JP2001185844A - Printed wiring board and producing method therefor - Google Patents

Printed wiring board and producing method therefor

Info

Publication number
JP2001185844A
JP2001185844A JP36885899A JP36885899A JP2001185844A JP 2001185844 A JP2001185844 A JP 2001185844A JP 36885899 A JP36885899 A JP 36885899A JP 36885899 A JP36885899 A JP 36885899A JP 2001185844 A JP2001185844 A JP 2001185844A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal foil
printed wiring
wiring board
conductive paste
adhesive layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP36885899A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Isono
雅司 磯野
Masao Sugano
雅雄 菅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP36885899A priority Critical patent/JP2001185844A/en
Publication of JP2001185844A publication Critical patent/JP2001185844A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board with which layers are connected by using conductive paste, improved in density and reliability, and a method for efficiently producing such a printed wiring board. SOLUTION: Concerning the printed wiring board for connecting conductor layers by using the conductive paste, the land of an inner layer board corresponding to a via hole filled with the conductive paste is thicker than other circuit conductors more than 5 μm. The producing method for printed wiring board is composed of a process for thinning metal foil more than 5 μm except for the land scheduled part of the inner layer circuit board, process for forming a conductor pattern by working the metal foil, process or boring a hole from the side of an adhesive layer to the metal foil at a desired spot on the metal foil with adhesive layer and filling that hole with the conductive paste, process for piling the metal foil with adhesive layer filled with the conductive paste on the surface of the inner layer circuit with the metal foil outside, laminating and integrating them by pressing/heating, and process for forming the conductor pattern by working the outside metal foil.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板と
その製造法に関する。
[0001] The present invention relates to a printed wiring board and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、高性能化、多機能化
に伴い、多層プリント配線板には、より一層の高密度化
が求められるようになってきている。これらの要求を満
たすために、層間の薄型化、配線の微細化、層間接続穴
の小型化が行われ、また隣接する層間の導体のみを接続
するビアホール等が用いられるようになり、このビアホ
ールも小型化されつつある。配線の多層化には、通常、
複数の回路層と該間の層間絶縁層をまとめて重ね、加
圧、加熱して積層一体化し、必要な箇所に穴をあけ接続
する多層配線板と、回路を形成した上に層間絶縁層を形
成し、その上に回路を形成し、必要な箇所に穴を設け、
というように回路層と絶縁層とを順次形成するビルドア
ップ多層配線板とがある。
2. Description of the Related Art With the miniaturization, high performance, and multifunctionality of electronic devices, multilayer printed wiring boards have been required to have higher densities. In order to satisfy these requirements, thinning between layers, miniaturization of wiring, miniaturization of interlayer connection holes have been performed, and via holes for connecting only conductors between adjacent layers have been used. It is getting smaller. For multi-layer wiring,
A plurality of circuit layers and an interlayer insulating layer between them are collectively overlapped, pressurized, heated and laminated and integrated, and a multilayer wiring board for making holes and connecting at required locations, and forming an interlayer insulating layer on a circuit. Forming, forming a circuit on it, providing holes where needed,
There is a build-up multilayer wiring board in which a circuit layer and an insulating layer are sequentially formed.

【0003】このビルドアップ多層配線板の製造法の一
つとして、接着層に形成した穴に導電性ペーストを充填
し、内層回路板と加圧、加熱して前記接着層に形成した
外層回路と電気的に接続する方法がある。この後必要に
応じ、上記と同様の工程を繰り返すことにより、必要と
する多層回路が形成できる。
As one method of manufacturing this build-up multilayer wiring board, a hole formed in an adhesive layer is filled with a conductive paste, and an inner layer circuit board is pressed and heated to form an outer layer circuit formed in the adhesive layer. There is a method of electrically connecting. Thereafter, if necessary, the same steps as described above are repeated to form a required multilayer circuit.

