JP2001156446A - Wiring board and manufacturing method for it - Google Patents

Wiring board and manufacturing method for it

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JP2001156446A
JP2001156446A JP33916999A JP33916999A JP2001156446A JP 2001156446 A JP2001156446 A JP 2001156446A JP 33916999 A JP33916999 A JP 33916999A JP 33916999 A JP33916999 A JP 33916999A JP 2001156446 A JP2001156446 A JP 2001156446A
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JP
Japan
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layer
copper foil
wiring board
inner conductor
core substrate
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JP33916999A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukinobu Mikado
幸信 三門
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Ibiden Co Ltd
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Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board together with its manufacturing method wherein the thickness of an inter-layer insulating layer is constant while a fine pattern is worked at an inner-layer conductor layer. SOLUTION: A copper-pasted laminated board where a copper foil 2 is pasted on both surfaces of a core substrate 1 is provided with a through hole 3. The copper foil 2 is entirely removed by etching, and both surfaces of core substrate 1 and the wall surface of through hole 3 are plated to form an inner-layer conductor layer 4. A resin-attached copper foil 6 is built up on the outside of inner-layer conductor layer 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、内層にIVH(in
terstitial via hole)が形成された配線板及びその製
造方法に関するものである。
[0001] The present invention relates to an IVH (in
The present invention relates to a wiring board having terstitial via holes) and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、配線板には、内層導体層同士
を接続するためにIVH(interstitial via hole)が
内層に形成されている。このような配線板は次のように
製造される。即ち、絶縁層の両面に銅箔が貼り付けられ
た基板に貫通穴をあけて、この基板にパネルメッキを行
う。このメッキ層と銅箔が内層導体層として機能する。
そして、この貫通穴に充填材を充填する。そして、内層
導体層にパターニングを行う。そして、その基板の上に
さらに層間絶縁層及び外層導体層をビルドアップする。
2. Description of the Related Art Hitherto, an IVH (interstitial via hole) has been formed in an inner layer of a wiring board to connect the inner conductor layers. Such a wiring board is manufactured as follows. That is, a through hole is made in a substrate having copper foil attached to both surfaces of an insulating layer, and panel plating is performed on the substrate. The plating layer and the copper foil function as an inner conductor layer.
Then, a filler is filled in the through hole. Then, patterning is performed on the inner conductor layer. Then, an interlayer insulating layer and an outer conductor layer are further built up on the substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方法では、銅箔の上にさらにメッキを施すため、内
層導体層が厚い配線板が形成されてしまうのである。こ
れにより、次の問題点がある。
However, in the above-mentioned conventional method, since the copper foil is further plated, a wiring board having a thick inner conductor layer is formed. This has the following problems.

【0004】即ち、層間絶縁層の厚さが均一な配線板を
形成することができないのである。なぜなら、層間絶縁
層の下の層にある内層導体層は場所によってラインであ
ったりパッドであったりする。このとき、内層導体層が
パッドである場所とラインである場所とではその上の層
間絶縁層の厚さが異なるからである。また、内層導体層
に微細なパターン加工を施すことが困難である。内層導
体層が厚いことによりパターンだれが避けがたいからで
ある。このため、配線板の高集積化の障害となるのであ
る。
That is, it is impossible to form a wiring board having a uniform thickness of the interlayer insulating layer. This is because the inner conductor layer below the interlayer insulating layer may be a line or a pad depending on the location. At this time, the thickness of the interlayer insulating layer thereover is different between the place where the inner conductor layer is the pad and the place where the inner conductor layer is the line. In addition, it is difficult to perform fine pattern processing on the inner conductor layer. This is because pattern thickening is inevitable due to the thick inner conductor layer. This is an obstacle to high integration of the wiring board.

