写することによって光ファイバを溝に配置させるだけで
特別な位置調整をしなくても簡単に光ファイバと光導波
路を高効率で光接続させることが可能となる。
By embedding a core material such as a resin in the groove for the optical waveguide, the groove can be made to function as an optical waveguide. It is possible to easily optically connect the optical fiber and the optical waveguide with high efficiency without special position adjustment simply by disposing the optical fiber in the groove.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】微細な構造の光導波路
をプレス成形で転写する際、型の入手が問題となる。
When transferring an optical waveguide having a fine structure by press molding, there is a problem in obtaining a mold.

【0013】光導波路はシングルモードの場合、断面が
幅、深さとも数ミクロン程度の矩形形状であるので機械
加工で精度良く加工することは困難であった。これまで
ドライエッチングを用いて金型に光導波路パターンを形
成することが提案されている(例えば特開平11−21
8631)。
In the case of a single mode optical waveguide, it is difficult to machine it with high precision by machining because its cross section has a rectangular shape with a width and depth of about several microns. Hitherto, it has been proposed to form an optical waveguide pattern in a mold using dry etching (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-21).
8631).

【0014】しかしながら、ドライエッチングは微小形
状の加工精度に優れるが、寸法が数十から数百ミクロン
の加工を行うことは難しく、寸法差の大きな形状を加工
することは困難である。また、フォトリソグラフィ、真
空プロセスを多用するために型の生産効率は高くなく、
その分、光部品の製造コストがかさむ。
[0014] However, dry etching is excellent in processing accuracy of a minute shape, but it is difficult to process a shape having a size of tens to hundreds of microns, and it is difficult to process a shape having a large size difference. Also, the production efficiency of the mold is not high due to heavy use of photolithography and vacuum processes.
To that extent, the manufacturing cost of optical components increases.

【0015】一方、ウエットエッチングで光導波路パタ
ーンを加工すると、アンダーカット(マスクの下側部分
が削れて細る現象)が発生するために光導波路に必要な
矩形断面が得られない。
On the other hand, if the optical waveguide pattern is processed by wet etching, an undercut (a phenomenon in which the lower portion of the mask is shaved and thinned) occurs, so that a rectangular cross section required for the optical waveguide cannot be obtained.

【0016】シングルモード光ファイバでは直径が12
5ミクロン程度あり、数ミクロン程度の光導波路とは寸
法差が10倍以上ある。このため先述したファイバ固定
部分と光導波路のコアに対応する部分を同時に備えた型
をドライエッチングのみで作製することは困難であると
いう課題があった。
In a single mode optical fiber, the diameter is 12
It is about 5 microns, and the dimensional difference from an optical waveguide of about several microns is 10 times or more. For this reason, there is a problem that it is difficult to fabricate a mold having the above-described fiber fixing portion and a portion corresponding to the core of the optical waveguide simultaneously only by dry etching.

【0017】以上により、例えば光ファイバ固定部は機
械加工、光導波路成形部はドライエッチングというよう
に異なる加工方法を駆使する必要があった。しかし、こ
のように異なる加工方法を行うにあたっては、光導波路
と光ファイバはシングルモードの場合、接続精度が±1
μm以下であるので、その精度を確保するために型加工
が極めてシビアとなり、型が高コストとなり、量産でき
ないという課題があった。
As described above, for example, it is necessary to use different processing methods such as machining of the optical fiber fixing portion and dry etching of the optical waveguide forming portion. However, when performing such different processing methods, when the optical waveguide and the optical fiber are in a single mode, the connection accuracy is ± 1.
Since it is less than μm, there is a problem that the mold processing becomes extremely severe in order to secure the accuracy, the mold becomes expensive, and mass production is impossible.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光学素子用成形型は凹または凸形状である
光導波路パタ−ンとこれと所定の相対位置精度で設けら
れた光ファイバガイドを成形する型としてプレス面に結
晶化ガラスを備えた成形型とするものである。
In order to achieve the above object, a mold for an optical element according to the present invention comprises an optical waveguide pattern having a concave or convex shape and a light provided with a predetermined relative positional accuracy to the optical waveguide pattern. The mold for forming the fiber guide is a mold having crystallized glass on the press surface.

【0019】結晶化ガラスはドライエッチングによる微
細加工が可能で、石英ガラスなどの従来の型材料と比較
すると機械強度も数倍高い。そのため、耐久性のよい成
形型を実現することが可能となる。また、ガラスなどを
成形する際には必要に応じてプレス面に特定材料からな
る保護膜、および中間層を設ければ耐久性のよい成形型
が得られる。特にシングルモードの光ファイバ、光導波
路では光導波路パターンの深さ、幅は15μm以下、光
ファイバガイドと光導波路パターンの相対位置精度は±
1μm以下が要求されるが、これらの微細形状を破損す
ることなく成形することができる。
Crystallized glass can be finely processed by dry etching, and has several times higher mechanical strength than conventional mold materials such as quartz glass. Therefore, it is possible to realize a mold having good durability. Further, when molding glass or the like, if necessary, if a protective film made of a specific material and an intermediate layer are provided on the pressed surface, a mold having good durability can be obtained. Particularly, in the case of a single mode optical fiber or optical waveguide, the depth and width of the optical waveguide pattern are 15 μm or less, and the relative positional accuracy between the optical fiber guide and the optical waveguide pattern is ±
Although a thickness of 1 μm or less is required, these fine shapes can be formed without being damaged.

