JP2001177899A - Manufacturing method for vibration film for electrostatic type electroacoustic transducer element, the vibrating film and electrostatic type electroacoustic transducer element provided with the vibration film - Google Patents

Manufacturing method for vibration film for electrostatic type electroacoustic transducer element, the vibrating film and electrostatic type electroacoustic transducer element provided with the vibration film

Info

Publication number
JP2001177899A
JP2001177899A JP36063799A JP36063799A JP2001177899A JP 2001177899 A JP2001177899 A JP 2001177899A JP 36063799 A JP36063799 A JP 36063799A JP 36063799 A JP36063799 A JP 36063799A JP 2001177899 A JP2001177899 A JP 2001177899A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
metal material
electroacoustic transducer
thin film
vibrating membrane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP36063799A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3545982B2 (en
Inventor
Yoshiaki Obayashi
義昭 大林
Mamoru Yasuda
護 安田
Yasuo Sugimori
康雄 杉森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hosiden Corp
Original Assignee
Hosiden Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hosiden Corp filed Critical Hosiden Corp
Priority to JP36063799A priority Critical patent/JP3545982B2/en
Publication of JP2001177899A publication Critical patent/JP2001177899A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3545982B2 publication Critical patent/JP3545982B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a vibrating film for an electrostatic type electroacoustic transducer element with high productivity where the vibrating film with excellent heat resistance is formed at once with an electret material film and to provide the vibrating film and the electrostatic type electroacoustic transducer element provided with the vibrating film. SOLUTION: A nickel thin film 12 is formed to one side of a metallic material base 11, an electret material coating film 31 is formed on the surface of the nickel thin film 12, a partial region 131 on the other side of the metallic material base 11 is removed by etching to expose the nickel thin film 12, a vibration film ring 15 is joined to the exposed nickel thin film 12, and the metallic material base 11 is punched along the outer circumferential face of the vibration film ring 15 in the manufacturing method of the vibration film for the electrostatic type electroacoustic transducer element.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、静電型電気音響
変換素子用振動膜の製造方法、振動膜およびこの振動膜
を具備する静電型電気音響変換素子に関し、特に、耐熱
性に優れる振動膜をエレクトレット化材料被膜と共に一
挙に形成する生産性の高い静電型電気音響変換素子用振
動膜の製造方法、振動膜およびこの振動膜を具備する静
電型電気音響変換素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer, a vibrating membrane and an electrostatic electroacoustic transducer provided with the vibrating membrane, and more particularly to a vibration excellent in heat resistance. The present invention relates to a method of manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer with high productivity in which a film is formed at once with an electretized material film, a vibrating membrane, and an electrostatic electroacoustic transducer including the vibrating membrane.

【0002】[0002]

【従来の技術】この発明の先行例を図6を参照して説明
する。図6(a)を参照するに、アルミニウム薄板母材
1を母材としてその表面の内のニッケル薄膜が形成され
るべき領域以外の領域にマスク2を形成する。マスク2
の材料としては、振動膜を構成する金属材料がメッキさ
れない材料が選定される。
2. Description of the Related Art A prior art example of the present invention will be described with reference to FIG. Referring to FIG. 6A, a mask 2 is formed in a region other than a region where a nickel thin film is to be formed on the surface of the aluminum thin plate base material 1 as a base material. Mask 2
Is selected as a material from which the metal material constituting the vibration film is not plated.

【0003】図6(b)を参照するに、アルミニウム薄
板母材1のマスク2が形成されない表面に、メッキ技術
を適用してニッケル薄膜3を成膜する。図6(c)を参
照するに、アルミニウム薄板母材1の表面に成膜された
ニッケル薄膜3に対応する領域のアルミニウム薄板母材
1を、マスク2’を形成してエッチング除去する。これ
によりニッケル薄膜3の下面を露出させる。ここで、金
属材料リング15の上端面に接着剤を塗布したものを別
途準備しておき、これを接着剤を塗布した上端面を上に
してアルミニウム薄板母材1のエッチング除去された領
域4に挿入し、ニッケル薄膜3の露出した下面に接合す
る。金属材料リングの構成材料は、熱膨張率が振動膜1
6’を構成する金属材料の熱膨張率に近似する金属材料
が選定される。振動膜16’を構成する金属材料がニッ
ケルである場合、ニッケルの他にステンレス鋼SUS4
30を金属材料リング15の構成材料として選定する。
次いで、金属材料リング15に接合するニッケル薄膜3
のリング外周縁部を打ち抜いて、金属材料リング15を
ニッケル薄膜3の支持リングとする振動膜16が構成さ
れる(詳細は、当該特許出願人の出願に関わる特願平1
1−262076号公報 参照)。
Referring to FIG. 6B, a nickel thin film 3 is formed on the surface of the thin aluminum base material 1 on which the mask 2 is not formed by applying a plating technique. Referring to FIG. 6 (c), a mask 2 'is formed on the aluminum thin plate preform 1 in a region corresponding to the nickel thin film 3 formed on the surface of the aluminum thin plate preform 1, and is etched away. Thereby, the lower surface of the nickel thin film 3 is exposed. Here, an adhesive applied to the upper end surface of the metal material ring 15 is separately prepared, and this is placed on the etched-out region 4 of the aluminum thin plate preform 1 with the adhesive applied upper end face up. It is inserted and joined to the exposed lower surface of the nickel thin film 3. The constituent material of the metal material ring has a coefficient of thermal expansion of the vibrating membrane 1
A metal material that is close to the coefficient of thermal expansion of the metal material constituting 6 ′ is selected. When the metal material constituting the vibrating film 16 'is nickel, stainless steel SUS4
30 is selected as a constituent material of the metal material ring 15.
Next, the nickel thin film 3 bonded to the metal material ring 15
The vibrating membrane 16 is formed by punching out the outer peripheral edge of the ring to use the metal material ring 15 as a support ring for the nickel thin film 3 (for details, refer to Japanese Patent Application No. Hei 10 (1994) -207, filed by the present applicant).
See Japanese Patent Application Publication No. 1-262076).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ニッケル薄膜3より成
る耐熱性に優れる振動膜は、以上の先行例の工程によっ
ても構成することができる。しかし、先行例の工程は、
ニッケル薄膜3を成膜形成するに際してアルミニウム薄
板母材1のマスク工程を必要とする上に、アルミニウム
薄板母材1をエッチング除去して先のニッケル薄膜3を
露出するに際して更にアルミニウム薄板母材1のマスク
工程を必要とし、振動膜の製造工程を煩雑にしている。
The vibrating membrane made of the nickel thin film 3 and having excellent heat resistance can also be formed by the above-mentioned prior art steps. However, the process of the prior example is
When the nickel thin film 3 is formed, a masking process of the aluminum thin plate preform 1 is required. In addition, when the aluminum thin plate preform 1 is removed by etching to expose the preceding nickel thin film 3, A masking process is required, which complicates the manufacturing process of the vibrating membrane.