【0005】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものである。即ちその課題とするところは、層間絶
縁層の厚さが均一であり、さらに、内層導体層に微細な
パターン加工を施すことができる配線板及びその製造方
法を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems. That is, it is an object of the present invention to provide a wiring board in which the thickness of an interlayer insulating layer is uniform and in which a fine pattern processing can be performed on an inner conductor layer, and a method of manufacturing the wiring board.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
になされた本発明の配線板は、コア基板と、コア基板の
両面の内層導体パターンと、内層導体パターン同士を接
続する内部ビアホールと、両内層導体パターンの外側に
それぞれビルドアップされた層間絶縁層及び外層導体パ
ターンを有し、内層導体パターンはコア基板に直接にメ
ッキして形成されたものである。
According to the present invention, there is provided a wiring board comprising: a core substrate; inner conductor patterns on both surfaces of the core substrate; internal via holes connecting the inner conductor patterns to each other; It has an interlayer insulating layer and an outer layer conductor pattern which are respectively built up outside the both inner layer conductor patterns, and the inner layer conductor pattern is formed by directly plating the core substrate.

【0007】本発明の配線板では、内層導体パターンは
コア基板に直接にメッキした層のみで構成されているた
め、内層導体パターンの厚さは薄い。これにより、層間
絶縁層の厚さがほぼ均一な配線板を得ることができる。
ここで「直接に」は、コア基板に銅箔を介在させること
なく直にメッキすることを意味している。また、「の
み」は、内層導体パターンには銅箔が含まれていないと
いうことを意味している。
In the wiring board of the present invention, since the inner conductor pattern is constituted only by a layer directly plated on the core substrate, the thickness of the inner conductor pattern is small. This makes it possible to obtain a wiring board having a substantially uniform thickness of the interlayer insulating layer.
Here, "directly" means that plating is performed directly without interposing a copper foil on the core substrate. "Only" means that the inner layer conductor pattern does not include copper foil.

【0008】また、本発明の配線板では、層間絶縁層及
び外層導体層として、樹脂付き銅箔を使用するとよい。
これにより、外層導体層のピール強度が強い配線板が得
られる。また、コア基板として、両面に銅箔が貼着され
た基板の両面の銅箔を除去してなるもの使用することが
望ましい。これにより、銅箔がコア基板に貼着されたと
きに形成されたアンカーを利用することとなる。このた
め、内層導体パターンとコア基板との間に良好な密着性
が得られる。
In the wiring board of the present invention, it is preferable to use a resin-coated copper foil as the interlayer insulating layer and the outer conductor layer.
Thereby, a wiring board having a strong peel strength of the outer conductor layer can be obtained. Further, it is desirable to use a core substrate obtained by removing copper foil on both surfaces of a substrate having copper foils adhered to both surfaces. As a result, the anchor formed when the copper foil is attached to the core substrate is used. Therefore, good adhesion between the inner conductor pattern and the core substrate can be obtained.

【0009】すなわち、本発明の配線板の製造方法は、
貫通穴を有するコア基板の両表面及び貫通穴の壁面に直
接にメッキ層を形成し、メッキ層にパターン加工を施
し、メッキ層の外側にそれぞれ層間絶縁層及び外層導体
パターンをビルドアップすることによる方法である。こ
れにより、厚さが薄い内層導体パターンを形成すること
ができるので、微細な内層導体パターンにも対応でき
る。
That is, the method for manufacturing a wiring board of the present invention comprises:
By directly forming a plating layer on both surfaces of the core substrate having a through hole and the wall surface of the through hole, performing pattern processing on the plating layer, and building up an interlayer insulating layer and an outer layer conductor pattern respectively outside the plating layer. Is the way. Accordingly, a thinner inner conductor pattern can be formed, and therefore, it is possible to cope with a fine inner conductor pattern.

【0010】ここで、前述のように、層間絶縁層及び外
層導体パターンとして、樹脂付き銅箔を用いるのがよ
い。さらに、コア基板として、両面に銅箔が貼着された
基板の両面の銅箔を除去したものを用いことが望まし
い。
Here, as described above, it is preferable to use a copper foil with a resin as the interlayer insulating layer and the outer layer conductor pattern. Further, it is desirable to use a core substrate on which copper foil is adhered on both sides and from which copper foil on both sides has been removed.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】(第1の形態)以下、本発明を具
体化した実施の形態について、添付図面を参照しつつ詳
細に説明する。第1の形態として、2層IVHが形成さ
れた4層配線板及びその製造方法を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As a first embodiment, a four-layer wiring board having a two-layer IVH formed thereon and a method of manufacturing the same will be described.

