JP2001197723A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2001197723A
JP2001197723A JP2000005214A JP2000005214A JP2001197723A JP 2001197723 A JP2001197723 A JP 2001197723A JP 2000005214 A JP2000005214 A JP 2000005214A JP 2000005214 A JP2000005214 A JP 2000005214A JP 2001197723 A JP2001197723 A JP 2001197723A
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semiconductor device
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value
adjustment
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JP2000005214A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobutake Taniguchi
信剛 谷口
Yasuhiro Otsuka
康宏 大塚
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize collect over-current determination by compensating fluctuation in over-current determination, resulting from fluctuation in the dividing coefficient of sense current or the main current in an IGBT element and in resistance of a current detecting resistor. SOLUTION: A value of the reference voltage Vref of an over-current determination reference power supply 6 is set by adjusting an adjusting resistor R2 to a value of node voltage V1, when the main current Ic reaches the over- current condition which is determined for each product based on the current dividing coefficient of the sense current Is of the semiconductor element Q1 and the valve of current detecting resistor R1. As a result, when the main current Ic reaches the over-current condition, the over-current protection circuit 1 can detect generation of the over-current condition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、インバータ装置等
の電力変換装置への利用に好適な半導体装置に関し、特
に、過電流判定値のばらつきと温度依存性とを緩和ない
し解消する技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device suitable for use in a power conversion device such as an inverter device, and more particularly to a technique for reducing or eliminating variations in overcurrent determination value and temperature dependency.

【0002】[0002]

【従来の技術】IGBT素子等の半導体素子を有し、且
つ、この半導体素子に過電流が流れたことを検出して半
導体素子の特性劣化を防止する過電流保護機能を有する
半導体装置は、例えば、インバータ装置等の電力変換装
置に多用されている。
2. Description of the Related Art A semiconductor device having a semiconductor element such as an IGBT element and an overcurrent protection function for detecting that an overcurrent has flowed through the semiconductor element and preventing a characteristic deterioration of the semiconductor element is known. , Power conversion devices such as inverter devices.

【0003】図8は従来の過電流保護回路を備える半導
体装置10Pの構成を示す図である。図8に示す様に、
半導体素子Q1Pの一部をセル分離構造とすることで、
半導体素子Q1Pは、その動作中、端子3Pより入力さ
れた主電流Icに対して一定の分流率となるセンス電流
Isをそのセンス端子7Pより出力する。これにより、
センス電流Isが電流検出抵抗R1Pに流れ、電流保護
判定回路1P内のコンパレータC1Pは、電流検出抵抗
R1Pで生じる電圧降下と過電流判定基準電圧Vref
とを比較して過電流状態の判定を行う。このとき、電流
検出抵抗R1Pの両端間の電圧が基準電圧Vrefを上
回り、コンパレータC1Pが過電流状態にあると判定す
る場合には、電流保護判定回路1Pはゲート駆動回路2
Pへゲート遮断信号を送り、その結果、ゲート駆動回路
2Pは、ゲート端子4Pから入力されたゲート駆動信号
が同回路2Pに入力されていても、ゲートの駆動を中止
する。これにより、主電流Icの入力が制限されて、過
電流による半導体素子Q1Pの特性劣化が防止される。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device 10P having a conventional overcurrent protection circuit. As shown in FIG.
By making a part of the semiconductor element Q1P have a cell isolation structure,
During its operation, the semiconductor element Q1P outputs, from its sense terminal 7P, a sense current Is having a constant shunt rate with respect to the main current Ic input from the terminal 3P. This allows
The sense current Is flows through the current detection resistor R1P, and the comparator C1P in the current protection determination circuit 1P detects the voltage drop generated in the current detection resistor R1P and the overcurrent determination reference voltage Vref.
To determine the overcurrent state. At this time, when the voltage between both ends of the current detection resistor R1P exceeds the reference voltage Vref and the comparator C1P determines that the overcurrent state is present, the current protection determination circuit 1P sets the gate drive circuit 2
A gate cutoff signal is sent to P, and as a result, the gate drive circuit 2P stops driving the gate even if the gate drive signal input from the gate terminal 4P is input to the circuit 2P. Thereby, the input of the main current Ic is limited, and the characteristic deterioration of the semiconductor element Q1P due to the overcurrent is prevented.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の図7に示す様な
構成の過電流保護回路を備える半導体装置においては、
例えば、半導体チップの製造プロセスに依存する主電流
に対するセンス電流の分流率のばらつきや、電流検出抵
抗の値のばらつきに起因して、過電流状態と判定される
ときの主電流の値(以下、過電流判定値と称す)にばら
つきが生じ、正確な過電流状態の判定ができなくなると
いう問題点がある。そこで、この様な過電流判定値のば
らつきを防止して正確な判定を確保するためには、適切
な範囲内のセンス電流分流率を有する半導体素子を選別
したりする作業や、電流検出抵抗の抵抗値を高精度化す
ることで対処することが必要となる。しかし、この様な
対処法では装置のコストアップをもたらすこととなるの
で、抜本的な解決手段が求められている。
In a conventional semiconductor device having an overcurrent protection circuit having a configuration as shown in FIG.
For example, the value of the main current when the overcurrent state is determined due to variation in the shunt ratio of the sense current with respect to the main current depending on the manufacturing process of the semiconductor chip, or variation in the value of the current detection resistor (hereinafter, referred to as There is a problem that variation occurs in the overcurrent determination value), making it impossible to accurately determine the overcurrent state. Therefore, in order to prevent such a variation in the overcurrent determination value and to ensure accurate determination, it is necessary to select a semiconductor element having a sense current shunt rate within an appropriate range, or to select a semiconductor element having a current detection resistance. It is necessary to deal with this by increasing the resistance value. However, such a measure results in an increase in the cost of the apparatus, and a drastic solution is required.

【0005】また、近年では、半導体素子単体の保護だ
けでなく、半導体素子を使用しているシステム全体の保
護としても過電流保護回路を使用するために、過電流判
定値の高精度化が求められる傾向が更に強まっている。
In recent years, in order to use an overcurrent protection circuit not only for protection of a single semiconductor element but also for protection of the entire system using the semiconductor element, it is required to increase the accuracy of an overcurrent determination value. The tendency is to be even stronger.

【0006】本発明は、上記の様な問題点を解消するた
めに成されたものであり、その目的とするところは、過
電流判定値の高精度化に対応可能とし、更には、より有
効な過電流保護動作を可能とする半導体装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to make it possible to cope with a high accuracy of an overcurrent judgment value, and to make the present invention more effective. An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of performing an overcurrent protection operation.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明に
係る半導体装置は、主電流に対して所定の分流率で与え
られるセンス電流をそのセンス端子より出力可能なセル
分離構造を有する半導体素子と、判定の基準となる基準
電圧を出力する判定基準電源と、前記センス端子と接地
電位との間に直列接続されたn個(nは1以上の正の整
数)の電流検出抵抗と、前記センス電流が前記n個の電
流検出抵抗を流れるときに生じる、隣り合う電流検出抵
抗同士間及び前記センス端子と前記センス端子に繋がっ
た電流検出抵抗との間のn個の節点電圧のそれぞれと前
記基準電圧とを比較し、前記n個の節点電圧の内の少な
くとも1つが当該節点電圧に対応して予め定められた判
定時間内に前記基準電圧以上にあるときに前記主電流を
遮断すべき状態にあると判定してゲート遮断信号を出力
する電流保護判定回路と、前記電流保護判定回路から出
力された前記ゲート遮断信号を受けて前記半導体素子の
ゲートの駆動を中止するゲート駆動回路とを備える半導
体装置であって、前記判定基準電源と前記接地電位との
間に接続され、且つ、前記半導体装置の組立途中又は組
立完了後にそれ自体の抵抗値が調整されることによっ
て、その流れを遮断すべき本来の判定レベルに達した前
記主電流が前記半導体素子に流れるときに生じる前記n
個の節点電圧の何れか1つが前記基準電圧と等しくなる
様に前記基準電圧を調整している調整抵抗を更に備える
ことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device having a cell isolation structure capable of outputting a sense current given at a predetermined shunt rate to a main current from a sense terminal thereof. An element, a determination reference power supply that outputs a reference voltage serving as a reference for determination, n (n is a positive integer of 1 or more) current detection resistors connected in series between the sense terminal and a ground potential, When the sense current flows through the n current detection resistors, each of the n node voltages between adjacent current detection resistors and between the sense terminal and the current detection resistor connected to the sense terminal. Comparing with the reference voltage, the main current should be cut off when at least one of the n node voltages is equal to or higher than the reference voltage within a predetermined determination time corresponding to the node voltage; To the state And a gate drive circuit that receives the gate cutoff signal output from the current protection determination circuit and stops driving the gate of the semiconductor element. The semiconductor device is connected between the reference power supply and the ground potential, and the flow of the semiconductor device should be interrupted by adjusting its own resistance value during or after assembly of the semiconductor device. The n generated when the main current that has reached the original determination level flows through the semiconductor element.
An adjustment resistor for adjusting the reference voltage so that any one of the node voltages becomes equal to the reference voltage is further provided.

