JP2001195998A - Cathode ray tube - Google Patents

Cathode ray tube

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JP2001195998A
JP2001195998A JP2000004982A JP2000004982A JP2001195998A JP 2001195998 A JP2001195998 A JP 2001195998A JP 2000004982 A JP2000004982 A JP 2000004982A JP 2000004982 A JP2000004982 A JP 2000004982A JP 2001195998 A JP2001195998 A JP 2001195998A
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Nozomi Arimoto
望 有元
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    • H01J2229/0755Beam passing apertures, e.g. geometrical arrangements characterised by aperture shape

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cathode ray tube which has both suppression effects of the doming quantity and the moire-stripes generation and which can avoid so-called persimmon seed phenomenon. SOLUTION: Projections 23, 24 are formed at opening holes 21, 22 to project from transverse direction ends 21a, 22a into the holes 21, 22. When viewing from a fluorescent substance face, the projecting direction of the projection 23, which is disposed at right of longitudinal center 25 of a shadow mask 20, is directed to a right periphery, and the projecting direction of the projection 24 disposed at left is directed to a left periphery. Accordingly, both suppression effects of the doming quantity and the moire stripes generation are compatible with each other, and there can be avoided so-called persimmon seed phenomenon by which a portion of the beam spot is cut, in the fluorescent substance face of electronic beam.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、テレビ受像機、コ
ンピューターディスプレイ等に用いられるシャドウマス
ク型の陰極線管に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shadow mask type cathode ray tube used for a television receiver, a computer display and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のカラー陰極線管の一例の断面図を
図4に示す。本図に示したカラー陰極線管1は、内面に
蛍光体スクリーン面が形成された実質的に長方形状のフ
ェイスパネル2と、フェイスパネル2の後方に接続され
たファンネル3と、ファンネル3のネック部3aに内蔵
された電子銃4と、フェイスパネル2の内部に蛍光体ス
クリーン面2aに対向して設けられたシャドウマスク6
と、これを固定するマスクフレーム7とを備えている。
また、電子ビームを偏向走査するために、ファンネル3
の外周面上には偏向ヨーク5が設けられている。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a sectional view showing an example of a conventional color cathode ray tube. The color cathode ray tube 1 shown in FIG. 1 has a substantially rectangular face panel 2 having a phosphor screen surface formed on an inner surface thereof, a funnel 3 connected to the rear of the face panel 2, and a neck portion of the funnel 3. An electron gun 4 built in 3a and a shadow mask 6 provided inside the face panel 2 so as to face the phosphor screen surface 2a.
And a mask frame 7 for fixing this.
In addition, a funnel 3 is used to deflect and scan the electron beam.
A deflection yoke 5 is provided on the outer peripheral surface of the.

【0003】シャドウマスク6は、電子銃4から発射さ
れる3本の電子ビームに対して色選別の役割を果たすも
のである。Aは、電子ビーム軌跡を示している。シャド
ウマスクには、電子ビーム通過孔である開孔がエッチン
グにより多数形成されている。
[0003] The shadow mask 6 plays a role of color selection for three electron beams emitted from the electron gun 4. A indicates the electron beam trajectory. In the shadow mask, a large number of openings that are electron beam passage holes are formed by etching.

【0004】カラー陰極線管では、電子ビームの射突に
よる熱膨張によって、電子ビーム通過孔が変位して、電
子ビーム通過孔を通過する電子ビームが所定の蛍光体に
正しく当たらなくなり、色むらが発生するというドーミ
ング現象が生じる。このため、シャドウマスクの温度上
昇による熱膨張を吸収できるような張力(テンション)
をあらかじめ加えて、シャドウマスクをマスクフレーム
に架張保持することが行われている。このような、架張
保持によれば、シャドウマスクの温度が上昇しても、シ
ャドウマスクの開孔と蛍光体スクリーン面の蛍光体スト
ライプとの相互位置のずれを低減することができる。
In a color cathode ray tube, an electron beam passage hole is displaced due to thermal expansion caused by an electron beam bombardment, so that an electron beam passing through the electron beam passage hole does not properly hit a predetermined phosphor, and color unevenness occurs. Doing phenomenon occurs. For this reason, a tension (tension) that can absorb the thermal expansion due to the temperature rise of the shadow mask.
Is added in advance, and the shadow mask is stretched and held on the mask frame. According to such a stretch holding, even if the temperature of the shadow mask increases, it is possible to reduce the displacement of the mutual position between the opening of the shadow mask and the phosphor stripe on the phosphor screen surface.

