JP2001177022A - Heat conduction board and method of manufacturing the same - Google Patents

Heat conduction board and method of manufacturing the same

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JP2001177022A
JP2001177022A JP35925299A JP35925299A JP2001177022A JP 2001177022 A JP2001177022 A JP 2001177022A JP 35925299 A JP35925299 A JP 35925299A JP 35925299 A JP35925299 A JP 35925299A JP 2001177022 A JP2001177022 A JP 2001177022A
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JP
Japan
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heat conductive
conductive substrate
lead frame
wiring pattern
metal plate
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JP35925299A
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Japanese (ja)
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Yasuyuki Matsuoka
康之 松岡
Keiji Inaba
圭司 稲葉
Seiichi Nakatani
誠一 中谷
Yasuhiro Sugaya
康博 菅谷
Mitsuhiro Matsuo
光洋 松尾
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem such that an additional wiring is required because a conductor patterns must be formed in such an arrangement in which all the conductor pattern is connected to the outer frame of a lead frame when the wiring pattern of the lead frame is formed by a forming die in a usual punching process. SOLUTION: A lead frame provided with an optional conductor wiring pattern which is formed on its surface by etching by the use of a metal plate of certain thickness is buried in resin so as to solve the above problem, an insulator composed of thermosetting resin and inorganic filler is exposed at the part of lead frame on which the above conductor wiring is not present, conductor wiring patterns of separate shapes are contained in the above conductor wiring patterns, a metal plate for dissipating heat through the intermediary of the insulator is buried in the other surface, and the edge face of the metal plate is protected by an insulator.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は樹脂と無機フィラー
の混合物により放熱性を向上させた回路基板に関し、特
に、パワー用エレクトロニクス実装のための高放熱樹脂
基板として用いられる熱伝導基板とその製造方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit board having improved heat dissipation by a mixture of a resin and an inorganic filler, and more particularly to a heat conductive board used as a high heat dissipation resin board for mounting power electronics and a method of manufacturing the same. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化、軽量化、高性
能化に伴い、半導体をはじめとする電子部品の高密度
化、高機能化が要求されている。しかしながら、電力変
換回路を始めとする発熱を伴う回路部では、放熱板や放
熱フィンを用いて熱を外部に逃す必要があるため、他の
部分と比較して小型・軽量化が著しく困難を極めてい
る。これを受けて放熱性を考慮した回路基板の設計が近
年重要となっている。回路基板の放熱性を改良する技術
としては、従来のガラス−エポキシ樹脂によるプリント
基板に対し、アルミニウムなどの金属基板を使用し、こ
の金属基板の片面もしくは両面に絶縁層を介して回路パ
ターンを形成する金属ベース基板が知られている。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become smaller, lighter, and higher in performance, higher density and higher functionality of electronic components such as semiconductors have been required. However, in circuit parts that generate heat, such as power conversion circuits, it is necessary to dissipate heat to the outside using heat sinks and radiating fins, making it extremely difficult to reduce the size and weight compared to other parts. I have. In response to this, the design of circuit boards taking heat dissipation into consideration has become important in recent years. As a technology to improve the heat dissipation of the circuit board, a metal board such as aluminum is used for a conventional glass-epoxy printed board, and a circuit pattern is formed on one or both sides of this metal board via an insulating layer. Metal-based substrates are known.

【0003】またより高熱伝導性を要求される場合は、
アルミナや窒化アルミなどのセラミック基板に銅板をダ
イレクトに接合した基板が利用されているが、セラミッ
ク基板は一般にコストが高く、逆に金属ベース基板は、
熱伝導の改善のため絶縁層を薄く形成するため、浮遊容
量が高くノイズを伝播し易いという課題がある。また同
様に金属ベース基板では、配線パターンが35μm厚み
程度の銅箔をエッチングして形成するため、大電流が流
せない。このため、パワーエレクトロニクス分野ではこ
れらが抵抗ロスとして無視できないため、今後の省エネ
の観点で課題となる。
When higher thermal conductivity is required,
A board in which a copper plate is directly bonded to a ceramic board such as alumina or aluminum nitride is used, but a ceramic board is generally expensive and a metal base board is
Since the insulating layer is formed thin to improve heat conduction, there is a problem that stray capacitance is high and noise is easily transmitted. Similarly, in a metal base substrate, since a wiring pattern is formed by etching a copper foil having a thickness of about 35 μm, a large current cannot flow. For this reason, in the field of power electronics, these cannot be ignored as resistance loss, and will be a problem from the viewpoint of energy saving in the future.

【0004】ところで、近年熱可塑性樹脂に熱伝導性フ
ィラーを充填した組成物を電極であるリードフレームと
一体化した射出成形による熱伝導モジュールが提案され
ている。この基板は、前述の金属ベース基板およびセラ
ミック基板における性能およびコストの面で両立の難し
い部分を補うものとなっている。
In recent years, there has been proposed a heat conduction module by injection molding in which a composition in which a thermoplastic resin is filled with a heat conductive filler is integrated with a lead frame as an electrode. This substrate compensates for the above-mentioned metal base substrate and ceramic substrate, which are difficult to achieve in terms of performance and cost.

【0005】具体的には、この射出成形熱伝導モジュー
ルは、機械的強度の面で優れているという金属ベース基
板の特徴と、放熱性が良いというセラミック基板の特性
を有するものとなっている(特開平9−298344号
公報、特開平9−321395号公報参照)。加えて、
金型打ち抜きによるリードフレームでは、単独ランドや
曲線状の信号回路等の形成が出来ないために回路の自由
度がないことより、エッチングによるリードフレーム形
成により、より自由度のある回路形成が求められてい
る。
More specifically, this injection-molded heat conduction module has the characteristics of a metal base substrate having excellent mechanical strength and the characteristics of a ceramic substrate having good heat dissipation ( See JP-A-9-298344 and JP-A-9-321395. in addition,
In the case of a lead frame formed by punching a die, there is no circuit flexibility because a single land or a curved signal circuit cannot be formed.Therefore, a more flexible circuit formation is required by forming a lead frame by etching. ing.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、一括でリー
ドフレーム、熱伝導シート状物および放熱板用金属板を
形成した場合、前記熱伝導基板でのリードフレームの導
体配線パターン形成に、エッチングによる工程にて行わ
れる。しかしながら、埋設したリードフレームの反対側
に放熱用の金属板を接着させた場合、導体パターンを露
出するために行う、リードフレームの金属平面部分のエ
ッチング工程で、放熱用の金属板端面がエッチングされ
たり、金属板と熱伝導シート状物とその金属面が接触し
ている界面にエッチング液が侵入し、前記熱伝導シート
状物と前記金属板の接着を阻害するという課題があっ
た。
By the way, when a lead frame, a heat conductive sheet and a metal plate for a heat radiating plate are collectively formed, a process of etching is used to form a conductor wiring pattern of the lead frame on the heat conductive substrate. It is performed in. However, when a metal plate for heat dissipation is bonded to the opposite side of the buried lead frame, the end face of the metal plate for heat dissipation is etched in the step of etching the metal flat portion of the lead frame, which is performed to expose the conductive pattern. In addition, there has been a problem that an etchant intrudes into an interface where the metal plate and the heat conductive sheet and the metal surface thereof are in contact with each other, and inhibits the adhesion between the heat conductive sheet and the metal plate.

【0007】また、前記課題のために、放熱板用の金属
板を熱伝導基板を形成した後に張り合わせる工法もある
が、加熱、加圧工程等が追加されるため、生産性、コス
トおよび省エネルギー等に課題を有する。
In order to solve the above-mentioned problem, there is a method of bonding a metal plate for a heat sink after forming a heat conductive substrate. However, since a heating and pressurizing step is added, productivity, cost and energy saving are increased. Etc. have problems.

【0008】本発明は上記の問題点を解消するためにな
されたもので、エッチング工程において、放熱用の金属
板を腐食させることのない構成及び簡易な製造方法を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a structure that does not corrode a heat-dissipating metal plate in an etching process and a simple manufacturing method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明に係わるリード
フレームは、一定の厚みを有する金属板を用いて、片面
エッチングを施すことより、一方表面には任意の独立し
た島状の導体配線パターンを含む配線パターンが形成さ
れ、前記一方表面の導体配線パターン以外の部分には厚
み方向に対して一様な深さの溝を有しており、他方表面
は平坦な面を持つことで構成されている。
A lead frame according to the present invention is provided with an arbitrary island-shaped conductor wiring pattern on one surface by performing one-sided etching using a metal plate having a constant thickness. A wiring pattern including a groove having a uniform depth in the thickness direction in a portion other than the conductor wiring pattern on the one surface, and a flat surface on the other surface. I have.

【0010】前記構成において、リードフレームが、
銅、鉄、アルミニウム、ニッケルから選ばれた少なくと
も1種を主成分とする金属からなることが望ましい。抵
抗ロスを少なくし、大電流に対応できるからである。
In the above structure, the lead frame is
It is desirable to use a metal mainly composed of at least one selected from copper, iron, aluminum and nickel. This is because resistance loss can be reduced and a large current can be handled.