【0004】そして、特許第2601128号公報に開
示されているように、導電物質の含有量が比較的少なく
印刷適性に優れた導電性ペーストを圧縮性の多孔質基材
の貫通穴に充填し、加熱加圧工程時において導電性ペー
スト中のバインダ成分が圧縮性の多孔質基材の空孔に浸
透することによって、導電性ペーストの導電物質の構成
比を増大させることにより、信頼性の高いプリント配線
板を提供することができる方法が提案されている。
[0004] As disclosed in Japanese Patent No. 26001128, a conductive paste having a relatively small content of a conductive substance and excellent in printability is filled in a through hole of a compressible porous base material, The binder component in the conductive paste penetrates into the pores of the compressible porous substrate during the heating and pressurizing step, thereby increasing the composition ratio of the conductive material in the conductive paste, thereby providing highly reliable printing. A method capable of providing a wiring board has been proposed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、特許第260
1128号公報に開示されている方法には、圧縮性の多
孔質基材という特殊な材料を用いなければならず、穴あ
けの条件や取り扱いが通常のプリント配線板用材料と異
なるので製造が効率的でなく、また、多孔質であるため
接着剤にも特殊なものを使用しなければならないという
課題があった。
However, Patent No. 260
In the method disclosed in Japanese Patent No. 1128, a special material called a compressible porous base material must be used, and the drilling conditions and handling are different from those of ordinary materials for printed wiring boards, so that the production is efficient. In addition, there is a problem that a special adhesive must be used because the adhesive is porous.

【0006】本発明は、高密度で信頼性に優れた、導電
性ペーストによる層間の接続をしたプリント配線板と、
そのようなプリント配線板を効率よく製造する方法を提
供することを目的とする。
[0006] The present invention provides a printed wiring board having a high-density and high-reliability connection between layers using a conductive paste,
An object of the present invention is to provide a method for efficiently manufacturing such a printed wiring board.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、以下のことを
特徴とする。 (1)導体層間の接続を導電性ペーストで行うプリント
配線板において、導電性ペーストが充填されたビアホー
ルに対応する内層板のランド厚みが、それ以外の回路導
体より5μm以上厚いことを特徴とするプリント配線
板。 (2)以下の工程を有することを特徴とするプリント配
線板の製造法。 (a)内層回路板のランド予定部以外の金属箔を5μm
以上薄くする工程 (b)金属箔を加工して導体パターンを形成する工程 (c)接着層付金属箔の所望の箇所に、接着層側から金
属箔に達する穴をあけ、その穴に導電性ペーストを充填
する工程 (d)内層回路板の表面に導電性ペーストを埋めた接着
層付金属箔を、金属箔が外側になるようにして重ね、加
圧・加熱して積層一体化する工程 (e)外側の金属箔を加工して導体パターンを形成する
工程 (3)以下の工程を有することを特徴とするプリント配
線板の製造法。 (a1)内層回路板のランド予定部の金属箔のみを5μ
m以上厚くする工程 (b)金属箔を加工して導体パターンを形成する工程 (c)接着層付金属箔の所望の箇所に、接着層側から金
属箔に達する穴をあけ、その穴に導電性ペーストを充填
する工程 (d)内層回路板の表面に導電性ペーストを埋めた接着
層付金属箔を、金属箔が外側になるようにして重ね、加
圧・加熱して積層一体化する工程 (e)外側の金属箔を加工して導体パターンを形成する
工程 (4)工程(d)で作製したプリント配線板を工程
(a)または(a1)の内層回路板として用いることを
特徴とする(2)または(3)に記載のプリント配線板
の製造法。
The present invention is characterized by the following. (1) In a printed wiring board in which connection between conductive layers is performed using a conductive paste, the land thickness of the inner layer plate corresponding to the via hole filled with the conductive paste is at least 5 μm thicker than other circuit conductors. Printed wiring board. (2) A method for manufacturing a printed wiring board, comprising the following steps. (A) 5 μm of metal foil other than the planned land portion of the inner layer circuit board
(B) Step of processing a metal foil to form a conductor pattern (c) Drilling a hole reaching the metal foil from the adhesive layer side at a desired location of the metal foil with an adhesive layer, Step of filling paste (d) Step of stacking a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of the inner circuit board so that the metal foil is on the outside, and pressing and heating to laminate and integrate ( e) a step of forming a conductor pattern by processing an outer metal foil (3) A method for manufacturing a printed wiring board, comprising the following steps. (A1) 5 μm of only the metal foil at the planned land portion of the inner layer circuit board
(b) Step of forming a conductive pattern by processing a metal foil (c) Drilling a hole reaching the metal foil from the adhesive layer side at a desired position of the metal foil with an adhesive layer, and conducting the conductive hole in the hole (D) a step of stacking a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of an inner circuit board so that the metal foil is on the outside, and pressing and heating to laminate and integrate (E) Processing the outer metal foil to form a conductor pattern (4) Using the printed wiring board produced in the step (d) as the inner layer circuit board in the step (a) or (a1) (2) The method for producing a printed wiring board according to (3).