【0008】請求項2に記載の発明に係る半導体装置
は、請求項1に記載の半導体装置であって、前記調整抵
抗は、その調整初期段階では前記基準電圧が比較的小さ
く、調整を進めるに連れて前記基準電圧が比較的大きく
なる様に調整された前記抵抗値を備えることを特徴とす
る。
A semiconductor device according to a second aspect of the present invention is the semiconductor device according to the first aspect, wherein the adjustment resistor has a relatively small reference voltage at an initial stage of the adjustment. And the resistance value adjusted so that the reference voltage becomes relatively large.

【0009】請求項3に記載の発明に係る半導体装置
は、請求項1又は2に記載の半導体装置であって、前記
調整抵抗の前記抵抗値は、前記基準電圧の温度依存特性
が前記n個の節点電圧の各々の温度依存特性を補償しう
る様な温度係数を有することを特徴とする。
A semiconductor device according to a third aspect of the present invention is the semiconductor device according to the first or second aspect, wherein the resistance value of the adjustment resistor is such that the temperature dependence of the reference voltage is n. Has a temperature coefficient capable of compensating for the temperature-dependent characteristics of each of the node voltages.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)先ず、本実施の
形態の着眼点について説明する。即ち、図8に示した従
来の半導体装置においては、個々の半導体素子Q1Pの
分流率のばらつきや個々の電流検出抵抗R1Pの値のば
らつきに起因して、節点電圧V1が上記ばらつきが全て
ないとしたときの所望の値とは異なっているにも拘わら
ず、基準電圧Vrefが固定されたままであるために、
実際には主電流が過電流状態に達していないのに過電流
状態であると電流保護判定回路1Pが判定してしまった
り、又はその逆の誤った判定が行われてしまう。これ
は、上記のばらつきの影響を受けて節点電圧V1が各装
置毎に変動するのに対して、基準電圧Vrefがそれに
追随可能となっていないことによるものである。そこ
で、本実施の形態においては、主電流のレベルが本来の
(設計通りの)過電流判定値に達したときに流れるセン
ス電流によって生じる電流検出抵抗での電圧降下に基準
電圧が等しくなる様に、各半導体装置毎に基準電圧を調
整することとしている。以下、図面に基づき本実施の形
態の具体的構成について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Embodiment 1) First, the focus of this embodiment will be described. That is, in the conventional semiconductor device shown in FIG. 8, the node voltage V1 does not have all of the above variations due to variations in the shunt rate of the individual semiconductor elements Q1P and variations in the values of the individual current detection resistors R1P. Despite the fact that the reference voltage Vref is different from the desired value, the reference voltage Vref remains fixed.
In practice, the current protection determination circuit 1P may determine that the main current is in the overcurrent state without reaching the overcurrent state, or vice versa. This is because the node voltage V1 varies for each device under the influence of the above-described variation, but the reference voltage Vref cannot follow the variation. Therefore, in the present embodiment, the reference voltage is made equal to the voltage drop at the current detection resistor caused by the sense current flowing when the main current level reaches the original (as designed) overcurrent determination value. The reference voltage is adjusted for each semiconductor device. Hereinafter, a specific configuration of the present embodiment will be described with reference to the drawings.

【0011】図1は、図示しない半導体パワーモジュー
ルに組み込まれた実施の形態1に係る半導体装置10の
回路構成を示す図である。図1において、Q1は、主電
流Icに対し一定の分流率(但し、各素子毎にその値に
ばらつきがある)で与えられるセンス電流Isをセンス
端子7より出力可能なセル分離構造を有する、例えばI
GBT素子より成る半導体素子であり、1はコンパレー
タC1を備えた電流保護判定回路であり、2は端子4か
ら入力されたゲート駆動信号に応じてゲートを動作させ
るゲート駆動回路であり、3は半導体素子Q1に主電流
Icを入力する端子である。又、R1はセンス端子7と
接地電位との間に直列接続された電流検出抵抗であり、
半導体素子Q1のセンス電流Isを、センス端子7とセ
ンス端子7に繋がった電流検出抵抗R1の一方端との間
の節点における電圧(以下、節点電圧と称す)V1に変
換する。又、5は直流電圧母線であり、6は過電流判定
の基準となる基準電圧Vrefを電流保護判定回路1に
出力する判定基準電源(以下、過電流判定基準電源とも
称す)である。更に、R2は過電流判定基準電源6と接
地電位との間に接続された、調整可能な抵抗値を有する
調整抵抗である。本半導体装置10における電流保護判
定回路1のコンパレータC1は、センス電流Isの分流
率や電流検出抵抗R1の抵抗値のばらつきに応じて各装
置10毎にその電圧値にばらつきを有する節点電圧V1
と、調整抵抗R2の抵抗値の後述する調整方法によって
適切に調整された後の(調整済みの)基準電圧Vref
とを受信して両電圧V1、Vrefを比較することで、
主電流Icのレベルが本来の(設計通りの)過電流判定
レベルに達したか否かを判定する。即ち、コンパレータ
C1は、節点電圧V1が予め定められた判定時間(ここ
では例えば10ms)内だけ基準電圧Vref以上にあ
ることを検出したときには、主電流Icのレベルが過電
流判定レベル以上にあると判定して、ゲート遮断信号を
ゲート駆動回路2に出力する。これにより、ゲート駆動
回路2は半導体素子Q1のゲートの駆動動作を中止す
る。
FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a semiconductor device 10 according to the first embodiment incorporated in a semiconductor power module (not shown). In FIG. 1, Q1 has a cell isolation structure capable of outputting a sense current Is given from the sense terminal 7 at a constant shunt rate (however, the value varies for each element) with respect to the main current Ic. For example I
1 is a current protection determination circuit provided with a comparator C1, 2 is a gate drive circuit that operates a gate according to a gate drive signal input from a terminal 4, and 3 is a semiconductor device. A terminal for inputting the main current Ic to the element Q1. R1 is a current detection resistor connected in series between the sense terminal 7 and the ground potential,
The sense current Is of the semiconductor element Q1 is converted to a voltage (hereinafter, referred to as a node voltage) V1 at a node between the sense terminal 7 and one end of a current detection resistor R1 connected to the sense terminal 7. Reference numeral 5 denotes a DC voltage bus, and reference numeral 6 denotes a determination reference power supply (hereinafter also referred to as an overcurrent determination reference power supply) that outputs a reference voltage Vref serving as a reference for overcurrent determination to the current protection determination circuit 1. R2 is an adjustment resistor connected between the overcurrent determination reference power supply 6 and the ground potential and having an adjustable resistance value. The comparator C1 of the current protection determination circuit 1 in the semiconductor device 10 determines the node voltage V1 having a variation in the voltage value for each device 10 according to the shunt rate of the sense current Is and the variation in the resistance value of the current detection resistor R1.
And the (adjusted) reference voltage Vref after the resistance value of the adjustment resistor R2 is appropriately adjusted by an adjustment method described later.
And by comparing the two voltages V1 and Vref,
It is determined whether or not the level of the main current Ic has reached the original (as designed) overcurrent determination level. That is, when the comparator C1 detects that the node voltage V1 is equal to or higher than the reference voltage Vref for a predetermined judgment time (here, for example, 10 ms), it is determined that the level of the main current Ic is equal to or higher than the overcurrent judgment level. Upon making a determination, a gate cutoff signal is output to the gate drive circuit 2. As a result, the gate drive circuit 2 stops driving the gate of the semiconductor element Q1.

【0012】以下、調整抵抗R2の抵抗値を調整するこ
とにより基準電圧Vrefを調整する具体例について説
明する。即ち、本実施の形態においては、半導体装置1
0の組立途中(半導体装置10の各部1〜6、Q1、R
1、R2が同一チップ(同一半導体基板)上に形成され
且つ各配線層も形成されることによって、図1に示す回
路構成が完成した後であって、しかも、本半導体装置1
0又は上記半導体パワーモジュールの樹脂封止前の段階
に相当する)に、又は組立完了後(この場合は、上述の
通りに半導体装置10の回路構成が完成した後に、調整
抵抗R2を除く半導体装置10又は半導体パワーモジュ
ール内の各部を樹脂封止する場合、従って、調整抵抗R
2のみが外付け構造となるような場合において、当該樹
脂封止後の段階に相当する)に、調整抵抗R2自体の抵
抗値を調整することによって、主電流Icを遮断すべき
本来の(つまり設計値通りの)判定レベル(ここでは、
過電流判定値)に達した主電流Icが半導体素子Q1内
を流れるときに生じる節点電圧V1の値に基準電圧Vr
efの値が等しくなる様に、各半導体装置10毎に基準
電圧Vrefを調整している。その様な基準電圧Vre
fの調整方法は、次に示す様なものを調整抵抗R2とし
て用い、且つ、次に示す様な調整を行うことによって実
行可能である。その点を以下に詳述する。
Hereinafter, a specific example of adjusting the reference voltage Vref by adjusting the resistance value of the adjustment resistor R2 will be described. That is, in the present embodiment, the semiconductor device 1
0 during assembly (each part 1 to 6, Q1, R
1 and R2 are formed on the same chip (same semiconductor substrate) and the respective wiring layers are also formed, so that the circuit configuration shown in FIG.
0 or after the completion of the assembly (in this case, after the circuit configuration of the semiconductor device 10 is completed as described above, the semiconductor device excluding the adjustment resistor R2). 10 or each part in the semiconductor power module is resin-encapsulated, so that the adjusting resistor R
In the case where only 2 is an external structure, it corresponds to the stage after the resin encapsulation), and by adjusting the resistance value of the adjustment resistor R2 itself, the main current Ic should be cut off (that is, the main current Ic should be cut off). Judgment level according to design value (here,
The value of the node voltage V1 generated when the main current Ic that has reached the overcurrent determination value) flows through the inside of the semiconductor element Q1 is set to the reference voltage Vr.
The reference voltage Vref is adjusted for each semiconductor device 10 so that the value of ef becomes equal. Such a reference voltage Vre
The adjustment method of f can be executed by using the following as the adjustment resistor R2 and performing the following adjustment. This will be described in detail below.