【0011】また前記構成において、リードフレーム
が、0.1〜1.5mmの厚みを有する一様な圧延板で
あることが望ましい。従来の金属ベース基板の薄い銅箔
に比べ大きな電流を流すことができ、微小な配線パター
ンを形成できるからである。
In the above structure, it is preferable that the lead frame is a uniform rolled plate having a thickness of 0.1 to 1.5 mm. This is because a larger current can flow than a thin copper foil of a conventional metal base substrate, and a fine wiring pattern can be formed.

【0012】また前記構成において、リードフレームの
導体配線パターンが形成されている表面が、ニッケル、
錫、はんだ合金の少なくとも1種類でめっき処理された
ものか、もしくは/さらに表面を粗化されたことが望ま
しい。成型一体化したときの絶縁樹脂との密着性をさら
に良くすることができるからである。
In the above structure, the surface of the lead frame on which the conductor wiring pattern is formed is made of nickel,
It is desirable that the surface is plated with at least one of tin and a solder alloy, and / or that the surface is further roughened. This is because the adhesion with the insulating resin when molded and integrated can be further improved.

【0013】また前記構成において、リードフレームの
一様な深さの溝が、一定厚みを有する金属板の厚み方向
に対して厚みの20〜80%の深さからなる溝を有する
ことが望ましい。深さが20%以下では、表面は平坦な
面を持つ金属板をエッチングするのに長時間を有し、経
済的ではない。一方80%以上では、配線パターン間の
溝が深くなり過ぎ、独立した島状パターン位置を正確に
保持することが困難となる。さらに望ましくは30〜6
0%の深さであることが望ましく、エッチング時間とリ
ードフレームパターンの強度、さらには大電流に対応し
た埋設されたリードフレームの厚みが適切な範囲とな
る。
In the above structure, it is preferable that the groove having a uniform depth of the lead frame has a groove having a depth of 20 to 80% of a thickness of a metal plate having a constant thickness. If the depth is less than 20%, the surface has a long time to etch a metal plate having a flat surface, which is not economical. On the other hand, at 80% or more, the grooves between the wiring patterns become too deep, and it becomes difficult to accurately maintain independent island-shaped pattern positions. More preferably, 30 to 6
The depth is desirably 0%, and the etching time, the strength of the lead frame pattern, and the thickness of the embedded lead frame corresponding to a large current are within an appropriate range.

【0014】またこの発明に関わるリードフレームの製
造方法は、一定厚みを有する金属板の一方面のみに任意
の独立した島状の導体配線パターンを含む配線パターン
をエッチング法により形成し、金属板の一方表面にのみ
厚み方向に対して一様な深さを持つ溝と所望の形状をも
つ導体配線パターンを成形するものである。
According to a method of manufacturing a lead frame according to the present invention, a wiring pattern including an arbitrary independent island-shaped conductor wiring pattern is formed on only one surface of a metal plate having a constant thickness by an etching method. On the other hand, a groove having a uniform depth in the thickness direction only on the surface and a conductor wiring pattern having a desired shape are formed.

【0015】前記構成において、前記レジスト膜を除去
する工程に加え、前記導体配線パターン面上をめっき処
理、若しくは/さらに表面粗化する工程を追加すること
が望ましい。成型時のリードフレームと絶縁樹脂との接
着性を高める効果があるからである。
In the above structure, it is preferable to add a step of plating or / and further roughening the surface of the conductor wiring pattern in addition to the step of removing the resist film. This is because there is an effect of increasing the adhesiveness between the lead frame and the insulating resin during molding.

【0016】さらにこの発明に係わる熱伝導基板は、表
面にはリードフレームからなる導体配線パターンが埋設
され、かつ前記導体配線パターンが存在しない部分には
少なくとも熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる絶縁物
が露出しており、各々独立した形状を有する前記導体配
線パターンを含み、他方表面には前記絶縁物を介して放
熱される構造を有するものである。
Further, in the heat conductive substrate according to the present invention, a conductor wiring pattern made of a lead frame is buried on the surface, and an insulator made of at least a thermosetting resin and an inorganic filler is provided in a portion where the conductor wiring pattern does not exist. Are exposed and include the conductor wiring patterns each having an independent shape, and the other surface has a structure in which heat is radiated through the insulator.

【0017】前記構成において、熱伝導基板のリードフ
レームと接着された反対面の前記絶縁物表面に、放熱特
性を向上させるための金属板を付加する場合、その大き
さは、絶縁物に埋設されるサイズであり、熱伝導基板の
外形サイズより、0.5mm以上小さいものを用いるこ
とで、リードフレーム、前記絶縁物および前記金属板を
接着させる際にその金属板が前記絶縁物に埋設されるこ
とで、その金属板の端面が前記絶縁物で保護される。そ
のため、次工程のエッチングの際に前記金属板端面に腐
食せずに所望の金属平面部を除去することが出来る。
尚、前記金属板の前記絶縁物に埋設する面の表面を粗化
させることが望ましい。金属板と絶縁物の接着性が向上
するからである。また、金属板の絶縁物に埋設される面
と反対面には、あらかじめポリエチレンや塩化ビニルに
代表される保護フィルムを貼り合わすことが望ましい。
金属平面板のエッチングの際にレジスト膜として使用す
るとともに金属面の保護とする。
In the above structure, when a metal plate for improving heat radiation characteristics is added to the surface of the insulating material opposite to the surface of the heat conductive substrate bonded to the lead frame, the size of the metal plate is buried in the insulating material. When the lead frame, the insulator and the metal plate are bonded to each other, the metal plate is embedded in the insulator by using the heat conductive substrate having a size smaller than the outer size of the heat conductive substrate by 0.5 mm or more. Thereby, the end face of the metal plate is protected by the insulator. Therefore, a desired flat metal portion can be removed without corroding the end face of the metal plate at the time of etching in the next step.
Preferably, the surface of the metal plate buried in the insulator is roughened. This is because the adhesion between the metal plate and the insulator is improved. Further, it is desirable to attach a protective film typified by polyethylene or vinyl chloride in advance on the surface of the metal plate opposite to the surface buried in the insulator.
It is used as a resist film when etching a flat metal plate and protects the metal surface.

【0018】また前記構成において、熱伝導基板で、リ
ードフレーム直下の絶縁層厚みが0.02〜2mmの範
囲であることが望ましい。0.02mm以下であると基
板の放熱面と浮遊容量が大きくなり、ノイズを伝播し易
くなるからである。一方2mm以上の絶縁層厚みである
と、熱抵抗が高くなり、放熱効率が極端に低下し、所定
の部品発熱温度以上となり、場合によっては半導体部品
が破壊することがある。
In the above structure, it is preferable that the thickness of the insulating layer directly under the lead frame on the heat conductive substrate is in the range of 0.02 to 2 mm. If the thickness is 0.02 mm or less, the heat radiation surface of the substrate and the stray capacitance become large, and noise is easily transmitted. On the other hand, if the thickness of the insulating layer is 2 mm or more, the heat resistance increases, the heat radiation efficiency is extremely reduced, the temperature exceeds a predetermined component heat generation temperature, and in some cases, the semiconductor component may be broken.

【0019】さらにこの発明に係わる熱伝導基板は、表
面にはリードフレームからなる導体配線パターンが埋設
され、かつ前記導体配線パターンが存在しない部分には
少なくとも熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる絶縁物
が露出しており、各々独立した形状を有する前記導体配
線パターンを含み、他方表面には前記絶縁物を介して放
熱される構造を有するものであって、前記埋設されたリ
ードフレームからなる導体配線パターンが、前記熱硬化
性樹脂と無機フィラーからなる絶縁物表面より凹んだ構
造を有するものである。
Further, in the heat conductive substrate according to the present invention, a conductor wiring pattern made of a lead frame is buried on the surface, and an insulator made of at least a thermosetting resin and an inorganic filler is provided in a portion where the conductor wiring pattern does not exist. Are exposed and include the conductor wiring patterns each having an independent shape, and the other surface has a structure for radiating heat via the insulator, and the conductor wiring comprising the embedded lead frame. The pattern has a structure depressed from the surface of the insulator made of the thermosetting resin and the inorganic filler.

【0020】前記構成において、熱硬化性樹脂と無機フ
ィラーからなる前記絶縁物に含まれる熱硬化樹脂が、エ
ポキシ系樹脂、フェノール系樹脂若しくはシアネート系
樹脂の少なくとも1種類であることが望ましい。熱伝導
基板が高温にさらされても電気絶縁性に優れるからであ
る。特に熱硬化エポキシ樹脂は、半導体封止樹脂、プリ
ント基板で良く知られるように、電気特性ばかりでな
く、耐薬品性、機械的性能などに優れている。
In the above structure, it is desirable that the thermosetting resin contained in the insulator made of a thermosetting resin and an inorganic filler is at least one of an epoxy resin, a phenol resin, and a cyanate resin. This is because even if the heat conductive substrate is exposed to a high temperature, it has excellent electrical insulation. In particular, thermosetting epoxy resins are excellent in not only electrical properties but also chemical resistance and mechanical performance, as is well known in semiconductor encapsulation resins and printed circuit boards.