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の導電性ペーストには、導
電粒子と樹脂を主成分とするものが使用できる。導電性
ペーストの導電粒子には、銀や銅あるいは表面を銀で被
覆した銅等を用いることができる。樹脂には、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイ
ミド樹脂等を用いることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the conductive paste of the present invention, a paste containing conductive particles and a resin as main components can be used. Silver or copper, copper whose surface is coated with silver, or the like can be used as the conductive particles of the conductive paste. As the resin, an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, or the like can be used.

【0009】接着層には、エポキシやポリイミド類を成
分として含むものが使用でき、分子量10万以上の高分
子量エポキシ重合体を主成分としたエポキシ系接着フィ
ルム、変性ゴムを添加したエポキシ系接着フィルム、ポ
リイミド系接着フィルム、直径が1.0μm〜6μmで
長さが5μm〜1mmの繊維状物質をエポキシ樹脂中に
分散させたエポキシ系接着フィルムが使用できる。
As the adhesive layer, those containing epoxy or polyimide as a component can be used, and an epoxy adhesive film containing a high molecular weight epoxy polymer having a molecular weight of 100,000 or more as a main component, and an epoxy adhesive film containing a modified rubber. And polyimide-based adhesive films, and epoxy-based adhesive films in which a fibrous substance having a diameter of 1.0 μm to 6 μm and a length of 5 μm to 1 mm are dispersed in an epoxy resin.

【0010】(工程a)使用する金属箔は効率上、経済
上から銅箔が好ましい。内層回路板のランド予定部以外
の金属箔を5μm以上薄くするには、ランドの形状にエ
ッチングレジストを形成して、エッチングレジストに覆
われていない箇所を、化学エッチング液に接触させるこ
とによって、均一に金属箔を薄くする。この場合使用で
きる化学エッチング液としては、パーマエッチ(株式会
社荏原電産、商品名)あるいはSE−07液(三菱ガス
化学株式会社、商品名)等がある。エッチング後の金属
箔の厚みは、電気的特性及び微細回路形成等の点から5
〜25μmが好ましく、さらに好ましくは9〜20μm
がよい。また、ランド部の金属箔の厚みはビアホール内
の導電性ペーストとの接続信頼性の点から10μm以
上、さらに好ましくは30μm以上が良い。積層プレス
時に、ビア内の導電性ペーストを内層ランド部で押し縮
めることにより、ビア内の導電性ペーストの圧縮率を高
め、それによりビア毎の導電性ペースト固有抵抗値を下
げ、また接続信頼性を向上することができる。
(Step a) The metal foil used is preferably a copper foil in terms of efficiency and economy. In order to reduce the thickness of the metal foil other than the intended land portion of the inner layer circuit board by 5 μm or more, an etching resist is formed in the shape of the land, and a portion not covered with the etching resist is brought into contact with a chemical etching solution. Thin the metal foil. In this case, as a chemical etching solution that can be used, there is Permaetch (trade name, Ebara Densan Co., Ltd.) or SE-07 liquid (trade name, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.). The thickness of the metal foil after the etching is 5 points in view of electrical characteristics and formation of a fine circuit.
To 25 μm, more preferably 9 to 20 μm
Is good. Further, the thickness of the metal foil in the land portion is preferably 10 μm or more, more preferably 30 μm or more, from the viewpoint of connection reliability with the conductive paste in the via hole. By compressing the conductive paste in the via at the inner layer land during the laminating press, the compressibility of the conductive paste in the via is increased, thereby lowering the specific resistance of the conductive paste in each via and the connection reliability. Can be improved.

【0011】(工程a1)使用する金属箔は効率上、経
済上から銅箔が好ましい。内層回路板のランド予定部の
金属箔のみを5μm以上厚くするには、ランド部以外に
めっき用レジストを形成して、レジストに覆われていな
い箇所を、電気銅めっき液に接触させることによって、
金属箔を厚くする。この場合使用できる電気銅めっき液
としては、一般にプリント配線板に使用されている硫酸
銅めっき液等がある。回路予定部の金属箔の厚みは、電
気的特性及び微細回路形成などの点から5〜25μmが
好ましく、さらに好ましくは、9〜20μmがよい。ま
た、ランド部の金属箔の厚みはビアホール内の導電性ペ
ーストとの接続信頼性の点から10μm以上、さらに好
ましくは30μm以上が良い。従って、ランド部と導体
回路部の金属箔の厚みの差は5μm以上、好ましくは1
0μm以上が良い。
(Step a1) The metal foil used is preferably a copper foil from the viewpoint of efficiency and economy. In order to increase the thickness of only the metal foil of the intended land portion of the inner layer circuit board by 5 μm or more, a plating resist is formed in a portion other than the land portion, and a portion not covered with the resist is brought into contact with an electrolytic copper plating solution.
Thicken the metal foil. In this case, the copper electroplating solution that can be used includes a copper sulfate plating solution generally used for printed wiring boards. The thickness of the metal foil in the circuit portion is preferably from 5 to 25 μm, more preferably from 9 to 20 μm, from the viewpoint of electrical characteristics and formation of a fine circuit. Further, the thickness of the metal foil in the land portion is preferably 10 μm or more, more preferably 30 μm or more, from the viewpoint of connection reliability with the conductive paste in the via hole. Therefore, the difference between the thickness of the metal foil of the land portion and the thickness of the metal foil of the conductor circuit portion is 5 μm or more, preferably 1 μm or more.
0 μm or more is good.

【0012】(工程c)金属箔に達する穴をあけるに
は、レーザーを用いるものが好ましく、レーザーにはエ
キシマレーザーや炭酸ガスレーザーを用いることがで
き、加工速度や加工費等の点から炭酸ガスレーザーが好
適である。
(Step c) In order to form a hole reaching the metal foil, it is preferable to use a laser, and an excimer laser or a carbon dioxide laser can be used as the laser. Lasers are preferred.

【0013】(工程d)内層回路板の表面に導電性ペー
ストを埋めた接着層付金属箔を、金属箔が外側になるよ
うにして重ね、加圧、加熱して積層一体化するには、通
常の多層プリント配線板に用いる積層技術をそのまま使
用することができる。一般的には、温度を160〜18
5℃、圧力を1〜5MPa、時間を30〜120分位の
条件である。
(Step d) To laminate a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of the inner layer circuit board so that the metal foil is on the outside and press and heat to laminate and integrate The lamination technique used for ordinary multilayer printed wiring boards can be used as it is. Generally, the temperature is 160-18
The conditions are 5 ° C., a pressure of 1 to 5 MPa, and a time of about 30 to 120 minutes.

【0014】(工程b、e)外側の金属箔を加工して導
電性パターンを形成するには、回路の形状にエッチング
レジストを形成して、エッチングレジストに覆われてい
ない箇所を、化学エッチング液に接触させることによっ
て、選択的に金属箔を除去し、回路を形成することがで
きる。
(Steps b and e) In order to form a conductive pattern by processing the outer metal foil, an etching resist is formed in the shape of a circuit, and a portion not covered with the etching resist is subjected to a chemical etching solution. , The metal foil can be selectively removed to form a circuit.

【0015】[0015]

【実施例】実施例1 (内層回路板の作製工程a1、b)基材の厚さが0.6
mm、銅箔の厚さ18μmのガラス布−エポキシ樹脂含
浸両面銅張積層板であるMCL−679(日立化成工業
株式会社製、商品名)を使用し、ドライフィルムHK−
450(日立化成工業株式会社製、商品名)を用い、め
っき用レジストパターンを形成し、次いで、電気銅めっ
きを行い、ランド予定部のみ銅層の厚みを35μmにし
た。続いて、エッチングレジストフィルムHK−425
(日立化成工業株式会社製、商品名)をラミネートし、
フォトマスクを重ね、紫外線を照射し、現像してエッチ
ングレジストを形成し、不要な箇所の銅箔をエッチング
除去して、最小ライン/スペース=70μm/70μm
の内層回路を形成し、内層回路板を作製した。
EXAMPLES Example 1 (Steps a1 and b for Producing an Inner Circuit Board)
mm, a copper foil 18 μm thick glass cloth-epoxy resin impregnated double-sided copper-clad laminate MCL-679 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), and a dry film HK-
Using 450 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name), a resist pattern for plating was formed, and then electro-copper plating was performed so that the thickness of the copper layer was reduced to 35 μm only at the planned lands. Then, etching resist film HK-425
(Made by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name)
A photomask is overlaid, irradiated with ultraviolet light, developed to form an etching resist, and unnecessary portions of the copper foil are removed by etching. Minimum line / space = 70 μm / 70 μm
Was formed to produce an inner circuit board.

【0016】(工程c)厚さ18μmの銅箔の片面に7
0μmのエポキシ系接着剤層を設けた、MCF−600
0E(日立化成工業株式会社製、商品名)を用い、接着
層の表面に厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート
フィルムをロールラミネーターで貼り合わせた接着層付
金属箔の接着層の側から、炭酸ガスインパクトレーザー
孔あけ機L−500(住友重機械工業株式会社製、商品
名)により、周波数=150Hz、電圧=20kV、パ
ルスエネルギー=85mJ、ショツト数=7ショットの
条件で、レーザー光を照射し、層間接続をとる部分の樹
脂を取り除き、銅箔まで届く直径0.15mmの穴をあ
けた。穴をあけた接着層付金属箔に、導電性ペーストN
F2000(タツタ電線株式会社製、商品名)をポリエ
チレンテレフタレートフィルム面上からスクリーン印刷
法によって充填した。この導電性ペーストを充填した接
着層付金属箔を、110℃で15分加熱した。さらに、
ポリエチレンテレフタレートフィルムを引き剥がした。
(Step c) A copper foil having a thickness of 18 μm
MCF-600 provided with a 0 μm epoxy adhesive layer
0E (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), a carbon dioxide impact laser was applied from the side of the adhesive layer of the metal foil with the adhesive layer in which a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film was adhered to the surface of the adhesive layer with a roll laminator. Laser light is irradiated by a drilling machine L-500 (trade name, manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) under the conditions of frequency = 150 Hz, voltage = 20 kV, pulse energy = 85 mJ, number of shots = 7 shots, and interlayer connection is performed. The resin was removed from the portion to be removed, and a hole having a diameter of 0.15 mm reaching the copper foil was formed. A conductive paste N is applied to the perforated metal foil with adhesive layer.
F2000 (trade name, manufactured by Tatsuta Electric Wire Co., Ltd.) was filled from above the surface of the polyethylene terephthalate film by a screen printing method. The metal foil with an adhesive layer filled with the conductive paste was heated at 110 ° C. for 15 minutes. further,
The polyethylene terephthalate film was peeled off.

【0017】(工程d)接着層付金属箔を内層回路板に
重ね、圧力2.94MPa、温度175℃、90分の条
件で積層一体化し、積層体を得た。
(Step d) A metal foil with an adhesive layer was laminated on the inner circuit board, and laminated and integrated under the conditions of a pressure of 2.94 MPa, a temperature of 175 ° C. and 90 minutes to obtain a laminate.

【0018】(工程e)積層体の両面に、エッチングレ
ジストフィルムHK−425(日立化成工業株式会社
製、商品名)をラミネートし、フォトマスクを重ね、紫
外線を照射し、現像してエッチングレジストを形成し、
不要な銅をエッチング除去して外層回路を形成し、プリ
ント配線板を作製した。
(Step e) An etching resist film HK-425 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is laminated on both sides of the laminate, a photomask is overlaid, ultraviolet rays are irradiated and developed, and the etching resist is developed. Forming
Unnecessary copper was removed by etching to form an outer layer circuit, and a printed wiring board was manufactured.

【0019】実施例2 (内層回路板の作製工程a1、b)基材の厚さが0.6
mm、銅箔の厚さ35μmのガラス布−エポキシ樹脂含
浸両面銅張積層板であるMCL−679(日立化成工業
株式会社製、商品名)を使用し、続いて、ランド予定部
のみエッチングレジストを形成し、SE−07液(三菱
ガス化学株式会社、商品名)を用い、銅厚みが15〜2
0μmになるように銅をエッチングした。続いて、エッ
チングレジストフィルムHK−425(日立化成工業株
式会社製、商品名)をラミネートし、フォトマスクを重
ね、紫外線を照射し、現像してエッチングレジストを形
成し、不要な箇所の銅箔をエッチング除去して、最小ラ
イン/スペース=70μm/70μmの内層回路を形成
し、内層回路板を作製した。(工程c)、(工程d)、
(工程e)は実施例1と同様に行いプリント配線板を作
製した。
Example 2 (Steps a1 and b for Producing an Inner-Layer Circuit Board)
MCL-679 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), a glass cloth-epoxy resin impregnated double-sided copper-clad laminate with a thickness of 35 mm and a copper foil thickness of 35 μm, and then etching resist was applied only to the planned land portions Formed, using SE-07 liquid (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name), copper thickness 15 ~ 2
The copper was etched to 0 μm. Subsequently, an etching resist film HK-425 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is laminated, a photomask is superimposed, ultraviolet irradiation is performed, and development is performed to form an etching resist. By etching away, an inner layer circuit having a minimum line / space of 70 μm / 70 μm was formed, and an inner layer circuit board was manufactured. (Step c), (Step d),
(Step e) was performed in the same manner as in Example 1 to produce a printed wiring board.

【0020】比較例1 (内層回路板の作製工程a、b)基材の厚さが0.6m
m、銅箔の厚さ35μmのガラス布−エポキシ樹脂含浸
両面銅張積層板であるMCL−679(日立化成工業株
式会社製、商品名)を使用した。SE−07液(三菱ガ
ス化学株式会社、商品名)を用い、ランド予定部を除き
銅を薄くするように銅をエッチングする以外は、実施例
2と同様の方法により、最小ライン/スペース=70μ
m/70μmの内層回路を形成し、内層回路板を作製し
た。(工程c)、(工程d)、(工程e)は実施例1と
同様に行いプリント配線板を作製した。
Comparative Example 1 (Steps a and b for Producing an Inner-Layer Circuit Board)
m, MCL-679 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) which is a double-sided copper-clad laminate impregnated with a glass cloth having a copper foil thickness of 35 μm. Minimum line / space = 70 μm by the same method as in Example 2 except that the copper is etched so as to reduce the thickness of the copper except for the planned land using SE-07 liquid (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name).
An inner layer circuit of m / 70 μm was formed, and an inner layer circuit board was produced. (Step c), (Step d), and (Step e) were performed in the same manner as in Example 1 to produce a printed wiring board.

【0021】比較例2 (内層回路板の作製工程a1、b)基材の厚さが0.6
mm、銅箔の厚さ18μmのガラス布−エポキシ樹脂含
浸両面銅張積層板であるMCL−679(日立化成工業
株式会社製、商品名)を使用した。めっき用レジストパ
ターンを形成し、電気銅めっきを行い、ランド予定部の
み銅層を厚くする以外は、実施例1と同様の方法によ
り、最小ライン/スペース=70μm/70μmの内層
回路を形成し、内層回路板を作製した。(工程c)、
(工程d)、(工程e)は実施例1と同様に行いプリン
ト配線板を作製した。
Comparative Example 2 (Steps a1 and b for Producing Inner Circuit Board)
MCL-679 (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), a glass cloth-epoxy resin-impregnated double-sided copper-clad laminate having a thickness of 18 mm and a copper foil thickness of 18 μm, was used. An inner layer circuit having a minimum line / space = 70 μm / 70 μm was formed in the same manner as in Example 1 except that a resist pattern for plating was formed, electrolytic copper plating was performed, and the copper layer was thickened only at the planned land portion. An inner circuit board was produced. (Step c),
(Step d) and (Step e) were performed in the same manner as in Example 1 to produce a printed wiring board.

【0022】これらの実施例及び比較例のプリント配線
板の内層回路板の外観検査を行い、回路不良率を求めた
(不良内容:ショート、回路幅小など)。またこれらプ
リント配線板の導通抵抗は、400ケのビアをシリーズ
に接続した状態で有り、これの初期値を測定し、さらに
ホットオイル試験として、常温と260℃の液槽中に1
0秒ずつ200回浸漬した場合の抵抗値を測定し、試験
後の抵抗値の変化率を求めた。結果を表2に示す。
The appearance of the inner layer circuit boards of the printed wiring boards of these examples and comparative examples was inspected to determine the circuit failure rate (details of failure: short circuit, small circuit width, etc.). Further, the conduction resistance of these printed wiring boards is a state in which 400 vias are connected in series, and the initial value of these is measured.
The resistance value when immersed 200 times at 0 seconds was measured, and the rate of change of the resistance value after the test was determined. Table 2 shows the results.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】表に示したように、実施例1及び実施例2
とも、回路不良率は0%であり、また抵抗値の変化率も
5%以下である等、特性は良好であった。
As shown in the table, Examples 1 and 2
In both cases, the circuit failure rate was 0%, and the change rate of the resistance value was 5% or less, and the characteristics were good.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明によっ
て、高密度で信頼性に優れた、導電性ペーストによる層
間の接続をしたプリント配線板と、そのようなプリント
配線板を効率良く製造する方法を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention, a printed wiring board having a high-density and excellent reliability, in which layers are connected by a conductive paste, and a method for efficiently manufacturing such a printed wiring board. Can be provided.

フロントページの続き Fターム(参考) 5E317 AA24 CC22 CC25 CC53 GG11 5E343 AA02 AA12 BB08 BB14 BB24 BB67 EE52 EE58 ER11 ER51 GG13 5E346 AA12 AA15 AA43 BB01 BB15 BB16 CC31 CC32 CC58 EE02 EE06 FF18 FF35 GG15 GG22 GG28 HH07 Continued on the front page F term (reference) 5E317 AA24 CC22 CC25 CC53 GG11 5E343 AA02 AA12 BB08 BB14 BB24 BB67 EE52 EE58 ER11 ER51 GG13 5E346 AA12 AA15 AA43 BB01 BB15 BB16 CC31 CC32 CC58 EE02 GG22 GG18 GG02 GG18

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】導体層間の接続を導電性ペーストで行うプ
リント配線板において、導電性ペーストが充填されたビ
アホールに対応する内層板のランド厚みが、それ以外の
回路導体より5μm以上厚いことを特徴とするプリント
配線板。
1. A printed wiring board for connecting between conductive layers using a conductive paste, wherein a land thickness of an inner layer plate corresponding to a via hole filled with the conductive paste is at least 5 μm thicker than other circuit conductors. And printed wiring board.
【請求項2】以下の工程を有することを特徴とするプリ
ント配線板の製造法。 (a)内層回路板のランド予定部以外の金属箔を5μm
以上薄くする工程 (b)金属箔を加工して導体パターンを形成する工程 (c)接着層付金属箔の所望の箇所に、接着層側から金
属箔に達する穴をあけ、その穴に導電性ペーストを充填
する工程 (d)内層回路板の表面に導電性ペーストを埋めた接着
層付金属箔を、金属箔が外側になるようにして重ね、加
圧・加熱して積層一体化する工程 (e)外側の金属箔を加工して導体パターンを形成する
工程
2. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising the following steps. (A) 5 μm of metal foil other than the planned land portion of the inner layer circuit board
(B) Step of processing a metal foil to form a conductor pattern (c) Drilling a hole reaching the metal foil from the adhesive layer side at a desired location of the metal foil with an adhesive layer, Step of filling paste (d) Step of stacking a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of the inner circuit board so that the metal foil is on the outside, and pressing and heating to laminate and integrate ( e) a step of processing the outer metal foil to form a conductor pattern
【請求項3】以下の工程を有することを特徴とするプリ
ント配線板の製造法。 (a1)内層回路板のランド予定部の金属箔のみを5μ
m以上厚くする工程 (b)金属箔を加工して導体パターンを形成する工程 (c)接着層付金属箔の所望の箇所に、接着層側から金
属箔に達する穴をあけ、その穴に導電性ペーストを充填
する工程 (d)内層回路板の表面に導電性ペーストを埋めた接着
層付金属箔を、金属箔が外側になるようにして重ね、加
圧・加熱して積層一体化する工程 (e)外側の金属箔を加工して導体パターンを形成する
工程
3. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising the following steps. (A1) 5 μm of only the metal foil at the planned land portion of the inner layer circuit board
(b) Step of forming a conductive pattern by processing a metal foil (c) Drilling a hole reaching the metal foil from the adhesive layer side at a desired position of the metal foil with an adhesive layer, and conducting the conductive hole in the hole (D) a step of stacking a metal foil with an adhesive layer filled with a conductive paste on the surface of an inner circuit board so that the metal foil is on the outside, and pressing and heating to laminate and integrate (E) forming a conductor pattern by processing the outer metal foil;
【請求項4】工程(d)で作製したプリント配線板を工
程(a)または(a1)の内層回路板として用いること
を特徴とする請求項2または3に記載のプリント配線板
の製造法。
4. The method for producing a printed wiring board according to claim 2, wherein the printed wiring board produced in the step (d) is used as an inner layer circuit board in the step (a) or (a1).
JP36885899A 1999-12-27 1999-12-27 Printed wiring board and producing method therefor Pending JP2001185844A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36885899A JP2001185844A (en) 1999-12-27 1999-12-27 Printed wiring board and producing method therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36885899A JP2001185844A (en) 1999-12-27 1999-12-27 Printed wiring board and producing method therefor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001185844A true JP2001185844A (en) 2001-07-06

Family

ID=18492941

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP36885899A Pending JP2001185844A (en) 1999-12-27 1999-12-27 Printed wiring board and producing method therefor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001185844A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6195882B1 (en) Method for producing printed wiring boards
KR100701353B1 (en) Multi-layer printed circuit board and manufacturing method thereof
JP2002232135A (en) Double-sided circuit board for lamination and its manufacturing method, and multilayer printed circuit board using the same
WO2001045478A1 (en) Multilayered printed wiring board and production method therefor
US7059039B2 (en) Method for producing printed wiring boards
US8076589B2 (en) Multilayer wiring board and its manufacturing method
JPH1013028A (en) Single-sides circuit board for multilayered printed wiring board and multilayered printed wiring board and its manufacture
KR20100002664A (en) Metal clad laminate and manufacturing method thereof
JPH1117341A (en) Frinted multilayer wiring board
WO2002056655A1 (en) Circuit board and production method therefor
JP3582704B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP3173249B2 (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP3253886B2 (en) Single-sided circuit board for multilayer printed wiring board, method for manufacturing the same, and multilayer printed wiring board
JP2001185844A (en) Printed wiring board and producing method therefor
JP3238901B2 (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP2002280741A (en) Multilayer printed wiring board and its manufacturing method
JP4429712B2 (en) Manufacturing method of substrate precursor
JP2005045008A (en) Multilayer body and its producing process
JP2001358465A (en) Multilayer printed-wiring board and its manufacturing method
JP4492071B2 (en) Wiring board manufacturing method
JPH11126968A (en) Manufacture of multilayered printed wiring board
JP2004022873A (en) Multilayer printed wiring board and its manufacturing method
JP2002280742A (en) Multilayer printed wiring board and its manufacturing method
JP2006147748A (en) Multilayered printed wiring board and its manufacturing method
JP2009290233A (en) Wiring substrate and method for manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061130

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090624

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090702

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20091105