【0013】先ず、調整抵抗R2としては、例えば、
レーザトリミング可能な抵抗や、予め並列接続された
複数の抵抗器から成り、これらの抵抗器をニッパ等の切
断具で以て必要な抵抗値の分だけ切り離していくことで
抵抗値を調整可能な抵抗や、逆に、ワイヤボンディン
グや半田付け等によって複数の抵抗器の一端同士を必要
な抵抗値の分だけ共通に接続していくことによって(他
端同士は始めから共通に接続されている)、並列接続さ
れる複数の抵抗器から成る抵抗等を使用する。
First, as the adjustment resistor R2, for example,
It consists of a resistor that can be laser-trimmed and a plurality of resistors that are connected in parallel in advance.The resistance can be adjusted by cutting off these resistors using a cutting tool such as a nipper by the required resistance. By connecting one end of a plurality of resistors in common by a necessary resistance value by resistance, or conversely, by wire bonding or soldering (the other ends are connected in common from the beginning) , A resistor composed of a plurality of resistors connected in parallel is used.

【0014】次に、基準電圧Vrefの調整方法として
は、例えば、調整抵抗R2の抵抗値をある値に設定し
ておいて主電流Icを半導体素子Q1に流し、且つ主電
流Icの値を上昇させていくことによって、第1コンパ
レータC1がゲート遮断信号を出力したときの主電流I
cの値、即ち、過電流判定値を測定し、次に調整抵抗R
2の抵抗値を変えて新たな値に設定し、同様にして過電
流判定値を測定していく。そして、測定された過電流判
定値が最終的に本来の過電流判定値に等しくなったとき
に、そのときの調整抵抗R2の値及び基準電圧Vref
の値をそれぞれ最適な調整抵抗R2及び基準電圧Vre
fの値とする。この方法によれば、測定された過電流
判定値が本来の過電流判定値に等しくなった時点で、基
準電圧Vrefの値は節点電圧V1の値に設定されてい
ることになる。尚、この方法は、本来の(所望の)過
電流判定値のレベルを有する主電流Icを半導体素子Q
1に流し続けても、ある程度の時間内ならば半導体素子
Q1の特性劣化は生じない、従って、半導体素子Q1の
特性劣化が生じ始めるときの時間はコンパレータC1の
判定時間よりも十分に長いという点を、前提として利用
している。
Next, as a method of adjusting the reference voltage Vref, for example, the resistance value of the adjustment resistor R2 is set to a certain value, the main current Ic flows through the semiconductor element Q1, and the value of the main current Ic increases. As a result, the main current I when the first comparator C1 outputs the gate cutoff signal is output.
c, that is, an overcurrent determination value, and then adjust resistance R
2, the resistance is changed to a new value, and the overcurrent determination value is measured in the same manner. When the measured overcurrent determination value finally becomes equal to the original overcurrent determination value, the value of the adjustment resistor R2 and the reference voltage Vref at that time are determined.
Are adjusted to the optimum adjustment resistance R2 and the reference voltage Vre, respectively.
Let it be the value of f. According to this method, when the measured overcurrent determination value becomes equal to the original overcurrent determination value, the value of the reference voltage Vref is set to the value of the node voltage V1. In this method, the main current Ic having the level of the original (desired) overcurrent determination value is supplied to the semiconductor element Q
1, the characteristic degradation of the semiconductor element Q1 does not occur within a certain period of time. Therefore, the time when the characteristic degradation of the semiconductor element Q1 starts to occur is sufficiently longer than the determination time of the comparator C1. Is used as a premise.

【0015】又、第2の調整方法としては、調整抵抗
R2の抵抗値を適当に定めておいた上で、主電流Icを
徐々に増加させながら半導体素子Q1内に流していき、
その結果、コンパレータC1がゲート遮断信号を出力し
て主電流Icが遮断されるときの主電流Icの値を過電
流判定値として測定すると共に、そのときの調整抵抗R
2の抵抗値をも測定しておく。そして、測定された過電
流判定値と本来の過電流判定値との間の一定の相関式を
用いることにより、主電流Icの値が本来の過電流判定
値になるときの調整抵抗R2の抵抗値を決定ないしは予
想し、この決定値に調整抵抗R2の抵抗値を合わせ込む
のである。例えば、本来の過電流判定値の1/2のレベ
ルを有すると測定された電流を主電流Icとして半導体
素子Q1に流した結果、コンパレータC1がゲート遮断
信号を出力したときの調整抵抗R2の抵抗値を求め、こ
の抵抗値の約2倍の値に最終的に調整抵抗R2の抵抗値
を調整するならば、基準電圧Vrefの値は、本来の過
電流判定値に等しいレベルを有する主電流Icが流れた
ときの節点電圧V1の値に設定されることになる。
As a second adjustment method, the resistance value of the adjustment resistor R2 is appropriately determined, and then the main current Ic is caused to flow into the semiconductor element Q1 while gradually increasing.
As a result, the value of the main current Ic when the main current Ic is cut off by the comparator C1 outputting the gate cutoff signal is measured as the overcurrent determination value, and the adjustment resistor R at that time is measured.
2 is also measured. Then, by using a constant correlation equation between the measured overcurrent determination value and the original overcurrent determination value, the resistance of the adjustment resistor R2 when the value of the main current Ic becomes the original overcurrent determination value is obtained. The value is determined or predicted, and the resistance value of the adjustment resistor R2 is adjusted to the determined value. For example, as a result of flowing a current measured to have a level of の of the original overcurrent determination value to the semiconductor element Q1 as the main current Ic, the resistance of the adjustment resistor R2 when the comparator C1 outputs a gate cutoff signal If the value of the reference voltage Vref is determined and the resistance value of the adjustment resistor R2 is finally adjusted to about twice the resistance value, the value of the reference voltage Vref becomes the main current Ic having a level equal to the original overcurrent determination value. Is set to the value of the node voltage V1 when the current flows.