【0005】この発明は、ニッケル薄膜3より成る耐熱
性に優れる振動膜をエレクトレット化材料被膜と共に一
挙に形成する上述の問題を解消した、生産性の高い静電
型電気音響変換素子用振動膜の製造方法、振動膜および
この振動膜を具備する静電型電気音響変換素子を提供す
るものである。
According to the present invention, there is provided a vibrating membrane for an electrostatic electro-acoustic transducer having high productivity, which solves the above-mentioned problem of forming a vibrating membrane made of a nickel thin film 3 having excellent heat resistance together with an electretized material film. An object of the present invention is to provide a manufacturing method, a vibration film, and an electrostatic electroacoustic transducer having the vibration film.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1:金属材料基板
11の一方の表面にニッケル薄膜12を成膜形成し、ニ
ッケル薄膜12の表面にエレクトレット化材料被膜31
を成膜形成し、金属材料基板11の他方の表面の部分領
域131をエッチング除去してニッケル薄膜12を露出
し、露出したニッケル薄膜12に振動膜リング15を接
合し、振動膜リング15の外周面に沿って金属材料基板
11を打ち抜く静電型電気音響変換素子用振動膜の製造
方法を構成した。
A nickel thin film is formed on one surface of a metal material substrate, and an electretized material film is formed on the surface of the nickel thin film.
Is formed, and the partial region 131 on the other surface of the metal material substrate 11 is removed by etching to expose the nickel thin film 12. The vibrating membrane ring 15 is joined to the exposed nickel thin film 12, and the outer periphery of the vibrating membrane ring 15 is formed. A method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer, in which a metal material substrate 11 is punched along a surface, is configured.

【0007】そして、請求項2:請求項1に記載される
静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法において、
金属材料基板11を金属材料基板ロール1から連続的に
引き出しながらその表面にニッケル薄膜12をメッキ
し、次いで、ニッケル薄膜12をメッキした金属材料基
板11をニッケルメッキ金属材料基板ロール1’から連
続的に引き出しながらニッケル薄膜12にエレクトレッ
ト化材料被膜31を成膜してエレクトレット化材料被膜
ニッケルメッキ金属材料基板14を形成する静電型電気
音響変換素子用振動膜の製造方法を構成した。
In a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer.
While continuously pulling out the metal material substrate 11 from the metal material substrate roll 1, the surface thereof is plated with a nickel thin film 12, and then the metal material substrate 11 on which the nickel thin film 12 is plated is continuously removed from the nickel-plated metal material substrate roll 1 ′. A method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer in which an electretized material coating 31 is formed on the nickel thin film 12 while being pulled out to form the electretized material-coated nickel-plated metal material substrate 14.

【0008】また、請求項3:請求項1に記載される静
電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法において、金
属材料基板11はアルミニウム基板より成る静電型電気
音響変換素子用振動膜の製造方法を構成した。更に、請
求項4:請求項1ないし請求項3の内の何れかに記載さ
れる静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法におい
て、エレクトレット化材料被膜はエレクトレット化材料
フィルムを接合し、或はエレクトレット化材料の溶液を
塗布、焼成し、或はエレクトレット化材料を蒸着して形
成する静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法を構
成した。
According to a third aspect of the present invention, in the method of manufacturing a vibration film for an electrostatic electroacoustic transducer, the metal material substrate 11 is formed of an aluminum substrate. Was constructed. Further, in the method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer according to any one of claims 1 to 3, the electretized material film is formed by joining the electretized material film; Alternatively, a method of manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer, which is formed by applying and firing a solution of an electretization material or vapor-depositing an electretization material.

【0009】また、請求項5:請求項1ないし請求項4
の内の何れかに記載される静電型電気音響変換素子用振
動膜の製造方法において、エレクトレット化材料は、テ
トラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重
合体、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂、アモルファ
ステフロン、酸化珪素の内から選択された何れかである
静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法を構成し
た。ここで、請求項6:請求項2ないし請求項5の内の
何れかに記載される静電型電気音響変換素子用振動膜の
製造方法において、エレクトレット化材料被膜ニッケル
メッキ金属材料基板14をそのロール10から連続的に
引き出しながら金属材料基板11の他方の表面の部分領
域131をエッチング除去し、振動膜リング15を接合
し、金属材料基板11を打ち抜く静電型電気音響変換素
子用振動膜の製造方法を構成した。
Claim 5: Claims 1 to 4
In the method of manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer described in any one of the above, the electretized material is a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, a perfluoroalkoxy fluororesin, amorphous Teflon, silicon oxide A method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electro-acoustic transducer, which is one selected from the above. Here, in the method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer according to claim 6, the electretized material-coated nickel-plated metal material substrate 14 is formed. While continuously pulling out from the roll 10, the partial region 131 on the other surface of the metal material substrate 11 is removed by etching, the vibration film ring 15 is joined, and the metal material substrate 11 is punched. The manufacturing method was configured.