【0020】さらに本発明の光学素子用成形型の製造方
法は、最終の製品形状とほぼ同等のマスタ型を用い、こ
れによってマザーガラスを加熱軟化させて成形し、その
後、成形したガラスを高温アニールして結晶化させ成形
型を製造するものである。これによれば成形型自身を成
形によって製造することができ、従来のドライエッチン
グによる製造に比べると格段に生産性、低コスト化が可
能である。ここでマザーガラスとは結晶化させるための
アニールを行っていない、核形成剤を含んだガラスを意
味している。
Further, in the method of manufacturing a molding die for an optical element according to the present invention, a master die having substantially the same shape as the final product is used, whereby the mother glass is heated and softened, and then the molded glass is subjected to high-temperature annealing. To form a mold. According to this, the mold itself can be manufactured by molding, and productivity and cost can be significantly reduced as compared with the conventional dry etching. Here, the mother glass means glass containing a nucleating agent, which has not been annealed for crystallization.

【0021】本方法によればマスタ形状の光学素子が得
られる。そのため、マスタ型を入手すれば光学部品を成
形する型形状が複雑でこれを作製しにくい場合でも所望
の光学素子を製造することができる。例えば、光導波路
とファイバ固定部を備えた光学素子を成形する成形型は
形状が複雑で精度も高く、これを直接ドライエッチング
や機械加工で作製することが困難であるが、マスタ型に
ついては後に述べる本発明のマスタ型の製造方法を用い
て入手可能である。また、マスタ型を用いて成形型その
ものも大量生産することができ、型コスト、およびそれ
によって成形した光学素子のコストを大幅に低減するこ
とが可能になる。
According to the present method, a master-shaped optical element is obtained. Therefore, if a master mold is obtained, a desired optical element can be manufactured even if the mold shape for molding an optical component is complicated and difficult to manufacture. For example, a mold for molding an optical element having an optical waveguide and a fiber fixing portion has a complicated shape and high accuracy, and it is difficult to directly produce this by dry etching or machining. It is available using the master mold manufacturing method of the present invention as described. In addition, the mold itself can be mass-produced using the master mold, and the cost of the mold and the cost of the optical element molded thereby can be significantly reduced.

【0022】本発明の光学素子用マスタ型は凹または凸
状の光導波路パターンと光ファイバガイド成形部を備え
た成形型を成形するためのマスタ型であってプレス面が
結晶化ガラス、石英ガラス、ダイヤモンド、DLC、サ
ファイア、シリコン、ニッケルのいずれかからなるもの
である。以上の構成により型としての耐熱性、強度を備
え、表面に微細加工、機械加工が可能であるために複雑
な形状を有する光学素子用マスタ型が実現できる。ま
た、ガラスなどを成形する際には必要に応じてプレス面
に特定材料からなる保護膜、および中間層を設ければ耐
久性のよい光学素子用マスタ型が得られる。
The master mold for an optical element of the present invention is a master mold for molding a mold having a concave or convex optical waveguide pattern and an optical fiber guide molding portion, and the pressed surface is crystallized glass or quartz glass. , Diamond, DLC, sapphire, silicon or nickel. With the above configuration, a master mold for an optical element having a complicated shape can be realized because it has heat resistance and strength as a mold and is capable of fine processing and machining on the surface. Further, when molding glass or the like, if necessary, if a protective film made of a specific material and an intermediate layer are provided on the pressed surface, a master mold for an optical element having excellent durability can be obtained.

【0023】さらに第1の光学素子用マスタ型の製造方
法として第1の部材に研削加工により光ファイバガイド
部を形成し、前記第1の部材の一部に第2の部材を設
け、前記第2の部材を所定の厚みに研磨し、前記第2の
部材にフォトリソグラフィ、エッチングにより光導波路
パターンを形成することを特徴とするものである。
Further, as a first method for manufacturing a master for an optical element, an optical fiber guide portion is formed on a first member by grinding, and a second member is provided on a part of the first member. The second member is polished to a predetermined thickness, and an optical waveguide pattern is formed on the second member by photolithography and etching.