【0005】図5に、シャドウマスクの一例の平面図を
示す。本図では、主に縦方向(画面垂直方向)に張力を
かけるシャドウマスク35の例を示した。開孔36は一
定のピッチで形成されている。37で示した各開孔36
間の部分がブリッジと呼ばれている。ブリッジ幅は、シ
ャドウマスクの機械的強度に影響し、ブリッジ幅が狭く
なると、特に水平方向の引張に弱くなる。機械的強度を
向上させるためにブリッジ幅を大きくすると開孔の開口
面積が狭くなるため、輝度特性が低下してしまう。
FIG. 5 is a plan view showing an example of a shadow mask. In this drawing, an example of the shadow mask 35 for applying tension mainly in the vertical direction (the screen vertical direction) is shown. The openings 36 are formed at a constant pitch. Each opening 36 indicated by 37
The part between them is called a bridge. The bridge width affects the mechanical strength of the shadow mask, and when the bridge width is reduced, the bridge width is particularly vulnerable to horizontal tension. If the bridge width is increased in order to improve the mechanical strength, the opening area of the opening becomes narrower, so that the luminance characteristics deteriorate.

【0006】また、ブリッジの縦ピッチは、シャドウマ
スクのドーミング量とも関係している。シャドウマスク
は主に縦方向に引張られており、縦方向への熱膨張は張
力によって吸収されるが、横方向への熱膨張はブリッジ
によって横へ伝わるからである。このため、ブリッジの
縦ピッチを大きくすれば、ドーミング量を小さく抑える
ことができるが、この場合は、一定間隔で並んだ電子ビ
ームの走査線(輝線)と、シャドウマスクの電子ビーム
通過孔の規則正しいパターンとの相互干渉縞であるモア
レ縞が発生し易く、画質劣化の一因となっていた。
The vertical pitch of the bridge is also related to the doming amount of the shadow mask. This is because the shadow mask is mainly stretched in the vertical direction, and thermal expansion in the vertical direction is absorbed by the tension, but thermal expansion in the horizontal direction is transmitted laterally by the bridge. Therefore, if the vertical pitch of the bridge is increased, the doming amount can be reduced. In this case, the scanning lines (bright lines) of the electron beams arranged at regular intervals and the electron beam passage holes of the shadow mask are regularly formed. Moire fringes, which are mutual interference fringes with the pattern, are likely to occur, which has been a cause of image quality degradation.

【0007】また、ブリッジの縦ピッチを大きくする
と、ブリッジ自身が画面上に点在して見えるという問題
も生じる。また、ブリッジが積み重なった模様(ブリッ
ク状模様)として認識される場合もある。
Further, when the vertical pitch of the bridge is increased, there is also a problem that the bridge itself appears to be scattered on the screen. Further, the bridge may be recognized as a stacked pattern (brick-shaped pattern).

【0008】逆に、ブリッジの縦ピッチを小さくすれ
ば、モアレ縞は十分に抑制され、ブリッジ自身が目立つ
こともなくなるが、ドーミング量が大きくなる。
Conversely, when the vertical pitch of the bridge is reduced, moire fringes are sufficiently suppressed and the bridge itself is not noticeable, but the doming amount is increased.

【0009】これに対して、例えば図6(a)に示した
ように、開孔41内に、突出方向の異なる突出部42
a、42bが形成されたシャドウマスク40が提案され
ており、突出部42a、42bが形成されていることに
より、ブリッジの縦ピッチが大きいままで、ブリッジの
縦ピッチが小さい場合と同様にモアレ縞を抑制すること
ができる。すなわち、主に縦方向に張力をかけるシャド
ウマスクのドーミング量の抑制と、モアレ縞発生の抑制
とを両立させることができる。
On the other hand, for example, as shown in FIG.
A shadow mask 40 in which the vertical pitch of the bridge is small while the vertical pitch of the bridge is small is provided by forming the projections 42a and 42b. Can be suppressed. That is, it is possible to achieve both suppression of the doming amount of the shadow mask, which mainly applies tension in the vertical direction, and suppression of the occurrence of moire fringes.