【0021】また前記構成において、熱硬化性樹脂と無
機フィラーからなる前記絶縁物に含まれる無機フィラー
が、アルミナ、シリカ、マグネシア、窒化アルミニウム
及び窒化ホウ素から選ばれた少なくとも1種の粉末で構
成されることが望ましい。種々の性能を発揮させること
ができるからである。即ちアルミナ、窒化アルミニウム
を用いた場合、熱伝導性に優れたモジュールとなる。ま
たマグネシアでは、熱伝導度が良好になりかつ熱膨張係
数を大きくすることができる。さらにシリカ(特に非晶
質シリカ)であれば、熱膨張係数が小さく、軽く、また
誘電率の小さい熱伝導基板とすることができる。
In the above structure, the inorganic filler contained in the insulator comprising a thermosetting resin and an inorganic filler comprises at least one kind of powder selected from alumina, silica, magnesia, aluminum nitride and boron nitride. Is desirable. This is because various performances can be exhibited. That is, when alumina or aluminum nitride is used, a module having excellent thermal conductivity is obtained. In addition, magnesia has good thermal conductivity and can have a large thermal expansion coefficient. Furthermore, if it is silica (especially amorphous silica), a heat conductive substrate having a small coefficient of thermal expansion, light weight, and a small dielectric constant can be obtained.

【0022】さらにこの発明に係わる熱伝導基板の製造
方法は、リードフレームの導体配線パターンを形成した
凹凸面に、少なくとも熱硬化性樹脂と無機フィラーから
なる未硬化状態の熱伝導基板用シート状物を一定条件に
より加熱・加温して、硬化かつ接着形成させて絶縁層を
形成する工程と、前記熱伝導基板用シート状物と接着さ
れた反対の金属平面を絶縁層が露出するまでエッチング
することで得られるものである。これにより前記エッチ
ングされた金属表面には導体配線パターンが埋設され、
かつ前記導体配線パターンが存在しない部分には硬化し
た少なくとも熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる絶縁
物が露出している構造を有している。このエッチングの
際に、埋設した導体配線パターンと同様の図柄を前記熱
伝導基板用シート状物と接着された反対の金属平面にレ
ジスト膜として形成することで、絶縁物表面より凸した
導体配線パターンを形成することができる。
Further, according to the present invention, there is provided a method for manufacturing a heat conductive substrate, comprising the steps of: forming an uncured sheet material for a heat conductive substrate comprising at least a thermosetting resin and an inorganic filler on the uneven surface of a lead frame on which a conductive wiring pattern is formed; Heating and heating under predetermined conditions to cure and bond to form an insulating layer, and etching the opposite metal plane bonded to the heat conductive substrate sheet until the insulating layer is exposed. It is obtained by doing. Thereby, a conductor wiring pattern is buried in the etched metal surface,
In addition, it has a structure in which a cured insulating material composed of at least a thermosetting resin and an inorganic filler is exposed in a portion where the conductor wiring pattern does not exist. At the time of this etching, the same pattern as the buried conductor wiring pattern is formed as a resist film on the opposite metal plane bonded to the heat conductive substrate sheet-like material, so that the conductor wiring pattern protruding from the insulator surface is formed. Can be formed.

【0023】また、同様な方法で、前記熱伝導基板用シ
ート状物と接着された反対の金属表面に選択的に前記導
体パターンのレジスト膜を形成することで、埋設した導
体パターンを絶縁物表面より凹んだ部と凸した部分を任
意に作製が可能にできる。
In a similar manner, a resist film of the conductive pattern is selectively formed on the opposite metal surface bonded to the sheet material for a heat conductive substrate, so that the buried conductive pattern is formed on the insulating surface. More concave portions and convex portions can be arbitrarily manufactured.

【0024】前記構成において、加熱、加圧する条件
が、前記熱伝導基板用シート状物中の熱硬化樹脂組成物
の硬化温度以上でかつ10〜200kg/cm2の圧力
で成形を行うことが望ましい。リードフレーム表面の凹
凸にくまなく前記熱伝導基板用シート状物が充填できる
と共に放熱板の端面を覆うからである。
In the above structure, it is desirable that the heating and pressurizing conditions be at least the curing temperature of the thermosetting resin composition in the sheet material for a heat conductive substrate and that the molding be performed at a pressure of 10 to 200 kg / cm 2. . This is because the heat conductive substrate sheet-like material can be filled all over the unevenness of the lead frame surface and covers the end surface of the heat radiating plate.

【0025】前記構成において、加熱、加圧する条件
が、前記熱伝導基板用シート状物中の熱硬化樹脂組成物
の硬化温度以下でかつ10〜200kg/cm2の圧力
で成型し、リードフレームの表面まで充填一体化し、次
いで前記熱硬化樹脂組成物の硬化温度以上でさらに10
〜400kg/cm2の圧力で加熱加圧して前記熱硬化
性樹脂を硬化させる工程よりなることが望ましい。硬化
温度以下でリードフレームの凹凸部に充填を行い、硬化
温度以上に加熱して短時間で硬化、接着させることがで
き、しかも後のエッチング液に耐えうる絶縁物となるか
らである。
In the above structure, the heating and pressurizing conditions are not more than the curing temperature of the thermosetting resin composition in the sheet material for a heat conductive substrate, and the molding is performed at a pressure of 10 to 200 kg / cm 2 , and the lead frame is formed. The surface is filled and integrated, and then at a temperature not lower than the curing temperature of the thermosetting resin composition, an additional 10
Preferably, the method comprises a step of heating and pressurizing the thermosetting resin at a pressure of about 400 kg / cm 2 to cure the thermosetting resin. This is because the irregularities of the lead frame can be filled at a curing temperature or lower and then heated and cured at a temperature higher than the curing temperature to be cured and adhered in a short time, and furthermore, become an insulator that can withstand a later etching solution.

【0026】これにより従来の放熱板の端面を保護しな
い方法に比べ、端面が腐食されることなく、しかも、放
熱板と熱伝導シート界面位にエッチング液が浸透するこ
ともなく、放熱板と熱伝導シートの接着力を維持するこ
とが出来る。加えて、放熱板用の端面が樹脂により保護
され放熱板が樹脂に埋没した形状となり、放熱板保護用
のレジスト膜が容易に形成される。
As a result, compared with the conventional method of not protecting the end face of the heat sink, the end face is not corroded, and the etching liquid does not penetrate into the interface between the heat sink and the heat conductive sheet. The adhesive strength of the conductive sheet can be maintained. In addition, the end surface for the radiator plate is protected by the resin, and the radiator plate is buried in the resin, so that the resist film for protecting the radiator plate is easily formed.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)以下、本発明の
実施の形態1を図面を用いて説明する。
(Embodiment 1) Hereinafter, Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0028】図1(a)〜(f)は、本発明の実施の形
態1におけるリードフレームの製造方法を示す工程図で
ある。図1(a)において、11は電気良導性の金属板
である。金属板としては、熱伝導性を考慮すると、例え
ば銅、鉄、アルミニウム、ニッケルから選ばれた少なく
とも1種を主成分とする金属からなり、0.1〜1.5
mmの厚みを有する一様な圧延板であることが好まし
い。図1(b)において、12はレジスト膜である。図
1(c)において、金属板の一方面にのみ13に示すフ
ィルムパターンを、レジスト膜12上に位置あわせをし
て配置させる。ここで、フィルムパターンが貼り付けら
れている面に対して、UVを用いて露光する。このとき
フィルムパターンを貼り付けない面は全面露光する。
FIGS. 1A to 1F are process diagrams showing a method for manufacturing a lead frame according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1A, reference numeral 11 denotes a metal plate having good electrical conductivity. In consideration of thermal conductivity, the metal plate is made of, for example, a metal mainly containing at least one selected from copper, iron, aluminum, and nickel, and has a thickness of 0.1 to 1.5.
It is preferably a uniform rolled plate having a thickness of mm. In FIG. 1B, reference numeral 12 denotes a resist film. In FIG. 1C, the film pattern 13 shown on only one surface of the metal plate is aligned and arranged on the resist film 12. Here, the surface to which the film pattern is attached is exposed using UV. At this time, the entire surface on which the film pattern is not bonded is exposed.