【0024】また、第2の光学素子用マスタ型の製造方
法としては型部材に研削加工により光ファイバガイド部
を形成し、前記型部材に部分選択的に薄膜コーティング
し、前記コーティングを行った部分にフォトリソグラフ
ィ、エッチングを行って光導波路パターンを形成するこ
とを特徴とするものである。これら第1、第2の方法に
よれば光導波路パターンと光ファイバガイド部を備え、
かつこれらが極めて高い相対精度を有するマスタ型を製
造することが可能となる。
In a second method for manufacturing a master for an optical element, an optical fiber guide is formed on a mold member by grinding, and the mold member is selectively selectively thin-film coated. Photolithography and etching to form an optical waveguide pattern. According to the first and second methods, an optical waveguide pattern and an optical fiber guide are provided.
In addition, it is possible to manufacture a master mold having extremely high relative accuracy.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の好ましい形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0026】(実施の形態1)図1は本発明の実施の形
態1の光学素子用マスタ型の構成を示している。これは
シングルモードの光導波路、および光ファイバを対象と
したものであり、光導波路パタ−ンのコアとなる約10
ミクロン幅、深さの光導波路溝パターン11を備え、こ
れに隣り合ってV字形状の断面を持つ光ファイバガイド
溝12が形成されている。
(Embodiment 1) FIG. 1 shows a configuration of an optical element master type according to Embodiment 1 of the present invention. This is intended for a single-mode optical waveguide and an optical fiber, and is about 10 cores of an optical waveguide pattern.
An optical fiber groove pattern 11 having a micron width and depth is provided, and an optical fiber guide groove 12 having a V-shaped cross section is formed adjacent to the optical waveguide groove pattern 11.

【0027】図1の光学素子用マスタ型の製造方法を図
2、3を用いて説明する。ここでは石英ガラスをマスタ
型に用いた例を示す。
A method for manufacturing the master for an optical element shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS. Here, an example is shown in which quartz glass is used for a master mold.

【0028】まず、図2を用いて、第1のマスタ型の製
造方法について説明する。
First, a method of manufacturing the first master mold will be described with reference to FIG.

【0029】(a)石英ガラス基板21にV字断面形状
をもつ研削砥石で光ファイバガイド溝22を加工する。
図では溝の本数が1つであるが数十本程度は問題なく加
工できる。このような加工を行う研削装置は市販されて
おり、温度制御を行うことで溝ピッチ精度が±0.5ミ
クロン以下にすることが可能である。V字形状について
はVの角度は問わないが、図4のように光ファイバを配
置した際に光ファイバのコア中心が石英ガラス基板表面
よりも上になるようなV字形状にしておく。
(A) An optical fiber guide groove 22 is formed on a quartz glass substrate 21 with a grinding wheel having a V-shaped cross section.
In the figure, the number of grooves is one, but about several tens can be machined without any problem. Grinding apparatuses for performing such processing are commercially available, and by controlling the temperature, the groove pitch accuracy can be reduced to ± 0.5 μm or less. Regarding the V-shape, the angle of V does not matter, but the V-shape is set so that the core of the optical fiber is located above the surface of the quartz glass substrate when the optical fiber is arranged as shown in FIG.

【0030】(b)つぎにV溝加工部分の一部に別の石
英ガラス基板23を直接接合で貼り付ける。ここで、直
接接合とは、各々基板の表面を親水化処理した後、接合
部材を用いることなく基板の表面同士を接合することで
ある。接続界面は、主として水酸基の水素結合や酸素原
子の共有結合により強固に結合されている。
(B) Next, another quartz glass substrate 23 is directly bonded to a part of the V-groove processed portion. Here, the direct bonding is to bond the surfaces of the substrates to each other without using a bonding member after the surfaces of the substrates are hydrophilized. The connection interface is strongly bonded mainly by a hydrogen bond of a hydroxyl group or a covalent bond of an oxygen atom.

【0031】(c)石英ガラス基板23を研磨し、石英
ガラス基板21に対し所定の高さにする。このときの高
さについては後に説明する。
(C) The quartz glass substrate 23 is polished to a predetermined height with respect to the quartz glass substrate 21. The height at this time will be described later.

【0032】(d)石英ガラス基板23のみにフォトリ
ソグラフィ、ドライエッチングを行って光導波路パタ−
ン溝24を形成する。(c)における研磨による石英ガ
ラス基板の高さについては、光ファイバが光ファイバガ
イド溝22に配置されたときに光ファイバのコア中心と
光導波路パタ−ン溝の中心の高さが±1μm以内となる
ような高さに研磨するものである。また、石英ガラス基
板23上の光導波路パタ−ン溝24の水平位置について
も±1μmが必要であるが、フォトリソグラフィの際の
フォトマスク合わせにて水平方向の位置決め調整が可能
である。
(D) Photolithography and dry etching are performed only on the quartz glass substrate 23 to form an optical waveguide pattern.
The groove 24 is formed. Regarding the height of the quartz glass substrate by the polishing in (c), when the optical fiber is arranged in the optical fiber guide groove 22, the height of the center of the core of the optical fiber and the center of the pattern groove of the optical waveguide is within ± 1 μm. Is polished to a height such that Also, the horizontal position of the optical waveguide pattern groove 24 on the quartz glass substrate 23 needs to be ± 1 μm, but the horizontal positioning can be adjusted by adjusting the photomask at the time of photolithography.

【0033】これにより本発明の光学素子用マスタ型が
完成する。
Thus, the master mold for an optical element of the present invention is completed.

【0034】次に、図3を用いて、第2のマスタ型の製
造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the second master mold will be described with reference to FIG.