【0010】また、スロット形状の開孔を有するシャド
ウマスクでは、シャドウマスクの縦中心線を境に蛍光体
スクリーン面2a(図4)からみてより右側の開孔で
は、開孔の右側の上下隅付近、シャドウマスクの縦中心
線より左側の開孔では開孔の左側の上下隅付近におい
て、斜めに入射してくる電子ビームをカットしてしまう
いわゆる柿の種現象を起こしてしまう。
In a shadow mask having a slot-shaped opening, an opening on the right side of the phosphor screen surface 2a (FIG. 4) with respect to the longitudinal center line of the shadow mask has upper and lower right corners of the opening. In the vicinity, in the opening on the left side of the vertical center line of the shadow mask, near the upper and lower corners on the left side of the opening, a so-called persimmon seed phenomenon occurs in which the obliquely incident electron beam is cut.

【0011】図7(a)は、シャドウマスクの縦中心線
を境にして、蛍光体スクリーン面からみて右側の開孔に
おける上下隅付近の横方向の断面図を示している。本図
では、開孔50を通過する電子ビーム光51の一部が、
開孔50の立ち上がり形状部52でカットされた状態を
示している。このように、電子ビームが開孔の右側の上
下隅付近でカットされると、図7(b)に示したよう
に、本来は略スロット形状となるはずのビームスポット
53の形状が柿の種形の形状となる。斜線部54a、5
4bが、電子ビーム光がカットされた部分に相当する。
FIG. 7A is a cross-sectional view in the horizontal direction near the upper and lower corners of the opening on the right side when viewed from the phosphor screen, with the vertical center line of the shadow mask as a boundary. In this figure, a part of the electron beam light 51 passing through the aperture 50 is
The state cut by the rising shape part 52 of the opening 50 is shown. As described above, when the electron beam is cut near the upper and lower corners on the right side of the aperture, as shown in FIG. 7B, the shape of the beam spot 53, which should have a substantially slot shape, is changed to a persimmon seed. It takes the shape of a shape. Shaded portions 54a, 5
4b corresponds to a portion where the electron beam light has been cut.

【0012】このような開孔の上下隅付近における電子
ビームの柿の種現象を防止するために、種々の開孔形状
が提案されており、特開平1−320738号公報で
は、例えば、シャドウマスクの縦中心線より右側の開孔
においては右側の上下隅付近の開孔の開口部の幅(図7
(a)のWに相当)を広げる等により柿の種現象の防止
を図っている。また、特開昭63−119139号公報
では、図7(c)に示したように、開孔55の上下端部
をa、bで示したように広げて、電子ビームカットの防
止を図っている。
Various hole shapes have been proposed in order to prevent persimmon seed phenomena of the electron beam near the upper and lower corners of the hole. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-320738 discloses a shadow mask. In the opening on the right side of the vertical center line of FIG.
(Equivalent to W in (a)) to prevent persimmon seed phenomenon. In Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-119139, as shown in FIG. 7C, the upper and lower ends of the opening 55 are widened as shown by a and b to prevent the electron beam from being cut. I have.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図6
(a)に示したシャドウマスク40では、突出部42
a、42bにより、ブリッジ縦ピッチを小さくしたのと
同等に電子ビームを遮蔽することができモアレ縞を抑制
することができるが、前記のような柿の種現象の問題が
あった。すなわち、図6(b)に示したように、シャド
ウマスクの縦中心線より右側の開孔41では、突出部4
2bの根元部Cで、左側の開孔41では、突出部42b
の根元部Dで、電子ビームをカットしてしまう。
However, FIG.
In the shadow mask 40 shown in FIG.
With a and 42b, the electron beam can be shielded and the moire fringes can be suppressed as in the case where the bridge vertical pitch is reduced, but there is a problem of the persimmon seed phenomenon as described above. That is, as shown in FIG. 6B, in the opening 41 on the right side of the vertical center line of the shadow mask, the protrusion 4
At the base C of the base 2b, the opening 41 on the left side
The electron beam is cut at the root D of the substrate.