【0029】次いでさらにレジスト現像を行う。レジス
トは、露光後、露光部分のみ硬化し、現像により非露光
部は除去され、図1(d)のように、露光部15と非露
光部14に分けられる。図1(e)において、図1
(d)の露光面をエッチングすることで、金属板の一方
表面にのみ厚み方向に対して一様な深さを持つ溝16と
所望の形状をもつ導体配線パターンの凹凸が形成され
る。
Next, resist development is further performed. After exposure, the resist is hardened only at the exposed portion, and the non-exposed portion is removed by development, and is divided into an exposed portion 15 and a non-exposed portion 14 as shown in FIG. In FIG. 1E, FIG.
By etching the exposed surface of (d), a groove 16 having a uniform depth in the thickness direction and irregularities of the conductor wiring pattern having a desired shape are formed only on one surface of the metal plate.

【0030】ここで、エッチングを行う深さであるが、
一定厚みを有する金属板の厚み方向に対して厚みの20
〜80%の深さからなる溝を有することが望ましいが、
金属板の厚みの半分とするのが一般的である。最後に苛
性ソーダなどで硬化したレジスト膜を剥離することで、
図1(f)のようなリードフレームが成形される。その
後、前記導体配線パターン面上をめっき処理、若しくは
/さらに表面粗化する工程を追加することも有効であ
る。
Here, the etching depth is as follows.
20 thicknesses in the thickness direction of a metal plate having a constant thickness
It is desirable to have a groove with a depth of ~ 80%,
Generally, the thickness is set to half of the thickness of the metal plate. Finally, by peeling the resist film cured with caustic soda,
A lead frame as shown in FIG. 1 (f) is formed. Thereafter, it is also effective to add a step of plating the surface of the conductor wiring pattern and / or further roughening the surface.

【0031】上記リードフレームを作製するにあたり、
レジスト膜を形成しエッチング法を用いて凹凸パターン
を作製する方法を記したが、例えばスクリーン印刷法な
どで配線パターンに対応した逆パターンを印刷して、化
学エッチング法でパターン凹凸を形成する方法や、エッ
チング法以外のサンドブラスト法などで凹凸溝を形成し
てもよい。
In manufacturing the above lead frame,
A method of forming a resist film and forming a concavo-convex pattern using an etching method has been described.For example, a method of printing a reverse pattern corresponding to a wiring pattern by a screen printing method or the like and forming a pattern concavo-convex by a chemical etching method or Alternatively, the concave and convex grooves may be formed by a sandblasting method other than the etching method.

【0032】(実施の形態2)図2、図3の(a)〜
(e)は、本発明の実施の形態2における熱伝導基板の
製造方法を示す工程図である。図2(a)において、前
記実施の形態1に記載のリードフレーム21と熱伝導性
シート状物22及び放熱板23を準備する。この熱硬化
性シート状物22は、少なくとも未硬化状態の熱硬化性
樹脂と無機フィラーからなる絶縁物をシート状に加工し
たものを用いることができる。本熱伝導シート状物に含
まれる熱硬化樹脂は、エポキシ系樹脂、フェノール系樹
脂若しくはシアネート系樹脂の少なくとも1種類から成
る。
(Embodiment 2) FIGS. 2 and 3A to FIG.
(E) is a process diagram showing a method for manufacturing the heat conductive substrate in Embodiment 2 of the present invention. In FIG. 2A, the lead frame 21, the heat conductive sheet 22, and the heat sink 23 described in the first embodiment are prepared. The thermosetting sheet 22 can be formed by processing at least an uncured thermosetting resin and an insulator made of an inorganic filler into a sheet. The thermosetting resin contained in the present heat conductive sheet is made of at least one of an epoxy resin, a phenol resin, and a cyanate resin.

【0033】また無機フィラーは、アルミナ、シリカ、
マグネシア、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素から選ば
れた少なくとも1種の粉末で構成される。無機フィラー
の添加量は、シート状物全体の70〜95重量%程度が
望ましいが、良好な熱伝導性を要求される熱伝導基板に
おいては、90重量%以上の高い無機フィラー充填が望
ましい。また、放熱板23については、銅、アルミニウ
ム、ニッケル、鉄等の金属が望ましく、そのサイズは所
望のサイズより0.5mm以上小さいサイズとするのが
望ましい。
The inorganic filler is alumina, silica,
It is composed of at least one powder selected from magnesia, aluminum nitride and boron nitride. The addition amount of the inorganic filler is desirably about 70 to 95% by weight of the whole sheet-like material. However, in the case of a heat conductive substrate that requires good thermal conductivity, a high inorganic filler filling of 90% by weight or more is desirable. Further, the heat radiating plate 23 is preferably made of a metal such as copper, aluminum, nickel, and iron, and the size thereof is desirably 0.5 mm or smaller than the desired size.

【0034】図2(b)において、リードフレーム21
の導体配線パターンを形成した凹凸面に、未硬化状態の
熱伝導基板用シート状物22を積層し、その上に更に放
熱板23を積層した後に同時に一定条件により加熱・加
温して、硬化かつ接着させて基板を形成する。このとき
リードフレームの凹凸面の凹部にも前記熱伝導基板用シ
ート状物22が完全に充填される。
In FIG. 2B, the lead frame 21
The uncured heat conductive substrate sheet 22 is laminated on the uneven surface on which the conductor wiring pattern is formed, and a heat radiating plate 23 is further laminated thereon. And a substrate is formed by bonding. At this time, the heat conductive substrate sheet-like material 22 is completely filled also in the concave portion of the concave and convex surface of the lead frame.

【0035】図2(c)において、放熱板23に保護フ
ィルム24を貼り合わせ、熱伝導基板用シート状物22
と接着された反対側の金属平面を絶縁層が露出するまで
エッチングすることで、前記エッチングされた金属表面
には導体配線パターンが埋設され、かつ前記導体配線パ
ターンが存在しない部分には硬化した絶縁物が露出して
いる熱伝導基板が作製される。
In FIG. 2C, a protective film 24 is adhered to a heat radiating plate 23 to form a sheet 22 for a heat conductive substrate.
By etching the opposite metal plane bonded to the insulating layer until the insulating layer is exposed, a conductor wiring pattern is buried in the etched metal surface, and a cured insulating material is provided in a portion where the conductor wiring pattern does not exist. A heat conductive substrate with the object exposed is produced.

【0036】このとき前記凹凸形状を持つリードフレー
ムを用いることで独立した島状パターンを有しても、従
来のような放熱板端面が腐食する問題は起こらず、完成
後の熱伝導基板にも独立したリードフレームパターンが
形成され、しかもリードフレームが埋没した形状を実現
できる。これは、リードフレームパターンを埋没させる
ことでリードフレーム下からだけでなくリードフレーム
の幅方向にも熱を放散させることができるので、放熱を
必要とする電源モジュールなどに有効なものである。
At this time, even if an independent island pattern is formed by using the lead frame having the uneven shape, there is no problem that the end face of the heat radiating plate is corroded unlike the conventional case, and the completed heat conductive substrate is also used. An independent lead frame pattern is formed, and a shape in which the lead frame is buried can be realized. By burying the lead frame pattern, the heat can be dissipated not only from below the lead frame but also in the width direction of the lead frame, so that it is effective for a power supply module or the like that requires heat radiation.

【0037】さらに図2(c)に示した工程において、
熱伝導基板用シート状物と接着された反対側の金属平面
を絶縁層が露出するまでエッチングする際、さらにエッ
チングを継続して行い図3(d)に示したように前記埋
設されたリードフレームからなる導体配線パターンが、
前記熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる絶縁物表面よ
り凹んだ構造とすることで、部品実装の際の部品位置固
定を容易にすることができる。また絶縁層表面がリード
フレームパターンより突出した構造を有しているため、
配線パターン間の縁面距離を大きくできる。
Further, in the step shown in FIG.
When the metal plane on the opposite side bonded to the sheet material for a heat conductive substrate is etched until the insulating layer is exposed, the etching is further continued and the embedded lead frame is formed as shown in FIG. The conductor wiring pattern consisting of
By making the structure recessed from the surface of the insulator made of the thermosetting resin and the inorganic filler, it is possible to easily fix the position of the component when mounting the component. Also, because the insulating layer surface has a structure that protrudes from the lead frame pattern,
The edge distance between the wiring patterns can be increased.

【0038】このことは換言すれば、配線パターン間を
狭めても平坦である場合より絶縁距離を確保できるとい
うことを示しており、それだけ高密度化が達成でき、電
源などの機器の小型化に貢献できるものである。また、
図3(e)においては、金属平面のエッチング後の導体
配線パターンを露出した後にスクリーン印刷等によりソ
ルダレジスト25を形成する。これにより、部品の実装
時のはんだ量の低減を図ると共に回路の絶縁性を向上さ
せる。
In other words, this indicates that even if the distance between the wiring patterns is narrowed, the insulation distance can be secured as compared with the case where the wiring pattern is flat, so that high density can be achieved and the size of equipment such as a power supply can be reduced. Can contribute. Also,
In FIG. 3E, a solder resist 25 is formed by screen printing or the like after exposing the conductor wiring pattern after etching the metal plane. Thereby, the amount of solder at the time of mounting components is reduced, and the insulation of the circuit is improved.