【0016】次に、上述した調整方法又はによって
調整抵抗R2を調整する場合において、好ましい調整抵
抗R2の調整の仕方について説明する。ここで、図2
は、調整抵抗R2の調整を開始した時点から調整抵抗R
2の抵抗値が調整限界値に達した時点までの、過電流判
定基準電源6の基準電圧Vrefの出力例である。図2
に示す通り、調整抵抗R2の調整を開始した時点(調整
初期段階)では基準電圧Vrefの出力電圧値が比較的
小さくなる様に、即ち、基準電圧Vrefの調整可能な
範囲内で最小値となる様に、しかも、調整抵抗R2の調
整を進めていくに従って基準電圧Vrefの出力電圧値
が線形的に大きくなる様に、つまり、基準電圧Vref
の調整可能な範囲内で最大値に向けて単調に増加し続け
る様に、過電流判定基準電源6の回路を構成する。これ
により、過電流判定値の調整を開始した調整初期段階で
の過電流判定値は調整可能な範囲内では最も小さく、調
整を進めていくに従って過電流判定値は大きくなる。図
3は、図2に示す様な基準電圧Vrefの調整方法を実
現しうる過電流判定基準電源6の回路構成の一例を示す
図である。ここで、レーザトリミングを用いた抵抗調整
においては、調整初期段階では調整後の抵抗値を比較的
小さく制御することができ、調整を進めていくに従い調
整後の抵抗値を単調に増加させていくことが可能であ
る。従って、図3に示す回路の調整抵抗R2の調整方法
としてレーザトリミングを用いる場合には、調整抵抗R
2の抵抗値が単調に大きくなっていくのに応じて基準電
圧Vrefの値もより大きな値に設定されていくことと
なるため、調整初期段階での過電流判定値の値を調整可
能な範囲内で最も小さい値に設定した上で、その最小値
から逐次、過電流判定値の値を増大する方向に補正して
いくことが可能となる。従って、この様な調整抵抗R2
の調整方法を採用するときには、調整抵抗R2の調整途
中ないしは過電流判定値の調整途中において半導体素子
Q1の特性が劣化してしまうという事態は生じない。
Next, a preferred method of adjusting the adjustment resistor R2 when the adjustment resistor R2 is adjusted by the above-described adjustment method or adjustment method will be described. Here, FIG.
Is the adjustment resistor R2 from the time when the adjustment of the adjustment resistor R2 is started.
7 is an output example of the reference voltage Vref of the overcurrent determination reference power supply 6 up to the time when the resistance value of No. 2 reaches the adjustment limit value. FIG.
As shown in (2), when the adjustment of the adjustment resistor R2 is started (initial adjustment stage), the output voltage value of the reference voltage Vref becomes relatively small, that is, the output voltage value becomes the minimum value within the adjustable range of the reference voltage Vref. Thus, the output voltage value of the reference voltage Vref increases linearly as the adjustment of the adjustment resistor R2 proceeds, that is, the reference voltage Vref
The circuit of the overcurrent determination reference power supply 6 is configured so as to continuously increase monotonically toward the maximum value within the adjustable range of. As a result, the overcurrent determination value at the initial stage of adjustment when the adjustment of the overcurrent determination value is started is the smallest within the adjustable range, and the overcurrent determination value increases as the adjustment proceeds. FIG. 3 is a diagram showing an example of a circuit configuration of the overcurrent determination reference power supply 6 that can realize the method of adjusting the reference voltage Vref as shown in FIG. Here, in resistance adjustment using laser trimming, the resistance value after adjustment can be controlled to be relatively small in the initial stage of adjustment, and the resistance value after adjustment is monotonously increased as the adjustment proceeds. It is possible. Therefore, when laser trimming is used as a method of adjusting the adjustment resistor R2 in the circuit shown in FIG.
Since the value of the reference voltage Vref is set to a larger value as the resistance value of No. 2 monotonously increases, the range in which the value of the overcurrent determination value in the initial stage of adjustment can be adjusted. , The overcurrent determination value can be successively corrected from the minimum value to the increasing value. Therefore, such an adjustment resistor R2
When the adjustment method is adopted, there is no situation in which the characteristics of the semiconductor element Q1 deteriorate during the adjustment of the adjustment resistor R2 or the adjustment of the overcurrent determination value.

【0017】既述の様に半導体装置10では、個々の半
導体チップの製造プロセスに依存する主電流Icに対す
るセンス電流Isの分流率のばらつきや、電流検出抵抗
R1の値の製造上のばらつきに起因して生じる節点電圧
V1のばらつきに対応して、本装置10の回路構成完了
後の組立途中(樹脂封止前)や組立完了後(樹脂封止
後)において、調整抵抗R2の抵抗値の調整により基準
電圧Vrefを調整することにより、個々の半導体装置
10毎に、基準電圧V1の値を、主電流Icのレベルが
それを遮断すべき本来の判定レベル(所望の過電流判定
値)に達したときにおける節点電圧V1の値に等しくな
る様に設定しているので、上記の両方のばらつきに影響
を受けることなく、正確に主電流のレベルがそれを遮断
すべき本来の判定レベルに達していることを電流保護判
定回路1で以て判定することができる。換言すれば、従
来技術では個々の半導体装置10毎に本来の過電流判定
レベルに対してばらついていた過電流判定値を、半導体
装置10の回路形成完了後の組立途中又は組立完了後に
調整抵抗R2の抵抗値を単に調整することによって、正
確に本来の過電流判定レベルに等しくすることが常に可
能となる。従って、過電流判定値を本来の設定値に補正
するために半導体素子Q1を選別したりする作業や電流
検出抵抗R1の高精度化の必要性が全く無くなり、半導
体装置10のコストを飛躍的に低減することができる。
As described above, in the semiconductor device 10, the variation in the shunt rate of the sense current Is with respect to the main current Ic depending on the manufacturing process of each semiconductor chip and the variation in the value of the current detection resistor R1 in the manufacturing process. Adjustment of the resistance value of the adjustment resistor R2 during the assembly after the completion of the circuit configuration of the device 10 (before resin sealing) or after the assembly is completed (after resin sealing) in accordance with the variation of the node voltage V1 caused by this. By adjusting the reference voltage Vref, the value of the reference voltage V1 for each semiconductor device 10 reaches the original determination level (desired overcurrent determination value) at which the level of the main current Ic should be cut off. Is set so as to be equal to the value of the node voltage V1 at the time of the above, so that the main current level can be accurately cut off without being affected by both of the above-mentioned variations. It can be determined Te than in current protection determination circuit 1 that has reached Le. In other words, in the prior art, the overcurrent determination value that has varied with respect to the original overcurrent determination level for each individual semiconductor device 10 is changed to the adjustment resistor R2 during the assembly after the circuit formation of the semiconductor device 10 is completed or after the assembly is completed. , It is always possible to exactly equal the original overcurrent determination level. Therefore, there is no need to select the semiconductor element Q1 in order to correct the overcurrent determination value to the original set value or to increase the precision of the current detection resistor R1, thereby greatly reducing the cost of the semiconductor device 10. Can be reduced.

【0018】(変形例)既述した実施の形態1の構成、
即ち、常温において、基準電圧Vrefの値を本来の過
電流判定レベルにある主電流Icが半導体素子Q1を流
れたときに生ずる節点電圧V1の値に等しく設定する機
能を有する調整抵抗R2を具備した構成に対して、例え
ば特開平8−19164号公報に記載された温度補償技
術を更に適用することも可能である。これにより、既述
した実施の形態1の作用・効果に加えて、半導体素子Q
1の温度特性、特に主電流Icに対するセンス電流Is
の分流率の温度依存特性に対応した温度依存特性を示す
節点電圧V1の温度依存特性を基準電圧Vrefの温度
依存特性によって補償することが可能となる。つまり、
半導体素子Q1における主電流Icとセンス電流Isと
の比として与えられる分流率(Ic/Is)がジャンク
ション温度(Tj)の上昇(下降)に伴い減少(増加)
するので、従って、センス電流Isが増加(減少)する
ので、主電流Icが本来の判定レベルにあるときの節点
電圧V1の値もまたジャンクション温度(Tj)の上昇
(下降)に伴い増加(減少)する。従って、この節点電
圧V1の温度依存特性と同一の温度依存性を基準電圧V
refが示す様に、調整抵抗R2の抵抗値の温度係数を
設定すれば良い。これにより、過電流判定値の温度依存
性を補償することができ、過電流判定値の更なる高精度
化に対応可能となる。以下、図4ないし図6を用いて説
明する。
(Modification) The configuration of the first embodiment described above,
That is, at room temperature, there is provided an adjustment resistor R2 having a function of setting the value of the reference voltage Vref equal to the value of the node voltage V1 generated when the main current Ic at the original overcurrent determination level flows through the semiconductor element Q1. It is also possible to further apply the temperature compensation technique described in, for example, JP-A-8-19164 to the configuration. Thus, in addition to the operation and effect of the first embodiment, the semiconductor element Q
1, especially the sense current Is with respect to the main current Ic.
The temperature dependence of the node voltage V1 showing the temperature dependence corresponding to the temperature dependence of the shunt ratio can be compensated by the temperature dependence of the reference voltage Vref. That is,
The shunt rate (Ic / Is) given as the ratio between the main current Ic and the sense current Is in the semiconductor element Q1 decreases (increases) as the junction temperature (Tj) increases (decreases).
Therefore, since the sense current Is increases (decreases), the value of the node voltage V1 when the main current Ic is at the original determination level also increases (decreases) as the junction temperature (Tj) increases (decreases). ). Therefore, the same temperature dependency as the temperature dependency of node voltage V1 is applied to reference voltage V1.
As indicated by ref, the temperature coefficient of the resistance value of the adjustment resistor R2 may be set. Thereby, the temperature dependency of the overcurrent determination value can be compensated, and it is possible to cope with further higher accuracy of the overcurrent determination value. Hereinafter, description will be made with reference to FIGS.

【0019】図4は、調整抵抗R2Aを用いた実施の形
態1の本変形例に係る半導体装置10Aの回路構成の一
例を示す図である。図4に示す様に、基準電圧V1を調
整する調整抵抗R2Aの抵抗値は、半導体素子Q1の温
度依存特性に起因して生じる節点電圧V1の温度依存特
性を補償し得る様な基準電圧Vrefの温度依存特性を
実現し得る温度係数を有する。以下、具体的に調整抵抗
R2Aの温度特性について説明する。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a circuit configuration of a semiconductor device 10A according to this modification of the first embodiment using the adjustment resistor R2A. As shown in FIG. 4, the resistance value of the adjustment resistor R2A for adjusting the reference voltage V1 is equal to the reference voltage Vref which can compensate for the temperature-dependent characteristic of the node voltage V1 caused by the temperature-dependent characteristic of the semiconductor element Q1. It has a temperature coefficient that can realize temperature-dependent characteristics. Hereinafter, the temperature characteristics of the adjustment resistor R2A will be specifically described.