【0035】(a)第1の製造方法と同様の方法で石英
ガラス基板に31にV字断面形状を持つ光ファイバガイ
ド溝32を形成する。
(A) An optical fiber guide groove 32 having a V-shaped cross section is formed in a quartz glass substrate 31 in the same manner as in the first manufacturing method.

【0036】(b)つぎにV溝加工部分の一部に薄膜を
堆積し、V溝部分を埋めるとともに石英ガラス基板31
表面よりも高く段差をつくってテラス33を設ける。こ
のときのコ−ティング方法としては石英系材料について
は火炎堆積法やCVD、真空蒸着、スパッタなどがあげ
られる。また、必要に応じて膜形成後、1000℃を越
えるアニ−ルを行っても良い。
(B) Next, a thin film is deposited on a part of the V-groove processed portion to fill the V-groove portion and to form a quartz glass substrate 31.
The terrace 33 is provided with a step higher than the surface. Examples of the coating method at this time include a flame deposition method, a CVD method, a vacuum deposition method, and a sputtering method for a quartz material. After forming the film, annealing at a temperature exceeding 1000 ° C. may be performed if necessary.

【0037】(c)第1の製造方法と同様にテラス33
を所定の高さに研磨する。テラス33の高さについては
第1の製造方法に記載したのと同様である。
(C) Terrace 33 as in the first manufacturing method
Is polished to a predetermined height. The height of the terrace 33 is the same as that described in the first manufacturing method.

【0038】(d)第1の製造方法と同様にテラス33
のみにフォトリソグラフィ、ドライエッチングを行って
光導波路パタ−ン34を形成する。
(D) Terrace 33 as in the first manufacturing method.
An optical waveguide pattern 34 is formed only by photolithography and dry etching.

【0039】これにより本発明の光学素子用マスタ型が
完成する。
Thus, the master mold for an optical element of the present invention is completed.

【0040】以上述べた2つの製造方法を用いれば光学
素子用マスタ型を入手することができる。
By using the two manufacturing methods described above, a master mold for an optical element can be obtained.

【0041】なお、光導波路パタ−ン部分の材料につい
ては上記で説明した石英ガラス以外にも結晶化ガラス、
ダイヤモンド、DLC、サファイア、シリコンなどでも
数ミクロンの深さで精度良くドライエッチングすること
が可能である。あるいはニッケルなどのめっきが可能な
材料を用いてLIGAプロセスでマスタ型を入手するこ
とも可能である。
The material of the optical waveguide pattern portion is not limited to quartz glass described above, but may be crystallized glass,
Even diamond, DLC, sapphire, silicon, and the like can be dry etched with a depth of several microns with high accuracy. Alternatively, a master mold can be obtained by a LIGA process using a material that can be plated such as nickel.

【0042】また、光ファイバガイド溝部分について
は、光導波路パタ−ン部分と同一材料であることが望ま
しいが、研削加工が可能で、光学素子用の成形型を作成
する際の600℃程度の温度に耐えられる材料であれば
よく超硬合金、サーメット、各種セラミックなどを用い
ても良い。
The optical fiber guide groove is preferably made of the same material as that of the optical waveguide pattern. However, it can be ground, and has a temperature of about 600 ° C. when forming a mold for an optical element. Any material that can withstand the temperature may be used, such as cemented carbide, cermet, or various ceramics.

【0043】なお、光ファイバガイド溝についてはV字
形状に限らず、矩形、半円、台形などでもかまわない。
The optical fiber guide groove is not limited to the V-shape, but may be rectangular, semicircular, trapezoidal, or the like.

【0044】また、本マスタ型をガラス系材料からなる
材料の成形に用いる場合、プレス面に白金(Pt)、オ
スミウム(Os)、イリジウム(Ir)、ロジウム(R
h)、レニウム(Re)、ルテニウム(Ru)、タンタ
ル(Ta)、タングステン(W)のいずれか一つ以上を
主成分とする保護膜をコーティングすれば、成形時にお
ける型プレス面の劣化を防止できる。また、このような
保護膜を用いる場合には型との間に、型もしくは保護膜
に含まれる元素が含まれた中間層を設けることによって
保護膜の剥離を防止することができる。
When this master mold is used for molding a glass-based material, platinum (Pt), osmium (Os), iridium (Ir), rhodium (R)
h), coating of a protective film containing at least one of rhenium (Re), ruthenium (Ru), tantalum (Ta), and tungsten (W) as a main component prevents deterioration of the die press surface during molding. it can. When such a protective film is used, separation of the protective film can be prevented by providing an intermediate layer containing an element contained in the mold or the protective film between the mold and the mold.

【0045】また、第1のマスタ型の製造方法におい
て、基板同士を直接接合によって接合したが、本発明は
これに限るものではなく、例えば接着層を用いても良
い。接着層を用いた場合は、光学素子用の成形型を作成
する際の加熱温度範囲において、基板同士の接続を保つ
必要がある。
In the first manufacturing method of the master mold, the substrates are joined by direct joining. However, the present invention is not limited to this, and for example, an adhesive layer may be used. When an adhesive layer is used, it is necessary to maintain the connection between the substrates within a heating temperature range when forming a mold for an optical element.