【0039】(実施の形態3)図4、図5の(a)〜
(d)においては、図2(b)において、金属板平面に
埋没させた導体配線パターンと同一のパターンフィルム
を用いて更なる厚い回路を形成する方法で電流容量の必
要とする場合や導体の厚くかつ線幅の細い回路を形成す
るときに有効な手段である。これは、エッチングでパタ
ーンを形成する際、エッチングレジストを形成している
部分に対してそれより下面になるにつれてエッチングレ
ジスト形成幅よりも大きくなる傾向になってしまうた
め、導体厚に対して50%以上の溝を形成する場合必要
以上に下部の導体幅が広くなる。
(Embodiment 3) FIGS. 4 and 5A to FIG.
In FIG. 2D, in FIG. 2B, a case where a current capacity is required by a method of forming a thicker circuit using the same pattern film as the conductor wiring pattern buried in the plane of the metal plate, This is an effective means when forming a thick and narrow circuit. This is because, when a pattern is formed by etching, the portion where the etching resist is formed tends to be larger than the etching resist forming width as it becomes lower than the portion where the etching resist is formed. When the above-described groove is formed, the width of the lower conductor becomes wider than necessary.

【0040】そのため、本方法では、まず50%の厚み
導体配線を形成したリードフレームを作製し、その導体
配線を熱伝導シートに埋め込みその後さらに金属平面部
から埋没した導体回路と同じ図柄のフィルムを用いるこ
とで今度は前記形成した導体配線の下面部より同一の回
路を形成するため必要以上に回路の幅を大きくすること
のない精度の良い導体回路が得られる。図4(a)にお
いては、図2(b)より、金属平面にフィルムにより、
エッチングレジストの塗布もしくは貼り付け、露光、現
像を経て、エッチングレジストを形成したものである。
また、図4(b)においては、エッチングにより、不要
となる金属板をエッチングし、所望の回路を得たもので
ある。
Therefore, in this method, first, a lead frame on which a conductor wiring having a thickness of 50% is formed is manufactured, the conductor wiring is embedded in a heat conductive sheet, and then a film having the same pattern as the conductor circuit buried from a metal flat portion is formed. By using this, the same circuit is formed from the lower surface portion of the formed conductor wiring, so that a highly accurate conductor circuit without increasing the width of the circuit more than necessary can be obtained. In FIG. 4 (a), from FIG.
An etching resist is formed through coating or pasting of an etching resist, exposure, and development.
In FIG. 4B, an unnecessary metal plate is etched by etching to obtain a desired circuit.

【0041】また、図5(c)においては、図2より、
金属平面に任意に導体厚の異なる回路を形成するため
に、フィルムにより、エッチングレジストの塗布もしく
は貼り付け、露光、現像を経て、エッチングレジストを
形成したものである。加えて図5(d)は、エッチング
により、導体厚を任意に作製したものである。
In FIG. 5C, from FIG.
In order to arbitrarily form circuits having different conductor thicknesses on a metal plane, an etching resist is formed by applying or attaching an etching resist, exposing, and developing with a film. In addition, FIG. 5D shows a case where the conductor thickness is arbitrarily manufactured by etching.

【0042】[0042]

【実施例】以下、具体的実施例により本発明を更に詳細
に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.

【0043】(実施例1)本発明のリードフレームの作
製に際し、一定厚みを有する金属板11として、厚み
1.0mmの銅板(神戸製鋼製:KFC 1/2)を準
備した。一定厚みを有する金属板11の片面に任意のパ
ターン形状を有するレジスト膜を形成するため、ドライ
フィルムレジストを用いてロールラミネート装置によ
り、前記金属板の両面にレジスト膜12の形成を行っ
た。ドライフィルムレジストは、プリント基板のパター
ニングに使用される一般的なものである(ドライフィル
ムレジスト:日立化成工業製H−S930−30)。
(Example 1) When manufacturing the lead frame of the present invention, a copper plate (manufactured by Kobe Steel: KFC 1/2) having a thickness of 1.0 mm was prepared as the metal plate 11 having a constant thickness. In order to form a resist film having an arbitrary pattern shape on one surface of a metal plate 11 having a constant thickness, a resist film 12 was formed on both surfaces of the metal plate by a roll laminating apparatus using a dry film resist. The dry film resist is a general one used for patterning a printed board (dry film resist: H-S930-30 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.).

【0044】次に両面にドライフィルム12を形成した
金属板11に紫外線露光装置を用いて、配線パターンを
描画したフィルムマスク13を介して密着露光を行っ
た。金属板の配線パターン形成しない面は、全面露光し
た。次に露光した金属板11上のドライフィルムレジス
トを現像液中で処理し、露光されたレジスト部分は、紫
外線により硬化され残るが、フィルムマスクにより露光
されなかった部分のレジストは除去され、前記金属板面
が露出した状態となる。
Next, the metal plate 11 having the dry film 12 formed on both sides was subjected to close-contact exposure through a film mask 13 on which a wiring pattern was drawn, using an ultraviolet exposure apparatus. The entire surface of the metal plate on which the wiring pattern was not formed was exposed. Next, the exposed dry film resist on the metal plate 11 is processed in a developing solution, and the exposed resist portion is cured by ultraviolet rays and remains, but the resist not exposed by the film mask is removed, and the metal resist is removed. The plate surface is exposed.

【0045】さらに前記レジスト膜を利用して塩化鉄溶
液中でエッチング処理をして、前記金属板の一方表面に
のみ厚み方向に対して一様な深さを持つ溝と所望の凸部
をもつ導体配線パターンが形成された。このときエッチ
ング処理する時間を変更することにより、一定の厚みを
有する金属板に形成する溝の深さを制御することができ
る。本実施例では、0.5mmの厚みの金属板に対し、
約半分の0.5mm深さの溝を形成した。
Further, the resist film is etched in an iron chloride solution to form a groove having a uniform depth in a thickness direction and a desired convex portion only on one surface of the metal plate. A conductor wiring pattern was formed. At this time, the depth of the groove formed in the metal plate having a certain thickness can be controlled by changing the etching time. In this embodiment, for a metal plate having a thickness of 0.5 mm,
Approximately half of the groove was formed with a depth of 0.5 mm.

【0046】最後に前記レジスト膜を苛性ソーダで処理
することで除去し、表面に任意の配線パターンと独立し
たパターンを有する凹凸からなるリードフレームが作製
された。
Finally, the resist film was removed by treating it with caustic soda, thereby producing a lead frame having irregularities on the surface having a pattern independent of an arbitrary wiring pattern.

【0047】(実施例2)本発明のリードフレームの作
製に際し、一定厚みを有する金属板11として、厚み
0.5mmの銅板(神戸製鋼製:KFC 1/2)を準
備した。一定厚みを有する金属板11の片面に任意のパ
ターン形状を有するレジスト膜を形成する。レジスト膜
はスクリーン印刷法でレジストペーストを印刷して得る
ことができる。レジストペーストはバインダとしてブチ
ラール樹脂とターピネオールを混練したものを用いた。
任意のパターンを形成したスクリーン版を用いてスキー
ジにより前記金属板11の表面に印刷した。このように
して作製されたレジスト膜形成済み金属板を100℃1
0間乾燥機により溶剤の乾燥を行った。乾燥後のレジス
ト膜はブチラール樹脂の膜(厚み約30μm)が形成で
きた。一方反対面には同様に全面にレジスト印刷・乾燥
を行った。
(Example 2) When manufacturing the lead frame of the present invention, a 0.5 mm thick copper plate (manufactured by Kobe Steel: KFC 1/2) was prepared as the metal plate 11 having a constant thickness. A resist film having an arbitrary pattern shape is formed on one surface of a metal plate 11 having a constant thickness. The resist film can be obtained by printing a resist paste by a screen printing method. The resist paste used was a mixture of butyral resin and terpineol as a binder.
Printing was performed on the surface of the metal plate 11 by a squeegee using a screen plate on which an arbitrary pattern was formed. The metal plate on which a resist film is formed in this manner is formed at 100 ° C.1
The solvent was dried by a zero-time drier. After drying, a butyral resin film (thickness: about 30 μm) was formed. On the other hand, on the other side, resist printing and drying were similarly performed on the entire surface.

【0048】次に前記レジスト膜を利用して塩化鉄溶液
中でエッチング処理をして、前記金属板の一方表面にの
み厚み方向に対して一様な深さを持つ溝と所望の凸部を
もつ導体配線パターンが形成された。このときエッチン
グ処理する時間を変更することにより、一定の厚みを有
する金属板に形成する溝の深さを制御することができ
る。本実施例では、0.5mmの厚みの金属板に対し、
約半分の0.25mm深さの溝を形成した。
Next, an etching process is performed in an iron chloride solution using the resist film to form a groove having a uniform depth in a thickness direction and a desired convex portion only on one surface of the metal plate. A conductive wiring pattern was formed. At this time, the depth of the groove formed in the metal plate having a certain thickness can be controlled by changing the etching time. In this embodiment, for a metal plate having a thickness of 0.5 mm,
Approximately half of the groove was formed with a depth of 0.25 mm.