【0020】図5は、本変形例に係る半導体装置10A
の調整抵抗R2Aの抵抗値の温度依存特性を示す図であ
る。図5において、横軸は半導体素子Q1のジャンクシ
ョン温度Tj(℃)であり、縦軸は、ジャンクション温
度Tjが25℃のときの抵抗値を1.0として表したと
きの調整抵抗R2Aの抵抗値である。一般に抵抗の持つ
温度特性は小さいので、図5に破線で示す様に、図1に
示す調整抵抗R2の抵抗値の温度特性はフラットな特性
となる。この点は、図1及び図4の電流検出抵抗R1に
ついても同様である。
FIG. 5 shows a semiconductor device 10A according to this modification.
FIG. 9 is a diagram showing a temperature-dependent characteristic of a resistance value of the adjustment resistor R2A of FIG. In FIG. 5, the horizontal axis represents the junction temperature Tj (° C.) of the semiconductor element Q1, and the vertical axis represents the resistance value of the adjustment resistor R2A when the resistance value when the junction temperature Tj is 25 ° C. is 1.0. It is. Generally, the temperature characteristic of the resistor is small, and as shown by the broken line in FIG. 5, the temperature characteristic of the resistance value of the adjustment resistor R2 shown in FIG. 1 is a flat characteristic. This is the same for the current detection resistor R1 in FIGS.

【0021】他方、半導体素子Q1の主電流値を検出す
るために主セルとは別のセンスセル(電流検出セル)を
半導体素子Q1に作り込んでいるが、半導体素子Q1に
は無視できない(非フラットな)温度特性がある。この
ため、主セルとセンスセルとがそれぞれ有する温度特性
が互いに異なる場合には、温度によって分流率が異なる
こととなる。図6は、本変形例に係る半導体装置10A
の過電流判定値の温度補償特性を示す図である。図6に
おいて、横軸は半導体素子Q1のジャンクション温度T
j(℃)であり、縦軸は、ジャンクション温度Tjが2
5℃のときにおける過電流判定値(それは、既述した通
り、本来の判定レベルと等しくなる様に、調整抵抗R2
Aの抵抗値を調整することによって補正済みである)を
1.0として表したときの過電流判定値を示している。
図6において破線で示す様に、電流検出抵抗R1で生じ
る節点電圧V1と基準電圧Vrefとの比較により主電
流Icが過電流になつたことを検出する場合には、ジャ
ンクション温度Tj毎に上記分流率が異なると、実際に
電流保護判定回路1によって電流保護動作が働くときの
主電流Icの値もジャンクション温度Tj毎に異なるこ
ととなる。これに対して、本変形例においては、調整抵
抗R2Aの抵抗値に図5に実線で示す様な温度特性(温
度上昇と共に単調増加;正の温度係数)を与えているの
で、図5の実線で示す調整抵抗R2Aの抵抗値の変化に
伴つて基準電圧Vrefもまた図5の実線に示す様に変
化し、この基準電圧Vrefの温度依存性が半導体素子
Q1の温度依存性に伴う電流検出抵抗R1における節点
電圧V1の変化を補償する様に追随することとなる。こ
のため、図6に実線で示す様に、過電流判定値がジャン
クション温度Tjに依存することなくほほ一定値とな
る。
On the other hand, in order to detect the main current value of the semiconductor element Q1, a sense cell (current detection cell) different from the main cell is formed in the semiconductor element Q1, but the semiconductor element Q1 cannot be ignored (non-flat). Na) There is a temperature characteristic. Therefore, when the temperature characteristics of the main cell and the temperature characteristics of the sense cell are different from each other, the shunt ratio differs depending on the temperature. FIG. 6 shows a semiconductor device 10A according to this modification.
FIG. 6 is a diagram showing a temperature compensation characteristic of an overcurrent determination value of FIG. 6, the horizontal axis represents the junction temperature T of the semiconductor element Q1.
j (° C.), and the vertical axis indicates that the junction temperature Tj is 2
The overcurrent determination value at 5 ° C. (as described above, the adjustment resistance R2 is set to be equal to the original determination level.
This is the overcurrent determination value when the value of A has been corrected by adjusting the resistance value of A) as 1.0.
As shown by the broken line in FIG. 6, when it is detected that the main current Ic has become an overcurrent by comparing the node voltage V1 generated at the current detection resistor R1 with the reference voltage Vref, the above-mentioned shunt is performed for each junction temperature Tj. When the rates are different, the value of the main current Ic when the current protection operation is actually performed by the current protection determination circuit 1 also differs for each junction temperature Tj. On the other hand, in the present modification, the resistance value of the adjustment resistor R2A is given a temperature characteristic as shown by a solid line in FIG. 5 (monotonically increases with a rise in temperature; a positive temperature coefficient). The reference voltage Vref also changes as shown by the solid line in FIG. 5 according to the change in the resistance value of the adjustment resistor R2A, and the temperature dependency of the reference voltage Vref changes with the temperature detection resistance of the semiconductor element Q1. It follows so as to compensate for the change in the node voltage V1 at R1. For this reason, as shown by the solid line in FIG. 6, the overcurrent determination value becomes almost constant without depending on the junction temperature Tj.

【0022】以上に述べた様に、半導体装置10Aの調
整抵抗として図5に示す様な温度補償特性を持つ調整抵
抗R2Aを使用することにより、半導体素子Q1の分流
率及び電流検出抵抗R1の抵抗値のばらつきに起因する
過電流判定値のばらつきの補正に加えて、半導体素子Q
1の持つ温度依存特性をも補償できるので、更に過電流
判定値の高精度化の要求に対応することが可能である。
As described above, by using the adjusting resistor R2A having the temperature compensation characteristic as shown in FIG. 5 as the adjusting resistor of the semiconductor device 10A, the shunt rate of the semiconductor element Q1 and the resistance of the current detecting resistor R1 are reduced. In addition to correcting the variation in the overcurrent determination value due to the variation in the
Since the temperature-dependent characteristic of 1 can be compensated, it is possible to further cope with a demand for higher accuracy of the overcurrent determination value.

【0023】尚、特開平8−19164号公報の[00
45]段落には、本実施の形態1の図1中の調整抵抗R
2に相当する「抵抗素子R4の抵抗値は、p型抵抗層2
4のシート抵抗を調整することによって所望の値とする
ことができる。」との記載が有る。しかしながら、同公
報で言う抵抗値の調整技術とは、上記抵抗素子R4が半
導体チップ上に作り込まれている段階で行うものであっ
て、半導体プロセス途中て使用するマスクや製造条件を
変更することで以て抵抗値を調整するものである。即
ち、同公報の抵抗値の調整は、本実施の形態の様に、図
1の半導体装置10の各部が全て同一半導体チップ上に
形成されて同装置10の回路構成が出来上がった後に同
装置10を動作させつつ行うというものではない。換言
すれば、同公報では、装置10全体の回路構成及びその
動作とは無関係に、単に上記抵抗素子R4の値を製造プ
ロセス上限られた範囲内で調整しているに過ぎないので
ある。このため、同公報の調整技術による場合には、図
1の半導体装置10の組立途中で又は組立完了後に過電
流判定レベルを本来の設計通りの過電流判定レベルに調
整することまではできない。これに対して、本実施の形
態における調整抵抗R2は、半導体装置10の組立途中
又は組立完了後に本装置10自身を動作させながら抵抗
値R2の調整を行う。従って、半導体装置10の組立途
中又は組立完了後において、上記分流率のばらつきや電
流検出抵抗R1の値のばらつきの影響を一切受けること
なく、過電流判定値を本来の判定レベルに容易に調整で
きる。
Incidentally, [00] of JP-A-8-19164 is disclosed.
45] In the paragraph, the adjustment resistor R in FIG.
The resistance value of the resistance element R4 corresponding to the p-type resistance layer 2
A desired value can be obtained by adjusting the sheet resistance of No. 4. There is a description. However, the technique of adjusting the resistance value referred to in the publication is performed at a stage when the resistance element R4 is formed on a semiconductor chip, and involves changing a mask used during a semiconductor process and manufacturing conditions. Is used to adjust the resistance value. That is, the adjustment of the resistance value in the same publication is performed after all the components of the semiconductor device 10 of FIG. 1 are formed on the same semiconductor chip and the circuit configuration of the device 10 is completed as in the present embodiment. It is not something that is performed while operating. In other words, in this publication, the value of the resistor R4 is merely adjusted within the upper limit of the manufacturing process regardless of the circuit configuration and operation of the entire device 10. For this reason, according to the adjustment technique disclosed in the publication, it is not possible to adjust the overcurrent determination level to the originally designed overcurrent determination level during or after assembly of the semiconductor device 10 of FIG. On the other hand, the adjustment resistor R2 in the present embodiment adjusts the resistance value R2 while operating the semiconductor device 10 itself during or after assembly of the semiconductor device 10. Therefore, during or after assembly of the semiconductor device 10, the overcurrent determination value can be easily adjusted to the original determination level without being affected by the variation in the shunt rate or the variation in the value of the current detection resistor R1. .

【0024】(実施の形態2)半導体装置の保護動作が
過敏に働いたり、逆に必要な際には保護動作が必ず働く
ようにするためには、電流保護判定回路が判定時間と判
定電流値との両方または判定電流値のみが異なる複数の
保護判定値を持つことが有効である。例えば、保護判定
の領域を過電流領域と短絡電流領域との2つに設定し、
半導体装置に要求される条件に応じて保護判定を行うこ
とで、過電流及び短絡電流に対する半導体素子の保護及
び半導体装置の安定動作を両立させることができる。
(Embodiment 2) In order to make the protection operation of the semiconductor device work too sensitively or, on the contrary, to always make the protection operation work when necessary, the current protection judgment circuit uses a judgment time and a judgment current value. It is effective to have a plurality of protection judgment values that differ from each other or only the judgment current value. For example, the protection determination areas are set to two areas, an overcurrent area and a short-circuit current area,
By performing the protection determination in accordance with the conditions required for the semiconductor device, it is possible to achieve both protection of the semiconductor element against overcurrent and short-circuit current and stable operation of the semiconductor device.

【0025】表1に、本実施の形態2に係る半導体装置
の保護動作の条件の一例を示す。
Table 1 shows an example of conditions for the protection operation of the semiconductor device according to the second embodiment.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】ここで、過電流領域とは、過負荷によりそ
のまま主電流を通電していれば、半導体素子の特性が劣
化してしまうモードである。通常は半導体装置を使用す
るコントローラのソフトウェアによって駆動停止される
システムが一般的に使用されており、判定時間(例えば
10ms)は過電流状態発生を上記コントローラにおい
てソフトウェア判定するための余裕時間でもある。過負
荷が当該判定時間以上継続すると、電流保護判定回路が
ゲート遮断信号を出力して主電流が遮断される。他方、
短絡電流領域とは、出力短絡等の発生により直ちに主電
流の流れを遮断しなければ半導体素子の特性劣化が生じ
てしまうことが予想されるモードであり、半導体装置の
緊急停止に繋がるけれども、半導体素子の保護を最優先
するモードである。
Here, the overcurrent region is a mode in which the characteristics of the semiconductor element are degraded if the main current is supplied as it is due to an overload. Usually, a system in which the drive is stopped by software of a controller using a semiconductor device is generally used, and the determination time (for example, 10 ms) is also a margin time for software determination of occurrence of an overcurrent state in the controller. When the overload continues for the determination time or more, the current protection determination circuit outputs a gate cutoff signal and the main current is cut off. On the other hand,
The short-circuit current region is a mode in which it is expected that the characteristics of the semiconductor element will deteriorate unless the flow of the main current is immediately interrupted due to the occurrence of an output short circuit or the like. This is the mode in which protection of the element is given the highest priority.

【0028】次に、この様な複数の保護動作を実現する
半導体装置の回路構成について説明する。図7は、実施
の形態2に係る半導体装置10Bの回路構成を示す図で
ある。本半導体装置10Bは基本的には実施の形態1の
半導体装置10と同様の回路構成を有しているが、本半
導体装置10Bでは、所定の保護動作を過敏に働かせた
り、あるいは、必要なときには必ず同動作を働かすよう
にするために、以下の異なる構成を有する。即ち、図7
の半導体装置10Bにおいては、電流保護判定回路1A
は、判定時間と判定電流値との両方または判定電流値の
みが異なる保護判定値を持つ第1及び第2コンパレータ
C1及びC2を備えており(尚、判定電流値が異なると
いうことは基準電圧Vrefと比較される節点電圧が異
なることになる)、しかも、電流検出抵抗は第1及び第
2電流検出抵抗R3、R4に2分割されており(両電流
検出抵抗R3及びR4がセンス端子7と接地電位との間
に直列接続されている)、半導体素子Q1のセンス電流
Isを、センス端子7と第1電流検出抵抗R3との間に
おける第1節点電圧V3に変換すると共に、第1電流検
出抵抗R3と第2電流検出抵抗R4との間における第2
節点電圧V4にも変換している。
Next, a circuit configuration of a semiconductor device which realizes such a plurality of protection operations will be described. FIG. 7 is a diagram showing a circuit configuration of a semiconductor device 10B according to the second embodiment. The present semiconductor device 10B basically has the same circuit configuration as the semiconductor device 10 of the first embodiment. However, in the present semiconductor device 10B, a predetermined protection operation is excessively activated, or when necessary. To ensure that the same operation is performed, the following different configurations are provided. That is, FIG.
In the semiconductor device 10B, the current protection determination circuit 1A
Is provided with first and second comparators C1 and C2 having protection judgment values that are different from both the judgment time and the judgment current value or only the judgment current value (the difference in the judgment current values means that the reference voltage Vref And the current detection resistor is divided into first and second current detection resistors R3 and R4 (both current detection resistors R3 and R4 are connected to the sense terminal 7 and the ground). Is connected in series with the potential), the sense current Is of the semiconductor element Q1 is converted to a first node voltage V3 between the sense terminal 7 and the first current detection resistor R3, and the first current detection resistor R3 between the second current detection resistor R4 and the second current detection resistor R4.
It is also converted to the node voltage V4.

【0029】電流保護判定回路1Aは、常時、基準電圧
Vrefを入力していると共に、センス電流Isが第1
及び第2電流検出抵抗R3、R4の直列接続から成る電
流検出抵抗を流れるときに生じる第1及び第2節点電圧
V3、V4を入力して、第1及び第2節点電圧V3、V
4のそれぞれと基準電圧Vrefとを比較する。そし
て、電流保護判定回路1A(従って、第1及び第2コン
パレータC1、C2)は、両節点電圧V3及びV4の内
の少なくとも1つが当該節点電圧Vi(1≦i≦n;こ
こではn=2)に対応して予め定められた判定時間内だ
け基準電圧Vref以上にあるときに主電流Icを遮断
すべき状態にあると判定して、ゲート遮断信号をゲート
駆動回路2に出力する。これにより、ゲート駆動回路2
は半導体素子Q1のゲートの駆動動作を中止する。
The current protection judging circuit 1A always receives the reference voltage Vref and outputs the first sense current Is.
And first and second node voltages V3 and V4 generated when the current flows through a current detection resistor formed of a series connection of the second and second current detection resistors R3 and R4.
4 and the reference voltage Vref. The current protection determination circuit 1A (accordingly, the first and second comparators C1 and C2) determines that at least one of the two node voltages V3 and V4 is the node voltage Vi (1 ≦ i ≦ n; n = 2 in this case). ), It is determined that the main current Ic is in a state to be interrupted when the voltage is equal to or higher than the reference voltage Vref within a predetermined determination time, and a gate cutoff signal is output to the gate drive circuit 2. Thereby, the gate drive circuit 2
Stops the driving operation of the gate of the semiconductor element Q1.

【0030】既述の通り、異なる2つの保護判定動作を
半導体装置10Bに行なわせるためには、異なる2つの
判定電流値を設定する必要がある。換言すれば、電流保
護判定回路1Aに印可する節点電圧を2つ設定する必要
がある。そのため、本半導体装置10Bにおいては、2
個の電流検出抵抗R3、R4が必要となる。しかし、本
半導体装置10Bでは、第1及び第2コンパレータC
1、C2はそれぞれ第1及び第2節点電圧V3及びV4
を同一の電流判定基準電源6の基準電圧Vrefと比較
することで、2つの異なる保護動作(過電流保護動作、
短絡保護動作)の実行の必要性の有無を判定している。
しかも、第1コンパレータC1及び第2コンパレータC
2に設定されている判定時間は、それぞれ10ms、0
sである。ここで、例えば、本来の過電流判定値に等し
いレベルを有する主電流Icが半導体素子Q1内に流れ
たときに生ずる第2節点電圧V4の電圧値に基準電圧V
refが等しくなる様に、図7の回路構成後の組立途中
又は組立完了後に、実施の形態1で既述した調整方法
又はを利用して、調整抵抗R2の抵抗値を調整したも
のとする。これにより、過電流と判定されるべき値にま
で増加した主電流Icが、第1コンパレータC1に設定
された判定時間内だけ継続して半導体素子Q1内を流れ
るときには、直ちに第1コンパレータC1が過電流状態
の発生を検知してゲート遮断信号を出力する。従って、
主電流Icが本来の過電流判定値にまで上昇していない
段階においても過電流保護動作が働くので、過敏に過電
流保護動作を働かせることができる。又、短絡電流保護
については、第2コンパレータC2が即座にこれを行
う。但し、この場合には、常に第1コンパレータC1に
よって過電流判定が成される一方、基準電圧Vrefは
本来の過電流判定値に等しい主電流Icが流れるときの
第2節点電圧V4に等しくなる様に設定されているの
で、主電流Icに対するセンス電流Isの分流率のばら
つきによる影響のみを調整抵抗R2の抵抗値の調整によ
って補正できる。
As described above, in order to cause the semiconductor device 10B to perform two different protection judgment operations, it is necessary to set two different judgment current values. In other words, it is necessary to set two node voltages to be applied to the current protection determination circuit 1A. Therefore, in the present semiconductor device 10B, 2
The current detection resistors R3 and R4 are required. However, in this semiconductor device 10B, the first and second comparators C
1, C2 are the first and second node voltages V3 and V4, respectively.
Is compared with the reference voltage Vref of the same current determination reference power supply 6 to obtain two different protection operations (overcurrent protection operation,
It is determined whether or not it is necessary to execute the short-circuit protection operation).
Moreover, the first comparator C1 and the second comparator C
The determination times set to 2 are 10 ms and 0, respectively.
s. Here, for example, the reference voltage V4 is added to the voltage value of the second node voltage V4 generated when the main current Ic having a level equal to the original overcurrent determination value flows into the semiconductor element Q1.
It is assumed that the resistance value of the adjustment resistor R2 is adjusted by using the adjustment method or the adjustment method described in the first embodiment during or after assembly after the circuit configuration in FIG. 7 so that ref becomes equal. As a result, when the main current Ic, which has increased to the value to be determined as an overcurrent, continuously flows through the semiconductor element Q1 for the determination time set in the first comparator C1, the first comparator C1 immediately fails. It detects the occurrence of a current state and outputs a gate cutoff signal. Therefore,
Since the overcurrent protection operation operates even when the main current Ic has not risen to the original overcurrent determination value, the overcurrent protection operation can be activated quickly. The second comparator C2 immediately performs the short-circuit current protection. In this case, however, the overcurrent determination is always made by the first comparator C1, while the reference voltage Vref becomes equal to the second node voltage V4 when the main current Ic equal to the original overcurrent determination value flows. Therefore, only the influence of the variation of the shunt rate of the sense current Is with respect to the main current Ic can be corrected by adjusting the resistance value of the adjustment resistor R2.

【0031】又、調整抵抗R2の抵抗値を、基準電圧V
refの値が本来の過電流判定値のレベルを有する主電
流Icが流れるときにおける第1節点電圧V3の値に等
しくなる様に調整しても良い。この場合、主電流Icの
レベルが本来の過電流判定値以上にまで上昇したとき
に、第1コンパレータC1は過電流保護動作を行う。従
って、第1コンパレータC1が上記過電流保護動作を担
っている限り、分流率のばらつきと電流検出抵抗のばら
つきの両方の影響を調整抵抗R2の抵抗値の調整によっ
て補正できる。尚、第1コンパレータC1に設定された
判定時間内に更に主電流Icが上昇して第2節点電圧V
4が基準電圧Vref以上になるときには、第2コンパ
レータC2の方が第1コンパレータC1に代わって直ち
に過電流保護動作を実行する。これにより、必要なとき
に直ちに過電流保護動作を働かせることができる。
Further, the resistance value of the adjustment resistor R2 is changed to the reference voltage V
The value of ref may be adjusted to be equal to the value of the first node voltage V3 when the main current Ic having the level of the original overcurrent determination value flows. In this case, when the level of the main current Ic rises to or above the original overcurrent determination value, the first comparator C1 performs an overcurrent protection operation. Therefore, as long as the first comparator C1 performs the above-described overcurrent protection operation, the influence of both the variation of the shunt rate and the variation of the current detection resistor can be corrected by adjusting the resistance value of the adjustment resistor R2. Note that the main current Ic further rises within the determination time set in the first comparator C1, and the second node voltage V
When 4 becomes equal to or higher than the reference voltage Vref, the second comparator C2 immediately executes the overcurrent protection operation instead of the first comparator C1. Thus, the overcurrent protection operation can be activated immediately when necessary.

【0032】この様に、本半導体装置10Bによれば、
基準電圧Vrefの値が本来の過電流判定値のレベルを
有する主電流Icが流れるときの第1節点電圧V3又は
第2節点電圧V4の値の何れか一方に等しくなる様に設
定しているので、少なくとも半導体素子Q1の分流率の
ばらつきによる影響を低減し、場合によっては第1及び
第2電流検出抵抗R3、R4のばらつきによる影響をも
低減して、必要な際には正確に過電流判定を行うことが
できる様にしたり、本来の過電流判定値に対して過敏に
過電流保護動作を働かせることができると共に、短絡保
護動作をも過敏に働かせることができる。
As described above, according to the present semiconductor device 10B,
Since the value of the reference voltage Vref is set to be equal to one of the first node voltage V3 and the second node voltage V4 when the main current Ic having the level of the original overcurrent determination value flows. In addition, at least the influence of the variation of the shunt rate of the semiconductor element Q1 is reduced, and in some cases, the influence of the variation of the first and second current detection resistors R3 and R4 is also reduced. Can be performed, the overcurrent protection operation can be made to work sensitively to the original overcurrent determination value, and the short-circuit protection operation can also be made to work too sensitively.

【0033】加えて本半導体装置10Bによれば、調整
抵抗R2Aの抵抗値を調整することにより同時に第1及
び第2コンパレータC1、C2の基準電圧Vrefを調
整することができるので、調整方法が非常に簡便であ
る。
In addition, according to the semiconductor device 10B, the reference voltage Vref of the first and second comparators C1 and C2 can be adjusted at the same time by adjusting the resistance value of the adjustment resistor R2A. It is simple.

【0034】尚、図7においては、過電流及び短絡電流
の判定を行うために電流保護判定回路1A内にコンパレ
ータを2個具備している場合を例示しているが、勿論、
用途により更なる保護動作の条件を設定しても良い。即
ち、一般化して説明するならば、保護動作がn個(ここ
ではn≧3)必要とすると、電流保護判定回路1A内
に、対応する保護動作に応じて定められた判定時間を有
し且つ共通の基準電圧Vrefを入力するn個のコンパ
レータを設け、且つn個の節点電圧を供給し得るn個の
電流検出抵抗を備えると共に、本来の過電流判定値に等
しいレベルを有する主電流が半導体素子内を流れたとき
に生じる、n個の節点電圧の内の何れか1つに基準電圧
Vrefが等しくなる様に、装置の組立途中又は組立完
了後に、調整抵抗R2が調整される。
FIG. 7 shows an example in which two comparators are provided in the current protection determination circuit 1A for determining overcurrent and short-circuit current.
Further protection operation conditions may be set depending on the application. In other words, to be generalized, if n protection operations are required (here, n ≧ 3), the current protection determination circuit 1A has a determination time determined according to the corresponding protection operation, and A main current having a level equal to the original overcurrent determination value is provided, provided with n comparators for inputting a common reference voltage Vref, and provided with n current detection resistors capable of supplying n node voltages. During or after assembly of the device, the adjustment resistor R2 is adjusted so that the reference voltage Vref becomes equal to one of the n node voltages generated when flowing through the element.

【0035】(変形例) (1)図7に例示した実施の形態2の半導体装置10B
に対して、実施の形態1で既述した図2に示す調整抵抗
R2の調整方法を採用するときには、実施の形態1と同
様に、調整抵抗R2の調整途中ないしは過電流判定値の
調整途中において半導体素子Q1の特性が劣化してしま
うという事態の発生を防止できる。
(Modification) (1) The semiconductor device 10B according to the second embodiment illustrated in FIG.
On the other hand, when the adjustment method of the adjustment resistor R2 shown in FIG. 2 described in the first embodiment is employed, similarly to the first embodiment, during the adjustment of the adjustment resistor R2 or the adjustment of the overcurrent determination value. It is possible to prevent a situation in which the characteristics of the semiconductor element Q1 are deteriorated.

【0036】(2)更に、図7の実施の形態2の半導体
装置10B又は上記変形例(1)の半導体装置10Bに
対して、既述した実施の形態1に係る変形例の構成を更
に適用することも可能である。これにより、既述した実
施の形態2ないしは上記変形例(1)の作用・効果に加
えて、半導体素子Q1の温度特性、特に主電流Icに対
するセンス電流Isの分流率の温度依存特性に対応した
温度依存特性を示す第1及び第2節点電圧V3及びV4
の温度依存特性を基準電圧Vrefの温度依存特性によ
って補償することが可能となる。
(2) Further, the configuration of the above-described modification of the first embodiment is further applied to the semiconductor device 10B of the second embodiment of FIG. 7 or the semiconductor device 10B of the above-described modification (1). It is also possible. Accordingly, in addition to the operation and effect of the second embodiment or the modification (1) described above, the temperature characteristic of the semiconductor element Q1, particularly, the temperature dependence of the shunt ratio of the sense current Is with respect to the main current Ic is supported. First and second node voltages V3 and V4 exhibiting temperature-dependent characteristics
Can be compensated by the temperature dependence of the reference voltage Vref.

