JP2001176402A - Resin composition and resin composition element for molding barrier ribs, and manufacturing method of barrier rib using them - Google Patents

Resin composition and resin composition element for molding barrier ribs, and manufacturing method of barrier rib using them

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JP2001176402A
JP2001176402A JP36203499A JP36203499A JP2001176402A JP 2001176402 A JP2001176402 A JP 2001176402A JP 36203499 A JP36203499 A JP 36203499A JP 36203499 A JP36203499 A JP 36203499A JP 2001176402 A JP2001176402 A JP 2001176402A
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JP
Japan
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resin composition
barrier rib
forming
forming resin
relief pattern
Prior art date
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JP36203499A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Nojiri
剛 野尻
Shoichi Sasaki
晶市 佐々木
Hiroyuki Kawakami
広幸 川上
Mariko Shimamura
真理子 島村
Seiji Tai
誠司 田井
Yoshiyuki Horibe
芳幸 堀部
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Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide resin composition for molding barrier ribs, superior in moldability and preservation stability of barrier ribs for plasma display panel, resin composition elements for molding barrier rib superior in moldability, preservation stability and workability, and manufacturing method for barrier ribs that can shorten manufacturing process and mold barrier ribs having superior shape with good workability. SOLUTION: This resin composition for molding barrier ribs contains an organic material having a binder polymer, an organic silicon compound and a compound having carboxyl radical, as well as an inorganic material. On a substrate provided with a resin composition element for molding barrier ribs having that layer on a support film and removable relief pattern, the element is disposed, so that its resin composite layer for molding barrier ribs faces the substrate side. The resin composite element for molding barrier ribs is laminated as a layer on the substrate and embedded in the gap of the relief pattern, and then baked by removing the relief pattern.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルのバリアリブ形成用樹脂組成物、バリアリブ
形成用樹脂組成物エレメント及びこれを用いたバリアリ
ブ製造法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin composition for forming a barrier rib of a plasma display panel, a resin composition element for forming a barrier rib, and a method for producing a barrier rib using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にプラズマディスプレイパネルのバ
リアリブは、例えば、信学技報Vol.89No.377 P.69、信
学技報Vol.91 No.407 P.49、特開平2−301934号
公報等に記載されるように、厚膜スクリーン印刷法、又
はサンドブラスト法によって形成されている。しかしな
がら、スクリーン印刷法の場合、量産性に優れていると
いう特長をもつ一方で、(1)100μm以上の高いバ
リアリブを得るためには多数回の繰返し印刷が必要であ
る、(2)プラズマディスプレイパネルの市場シェアと
して期待される40インチ以上の大画面パネルを形成す
る際には、スクリーンメッシュの伸縮により位置精度が
低下する、(3)画素密度の高精細化が難かしい等の欠
点がある。
2. Description of the Related Art In general, barrier ribs of a plasma display panel are disclosed in, for example, IEICE Technical Report Vol.89 No.377 P.69, IEICE Technical Report Vol.91 No.407 P.49, JP-A-2-301934 and the like. As described in the above, it is formed by a thick film screen printing method or a sand blast method. However, in the case of the screen printing method, while having the feature of being excellent in mass productivity, (1) a plasma display panel requires a large number of repeated printings to obtain a high barrier rib of 100 μm or more. When forming a large screen panel of 40 inches or more, which is expected to have a market share, there are drawbacks such as a decrease in positional accuracy due to expansion and contraction of a screen mesh, and (3) it is difficult to increase the definition of a pixel density.

【0003】一方、サンドブラスト法は通常、基板上に
一様に形成したバリアリブ材料層上にレジストパターン
を形成し、基板上面へブラスト材を噴射することで、レ
ジストパターン被覆部以外を削り出してバリアリブを形
成する。そのため画素密度がレジストパターンの解像度
に依存し高精細化が可能であるという特長をもつ。しか
しながら、その反面、(1)高価なバリアリブ材料を削
りだし、廃棄するため、非常にコストが高くなる、
(2)また、バリアリブ材料は一般に鉛化合物を含有し
ており、削りだされたバリアリブ材料の廃棄による環境
汚染の問題がある、(3)高厚膜の場合にはバリアリブ
の底部が広がり、矩形形状のバリアリブが得難い等の欠
点がある。
[0003] On the other hand, in the sand blast method, a resist pattern is usually formed on a barrier rib material layer uniformly formed on a substrate, and a blast material is sprayed on the upper surface of the substrate to cut out portions other than the resist pattern covering portion to form a barrier rib. To form For this reason, the pixel density depends on the resolution of the resist pattern, and high definition can be achieved. However, on the other hand, (1) the expensive barrier rib material is cut out and discarded, resulting in a very high cost.
(2) In addition, the barrier rib material generally contains a lead compound, and there is a problem of environmental pollution due to disposal of the shaved barrier rib material. (3) In the case of a thick film, the bottom of the barrier rib is widened and a rectangular shape is formed. There are drawbacks such as difficulty in obtaining a shaped barrier rib.

【0004】そこで、上記した欠点を解消するための、
これらと異なる手法として、厚膜レリーフパターンを製
造し、その間隙に障壁となるバリアリブ材料を埋め込む
ことでバリアリブを製造する方法(フォト埋め込み法)
が提案されている。この製造方法の場合、(1)バリア
リブの位置精度に優れ、(2)バリアリブの形状に優
れ、(3)余分なバリアリブ材料が極めて少量のため低
コスト、低公害である等の特長を持つことが可能とな
る。
[0004] In order to solve the above-mentioned disadvantages,
As a method different from these methods, a method of manufacturing a barrier rib by manufacturing a thick film relief pattern and embedding a barrier rib material serving as a barrier in a gap (photo embedding method).
Has been proposed. In the case of this manufacturing method, there are features such as (1) excellent positioning accuracy of the barrier ribs, (2) excellent shape of the barrier ribs, and (3) low cost and low pollution due to an extremely small amount of extra barrier rib material. Becomes possible.

【0005】しかしながら、フォト埋め込み法の場合、
バリアリブを形成する工程の中で、焼成前のバリアリブ
と基板間で充分な密着性を確保する必要がある。そこ
で、焼成前のバリアリブと基板との密着性(焼成前のバ
リアリブ形成性)を向上することを目的に、バリアリブ
材料にシランカップリング剤等の有機ケイ素化合物を添
加すること等が提案されているが、この有機ケイ素化合
物の種類によっては、バリアリブ材料に含まれるガラス
を主成分とするバリアリブ形成用無機材料と反応し、バ
リアリブ材料の保存安定性が低下するという問題があっ
た。
[0005] However, in the case of the photo embedding method,
In the step of forming the barrier rib, it is necessary to ensure sufficient adhesion between the barrier rib before firing and the substrate. In order to improve the adhesion between the barrier ribs before firing and the substrate (formation of the barrier ribs before firing), it has been proposed to add an organosilicon compound such as a silane coupling agent to the barrier rib material. However, depending on the type of the organosilicon compound, there is a problem in that it reacts with an inorganic material for forming a barrier rib mainly composed of glass contained in the barrier rib material, and the storage stability of the barrier rib material is reduced.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】請求項1記載の発明
は、プラズマディスプレイパネルのバリアリブ形成性及
び保存安定性に優れたバリアリブ形成用樹脂組成物を提
供するものである。請求項2記載の発明は、プラズマデ
ィスプレイパネルのバリアリブ形成性及び保存安定性に
優れ、作業性に優れるバリアリブ形成用樹脂組成物エレ
メントを提供するものである。請求項3記載の発明は、
プラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短
縮化でき、形状の優れたバリアリブを作業性よく形成で
きるバリアリブの製造法を提供するものである。
An object of the present invention is to provide a barrier rib-forming resin composition which is excellent in barrier rib-forming properties and storage stability of a plasma display panel. The second aspect of the present invention is to provide a barrier rib-forming resin composition element which is excellent in barrier rib-forming properties and storage stability of a plasma display panel and is excellent in workability. The invention according to claim 3 is
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a barrier rib, which can shorten a barrier rib manufacturing process of a plasma display panel and can form a barrier rib having an excellent shape with good workability.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)バイン
ダポリマ、(B)有機ケイ素化合物及び(C)カルボキ
シル基を有する化合物を含む有機材料と(D)無機材料
とを含有してなるバリアリブ形成用樹脂組成物に関す
る。また、本発明は、支持体フィルム上に、前記のバリ
アリブ形成用樹脂組成物層を有してなるバリアリブ形成
用樹脂組成物エレメントに関する。また、本発明は、除
去可能なレリーフパターンの設けられた基板上に、前記
のバリアリブ形成用樹脂組成物エレメントをそのバリア
リブ形成用樹脂組成物層が基板側に対向するようして配
置し、バリアリブ形成用樹脂組成物層に圧力を加えて、
レリーフパターンの設けられた基板上に、バリアリブ形
成用樹脂組成物層を積層しレリーフパターンの間隙にバ
リアリブ形成用樹脂組成物を埋め込んだ後、レリーフパ
ターンを除去してバリアリブ形成用樹脂組成物からなる
パターンを形成し、このパターンを焼成することを特徴
とするバリアリブの製造法に関する。
The present invention comprises (A) an organic material containing a binder polymer, (B) an organic silicon compound and (C) a compound having a carboxyl group, and (D) an inorganic material. The present invention relates to a resin composition for forming a barrier rib. The present invention also relates to a barrier rib-forming resin composition element having the above-described barrier rib-forming resin composition layer on a support film. Further, the present invention provides a method for manufacturing a semiconductor device, comprising: disposing the barrier rib-forming resin composition element on a substrate provided with a removable relief pattern such that the barrier rib-forming resin composition layer faces the substrate side; By applying pressure to the forming resin composition layer,
On the substrate provided with the relief pattern, after laminating the barrier rib forming resin composition layer and embedding the barrier rib forming resin composition in the gaps of the relief pattern, the relief pattern is removed and the barrier rib forming resin composition is formed. The present invention relates to a method for manufacturing a barrier rib, comprising forming a pattern and firing the pattern.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明のバリアリブ形成用樹脂組
成物は、(A)バインダポリマ、(B)有機ケイ素化合
物及び(C)カルボキシル基を有する化合物を含む有機
材料と(D)バリアリブ用無機材料とを含有してなる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The resin composition for forming a barrier rib according to the present invention comprises (A) an organic material containing a binder polymer, (B) an organic silicon compound and (C) a compound having a carboxyl group, and (D) an inorganic material for a barrier rib. And materials.