【0010】そして、請求項7:一方の表面にニッケル
薄膜12を形成した金属材料基板11のニッケル薄膜1
2の表面にエレクトレット化材料被膜31を成膜形成
し、金属材料基板11の他方の表面の部分領域131を
除去して露出せしめたニッケル薄膜12に振動膜リング
15を接合し、振動膜リング15の外周面に沿って金属
材料基板11を打ち抜き構成した静電型電気音響変換素
子用振動膜を構成した。また、請求項8:請求項7に記
載される静電型電気音響変換素子用振動膜において、金
属材料基板11はアルミニウム基板より成る静電型電気
音響変換素子用振動膜を構成した。
[0010] Claim 7: The nickel thin film 1 of the metal material substrate 11 having the nickel thin film 12 formed on one surface.
The vibration film ring 15 is joined to the nickel thin film 12 which has been formed by forming an electretization material film 31 on the surface of the metal film substrate 2 and removing and exposing the partial region 131 on the other surface of the metal material substrate 11. A vibrating membrane for an electrostatic electro-acoustic transducer was formed by punching out a metal material substrate 11 along the outer peripheral surface of. Further, in the vibrating film for an electrostatic electroacoustic transducer according to claim 8, the metal material substrate 11 constitutes the vibrating film for an electrostatic electroacoustic transducer made of an aluminum substrate.

【0011】更に、請求項9:請求項7および請求項8
の内の何れかに記載される静電型電気音響変換素子用振
動膜において、エレクトレット化材料は、テトラフルオ
ロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ペル
フルオロアルコキシフッ素樹脂、アモルファステフロ
ン、酸化珪素の内から選択された何れかである静電型電
気音響変換素子用振動膜を構成した。また、請求項1
0:一方の表面にニッケル薄膜12を形成した金属材料
基板11のニッケル薄膜12の表面にエレクトレット化
材料被膜31を成膜形成し、金属材料基板11の他方の
表面の部分領域131を除去して露出せしめたニッケル
薄膜12に振動膜リング15を接合し、振動膜リング1
5の外周面に沿って金属材料基板11を打ち抜き構成し
た振動膜を具備する静電型電気音響変換素子を構成し
た。
Further, claim 9: claims 7 and 8
In the vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer described in any of the above, the electretized material is a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, a perfluoroalkoxy fluororesin, amorphous Teflon, or silicon oxide. A selected one of the vibrating films for the electrostatic electroacoustic transducer was formed. Claim 1
0: An electret material film 31 is formed on the surface of the nickel thin film 12 of the metal material substrate 11 having the nickel thin film 12 formed on one surface, and the partial region 131 on the other surface of the metal material substrate 11 is removed. The vibrating membrane ring 15 is joined to the exposed nickel thin film 12 and
An electrostatic electroacoustic transducer having a vibrating membrane formed by punching a metal material substrate 11 along the outer peripheral surface of No. 5 was constructed.

【0012】ここで、請求項11:請求項10に記載さ
れる静電型電気音響変換素子において、金属材料基板1
1はアルミニウム基板より成る静電型電気音響変換素子
を構成した。更に、請求項12:請求項10および請求
項11の内の何れかに記載される静電型電気音響変換素
子において、エレクトレット化材料はテトラフルオロエ
チレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ペルフル
オロアルコキシフッ素樹脂、アモルファステフロン、酸
化珪素の内から選択された何れかである静電型電気音響
変換素子を構成した。
Here, in the eleventh aspect, in the electrostatic electroacoustic transducer according to the tenth aspect, the metal material substrate 1
Numeral 1 constituted an electrostatic electroacoustic transducer made of an aluminum substrate. Claim 12: In the electrostatic electroacoustic transducer according to any one of claims 10 and 11, the electretized material is a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer or a perfluoroalkoxy fluororesin. , An amorphous electro-acoustic transducer selected from amorphous Teflon and silicon oxide.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】金属材料基板として、厚さ0. 1
mm程度のロール状アルミニウム基板の片面に電解或い
は無電解メッキ技術を採用して厚さ1. 0ないし2. 0
μm程度のニッケル薄膜を成膜形成し、ニッケル薄膜表
面に、エレクトレット化材料フィルムを連続溶着或いは
エレクトレット化材料の溶液を塗布して焼成し、或いは
酸化珪素をCVD法により連続形成し、次いでアルミニ
ウム基板を連続エッチングし、振動膜リングを熱硬化性
エポキシ系接着剤で接着し、外周を切断することにより
150℃に及ぶ高温に耐える高耐熱性のニッケル薄膜エ
レクトレット振動膜を製造する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A metal material substrate has a thickness of 0.1.
Electrolytic or electroless plating technology is applied to one side of a roll-shaped aluminum substrate having a thickness of about 1.0 mm to 1.0 to 2.0.
A nickel thin film having a thickness of about μm is formed, an electret material film is continuously deposited on the nickel thin film surface, or a solution of the electret material is applied and baked, or silicon oxide is continuously formed by a CVD method, and then an aluminum substrate is formed. Are continuously etched, the vibration film ring is bonded with a thermosetting epoxy-based adhesive, and the outer periphery is cut to produce a high heat-resistant nickel thin film electret vibration film withstanding a high temperature of 150 ° C.

【0014】[0014]