【0049】最後に前記レジスト膜を溶剤を用いてブチ
ラール樹脂を溶解除去し、その面をニッケルメッキする
ことで、表面に任意の配線パターンと独立したパターン
を有する凹凸からなるリードフレームが作製された。さ
らに表面をアルミナ粉末を吹き付けるサンドブラスト処
理することで、前記凹凸部の表面を粗化され熱硬化性樹
脂との密着性を強化することが可能となる。
Finally, the butyral resin was dissolved and removed from the resist film using a solvent, and the surface thereof was nickel-plated, whereby a lead frame having irregularities having a pattern independent of an arbitrary wiring pattern on the surface was produced. . Further, the surface of the uneven portion is roughened by sand blasting by spraying alumina powder on the surface, thereby making it possible to enhance the adhesion to the thermosetting resin.

【0050】(実施例3)本発明の熱伝導基板の作製に
際し、まず無機フィラーと熱硬化樹脂によるシート状物
の作製方法から述べる。本実施例に使用したシート状物
の作製方法は、無機フィラーと液状の熱硬化樹脂、適度
の溶剤を攪拌混合機により混合する。使用した攪拌混合
機は、所定の容量の容器に無機フィラーと液状の熱硬化
樹脂、溶剤を投入し、容器自身を自転させながら公転さ
せるもので、比較的粘度が高くても充分な分散状態が得
られるものである。実施した熱伝導基板用のシート状物
の配合組成は、液状熱硬化樹脂としてのエポキシ樹脂
は、日本ペルノックス(株)製(WE−2025、酸無
水系硬化剤含む)、フェノール樹脂は、大日本インキ
(株)製(フェノライト VH4150)、シアネート
樹脂は、旭チバ(株)製(AroCy M−30)を用
いた。
(Example 3) In producing the heat conductive substrate of the present invention, a method of producing a sheet material using an inorganic filler and a thermosetting resin will be described first. In the method for producing a sheet-like material used in this example, an inorganic filler, a liquid thermosetting resin, and an appropriate solvent are mixed by a stirring mixer. The stirring and mixing machine used is an apparatus in which an inorganic filler, a liquid thermosetting resin and a solvent are charged into a container having a predetermined capacity, and revolves while rotating the container itself. It is obtained. The composition of the sheet material for the heat conductive substrate was as follows. The epoxy resin as the liquid thermosetting resin was manufactured by Nippon Pernox Co., Ltd. (WE-2025, including an acid anhydride-based curing agent). Ink Co., Ltd. (Phenolite VH4150), and the cyanate resin used was Asahi Ciba Co., Ltd.'s (AroCy M-30).

【0051】シート状物の具体的作製方法は、表1の組
成で秤量・混合されたペースト状の混合物の所定量を取
り、離型フィルム上に造膜させる。離型フィルムとして
厚み75μmの表面にシリコンによる離型処理を施され
たポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。混練
した材料をドクターブレード法で一定厚みに造膜させ
た。次に離型フィルム上の混合物を離型フィルムごと加
熱し、粘着性が無くなる条件下で乾燥熱処理した。熱処
理条件は温度が120℃で15分間保持である。これに
より前記混合物は、厚み500μmの粘着性のないシー
ト状物ができる。前記熱硬化エポキシ樹脂は、硬化開始
温度が130℃であるため、前記熱処理条件下では、未
硬化状態(Bステージ)であり、以降の工程で加熱によ
り再度溶融させることができる。
As a specific method for producing a sheet-like material, a predetermined amount of a paste-like mixture weighed and mixed according to the composition shown in Table 1 is taken and formed on a release film. As the release film, a polyethylene terephthalate film having a surface having a thickness of 75 μm and subjected to release treatment with silicon was used. The kneaded material was formed into a constant thickness by a doctor blade method. Next, the mixture on the release film was heated together with the release film, and dried and heat-treated under the condition that tackiness was lost. The heat treatment is performed at a temperature of 120 ° C. for 15 minutes. As a result, the mixture becomes a non-sticky sheet having a thickness of 500 μm. Since the thermosetting epoxy resin has a curing start temperature of 130 ° C., it is in an uncured state (B stage) under the heat treatment conditions, and can be melted again by heating in a subsequent step.

【0052】このようにして作製されたシート状物を実
施例1で作製したリードフレームとその凹凸面が向かい
合うように位置合わせして重ね合わせ、その上に、所望
のサイズより0.5mm以上小さい放熱板を重ね合わ
せ、さらに平坦な金属板10mmt2枚の間に挟んで1
50℃条件下で50kg/cm2の圧力で加熱加圧し
た。このときリードフレームの凹凸面には前記のシート
状物が流入し完全に充填され、しかもシート状物中の熱
硬化樹脂は加熱により硬化されリードフレームと機械的
に接着されたると共に放熱板の端面にもシート状物が流
入し覆う。
The sheet-like material produced in this manner is superposed on the lead frame produced in Example 1 so that the concave and convex surfaces thereof face each other, and is then 0.5 mm or less smaller than the desired size. Heat sinks are overlapped and sandwiched between two flat metal plates of 10 mmt.
It was heated and pressed at a pressure of 50 kg / cm 2 at 50 ° C. At this time, the above-mentioned sheet-like material flows into the uneven surface of the lead frame and is completely filled, and the thermosetting resin in the sheet-like material is cured by heating and is mechanically adhered to the lead frame, and the end surface of the heat radiating plate. The sheet-like material also flows in and covers.

【0053】(実施例4)このようにして作製されたシ
ート状物とリードフレームの一体化された基板を塩化鉄
溶液(エッチング液に関しては、今回は塩化鉄溶液を用
いたが、塩化銅溶液を用いることも可能であった。)中
に投入してリードフレーム金属面をエッチング処理を行
うが、まず、この処理前に、放熱板となる金属面にエッ
チングの際に腐食を保護するためのレジスト膜として、
耐酸用の保護フィルム(日東電工製:NITTO TA
PE No.31)を被金属面との間に空気等が進入し
ないように張り合わせた。張り合わせる際に、一般的に
用いられるフィルムを張り合わせるためのラミネータ機
を用いることも可能であった。その後、エッチングする
金属面に任意の導体回路を形成する場合には、前記金属
板上にエッチングの際にレジストになるものを形成す
る。今回は、前記実施例1でも用いたドライフィルムレ
ジスト(日立化成工業製 H−S930−30)を張り
合わせた後、所望のフィルムにより、露光したのち、現
像、エッチングを経て所望の導体配線を形成する。この
パターン形成には、実施例2のスクリーン印刷によるレ
ジスト形成を用いることも可能である。このエッチング
に際しては、任意の導体配線を形成する個所以外のシー
ト状物が表面に現れるまで実施することで、シート状物
中に埋設された導体配線並びにその上部にも任意の導体
配線パターンが得られ、前記で形成したエッチングレジ
ストを苛性ソーダにより、除去することでシート状物に
パターンを形成した基板を得た。
(Example 4) An integrated substrate of a sheet and a lead frame manufactured in this manner was treated with an iron chloride solution (an iron chloride solution was used as an etching solution, but a copper chloride solution was used. The metal surface of the lead frame is subjected to an etching process by inserting the metal into the substrate. First, before this process, a metal surface serving as a heat sink is protected for corrosion during etching. As a resist film,
Protective film for acid resistance (NITTO TA manufactured by Nitto Denko)
PE No. 31) were bonded together so that air and the like did not enter between the metal surface. At the time of laminating, it was also possible to use a laminator machine for laminating commonly used films. After that, when an arbitrary conductor circuit is formed on the metal surface to be etched, a resist which is to be a resist at the time of etching is formed on the metal plate. This time, after laminating the dry film resist (H-S930-30 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) also used in the first embodiment, exposure with a desired film is performed, followed by development and etching to form a desired conductor wiring. . For this pattern formation, it is possible to use the resist formation by screen printing of the second embodiment. By performing this etching until a sheet-like material other than a portion where an arbitrary conductor wiring is formed appears on the surface, a conductor wiring buried in the sheet-like material and an arbitrary conductor wiring pattern can be obtained on the upper portion thereof. Then, the etching resist formed above was removed with caustic soda to obtain a substrate on which a pattern was formed on a sheet-like material.