【0009】本発明のバリアリブ形成用樹脂組成物を構
成する(A)バインダポリマとしては、その組成に特に
制限はなく、例えば、ビニル共重合体が挙げられ、ビニ
ル共重合体に用いられるビニル単量体としては、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル
酸n−プロピル、メタクリル酸n−プロピル、アクリル
酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アクリ
ル酸n−ブチル、メタクリル酸n−ブチル、アクリル酸
iso−ブチル、メタアクリル酸iso−ブチル、アクリル酸
sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸te
rt−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペ
ンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、
メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸ヘプチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、メタク
リル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタ
クリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノ
ニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリ
ル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テト
ラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキ
サデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オク
タデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイ
コシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシ
ル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシ
ジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジエチレ
ングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコール、
アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メタクリ
ル酸メトキシトリエチレングリコール、アクリル酸2−
ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチ
ル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジ
メチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジ
メチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプ
ロピル、アクリル酸2−クロロエチル、メタクリル酸2
−クロロエチル、アクリル酸2−フルオロエチル、メタ
クリル酸2−フルオロエチル、アクリル酸2−シアノエ
チル、メタクリル酸2−シアノエチル、スチレン、α−
メチルスチレン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビ
ニル、N−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレ
ン、クロロプレン、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げら
れる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使
用される。
The binder polymer (A) constituting the barrier rib-forming resin composition of the present invention is not particularly limited in composition, and includes, for example, a vinyl copolymer, and a vinyl copolymer used in the vinyl copolymer. Examples of the monomer include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, Iso-propyl acrylate, iso-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, acrylic acid
iso-butyl, iso-butyl methacrylate, acrylic acid
sec-butyl, sec-butyl methacrylate, te acrylate
rt-butyl, tert-butyl methacrylate, pentyl acrylate, pentyl methacrylate, hexyl acrylate,
Hexyl methacrylate, heptyl acrylate, heptyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl acrylate, octyl methacrylate, nonyl acrylate, nonyl methacrylate, decyl acrylate, decyl methacrylate, acrylic acid Dodecyl, dodecyl methacrylate, tetradecyl acrylate, tetradecyl methacrylate, hexadecyl acrylate, hexadecyl methacrylate, octadecyl acrylate, octadecyl methacrylate, eicosyl acrylate, eicosyl methacrylate, docosyl acrylate, docosyl methacrylate, cyclopentyl acrylate, Cyclopentyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cycloheptyl acrylate, methacryl Cycloheptyl acid, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, methoxyethyl acrylate, methoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxy methacrylate Dipropylene glycol,
Methoxy triethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol methacrylate, acrylic acid 2-
Hydroxyethyl, 2-hydroxyethyl methacrylate, dimethylaminoethyl acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl methacrylate, dimethylaminopropyl acrylate, dimethylaminopropyl methacrylate, 2-chloroethyl acrylate, Methacrylic acid 2
-Chloroethyl, 2-fluoroethyl acrylate, 2-fluoroethyl methacrylate, 2-cyanoethyl acrylate, 2-cyanoethyl methacrylate, styrene, α-
Examples include methylstyrene, vinyltoluene, vinyl chloride, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, butadiene, isoprene, chloroprene, acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【0010】本発明における(A)バインダポリマの重
量平均分子量は、5,000〜300,000とするこ
とが好ましく、20,000〜150,000とするこ
とがより好ましい。この重量平均分子量が、5,000
未満では、バリアリブ形成用樹脂組成物エレメントとし
た場合にフィルム形成性及び可とう性が低下する傾向が
あり、300,000を超えると、後述するバリアリブ
形成用樹脂組成物層のレリーフパターン基板への埋め込
み性が低下する傾向がある。なお、重量平均分子量は、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定
し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値であ
る。
The weight average molecular weight of the binder polymer (A) in the present invention is preferably from 5,000 to 300,000, more preferably from 20,000 to 150,000. This weight average molecular weight is 5,000
If it is less than 3, the film formability and flexibility tend to be reduced when the resin composition element is used as a barrier rib-forming resin composition. If it exceeds 300,000, the barrier rib-forming resin composition layer described below is applied to a relief pattern substrate. The embedding property tends to decrease. The weight average molecular weight is
This is a value measured by gel permeation chromatography and converted using a standard polystyrene calibration curve.

【0011】また、本発明における(A)バインダポリ
マとしては、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、イソ
シアネート基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有
するビニル共重合体に、少なくとも1個のエチレン性不
飽和基と、オキシラン環、イソシアネート基、水酸基、
カルボキシル基等の1個の官能基を有する化合物を付加
反応させて得られる重合性ビニル共重合体等を使用する
ことができる。
The binder polymer (A) in the present invention includes a vinyl copolymer having a functional group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, an isocyanate group, an oxirane ring, and an acid anhydride, and at least one ethylene copolymer. Unsaturated unsaturated group, oxirane ring, isocyanate group, hydroxyl group,
A polymerizable vinyl copolymer obtained by subjecting a compound having one functional group such as a carboxyl group to an addition reaction can be used.

【0012】カルボキシル基、水酸基、アミノ基、オキ
シラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル共重合体
に用いられるビニル単量体としては、例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、ケイ皮酸、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタ
クリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、イソシアン酸エチルメタクリレート、グ
リシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、無
水マレイン酸等が挙げられる。
Examples of the vinyl monomer used in the vinyl copolymer having a functional group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, an oxirane ring, and an acid anhydride include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and fumaric acid. , Itaconic acid, cinnamic acid, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylamide, methacrylamide, ethyl isocyanate methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and maleic anhydride.

【0013】少なくとも1個のエチレン性不飽和基と、
オキシラン環、イソシアネート基、水酸基、カルボキシ
ル基、アミノ基、酸無水物等の1個の官能基を有する化
合物としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート、イソシアン酸エチルメタクリレ
ート、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸
2−ヒドロキシエチル、アクリル酸、メタクリル酸、マ
レイン酸、フマル酸、イタコン酸、ケイ皮酸、アクリル
アミド、メタクリルアミド、無水マレイン酸等が挙げら
れる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使
用される。
At least one ethylenically unsaturated group;
Examples of the compound having one functional group such as an oxirane ring, an isocyanate group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an acid anhydride include, for example, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, ethyl isocyanate methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, Examples include 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, cinnamic acid, acrylamide, methacrylamide, and maleic anhydride. These are used alone or in combination of two or more.

【0014】また、本発明における(A)バインダポリ
マのガラス転移温度を30℃以下とすることが好まし
く、20℃以下とすることがより好ましく、10℃以下
とすることが特に好ましく、0℃以下とすることが極め
て好ましい。バインダポリマのガラス転移温度が30℃
を越える温度であると、後述するバリアリブ形成用樹脂
組成物エレメントとした場合のバリアリブ形成用樹脂組
成物層のレリーフパターン基板への埋め込み性が低下す
る傾向がある。また、バリアリブ形成用樹脂組成物エレ
メントとしたときの取り扱い性の点から、Tgは、−1
00℃以上であることが好ましい。
In the present invention, the glass transition temperature of the binder polymer (A) is preferably 30 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. or lower, particularly preferably 10 ° C. or lower, and 0 ° C. or lower. It is very preferable that Glass transition temperature of binder polymer is 30 ℃
If the temperature exceeds the above range, the embedding property of the resin composition layer for forming a barrier rib into the relief pattern substrate in the case of a resin composition element for forming a barrier rib described later tends to decrease. Further, from the viewpoint of handleability when used as a resin composition element for forming a barrier rib, Tg is -1.
It is preferably at least 00 ° C.

【0015】本発明におけるバリアリブ形成用樹脂組成
物を構成する(B)有機ケイ素化合物としては、例え
ば、1,3,5−N−トリス(トリメトキシシリルプロ
ピル)イソシアヌレート、1,3,5−N−トリス(ト
リエトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、1,
3,5−N−トリス(トリメトキシエトキシシリルプロ
ピル)イソシアヌレート、N−β−(N−ビニルベンジ
ルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン・塩酸塩、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−
γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメト
キシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。こ
れらは単独で又は2種類以上を組み合せて用いることも
できる。
As the organosilicon compound (B) constituting the resin composition for forming a barrier rib in the present invention, for example, 1,3,5-N-tris (trimethoxysilylpropyl) isocyanurate, 1,3,5- N-tris (triethoxysilylpropyl) isocyanurate, 1,
3,5-N-tris (trimethoxyethoxysilylpropyl) isocyanurate, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl)-
silane coupling agents such as γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, and γ-chloropropyltrimethoxysilane No. These can be used alone or in combination of two or more.

【0016】本発明におけるバリアリブ形成用樹脂組成
物を構成する(C)カルボキシル基を有する化合物とし
ては、例えば、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩
基酸、芳香族二塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基
酸等が挙げられる。
The compound having a carboxyl group (C) constituting the resin composition for forming a barrier rib in the present invention includes, for example, saturated fatty acids, unsaturated fatty acids, aliphatic dibasic acids, aromatic dibasic acids, and aliphatic tribasic acids. Basic acids, aromatic tribasic acids and the like can be mentioned.

【0017】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、バリアリブ形成用樹脂組成物の保
存安定性向上効果が高い点から、しゅう酸、マロン酸、
こはく酸等が好ましい。これらは単独で又は2種類以上
組み合わせて使用される。
Specifically, for example, formic acid, acetic acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, propionic acid,
Capric acid, undecanoic acid, lauric acid, tridecanoic acid, myristic acid, pentadecanoic acid, palmitic acid, heptadecanoic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, palmitooleic acid, oleic acid, elaidic acid, linolenic acid, linoleic acid, Oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, monomethyl malonate,
Monoethyl malonate, succinic acid, methylsuccinic acid, adipic acid, methyladipic acid, pimelic acid, suberic acid,
Azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid,
Examples include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, citric acid, salicylic acid, pyruvic acid, malic acid and the like. Among them, oxalic acid, malonic acid,
Succinic acid and the like are preferred. These are used alone or in combination of two or more.

【0018】本発明のバリアリブ形成用樹脂組成物を構
成する(D)無機材料としては、公知のバリアリブ用無
機材料を使用すればよく、例えば、低融点ガラス等のガ
ラスフリット材料、酸化チタン、アルミナ、マグネシ
ア、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化クロム、
酸化銅等が挙げられ、これらは単独で又は2種類以上を
組み合わせて使用することができる。
As the inorganic material (D) constituting the resin composition for forming a barrier rib of the present invention, a known inorganic material for a barrier rib may be used. For example, a glass frit material such as low-melting glass, titanium oxide, alumina , Magnesia, calcium oxide, zinc oxide, iron oxide, chromium oxide,
Copper oxide and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

【0019】具体的なガラスフリット材料を構成する成
分としては、PbO、Bi23、B23、SiO2、P2
5、Al23、TiO2、Li2O、Na2O、K2O、
SnO、CaO、ZnO等が挙げられ、これらは単独ま
たは2種類以上組み合わせて使用される。これらガラス
粉末の軟化点は、300〜1,000℃、粒度は、0.
1〜20μmであることが、作業性、バリアリブの強度
等の点から好ましい。
Specific components constituting the glass frit material include PbO, Bi 2 O 3 , B 2 O 3 , SiO 2 , P 2
O 5 , Al 2 O 3 , TiO 2 , Li 2 O, Na 2 O, K 2 O,
SnO, CaO, ZnO and the like are mentioned, and these are used alone or in combination of two or more kinds. The softening point of these glass powders is 300-1,000 ° C., and the particle size is 0.1.
The thickness is preferably 1 to 20 μm from the viewpoint of workability, strength of the barrier ribs, and the like.

【0020】本発明のバリアリブ形成用樹脂組成物に
は、バリアリブ形成用樹脂組成物エレメントとした場合
の可とう性を発現させること等を目的に、必要に応じて
可塑剤を使用することができる。可塑剤としては、公知
のものを使用でき、例えば、ポリエチレングリコールジ
アセテート、ポリプロピレングリコールジアセテート等
が挙げられる。
In the resin composition for forming a barrier rib of the present invention, a plasticizer may be used, if necessary, for the purpose of, for example, exhibiting the flexibility of the resin composition for forming a barrier rib. . Known plasticizers can be used, and examples thereof include polyethylene glycol diacetate and polypropylene glycol diacetate.

【0021】本発明におけるバリアリブ形成用樹脂組成
物には、バリアリブ用無機材料の分散を良好とするため
に、分散剤を添加することが好ましい。分散剤として
は、無機分散剤(シリカゲル系、ベントナイト系、カオ
リナイト系、タルク系、ヘクトライト系、モンモリロナ
イト系、サポナイト系、バイデライト系等)、有機分散
剤(脂肪族アマイド系、脂肪族エステル系、酸化ポリエ
チレン系、硫酸エステル系アニオン活性剤、ポリカルボ
ン酸アミン塩系、ポリカルボン酸系、ポリアマイド系、
高分子ポリエーテル系、アクリル共重合物系、特殊シリ
コン系等)等が挙げられる。これらは単独で又は2種類
以上を組み合わせて使用することができる。
It is preferable to add a dispersant to the barrier rib forming resin composition of the present invention in order to improve the dispersion of the barrier rib inorganic material. Dispersants include inorganic dispersants (silica gel, bentonite, kaolinite, talc, hectorite, montmorillonite, saponite, beidellite, etc.), and organic dispersants (aliphatic amide, aliphatic ester). , Polyethylene oxide-based, sulfate-based anion activator, polycarboxylic acid amine salt-based, polycarboxylic acid-based, polyamide-based,
Polymer polyether type, acrylic copolymer type, special silicon type, etc.). These can be used alone or in combination of two or more.

【0022】本発明のバリアリブ形成用樹脂組成物を構
成する(A)バインダポリマの配合量は、(D)バリア
リブ用無機材料の総量100重量部に対して、1〜20
0重量部とすることが好ましく、2〜150重量部とす
ることがより好ましく、3〜130重量部とすることが
より好ましく、4〜100重量部とすることがより好ま
しく、5〜90重量部とすることが特に好ましく、5〜
80重量部とすることが極めて好ましい。この配合量が
1重量部未満では、後述するバリアリブ形成用樹脂組成
物からなる焼成前のバリアリブの強度が低下する傾向が
あり、200重量部を超えると、焼成後のバリアリブの
体積収縮が大きくなる傾向があり、基板上に形成したバ
リアリブが剥離する傾向がある。
The compounding amount of the binder polymer (A) constituting the barrier rib-forming resin composition of the present invention is 1 to 20 with respect to 100 parts by weight of the total amount of the (D) barrier rib inorganic material.
0 parts by weight, preferably 2 to 150 parts by weight, more preferably 3 to 130 parts by weight, more preferably 4 to 100 parts by weight, and 5 to 90 parts by weight. It is particularly preferred that
It is extremely preferred to be 80 parts by weight. When the compounding amount is less than 1 part by weight, the strength of the barrier rib before firing composed of the barrier rib forming resin composition described below tends to decrease, and when it exceeds 200 parts by weight, the volume shrinkage of the barrier rib after firing increases. There is a tendency for the barrier ribs formed on the substrate to peel off.

【0023】本発明のバリアリブ形成用樹脂組成物を構
成する(B)有機ケイ素化合物の配合量は、(D)バリ
アリブ用無機材料の総量100重量部に対して、0.0
1〜30重量部とすることが好ましく、0.1〜20重
量部とすることがより好ましく、0.5〜15重量部と
することが特に好ましく、1〜10重量部とすることが
極めて好ましい。この配合量が0.01重量部未満で
は、後述するバリアリブ形成用樹脂組成物からなる焼成
前のバリアリブと基板との密着性(焼成前のバリアリブ
形成性)が低下する傾向があり、30重量部を超える
と、バリアリブ形成用樹脂組成物エレメントとした場合
に、バリアリブ形成用樹脂組成物が端部からしみ出し、
バリアリブ形成用樹脂組成物エレメントの取り扱い性が
低下する傾向がある。
The compounding amount of the organosilicon compound (B) constituting the resin composition for forming a barrier rib of the present invention is 0.04 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the inorganic material (D) for a barrier rib.
The amount is preferably 1 to 30 parts by weight, more preferably 0.1 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 15 parts by weight, and very preferably 1 to 10 parts by weight. . If the amount is less than 0.01 parts by weight, the adhesion between the barrier ribs (before firing) and the substrate (before firing), which is made of the resin composition for forming a barrier ribs described below, tends to decrease, and 30 parts by weight. If it exceeds, when the resin composition element for forming a barrier rib, the resin composition for forming a barrier rib exudes from an end portion,
There is a tendency that the handleability of the resin composition element for forming a barrier rib is reduced.

【0024】本発明における(C)カルボキシル基を有
する化合物の配合量は、(D)バリアリブ用無機材料1
00重量部に対して、0.01〜30重量部とすること
が好ましく、0.02〜20重量部とすることがより好
ましく、0.05〜15重量部とすることが特に好まし
く、0.07〜10重量部とすることが極めて好まし
い。この配合量が、0.01重量部未満では、バリアリ
ブ形成用樹脂組成物の保存安定性向上効果が低くなる傾
向があり、30重量部を超えると、バリアリブ形成用樹
脂組成物エレメントとした場合に、バリアリブ形成用樹
脂組成物が端部からしみ出し、バリアリブ形成用樹脂組
成物エレメントの取り扱い性が低下する傾向がある。
In the present invention, the compounding amount of (C) the compound having a carboxyl group is determined by (D) the inorganic material for barrier rib 1
The amount is preferably 0.01 to 30 parts by weight, more preferably 0.02 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.05 to 15 parts by weight, relative to 00 parts by weight. It is extremely preferred that the amount be 07 to 10 parts by weight. When the amount is less than 0.01 part by weight, the effect of improving the storage stability of the barrier rib-forming resin composition tends to be low. When the amount exceeds 30 parts by weight, the barrier rib-forming resin composition element is used. In addition, the resin composition for forming a barrier rib exudes from the end portion, and the handleability of the resin composition element for forming a barrier rib tends to decrease.

【0025】本発明のバリアリブ形成用樹脂組成物にお
いて、可塑剤の配合量は、バリアリブ用無機材料の総量
100重量部に対して、0〜20重量部とすることが好
ましく、0〜10重量部とすることがより好ましい。こ
の配合量が20重量部を超えると、バリアリブ形成用樹
脂組成物エレメントとした場合に、バリアリブ形成用樹
脂組成物が端部からしみ出し、バリアリブ形成用樹脂組
成物エレメントの取り扱い性が低下する傾向がある。
In the barrier rib-forming resin composition of the present invention, the amount of the plasticizer is preferably 0 to 20 parts by weight, more preferably 0 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the inorganic material for barrier ribs. Is more preferable. When the amount is more than 20 parts by weight, when the resin composition element for forming a barrier rib is used, the resin composition for forming a barrier rib oozes from an end portion, and the handleability of the resin composition element for forming a barrier rib tends to decrease. There is.

【0026】本発明のバリアリブ形成用樹脂組成物にお
いて、分散剤の配合量は、バリアリブ用無機材料100
重量部に対して、0.01〜20重量部とすることが好
ましい。この使用量が、0.01重量部未満では、添加
効果が発現しない傾向があり、20重量部を超えると、
バリアリブ形成用樹脂組成物エレメントとした場合に、
バリアリブ形成用樹脂組成物が端部からしみ出し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物エレメントの取り扱い性が低下
する傾向がある。
In the resin composition for forming a barrier rib of the present invention, the amount of the dispersant to be compounded is 100 or less.
It is preferably 0.01 to 20 parts by weight based on parts by weight. If this amount is less than 0.01 part by weight, the effect of addition tends to not be exhibited, and if it exceeds 20 parts by weight,
In the case of a resin composition element for forming a barrier rib,
The resin composition for forming a barrier rib exudes from the end, and the handleability of the resin composition element for forming a barrier rib tends to decrease.

【0027】本発明におけるバリアリブ形成用樹脂組成
物エレメントは、バリアリブ形成用樹脂組成物を構成す
る前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又は混
合させることにより、均一に分散した溶液とし、支持体
フィルム上に、塗布、乾燥し、バリアリブ形成用樹脂組
成物層を形成することにより得られる。バリアリブ形成
用樹脂組成物を構成する前記各成分を溶解又は分散可能
な溶剤としては、例えば、トルエン、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、N−メ
チルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチル
スルホン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル、クロロホル
ム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアルコー
ル等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組
み合わせて使用される。
[0027] The barrier rib-forming resin composition element of the present invention is obtained by dissolving or mixing each of the components constituting the barrier rib-forming resin composition in a solvent capable of being dissolved or dispersed to form a uniformly dispersed solution. It is obtained by coating and drying on a support film to form a barrier rib-forming resin composition layer. Examples of the solvent capable of dissolving or dispersing the respective components constituting the barrier rib forming resin composition include, for example, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, dimethyl Examples include formamide, tetramethyl sulfone, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, chloroform, methylene chloride, methyl alcohol, ethyl alcohol and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【0028】本発明における支持体フィルムとしては、
化学的及び熱的に安定であり、また、可とう性の物質で
構成された、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙
げられ、その中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが
より好ましい。支持体フィルムは、後述するバリアリブ
形成用樹脂組成物層から除去可能でなくてはならないた
め、除去が不可能となるような表面処理が施されたもの
であったり、材質であったりしてはならない。支持体フ
ィルムの厚さは、5〜100μmとすることが好まし
く、10〜80μmとすることがより好ましい。
As the support film in the present invention,
Chemically and thermally stable, and, furthermore, composed of a flexible substance, for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene and the like, among them, polyethylene terephthalate, polyethylene is preferred, polyethylene terephthalate is preferred More preferred. Since the support film must be removable from the barrier rib-forming resin composition layer described below, it may have been subjected to a surface treatment that makes removal impossible, or may be a material. No. The thickness of the support film is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm.

【0029】前記塗布方法としては、公知の方法を用い
ることができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート
法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート
法、カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、6
0〜130℃とすることが好ましく、乾燥時間は、3分
〜1時間とすることが好ましい。
As the coating method, a known method can be used, and examples thereof include a knife coating method, a roll coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a bar coating method, and a curtain coating method. The drying temperature is 6
The temperature is preferably from 0 to 130 ° C, and the drying time is preferably from 3 minutes to 1 hour.

【0030】前記した支持体フィルム及びバリアリブ形
成用樹脂組成物層を有するバリアリブ形成用樹脂組成物
エレメントは、バリアリブ形成用樹脂組成物層の上に、
さらに剥離可能なカバーフィルムが積層されていてもよ
い。そのようなカバーフィルムとしては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート等が挙げられ、支持体フィルムとバリア
リブ形成用樹脂組成物層との接着力よりも、カバーフィ
ルムとバリアリブ形成用樹脂組成物層との接着力の方が
小さいものであることが好ましい。カバーフィルムの厚
さは、特に制限はないが、5〜100μmとすることが
好ましく、10〜90μmとすることがより好ましい。
このようにして得られるバリアリブ形成用樹脂組成物エ
レメントは、ロール状に巻いて保管可能とすることがで
きる。
The barrier rib forming resin composition element having the support film and the barrier rib forming resin composition layer is provided on the barrier rib forming resin composition layer.
Further, a peelable cover film may be laminated. Examples of such a cover film include polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, and polycarbonate, and more than the adhesive force between the support film and the barrier rib-forming resin composition layer, the cover film and the barrier rib-forming resin composition layer. Is preferably smaller in adhesive strength. The thickness of the cover film is not particularly limited, but is preferably 5 to 100 μm, and more preferably 10 to 90 μm.
The barrier rib forming resin composition element thus obtained can be stored in a roll shape.

【0031】本発明におけるバリアリブ形成用樹脂組成
物層の厚さは、特に制限はないが、10〜150μmと
することが好ましく、20〜120μmとすることがよ
り好ましく、30〜100μmとすることが特に好まし
い。この厚さが、10μm未満では、レリーフパターン
間隙へのバリアリブ形成用樹脂組成物の埋め込み量が不
充分になる傾向があり、150μmを超えると、レリー
フパターン上に不必要なバリアリブ形成用樹脂組成物が
多く残存し、除去工程時間が長くなる傾向がある。
The thickness of the resin composition layer for forming a barrier rib in the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 150 μm, more preferably 20 to 120 μm, and more preferably 30 to 100 μm. Particularly preferred. If the thickness is less than 10 μm, the amount of embedding the barrier rib forming resin composition into the relief pattern gap tends to be insufficient. If the thickness exceeds 150 μm, the unnecessary resin composition for forming the barrier rib on the relief pattern is unnecessary. Tend to remain, and the removal process time tends to be long.

【0032】以下、本発明のバリアリブの製造法の一例
を説明する。本発明で使用される基板は、特に制限はな
く、例えば、セラミック板、プラスチック板、ガラス板
等が挙げられる。この基板上には、絶縁層、電極、保護
層等が設けられていてもよい。
Hereinafter, an example of a method for producing a barrier rib of the present invention will be described. The substrate used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a ceramic plate, a plastic plate, and a glass plate. On this substrate, an insulating layer, an electrode, a protective layer, and the like may be provided.

【0033】本発明において基板上に設けられたレリー
フパターンは、後に除去が可能なものであれば特に制限
なく種々の材料を使用して得られる。所望する微細な構
造のレリーフパターンを容易に得られる点から、レリー
フパターンを感光性樹脂組成物を使用するフォトリソグ
ラフ法で形成することが好ましい。感光性樹脂組成物と
しては、特に制限なく公知のものを使用でき、例えば、
プリント配線板製造時のエッチングレジスト、めっきレ
ジスト、ソルダマスク等として一般的に使用されている
感光性フィルム(例えば、特開平5−249658号公
報、特開平4−157467号公報、特公平4−598
1号公報、特開平2−11685号公報、特開昭54−
10183号公報に記載されているもの、市販品として
フォテックH−N350、フォテックH−F240、フ
ォテックH−S950、フォテックSR−2300G−
75(いずれも日立化成工業(株)製)等)を挙げること
ができる。
In the present invention, the relief pattern provided on the substrate can be obtained by using various materials without any particular limitation as long as it can be removed later. From the viewpoint that a relief pattern having a desired fine structure can be easily obtained, it is preferable to form the relief pattern by a photolithographic method using a photosensitive resin composition. As the photosensitive resin composition, known ones can be used without particular limitation, for example,
Photosensitive films generally used as etching resists, plating resists, solder masks and the like in the manufacture of printed wiring boards (for example, JP-A-5-249658, JP-A-4-157467, JP-B-4-598)
No. 1, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei.
No. 10183, Photek H-N350, Photek HF240, Photek HS-950, Photek SR-2300G-
75 (all manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) and the like.

【0034】感光性樹脂組成物からなる前記感光性フィ
ルムを用いる場合には、感光性フィルムを前記基板に積
層して、50〜250μmの膜厚の感光性樹脂層を形成
し、次いで、基板に積層された感光性樹脂層に、活性光
線としてカーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射するものを
用いて、像的に照射した後、支持体フィルムがある場合
は支持体フィルムを剥がし、現像により感光性樹脂層を
選択的に除去してレリーフパターンを形成できる。現像
方法としては、特に制限されず、ウェット現像、ドライ
現像等が挙げられる。ウェット現像の場合は、感光性樹
脂組成物に対応した現像液を用いる。現像液としては、
例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の弱アルカリ
性の稀薄水溶液が挙げられ、現像方式は、ディップ方
式、スプレー方式等が挙げられる。
When the photosensitive film comprising the photosensitive resin composition is used, the photosensitive film is laminated on the substrate to form a photosensitive resin layer having a thickness of 50 to 250 μm. On the laminated photosensitive resin layer, there is a support film after imagewise irradiation using a material that effectively emits ultraviolet rays such as a carbon arc lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, etc. as an actinic ray. In this case, the relief film can be formed by removing the support film and selectively removing the photosensitive resin layer by development. The developing method is not particularly limited, and examples thereof include wet development and dry development. In the case of wet development, a developer corresponding to the photosensitive resin composition is used. As a developer,
For example, a weak alkaline dilute aqueous solution of sodium carbonate, potassium carbonate or the like can be mentioned, and the developing system can be a dip system, a spray system or the like.

【0035】このようにして得られるレリーフパターン
の厚さ(高さ)は、通常、50〜250μmであり、ス
トライプ型又は長方形型のレリーフパターンであれば、
その幅は50〜500μmである。
The thickness (height) of the thus obtained relief pattern is usually 50 to 250 μm, and if it is a stripe type or rectangular type relief pattern,
Its width is 50-500 μm.

【0036】本発明におけるバリアリブを製造する方法
としては、例えば、前記レリーフパターンの設けられた
基板上において、前記バリアリブ形成用樹脂組成物エレ
メントをバリアリブ形成用樹脂組成物層が接するようし
て配置し、バリアリブ形成用樹脂組成物層に圧力を加え
て、レリーフパターンの設けられた基板上に、バリアリ
ブ形成用樹脂組成物層を積層した後、レリーフパターン
を除去する方法などが挙げられる。このバリアリブ形成
用樹脂組成物エレメントを用いて積層する場合は、バリ
アリブ形成用樹脂組成物エレメントにカバーフィルムが
存在しているときは、そのカバーフィルムを除去後、レ
リーフパターンの設けられた面に、バリアリブ形成用樹
脂組成物層が接するように、圧着ロールで圧着させるこ
と等により行うことができる。
In the method of manufacturing the barrier rib according to the present invention, for example, on the substrate provided with the relief pattern, the barrier rib-forming resin composition element is arranged such that the barrier rib-forming resin composition layer is in contact with the element. A method in which pressure is applied to the barrier rib-forming resin composition layer to laminate the barrier rib-forming resin composition layer on the substrate provided with the relief pattern, and then the relief pattern is removed. When laminating using the barrier rib-forming resin composition element, when the cover film is present in the barrier rib-forming resin composition element, after removing the cover film, on the surface provided with the relief pattern, It can be carried out by, for example, pressing with a pressure roll so that the resin composition layer for barrier rib contact is in contact.

【0037】圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱
手段を備えたものであってもよく、加熱圧着する場合の
加熱温度は、10〜200℃とすることが好ましく、2
0〜180℃とすることがより好ましく、30〜160
℃とすることが特に好ましく、40〜140℃とするこ
とが極めて好ましい。この加熱温度が、10℃未満で
は、バリアリブ形成用樹脂組成物層のレリーフパターン
の間隙への埋め込み性が低下する傾向があり、200℃
を超えると、バリアリブ形成用樹脂組成物を構成する有
機材料が熱分解する傾向がある。また、加熱圧着時の圧
着圧力は、線圧で50〜1×105N/mとすることが好ま
しく、2.5×102〜5×104N/mとすることがより
好ましく、5×102〜4×104N/mとすることが特に
好ましい。この圧着圧力が、50N/m未満では、バリア
リブ形成用樹脂組成物層のレリーフパターンの間隙への
埋め込み性が低下する傾向があり、1×105N/mを超え
ると、レリーフパターンが破壊される傾向がある。
The pressure roll may be provided with a heating means so as to be capable of thermocompression, and the heating temperature for thermocompression is preferably 10 to 200 ° C.
The temperature is more preferably 0 to 180 ° C, and 30 to 160 ° C.
C. is particularly preferred, and 40 to 140 C. is particularly preferred. When the heating temperature is lower than 10 ° C., the embedding property of the relief pattern of the barrier rib-forming resin composition layer into the gap tends to decrease.
If it exceeds 300, the organic material constituting the barrier rib forming resin composition tends to thermally decompose. Further, the pressing pressure at the time of heating and pressing is preferably 50 to 1 × 10 5 N / m, more preferably 2.5 × 10 2 to 5 × 10 4 N / m as a linear pressure. It is particularly preferable that the density be from × 10 2 to 4 × 10 4 N / m. If the pressure is less than 50 N / m, the embedding property of the barrier rib-forming resin composition layer into the gap of the relief pattern tends to decrease. If the pressure exceeds 1 × 10 5 N / m, the relief pattern is broken. Tend to

【0038】バリアリブ形成用樹脂組成物エレメントを
前記のように加熱すれば、レリーフパターンの設けられ
た基板を予熱処理することは必要ではないが、バリアリ
ブ形成用樹脂組成物層のレリーフパターンの間隙への埋
め込み性をさらに向上させる点から、レリーフパターン
の設けられた基板を予熱処理することが好ましい。この
時の予熱温度は、30〜180℃とすることが好まし
く、また、予熱時間は、0.5〜20分間とすることが
好ましい。また、バリアリブ形成用樹脂組成物層のレリ
ーフパターンの間隙への埋め込み性をさらに向上させる
点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック
等の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもでき
る。
If the barrier rib-forming resin composition element is heated as described above, it is not necessary to pre-heat the substrate provided with the relief pattern, but it is necessary to pre-heat the substrate to the gap between the relief patterns of the barrier rib-forming resin composition layer. In order to further improve the embedding property of the substrate, it is preferable that the substrate provided with the relief pattern is pre-heat treated. The preheating temperature at this time is preferably 30 to 180 ° C., and the preheating time is preferably 0.5 to 20 minutes. Further, in order to further improve the embedding property of the relief pattern of the barrier rib forming resin composition layer into the gap, the surface of the pressure roll may be made of a material having high flexibility such as rubber and plastic. it can.

【0039】さらに、同様の目的で、5×104Pa以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。また、積層が完了した後、30〜200℃
の範囲で、1〜120分間加熱することもできる。この
時、バリアリブ形成用樹脂組成物層上に支持体フィルム
が存在する場合には、その支持体フィルムを必要に応じ
て除去してもよい。このようにして、バリアリブ形成用
樹脂組成物層をレリーフパターンの間隙に均一に形成す
ることができる。
Further, for the same purpose, the above-mentioned press bonding and heat pressing can be performed under reduced pressure of 5 × 10 4 Pa or less. After the lamination is completed, 30 to 200 ° C.
Can be heated for 1 to 120 minutes. At this time, if a support film exists on the barrier rib forming resin composition layer, the support film may be removed as necessary. Thus, the barrier rib forming resin composition layer can be uniformly formed in the gaps between the relief patterns.

【0040】また、本発明のバリアリブ形成用樹脂組成
物エレメントの前記した加熱圧着時の加熱条件、圧着圧
力条件及びレリーフパターンが設けられた基板の予備加
熱条件や、バリアリブ形成用樹脂組成物の膜厚等の各条
件の組み合わせを変えることより、レリーフパターン上
の不必要なバリアリブ形成用樹脂組成物層厚を極めて薄
くすることもできる。
Further, the heating conditions, the pressure conditions, the preheating conditions of the substrate provided with the relief pattern and the film of the barrier rib forming resin composition of the barrier rib forming resin composition element of the present invention are also described. By changing the combination of the conditions such as the thickness, the unnecessary thickness of the resin composition layer for forming a barrier rib on the relief pattern can be extremely reduced.

【0041】バリアリブ形成用樹脂組成物層の層厚につ
いて、具体的には、レリーフパターンが設けられた基板
(凹凸を有する基板)上の凹凸が形成された領域と等し
い領域のバリアリブ形成用樹脂組成物層において、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層の体積(V1)と、レリーフ
パターンが設けられた基板の凹部空間の体積(V2)と
の比((V1)/(V2))が、(V1)/(V2)=
1〜1.2の範囲であることが、レリーフパターン上の
不必要なバリアリブ形成用樹脂組成物層厚を極めて薄く
できる点で好ましく、(V1)/(V2)が、1.02
〜1.18の範囲であることがさらに好ましく、(V
1)/(V2)が、1.05〜1.15の範囲であるこ
とが特に好ましい。ここで、(V1)/(V2)が1未
満である場合には、凹部内面においてバリアリブ形成用
樹脂組成物を充填できない部分が発生する傾向があり、
また、(V1)/(V2)が1.2を越える場合には、
レリーフパターン上の不必要なバリアリブ形成用樹脂組
成物が多く残存する傾向がある。
With respect to the thickness of the barrier rib forming resin composition layer, specifically, the region of the barrier rib forming resin composition in a region equal to the region where the unevenness is formed on the substrate provided with the relief pattern (substrate having unevenness) In the material layer, the ratio ((V1) / (V2)) of the volume (V1) of the barrier rib-forming resin composition layer to the volume (V2) of the concave space of the substrate provided with the relief pattern is (V1). / (V2) =
It is preferable that the thickness be in the range of 1 to 1.2 in that the thickness of the unnecessary resin composition for forming a barrier rib on the relief pattern can be extremely reduced, and (V1) / (V2) is 1.02.
To 1.18, more preferably (V
It is particularly preferred that 1) / (V2) be in the range of 1.05 to 1.15. Here, when (V1) / (V2) is less than 1, there is a tendency that a portion on the inner surface of the concave portion where the resin composition for forming a barrier rib cannot be filled occurs.
When (V1) / (V2) exceeds 1.2,
A large amount of unnecessary resin composition for forming a barrier rib on the relief pattern tends to remain.

【0042】また、レリーフパターンの除去を容易にす
る目的で、レリーフパターンの除去前に、レリーフパタ
ーン上の不必要なバリアリブ形成用樹脂組成物を簡易的
な研磨等により除去することもできる。本発明において
レリーフパターンは最終的に種々の方法で除去される
が、レリーフパターンの剥離を剥離液を用いて行う場
合、使用する剥離液は、例えば、水酸化ナトリウム又は
水酸化カリウムの1〜10重量%水溶液が挙げられる。
濃度が1重量%未満の場合、剥離の効果が小さいために
剥離時間がかかりすぎる傾向があり、また、10重量%
を超える場合には、積層されたバリアリブ形成用樹脂組
成物を侵す傾向がある。剥離液の温度については特に限
定されず、レリーフパターンの剥離を好適に行う条件を
設定して随時適応することが望ましい。剥離方式として
は、浸漬方式、スプレイ方式のいずれも好適であり、浸
漬方式及びスプレイ方式を併用する方式も好ましい。
For the purpose of facilitating the removal of the relief pattern, the unnecessary resin composition for forming a barrier rib on the relief pattern can be removed by simple polishing or the like before the removal of the relief pattern. In the present invention, the relief pattern is finally removed by various methods. When the relief pattern is stripped using a stripper, the stripper used is, for example, 1 to 10 of sodium hydroxide or potassium hydroxide. % By weight aqueous solution.
When the concentration is less than 1% by weight, the peeling effect is so small that the peeling time tends to be too long.
When the ratio exceeds the above range, the laminated resin composition for forming a barrier rib tends to be attacked. The temperature of the stripping solution is not particularly limited, and it is desirable to set conditions for suitably performing the stripping of the relief pattern and to adjust the conditions as needed. As the peeling method, any of the immersion method and the spray method is suitable, and a method using both the immersion method and the spray method is also preferable.

【0043】このようにしてレリーフパターンの除去を
行って得られるバリアリブの厚さ(高さ)は、通常、5
0〜250μmであり、ストライプ型又は格子型のバリ
アリブであれば、その幅は20〜120μmである。こ
のバリアリブ形成用樹脂組成物から有機成分を除去し、
強度、ガス不透過性等を向上する目的で、バリアリブ形
成用樹脂組成物を焼成することができる。この焼成の温
度と時間は、通常、350〜580℃、1〜20時間で
ある。
The thickness (height) of the barrier rib obtained by removing the relief pattern in this manner is usually 5
The width is 20 to 120 μm in the case of a stripe type or lattice type barrier rib. Removing organic components from the barrier rib forming resin composition,
For the purpose of improving the strength, gas impermeability, and the like, the resin composition for forming a barrier rib can be fired. The firing temperature and time are usually from 350 to 580 ° C and from 1 to 20 hours.

【0044】[0044]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。The present invention will be described below with reference to examples.

【0045】製造例1 〔バインダポリマ溶液(a−1)の作製〕撹拌機、還流
冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコ
に、表1に示す(1)を仕込み、窒素ガス雰囲気下で8
0℃に昇温し、反応温度を80℃±2℃に保ちながら、
表1に示す(2)を4時間かけて均一に滴下した。
(2)の滴下後、80℃±2℃で6時間撹拌を続け、重
量平均分子量が30,000、バインダポリマ溶液(固
形分40.1重量%)(a−1)を得た。
Production Example 1 [Preparation of Binder Polymer Solution (a-1)] In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, an inert gas inlet and a thermometer, (1) shown in Table 1 was charged, and nitrogen was added. 8 under gas atmosphere
Raise the temperature to 0 ° C and keep the reaction temperature at 80 ° C ± 2 ° C.
(2) shown in Table 1 was dropped uniformly over 4 hours.
After dropping (2), stirring was continued at 80 ° C. ± 2 ° C. for 6 hours to obtain a binder polymer solution (solid content: 40.1% by weight) (a-1) having a weight average molecular weight of 30,000.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】製造例2 〔バインダポリマ溶液(a−2)の作製〕撹拌機、還流
冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコ
に、表2に示す(1)を仕込み、窒素ガス雰囲気下で8
0℃に昇温し、反応温度を80℃±2℃に保ちながら、
表2に示す(2)を4時間かけて均一に滴下した。
(2)の滴下後、80℃±2℃で6時間撹拌を続け、表
2に示す(3)を添加した。(3)を添加後、反応系を
100℃に昇温し、0.5時間かけて表2に示す(4)
を滴下した。(4)の滴下後、100℃で20時間撹拌
を続けた後、室温に冷却して、重量平均分子量が60,
000、酸価が0.2KOHmg/gのバインダポリマ(固形
分41.4重量%)(a−2)を得た。
Production Example 2 [Preparation of Binder Polymer Solution (a-2)] (1) shown in Table 2 was charged into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, an inert gas inlet, and a thermometer. 8 under gas atmosphere
Raise the temperature to 0 ° C and keep the reaction temperature at 80 ° C ± 2 ° C.
(2) shown in Table 2 was dropped uniformly over 4 hours.
After the dropwise addition of (2), stirring was continued at 80 ° C. ± 2 ° C. for 6 hours, and (3) shown in Table 2 was added. After the addition of (3), the temperature of the reaction system was raised to 100 ° C., and the results are shown in Table 2 over 0.5 hours (4).
Was added dropwise. After the dropwise addition of (4), stirring was continued at 100 ° C. for 20 hours, and then the mixture was cooled to room temperature, and the weight average molecular weight was 60,
000, a binder polymer (solid content: 41.4% by weight) (a-2) having an acid value of 0.2 KOH mg / g was obtained.

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】実施例1 〔バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(i)の製
造〕表3に示す材料を、ボールミルを用いて3時間混合
し、バリアリブ形成用樹脂組成物層用溶液(A−1)を
作製した。
Example 1 [Production of Barrier Rib-Forming Resin Composition Element (i)] The materials shown in Table 3 were mixed for 3 hours using a ball mill, and a solution (A-1) for a barrier rib-forming resin composition layer was prepared. Was prepared.

【0050】[0050]

【表3】 [Table 3]

【0051】得られた、バリアリブ形成用樹脂組成物層
用溶液(A−1)を、50μmの厚さのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、110℃の熱
風対流式乾燥機で10分間乾燥して溶剤を除去し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層を形成した。得られたバリア
リブ形成用樹脂組成物層の厚さは50μmであった。次
いで、バリアリブ形成用樹脂組成物層の上に、さらに、
25μmの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィ
ルムとして張り合わせて、バリアリブ形成用樹脂組成物
エレメント(i)を作製した。
The obtained solution (A-1) for forming a resin composition layer for forming a barrier rib is uniformly applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm, and dried with a hot air convection dryer at 110 ° C. for 10 minutes. Then, the solvent was removed to form a resin composition layer for forming a barrier rib. The thickness of the obtained resin composition layer for forming a barrier rib was 50 μm. Next, on the barrier rib forming resin composition layer,
A polyethylene film having a thickness of 25 μm was laminated as a cover film to prepare a barrier rib-forming resin composition element (i).

【0052】実施例2 〔バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(ii)の製
造〕表4に示す材料を、ボールミルを用いて3時間混合
し、バリアリブ形成用樹脂組成物層用溶液(A−2)を
作製した。
Example 2 [Production of resin composition element (ii) for forming barrier ribs] The materials shown in Table 4 were mixed for 3 hours using a ball mill, and a solution (A-2) for a resin composition layer for forming barrier ribs was prepared. Was prepared.

【0053】[0053]

【表4】 [Table 4]

【0054】得られた、バリアリブ形成用樹脂組成物層
用溶液(A−2)を、50μmの厚さのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、110℃の熱
風対流式乾燥機で10分間乾燥して溶剤を除去し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層を形成した。得られたバリア
リブ形成用樹脂組成物層の厚さは50μmであった。次
いで、バリアリブ形成用樹脂組成物層の上に、さらに、
25μmの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィ
ルムとして張り合わせて、バリアリブ形成用樹脂組成物
エレメント(ii)を作製した。
The obtained solution (A-2) for forming a barrier rib-forming resin composition layer was uniformly applied on a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film, and dried with a hot air convection dryer at 110 ° C. for 10 minutes. Then, the solvent was removed to form a resin composition layer for forming a barrier rib. The thickness of the obtained resin composition layer for forming a barrier rib was 50 μm. Next, on the barrier rib forming resin composition layer,
A polyethylene film having a thickness of 25 μm was laminated as a cover film to prepare a barrier rib-forming resin composition element (ii).

【0055】実施例3 〔バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(iii)の製
造〕表5に示す材料を、ボールミルを用いて3時間混合
し、バリアリブ形成用樹脂組成物層用溶液(A−3)を
作製した。
Example 3 [Production of Barrier Rib Forming Resin Composition Element (iii)] The materials shown in Table 5 were mixed for 3 hours using a ball mill, and a solution (A-3) for a barrier rib forming resin composition layer was prepared. Was prepared.

【0056】[0056]

【表5】 [Table 5]

【0057】得られた、バリアリブ形成用樹脂組成物層
用溶液(A−3)を、50μmの厚さのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、110℃の熱
風対流式乾燥機で10分間乾燥して溶剤を除去し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層を形成した。得られたバリア
リブ形成用樹脂組成物層の厚さは50μmであった。次
いで、バリアリブ形成用樹脂組成物層の上に、さらに、
25μmの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィ
ルムとして張り合わせて、バリアリブ形成用樹脂組成物
エレメント(iii)を作製した。
The obtained solution (A-3) for forming a resin composition layer for forming a barrier rib is uniformly applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm and dried with a hot air convection dryer at 110 ° C. for 10 minutes. Then, the solvent was removed to form a resin composition layer for forming a barrier rib. The thickness of the obtained resin composition layer for forming a barrier rib was 50 μm. Next, on the barrier rib forming resin composition layer,
A polyethylene film having a thickness of 25 μm was laminated as a cover film to prepare a barrier rib-forming resin composition element (iii).

【0058】比較例1 〔バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(iv)の製
造〕表6に示す材料を、ボールミルを用いて3時間混合
し、バリアリブ形成用樹脂組成物層用溶液(A−4)を
作製した。
Comparative Example 1 [Production of Barrier Rib Forming Resin Composition Element (iv)] The materials shown in Table 6 were mixed for 3 hours using a ball mill, and a solution (A-4) for a barrier rib forming resin composition layer was prepared. Was prepared.

【0059】[0059]

【表6】 [Table 6]

【0060】得られた、バリアリブ形成用樹脂組成物層
用溶液(A−4)を、50μmの厚さのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、110℃の熱
風対流式乾燥機で10分間乾燥して溶剤を除去し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層を形成した。得られたバリア
リブ形成用樹脂組成物層の厚さは50μmであった。次
いで、バリアリブ形成用樹脂組成物層の上に、さらに、
25μmの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィ
ルムとして張り合わせて、バリアリブ形成用樹脂組成物
エレメント(iv)を作製した。
The obtained solution (A-4) for forming a barrier rib-forming resin composition layer is uniformly applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm, and dried with a hot air convection dryer at 110 ° C. for 10 minutes. Then, the solvent was removed to form a resin composition layer for forming a barrier rib. The thickness of the obtained resin composition layer for forming a barrier rib was 50 μm. Next, on the barrier rib forming resin composition layer,
A polyethylene film having a thickness of 25 μm was laminated as a cover film to prepare a resin composition element (iv) for forming a barrier rib.

【0061】比較例2 〔バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(v)の製
造〕表7に示す材料を、ボールミルを用いて3時間混合
し、バリアリブ形成用樹脂組成物層用溶液(A−5)を
作製した。
Comparative Example 2 [Production of Barrier Rib-Forming Resin Composition Element (v)] The materials shown in Table 7 were mixed for 3 hours using a ball mill, and a solution (A-5) for a barrier rib-forming resin composition layer was prepared. Was prepared.

【0062】[0062]

【表7】 [Table 7]

【0063】得られた、バリアリブ形成用樹脂組成物層
用溶液(A−5)を、50μmの厚さのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に均一に塗布し、110℃の熱
風対流式乾燥機で10分間乾燥して溶剤を除去し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層を形成した。得られたバリア
リブ形成用樹脂組成物層の厚さは50μmであった。次
いで、バリアリブ形成用樹脂組成物層の上に、さらに、
25μmの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィ
ルムとして張り合わせて、バリアリブ形成用樹脂組成物
エレメント(v)を作製した。
The obtained solution (A-5) for forming a resin composition layer for forming a barrier rib is uniformly coated on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm, and dried with a hot air convection dryer at 110 ° C. for 10 minutes. Then, the solvent was removed to form a resin composition layer for forming a barrier rib. The thickness of the obtained resin composition layer for forming a barrier rib was 50 μm. Next, on the barrier rib forming resin composition layer,
A polyethylene film having a thickness of 25 μm was laminated as a cover film to prepare a resin composition element (v) for forming a barrier rib.

【0064】実施例4 〔レリーフパターンの形成〕メタクリル酸メチル/アク
リル酸エチル/メタクリル酸共重合体(重量比53/3
0/17、重量平均分子量10万)の41重量%メチル
セロソルブ/トルエン(重量比8:2)溶液137g
(固形分55g)、ビスフェノールAポリオキシエチレ
ンジメタクリート34g、γ−クロロ−β−ヒドロキシ
プロピル−β−メタクリロイルオキシエチル−O−フタ
レート11g、安定剤(AW−500、川口化学株式会
社製)0.1g、トリブロモメチルフェニルスルフォン
1.2g、シリコーンレベリング剤(SH−193、ト
ーレシリコン株式会社製)0.04g、1,7ビス−
(9−アクリジニル)ヘプタン0.2g、ベンジルジメ
チルケタール3g、ロイコクリスタルバイオレット1.
0g、マラカイトグリーン0.05g、トルエン7g、
メチルエチルケトン13g及びメタノール3gを配合
し、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
Example 4 [Formation of Relief Pattern] Methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer (weight ratio 53/3)
137 g of a 41% by weight methylcellosolve / toluene (weight ratio 8: 2) solution of 0/17, weight average molecular weight 100,000)
(Solid content 55 g), 34 g of bisphenol A polyoxyethylene dimethacrylate, 11 g of γ-chloro-β-hydroxypropyl-β-methacryloyloxyethyl-O-phthalate, stabilizer (AW-500, manufactured by Kawaguchi Chemical Co., Ltd.) 0 0.1 g, tribromomethylphenylsulfone 1.2 g, silicone leveling agent (SH-193, manufactured by Toray Silicon Co., Ltd.) 0.04 g, 1,7 bis-
0.2 g of (9-acridinyl) heptane, 3 g of benzyldimethyl ketal, leuco crystal violet
0 g, malachite green 0.05 g, toluene 7 g,
13 g of methyl ethyl ketone and 3 g of methanol were blended to obtain a solution of the photosensitive resin composition.

【0065】この感光性樹脂組成物の溶液を20μm厚
のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布
し、110℃の熱風対流式乾燥機で約10分間乾燥して
感光性フィルムを得た。感光性樹脂層の乾燥後の膜厚は
50μmであった。次いで、得られた感光性フィルムを
基板の上に3層貼り合わせて、150μm厚さの感光性
樹脂層を形成した。基板として、ガラス板(3.0mm
厚)を用いた。ラミネートはラミネートロール温度13
0℃、ロール圧0.4MPa(4.0kgf/cm2)、速度1.
0m/分の条件で行った。次に、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にネガマスクを載置し、3kW高圧水銀
灯(HMW−590、オーク製作所製)で80mJ/cm2
露光を行った。露光後5分以内に80℃で10分加熱し
た。
The solution of the photosensitive resin composition was uniformly applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm and dried with a hot air convection dryer at 110 ° C. for about 10 minutes to obtain a photosensitive film. The film thickness of the photosensitive resin layer after drying was 50 μm. Next, the obtained photosensitive film was laminated on a substrate in three layers to form a photosensitive resin layer having a thickness of 150 μm. As a substrate, a glass plate (3.0 mm
Thickness). Lamination is performed at a laminating roll temperature of 13
0 ° C., roll pressure 0.4 MPa (4.0 kgf / cm 2 ), speed 1.
The test was performed under the condition of 0 m / min. Next, a negative mask was placed on the polyethylene terephthalate film, and exposure was performed at 80 mJ / cm 2 using a 3 kW high-pressure mercury lamp (HMW-590, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). Heating was performed at 80 ° C. for 10 minutes within 5 minutes after exposure.

【0066】次いで、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥がした後、30℃、1重量%炭酸ソーダ水溶液
でスプレー現像を行った。次いで、20℃、0.5重量
%塩化水素水溶液で浸漬処理し、水洗、水切り、80℃
で5分乾燥後、7kWメタルハライドランプ(HMW−6
80、オーク製作所製)で2J/cm2露光した。次いで、
150℃で10分加熱した。これにより、断面形状が矩
形で厚膜のレリーフパターンが設けられた基板(板ガラ
ス3mm厚、縦10cm×横10cm、L/S=150/70
μm、レリーフ厚150μm)を製造できた。
Next, after peeling off the polyethylene terephthalate film, spray development was carried out with a 1% by weight aqueous sodium carbonate solution at 30 ° C. Next, immersion treatment is performed at 20 ° C. in a 0.5% by weight aqueous solution of hydrogen chloride, washed with water, drained,
After drying for 5 minutes with a 7kW metal halide lamp (HMW-6
80, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) at 2 J / cm 2 . Then
Heated at 150 ° C. for 10 minutes. Thus, a substrate having a rectangular cross-sectional shape and provided with a thick film relief pattern (sheet glass 3 mm thick, 10 cm long × 10 cm wide, L / S = 150/70)
μm, and a relief thickness of 150 μm).

【0067】〔バリアリブの形成〕このようなレリーフ
パターンが設けられた基板のレリーフパターン形成され
た側に、実施例1で得られたバリアリブ形成用樹脂組成
物エレメント(i)のポリエチレンフィルムを剥がしな
がら、ラミネータ(日立化成工業(株)製、商品名HLM
−1500型)を用いて、ラミネート温度が130℃、
ラミネート速度が0.5m/分、圧着圧力(シリンダ圧
力)が4×105Pa(厚さが3mm、縦10cm×横10cm
の基板を用いたため、この時の線圧は9.8×103N/
m)で、ポリエチレンテレフタレートフィルムを介して
バリアリブ形成用樹脂組成物層を圧着して積層し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物層をレリーフパターンの間隙に
埋め込んだ。
[Formation of Barrier Rib] The polyethylene film of the resin composition element (i) for forming a barrier rib obtained in Example 1 was peeled off on the side of the substrate provided with such a relief pattern on which the relief pattern was formed. , Laminator (HLM, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
-1500 type), the lamination temperature is 130 ° C.,
The laminating speed is 0.5 m / min and the pressing pressure (cylinder pressure) is 4 × 10 5 Pa (thickness 3 mm, length 10 cm × width 10 cm)
The linear pressure at this time was 9.8 × 10 3 N /
In m), the barrier rib-forming resin composition layer was pressed and laminated via a polyethylene terephthalate film, and the barrier rib-forming resin composition layer was embedded in the gaps of the relief pattern.

【0068】得られたサンプルの断面を、実体顕微鏡及
びSEMにより目視にて観察し、バリアリブ形成用樹脂
組成物のレリーフパターン間隙への埋め込み状況を評価
し、結果を表8に示した。評価基準は次の通りである。 ○:バリアリブ形成用樹脂組成物がレリーフパターンの
間隙に隙間無く埋め込まれている。 ×:バリアリブ形成用樹脂組成物がレリーフパターンの
間隙に隙間無く埋め込まれていない。
The cross section of the obtained sample was visually observed with a stereoscopic microscope and an SEM, and the embedding state of the resin composition for forming a barrier rib in the gap of the relief pattern was evaluated. The results are shown in Table 8. The evaluation criteria are as follows. :: The barrier rib forming resin composition is embedded in the gaps of the relief pattern without gaps. ×: The resin composition for forming a barrier rib was not embedded without a gap in the gap of the relief pattern.

【0069】次いで、得られたサンプルを40℃、5重
量%水酸化ナトリウム水溶液に7分間浸漬後、60℃の
湯に浸漬してレリーフパターンを剥離して除去し、バリ
アリブ形成用樹脂組成物からなるパターンを形成した。
得られたバリアリブ形成用樹脂組成物からなるパターン
の断面を、実体顕微鏡及びSEMにより目視にて観察
し、その形成状況を評価し、結果を表8に示した。さら
に、実施例1で得られたバリアリブ形成用樹脂組成物エ
レメント(i)を5℃で7日間保存した後、前述の〔バ
リアリブの形成〕と同様の操作を行って、バリアリブ形
成用樹脂組成物層をレリーフパターンの間隙に埋め込ん
だ。得られたサンプルの断面を、実体顕微鏡及びSEM
により目視にて観察し、バリアリブ形成用樹脂組成物の
レリーフパターン間隙への埋め込み状況を評価し、結果
を表8に示した。
Next, the obtained sample was immersed in a 5% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 40 ° C. for 7 minutes, and then immersed in hot water of 60 ° C. to peel off and remove the relief pattern. Was formed.
The cross section of the pattern formed of the obtained resin composition for forming a barrier rib was visually observed with a stereoscopic microscope and an SEM, and the formation state was evaluated. The results are shown in Table 8. Further, after the barrier rib-forming resin composition element (i) obtained in Example 1 was stored at 5 ° C. for 7 days, the same operation as the above-mentioned “barrier rib formation” was performed to obtain the barrier rib-forming resin composition. The layers were embedded in the gaps of the relief pattern. The cross section of the obtained sample was examined by a stereoscopic microscope and SEM.
The results were shown in Table 8 by observing the resin composition for barrier rib formation in the gaps between the relief patterns.

【0070】実施例5 実施例4において、実施例1で得られたバリアリブ形成
用樹脂組成物エレメント(i)を、実施例2で得られた
バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(ii)に代えた
以外は、実施例4と同様にバリアリブ形成用樹脂組成物
からなるパターンを形成し、バリアリブ形成用樹脂組成
物のレリーフパターンの間隙への埋め込み状況を評価
し、また、バリアリブ形成用樹脂組成物からなるパター
ンの断面を、実体顕微鏡及びSEMにより目視にて観察
し、その形成状況を評価し、さらに、バリアリブ形成用
樹脂組成物エレメント(ii)を5℃で7日間保存した後
のバリアリブ形成用樹脂組成物のレリーフパターンの間
隙への埋め込み状況を評価し、結果を表8に示した。
Example 5 In Example 4, the barrier rib-forming resin composition element (i) obtained in Example 1 was replaced with the barrier rib-forming resin composition element (ii) obtained in Example 2. Except for the above, a pattern composed of the barrier rib-forming resin composition was formed in the same manner as in Example 4, the embedding state of the barrier rib-forming resin composition in the gaps of the relief patterns was evaluated, and from the barrier rib-forming resin composition, The cross section of the pattern is visually observed with a stereoscopic microscope and a SEM to evaluate the state of formation, and further, the barrier rib-forming resin composition after storing the barrier rib-forming resin composition element (ii) at 5 ° C. for 7 days. The state of embedding the relief pattern of the composition in the gap was evaluated, and the results are shown in Table 8.

【0071】実施例6 実施例4において、実施例1で得られたバリアリブ形成
用樹脂組成物エレメント(i)を、実施例3で得られた
バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(iii)に代え
た以外は、実施例4と同様にバリアリブ形成用樹脂組成
物からなるパターンを形成し、バリアリブ形成用樹脂組
成物のレリーフパターンの間隙への埋め込み状況を評価
し、また、バリアリブ形成用樹脂組成物からなるパター
ンの断面を、実体顕微鏡及びSEMにより目視にて観察
し、その形成状況を評価し、さらに、バリアリブ形成用
樹脂組成物エレメント(iii)を5℃で7日間保存した
後のバリアリブ形成用樹脂組成物のレリーフパターンの
間隙への埋め込み状況を評価し、結果を表8に示した。
Example 6 In Example 4, the resin composition element (i) for forming a barrier rib obtained in Example 1 was replaced with the resin composition element (iii) for forming a barrier rib obtained in Example 3. Except for the above, a pattern composed of the barrier rib-forming resin composition was formed in the same manner as in Example 4, the embedding state of the barrier rib-forming resin composition in the gaps of the relief patterns was evaluated, and from the barrier rib-forming resin composition, The cross section of the pattern is visually observed with a stereoscopic microscope and a SEM to evaluate the formation thereof, and further, the barrier rib-forming resin composition (iii) is stored at 5 ° C. for 7 days. The state of embedding the relief pattern of the composition in the gap was evaluated, and the results are shown in Table 8.

【0072】比較例3 実施例4において、実施例1で得られたバリアリブ形成
用樹脂組成物エレメント(i)を、比較例1で得られた
バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(iv)に代えた
以外は、実施例4と同様にバリアリブ形成用樹脂組成物
からなるパターンを形成し、バリアリブ形成用樹脂組成
物のレリーフパターンの間隙への埋め込み状況を評価
し、また、バリアリブ形成用樹脂組成物からなるパター
ンの断面を、実体顕微鏡及びSEMにより目視にて観察
し、その形成状況を評価し、結果を表8に示した。
Comparative Example 3 In Example 4, the resin composition element for barrier rib formation (i) obtained in Example 1 was replaced with the resin composition element for barrier rib formation (iv) obtained in Comparative Example 1. Except for the above, a pattern composed of the barrier rib-forming resin composition was formed in the same manner as in Example 4, the embedding state of the barrier rib-forming resin composition in the gaps of the relief patterns was evaluated, and from the barrier rib-forming resin composition, The cross section of the resulting pattern was visually observed with a stereoscopic microscope and SEM to evaluate the formation thereof, and the results are shown in Table 8.

【0073】比較例4 実施例4において、実施例1で得られたバリアリブ形成
用樹脂組成物エレメント(i)を、比較例1で得られた
バリアリブ形成用樹脂組成物エレメント(v)に代えた
以外は、実施例4と同様にバリアリブ形成用樹脂組成物
からなるパターンを形成し、バリアリブ形成用樹脂組成
物のレリーフパターンの間隙への埋め込み状況を評価
し、また、バリアリブ形成用樹脂組成物からなるパター
ンの断面を、実体顕微鏡及びSEMにより目視にて観察
し、その形成状況を評価し、さらに、バリアリブ形成用
樹脂組成物エレメント(v)を5℃で7日間保存した後
のバリアリブ形成用樹脂組成物のレリーフパターンの間
隙への埋め込み状況を評価し、結果を表8に示した。
Comparative Example 4 In Example 4, the barrier rib-forming resin composition element (i) obtained in Example 1 was replaced with the barrier rib-forming resin composition element (v) obtained in Comparative Example 1. Except for the above, a pattern composed of the barrier rib-forming resin composition was formed in the same manner as in Example 4, the embedding state of the barrier rib-forming resin composition in the gaps of the relief patterns was evaluated, and from the barrier rib-forming resin composition, The cross-section of the pattern is visually observed with a stereoscopic microscope and a SEM to evaluate the formation thereof, and further, the barrier rib-forming resin composition (v) is stored at 5 ° C. for 7 days. The state of embedding the relief pattern of the composition in the gap was evaluated, and the results are shown in Table 8.

【0074】[0074]

【表8】 [Table 8]

【0075】表8から、(A)バインダポリマ、(B)
有機ケイ素化合物、(C)カルボキシル基を有する化合
物を含む有機材料と(D)バリアリブ用無機材料で構成
されたバリアリブ形成用樹脂組成物エレメントを使用し
た実施例4〜6は、バリアリブ形成用樹脂組成物のレリ
ーフパターン間隙への埋め込み性が良好であり、また、
レリーフパターンを良好に剥離除去でき、バリアリブ形
成用樹脂組成物からなるパターンを良好に形成でき、ま
た、このバリアリブ形成用樹脂組成物エレメントを5℃
で7日間保存した後もバリアリブ形成用樹脂組成物のレ
リーフパターン間隙への埋め込み性が良好であり、保存
安定性に優れていることが分かった。なお、実施例4〜
6で得られたバリアリブ形成用樹脂組成物からなるパタ
ーンを焼成したところ、焼成前のパターン形状に対応し
たパターン精度の優れた高品位のバリアリブを得ること
ができた。
From Table 8, it can be seen that (A) the binder polymer and (B)
Examples 4 to 6 using a barrier rib-forming resin composition element composed of an organic silicon compound, (C) an organic material containing a compound having a carboxyl group, and (D) an inorganic material for a barrier rib, The embedding property of the object into the relief pattern gap is good, and
The relief pattern can be removed and removed satisfactorily, a pattern composed of the resin composition for forming a barrier rib can be satisfactorily formed.
, The embedding property of the resin composition for forming a barrier rib into the relief pattern gap was good, and the storage stability was excellent. Examples 4 to
When the pattern made of the resin composition for forming a barrier rib obtained in 6 was fired, a high-quality barrier rib having excellent pattern accuracy corresponding to the pattern shape before firing was obtained.

【0076】一方、有機ケイ素化合物及びカルボキシル
基を有する化合物を含まないバリアリブ形成用樹脂組成
物エレメントを使用した比較例3は、バリアリブ形成用
樹脂組成物からなるパターンを良好に形成できず、ま
た、カルボキシル基を有する化合物を含まないバリアリ
ブ形成用樹脂組成物エレメントを使用した比較例4は、
このバリアリブ形成用樹脂組成物エレメントを5℃で7
日間保存した後のバリアリブ形成用樹脂組成物のレリー
フパターン間隙への埋め込み性が不良であり、このバリ
アリブ形成用樹脂組成物エレメントが保存安定性に乏し
いことが分かった。
On the other hand, in Comparative Example 3 using the barrier rib-forming resin composition element containing no organosilicon compound and no compound having a carboxyl group, a pattern comprising the barrier rib-forming resin composition could not be formed favorably. Comparative Example 4 using a resin composition element for forming a barrier rib containing no compound having a carboxyl group,
The barrier rib-forming resin composition element is heated at 5 ° C.
The embedding property of the barrier rib forming resin composition into the relief pattern gap after storage for one day was poor, and it was found that this barrier rib forming resin composition element had poor storage stability.

【0077】[0077]

【発明の効果】請求項1記載のバリアリブ形成用樹脂組
成物は、プラズマディスプレイパネルのバリアリブ形成
性及び保存安定性に優れるものである。請求項2記載の
バリアリブ形成用樹脂組成物エレメントは、請求項1記
載の発明の効果に加えて、さらに作業性に優れるもので
ある。請求項3記載のバリアリブの製造法は、プラズマ
ディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化で
き、形状の優れたバリアリブを形成できるものである。
According to the first aspect of the present invention, the resin composition for forming a barrier rib is excellent in barrier rib forming property and storage stability of a plasma display panel. The barrier rib-forming resin composition element according to the second aspect is excellent in workability in addition to the effect of the first aspect. According to the third aspect of the present invention, a barrier rib manufacturing process of a plasma display panel can be shortened, and a barrier rib having an excellent shape can be formed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川上 広幸 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 島村 真理子 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 堀部 芳幸 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎事業所内 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Hiroyuki Kawakami 4-3-1 Higashicho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside Hitachi Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Mariko Shimamura 4-13 Higashimachi, Hitachi City, Ibaraki Prefecture No. 1 Hitachi Chemical Co., Ltd. Research Laboratory (72) Inventor Seiji Tai 1-3-1 Higashicho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd. Research Laboratory (72) Inventor Yoshiyuki Horibe Higashicho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture 4-13-1, Hitachi Chemical Co., Ltd., Yamazaki Office

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)バインダポリマ、(B)有機ケイ
素化合物及び(C)カルボキシル基を有する化合物を含
む有機材料と(D)無機材料とを含有してなるバリアリ
ブ形成用樹脂組成物。
1. A barrier rib forming resin composition comprising (A) a binder polymer, (B) an organic material containing an organosilicon compound and (C) a compound having a carboxyl group, and (D) an inorganic material.
【請求項2】 支持体フィルム上に、請求項1記載のバ
リアリブ形成用樹脂組成物層を有してなるバリアリブ形
成用樹脂組成物エレメント。
2. A barrier rib-forming resin composition element comprising the barrier rib-forming resin composition layer according to claim 1 on a support film.
【請求項3】 除去可能なレリーフパターンの設けられ
た基板上に、請求項2記載のバリアリブ形成用樹脂組成
物エレメントをそのバリアリブ形成用樹脂組成物層が基
板側に対向するようして配置し、バリアリブ形成用樹脂
組成物層に圧力を加えて、レリーフパターンの設けられ
た基板上に、バリアリブ形成用樹脂組成物層を積層しレ
リーフパターンの間隙にバリアリブ形成用樹脂組成物を
埋め込んだ後、レリーフパターンを除去してバリアリブ
形成用樹脂組成物からなるパターンを形成し、このパタ
ーンを焼成することを特徴とするバリアリブの製造法。
3. The barrier rib-forming resin composition element according to claim 2 is disposed on a substrate provided with a removable relief pattern such that the barrier rib-forming resin composition layer faces the substrate side. After applying pressure to the barrier rib forming resin composition layer, on the substrate provided with the relief pattern, after laminating the barrier rib forming resin composition layer and embedding the barrier rib forming resin composition in the gaps of the relief pattern, A method for producing a barrier rib, comprising removing a relief pattern to form a pattern comprising a resin composition for forming a barrier rib, and firing the pattern.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2006112591A1 (en) * 2005-04-19 2006-10-26 Korea Advanced Institute Of Science And Technology Method of manufacturing barrier rib for plasma display panel
KR100738650B1 (en) * 2005-04-19 2007-07-11 한국과학기술원 Manufacturing Method of Barrier Rib for Plasma Display Panel

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