【0014】また、特開平1−320738号公報や特
開昭63−119139号公報に提案されている開孔
は、いずれも開孔の形状により柿の種現象の防止を図っ
ているが、このような形状による対応には限度がある。
The apertures proposed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-320938 and 63-119139 all attempt to prevent persimmon seed phenomena by the shape of the holes. There is a limit to the response by such a shape.

【0015】本発明は、前記のような従来の問題を解決
するものであり、ドーミング量の抑制と、モアレ縞発生
の抑制効果とを両立させつつ、いわゆる柿の種現象を防
止できる陰極線管を提供することを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a cathode ray tube capable of preventing the so-called persimmon seed phenomenon while suppressing both the amount of doming and the effect of suppressing the occurrence of moiré fringes. The purpose is to provide.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の陰極線管は、平板に形成された多数の開孔
を有するシャドウマスクを備えた陰極線管であって、少
なくとも前記シャドウマスクの左右両端付近の前記開孔
には、前記開孔の前記シャドウマスクの縦中心線側の端
部から横方向へ突出した突出部が形成されていることを
特徴とする。前記のような陰極線管によれば、ドーミン
グ量の抑制と、モアレ縞発生の抑制効果とを両立させつ
つ、電子ビームの蛍光体面におけるビームスポットの一
部が欠ける柿の種現象を防止できる。
In order to achieve the above object, a cathode ray tube according to the present invention is a cathode ray tube provided with a shadow mask having a large number of openings formed in a flat plate, wherein at least the shadow mask is provided. In the opening near the left and right ends of the shadow mask, a protrusion protruding laterally from an end of the opening on the side of the vertical center line of the shadow mask is formed. According to the cathode ray tube as described above, it is possible to prevent the persimmon seed phenomenon in which a part of the beam spot on the phosphor surface of the electron beam is missing while suppressing the doming amount and the effect of suppressing the occurrence of moire fringes.

【0017】前記陰極線管においては、前記開孔の前記
縦中心線から遠い側の端部が、前記突出部の先端に対向
する位置に窪み部を有することが好ましい。前記のよう
な陰極線管によれば、窪み部が形成されていることによ
り、突出部を長くすることができ、かつ開孔の面積も広
げることができるので、より確実にモアレ縞の発生と柿
の種現象を抑制することができる。
In the above-mentioned cathode ray tube, it is preferable that an end of the opening farther from the vertical center line has a recess at a position facing a tip of the projecting portion. According to the above-described cathode ray tube, since the concave portion is formed, the protruding portion can be lengthened and the area of the opening can be increased, so that the occurrence of moire fringes and the persimmon can be more reliably achieved. Seed phenomena can be suppressed.

【0018】また、前記突出部が、前記シャドウマスク
のほぼ全面に形成されていることが好ましい。
Further, it is preferable that the projecting portion is formed on almost the entire surface of the shadow mask.

【0019】また、前記シャドウマスクが、縦方向に引
張力が印加された状態で架張保持されていることが好ま
しい。
It is preferable that the shadow mask is stretched and held in a state where a tensile force is applied in a vertical direction.

【0020】また、前記シャドウマスクが、曲面状に成
型されていることが好ましい。
Preferably, the shadow mask is formed into a curved surface.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て、図面を用いて説明する。図4を用いて説明したカラ
ー陰極線管の各構成は、本実施形態でも同様であるの
で、その説明は省略する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Each configuration of the color cathode-ray tube described with reference to FIG. 4 is the same in the present embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0022】図1に、色選別電極の一実施形態の斜視図
を示している。マスクフレーム10は、長方形状の枠体
で、長辺フレームである対向する一対の支持体11に短
辺フレームである一対の弾性部材12が固定されてい
る。シャドウマスク13は、電子ビーム通過孔である開
孔14がエッチングにより形成されている。
FIG. 1 is a perspective view of one embodiment of a color selection electrode. The mask frame 10 is a rectangular frame body, and a pair of elastic members 12 as short-side frames are fixed to a pair of opposing supports 11 as long-side frames. In the shadow mask 13, an opening 14, which is an electron beam passage hole, is formed by etching.

【0023】本図に示したものは、テンション方式が用
いられており、シャドウマスク13は主に矢印Y方向に
引張力が加わった状態で、支持体11間に架張保持され
ている。本図では省略しているが、開孔14には、後に
説明する図2(a)の23、24で示したような突出部
が形成されている。
As shown in this figure, a tension system is used, and the shadow mask 13 is stretched and held between the supports 11 while a tensile force is applied mainly in the direction of arrow Y. Although omitted in this drawing, the opening 14 is formed with protrusions as shown by 23 and 24 in FIG.