【0054】また、この金属面に導体配線等の必要がな
い場合は、この前記処理を施すことなく、エッチング処
理を実施する。またこの前記リードフレーム金属板の一
方表面のエッチング処理は、少なくとも前記のシート状
物が表面に現れるまで行う。これによりシート状物中に
前記リードフレームの凸部だけが埋設され平坦な配線パ
ターンを有する熱伝導基板が得られた。このときエッチ
ング処理する時間をさらに長くすることで、埋設された
リードフレームが前記シート状物の表面より凹んだ構造
の熱伝導基板を得ることも可能である。このような配線
パターンが凹んだ構造を有する熱伝導基板は、後工程に
おける部品実装で部品の位置合わせをする上で有効なも
のとなる。
If there is no need for conductor wiring or the like on the metal surface, an etching process is performed without performing the above process. The etching process on one surface of the lead frame metal plate is performed at least until the sheet-like material appears on the surface. As a result, a heat conductive substrate having a flat wiring pattern in which only the protrusions of the lead frame were buried in the sheet was obtained. At this time, by further increasing the etching time, it is possible to obtain a heat conductive substrate having a structure in which the embedded lead frame is recessed from the surface of the sheet. Such a heat conductive substrate having a structure in which a wiring pattern is depressed is effective for positioning components in component mounting in a later process.

【0055】(実施例5)前記にて作製した基板は、シ
ート状物に銅の導体配線が形成された状態で銅配線がむ
き出した状態であるため、この導体配線を保護するた
め、ソルダレジストを形成する。
(Example 5) Since the copper wiring was exposed in a state where the copper wiring was formed on the sheet-like material in the above-described substrate, a solder resist was used to protect the conductive wiring. To form

【0056】このソルダレジストは、熱硬化型のソルダ
レジストインキ(太陽インキ製造(株)製:S−22
2)をスクリーン印刷により、形成した後、このレジス
トを硬化するために温風乾燥機を用いて、150℃、2
0分処理を施すことにより、導体回路配線がソルダレジ
ストにより保護された基板が得られた。
This solder resist is a thermosetting solder resist ink (manufactured by Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd .: S-22).
After 2) is formed by screen printing, the resist is cured at 150 ° C., 2 ° C. using a hot air drier.
By performing the treatment for 0 minutes, a substrate in which the conductor circuit wiring was protected by the solder resist was obtained.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明したように、本発明から得られ
る放熱用の金属板端面が腐食することなく基板が作製で
き、しかもリードフレームによれば、位置決め用の導体
配線パターン部分が不要で、任意の形状を有した他のフ
レーム部分との接続部分がない導体配線パターンを作製
することが可能になる。また、本発明によれば、放熱性
に優れパターン設計に自由度のある回路基板を得ること
ができ、しかも、同一基板内に最大3つの異なる厚みの
回路配線を可能とすることができる。さらに本発明から
得られる熱伝導基板は、リードフレーム上の樹脂バリを
無くすことが可能であるため、部品実装などの後工程を
考慮にいれても有効な手段と考えられる。
As described above, the substrate can be manufactured without corroding the end surface of the heat-dissipating metal plate obtained from the present invention. Further, according to the lead frame, the conductor wiring pattern portion for positioning is unnecessary, It is possible to produce a conductor wiring pattern having an arbitrary shape and no connection portion with another frame portion. Further, according to the present invention, it is possible to obtain a circuit board which is excellent in heat dissipation and has a high degree of freedom in pattern design, and enables circuit wiring of up to three different thicknesses on the same board. Furthermore, since the heat conductive substrate obtained from the present invention can eliminate resin burrs on the lead frame, it is considered to be an effective means even in consideration of a post-process such as component mounting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1によるリードフレームの
製造方法を示す工程断面図
FIG. 1 is a process sectional view illustrating a method for manufacturing a lead frame according to Embodiment 1 of the present invention;

【図2】本発明の実施の形態2によるリードフレームを
用いて作製される熱伝導基板の製造工程を示す工程断面
FIG. 2 is a process sectional view showing a manufacturing process of a heat conductive substrate manufactured using a lead frame according to a second embodiment of the present invention.

【図3】同実施の形態2の工程断面図FIG. 3 is a process sectional view of Embodiment 2;

【図4】本発明の実施の形態3による厚みの異なる導体
回路を所有する熱伝導基板の製造工程を示す工程断面図
FIG. 4 is a process cross-sectional view showing a process of manufacturing a heat conductive substrate having conductor circuits having different thicknesses according to the third embodiment of the present invention.

【図5】同実施の形態3の工程断面図FIG. 5 is a process sectional view of Embodiment 3;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 金属板 12 レジスト膜 13 フィルムパターン 14 非露光部 15 露光部 16 溝 21 リードフレーム 22 熱伝導性シート状物 23 放熱性金属板 24 放熱性金属板保護フィルム 25 ソルダレジスト DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Metal plate 12 Resist film 13 Film pattern 14 Non-exposed part 15 Exposure part 16 Groove 21 Lead frame 22 Heat conductive sheet 23 Heat dissipating metal plate 24 Heat dissipating metal plate protection film 25 Solder resist

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/20 H01L 23/36 C (72)発明者 中谷 誠一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 菅谷 康博 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 松尾 光洋 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E338 AA16 AA18 BB02 BB19 BB61 BB63 BB71 BB75 CC01 CD01 CD33 EE02 5E339 AB02 AC02 AD01 BC01 BD03 BD06 BE11 CE15 EE10 FF03 5E343 AA02 AA12 AA22 AA38 BB02 BB03 BB21 BB66 DD52 DD76 GG20 5F036 AA01 BB08 BB21 BD01 BD03 BD21 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/20 H01L 23/36 C (72) Inventor Seiichi Nakatani 1006 Kadoma, Kazuma, Kadoma, Osaka Matsushita Electric Industrial Inside (72) Inventor Yasuhiro Sugaya 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Pref. Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Mitsuhiro Matsuo 1006 Odaka Kazuma Kadoma, Osaka Pref. Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 5E338 AA16 AA18 BB02 BB19 BB61 BB63 BB71 BB75 CC01 CD01 CD33 EE02 5E339 AB02 AC02 AD01 BC01 BD03 BD06 BE11 CE15 EE10 FF03 5E343 AA02 AA12 AA22 AA38 BB02 BB03 BB21 BB66 DD52 DD36 GG21 5

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面には一定の厚みを有する金属板か
ら、エッチングにより任意の導電配線パターンを形成し
たリードフレームが埋設され、かつ前記導体配線パター
ンが存在しない部分には少なくとも熱硬化性樹脂と無機
フィラーからなる絶縁物が露出しており、前記導体配線
パターンには各々独立した形状を有する前記導体配線パ
ターンを含み、他方表面には前記絶縁物を介して放熱す
るための金属板を埋設し、金属板端面を絶縁物にて保護
した構造を有することを特徴とする熱伝導基板。
1. A lead frame on which an arbitrary conductive wiring pattern is formed by etching from a metal plate having a certain thickness is buried on the surface, and at least a thermosetting resin is formed in a portion where the conductive wiring pattern does not exist. An insulator made of an inorganic filler is exposed, the conductor wiring pattern includes the conductor wiring pattern having an independent shape, and a metal plate for radiating heat via the insulator is embedded on the other surface. A heat conductive substrate having a structure in which an end face of a metal plate is protected by an insulator.
【請求項2】 前記熱伝導基板の放熱するために埋設さ
せた金属板端面と前記熱伝導基板の端面との距離が0.
5mm以上を特徴とする請求項1に記載した熱伝導基
板。
2. The distance between an end face of a metal plate buried for heat dissipation of the heat conductive substrate and an end face of the heat conductive substrate is 0.
The heat conductive substrate according to claim 1, wherein the heat conductive substrate has a length of 5 mm or more.
【請求項3】 前記熱伝導基板の導体配線パターンに電
子部品を接続するランド部以外を絶縁レジストで保護し
た構成を特徴とする請求項1に記載した熱伝導基板。
3. The heat conductive substrate according to claim 1, wherein a portion other than a land portion for connecting an electronic component to the conductor wiring pattern of the heat conductive substrate is protected by an insulating resist.
【請求項4】 前記熱伝導基板の導体配線パターンに電
子部品を接続するランド部以外を絶縁レジストで保護す
る導体配線パターンランド径よりも−0.05〜−0.
2mm小さい径を開口部とした構成の絶縁レジストを特
徴とする請求項3に記載した熱伝導基板。
4. A conductor wiring pattern for protecting a conductor wiring pattern of the heat conductive substrate other than a land portion for connecting an electronic component with an insulating resist.
4. The heat conductive substrate according to claim 3, wherein the insulating resist has a configuration in which an opening has a diameter smaller by 2 mm.
【請求項5】 前記熱伝導基板のリードフレームと接着
された反対面の前記絶縁物表面に、放熱特性を向上させ
るための金属板が、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄か
ら運ばれた少なくとも1種を主成分とする金属からなる
ことを特徴とする請求項1に記載した熱伝導基板。
5. A metal plate for improving heat radiation characteristics is provided on the surface of the insulator opposite to the surface of the heat conductive substrate which is bonded to the lead frame, at least one of a metal plate carried from copper, aluminum, nickel, and iron. The heat conductive substrate according to claim 1, wherein the heat conductive substrate is made of a metal mainly composed of:
【請求項6】 前記熱伝導基板で、リードフレーム直下
の絶縁層厚みが0.02〜2mmの範囲であることを特
徴とする請求項1に記載の熱伝導基板。
6. The heat conductive substrate according to claim 1, wherein the thickness of the insulating layer immediately under the lead frame in the heat conductive substrate is in a range of 0.02 to 2 mm.
【請求項7】 請求項1に記載の熱伝導基板であって、
前記埋設されたリードフレームからなる導体配線パター
ンが、前記熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる絶縁物
表面より凹んだ構造を有することを特徴とする熱伝導基
板。
7. The heat conductive substrate according to claim 1, wherein
A heat conductive substrate, wherein a conductor wiring pattern made of the embedded lead frame has a structure depressed from the surface of an insulator made of the thermosetting resin and an inorganic filler.
【請求項8】 請求項1に記載の熱伝導基板であって、
前記埋設されたリードフレームからなる導体配線パター
ンが、前記熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる絶縁物
表面より凸んだ構造を有することを特徴とする熱伝導基
板。
8. The heat conductive substrate according to claim 1, wherein:
A heat conductive substrate, wherein the conductor wiring pattern made of the embedded lead frame has a structure protruding from the surface of an insulator made of the thermosetting resin and the inorganic filler.
【請求項9】 請求項1に記載の熱伝導基板であって、
前記埋設されたリードフレームからなる導体配線パター
ンが、前記熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる絶縁物
表面より選択的に凹んだ構造を有することを特徴とする
熱伝導基板。
9. The heat conductive substrate according to claim 1, wherein
A heat conductive substrate, wherein a conductor wiring pattern made of the embedded lead frame has a structure selectively depressed from the surface of an insulator made of the thermosetting resin and an inorganic filler.
【請求項10】 熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる
前記絶縁物に含まれる熱硬化樹脂が、エポキシ系樹脂、
フェノール系樹脂若しくはシアネート系樹脂の少なくと
も1種類であることを特徴とする請求項1に記載の熱伝
導基板。
10. The thermosetting resin contained in the insulator composed of a thermosetting resin and an inorganic filler is an epoxy resin,
The heat conductive substrate according to claim 1, wherein the substrate is at least one of a phenolic resin and a cyanate resin.
【請求項11】 熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる
前記絶縁物に含まれる無機フィラーが、アルミナ、シリ
カ、マグネシア、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素から
選ばれた少なくとも1種の粉末で構成されることを特徴
とする請求項1に記載の熱伝導基板。
11. The method according to claim 1, wherein the inorganic filler contained in the insulator comprising a thermosetting resin and an inorganic filler comprises at least one powder selected from alumina, silica, magnesia, aluminum nitride, and boron nitride. The heat conductive substrate according to claim 1, wherein:
【請求項12】 一定厚みを有する金属板の片面に任意
のパターン形状を有するレジスト膜を形成する工程と、
次いで前記レジスト膜を利用してエッチングをして、前
記金属板の一方表面にのみ厚み方向に対して一様な深さ
を持つ溝と所望の形状をもつ導体配線パターンを成形す
る工程と、前記レジスト膜を除去する工程により作製し
たリードフレームの導体配線パターンを形成した凹凸面
に、少なくとも未硬化状態の熱硬化性樹脂と無機フィラ
ーからなる熱伝導基板用シート状物と放熱板用の金属板
を一定条件により加熱・加圧して、前記導体配線パター
ンを形成した凹部及び前記金属板の端面に前記シート状
物を充填及び保護、硬化かつ接着形成させて絶縁層を形
成する工程と、前記熱伝導基板用シート状物と前記金属
板を接着された熱伝導基板の前記リードフレーム金属平
面を前記硬化させたシート状物が露出するまでエッチン
グする工程よりなり、これにより前記リードフレームの
導体配線パターンが前記熱伝導基板用シート状物に埋設
され、かつ前記導体配線パターンが存在しない部分には
硬化した少なくとも熱硬化性樹脂と無機フィラーからな
る絶縁物が露出した状態に電子部品を接合させるランド
以外を絶縁樹脂で保護していることを特徴とする熱伝導
基板の製造方法。
12. A step of forming a resist film having an arbitrary pattern on one surface of a metal plate having a constant thickness;
Next, etching using the resist film, forming a groove having a uniform depth in the thickness direction only on one surface of the metal plate and a conductive wiring pattern having a desired shape, A heat conductive substrate sheet made of at least an uncured thermosetting resin and an inorganic filler and a metal plate for a heat radiating plate are formed on the uneven surface of the lead frame formed by the step of removing the resist film on which the conductive wiring pattern is formed. Heating and pressurizing under predetermined conditions to fill and protect, cure, cure and bond the sheet-like material into the concave portion in which the conductor wiring pattern is formed and the end face of the metal plate to form an insulating layer; The step of etching the lead frame metal plane of the heat conductive substrate to which the conductive substrate sheet and the metal plate are bonded until the cured sheet is exposed. Accordingly, the conductor wiring pattern of the lead frame is buried in the heat conductive substrate sheet-like material, and the cured insulating material composed of at least a thermosetting resin and an inorganic filler is exposed in a portion where the conductor wiring pattern does not exist. A method for manufacturing a heat conductive substrate, wherein a portion other than a land to which an electronic component is joined in a separated state is protected by an insulating resin.
【請求項13】 前記請求項12に記載した熱伝導基板
の製造方法において、リードフレーム、熱伝導基板用シ
ート状物及び放熱用金属板を一括に加熱、加圧接着させ
た後、前記リードフレーム金属平面に前記リードフレー
ムに形成した任意の導体パターンと同様のパターンを有
するレジスト膜を形成する工程と、次いで前記レジスト
膜を利用してエッチングを行うことで、前記熱伝導シー
ト状物に埋設された前記導体配線パターンが前記熱伝導
シート状物よりも凸んだ構成を形成する工程とを有する
熱伝導基板の製造方法。
13. The method for manufacturing a heat conductive substrate according to claim 12, wherein the lead frame, the sheet material for the heat conductive substrate, and the heat dissipating metal plate are collectively heated and press-bonded, and then the lead frame is bonded. A step of forming a resist film having a pattern similar to an arbitrary conductor pattern formed on the lead frame on a metal plane, and then performing etching using the resist film, thereby embedding in the heat conductive sheet-like material. Forming a configuration in which the conductor wiring pattern is more convex than the heat conductive sheet-like material.
【請求項14】 前記請求項11に記載した熱伝導基板
の製造方法において、リードフレーム、熱伝導基板用シ
ート状物及び放熱用金属板を加熱、加圧接着させた後、
前記リードフレーム金属平面に前記リードフレームに形
成した任意の導体パターンと選択的に同様のパターンを
有するレジスト膜を形成する工程と、次いで前記レジス
ト膜を利用してエッチングを行うことで、前記熱伝導シ
ート状物に埋設された前記導体配線パターンで選択的に
前記熱伝導シート状物よりも凹んだ導体配線パターンの
構成を形成する工程とを有する熱伝導基板の製造方法。
14. The method for manufacturing a heat conductive substrate according to claim 11, wherein the lead frame, the sheet material for the heat conductive substrate, and the metal plate for heat radiation are heated and pressurized and bonded.
Forming a resist film having a pattern selectively similar to an arbitrary conductor pattern formed on the lead frame on the lead frame metal plane, and then performing etching using the resist film, thereby achieving the heat conduction. Selectively forming a configuration of a conductor wiring pattern recessed from the heat conductive sheet material with the conductor wiring pattern embedded in the sheet material.
【請求項15】 前記加熱、加圧する条件が、前記熱伝
導基板用シート状物中の熱硬化樹脂組成物の硬化温度以
上でかつ10〜200kg/cm2の圧力で成形を行う
ことを特徴とする請求項12に記載の熱伝導基板の製造
方法。
15. The method according to claim 1, wherein the heating and pressurizing are performed at a temperature equal to or higher than the curing temperature of the thermosetting resin composition in the heat conductive substrate sheet and at a pressure of 10 to 200 kg / cm 2. The method for manufacturing a heat conductive substrate according to claim 12.
【請求項16】 前記加熱、加圧する条件が、前記熱伝
導基板用シート状物中の熱硬化樹脂組成物の硬化温度以
下でかつ10〜200kg/cm2の圧力で成型し、リ
ードフレームの表面まで充填一体化し、次いで前記熱硬
化樹脂組成物の硬化温度以上でさらに10〜400kg
/cm2の圧力で加熱加圧して前記熱硬化性樹脂を硬化
させる工程よりなることを特徴とする請求項12に記載
の熱伝導基板の製造方法。
16. The conditions of the heating and pressurizing are not higher than the curing temperature of the thermosetting resin composition in the heat conductive substrate sheet and are molded at a pressure of 10 to 200 kg / cm 2 , and the surface of the lead frame is formed. Filled and integrated, and then 10 to 400 kg at the curing temperature of the thermosetting resin composition or higher.
The method according to claim 12, comprising a step of curing the thermosetting resin by heating and pressurizing at a pressure of / cm 2 .
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