【0012】まず、製造方法について説明する。本形態
では、出発材料として、ガラスエポキシ板の両面に銅箔
2を積層してなる銅貼り積層板を使用する。
First, the manufacturing method will be described. In this embodiment, a copper-clad laminate obtained by laminating copper foils 2 on both sides of a glass epoxy plate is used as a starting material.

【0013】最初に、銅貼り積層板に貫通穴3を開ける
(図1)。次に、銅貼り積層板の銅箔2をエッチングし
て全部取り除く。このときエッチング液として塩化銅溶
液を利用する。すると、ガラスエポキシ板が露出する。
本形態ではこのガラスエポキシ板をコア基板1というこ
ととする(図2)。このとき、このコア基板1の表面は
微細な凹凸状になっている。この凹凸は、上記銅貼り積
層板を製造する工程で、コア基板1に銅箔2を貼着する
際に形成されたものである。次に、貫通穴3に付着した
スミアを除去する。このスミア除去は、コア基板1を過
マンガン酸カリウム溶液で処理することによって行う。
First, a through hole 3 is formed in the copper-clad laminate (FIG. 1). Next, the copper foil 2 of the copper-clad laminate is entirely removed by etching. At this time, a copper chloride solution is used as an etching solution. Then, the glass epoxy plate is exposed.
In this embodiment, this glass epoxy plate is referred to as a core substrate 1 (FIG. 2). At this time, the surface of the core substrate 1 has fine irregularities. The irregularities are formed when the copper foil 2 is attached to the core substrate 1 in the process of manufacturing the copper-clad laminate. Next, the smear attached to the through hole 3 is removed. This smear removal is performed by treating the core substrate 1 with a potassium permanganate solution.

【0014】そして、コア基板1に銅メッキを施す。こ
のメッキは、コア基板1の表面及びその貫通穴3の壁面
に触媒を付与して、化学銅メッキを施した後、その上か
ら電気銅メッキを施すことによって行う。すると、コア
基板1の表面と貫通穴3の壁面に内層導体層4が形成さ
れる(図3)。このとき、貫通穴3の壁面にもメッキが
施されるため、コア基板1の両面の内層導体層4は貫通
穴3によって接続されている。これにより、メッキが施
された貫通穴3が2層IVH9(図7参照)になるので
ある。また、コア基板1の表面が微細な凹凸状であるの
で、内層導体層4はそのアンカー効果によって確実にコ
ア基板1に付着している。
Then, the core substrate 1 is plated with copper. This plating is performed by applying a catalyst to the surface of the core substrate 1 and the wall surfaces of the through holes 3 to perform chemical copper plating, and then performing electrolytic copper plating thereon. Then, the inner conductor layer 4 is formed on the surface of the core substrate 1 and the wall surfaces of the through holes 3 (FIG. 3). At this time, since the wall surfaces of the through holes 3 are also plated, the inner conductor layers 4 on both surfaces of the core substrate 1 are connected by the through holes 3. Thus, the plated through hole 3 becomes a two-layer IVH 9 (see FIG. 7). In addition, since the surface of the core substrate 1 is finely uneven, the inner conductor layer 4 is securely attached to the core substrate 1 by its anchor effect.

【0015】次に、貫通穴3に、充填材5を充填し(図
4)、内層導体層4をパターニングする(図5)。内層
導体層4のパターニングは、内層導体層4の表面にレジ
ストを形成して内層導体層4の表面をエッチングする等
公知の方法で行えばよい。そして、コア基板1に樹脂付
き銅箔6を積層プレスする(図6)。最後に、樹脂付き
銅箔6の銅箔8をパターニングする。かくして、2層I
VH9を有する4層配線板が形成される(図7)。
Next, the through hole 3 is filled with a filler 5 (FIG. 4), and the inner conductor layer 4 is patterned (FIG. 5). The patterning of the inner conductor layer 4 may be performed by a known method such as forming a resist on the surface of the inner conductor layer 4 and etching the surface of the inner conductor layer 4. Then, a copper foil 6 with resin is laminated and pressed on the core substrate 1 (FIG. 6). Finally, the copper foil 8 of the copper foil 6 with resin is patterned. Thus, two layers I
A four-layer wiring board having VH9 is formed (FIG. 7).

【0016】本形態の配線板の製造方法によれば、銅箔
2を介在させることなく直にコア基板1に内層導体層4
をメッキするので、内層導体層4を薄く形成することが
できる。従って、内層導体層4に微細なパターン加工を
施すことができる。また、コア基板1として、銅貼り積
層板の銅箔2をエッチングしたものを使用している。こ
れにより、銅貼り積層板を製造する工程でコア基板1に
形成されたアンカーを利用することができるので、内層
導体層4をコア基板に確実に付着させることができる。
According to the method of manufacturing a wiring board of the present embodiment, the inner conductor layer 4 is directly formed on the core substrate 1 without the copper foil 2 interposed therebetween.
, The inner conductor layer 4 can be formed thin. Therefore, fine pattern processing can be performed on the inner conductor layer 4. The core substrate 1 is obtained by etching a copper foil 2 of a copper-clad laminate. Thus, the anchor formed on the core substrate 1 can be used in the step of manufacturing the copper-clad laminate, so that the inner conductor layer 4 can be securely attached to the core substrate.

【0017】続いて、上記の方法によって形成された2
層IVHを有する配線板の構成について説明する。この
配線板は図7に示すように、コア基板1に2層IVH9
が設けられている。2層IVH9の中には充填材5が充
填され、2層IVH9の壁面及びコア基板1の両面に内
層導体層4が形成されている。さらに、内層導体層4の
外側には層間絶縁層7及び銅箔8がビルドアップされて
いる。層間絶縁層7及び銅箔8は前述のように樹脂付き
銅箔6によるものである。
Subsequently, the 2 formed by the above method is
The configuration of the wiring board having the layer IVH will be described. This wiring board has a two-layer IVH9
Is provided. The filler 5 is filled in the two-layer IVH 9, and the inner conductor layer 4 is formed on the wall surface of the two-layer IVH 9 and on both surfaces of the core substrate 1. Further, an interlayer insulating layer 7 and a copper foil 8 are built up outside the inner conductor layer 4. The interlayer insulating layer 7 and the copper foil 8 are made of the resin-attached copper foil 6 as described above.

【0018】この配線板における内層導体層4は、コア
基板1の上に銅箔2を介在させることなく直にメッキし
たものである。このため、内層導体層4の厚さは薄い。
従って、層間絶縁層7の厚さは場所によらずほぼ均一で
ある。また、ビルドアップに樹脂付き銅箔6を用いてい
るので、銅箔8のピール強度は強い。なぜなら、一般的
にメッキ銅のピール強度が0.7〜1.1kN/m程度
であるのに対し、樹脂付き銅箔のピール強度は1.5k
N/m程度であるからである。
The inner conductor layer 4 of this wiring board is formed by plating directly on the core substrate 1 without the copper foil 2 interposed therebetween. For this reason, the thickness of the inner conductor layer 4 is small.
Therefore, the thickness of the interlayer insulating layer 7 is substantially uniform regardless of the location. Further, since the copper foil 6 with resin is used for build-up, the peel strength of the copper foil 8 is strong. This is because the peel strength of plated copper is generally about 0.7 to 1.1 kN / m, whereas the peel strength of copper foil with resin is 1.5 kN / m.
This is because it is about N / m.

【0019】(第2の形態)次に、第2の形態として、
4層IVHが形成された6層配線板及びその製造方法に
ついて説明する。
(Second Embodiment) Next, as a second embodiment,
A six-layer wiring board on which four IVHs are formed and a method of manufacturing the same will be described.

【0020】まず、製造方法について説明する。出発材
料として4層基板11を用意する。4層基板11の製造
方法は、第1の形態におけるコア基板1に樹脂付き銅箔
6をプレスする工程(第1の形態の図6参照)までと共
通するため、その記載を引用することとし、詳細な説明
は省略する。
First, the manufacturing method will be described. A four-layer substrate 11 is prepared as a starting material. Since the method of manufacturing the four-layer board 11 is common to the step of pressing the resin-attached copper foil 6 on the core board 1 in the first embodiment (see FIG. 6 of the first embodiment), the description thereof will be cited. Detailed description is omitted.

【0021】次に、図6に示された4層基板11に貫通
穴12を開ける(図8)。そして、銅箔8の全部をエッ
チングして除去する(図9)。すると、4層基板11の
層間絶縁層7が露出する。この層間絶縁層7の表面は、
樹脂付き銅箔6を製造する工程で形成されたアンカーに
よって微細な凹凸状になっている。次に、4層基板11
の全面にメッキを施す(図10)。すると、貫通穴12
の壁面及び層間絶縁層7の外面に内層導体層14が形成
され、4層基板11の両面が内層導体層14で接続され
る。これにより、貫通穴12が4層IVH18(図14
参照)になるのである。さらにこのとき、内層導体層1
4は確実に層間絶縁層7に付着している。層間絶縁層7
の表面が微細な凹凸状であるからである。
Next, a through hole 12 is formed in the four-layer substrate 11 shown in FIG. 6 (FIG. 8). Then, the entire copper foil 8 is removed by etching (FIG. 9). Then, the interlayer insulating layer 7 of the four-layer substrate 11 is exposed. The surface of the interlayer insulating layer 7
The anchors formed in the process of manufacturing the resin-attached copper foil 6 form fine irregularities. Next, the four-layer substrate 11
(See FIG. 10). Then, the through hole 12
The inner conductor layer 14 is formed on the wall surface of the substrate and on the outer surface of the interlayer insulating layer 7, and both surfaces of the four-layer substrate 11 are connected by the inner conductor layer 14. As a result, the through holes 12 are formed in the four-layer IVH 18 (FIG. 14).
See). At this time, the inner conductor layer 1
4 surely adheres to the interlayer insulating layer 7. Interlayer insulating layer 7
This is because the surface has fine irregularities.

【0022】次に、貫通穴12に充填材13を充填し
(図11)、内層導体層14をパターニングする(図1
2)。そして、4層基板11の外側に樹脂付き銅箔15
を積層プレスし(図13)、樹脂付き銅箔15の銅箔1
6をパターニングする。かくして、4層IVH18が形
成された6層配線板が完成する(図14)。
Next, the through-hole 12 is filled with a filler 13 (FIG. 11), and the inner conductor layer 14 is patterned (FIG. 1).
2). A copper foil 15 with resin is provided on the outside of the four-layer substrate 11.
Is laminated and pressed (FIG. 13), and the copper foil 1 of the copper foil 15 with resin is formed.
6 is patterned. Thus, a six-layer wiring board having the four-layer IVH 18 formed thereon is completed (FIG. 14).

【0023】本形態の配線板の製造方法によれば、銅箔
8を介在させることなく直に内層導体層14を層間絶縁
層7にメッキする。これにより、内層導体層14を薄く
形成することができる。従って、内層導体層14に微細
なパターン加工を施すことができる。また、4層基板1
1の銅箔8はエッチングによって除去される。従って、
樹脂付き銅箔6を製造する工程で層間絶縁層7に形成さ
れた凹凸を利用することになり、そのアンカー効果で内
層導体層14を確実に付着させることができる。
According to the method of manufacturing a wiring board of the present embodiment, the inner conductor layer 14 is directly plated on the interlayer insulating layer 7 without the interposition of the copper foil 8. Thereby, the inner conductor layer 14 can be formed thin. Therefore, fine pattern processing can be performed on the inner conductor layer 14. In addition, the four-layer substrate 1
The one copper foil 8 is removed by etching. Therefore,
The unevenness formed on the interlayer insulating layer 7 in the step of manufacturing the resin-attached copper foil 6 is used, and the inner conductor layer 14 can be securely attached by the anchor effect.

【0024】次に上記方法で形成された6層配線板の構
成について説明する。この配線板には、図14に示すよ
うに、4層基板11に4層IVH18が設けられてい
る。4層IVH18の中には充填材13が充填されてい
る。また、4層基板11における樹脂付き銅箔6の銅箔
8は除去されており、4層IVH18の壁面及び4層基
板11の両面に内層導体層14が形成されている。さら
に、内層導体層14の外側に樹脂付き銅箔15によって
層間絶縁層17及び銅箔16がビルドアップされてい
る。
Next, the configuration of the six-layer wiring board formed by the above method will be described. In this wiring board, a four-layer substrate 11 is provided with a four-layer IVH 18 as shown in FIG. The filler 13 is filled in the four-layer IVH 18. Further, the copper foil 8 of the resin-coated copper foil 6 in the four-layer substrate 11 has been removed, and the inner conductor layer 14 is formed on the wall surface of the four-layer IVH 18 and on both surfaces of the four-layer substrate 11. Further, an interlayer insulating layer 17 and a copper foil 16 are built up on the outside of the inner conductor layer 14 by a copper foil 15 with resin.

【0025】上記構成の配線板では、内層導体層14は
銅箔8を介在させることなく直に層間絶縁層7の上にメ
ッキしたものであるので、層間絶縁層7に積層された内
層導体層14の厚さは薄い。従って、層間絶縁層17の
厚さはほぼ均一である。また、ビルドアップに樹脂付き
銅箔15を用いているので、銅箔16のピール強度は強
い。
In the wiring board having the above structure, the inner conductor layer 14 is plated directly on the interlayer insulating layer 7 without the interposition of the copper foil 8, so that the inner conductor layer 14 laminated on the interlayer insulating layer 7 is formed. 14 is thin. Therefore, the thickness of the interlayer insulating layer 17 is substantially uniform. Moreover, since the copper foil 15 with resin is used for build-up, the peel strength of the copper foil 16 is strong.

【0026】本発明者は、本形態の配線板における層間
絶縁層の厚さが均一であることを確認するために次の実
験を行った。即ち、内層導体層の厚さが20μm、27
μm、35μmの3種類の配線板を製造して、これらに
おいて、内層導体層が形成されている部分の上に積層さ
れた層間絶縁層の厚さを測定した。測定は各配線板につ
いて5箇所、合計15箇所で行った。そして、測定結果
の平均値及び標準偏差を算出した。尚、内層導体層の厚
さが35μmの配線板は従来の配線板に相当する。従来
は、18μm厚の銅箔が形成された基板の上に20μm
程度のパネルメッキを施すのが一般的だからである。こ
れに対し、内層導体層の厚さが20μm、27μmの配
線板は本形態の配線板に相当する。上記方法によって行
われた実験結果を表1に示す。
The present inventor conducted the following experiment in order to confirm that the thickness of the interlayer insulating layer in the wiring board of this embodiment is uniform. That is, the thickness of the inner conductor layer is 20 μm,
Three types of wiring boards of μm and 35 μm were manufactured, and in these, the thickness of the interlayer insulating layer laminated on the portion where the inner conductor layer was formed was measured. The measurement was performed at five locations for each wiring board, for a total of 15 locations. Then, the average value and the standard deviation of the measurement results were calculated. Note that a wiring board in which the thickness of the inner conductor layer is 35 μm corresponds to a conventional wiring board. Conventionally, 20 μm on a substrate on which a 18 μm thick copper foil is formed
This is because it is common to apply a certain degree of panel plating. On the other hand, a wiring board in which the thickness of the inner conductor layer is 20 μm or 27 μm corresponds to the wiring board of the present embodiment. Table 1 shows the results of experiments performed by the above method.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】表1によれば、内層導体層の厚さが20μ
m及び27μmの場合では、内層導体層の厚さが35μ
mのときと比較して、層間絶縁層における厚さの標準偏
差が大幅に減少している。これにより、内層導体層の厚
さが20μm及び27μmである配線板の方が均一に層
間絶縁層が積層されていることがわかる。従って、従来
の配線板よりも、本形態の配線板の方が均一に層間絶縁
層が積層されているといえる。
According to Table 1, the thickness of the inner conductor layer is 20 μm.
m and 27 μm, the thickness of the inner conductor layer is 35 μm.
Compared with the case of m, the standard deviation of the thickness in the interlayer insulating layer is significantly reduced. This indicates that the wiring board having the inner conductor layers having the thicknesses of 20 μm and 27 μm has the interlayer insulating layers laminated more uniformly. Therefore, it can be said that the wiring board of this embodiment has a more uniform interlayer insulating layer than the conventional wiring board.

【0029】以上、詳細に説明したように、本実施の形
態の配線板及びその製造方法によれば、従来の配線板よ
りも内層導体層4、14が薄いものになっている。これ
により、層間絶縁層7、17の厚さを均一に形成するこ
とができ、さらに、内層導体層に微細なパターン加工を
施すことができる。また、ビルドアップする際に樹脂付
き銅箔7、15を使用しているので外層導体層パターン
のピール強度が強い配線板を形成することができる。さ
らに、ビルドアップはすべてプレスの工程によって行う
ことができる。また、コア基板1又は4層基板の両面の
銅箔8、15をエッチングにより除去することによっ
て、銅貼り積層板又は樹脂付き銅箔6の製造工程でコア
基板又は層間絶縁層7の表面に形成された凹凸を利用し
て内層導体層4、14を確実にコア基板1あるいは層間
絶縁層7に付着させることができる。
As described above in detail, according to the wiring board of the present embodiment and the method of manufacturing the same, the inner conductor layers 4 and 14 are thinner than the conventional wiring board. Thereby, the thicknesses of the interlayer insulating layers 7 and 17 can be formed uniformly, and furthermore, a fine pattern processing can be performed on the inner conductor layer. In addition, since the copper foils 7 and 15 with resin are used when building up, it is possible to form a wiring board having a strong peel strength of the outer conductor layer pattern. Further, all build-up can be performed by a pressing process. In addition, by removing the copper foils 8 and 15 on both surfaces of the core substrate 1 or the four-layer substrate by etching, they are formed on the surface of the core substrate or the interlayer insulating layer 7 in the manufacturing process of the copper-clad laminate or the copper foil 6 with resin. The inner conductor layers 4 and 14 can be securely adhered to the core substrate 1 or the interlayer insulating layer 7 by utilizing the unevenness formed.

【0030】なお、本実施の形態は、単なる例示にすぎ
ず本発明を何ら限定するものではない。従って、本発明
は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内での種々の変
形、改良が可能である。例えば、使用する各部の材料や
薬液は目的に沿うものであれば別のものでも良い。ま
た、本形態では、2層IVH及び4層IVHが形成され
た配線板について説明したが、これ以上の多層IVHが
形成された配線板にも適用することができる。
The present embodiment is merely an example and does not limit the present invention. Therefore, naturally, the present invention can be variously modified and improved without departing from the gist thereof. For example, the materials and chemicals of each part used may be different as long as they meet the purpose. Further, in the present embodiment, the wiring board on which the two-layer IVH and the four-layer IVH are formed has been described. However, the present invention can be applied to a wiring board on which a multi-layer IVH is formed.

【0031】また、第1の形態において、銅箔8のさら
にその外に樹脂付き銅箔ビルドアップして多層化しても
よい。このとき、銅箔8は全面エッチングをしなくても
良い。さらに、第2の形態においても同様である。
In the first embodiment, a copper foil with resin may be further built up on the copper foil 8 to form a multilayer. At this time, the entire surface of the copper foil 8 need not be etched. Further, the same applies to the second embodiment.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上、説明したとおり、本発明によれ
ば、層間絶縁層の厚さが均一であり、さらに、内層導体
層に微細なパターン加工を施すことができる配線板及び
その製造方法が提供されている。
As described above, according to the present invention, there is provided a wiring board in which the thickness of the interlayer insulating layer is uniform and which can perform fine pattern processing on the inner conductor layer, and a method of manufacturing the same. Provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】コア基板と銅箔を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a core substrate and a copper foil.

【図2】銅箔がエッチングされた銅貼り積層板を示す図
である。
FIG. 2 is a diagram showing a copper-clad laminate in which copper foil has been etched.

【図3】メッキ層が形成された状態を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a state where a plating layer is formed.

【図4】充填材が貫通穴に充填された状態を示す図であ
る。
FIG. 4 is a view showing a state in which a filler is filled in a through hole.

【図5】メッキ層がパターニングされた状態を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing a state where a plating layer is patterned.

【図6】樹脂付き銅箔がプレスされた状態を示す図であ
る。
FIG. 6 is a view showing a state in which the copper foil with resin is pressed.

【図7】本形態によって形成された配線板の例を示す図
である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of a wiring board formed according to the present embodiment.

【図8】4層基板に穴が形成された状態を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a state in which holes are formed in a four-layer substrate.

【図9】銅箔が全面エッチングされた4層基板を示す図
である。
FIG. 9 is a view showing a four-layer substrate in which a copper foil is entirely etched.

【図10】全面メッキされた状態を示す図である。FIG. 10 is a view showing a state where the entire surface is plated.

【図11】充填材が充填された状態を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a state where a filler is filled.

【図12】パターニングされた状態を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a patterned state.

【図13】樹脂付き銅箔が積層された状態を示す図であ
る。
FIG. 13 is a view showing a state where copper foil with resin is laminated.

【図14】4層IVHが形成された6層配線板を示す図
である。
FIG. 14 is a diagram showing a six-layer wiring board on which four-layer IVHs are formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コア基板 2 銅箔 3 貫通穴 4 メッキ層 6 樹脂付き銅箔 7 樹脂層 8 銅箔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Core board 2 Copper foil 3 Through hole 4 Plating layer 6 Copper foil with resin 7 Resin layer 8 Copper foil

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コア基板と、 前記コア基板の両面の内層導体パターンと、 前記内層導体パターン同士を接続する内部ビアホール
と、 前記両内層導体パターンの外側にそれぞれビルドアップ
された層間絶縁層及び外層導体パターンとを有し、 前記内層導体パターンは、前記コア基板に直接にメッキ
して形成されたものであることを特徴とする配線板。
1. A core substrate, inner conductor patterns on both surfaces of the core substrate, internal via holes connecting the inner conductor patterns, an interlayer insulating layer and an outer layer respectively built up outside the both inner conductor patterns. And a conductor pattern, wherein the inner layer conductor pattern is formed by directly plating the core substrate.
【請求項2】 請求項1に記載された配線板において、 前記層間絶縁層及び外層導体パターンは、樹脂付き銅箔
により形成されたものであることを特徴とする配線板。
2. The wiring board according to claim 1, wherein the interlayer insulating layer and the outer layer conductor pattern are formed of resin-coated copper foil.
【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載された配線
板において、 前記コア基板は、両面に銅箔が貼着された基板の両面の
銅箔を除去してなるものであることを特徴とする配線
板。
3. The wiring board according to claim 1, wherein the core substrate is formed by removing copper foil on both surfaces of a substrate having copper foil adhered on both surfaces. Characteristic wiring board.
【請求項4】 貫通穴を有するコア基板の両表面及び前
記貫通穴の壁面に直接にメッキ層を形成し、 前記メッキ層にパターン加工を施し、 前記メッキ層の外側にそれぞれ層間絶縁層及び外層導体
パターンをビルドアップすることを特徴とする配線板の
製造方法。
4. A plating layer is formed directly on both surfaces of a core substrate having a through hole and a wall surface of the through hole, a pattern processing is performed on the plating layer, and an interlayer insulating layer and an outer layer are formed outside the plating layer, respectively. A method for manufacturing a wiring board, comprising building up a conductor pattern.
【請求項5】 請求項4に記載された配線板の製造方法
において、 前記層間絶縁層及び外層導体パターンのビルドアップに
樹脂付き銅箔を用いることを特徴とする配線板の製造方
法。
5. The method for manufacturing a wiring board according to claim 4, wherein a copper foil with resin is used for build-up of the interlayer insulating layer and the outer conductor pattern.
【請求項6】 請求項4又は請求項5に記載された配線
板の製造方法において、 前記コア基板として、両面に銅箔が貼着された基板の両
面の銅箔を除去したものを用いることを特徴とする配線
板の製造方法。
6. The method for manufacturing a wiring board according to claim 4, wherein the core substrate is formed by removing a copper foil on both surfaces of a substrate having copper foils adhered on both surfaces. A method for manufacturing a wiring board, comprising:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011075811A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Toppan Printing Co Ltd Method of manufacturing optical substrate

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