【0024】図2(a)に、シャドウマスクの一実施形
態の平面図を示している。図2(b)は、図2(a)の
拡大図である。本図に示したシャドウマスク20は、図
の縦方向が画面垂直方向で、横方向が画面水平方向であ
り、縦中心線25は、シャドウマスク20の縦中心線を
示している。縦中心線25を境にして蛍光体スクリーン
面2a(図4)からみて右側の領域(以下、「右側領域」
という。)に配置されている開孔21内には突出部23
が、縦中心線25を境にして蛍光体スクリーン面2aか
らみて左側の領域(以下、「左側領域」という。)に配置
されている開孔22内には突出部24がそれぞれ形成さ
れている。縦方向に隣接する開孔21、22は、ブリッ
ジ26でつながっている。
FIG. 2A is a plan view of one embodiment of the shadow mask. FIG. 2B is an enlarged view of FIG. In the shadow mask 20 shown in this figure, the vertical direction of the figure is the screen vertical direction, the horizontal direction is the screen horizontal direction, and the vertical center line 25 indicates the vertical center line of the shadow mask 20. A region on the right side of the phosphor screen surface 2a (FIG. 4) with respect to the vertical center line 25 (hereinafter, a "right region")
That. ) Are provided in the opening 21.
However, protrusions 24 are respectively formed in the openings 22 arranged on the left side area (hereinafter referred to as “left side area”) when viewed from the phosphor screen surface 2 a with the vertical center line 25 as a boundary. . The openings 21 and 22 adjacent in the vertical direction are connected by a bridge 26.

【0025】突出部23、24は、それぞれ、開孔2
1、22の横方向の一端部から突出している。突出部2
3、24共に、開孔21、22内において縦中心線25
から横方向に離れる方向すなわちシャドウマスク左右の
周辺方向に突出している。より具体的には、右側領域の
突出部23の根元部23aは開孔21の縦中心線25側
の端面21aに形成されている。縦方向に隣接する突出
部23間には、第1の開口部27が形成されており、突
出部23の先端部23bと開孔21の端面21bとの間
には、第2の開口部28が形成されている。
The projections 23 and 24 are respectively
1, 22 project from one lateral end. Projection 2
3 and 24, the vertical center line 25 in the apertures 21 and 22
From the horizontal direction, i.e., the left and right peripheral directions of the shadow mask. More specifically, the root 23 a of the protrusion 23 in the right region is formed on the end face 21 a of the opening 21 on the vertical center line 25 side. A first opening 27 is formed between the vertically adjacent protrusions 23, and a second opening 28 is provided between a tip 23 b of the protrusion 23 and an end face 21 b of the opening 21. Are formed.

【0026】左側領域では突出部24の突出方向は突出
部23と逆になり、突出部24の根元部24aは開孔2
2の縦中心線25側の端面22aに形成されている。縦
方向に隣接する突出部24間には、第1の開口部29が
形成されており、突出部24の先端部24bと開孔22
の端面22bとの間には、第2の開口部30が形成され
ている。
In the left side region, the projecting direction of the projecting portion 24 is opposite to that of the projecting portion 23, and the base portion 24a of the projecting portion 24 is
2 is formed on the end face 22a on the side of the vertical center line 25. A first opening 29 is formed between the vertically adjacent protruding portions 24, and a tip portion 24 b of the protruding portion 24 and the opening 22 are formed.
A second opening 30 is formed between the second opening 30 and the end surface 22b.