【0046】(実施の形態2)以下、図面を用いて本発
明の実施の形態2について説明する。
(Embodiment 2) Hereinafter, Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0047】まず、入手したマスタ型を用いて光学素子
用の成形型を製造する方法について述べる。
First, a method of manufacturing a mold for an optical element using the obtained master mold will be described.

【0048】図5において、51はマザーガラス、52
は光学素子用マスタ型、53は下型、54はヒータブロ
ック、55は成形室である。
In FIG. 5, reference numeral 51 denotes a mother glass;
Denotes a master mold for an optical element, 53 denotes a lower mold, 54 denotes a heater block, and 55 denotes a molding chamber.

【0049】図5に示すように成形室55に核形成剤を
含んだマザーガラス51をセットし、先に述べたマスタ
型52を対向してセットし、窒素もしくはアルゴンなど
の不活性ガスフロー、または真空下で加熱することによ
って、マザーガラスを軟化させる。加熱温度としてはガ
ラスの軟化温度付近(400〜550℃)とする。この
後、マスタ型52でガラスを成形後、冷却してガラスを
取り出す。次に取り出したガラスを高温炉に入れ、窒素
もしくはアルゴンなどの不活性ガスフロー、または真空
下で加熱する。このときの温度は600℃以上とする。
この後、室温まで冷却してガラスを結晶化する。
As shown in FIG. 5, a mother glass 51 containing a nucleating agent is set in a molding chamber 55, and the above-mentioned master mold 52 is set opposite thereto, and an inert gas flow such as nitrogen or argon is set. Alternatively, the mother glass is softened by heating under vacuum. The heating temperature is around the softening temperature of the glass (400 to 550 ° C.). Thereafter, the glass is formed by the master mold 52, and then cooled to take out the glass. The removed glass is then placed in a high temperature furnace and heated under an inert gas flow such as nitrogen or argon, or under vacuum. The temperature at this time is 600 ° C. or higher.
Thereafter, the glass is cooled to room temperature to crystallize the glass.

【0050】これにより、マスタ型の反転形状を有する
成形型が製造できる。本製造方法では結晶化の際、ガラ
ス寸法が数%程度収縮するため、これを考慮してマスタ
型を作製しておく。あるいは寸法変化を回避するため
に、成形機内でマスタ型による成形を行い、加圧したま
まで高温まで加熱し、その後冷却してガラスを結晶化し
ても良い。この場合はほとんどマスタ型と寸法変化な
く、成形型を得ることが可能である。結晶化ガラスから
なる成形型は、このように成形によって複雑な形状転写
が可能であるのみならず、非常に機械的強度が高く、光
導波路パターンにような微細形状の成形には非常に有効
である。
Thus, a mold having an inverted shape of the master mold can be manufactured. In the present manufacturing method, since the glass size shrinks by about several% during crystallization, a master mold is prepared in consideration of this. Alternatively, in order to avoid a dimensional change, the glass may be crystallized by performing molding using a master mold in a molding machine, heating to a high temperature while pressing, and then cooling. In this case, it is possible to obtain a molding die with almost no dimensional change from the master die. A mold made of crystallized glass not only enables complex shape transfer by molding as described above, but also has extremely high mechanical strength, and is very effective for forming minute shapes such as optical waveguide patterns. is there.

【0051】なお、マザーガラスに含まれる核形成剤と
してはチタン(Ti)、ジルコニア(Zr)、鉄(F
e)、バナジウム(V)、ニッケル(Ni)、クロム
(Cr)、リチウム(Li)のいずれかの元素を含む酸
化物、硫化物、フッ化物、もしくは白金(Pt)、金
(Au)、銀(Ag)とすれば上記に述べた成形型の製
造方法が有効である。
The nucleating agents contained in the mother glass include titanium (Ti), zirconia (Zr), iron (F
e), oxides, sulfides, fluorides, or platinum (Pt), gold (Au), silver containing any of the elements vanadium (V), nickel (Ni), chromium (Cr), and lithium (Li) If (Ag) is satisfied, the above-described method for manufacturing a mold is effective.

【0052】このようにして入手した成形型は図6のよ
うな形状を有する。図6において、61は光ファイバガ
イド溝成形部、62は光導波路パターン成形部である。
The mold thus obtained has a shape as shown in FIG. In FIG. 6, 61 is an optical fiber guide groove forming portion, and 62 is an optical waveguide pattern forming portion.

【0053】このような形状を機械加工やエッチング加
工で実現することは困難であり、本実施の形態で述べた
製造方法は非常に有効である。また、マスタ型による成
形を用いて光学素子用の成形型を作製することにより、
非常に安価に成形型を入手でき、その結果として光学素
子を低コストで製造することが可能になる。
It is difficult to realize such a shape by machining or etching, and the manufacturing method described in this embodiment is very effective. Also, by manufacturing a mold for an optical element by using a mold with a master mold,
A mold can be obtained at very low cost, and as a result, an optical element can be manufactured at low cost.

【0054】なお、成形型の成形条件、および結晶化の
際のアニール条件により寸法変化の程度にばらつきを生
じるためにマスタ型の形状については必ずしも目的とす
る光学素子と同一形状である必要はない。成形プロセス
やアニール条件に応じてマスタ型の形状を決定する。
The shape of the master mold does not necessarily have to be the same as the intended optical element because the degree of dimensional change varies depending on the molding conditions of the mold and the annealing conditions during crystallization. . The shape of the master mold is determined according to the molding process and annealing conditions.

【0055】成形型については、これを用いて成形する
光学素子の材料は問わない。例えば樹脂、ガラスなど熱
によって軟化する材料であればよい。また、マスタ型と
同様、ガラス系材料からなる材料の成形に用いる場合、
プレス面に白金(Pt)、オスミウム(Os)、イリジ
ウム(Ir)、ロジウム(Rh)、レニウム(Re)、
ルテニウム(Ru)、タンタル(Ta)、タングステン
(W)のいずれか一つ以上を主成分とする保護膜をコー
ティングすれば、成形時における型プレス面の劣化を防
止できる。また、このような保護膜を用いる場合には成
形型との間に、型もしくは保護膜に含まれる元素が含ま
れた中間層を設けることによって、保護膜の付着強度を
上げることができ、保護膜の剥離を防止することができ
る。
Regarding the mold, the material of the optical element to be molded by using the mold is not limited. For example, any material that is softened by heat, such as resin or glass, may be used. Also, like the master mold, when used for molding a glass-based material,
Platinum (Pt), osmium (Os), iridium (Ir), rhodium (Rh), rhenium (Re),
By coating a protective film containing at least one of ruthenium (Ru), tantalum (Ta), and tungsten (W) as a main component, it is possible to prevent the mold press surface from being deteriorated during molding. When such a protective film is used, by providing an intermediate layer containing an element contained in the mold or the protective film between the mold and the mold, the adhesion strength of the protective film can be increased, and Peeling of the film can be prevented.

【0056】(実施の形態3)前述した実施の形態にお
いて製造された光学素子用成形型を用いて、実施の形態
2と同様の方法にて、加熱されて軟化した基材に前記光
学素子用成形型を加圧して押しつけて前記基材に前記光
学素子用成形型の反転形状を転写することで光学素子を
得ることができる。
(Embodiment 3) By using the mold for an optical element manufactured in the above-described embodiment, in the same manner as in the second embodiment, the base material heated and softened is used for the optical element. An optical element can be obtained by pressing and pressing a mold to transfer an inverted shape of the mold for optical element to the base material.

【0057】以上述べたようにマスタ型で成形型を作製
し、その成形型を用いて光学素子を形成すれば非常に効
率よく光学素子を製造することができる。本実施の形態
で述べた光導波路パターンと光ファイバガイドの同時成
形はもとより、寸法差の大きな形状を必要とする光学素
子全てに有用であることは言うまでもない。
As described above, an optical element can be manufactured very efficiently by forming a mold using a master mold and forming an optical element using the mold. It goes without saying that the present invention is useful not only for the simultaneous molding of the optical waveguide pattern and the optical fiber guide described in the present embodiment but also for all optical elements that require a shape having a large dimensional difference.

【0058】また、本発明のマスタ型、成形型において
はプレス面が以上述べた材料、構成であればよく、それ
以外の型構成部分が他の材料からなっていても構わな
い。
Further, in the master mold and the molding die of the present invention, the press surface may have the above-described material and configuration, and the other components may be made of other materials.

【0059】また、本実施の形態ではシングルモードの
光導波路、光ファイバを対象とした成形型、マスタ型に
ついて述べたが、本発明は特にシングルモードに非常に
有効であるが、マルチモードあるいはプラスチック光フ
ァイバに対しても有効である。
Although the present embodiment has described a single-mode optical waveguide, a molding die and a master die for an optical fiber, the present invention is particularly effective for a single mode. It is also effective for optical fibers.

【0060】また、光導波路パターン形状については矩
形溝の例を用いて説明したが、凹凸形状にかかわらず有
効である。
Although the optical waveguide pattern shape has been described using the example of the rectangular groove, it is effective regardless of the uneven shape.

【0061】なお、光学素子用成形型についても本実施
の形態で述べた方法以外に、コストは高いがLIGAプ
ロセスを用いても作製は可能である。
It is to be noted that a molding die for an optical element can be manufactured by using a LIGA process although the cost is high in addition to the method described in the present embodiment.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマスタ
型、マスタ型の製造方法、成形型、成形型の製造方法、
および光学素子の製造方法によれば非常に複雑な表面形
状を備えた光学素子を大量かつ安価に入手することがで
きる。特に光導波路のような微小形状と、これよりもサ
イズが1桁以上大きな光ファイバガイドを高精度に一括
成形できる。
As described above, the master mold, the method for manufacturing the master mold, the mold, the method for manufacturing the mold according to the present invention,
According to the optical element manufacturing method, an optical element having a very complicated surface shape can be obtained in large quantities at low cost. Particularly, a minute shape such as an optical waveguide and an optical fiber guide having a size larger by one digit or more than this can be molded at a time with high precision.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1における本発明の光学素
子用マスタ型の構成図
FIG. 1 is a configuration diagram of a master type for an optical element of the present invention in Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1における第1の光学素子
用マスタ型の製造工程を示す図
FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing process of a first optical element master mold according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1における第2の光学素子
用マスタ型の製造工程を示す図
FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing process of a second optical element master mold according to the first embodiment of the present invention.

【図4】実施の形態1における光ファイバガイド溝であ
るV溝と光ファイバコアの位置関係を示す断面図
FIG. 4 is a sectional view showing a positional relationship between a V-groove, which is an optical fiber guide groove, and an optical fiber core according to the first embodiment.

【図5】実施の形態2における光学素子用成形型を成形
で製造する際に用いる成形機の断面概略図
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a molding machine used for producing a molding die for an optical element according to Embodiment 2 by molding.

【図6】実施の形態2における本発明の光学素子用成形
型の構成図
FIG. 6 is a configuration diagram of a molding die for an optical element according to a second embodiment of the present invention.

【図7】従来の一般的な光実装回路基板の構成図FIG. 7 is a configuration diagram of a conventional general optical mounting circuit board.

【図8】光ファイバ固定溝と光導波路溝を同時成形する
成形型の一例を示す構成図
FIG. 8 is a configuration diagram showing an example of a molding die for simultaneously molding an optical fiber fixing groove and an optical waveguide groove.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,24,34 光導波路溝パターン 12,22,32 光ファイバガイド溝 21,31 石英ガラス基板 23 未加工の石英ガラス基板 33 テラス(石英系材料薄膜) 51 マザーガラス 52 本発明の光学素子用マスタ型 53 下型 54 ヒータブロック 55 成形室 61 光ファイバガイド溝成形部 62 光導波路パターン成形部 71 シリコン基板 72 光導波路 73 光ファイバ 74 V溝ブロック 75 レーザダイオード 76 フォトダイオード 77 電気回路パターン 81 光ファイバガイド溝成形部 82 光導波路パターン成形部 11, 24, 34 Optical waveguide groove pattern 12, 22, 32 Optical fiber guide groove 21, 31 Quartz glass substrate 23 Raw quartz glass substrate 33 Terrace (quartz-based material thin film) 51 Mother glass 52 Master for optical element of the present invention Mold 53 Lower mold 54 Heater block 55 Molding chamber 61 Optical fiber guide groove forming part 62 Optical waveguide pattern forming part 71 Silicon substrate 72 Optical waveguide 73 Optical fiber 74 V groove block 75 Laser diode 76 Photodiode 77 Electric circuit pattern 81 Optical fiber guide Groove forming part 82 Optical waveguide pattern forming part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯田 正憲 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 嶋田 幹大 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 片岡 秀直 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H047 KA12 MA05 MA07 PA21 PA24 QA05 QA07 RA00 TA00 TA44 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Masanori Iida 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Mikihiro Shimada 1006 Okadoma Kadoma, Kazuma City Osaka Pref. (72) Inventor Hidenao Kataoka 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture F-term in Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (Reference) 2H047 KA12 MA05 MA07 PA21 PA24 QA05 QA07 RA00 TA00 TA44