【実施例】この発明の実施例を図を参照して説明する。
図1を参照するに、金属材料基板としてアルミニウム基
板を使用する。1は原材料であるアルミニウム基板ロー
ルを示す。アルミニウム基板ロール1は、0.1mm程
度の厚さのアルミニウム基板11を500mないし10
0m捲回したものより成る。そして、アルミニウム基板
11の片面には、その全面にビニールテープを熱ローラ
で圧着し、全面マスクを行うか或いは化学処理して被膜
を形成する。ここで、アルミニウム基板11は、アルミ
ニウム基板ロール1から連続的に引き出されながらニッ
ケル無電解或いは電解メッキ槽2に導入され、ここにお
いてアルミニウム基板11の表面にニッケル薄膜12が
形成されるのであるが、このニッケル薄膜12はコーテ
ィングが施されていない面のみに形成され、コーティン
グが施されている面にはこのコーティングによりニッケ
ル薄膜12は形成されない。片面全面のみにニッケル薄
膜12が形成されたニッケルメッキアルミニウム基板1
3は捲き取られ、ニッケルメッキアルミニウム基板ロー
ル1’が構成される。なお、ニッケルメッキアルミニウ
ム基板ロール1’を捲き取るに先だって、アルミニウム
基板を捲き取りしながら、一方においてビニールテープ
を剥がして行くか或いは化学処理して被膜を取り除く処
理を実施して、先のコーティングを除去しておく。以上
の通りにして、純度99. 9%以上で膜厚が1μm程度
のニッケル薄膜12をピンホールなしに成膜しながら、
ニッケルメッキアルミニウム基板13を連続製造するこ
とができる。
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
Referring to FIG. 1, an aluminum substrate is used as a metal material substrate. Reference numeral 1 denotes an aluminum substrate roll as a raw material. The aluminum substrate roll 1 comprises an aluminum substrate 11 having a thickness of about
It is made of 0 m wound. Then, on one surface of the aluminum substrate 11, a vinyl tape is pressure-bonded to the entire surface with a heat roller, and an entire surface is masked or chemically treated to form a film. Here, the aluminum substrate 11 is introduced into the nickel electroless or electrolytic plating tank 2 while being continuously drawn from the aluminum substrate roll 1, and a nickel thin film 12 is formed on the surface of the aluminum substrate 11 here. The nickel thin film 12 is formed only on the uncoated surface, and the nickel thin film 12 is not formed on the coated surface by this coating. Nickel-plated aluminum substrate 1 having nickel thin film 12 formed only on one entire surface
3 is wound up to form a nickel-plated aluminum substrate roll 1 '. Prior to winding up the nickel-plated aluminum substrate roll 1 ′, while winding up the aluminum substrate, one of the vinyl tapes is peeled off or a chemical treatment is performed to remove the film, and the coating is performed. Remove it. As described above, the nickel thin film 12 having a purity of 99.9% or more and a film thickness of about 1 μm is formed without pinholes.
The nickel-plated aluminum substrate 13 can be manufactured continuously.

【0015】図2を参照するに、エレクトレット化材料
被膜の実施例としてFEPフィルムを使用する。3はF
EPフィルムロールを示す。FEPフィルムロール3か
ら引き出されるFEPフィルム31は、ニッケルメッキ
アルミニウム基板ロール1’から引き出されるニッケル
メッキアルミニウム基板13のニッケル薄膜12の形成
される面に重ねられ、この状態で溶着槽4に導入され、
ニッケルメッキアルミニウム基板13のニッケル薄膜1
2の面にFEPフィルム31が溶着され、FEPフィル
ム被膜ニッケルメッキアルミニウム基板14が形成され
る。FEPフィルム被膜ニッケルメッキアルミニウム基
板14は捲き取られ、FEPフィルム被膜ニッケルメッ
キアルミニウム基板ロール10を構成する。
Referring to FIG. 2, an FEP film is used as an example of an electretized material coating. 3 is F
3 shows an EP film roll. The FEP film 31 drawn from the FEP film roll 3 is superimposed on the surface of the nickel-plated aluminum substrate 13 drawn from the nickel-plated aluminum substrate roll 1 ′ on which the nickel thin film 12 is formed, and is introduced into the welding tank 4 in this state.
Nickel thin film 1 on nickel-plated aluminum substrate 13
The FEP film 31 is welded to the second surface to form the FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate 14. The FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate 14 is wound up to constitute the FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate roll 10.

【0016】以上の実施例においては、ニッケルメッキ
アルミニウム基板13のFEPフィルム被膜はFEPフ
ィルム31を直接溶着することにより形成されたが、ニ
ッケルメッキアルミニウム基板13の表面にFEP溶液
をスプレイしてFEP層を形成し、これを加熱してFE
Pフィルム被膜31を形成することができる。以下、図
3を参照して説明するに、タンク32にはFEP溶液3
3が充填されている。このFEP溶液33は、ニッケル
メッキアルミニウム基板ロール1’から引き出されるア
ルミニウム基板13のニッケル薄膜12の形成される面
にスプレイされる。FEP溶液をスプレイされたニッケ
ル薄膜12は、次いで、焼成炉4’に導入され、ニッケ
ルメッキアルミニウム基板13のニッケル薄膜12の面
にFEPコート31’が形成されながら、基板ロール1
0に捲き取られる。
In the above embodiment, the FEP film coating on the nickel-plated aluminum substrate 13 was formed by directly fusing the FEP film 31, but the FEP layer was sprayed on the surface of the nickel-plated aluminum substrate 13 by spraying the FEP solution. Is formed and heated to form FE
The P film coating 31 can be formed. Hereinafter, referring to FIG. 3, the FEP solution 3
3 are filled. The FEP solution 33 is sprayed on the surface of the aluminum substrate 13 on which the nickel thin film 12 is formed, which is drawn from the nickel-plated aluminum substrate roll 1 '. The nickel thin film 12 sprayed with the FEP solution is then introduced into a firing furnace 4 ′, and the FEP coat 31 ′ is formed on the surface of the nickel thin film 12 of the nickel-plated aluminum substrate 13 while the substrate roll 1 is formed.
Rolled up to 0.

【0017】ここで、エレクトレット化高分子材料とし
て、FEPの他にPFA(ペルフルオロアルコキシフッ
素樹脂)、AF(アモルファステフロン)を使用するこ
とができる。更に、無機質材料であるSiO2 (酸化珪
素)をCVD法によりエレクトレット材料薄膜として成
膜する。図4を参照するに、FEPフィルム被膜ニッケ
ルメッキアルミニウム基板14は、ロール10から引き
出され、エッチング槽5に導入され、更に、乾燥炉6、
プレス7を介して基板捲き取りロール100に捲き取ら
れる。
Here, as the electretized polymer material, PFA (perfluoroalkoxy fluororesin) and AF (amorphous Teflon) can be used in addition to FEP. Further, SiO 2 (silicon oxide), which is an inorganic material, is formed as a thin film of an electret material by a CVD method. Referring to FIG. 4, the FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate 14 is pulled out from the roll 10, introduced into the etching bath 5, and further dried.
The substrate is taken up by a substrate take-up roll 100 via a press 7.