【0037】[0037]

【発明の効果】請求項1に係る発明によれば、個々の半
導体チップの製造プロセスに依存する主電流に対するセ
ンス電流の分流率のばらつきや、電流検出抵抗の値の製
造上のばらつきに起因して生じるn個の節点電圧の各々
のばらつきに対応して、個々の半導体装置毎に、基準電
圧の値を、主電流のレベルがそれを遮断すべき本来の判
定レベルに達したときにおける各節点電圧の内の何れか
1つの値に等しくなる様に設定しているので、少なくと
も主電流に対するセンス電流の分流率のばらつきに影響
を受けることなく、主電流のレベルがそれを遮断すべき
本来の判定レベルに達していることを電流保護判定回路
で以て正確に判定することができる。尚、n=1の場合
には、主電流に対するセンス電流の分流率のばらつき及
び電流検出抵抗の値の製造上のばらつきに起因して生じ
る節点電圧のばらつきに対応して、個々の半導体装置毎
に、基準電圧の値を、主電流のレベルがそれを遮断すべ
き本来の判定レベルに達したときにおける節点電圧の値
に等しくなる様に設定しているので、主電流に対するセ
ンス電流の分流率のばらつき及び電流検出抵抗の値の製
造上のばらつきの両方にに影響を受けることなく、主電
流のレベルがそれを遮断すべき本来の判定レベルに達し
ていることを電流保護判定回路で以てより正確に判定す
ることができる。
According to the first aspect of the present invention, variations in the shunt ratio of the sense current with respect to the main current depending on the manufacturing process of each semiconductor chip and variations in the manufacturing of the value of the current detection resistor are caused. In response to the respective variations in the n node voltages that occur, the value of the reference voltage is changed for each individual semiconductor device, and the value of each node when the level of the main current reaches the original determination level at which the main current should be cut off. Since the voltage is set so as to be equal to any one of the voltages, the level of the main current is not affected by the variation of the shunt rate of the sense current with respect to the main current, and the original level of the main current to be cut off is not affected. The fact that the judgment level has been reached can be accurately judged by the current protection judgment circuit. In the case of n = 1, each semiconductor device has its own voltage corresponding to the variation of the shunt ratio of the sense current with respect to the main current and the variation of the node voltage caused by the manufacturing variation of the value of the current detection resistor. The reference voltage value is set to be equal to the value of the node voltage when the main current level reaches the original judgment level at which the main current should be cut off. The current protection determination circuit determines that the level of the main current has reached the original determination level at which the main current should be cut off without being affected by both the variation in the current detection resistance and the manufacturing variation in the value of the current detection resistor. More accurate determination can be made.

【0038】請求項2に係る発明によれば、基準電圧の
調整途中における半導体素子の特性劣化を回避できる効
果がある。
According to the second aspect of the present invention, there is an effect that the deterioration of the characteristics of the semiconductor element during the adjustment of the reference voltage can be avoided.

【0039】請求項3に係る発明によれば、請求項1又
は2に係る効果に加え、半導体素子の分流率の温度依存
特性をも合わせて補償できるので、更に、判定レベルの
高精度化の要求に対応可能である。
According to the third aspect of the invention, in addition to the effects of the first or second aspect, the temperature dependence of the shunt rate of the semiconductor element can be compensated together, so that the accuracy of the determination level can be further improved. Can respond to requests.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1に係る半導体装置の回
路構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a circuit configuration of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention;

【図2】 本発明の実施の形態1に係る半導体装置の過
電流判定基準電源の基準電圧の出力特性を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram illustrating output characteristics of a reference voltage of an overcurrent determination reference power supply of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;

【図3】 本発明の実施の形態1に係る過電流判定基準
電圧源の回路構成の一例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of an overcurrent determination reference voltage source according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態1の変形例に係る半導体
装置の回路構成の一変形例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a modification of the circuit configuration of the semiconductor device according to the modification of the first embodiment of the present invention;

【図5】 本発明の実施の形態1の変形例に係る半導体
装置の調整抵抗の温度依存性を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing temperature dependence of an adjustment resistor of a semiconductor device according to a modification of the first embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態1の変形例に係る半導体
装置の過電流判定値の温度補償特性を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a temperature compensation characteristic of an overcurrent determination value of a semiconductor device according to a modification of the first embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の実施の形態2に係る半導体装置の回
路構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a circuit configuration of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention;

【図8】 従来の半導体装置の回路構成を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram illustrating a circuit configuration of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1A 電流保護判定回路、2 ゲート駆動回路、3
端子、4 入力端子、5 直流電圧母線、6 過電流
判定基準電源、7 センス端子、10,10A,10B
半導体装置、Ic 主電流、Is センス電流、Q1
IGBT素子(半導体素子)、Vref 基準電圧、
V1 節点電圧、R1,R3 電流検出抵抗、R2,R
2A 調整抵抗、C1,C2 コンパレータ。
1, 1A current protection judgment circuit, 2 gate drive circuit, 3
Terminal, 4 input terminal, 5 DC voltage bus, 6 overcurrent judgment reference power supply, 7 sense terminal, 10, 10A, 10B
Semiconductor device, Ic main current, Is sense current, Q1
IGBT element (semiconductor element), Vref reference voltage,
V1 Node voltage, R1, R3 Current detection resistor, R2, R
2A adjustment resistor, C1, C2 comparator.

フロントページの続き Fターム(参考) 5G004 AA04 AB02 BA03 BA04 DA04 DC04 EA01 5G053 AA01 AA02 BA01 CA02 EB01 EC03 5H007 AA05 AA07 CA01 CB00 CC03 DA05 DB01 DC02 DC08 EA00 FA03 FA13 5H740 AA08 BA11 BB01 BB07 BB08 MM11 NN17 Continued on front page F term (reference) 5G004 AA04 AB02 BA03 BA04 DA04 DC04 EA01 5G053 AA01 AA02 BA01 CA02 EB01 EC03 5H007 AA05 AA07 CA01 CB00 CC03 DA05 DB01 DC02 DC08 EA00 FA03 FA13 5H740 AA08 BA11 BB07 BB07 BB08

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 主電流に対して所定の分流率で与えられ
るセンス電流をそのセンス端子より出力可能なセル分離
構造を有する半導体素子と、 判定の基準となる基準電圧を出力する判定基準電源と、 前記センス端子と接地電位との間に直列接続されたn個
(nは1以上の正の整数)の電流検出抵抗と、 前記センス電流が前記n個の電流検出抵抗を流れるとき
に生じる、隣り合う電流検出抵抗同士間及び前記センス
端子と前記センス端子に繋がった電流検出抵抗との間の
n個の節点電圧のそれぞれと前記基準電圧とを比較し、
前記n個の節点電圧の内の少なくとも1つが当該節点電
圧に対応して予め定められた判定時間内に前記基準電圧
以上にあるときに前記主電流を遮断すべき状態にあると
判定してゲート遮断信号を出力する電流保護判定回路
と、 前記電流保護判定回路から出力された前記ゲート遮断信
号を受けて前記半導体素子のゲートの駆動を中止するゲ
ート駆動回路とを備える半導体装置であって、 前記判定基準電源と前記接地電位との間に接続され、且
つ、前記半導体装置の組立途中又は組立完了後にそれ自
体の抵抗値が調整されることによって、その流れを遮断
すべき本来の判定レベルに達した前記主電流が前記半導
体素子に流れるときに生じる前記n個の節点電圧の何れ
か1つが前記基準電圧と等しくなる様に前記基準電圧を
調整している調整抵抗を更に備えることを特徴とする、
半導体装置。
1. A semiconductor device having a cell isolation structure capable of outputting a sense current given at a predetermined shunt rate to a main current from a sense terminal thereof, and a judgment reference power supply for outputting a reference voltage serving as a judgment reference An n (n is a positive integer equal to or greater than 1) current detection resistor connected in series between the sense terminal and a ground potential, and the sense current is generated when the sense current flows through the n current detection resistors. Comparing each of the n node voltages between adjacent current detection resistors and between the sense terminal and the current detection resistor connected to the sense terminal and the reference voltage,
When at least one of the n node voltages is equal to or higher than the reference voltage within a predetermined determination time corresponding to the node voltage, it is determined that the main current is to be cut off and the gate is determined. A semiconductor device, comprising: a current protection determination circuit that outputs a cutoff signal; and a gate drive circuit that stops driving a gate of the semiconductor element in response to the gate cutoff signal output from the current protection determination circuit, The resistance is adjusted between the reference power supply and the ground potential, and the resistance value of the semiconductor device is adjusted during or after assembly of the semiconductor device. An adjusting resistor that adjusts the reference voltage so that any one of the n node voltages generated when the main current flows through the semiconductor element becomes equal to the reference voltage Characterized in that it comprises further,
Semiconductor device.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体装置であって、 前記調整抵抗は、その調整初期段階では前記基準電圧が
比較的小さく、調整を進めるに連れて前記基準電圧が比
較的大きくなる様に調整された前記抵抗値を備えること
を特徴とする、半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the adjustment resistor has a relatively small reference voltage at an initial stage of the adjustment, and the reference voltage increases relatively as the adjustment proceeds. A semiconductor device comprising the resistance value adjusted to:
【請求項3】 請求項1又は2に記載の半導体装置であ
って、 前記調整抵抗の前記抵抗値は、前記基準電圧の温度依存
特性が前記n個の節点電圧の各々の温度依存特性を補償
しうる様な温度係数を有することを特徴とする、半導体
装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the resistance value of the adjustment resistor is such that the temperature dependence of the reference voltage compensates for the temperature dependence of each of the n node voltages. A semiconductor device having a temperature coefficient that can be used.
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