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 凹または凸状の光導波路パターンと、凹
または凸状の光ファイバガイド成形部をプレス面に備
え、前記光導波路パターンと前記光ファイバガイド成形
部が所定の相対位置精度を有し、前記プレス面が結晶化
ガラスからなることを特徴とする光学素子用成形型。
1. A press surface comprising a concave or convex optical waveguide pattern and a concave or convex optical fiber guide molding portion, wherein the optical waveguide pattern and the optical fiber guide molding portion have a predetermined relative positional accuracy. And a molding die for an optical element, wherein the pressed surface is made of crystallized glass.
【請求項2】 結晶化ガラスの核形成剤として、チタン
(Ti)、ジルコニア(Zr)、鉄(Fe)、バナジウ
ム(V)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)リチウム
(Li)のいずれかの元素を含む酸化物、硫化物、フッ
化物、もしくは白金(Pt)、金(Au)、銀(Ag)
としたことを特徴とする請求項1記載の光学素子用成形
型。
2. A nucleating agent for crystallized glass, selected from titanium (Ti), zirconia (Zr), iron (Fe), vanadium (V), nickel (Ni), chromium (Cr) and lithium (Li). , Sulfide, fluoride, or platinum (Pt), gold (Au), silver (Ag)
The mold for an optical element according to claim 1, wherein:
【請求項3】 プレス面に少なくとも白金(Pt)、オ
スミウム(Os)、イリジウム(Ir)、ロジウム(R
h)、レニウム(Re)、ルテニウム(Ru)、タンタ
ル(Ta)、タングステン(W)のいずれか一つ以上を
主成分とする保護膜がコーティングされていることを特
徴とする請求項1または2記載の光学素子用成形型。
3. The press surface has at least platinum (Pt), osmium (Os), iridium (Ir), and rhodium (R).
h), a protective film containing at least one of rhenium (Re), ruthenium (Ru), tantalum (Ta) and tungsten (W) as a main component is coated. The molding die for an optical element described in the above.
【請求項4】 保護膜とプレス面の間に中間層を備え、
前記中間層が前記保護膜とプレス面のいずれかに含まれ
る元素を含んでいることを特徴とする請求項3記載の光
学素子用成形型。
4. An intermediate layer between the protective film and the press surface,
The mold for an optical element according to claim 3, wherein the intermediate layer contains an element contained in any of the protective film and the pressed surface.
【請求項5】 凹または凸状の光導波路パターンと、凹
または凸状の光ファイバガイド成形部をプレス面に備
え、前記光導波路パターンと前記光ファイバガイド成形
部が所定の相対位置精度を有していることを特徴とする
光学素子用マスタ型。
5. A pressing surface having a concave or convex optical waveguide pattern and a concave or convex optical fiber guide molding portion, wherein the optical waveguide pattern and the optical fiber guide molding portion have a predetermined relative positional accuracy. Master type for optical elements.
【請求項6】 プレス面が結晶化ガラス、石英ガラス、
ダイヤモンド、DLC、サファイア、シリコン、ニッケ
ルのいずれかよりなることを特徴とする請求項5記載の
光学素子用マスタ型。
6. The press face is made of crystallized glass, quartz glass,
The master type for an optical element according to claim 5, wherein the master type is made of any one of diamond, DLC, sapphire, silicon, and nickel.
【請求項7】 プレス面に少なくとも白金(Pt)、オ
スミウム(Os)、イリジウム(Ir)、ロジウム(R
h)、レニウム(Re)、ルテニウム(Ru)、タンタ
ル(Ta)、タングステン(W)のいずれか一つ以上を
主成分とする保護膜がコーティングされていることを特
徴とする請求項5または6記載の光学素子用マスタ型。
7. At least platinum (Pt), osmium (Os), iridium (Ir), rhodium (R)
h), a protective film containing at least one of rhenium (Re), ruthenium (Ru), tantalum (Ta) and tungsten (W) as a main component is coated. The master type for the described optical element.
【請求項8】 保護膜とプレス面の間に中間層を備え、
前記中間層が前記保護膜とプレス面のいずれかに含まれ
る元素を含んでいることを特徴とする請求項7記載の光
学素子用マスタ型。
8. An intermediate layer between the protective film and the pressing surface,
The master type for an optical element according to claim 7, wherein the intermediate layer contains an element contained in any of the protective film and the pressed surface.
【請求項9】 請求項5から8のいずれかに記載の光学
素子用マスタ型を、加熱されて軟化した核形成剤を含む
マザーガラス基材に加圧して押しつけて前記基材に前記
マスタ型の反転形状を転写した後、または転写しながら
前記基材を高温アニールすることを特徴とする光学素子
用成形型の製造方法。
9. The master mold for an optical element according to claim 5, which is pressed against a mother glass substrate containing a nucleating agent that has been heated and softened, and pressed against the substrate. Wherein the substrate is annealed at a high temperature after or while transferring the inverted shape of the mold.
【請求項10】 第1の部材に研削加工により光ファイ
バガイド部を形成し、前記第1の部材の一部に第2の部
材を設け、前記第2の部材を所定の厚みに研磨し、前記
第2の部材上にフォトリソグラフィ、エッチングにより
光導波路パターンを形成することを特徴とする光学素子
用マスタ型の製造方法。
10. An optical fiber guide portion is formed on a first member by grinding, a second member is provided on a part of the first member, and the second member is polished to a predetermined thickness. A method of manufacturing a master mold for an optical element, comprising forming an optical waveguide pattern on the second member by photolithography and etching.
【請求項11】 型部材に研削加工により光ファイバガ
イド部を形成し、前記型部材に部分選択的に薄膜コーテ
ィングして、前記光ファイバガイド部の一部を埋め込む
とともに前記型部材表面よりも高くテラスを形成し、そ
の後、前記テラスを所定の厚みに研磨し、前記テラスに
フォトリソグラフィ、エッチングを行って光導波路パタ
ーンを形成することを特徴とする光学素子用マスタ型の
製造方法。
11. An optical fiber guide portion is formed on a mold member by grinding, and the mold member is partially selectively thin-film coated to embed a part of the optical fiber guide portion and to be higher than the surface of the mold member. A method for manufacturing a master mold for an optical element, comprising: forming a terrace, polishing the terrace to a predetermined thickness, and performing photolithography and etching on the terrace to form an optical waveguide pattern.
【請求項12】 請求項1から4のいずれかに記載の光
学素子用成形型を用い、加熱されて軟化した基材に前記
光学素子用成形型を加圧して押しつけて前記基材に前記
光学素子用成形型の反転形状を転写することを特徴とす
る光学素子の製造方法。
12. The optical element molding die according to claim 1, wherein said optical element molding die is pressed against a heated and softened base material and pressed against said base material. A method for producing an optical element, comprising transferring an inverted shape of a molding die for an element.
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