【0018】以下、図5をも参照して詳細に説明する
に、図5(a)において、ロール10はFEPフィルム
被膜ニッケルメッキアルミニウム基板14をそのFEP
フィルム被膜面を下側にして送り出している。即ち、ロ
ール10から送り出されるFEPフィルム被膜ニッケル
メッキアルミニウム基板14の上側は、ニッケル薄膜1
2およびFEPフィルム31が形成されないアルミニウ
ム基板13そのものより成る。
Referring to FIG. 5 in detail, in FIG. 5A, the roll 10 is a FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate
The film is fed with the film coating side down. That is, the upper side of the FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate 14 sent out from the roll 10 is the nickel thin film 1
2 and the aluminum substrate 13 on which the FEP film 31 is not formed.

【0019】(工程1)このFEPフィルム被膜ニッケ
ルメッキアルミニウム基板14をエッチング槽5に導入
するに先だって、この基板14の表面、即ち、アルミニ
ウム基板13の表面に、円形領域131を除いてマスク
8を施す。具体的には、マスクの無いアルミニウム基板
14表面に化学処理を施して被膜を形成する。 (工程2)アルミニウム基板13の表面の円形領域13
1を除いた領域にマスク8を施したFEPフィルム被膜
ニッケルメッキアルミニウム基板14はエッチング槽5
に導入され、エッチングを施される。このエッチングに
より、マスク8の施されていないアルミニウム基板13
表面の円形領域131からアルミニウム基板13のエッ
チングが進行し、アルミニウム基板13がエッチング除
去されて、次のニッケル薄膜12の表面が露出するエッ
チング凹部131’が形成される。ニッケル薄膜12の
表面が露出した状態は、基板14がエッチング槽5から
引き出された図5(b)の左方に示される通りである。
(Step 1) Prior to introducing the FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate 14 into the etching bath 5, a mask 8 is formed on the surface of the substrate 14, that is, the surface of the aluminum substrate 13 except for the circular region 131. Apply. Specifically, a film is formed by performing a chemical treatment on the surface of the aluminum substrate 14 without a mask. (Step 2) Circular area 13 on the surface of aluminum substrate 13
The FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate 14 provided with a mask 8 in the region except
And etched. By this etching, the aluminum substrate 13 on which the mask 8 is not applied is formed.
The etching of the aluminum substrate 13 proceeds from the circular region 131 on the surface, the aluminum substrate 13 is etched away, and an etching recess 131 ′ exposing the surface of the next nickel thin film 12 is formed. The state where the surface of the nickel thin film 12 is exposed is as shown on the left side of FIG. 5B in which the substrate 14 is pulled out from the etching bath 5.

【0020】(工程3)ここで、金属材料リング15
を、別途、準備しておく。金属材料リング15の構成材
料は、熱膨張率が振動膜を構成する金属材料の熱膨張率
に近似する金属材料から選定される。振動膜を構成する
金属材料がニッケルである場合、ニッケルの他にステン
レス鋼SUS430を金属材料リングの構成材料として
選定する。図5(b)を参照するに、金属材料リング1
5は、その下端面に接着剤を塗布しておき、接着剤を塗
布した下端面を下にしてアルミニウム基板14が除去形
成されたエッチング凹部131’に挿入し、ニッケル薄
膜12の露出表面に接合する。
(Step 3) Here, the metal material ring 15
Are prepared separately. The constituent material of the metal material ring 15 is selected from metal materials whose coefficient of thermal expansion is close to the coefficient of thermal expansion of the metal material forming the vibrating membrane. When the metal material forming the vibrating membrane is nickel, stainless steel SUS430 is selected as a constituent material of the metal material ring in addition to nickel. Referring to FIG. 5B, the metal material ring 1
5 is a method in which an adhesive is applied to the lower end surface of the nickel thin film 12, and the lower end surface with the adhesive applied is inserted into the etching recess 131 ′ where the aluminum substrate 14 is formed by removing the aluminum substrate 14. I do.

【0021】(工程4)金属材料リング15がニッケル
薄膜12の露出表面に接合せしめられた状態のアルミニ
ウム基板14は、次いで、乾燥炉6に導入される。 (工程5)乾燥炉6において、金属材料リング15に塗
布した接着剤が乾燥し、金属材料リング15とニッケル
薄膜12が完全に接合したところで、プレス7を操作し
て上金型のリング抜き71を金属材料リング15の外周
面に沿い下向きに駆動し、FEPフィルム被膜ニッケル
メッキアルミニウム基板14を打ち抜く。これにより、
金属材料リング15を支持リングとするニッケル薄膜エ
レクトレット振動膜が構成される。図5(c)はニッケ
ル薄膜エレクトレット振動膜の断面を示す図である。
(Step 4) The aluminum substrate 14 with the metal material ring 15 bonded to the exposed surface of the nickel thin film 12 is then introduced into the drying furnace 6. (Step 5) In the drying furnace 6, when the adhesive applied to the metal material ring 15 is dried and the metal material ring 15 and the nickel thin film 12 are completely bonded, the press 7 is operated to remove the upper mold ring 71. Is driven downward along the outer peripheral surface of the metal material ring 15, and the FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate 14 is punched. This allows
A nickel thin film electret vibration film having the metal material ring 15 as a support ring is formed. FIG. 5C is a diagram showing a cross section of the nickel thin film electret vibration film.