【0027】このような、突出部23、24が形成され
ていることにより、電子ビームを遮蔽できるので、ブリ
ッジ26の縦ピッチを小さくしたのと同等の効果が得ら
れ、モアレ縞発生の抑制が図れる。その上、突出部2
3、24は、開孔21、22を横方向に完全に塞いでい
るのではなく、第2の開口部28、30が形成されてい
ることにより、先端部23b、24bと端部21b、2
2bとは分離している。このため、横方向の熱膨張が先
端部23b、24bと端部21b、22bとの間では伝
わらず、ドーミングを防止することができる。すなわ
ち、本実施形態によれば、主に縦方向に張力の加わって
いるシャドウマスクのドーミング量の抑制と、モアレ縞
発生の抑制とを両立させることができる。
Since the projections 23 and 24 are formed, the electron beam can be shielded, so that an effect equivalent to a reduction in the vertical pitch of the bridge 26 is obtained, and the generation of moire fringes is suppressed. I can do it. In addition, the protrusion 2
The openings 3 and 24 do not completely cover the openings 21 and 22 in the lateral direction, but have the second openings 28 and 30 formed therein, so that the tips 23b and 24b and the ends 21b and 2b are not formed.
2b. For this reason, thermal expansion in the lateral direction is not transmitted between the distal end portions 23b and 24b and the end portions 21b and 22b, so that doming can be prevented. That is, according to the present embodiment, it is possible to achieve both suppression of the doming amount of the shadow mask to which tension is mainly applied in the vertical direction and suppression of the occurrence of moire fringes.

【0028】また、第1の開口部27は、右側領域の一
つの開孔21内に複数形成されており、各第1の開口部
27は一つの開孔としての役割を果たす。つまり、一つ
の開孔21内には、縦ピッチを小さくした複数の開孔が
形成されているのと等価である。
A plurality of first openings 27 are formed in one opening 21 in the right region, and each first opening 27 serves as one opening. In other words, it is equivalent to forming a plurality of openings with a reduced vertical pitch in one opening 21.

【0029】この場合、第1の開口部27の右上部分と
右下部分には、それぞれ第2の開口部28が形成されて
いる。したがって、本図に示した開孔21の右側端面2
1bには、図6(b)に示したようなコーナ部Cは形成
されていない。
In this case, a second opening 28 is formed at the upper right and lower right portions of the first opening 27, respectively. Therefore, the right end face 2 of the opening 21 shown in FIG.
The corner portion C as shown in FIG. 6B is not formed in 1b.

【0030】すなわち、第2の開口部28によって第1
の開口部27の右側の上下隅付近は開口部が広げられて
おり、一つの開孔21内には、右側の上下隅付近が広が
った複数の開孔が形成されているのと等価である。
That is, the first opening is formed by the second opening 28.
In the vicinity of the upper and lower right corners of the opening 27, the opening is widened, and it is equivalent to forming a plurality of openings in the opening 21 near the upper and lower right corners. .

【0031】このため、第1の開口部27のうち、領域
A部分においては、電子ビームのカットを防止でき、電
子ビームの蛍光体面におけるビームスポットの一部が欠
けるいわゆる柿の種現象を防止することができる。
For this reason, in the region A of the first opening 27, the cutting of the electron beam can be prevented, and the so-called persimmon seed phenomenon in which a part of the beam spot on the phosphor surface of the electron beam is missing is prevented. be able to.

【0032】このことは、左側領域についても左右の関
係が逆になる以外は同様であり、第1の開口部29は、
一つの開孔22内に複数形成されており、第1の開口部
29の左上部分と左下部分には第2の開口部30が形成
されている。したがって、本図に示した開孔22の左側
端面22bには、図6(b)に示したようなコーナ部D
は形成されていない。このため、第1の開口部29のう
ち、領域B部分においては、電子ビームのカットを防止
でき、柿の種現象を防止することができる。
The same is true for the left side region except that the left and right relationship is reversed.
A plurality of openings are formed in one opening 22, and a second opening 30 is formed in an upper left portion and a lower left portion of the first opening 29. Therefore, the left end face 22b of the opening 22 shown in this drawing has a corner portion D as shown in FIG.
Is not formed. Therefore, in the region B of the first opening 29, the electron beam can be prevented from being cut, and the persimmon seed phenomenon can be prevented.

【0033】すなわち、本実施形態によれば、シャドウ
マスクのドーミング量の抑制と、モアレ縞発生の抑制と
を両立させつつ、電子ビームの蛍光体面におけるビーム
スポットの片側の上下隅部が欠ける柿の種現象を防止で
きる。
That is, according to the present embodiment, while suppressing both the doming amount of the shadow mask and the suppression of the generation of moiré fringes, the persimmon of which the upper and lower corners on one side of the beam spot on the phosphor surface of the electron beam are chipped is removed. Seed phenomena can be prevented.