【0022】ここで、図5(c)のニッケル薄膜エレク
トレット振動膜にアルミニウム基板11は存在しない。
しかし、上金型のリング抜き71の直径は金属材料リン
グ15の外径より極く僅かに大きく構成されているの
で、この打ち抜きに際して、金属材料リング15の下部
外周縁部には必ずアルミニウム基板11の痕跡が付着残
存し、このニッケル薄膜エレクトレット振動膜が以上の
工程により製造されたものであることが判別される。
Here, the aluminum substrate 11 does not exist in the nickel thin film electret vibration film of FIG. 5C.
However, since the diameter of the ring punch 71 of the upper mold is configured to be very slightly larger than the outer diameter of the metal material ring 15, the aluminum substrate 11 must be provided on the lower outer peripheral edge of the metal material ring 15 in this punching. Traces remain, and it is determined that this nickel thin film electret vibration film was manufactured by the above-described steps.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上の通りであって、この発明は、金属
材料基板の一方の表面にニッケル薄膜を成膜形成し、ニ
ッケル薄膜の表面にエレクトレット化材料被膜を成膜形
成し、金属材料基板の他方の表面の部分領域をエッチン
グ除去してニッケル薄膜を露出し、露出したニッケル薄
膜に振動膜リングを接合し、振動膜リングの外周面に沿
って金属材料基板を打ち抜いて静電型電気音響変換素子
用の振動膜を構成する。
As described above, according to the present invention, a nickel thin film is formed on one surface of a metal material substrate, and an electretized material film is formed on the surface of the nickel thin film. Etching and removing a partial area of the other surface of the above, exposing the nickel thin film, joining the vibrating membrane ring to the exposed nickel thin film, and punching out a metal material substrate along the outer peripheral surface of the vibrating membrane ring to form an electrostatic electroacoustic A vibration film for a conversion element is formed.

【0024】これにより、静電型電気音響変換素子用の
振動膜を厚さ1ないし2μmという比較的に厚いニッケ
ル薄膜により構成することができる。従って、この膜厚
の範囲内において振動膜の厚さを調整設計することによ
り、振動膜の共振周波数を高く設定することができ、広
帯域の周波数特性の静電型電気音響変換素子を設計構成
することができる。そして、振動膜がニッケル薄膜より
成るところから、この振動膜は耐熱性に優れている。振
動膜の耐熱性が高まったことにより、この振動薄膜を使
用して構成された静電型電気音響変換素子を回路基板に
対して取り付け組み立てるに際してリフロー半田付け製
造工程を採用することができるに到り、その結果、品質
性能の向上した、生産性の高い、廉価な静電型電気音響
変換装置を提供することができる。
Thus, the vibrating membrane for the electrostatic electroacoustic transducer can be made of a relatively thick nickel thin film having a thickness of 1 to 2 μm. Therefore, by adjusting and designing the thickness of the vibrating film within the range of the film thickness, the resonance frequency of the vibrating film can be set high, and an electrostatic electroacoustic transducer having a wide frequency characteristic can be designed and configured. be able to. Since the vibration film is formed of a nickel thin film, the vibration film has excellent heat resistance. Due to the increased heat resistance of the vibrating membrane, a reflow soldering manufacturing process can be adopted when mounting and assembling an electrostatic electroacoustic transducer configured using the vibrating thin film on a circuit board. As a result, it is possible to provide an inexpensive electrostatic electroacoustic transducer with improved quality performance, high productivity, and low cost.

【0025】また、振動膜の耐熱性が高まったことによ
り、エレクトレット材料薄膜として無機質材料である酸
化珪素をCVD法によりニッケル薄膜に成膜することが
できる。これにより、静電型電気音響変換素子を更に高
耐熱化することができる。
In addition, since the heat resistance of the vibrating film is increased, silicon oxide, which is an inorganic material, can be formed on the nickel thin film by the CVD method as the electret material thin film. This makes it possible to further increase the heat resistance of the electrostatic electroacoustic transducer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】金属材料基板にニッケル薄膜を形成する仕方を
説明する図。
FIG. 1 is a view for explaining a method of forming a nickel thin film on a metal material substrate.

【図2】ニッケル薄膜にエレクトレット化材料被膜を形
成する仕方を説明する図。
FIG. 2 is a view for explaining a method of forming an electretized material film on a nickel thin film.

【図3】アルミニウム基板の表面にFEP溶液をスプレ
イしてFEP層を形成する仕方を説明する図。
FIG. 3 is a view for explaining a method of forming a FEP layer by spraying a FEP solution on a surface of an aluminum substrate.

【図4】振動膜を構成する仕方を説明する図。FIG. 4 is a diagram illustrating a method of forming a vibrating membrane.

【図5】図4の詳細を説明する図。FIG. 5 is a diagram illustrating details of FIG. 4;

【図6】先行例を説明する図。FIG. 6 is a diagram illustrating a preceding example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アルミニウム基板ロール 1’ニッケルメッキアルミニウム基板ロール 10 FEPフィルム被膜ニッケルメッキアルミニウム
基板ロール 100 基板捲き取りロール 11 アルミニウム基板 12 ニッケル薄膜 13 ニッケルメッキアルミニウム基板 131 円形領域 131’エッチング凹部 14 FEPフィルム被膜ニッケルメッキアルミニウム
基板 15 金属材料リング 2 ニッケル無電解メッキ槽 3 FEPフィルムロール 31 FEPフィルム 4 溶着槽 5 エッチング槽 6 乾燥炉 7 プレス 8 マスク
Reference Signs List 1 aluminum substrate roll 1 'nickel-plated aluminum substrate roll 10 FEP film-coated nickel-plated aluminum substrate roll 100 substrate take-up roll 11 aluminum substrate 12 nickel thin film 13 nickel-plated aluminum substrate 131 circular region 131' etched recess 14 FEP film-coated nickel-plated aluminum Substrate 15 Metal material ring 2 Nickel electroless plating tank 3 FEP film roll 31 FEP film 4 Welding tank 5 Etching tank 6 Drying furnace 7 Press 8 Mask

フロントページの続き (72)発明者 杉森 康雄 大阪府八尾市北久宝寺1丁目4番33号 ホ シデン株式会社内 Fターム(参考) 5D021 CC03 CC04 Continued on the front page (72) Inventor Yasuo Sugimori 1-4-3 Kitakyuho-ji Temple, Yao-shi, Osaka F-Side Co., Ltd. F-term (reference) 5D021 CC03 CC04

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属材料基板の一方の表面にニッケル薄
膜を成膜形成し、 ニッケル薄膜の表面にエレクトレット化材料被膜を成膜
形成し、 金属材料基板の他方の表面の部分領域をエッチング除去
してニッケル薄膜を露出し、 露出したニッケル薄膜に振動膜リングを接合し、 振動膜リングの外周面に沿って金属材料基板を打ち抜く
ことを特徴とする静電型電気音響変換素子用振動膜の製
造方法。
A nickel thin film is formed on one surface of a metal material substrate, an electretized material film is formed on a surface of the nickel thin film, and a partial region of the other surface of the metal material substrate is removed by etching. Manufacturing a vibrating membrane for an electro-acoustic electro-acoustic transducer, characterized by exposing a nickel thin film by welding, joining a vibrating membrane ring to the exposed nickel thin film, and punching a metal material substrate along an outer peripheral surface of the vibrating membrane ring. Method.
【請求項2】 請求項1に記載される静電型電気音響変
換素子用振動膜の製造方法において、 金属材料基板を金属材料基板ロールから連続的に引き出
しながらその表面にニッケル薄膜をメッキし、次いで、
ニッケル薄膜をメッキした金属材料基板をニッケルメッ
キ金属材料基板ロールから連続的に引き出しながらニッ
ケル薄膜にエレクトレット化材料被膜を成膜してエレク
トレット化材料被膜ニッケルメッキ金属材料基板を形成
することを特徴とする静電型電気音響変換素子用振動膜
の製造方法。
2. A method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer according to claim 1, wherein a nickel thin film is plated on a surface of the metal material substrate while the metal material substrate is continuously pulled out from the metal material substrate roll. Then
An electretized material coating is formed on the nickel thin film while continuously pulling out the nickel-plated metal material substrate from the nickel-plated metal material substrate roll to form an electretized material-coated nickel-plated metal material substrate. A method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer.
【請求項3】 請求項1に記載される静電型電気音響変
換素子用振動膜の製造方法において、 金属材料基板はアルミニウム基板より成ることを特徴と
する静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法。
3. The method for manufacturing a vibrating film for an electrostatic electroacoustic transducer according to claim 1, wherein the metal material substrate is made of an aluminum substrate. Manufacturing method.
【請求項4】 請求項1ないし請求項3の内の何れかに
記載される静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法
において、 エレクトレット化材料被膜はエレクトレット化材料フィ
ルムを接合し、或いはエレクトレット化材料の溶液を塗
布、焼成し、或いはエレクトレット化材料を蒸着して形
成することを特徴とする静電型電気音響変換素子用振動
膜の製造方法。
4. The method for manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer according to any one of claims 1 to 3, wherein the electretized material film is formed by joining an electretized material film, or A method for producing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer, comprising applying and firing a solution of an electret material, or vapor-depositing an electret material.
【請求項5】 請求項1ないし請求項4の内の何れかに
記載される静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法
において、 エレクトレット化材料は、テトラフルオロエチレン−ヘ
キサフルオロプロピレン共重合体、ペルフルオロアルコ
キシフッ素樹脂、アモルファステフロン、酸化珪素の内
から選択された何れかであることを特徴とする静電型電
気音響変換素子用振動膜の製造方法。
5. The method for producing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer according to claim 1, wherein the electret material is a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer. A method for producing a vibrating membrane for an electrostatic electro-acoustic transducer, wherein the vibrating membrane is selected from the group consisting of coalesced, perfluoroalkoxy fluororesin, amorphous Teflon, and silicon oxide.
【請求項6】 請求項2ないし請求項5の内の何れかに
記載される静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法
において、 エレクトレット化材料被膜ニッケルメッキ金属材料基板
をそのロールから連続的に引き出しながら金属材料基板
の他方の表面の部分領域をエッチング除去し、振動膜リ
ングを接合し、金属材料基板を打ち抜くことを特徴とす
る静電型電気音響変換素子用振動膜の製造方法。
6. The method for producing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer according to claim 2, wherein the nickel-plated metal substrate coated with an electret material is continuously rolled from its roll. A method of manufacturing a vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer, wherein a partial region on the other surface of a metal material substrate is etched away while being pulled out, a vibrating membrane ring is joined, and the metal material substrate is punched out.
【請求項7】 一方の表面にニッケル薄膜を成膜形成し
た金属材料基板のニッケル薄膜の表面にエレクトレット
化材料被膜を成膜形成し、 金属材料基板の他方の表面の部分領域を除去して露出せ
しめたニッケル薄膜に振動膜リングを接合し、 振動膜リングの外周面に沿って金属材料基板を打ち抜き
構成したことを特徴とする静電型電気音響変換素子用振
動膜。
7. A metal material substrate having a nickel thin film formed on one surface, an electretized material film formed on the surface of the nickel thin film, and a partial region on the other surface of the metal material substrate is removed and exposed. A vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer, wherein a vibrating membrane ring is joined to a thinned nickel thin film, and a metal material substrate is punched out along an outer peripheral surface of the vibrating membrane ring.
【請求項8】 請求項7に記載される静電型電気音響変
換素子用振動膜において、 金属材料基板はアルミニウム基板より成ることを特徴と
する静電型電気音響変換素子用振動膜。
8. The vibration film for an electrostatic electroacoustic transducer according to claim 7, wherein the metal material substrate is made of an aluminum substrate.
【請求項9】 請求項7および請求項8の内の何れかに
記載される静電型電気音響変換素子用振動膜において、 エレクトレット化材料は、テトラフルオロエチレン−ヘ
キサフルオロプロピレン共重合体、ペルフルオロアルコ
キシフッ素樹脂、アモルファステフロン、酸化珪素の内
から選択された何れかであることを特徴とする静電型電
気音響変換素子用振動膜。
9. The vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer according to claim 7, wherein the electretized material is a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, A vibrating membrane for an electrostatic electroacoustic transducer, wherein the vibrating membrane is any one selected from an alkoxy fluororesin, amorphous Teflon, and silicon oxide.
【請求項10】 一方の表面にニッケル薄膜を成膜形成
した金属材料基板のニッケル薄膜の表面にエレクトレッ
ト化材料被膜を成膜形成し、金属材料基板の他方の表面
の部分領域を除去して露出せしめたニッケル薄膜に振動
膜リングを接合し、振動膜リングの外周面に沿って金属
材料基板を打ち抜き構成した振動膜を具備することを特
徴とする静電型電気音響変換素子。
10. A metal material substrate having a nickel thin film formed on one surface, an electretized material film formed on the surface of the nickel thin film, and a partial region on the other surface of the metal material substrate is removed and exposed. An electrostatic electro-acoustic transducer comprising: a vibrating film formed by joining a vibrating film ring to a thinned nickel thin film and punching a metal material substrate along an outer peripheral surface of the vibrating film ring.
【請求項11】 請求項10に記載される静電型電気
音響変換素子において、 金属材料基板はアルミニウム基板より成ることを特徴と
する静電型電気音響変換素子。
11. The electrostatic electroacoustic transducer according to claim 10, wherein the metal material substrate is made of an aluminum substrate.
【請求項12】 請求項10および請求項11の内の何
れかに記載される静電型電気音響変換素子において、 エレクトレット化材料はテトラフルオロエチレン−ヘキ
サフルオロプロピレン共重合体、ペルフルオロアルコキ
シフッ素樹脂、アモルファステフロン、酸化珪素の内か
ら選択された何れかであることを特徴とする静電型電気
音響変換素子。
12. The electrostatic electroacoustic transducer according to claim 10, wherein the electret material is a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, a perfluoroalkoxy fluororesin, An electrostatic electroacoustic transducer characterized by being selected from amorphous Teflon and silicon oxide.
JP36063799A 1999-12-20 1999-12-20 Method for manufacturing vibrating membrane for electrostatic electroacoustic transducer, vibrating membrane, and electrostatic electroacoustic transducer including this vibrating membrane Expired - Fee Related JP3545982B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36063799A JP3545982B2 (en) 1999-12-20 1999-12-20 Method for manufacturing vibrating membrane for electrostatic electroacoustic transducer, vibrating membrane, and electrostatic electroacoustic transducer including this vibrating membrane