【0034】ここで、前記のような柿の種現象は、電子
ビーム入射角の大きくなるシャドウマスク左右の周辺部
やコーナ部で発生し易い。このため、前記のように突出
部の配列された開孔は少なくとも左右の両端付近に形成
しておけば、電子ビームカット防止の効果が得られる。
Here, the persimmon seed phenomenon as described above is likely to occur in the left and right peripheral portions and corner portions of the shadow mask where the electron beam incident angle becomes large. For this reason, if the openings in which the projections are arranged are formed at least near both the left and right ends as described above, the effect of preventing electron beam cutting can be obtained.

【0035】図3には、シャドウマスクの別の実施形態
の拡大図を示している。本実施形態では、開孔33に窪
み部32を形成しているため、突出部31の先端31a
を長くして、蛍光体の幅分の電子ビームを、突出部31
で確実に遮断することができる。ここで、窪みを設けず
に単に突出部を長くしただけでは、突出部の先端と開孔
の端部との間隔が狭くなって製造が困難となってしまい
適切ではない。本実施形態では、窪み部32を形成する
ことにより、突出部を長くしつつ突出部の先端と開孔の
端部との間隔を確保でき、製造が特に困難となるような
ことがない。
FIG. 3 is an enlarged view of another embodiment of the shadow mask. In the present embodiment, since the depression 32 is formed in the opening 33, the tip 31 a of the projection 31 is formed.
And the electron beam for the width of the phosphor is
Can be reliably shut off. Here, simply increasing the length of the protruding portion without providing a depression narrows the distance between the tip of the protruding portion and the end of the opening, making it difficult to manufacture, which is not appropriate. In the present embodiment, by forming the recessed portion 32, the distance between the tip of the protrusion and the end of the opening can be ensured while the protrusion is lengthened, and manufacturing is not particularly difficult.

【0036】さらに、窪み部32の形成部分では、開孔
33の幅が他の部分と比べて広くなっているので、開孔
33の横方向における断面形状のうち立ち上がり形状部
分で電子ビームがカットされても減光されない。したが
って、より確実にモアレ縞の発生と柿の種現象を抑制す
ることができる。
Further, since the width of the opening 33 is wider in the portion where the recess 32 is formed than in the other portions, the electron beam is cut at the rising portion of the cross-sectional shape of the opening 33 in the lateral direction. It is not dimmed even if it is done. Therefore, generation of moiré fringes and persimmon seed phenomenon can be suppressed more reliably.

【0037】なお、前記実施形態では、シャドウマスク
を架張保持することを前提に説明したが、架張保持を行
なわない場合であっても、前記のような電子ビームカッ
ト防止に関しては同様の効果が得られる。したがって、
プレス成形により曲面を形成した架張保持を行なわない
シャドウマスクについても本実施形態は有効である。
Although the above embodiment has been described on the assumption that the shadow mask is stretched and held, the same effect can be obtained with respect to the above-described prevention of electron beam cutting even when the stretch mask is not held. Is obtained. Therefore,
The present embodiment is also effective for a shadow mask in which a curved surface is formed by press molding and is not stretched and held.

【0038】また、突出部の平面方向の形状は矩形状の
例で説明したが、これに限らず開孔及び突出部の角が丸
みを帯びた形状でもよく、突出部の根元部分から先端部
分にかけて徐々に突出する形状としてもよい。このよう
に、徐々に突出する形状は、シャドウマスクを製造する
際に主として用いられるエッチング法では実現し易く、
実用的である。
The shape of the projecting portion in the plane direction has been described as an example of a rectangular shape. However, the shape is not limited to this, and the opening and the corner of the projecting portion may be rounded. It is good also as a shape which protrudes gradually toward. As described above, the gradually protruding shape is easily realized by the etching method mainly used in manufacturing the shadow mask,
It is practical.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上のように、本発明の陰極線管によれ
ば、シャドウマスクにおいて、開孔内に突出した突出部
を形成し、突出部の突出方向をシャドウマスクの縦中心
線に対して横方向に離れる方向とすることにより、ドー
ミング量の抑制と、モアレ縞発生の抑制効果とを両立さ
せつつ、電子ビームの蛍光体面におけるビームスポット
の一部が欠ける柿の種現象を防止できる。
As described above, according to the cathode ray tube of the present invention, in the shadow mask, the projecting portion projecting into the opening is formed, and the projecting direction of the projecting portion is set with respect to the vertical center line of the shadow mask. By setting the direction apart in the horizontal direction, it is possible to prevent the persimmon seed phenomenon in which a part of the beam spot on the phosphor surface of the electron beam is missing, while suppressing the amount of doming and the effect of suppressing the generation of moire fringes at the same time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る色選別電極の斜視図FIG. 1 is a perspective view of a color selection electrode according to an embodiment of the present invention.

【図2】(a)本発明の一実施形態に係るシャドウマス
クの平面図 (b)図2(a)の拡大図
2A is a plan view of a shadow mask according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is an enlarged view of FIG. 2A.

【図3】本発明の別の一実施形態に係るシャドウマスク
の拡大図
FIG. 3 is an enlarged view of a shadow mask according to another embodiment of the present invention.

【図4】カラー陰極線管の一例の断面図FIG. 4 is a sectional view of an example of a color cathode ray tube.

【図5】従来のシャドウマスクの一例の平面図FIG. 5 is a plan view of an example of a conventional shadow mask.

【図6】(a)従来のシャドウマスクの別の一例の平面
図 (b)図6(a)の拡大図
6A is a plan view of another example of a conventional shadow mask, and FIG. 6B is an enlarged view of FIG. 6A.

【図7】(a)従来のシャドウマスクの、開孔の上下付
近の横方向の断面図 (b)従来のビームスポット形状の一例の平面図 (c)従来の開孔形状の一例の平面図
7A is a cross-sectional view of a conventional shadow mask in the horizontal direction near the top and bottom of an aperture. FIG. 7B is a plan view of an example of a conventional beam spot shape. FIG. 7C is a plan view of an example of a conventional aperture shape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 マスクフレーム 11 支持体 12 弾性部材 13,20 シャドウマスク 21,22,33 開孔 26 ブリッジ 23,24,31 突出部 27,29 第1の開口部 28,30 第2の開口部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Mask frame 11 Support body 12 Elastic member 13, 20 Shadow mask 21, 22, 33 Opening 26 Bridge 23, 24, 31 Projection 27, 29 First opening 28, 30 Second opening

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有元 望 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 江頭 英明 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 Fターム(参考) 5C031 EE02 EF05 EF07 EH03 EH04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Nozomu Arimoto 1-1, Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Corporation Inside (72) Inventor Hideaki Egasa 1-1, Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Industrial Co., Ltd. F term (reference) 5C031 EE02 EF05 EF07 EH03 EH04

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平板に形成された多数の開孔を有するシ
ャドウマスクを備えた陰極線管であって、少なくとも前
記シャドウマスクの左右両端付近の前記開孔には、前記
開孔の前記シャドウマスクの縦中心線側の端部から横方
向へ突出した突出部が形成されていることを特徴とする
陰極線管。
1. A cathode ray tube provided with a shadow mask having a large number of openings formed in a flat plate, wherein at least the openings near the left and right ends of the shadow mask have the openings of the shadow mask. A cathode ray tube, wherein a projection protruding laterally from an end on the side of the vertical center line is formed.
【請求項2】 前記開孔の前記縦中心線から遠い側の端
部が、前記突出部の先端に対向する位置に窪み部を有す
る請求項1に記載の陰極線管。
2. The cathode ray tube according to claim 1, wherein an end of the aperture farther from the vertical center line has a recess at a position facing a tip of the protrusion.
【請求項3】 前記突出部が、前記シャドウマスクのほ
ぼ全面に形成されている請求項1又は2に記載の陰極線
管。
3. The cathode ray tube according to claim 1, wherein the projecting portion is formed on substantially the entire surface of the shadow mask.
【請求項4】 前記シャドウマスクが、縦方向に引張力
が印加された状態で架張保持されている請求項1から3
のいずれかに記載の陰極線管。
4. The shadow mask is stretched and held while a tensile force is applied in a longitudinal direction.
The cathode ray tube according to any one of the above.
【請求項5】 前記シャドウマスクが、曲面状に成型さ
れている請求項1から3のいずれかに記載の陰極線管。
5. The cathode ray tube according to claim 1, wherein the shadow mask is formed into a curved surface.
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