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP36063799A JP3545982B2 (en) 1999-12-20 1999-12-20 Method for manufacturing vibrating membrane for electrostatic electroacoustic transducer, vibrating membrane, and electrostatic electroacoustic transducer including this vibrating membrane

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001177899A true JP2001177899A (en) 2001-06-29
JP3545982B2 JP3545982B2 (en) 2004-07-21

Family

ID=18470272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP36063799A Expired - Fee Related JP3545982B2 (en) 1999-12-20 1999-12-20 Method for manufacturing vibrating membrane for electrostatic electroacoustic transducer, vibrating membrane, and electrostatic electroacoustic transducer including this vibrating membrane

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3545982B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005009076A1 (en) * 2003-07-22 2005-01-27 Toho Kasei Co., Ltd. Material for heat-resistant electret and heat-resistant electret
JP2007174475A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Audio Technica Corp Diaphragm for capacitor microphone and manufacturing method thereof
US7449811B2 (en) 2004-11-26 2008-11-11 The University Of Tokyo Electrostatic induction conversion device
JP2013187558A (en) * 2012-03-05 2013-09-19 Nbc Meshtec Inc Film for speaker diaphragm

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005009076A1 (en) * 2003-07-22 2005-01-27 Toho Kasei Co., Ltd. Material for heat-resistant electret and heat-resistant electret
US7449811B2 (en) 2004-11-26 2008-11-11 The University Of Tokyo Electrostatic induction conversion device
US8053948B2 (en) 2004-11-26 2011-11-08 The University Of Tokyo Electrostatic induction conversion device
JP2007174475A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Audio Technica Corp Diaphragm for capacitor microphone and manufacturing method thereof
JP2013187558A (en) * 2012-03-05 2013-09-19 Nbc Meshtec Inc Film for speaker diaphragm

Also Published As

Publication number Publication date
JP3545982B2 (en) 2004-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6942817B2 (en) Method of manufacturing wireless suspension blank
JP2975766B2 (en) Method for manufacturing flexible thin film solar cell
WO2018188115A1 (en) Method for preparing graphene electrode and liquid crystal display panel
JP3545982B2 (en) Method for manufacturing vibrating membrane for electrostatic electroacoustic transducer, vibrating membrane, and electrostatic electroacoustic transducer including this vibrating membrane
KR20100134886A (en) Manufacturing method of voice coil
JP2004039319A (en) Metal mask
JP2003068555A (en) Method for forming conductive pattern of electronic component, and common mode choke coil
JP3513440B2 (en) Method of manufacturing vibrating membrane for electrostatic electroacoustic transducer
JPH11251722A (en) Heat-resistant wiring board
JP3387012B2 (en) Electret condenser microphone and method of manufacturing the same
JP4152804B2 (en) Magnesium diaphragm, manufacturing method thereof, and speaker device using the diaphragm
JP2007035868A (en) Manufacturing method of wiring circuit substrate
JPH11150795A (en) Thin film electret capacitor microphone and production thereof
JP2003154537A (en) Method for folding and manufacturing copper foil-clad base and intermediate member for folding copper foil- clad base used therefor
JP3564709B2 (en) Method for producing metal pattern film with excellent transferability
JPH09139564A (en) Thick film wiring and its formation
JP2010042569A (en) Method of manufacturing suspend metal mask, and suspend metal mask
JPH0613262A (en) Manufacture of composite material for electret
JP2004187192A (en) Diaphragm for vibration pickup, microphone using the same and manufacturing method of diaphragm for vibration pickup
JP3667649B2 (en) Electret condenser microphone and manufacturing method thereof
JP2002289329A (en) Heater
JPS6058640B2 (en) Method for manufacturing diaphragm for electrodynamic electroacoustic transducer
JP2002222836A (en) Laminated belt for tab, its manufacturing method, printed wiring board made thereof, and semiconductor device
JP2929882B2 (en) Carrier tape for semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2002025027A (en) Manufacturing method for wireless suspension blank

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20031224

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040316

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040409

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees