JP2001155543A - Paste composition, electronic parts and ceramic green sheet and method of manufacturing multilayer ceramic board - Google Patents

Paste composition, electronic parts and ceramic green sheet and method of manufacturing multilayer ceramic board

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JP2001155543A
JP2001155543A JP33554199A JP33554199A JP2001155543A JP 2001155543 A JP2001155543 A JP 2001155543A JP 33554199 A JP33554199 A JP 33554199A JP 33554199 A JP33554199 A JP 33554199A JP 2001155543 A JP2001155543 A JP 2001155543A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a paste composition inhibiting gelatinization, and superior in the storage stability. SOLUTION: In this paste composition prepared by mixing an organic binder including an organic high molecular compound having an acid functional group, and the inorganic powder including polyvalent metal or its compound, a compound having an amide structure is further included. An amide position in the compound having the amide structure exhibits a remarkably high bonding strength with the polyvalent metallic ion in comparison with the acid functional group (in particular, carboxyl group) of the organic binder, whereby the polyvalent metallic ion and the compound having the amide structure eluted into a solution part of the paste composition are reacted first, and inhibit the ionic crosslinking of an anion of the organic high molecular compound and the polyvalent metallic ion as well as the formation of its three-dimensional network, which inhibits the gelatinization. A photosensitive organic component is further preferably included for the patterning by lithographic technique.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、無機粉末を含む
ペースト組成物およびセラミックグリーンシート、これ
らを用いて製造される電子部品、ならびに、多層セラミ
ック基板の製造方法に関するもので、特に、ペースト組
成物またはセラミックグリーンシートを得るためのスラ
リーにおけるゲル化を抑制するための改良に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a paste composition and a ceramic green sheet containing an inorganic powder, an electronic component manufactured using the same, and a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate. Alternatively, the present invention relates to an improvement for suppressing gelation in a slurry for obtaining a ceramic green sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯端末機器やコンピュータ等の電子機
器中に内蔵される回路基板において、その回路基板とし
ての機能を発揮させるためには、基板内にパターニング
された導体膜やバイアホール導体等の配線導体を形成す
る必要がある。しかも、近年にあっては、高周波電子機
器の高密度化や高速信号化に伴って、これら電子機器に
備える回路基板中の導体膜やバイアホール導体等の配線
導体は、微細かつ高精度であることが求められている。
2. Description of the Related Art In a circuit board built in an electronic device such as a portable terminal device or a computer, in order to exhibit a function as the circuit board, a conductive film or via-hole conductor patterned in the substrate is required. It is necessary to form a wiring conductor. Moreover, in recent years, with high-density and high-speed signal transmission of high-frequency electronic devices, wiring conductors such as conductor films and via-hole conductors in circuit boards provided in these electronic devices have become fine and highly accurate. Is required.

【0003】上述した高周波電子機器に備える回路基板
のような高周波電子部品において、導体膜を形成するた
め、一般に、鉄または銅等の多価金属からなる導電性金
属粉末と有機バインダおよび有機溶媒からなる有機ビヒ
クルとを混合した導体ペーストを用い、これを絶縁性基
体上に、所望のパターンをもって付与し、次いで乾燥し
た後、焼成するといった方法が用いられている。
In a high-frequency electronic component such as a circuit board provided in the above-described high-frequency electronic device, a conductive film is generally formed by using a conductive metal powder made of a polyvalent metal such as iron or copper, an organic binder and an organic solvent. A method has been used in which a conductive paste mixed with an organic vehicle is used, applied on an insulating substrate in a desired pattern, dried, and fired.

【0004】ここで、パターニングされた導体膜の形成
は、スクリーン印刷法によるのが通常であるが、この方
法で形成した導体膜の場合には、その配線幅および配線
間ピッチをより狭くしようとしても、50μm程度とす
るのが限界である。
Here, the formation of the patterned conductor film is usually performed by a screen printing method. In the case of the conductor film formed by this method, the wiring width and the pitch between the wirings are reduced. Is limited to about 50 μm.

【0005】これに対して、特開平5−287221号
公報、特開平8−227153号公報等には、感光性導
体ペーストを用いたフォトリソグラフィ技術による微細
厚膜配線の形成方法が提案されている。この方法におい
ては、導電性金属粉末、側鎖にカルボキシル基およびエ
チレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、光反応
性化合物、光重合開始剤等からなる感光性導体ペースト
を絶縁性基体上に塗布し、これを乾燥した後、フォトリ
ソグラフィ技術に基づいてパターニングすることが行な
われる。
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 5-287221 and Hei 8-227153 propose a method of forming a fine thick film wiring by a photolithography technique using a photosensitive conductive paste. . In this method, a photosensitive conductive paste comprising a conductive metal powder, an acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group in a side chain, a photoreactive compound, a photopolymerization initiator and the like is placed on an insulating substrate. Is applied, dried, and then patterned based on a photolithography technique.

【0006】他方、バイアホール導体は、一般に、有機
ビヒクル中にガラス等の絶縁性無機粉末を混合してなる
絶縁体ペースト組成物を所定のスクリーンマスクを介し
て印刷することによって、バイアホール用の貫通孔が形
成された絶縁体ペースト膜を形成した後、バイアホール
用の貫通孔内に導体ペースト組成物を充填し、これを焼
成するといった方法で形成されている。
[0006] On the other hand, via-hole conductors are generally formed by printing an insulator paste composition obtained by mixing an insulating inorganic powder such as glass in an organic vehicle through a predetermined screen mask. After forming an insulating paste film having a through-hole formed therein, a conductive paste composition is filled in the through-hole for a via hole, and the conductive paste composition is baked.

【0007】しかしながら、上述の方法では、スクリー
ン印刷によるにじみやかすれ等により、せいぜい直径2
00μmのバイアホール用貫通孔を作るのが限界であ
る。
However, according to the above-mentioned method, the diameter is at most 2 due to bleeding or blurring caused by screen printing.
The limit is to make a through hole for a via hole of 00 μm.

【0008】これに対して、特開平6−283846号
公報には、絶縁体ペースト組成物に対して感光性有機成
分をさらに混合して得られた感光性ペースト組成物を用
い、フォトリソグラフィ技術によって微細なバイアホー
ル用貫通孔を形成するといった方法が提案されている。
On the other hand, JP-A-6-283846 discloses a photosensitive paste composition obtained by further mixing a photosensitive organic component with an insulating paste composition, and using a photolithography technique. A method of forming a fine via hole for a via hole has been proposed.

【0009】また、高周波モジュール用基板やハイブリ
ッドIC用基板に代表される多層セラミック基板につい
ても、これをより多機能化、高密度化、高性能化するた
めには、配線を高密度に施すことが有効である。そし
て、特に多層セラミック基板にあっては、多層セラミッ
ク基板内に高精度の受動部品を内蔵することも、より多
機能化、高密度化、高性能化のために有効である。
Further, in order to increase the number of functions, density and performance of a multilayer ceramic substrate typified by a substrate for a high-frequency module and a substrate for a hybrid IC, it is necessary to provide wiring at a high density. Is valid. In particular, in the case of a multilayer ceramic substrate, the incorporation of high-precision passive components in the multilayer ceramic substrate is also effective for achieving more functions, higher density, and higher performance.

【0010】上述したように受動部品を内蔵する多層セ
ラミック基板を製造するための方法が、たとえば特開平
9−92983号公報に記載されている。この公報で
は、インダクタやコンデンサ等の受動部品を内蔵した多
層セラミック基板を製造するため、絶縁性、誘電性、磁
性等の様々な特性をそれぞれ有する複数種類のセラミッ
クグリーンシートを用いて、多層セラミック基板内部に
部分的にインダクタやコンデンサを形成する方法が開示
されている。
As described above, a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate incorporating passive components is described in, for example, JP-A-9-92983. In this gazette, in order to manufacture a multilayer ceramic substrate having built-in passive components such as inductors and capacitors, a multilayer ceramic substrate is manufactured using a plurality of types of ceramic green sheets having various characteristics such as insulation, dielectric properties, and magnetism. A method of partially forming an inductor or a capacitor therein is disclosed.

【0011】また、多層セラミック基板の多機能化、高
密度化、高性能化のためには、前述したセラミックグリ
ーンシートに、必要に応じて、微細なバイアホール導体
を設けなければならない。セラミックグリーンシートに
バイアホール導体を設けるために貫通孔を形成する方法
としては、従来から金型によって打ち抜く方法が一般的
である。
Further, in order to increase the functionality, density, and performance of the multilayer ceramic substrate, it is necessary to provide fine via-hole conductors in the above-described ceramic green sheet as necessary. As a method of forming a through-hole for providing a via-hole conductor in a ceramic green sheet, a method of punching out with a mold has been generally used.

【0012】しかしながら、上述の打ち抜く方法では、
セラミックグリーンシートに力学的負荷をかけて加工す
るため、貫通孔をより小径にしようとしても、せいぜい
直径100μm程度とするのが限界である。
However, in the punching method described above,
In order to process the ceramic green sheet by applying a mechanical load, even if the through hole is to be made smaller, the diameter is limited to at most about 100 μm.

【0013】これに対して、より微細なバイアホールの
ための貫通孔を形成する方法として、たとえば、特開平
10−279364号公報には、フォトリソグラフィ技
術によるバイアホール用貫通孔の形成方法が開示されて
いる。この方法は、感光性樹脂とセラミック粉末とを混
合してなる感光性スラリーをシート状に成形して感光性
セラミックグリーンシートを作製し、これにフォトマス
クを介して紫外光等の活性光線を用いて露光した後に現
像処理を施すといった工程を経て、微細なバイアホール
用貫通孔を形成するというものである。
On the other hand, as a method of forming a through hole for a finer via hole, for example, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 10-279364 discloses a method of forming a through hole for a via hole by photolithography. Have been. In this method, a photosensitive ceramic green sheet is prepared by forming a photosensitive slurry formed by mixing a photosensitive resin and a ceramic powder into a sheet, and using an actinic ray such as ultraviolet light through a photomask. Through a process of performing a development process after the exposure, a fine through hole for a via hole is formed.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】近年、感光性ペースト
または感光性スラリーを用いたフォトリソグラフィ技術
においては、環境への配慮から、水またはアルカリ水溶
液による現像が可能であることが望まれている。
In recent years, in photolithography technology using a photosensitive paste or a photosensitive slurry, it has been desired that development with water or an aqueous alkaline solution is possible in consideration of the environment.

【0015】そのため、感光性ペーストまたは感光性ス
ラリーにおいては、プロトンを遊離する性質のあるカル
ボキシル基やヒドロキシル基等の酸性官能基を側鎖に導
入した有機高分子化合物を含む有機バインダが用いられ
ている。
Therefore, in a photosensitive paste or a photosensitive slurry, an organic binder containing an organic polymer compound having an acidic functional group such as a carboxyl group or a hydroxyl group capable of releasing protons is introduced into a side chain. I have.

【0016】しかしながら、感光性ペーストまたは感光
性スラリーを調製するため、上述のような酸性官能基を
有する有機高分子化合物を含む有機バインダに、ガラス
粉末やセラミック粉末等の多価金属もしくはその酸化物
を含有する粉末を加えると、このような粉末から溶出し
た多価金属イオンと、プロトン遊離後に生成される有機
高分子化合物のアニオンとがイオン架橋し、3次元的な
ネットワークを形成することによってゲル化が発生する
ことが判明した。
However, in order to prepare a photosensitive paste or a photosensitive slurry, a polyvalent metal such as a glass powder or a ceramic powder or an oxide thereof is added to an organic binder containing an organic polymer compound having an acidic functional group as described above. Is added, a polyvalent metal ion eluted from such a powder and an anion of an organic polymer compound generated after proton release are ion-crosslinked to form a three-dimensional network, thereby forming a gel. It has been found that the transformation occurs.

【0017】このようにゲル化が生じた不均一なペース
トまたはスラリーは、加工性が低く、そのため、適正な
パターンをもっての塗布、均一な厚みでのシート成形、
さらには微細な貫通孔の形成等を困難にする。また、塗
布された感光性ペースト膜に対する現像が不安定になる
という問題も引き起こす。また、不均一なスラリーをも
って成形されたセラミックグリーンシートを用いてセラ
ミック基板等の電子部品を作製しようとすると、その焼
成時にクラックが入る等の理由で、結果として力学的に
脆いセラミック基板等の電子部品しか得られない。
The non-uniform paste or slurry in which gelation has occurred has low workability, so that it can be applied with an appropriate pattern, formed into a sheet with a uniform thickness,
Further, it is difficult to form a fine through-hole. In addition, there arises a problem that development of the applied photosensitive paste film becomes unstable. Also, when an electronic component such as a ceramic substrate is to be manufactured using a ceramic green sheet formed with a non-uniform slurry, cracks may occur during firing, and as a result, the electronic component such as a ceramic substrate that is mechanically fragile is consequently produced. Only parts can be obtained.

【0018】なお、ゲル化を防止する方法として、たと
えば特開平9−218509号公報ではリン酸等のリン
含有化合物を、特開平9−218508号公報ではベン
ゾトリアゾール等のアゾール構造を持つ化合物を、特開
平9−222723号公報では酢酸等のカルボキシル基
を有する有機化合物を、それぞれ、ゲル化抑制剤として
感光性ペーストに含有させることが開示されている。
As a method for preventing gelation, for example, in JP-A-9-218509, a phosphorus-containing compound such as phosphoric acid, and in JP-A-9-218508, a compound having an azole structure such as benzotriazole is used. JP-A-9-222723 discloses that an organic compound having a carboxyl group such as acetic acid is contained in a photosensitive paste as a gelling inhibitor.

【0019】しかしながら、これらの方法は、感光性ペ
ーストがゲル化するまでの時間を若干長くするにすぎな
いため、感光性ペーストの実用上の困難さは実質的に解
消されていない。
However, these methods only slightly increase the time required for the photosensitive paste to gel, so that the practical difficulty of the photosensitive paste has not been substantially solved.

【0020】また、特開平10−171107号公報で
は、有機溶剤として、3−メチル−3−メトキシブタノ
ールを使用することによってゲル化を防止できるとして
いる。しかしながら、3−メチル−3−メトキシブタノ
ールは沸点が174℃と低いため、塗布後の感光性ペー
ストを乾燥させたときに有機溶剤成分が完全に蒸発して
しまい、ゲル化防止の効果がなくなる。その結果、乾燥
状態のペースト中でもゲル化と似たような現象、すなわ
ちイオン架橋による3次元ネットワークが形成されて実
質的な分子量が高くなるという現象が起こって、未露光
部が現像液に溶出しなくなる、等の問題が生じることが
ある。
JP-A-10-171107 discloses that gelation can be prevented by using 3-methyl-3-methoxybutanol as an organic solvent. However, since the boiling point of 3-methyl-3-methoxybutanol is as low as 174 ° C., the organic solvent component is completely evaporated when the photosensitive paste after application is dried, and the effect of preventing gelation is lost. As a result, even in a paste in a dry state, a phenomenon similar to gelation, that is, a phenomenon in which a three-dimensional network is formed by ionic cross-linking and a substantial molecular weight is increased, and an unexposed portion is eluted into the developer. Problems such as disappearance may occur.

【0021】なお、上述した種々の問題は、そのいくつ
かについては、感光性ペーストまたは感光性スラリーに
特有のものであるが、このような感光性特有の問題を除
けば、酸性官能基を有する有機高分子化合物を含む有機
バインダを含有するペーストまたはスラリー全般に当て
はまるものである。
Some of the various problems described above are peculiar to the photosensitive paste or the photosensitive slurry. Except for such peculiar problems, the photosensitive paste or the photosensitive slurry has an acidic functional group. This applies to pastes or slurries containing an organic binder containing an organic polymer compound in general.

【0022】そこで、この発明の目的は、上述した問題
を解決しようとすることである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problem.

【0023】この発明のより特定的な目的は、基体との
密着力が高く、微細かつ厚膜の導体膜のような機能材料
膜またはバイアホール導体を有する層を形成でき、さら
にゲル化を抑制して保存安定性に優れた、ペースト組成
物を提供しようとすることである。
A more specific object of the present invention is to form a layer having a functional material film such as a fine and thick conductor film or a via-hole conductor having high adhesion to a substrate and further suppressing gelation. And to provide a paste composition having excellent storage stability.

【0024】この発明のより特定的な他の目的は、上述
のようなペースト組成物を用いて形成された機能材料膜
または層を備える、回路基板のような電子部品を提供し
ようとすることである。
Another object of the present invention is to provide an electronic component such as a circuit board having a functional material film or layer formed using the paste composition as described above. is there.

【0025】この発明のより特定的なさらに他の目的
は、スラリーのゲル化を抑制して、均一性および加工性
に優れた、セラミックグリーンシートを提供しようとす
ることである。
Still another object of the present invention is to provide a ceramic green sheet excellent in uniformity and workability by suppressing gelation of a slurry.

【0026】この発明のより特定的なさらに他の目的
は、上述のようなセラミックグリーンシートを用いて構
成される、力学的に丈夫なセラミック基板のような電子
部品を提供しようとすることである。
Still another more specific object of the present invention is to provide an electronic component such as a mechanically strong ceramic substrate constituted by using a ceramic green sheet as described above. .

【0027】この発明のより特定的なさらに他の目的
は、上述のようなセラミックグリーンシートを用いて実
施され、かつ、高密度でかつ微細なパターンをもって導
体膜およびバイアホール導体が設けられた、多層セラミ
ック基板の製造方法を提供しようとすることである。
Still another more specific object of the present invention is implemented using the ceramic green sheet as described above, and provided with a conductor film and a via-hole conductor in a high-density and fine pattern. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate.

【0028】[0028]

【課題を解決するための手段】本件発明者は、上記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、溶液中に、酸
性官能基を有する有機高分子化合物を含む有機バインダ
のアニオンと多価金属のイオンとが溶出してしまうよう
な系に、アミド構造を持つ化合物を含有させることによ
り、ゲル化を有効に抑制できることを見出し、この発明
をなすに至ったものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that the anion of the organic binder containing the organic polymer compound having an acidic functional group and the polyvalent compound are contained in the solution. The present inventors have found that gelation can be effectively suppressed by adding a compound having an amide structure to a system in which metal ions are eluted, and have accomplished the present invention.

【0029】まず、この発明は、ペースト組成物に向け
られる。このペースト組成物は、酸性官能基を有する有
機高分子化合物を含む有機バインダと、多価金属または
その化合物を含む無機粉末とを含むとともに、アミド構
造を持つ化合物を含むことを特徴としている。
First, the present invention is directed to a paste composition. The paste composition includes an organic binder containing an organic polymer compound having an acidic functional group, an inorganic powder containing a polyvalent metal or a compound thereof, and a compound having an amide structure.

【0030】上述した無機粉末は、多価金属またはその
化合物を含む、導電性金属粉末または導電性金属粉末と
ガラス粉末との混合物であっても、ガラス粉末および/
またはセラミック粉末であってもよい。上記導電性金属
粉末としては、たとえば、金、銀、銅、白金、アルミニ
ウム、パラジウム、ニッケル、モリブデンおよびタング
ステンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む粉
末が用いられる。
The above-mentioned inorganic powder may be a conductive metal powder or a mixture of a conductive metal powder and a glass powder containing a polyvalent metal or a compound thereof.
Or it may be a ceramic powder. As the conductive metal powder, for example, a powder containing at least one selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, aluminum, palladium, nickel, molybdenum and tungsten is used.

【0031】この発明は、また、基体と、上述したよう
なペースト組成物を、基体上に付与し、次いで焼成する
ことによって得られた、機能材料膜とを備える、電子部
品にも向けられる。
The present invention is also directed to an electronic component comprising a base and a functional material film obtained by applying the paste composition as described above on the base and then firing the paste.

【0032】また、この発明は、上述のようなペースト
組成物を焼成することによって得られた層を備える、電
子部品にも向けられる。
The present invention is also directed to an electronic component having a layer obtained by firing the above-described paste composition.

【0033】この発明に係るペースト組成物によれば、
アミド構造を有する化合物を含有しているので、塗布前
のペースト状態および塗布・乾燥後の塗膜状態のいずれ
においても、ゲル化の進行を十分に抑制することがで
き、また、基体との密着力が高く、導体膜やバイアホー
ル導体等の各種配線導体を微細かつ高精度に形成でき、
ひいては、高密度配線化かつ高速信号化を十分に達成し
得る回路基板等の電子部品を得ることができる。
According to the paste composition of the present invention,
Since it contains a compound having an amide structure, it is possible to sufficiently suppress the progress of gelation in both the paste state before coating and the coated state after coating and drying, and also achieves close contact with the substrate. With high power, various wiring conductors such as conductor films and via-hole conductors can be formed finely and with high precision.
As a result, it is possible to obtain an electronic component such as a circuit board that can sufficiently achieve high-density wiring and high-speed signal transmission.

【0034】上述したゲル化の抑制は、アミド構造を有
する化合物中のアミド部位は、有機バインダに含まれる
有機高分子化合物の酸性官能基(特にカルボキシル基)
に比べて、多価金属イオンとの結合力が際立って強く、
したがって、ペースト組成物の溶液部分に溶出した多価
金属イオンとこのアミド構造を有する化合物とが先に反
応して、有機高分子化合物のアニオンと多価金属イオン
とのイオン架橋およびその3次元ネットワーク形成を妨
げることによるものである。
The suppression of the above-mentioned gelation is caused by the fact that the amide site in the compound having an amide structure is formed by an acidic functional group (particularly a carboxyl group) of the organic polymer compound contained in the organic binder.
The binding force with polyvalent metal ions is remarkably strong,
Therefore, the polyvalent metal ion eluted in the solution portion of the paste composition and the compound having the amide structure react first, and the ionic cross-linking between the anion of the organic polymer compound and the polyvalent metal ion and its three-dimensional network are performed. This is due to preventing formation.

【0035】この発明は、さらに、セラミックグリーン
シートにも向けられる。このセラミックグリーンシート
は、酸性官能基を有する有機高分子化合物を含む有機バ
インダと、多価金属を含有したセラミック粉末および/
またはガラス粉末と、アミド構造を持つ化合物とを含む
スラリーを、シート状に成形することによって得られた
ものであることを特徴としている。
The present invention is further directed to a ceramic green sheet. The ceramic green sheet includes an organic binder containing an organic polymer compound having an acidic functional group, a ceramic powder containing a polyvalent metal, and / or
Alternatively, the slurry is obtained by forming a slurry containing glass powder and a compound having an amide structure into a sheet.

【0036】上述したセラミック粉末および/またはガ
ラス粉末としては、たとえば、ホウ素、バリウム、マグ
ネシウム、アルミニウム、カルシウム、鉛、ビスマス、
銅、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、クロム、ストロンチ
ウムおよびチタンからなる群より選ばれる少なくとも1
種の多価金属および/またはその酸化物を含むものが用
いられる。
Examples of the above-mentioned ceramic powder and / or glass powder include boron, barium, magnesium, aluminum, calcium, lead, bismuth, and the like.
At least one selected from the group consisting of copper, zinc, zirconium, niobium, chromium, strontium and titanium
Those containing various polyvalent metals and / or oxides thereof are used.

【0037】この発明は、また、上述のようなセラミッ
クグリーンシートを焼成してなるセラミック層を備え
る、電子部品にも向けられる。
The present invention is also directed to an electronic component including a ceramic layer formed by firing the above-described ceramic green sheet.

【0038】さらに、この発明は、上述のようなセラミ
ックグリーンシートを用いて実施される、多層セラミッ
ク基板の製造方法にも向けられる。この多層セラミック
基板の製造方法は、この発明に係る複数のセラミックグ
リーンシートを用意する工程と、これらセラミックグリ
ーンシートの特定のものに貫通孔を設ける工程と、貫通
孔内に導体ペーストを付与することによってバイアホー
ル導体を形成する工程と、バイアホール導体に接続され
るようにセラミックグリーンシート上に導体ペーストを
付与することによって導体膜を形成する工程と、バイア
ホール導体が形成されたセラミックグリーンシートを含
む複数のセラミックグリーンシートを積層することによ
って生の積層体を作製する工程と、この生の積層体を焼
成する工程とを備えることを特徴としている。
Further, the present invention is also directed to a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate, which is performed using the above-described ceramic green sheet. The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate includes a step of preparing a plurality of ceramic green sheets according to the present invention, a step of providing through holes in specific ones of the ceramic green sheets, and applying a conductive paste in the through holes. Forming a via film conductor by applying a conductive paste on the ceramic green sheet so as to be connected to the via hole conductor, and forming the ceramic green sheet on which the via hole conductor is formed. It is characterized by comprising a step of producing a raw laminate by laminating a plurality of ceramic green sheets including the above, and a step of firing the raw laminate.

【0039】このようなセラミックグリーンシートにお
いても、これを成形するために用意されるスラリーに含
まれるアミド構造を有する化合物が、前述したペースト
組成物の場合と同様の作用を果たし、ゲル化の進行を十
分に抑制する。
Also in such a ceramic green sheet, the compound having an amide structure contained in the slurry prepared for molding the ceramic green sheet performs the same action as in the case of the paste composition described above, and the gelation proceeds. Is sufficiently suppressed.

【0040】この発明において、アミド構造を持つ化合
物としては、モノアミド化合物または脂肪酸アミドが好
適に用いられる。脂肪酸アミドが用いられる場合、好ま
しくは、飽和脂肪酸アミドが用いられる。
In the present invention, as the compound having an amide structure, a monoamide compound or a fatty acid amide is preferably used. When a fatty acid amide is used, preferably, a saturated fatty acid amide is used.

【0041】また、この発明において、アミド構造を持
つ化合物は、ペースト組成物またはセラミックグリーン
シートのためのスラリー中において、0.03重量%〜
0.5重量%含有することが好ましい。
In the present invention, the compound having an amide structure is used in an amount of from 0.03% by weight in a slurry for a paste composition or a ceramic green sheet.
It is preferred to contain 0.5% by weight.

【0042】この発明において、ペースト組成物または
セラミックグリーンシートのためのスラリーは、さらに
感光性有機成分を含むことが好ましい。
In the present invention, the slurry for the paste composition or the ceramic green sheet preferably further contains a photosensitive organic component.

【0043】上述のように、ペースト組成物が感光性有
機成分を含む場合であって、この発明が前述したような
電子部品に向けられるときには、ペースト組成物を、基
体上に付与し、フォトリソグラフィ技術を用いてパター
ニングし、次いで焼成することによって、所望のパター
ンを有する機能材料膜を形成することができる。
As described above, when the paste composition contains a photosensitive organic component and the present invention is directed to an electronic component as described above, the paste composition is applied to a substrate, and photolithography is performed. By patterning using a technique and then firing, a functional material film having a desired pattern can be formed.

【0044】また、スラリーが感光性有機成分を含む場
合であって、この発明が前述したような多層セラミック
基板の製造方法に向けられるときには、フォトリソグラ
フィ技術を用いてセラミックグリーンシートにバイアホ
ール導体のための貫通孔を設けることができる。
In the case where the slurry contains a photosensitive organic component and the present invention is directed to the method for manufacturing a multilayer ceramic substrate as described above, the ceramic green sheet is formed on the ceramic green sheet by photolithography. Through holes can be provided.

【0045】この発明において、酸性官能基を有する有
機高分子化合物は、側鎖にカルボキシル基を有するアク
リル系共重合体であることが好ましい。
In the present invention, the organic polymer having an acidic functional group is preferably an acrylic copolymer having a carboxyl group in a side chain.

【0046】この発明において、ペースト組成物または
セラミックグリーンシートのためのスラリーは、さらに
モノオール化合物を含むことが好ましい。
In the present invention, the slurry for the paste composition or the ceramic green sheet preferably further contains a monol compound.

【0047】また、この発明において、ペースト組成物
またはセラミックグリーンシートのためのスラリーは、
有機バインダに含まれる有機高分子化合物のアニオンを
吸着する性質を有するアニオン吸着性物質をさらに含む
ことが好ましい。
In the present invention, the slurry for the paste composition or the ceramic green sheet is
The organic binder preferably further contains an anion-adsorbing substance having a property of adsorbing anions of the organic polymer compound contained in the organic binder.

【0048】また、この発明において、ペースト組成物
またはセラミックグリーンシートのためのスラリーは、
さらにチクソ剤を含むことが好ましい。
Further, in the present invention, the slurry for the paste composition or the ceramic green sheet is:
Further, it is preferable to include a thixotropic agent.

【0049】[0049]

【発明の実施の形態】以下、この発明に係るペースト組
成物またはセラミックグリーンシートのためのスラリー
を、その好ましい実施形態に関連して、より詳細に説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a slurry for a paste composition or a ceramic green sheet according to the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments thereof.

【0050】この発明に係るペースト組成物またはスラ
リーにおいて、アミド構造を有する化合物としては、ア
ミド部位を1つしか有しないモノアミド化合物が好適に
用いられる。それは、アミド部位を2つ以上有する化合
物の場合、その化合物が十分低分子量であればゲル化す
ることはないが、分子量1000以上の高分子である
と、化合物中のアミド部位によって多価金属イオンと当
該化合物との3次元ネットワークが形成されてゲル化す
ることがあるからである。
In the paste composition or slurry according to the present invention, as the compound having an amide structure, a monoamide compound having only one amide moiety is preferably used. In the case of a compound having two or more amide moieties, the compound does not gel if the compound has a sufficiently low molecular weight, but if the compound has a molecular weight of 1000 or more, the compound has a polyvalent metal ion depending on the amide moiety in the compound. This is because a three-dimensional network of the compound and the compound may be formed and gelled.

【0051】また、アミド構造を有する化合物として、
脂肪酸アミド化合物を好適に用いることができる。それ
は、多価金属と結合する部位に電子供与性基が隣接する
と、その部位と多価金属イオンとの結合力が強まるから
であり、超共役による電子供与性のある脂肪族炭化水素
鎖がアミド部位に隣接する脂肪酸アミド化合物において
は、このメカニズムによって多価金属イオンとアミド部
位の結合力が極めて強くなっているためである。
Further, as a compound having an amide structure,
Fatty acid amide compounds can be suitably used. This is because, when an electron-donating group is adjacent to a site where a polyvalent metal is bonded, the bonding force between the site and the polyvalent metal ion is strengthened. This is because, in the fatty acid amide compound adjacent to the site, the bonding force between the polyvalent metal ion and the amide site is extremely increased by this mechanism.

【0052】上記脂肪酸アミドは、特に、飽和脂肪酸ア
ミドであることが望ましい。それは、アミド部位に隣接
する脂肪族炭化水素鎖が飽和脂肪族炭化水素鎖である方
が、共役による電子吸引がない分、アミド部位に対する
電子供与性が高くなるためである。
The above fatty acid amide is particularly preferably a saturated fatty acid amide. This is because, when the aliphatic hydrocarbon chain adjacent to the amide site is a saturated aliphatic hydrocarbon chain, the electron donating property to the amide site becomes higher because there is no electron withdrawal due to conjugation.

【0053】このようにアミド構造を有する化合物とし
ては、たとえば、酢酸アミド、酪酸アミド、プロピオン
酸アミド、吉草酸アミド、ヘキサン酸アミド、ヘプチル
酸アミド、オクタン酸アミド、デカン酸アミド、ノナン
酸アミド、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エ
ルカ酸アミド等が挙げられる。
Compounds having such an amide structure include, for example, acetic acid amide, butyric acid amide, propionic acid amide, valeric acid amide, hexanoic acid amide, heptyl acid amide, octanoic acid amide, decanoic acid amide, nonanoic acid amide, Stearamide, oleamide, erucamide and the like.

【0054】上記アミド構造を有する化合物をペースト
組成物またはスラリー中に含有させる方法としては、単
にペースト組成物またはスラリー中に混合する方法や、
無機粉末表面またはセラミック粉末/ガラス粉末表面に
コーティングする方法などがある。後者の粉末表面にコ
ーティングする方法としては、適宜の有機溶剤中にアミ
ド構造を持つ化合物を溶解した溶液を作製した後、この
溶液に粉末を投入した状態で、この溶液を攪拌し、次い
で、吸引濾過して残渣を取り出し、この残渣を乾燥させ
る方法などがある。
As a method of including the compound having an amide structure in a paste composition or a slurry, a method of simply mixing the compound into the paste composition or a slurry,
There is a method of coating the surface of the inorganic powder or the surface of the ceramic powder / glass powder. As a method of coating the latter powder surface, a solution in which a compound having an amide structure is dissolved in an appropriate organic solvent is prepared, and the powder is added to the solution, and the solution is stirred. There is a method of removing the residue by filtration and drying the residue.

【0055】上記アミド構造を有する化合物の、ペース
ト組成物またはスラリー中に占める量としては、0.0
3重量%〜0.5重量%であることが望ましい。0.0
3重量%未満であると、ゲル化を有効に防止できず、他
方、0.5重量%を超えると、ペースト組成物を適宜の
基体上に塗布したり、スラリーを適宜の基体上でシート
状に成形したりする際に、ペースト組成物またはスラリ
ーの、基体に対する表面張力が高くなり、基体上に均一
にペースト組成物を塗布したり、均一なセラミックグリ
ーンシートを作製したりすることが困難になるためであ
る。
The amount of the compound having an amide structure in the paste composition or slurry is preferably 0.0
Desirably, it is 3% by weight to 0.5% by weight. 0.0
If the amount is less than 3% by weight, gelation cannot be effectively prevented. On the other hand, if the amount exceeds 0.5% by weight, the paste composition is applied to an appropriate substrate, or the slurry is formed into a sheet on an appropriate substrate. When molding the paste composition or slurry, the surface tension of the paste composition or slurry with respect to the substrate increases, making it difficult to apply the paste composition uniformly on the substrate or to produce a uniform ceramic green sheet. It is because it becomes.

【0056】この発明に係るペースト組成物について言
えば、そこに含まれる無機粉末としては、導電性金属粉
末、または導電性金属粉末とガラス粉末の混合物、また
はガラス粉末および/もしくはセラミック粉末が用いら
れる。
In the paste composition according to the present invention, as the inorganic powder contained therein, conductive metal powder, a mixture of conductive metal powder and glass powder, or glass powder and / or ceramic powder is used. .

【0057】上述したガラス粉末としては、ホウ珪酸系
ガラス粉末等の公知のガラス粉末を使用できる。また、
ガラス粉末は、特に、SiO2 −PbO系、SiO2
ZnO系、SiO2 −Bi2 3 系、SiO2 −K2
系、SiO2 −Na2 O系、SiO2 −PbO−B2
3 系、SiO2 −ZnO−B2 3 系、SiO2 −Bi
2 3 −B2 3 系、SiO2 −K2 O−B2 3 系、
SiO2 −Na2 O−B2 3 系等の、2価以上の価数
を持つ多価金属酸化物を含むものであってもよい。
As the above-mentioned glass powder, a known glass powder such as a borosilicate glass powder can be used. Also,
Glass powder, in particular, SiO 2 -PbO-based, SiO 2 -
ZnO-based, SiO 2 -Bi 2 O 3 system, SiO 2 -K 2 O
System, SiO 2 -Na 2 O-based, SiO 2 -PbO-B 2 O
3 system, SiO 2 -ZnO-B 2 O 3 system, SiO 2 -Bi
2 O 3 —B 2 O 3 system, SiO 2 —K 2 O—B 2 O 3 system,
It may include a polyvalent metal oxide having a valence of 2 or more, such as a SiO 2 —Na 2 O—B 2 O 3 system.

【0058】上述したセラミック粉末としては、結晶化
ガラス系、ガラス複合系、非ガラス系の公知のセラミッ
ク粉末を用いることができる。また、セラミック粉末
は、2価以上の価数を持つ多価金属化合物を含むセラミ
ック粉末であってもよい。
As the above-mentioned ceramic powder, a known ceramic powder of a crystallized glass type, a glass composite type, or a non-glass type can be used. Further, the ceramic powder may be a ceramic powder containing a polyvalent metal compound having a valence of 2 or more.

【0059】上述の多価金属化合物を含むセラミックと
しては、たとえば、Al、Ba、Ti、Sr、Pb、Z
r、Mn、Co、Ni、Fe、Y、Nb、LaおよびR
uからなる群より選ばれる少なくとも1種の多価金属の
酸化物、硼化物、窒化物またはケイ化物等が挙げられ
る。
Examples of the ceramic containing the above-mentioned polyvalent metal compound include Al, Ba, Ti, Sr, Pb, and Z.
r, Mn, Co, Ni, Fe, Y, Nb, La and R
oxides, borides, nitrides or silicides of at least one polyvalent metal selected from the group consisting of u.

【0060】上述した導電性金属粉末としては、たとえ
ば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、パラジウム、ニ
ッケル、モリブデン、タングステンからなる群より選ば
れる少なくとも1種を含むものを用いることができる。
As the above-mentioned conductive metal powder, for example, a powder containing at least one selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, aluminum, palladium, nickel, molybdenum, and tungsten can be used.

【0061】特に、導電性金属粉末として、多価金属で
ある、銅、アルミニウム、パラジウム、ニッケル、モリ
ブデン、タングステンまたはそれらの混合物を含むもの
を用いると、この多価金属によるイオンと酸性官能基を
有する有機高分子化合物のアニオンとのイオン架橋およ
び3次元ネットワークの形成を有効に抑制できる。
In particular, when a conductive metal powder containing copper, aluminum, palladium, nickel, molybdenum, tungsten or a mixture thereof, which is a polyvalent metal, is used, the ion and acidic functional group due to the polyvalent metal are converted. It is possible to effectively suppress ionic cross-linking of the organic polymer compound having an anion with an anion and formation of a three-dimensional network.

【0062】すなわち、この発明に係るペースト組成物
において、導電性金属粉末を構成する金属が2価以上の
価数を有する多価金属である場合、ガラス粉末またはセ
ラミック粉末が2価以上の価数を有する多価金属を含む
化合物である場合、あるいは、これらの両方である場合
には、溶液中に溶出してくる多価金属のイオンと、カル
ボキシル基等の酸性官能基を有する有機高分子化合物の
アニオンとのイオン架橋および3次元ネットワークの形
成を抑制することができ、ペースト組成物のゲル化を有
効に抑制することができる。
That is, in the paste composition according to the present invention, when the metal constituting the conductive metal powder is a polyvalent metal having a valence of 2 or more, the glass powder or the ceramic powder has a valence of 2 or more. In the case of a compound containing a polyvalent metal having, or in the case of both, a polyvalent metal ion eluted in a solution and an organic polymer compound having an acidic functional group such as a carboxyl group Of the paste composition and the formation of a three-dimensional network can be suppressed, and gelation of the paste composition can be effectively suppressed.

【0063】この発明に係るセラミックグリーンシート
のためのスラリーについて言えば、そこに含まれるセラ
ミック粉末および/またはガラス粉末は、ホウ素、バリ
ウム、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、鉛、
ビスマス、銅、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、クロム、
ストロンチウムおよびチタンからなる群より選ばれる少
なくとも1種の多価金属もしくはその酸化物を含む粉末
であることが望ましい。
Regarding the slurry for ceramic green sheets according to the present invention, the ceramic powder and / or glass powder contained therein contains boron, barium, magnesium, aluminum, calcium, lead,
Bismuth, copper, zinc, zirconium, niobium, chromium,
The powder is preferably a powder containing at least one polyvalent metal selected from the group consisting of strontium and titanium or an oxide thereof.

【0064】より具体的には、上述したガラス粉末また
はセラミック粉末として、SiO2−PbO系、SiO
2 −ZnO系、SiO2 −Bi2 3 系、SiO2 −K
2 O系、SiO2 −Na2 O系、SiO2 −PbO−B
2 3 系、SiO2 −ZnO−B2 3 系、SiO2
Bi2 3 −B2 3 系、SiO2 −K2 O−B2 3
系、SiO2 −Na2 O−B2 3 系等の種々の材料系
の粉末を用いることができる。
More specifically, the above-described glass powder or
Is a ceramic powder, SiOTwo-PbO-based, SiO
Two-ZnO-based, SiOTwo-BiTwoOThreeSystem, SiOTwo-K
TwoO-based, SiOTwo-NaTwoO-based, SiOTwo-PbO-B
TwoOThreeSystem, SiOTwo-ZnO-BTwoOThreeSystem, SiOTwo
BiTwoOThree-BTwoOThreeSystem, SiOTwo-KTwoOBTwoO Three
System, SiOTwo-NaTwoOBTwoOThreeVarious material systems such as systems
Can be used.

【0065】特に、B、Ba、Mg、Al、Ca、P
b、Bi、Cu、Zn、Zr、Nb、Cr、Srまたは
Tiの多価金属イオンがスラリー中に溶出すると、カル
ボキシル基等の酸性官能基を有する有機高分子化合物の
アニオンと多価金属イオンとがイオン架橋してゲル化を
生じやすいので、この発明に従って、スラリーにアミド
構造を持つ化合物を含有させて、そのゲル化を有効に抑
制できることの意義は大きい。
In particular, B, Ba, Mg, Al, Ca, P
When the polyvalent metal ion of b, Bi, Cu, Zn, Zr, Nb, Cr, Sr or Ti elutes into the slurry, the anion of the organic polymer compound having an acidic functional group such as a carboxyl group and the polyvalent metal ion Is liable to cause gelation due to ionic cross-linking. Therefore, it is of great significance that, according to the present invention, a compound having an amide structure is contained in the slurry and the gelation can be effectively suppressed.

【0066】なお、セラミックグリーンシートのための
スラリーは、結晶化ガラス粉末、あるいはガラスとセラ
ミックとの混合粉末を含むことが望ましい。これによっ
て、セラミックグリーンシートを低温焼結可能とするこ
とができ、このようにセラミックグリーンシートを低温
焼結化することにより、配線導体のために比抵抗の小さ
な銀、銅等の低融点金属を含む導体を用いることがで
き、かつこのような低融点金属を含む導体との同時焼結
が可能となるためである。
It is preferable that the slurry for the ceramic green sheet contains crystallized glass powder or a mixed powder of glass and ceramic. This makes it possible to sinter the ceramic green sheet at a low temperature. By sintering the ceramic green sheet at a low temperature in this way, a low-melting metal such as silver or copper having a small specific resistance for the wiring conductor can be obtained. This is because a conductor containing such a low melting point metal can be used, and simultaneous sintering with a conductor containing such a low melting point metal is possible.

【0067】また、この発明に係るセラミックグリーン
シートとしては、(1)絶縁体セラミック粉末と有機バ
インダとガラス粉末等の無機粉末を混合して得られたス
ラリーをシート状に成形してなる、絶縁体セラミックグ
リーンシート、(2)磁性体セラミック粉末と有機バイ
ンダとガラス粉末等の無機粉末を混合して得られたスラ
リーをシート状に成形してなる、磁性体セラミックグリ
ーンシート、または(3)誘電体セラミック粉末と有機
バインダとガラス粉末等の無機粉末を混合して得られた
スラリーをシート状に成形してなる、誘電体セラミック
グリーンシート等の種々の特性をそれぞれ有するものが
ある。このような種々の特性を有するセラミック粉末と
しては、従来公知のセラミックグリーンシートのための
セラミック材料を使用できる。
The ceramic green sheet according to the present invention includes (1) an insulating ceramic powder, an organic binder, and a slurry obtained by mixing an inorganic powder such as a glass powder; Ceramic green sheets, (2) magnetic ceramic green sheets formed by mixing a slurry obtained by mixing a magnetic ceramic powder, an organic binder, and an inorganic powder such as a glass powder into a sheet, or (3) a dielectric ceramic green sheet. There are various types of dielectric ceramic green sheets and the like, each of which is formed by molding a slurry obtained by mixing a body ceramic powder, an organic binder, and an inorganic powder such as a glass powder into a sheet, and the like. As a ceramic powder having such various characteristics, a conventionally known ceramic material for a ceramic green sheet can be used.

【0068】この発明に係るペースト組成物またはセラ
ミックグリーンシートのためのスラリーに含まれる有機
バインダは、酸性官能基を有する有機高分子化合物を含
むものでさえあれば、さらに他の成分として、有機ポリ
マーや有機溶剤等を含んでいてもよい。この有機ポリマ
ーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラ
ール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステ
ル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル
共重合体等を使用できる。
The organic binder contained in the paste composition or the slurry for the ceramic green sheet according to the present invention may further comprise an organic polymer as an additional component as long as it contains an organic polymer compound having an acidic functional group. Or an organic solvent or the like. As the organic polymer, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, a methacrylate polymer, an acrylate polymer, an acrylate-methacrylate copolymer, or the like can be used.

【0069】この発明に係るペースト組成物またはセラ
ミックグリーンシートのためのスラリーには、感光性有
機成分が含まれていることが望ましい。これによって、
感光性ペースト組成物または感光性セラミックグリーン
シートを与えることができる。
It is desirable that the slurry for the paste composition or the ceramic green sheet according to the present invention contains a photosensitive organic component. by this,
A photosensitive paste composition or a photosensitive ceramic green sheet can be provided.

【0070】このように構成された感光性ペースト組成
物は、アミド構造を有する化合物を含んでいるから、塗
布前のペースト状態および塗布・乾燥後の塗膜状態のい
ずれにおいても、ゲル化が十分に抑制され、その安定性
が向上するとともに、フォトリソグラフィ技術における
現像処理を安定に実施でき、微細かつ厚膜の各種パター
ンを有する導体膜等の機能材料膜を、基体との密着性が
良好な状態で形成することができる。
Since the photosensitive paste composition thus constituted contains a compound having an amide structure, sufficient gelation is obtained in both the paste state before coating and the coating state after coating and drying. In addition to improving the stability, the developing process in the photolithography technology can be stably performed, and the functional material film such as a conductor film having various patterns of fine and thick films can be adhered to the substrate with good adhesion. It can be formed in a state.

【0071】また、感光性セラミックグリーンシートに
よれば、これを成形するためのスラリーのゲル化を抑制
して、分散性および加工性に優れたセラミックグリーン
シートとすることができると同時に、セラミックグリー
ンシート中にフォトリソグラフィ技術による微細かつ高
精度のバイアホール用貫通孔を容易に形成することがで
きる。
According to the photosensitive ceramic green sheet, it is possible to suppress the gelling of the slurry for forming the ceramic green sheet and obtain a ceramic green sheet excellent in dispersibility and workability. Fine and high-precision via holes for via holes can be easily formed in the sheet by photolithography.

【0072】なお、感光性有機成分とは、従来から公知
の光重合性、または光変性化合物のことであって、たと
えば、(1)不飽和基等の反応性官能基を有するモノマ
ーやオリゴマーと芳香族カルボニル化合物等の光ラジカ
ル発生剤との混合物、(2)芳香族ビスアジドとホルム
アルデヒドとの縮合体等のいわゆるジアゾ樹脂、(3)
エポキシ化合物等の付加重合性化合物とジアリルヨウド
ニウム塩等の光酸発生剤との混合物、および(4)ナフ
トキノンジアジド系化合物、等が挙げられる。
The photosensitive organic component is a conventionally known photopolymerizable or photo-modified compound, and includes, for example, (1) a monomer or oligomer having a reactive functional group such as an unsaturated group; A mixture with a photoradical generator such as an aromatic carbonyl compound, (2) a so-called diazo resin such as a condensate of an aromatic bisazide and formaldehyde, (3)
Mixtures of an addition polymerizable compound such as an epoxy compound and a photoacid generator such as a diallyl iodonium salt, and (4) a naphthoquinonediazide compound.

【0073】これらのうち、特に好ましいのは、不飽和
基等の反応性官能基を有するモノマーやオリゴマーと芳
香族カルボニル化合物等の光ラジカル発生剤との混合物
である。
Among these, particularly preferred is a mixture of a monomer or oligomer having a reactive functional group such as an unsaturated group and a photo radical generator such as an aromatic carbonyl compound.

【0074】上記反応性官能基含有モノマー/オリゴマ
ーとしては、ヘキサンジオールトリアクリレート、トリ
プロピレングリコールトリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ステアリルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ラウリルア
クリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、イソ
デシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、トリ
デシルアクリレート、カプロラクトンアクリレート、エ
トキシ化ノニルフェノールアクリレート、1、3−ブタ
ンジオールジアクリレート、1、4−ブタンジオールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノー
ルAジアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)
イソシアヌレートトリアクリレート、エトキシ化トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、シクロヘキシ
ルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウリ
ルメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、1、4−ブタン
ジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、1、6−ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、1、
3−ブチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化
ビスフェノールAジメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート等が挙げられる。
Examples of the reactive functional group-containing monomer / oligomer include hexanediol triacrylate, tripropylene glycol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, stearyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, lauryl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, Decyl acrylate, isooctyl acrylate, tridecyl acrylate, caprolactone acrylate, ethoxylated nonylphenol acrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate,
Tetraethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, propoxylated neopentyl glycol diacrylate, tris (2-hydroxyethyl)
Isocyanurate triacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate, propoxylated glyceryl triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate,
Ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate,
Tetrahydrofurfuryl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexane Diol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 1,
Examples include 3-butylene glycol dimethacrylate, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate, and trimethylolpropane trimethacrylate.

【0075】また、光ラジカル発生剤としては、ベンジ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフ
ェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチ
ル、4−ベンゾイル−4' −メチルジフェニルサルファ
イド、ベンジルジメチルケタール、2−n−ブトキシ−
4−ジメチルアミノベンゾエート、2−クロロチオキサ
ントン、2、4−ジエチルチオキサントン、2、4−ジ
イソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサン
トン、2−ジメチルアミノエチルベンゾエート、p−ジ
メチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息
香酸イソアミル、3、3' −ジメチル−4−メトキシベ
ンゾフェノン、2、4−ジメチルチオキサントン、1−
(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロパン−1−オン、2、2−ジメトキシ−1、2−
ジフェニルエタン−1−オン、ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メ
チル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1−[4
−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパ
ン−1−オン、メチルベンゾイルフォルメート、1−フ
ェニル−1、2−プロパンジオン−2−(o−エトキシ
カルボニル)オキシム、2−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノ
ン、ビス(2、6−ジメトキシベンゾイル)−2、4、
4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ビス
(2、4、6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォス
フィンオキサイド等が挙げられる。
Examples of the photo-radical generator include benzyl, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and benzyl dimethyl. Ketal, 2-n-butoxy-
4-dimethylaminobenzoate, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-dimethylaminoethylbenzoate, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-
(4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-
Diphenylethan-1-one, hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-
Phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4
-(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, methylbenzoyl formate, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 2-benzyl-2-dimethyl Amino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,
4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide and the like.

【0076】また、この発明に係るペースト組成物中の
有機バインダまたはセラミックグリーンシートのための
スラリー中の有機バインダに含まれる有機高分子化合物
は、側鎖にカルボキシル基を有するアクリル系共重合体
であることが望ましい。このような有機高分子化合物
は、感光性有機バインダとしても有用であり、アルカリ
系または水系の現像液で溶解しやすく、そのため、ペー
スト膜またはセラミックグリーンシートの現像処理を容
易に行なうことができるとともに、現像精度が高まるの
で、より微細なパターンやバイアホール用貫通孔を形成
することが可能になる。
The organic polymer contained in the organic binder in the paste composition according to the present invention or the organic binder in the slurry for the ceramic green sheet is an acrylic copolymer having a carboxyl group in a side chain. Desirably. Such an organic polymer compound is also useful as a photosensitive organic binder, and is easily dissolved in an alkaline or aqueous developer, so that the paste film or the ceramic green sheet can be easily developed. Since the development accuracy is improved, a finer pattern and a through hole for a via hole can be formed.

【0077】なお、有機高分子化合物が、側鎖にカルボ
キシル基を有するアクリル系共重合体である場合、この
共重合体によるアニオンと溶液中に溶出してくる多価金
属イオンとがイオン架橋し、3次元ネットワークが形成
されやすい。したがって、この発明に従って、このよう
な系に対してアミド構造を持つ化合物を含有させて、そ
のゲル化を有効に抑制できることの意義は大きい。
When the organic high molecular compound is an acrylic copolymer having a carboxyl group in the side chain, the anion of the copolymer and the polyvalent metal ion eluted into the solution undergo ionic crosslinking. And a three-dimensional network is easily formed. Therefore, according to the present invention, it is of great significance that a compound having an amide structure can be contained in such a system to effectively suppress the gelation.

【0078】側鎖にカルボキシル基を有するアクリル系
共重合体は、たとえば、不飽和カルボン酸とエチレン性
不飽和化合物を共重合させることにより製造することが
できる。
The acrylic copolymer having a carboxyl group in the side chain can be produced, for example, by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid and an ethylenically unsaturated compound.

【0079】上述の不飽和カルボン酸としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢
酸およびこれらの無水物等を用いることができる。
As the above-mentioned unsaturated carboxylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid and anhydrides thereof can be used.

【0080】他方、エチレン性不飽和化合物としては、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エ
ステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等の
メタクリル酸エステル、フマル酸モノエチル等のフマル
酸エステル等を用いることができる。
On the other hand, as the ethylenically unsaturated compound,
Acrylic esters such as methyl acrylate and ethyl acrylate, methacrylic esters such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate, and fumaric esters such as monoethyl fumarate can be used.

【0081】また、アクリル系共重合体は、以下のよう
な形態の不飽和結合を導入したものであってもよい。 (1)アクリル系共重合体の側鎖のカルボキシル基に、
これと反応可能な、たとえばエポキシ基等の官能基を有
するアクリル系モノマーを付加したもの。 (2)側鎖のカルボキシル基の代わりにエポキシ基が導
入されてなるアクリル系共重合体に、不飽和モノカルボ
ン酸を反応させた後、さらに飽和または不飽和多価カル
ボン酸無水物を導入したもの。
The acrylic copolymer may have an unsaturated bond introduced in the following form. (1) To the carboxyl group on the side chain of the acrylic copolymer,
An acrylic monomer having a functional group such as an epoxy group capable of reacting with the monomer is added. (2) After reacting an unsaturated monocarboxylic acid with an acrylic copolymer in which an epoxy group is introduced instead of a carboxyl group in a side chain, a saturated or unsaturated polycarboxylic anhydride is further introduced. thing.

【0082】また、この発明に係るペースト組成物また
はセラミックグリーンシートのためのスラリーにおい
て、ヒドロキシル基を1つだけ持つモノオール化合物を
さらに加えることができる。なお、この発明に係るペー
スト組成物またはスラリーにおいて、アミド構造を持つ
化合物の代わりに、モノオール化合物を加えた場合にお
いても、ゲル化はある一定期間防止されるが、この発明
のように、アミド構造を持つ化合物を加えることによ
り、ゲル化を防止できる期間を飛躍的に延長することが
でき、均一性の高いペースト組成物またはスラリーを得
ることができる。
In the paste composition or slurry for ceramic green sheets according to the present invention, a monol compound having only one hydroxyl group can be further added. In the paste composition or slurry according to the present invention, when a monol compound is added instead of the compound having an amide structure, gelation is prevented for a certain period of time. By adding a compound having a structure, the period in which gelation can be prevented can be drastically extended, and a highly uniform paste composition or slurry can be obtained.

【0083】上記モノオール化合物としては、1−オク
チルアルコール、2−オクチルアルコール、ノニルアル
コール、デシルアルコール、1−メチルシクロヘキサノ
ール、トリメチルシクロヘキサノール、エチレングリコ
ールモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノビニ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリ
コールイソアミルエーテル、エチレングリコールフェニ
ルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、ト
リメチルヘキサノール、テトラヒドロフルフリルアルコ
ール、クレゾール、乳酸ブチル、ベンジルアルコール、
ヒドロキシエチルアクリレート、フェネチルアルコー
ル、メルカプトブタノール、ヒドロキシエチルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルピペラジン、シクロヘキサノ
ンオキシム、ヒドロキシメトキシアリルベンゼン、ヒド
ロキシメトキシベンズアルデヒド、ヒドロキシメチルピ
ペラジン、ヒドロキシプロピオニトリル、ヒドロキシア
セトナフトン、ヒドロキシベンズアルデヒド、ヒドロキ
シアセトフェノン、ヒドロキシベンゾイミダゾール、フ
ェニルフェノール、ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシベ
ンゾフェノン、ベンゾイン、チモール、ヒドロキシメト
キシ安息香酸、ヒドロキシメチル安息香酸、ヒドロキシ
メチルピロン、ヒドロキシナフトエ酸、ヒドロキシナフ
トキノン、ヒドロキシノルボルネンジカルボキシイミ
ド、ヒドロキシフェニル酢酸、ヒドロキシフェニルグリ
シン、ヒドロキシフタルイミド、ヒドロキシピバリン酸
ネオペンチルグリコールエステル、ヒドロキシプロピオ
フェノン、ヒドロキシステアリン酸、ヒドロキシこはく
酸イミド、ヒドロキシトルイル酸、ペンタエリスリトー
ルジアクリレートモノステアレートなどが挙げられる。
Examples of the monol compound include 1-octyl alcohol, 2-octyl alcohol, nonyl alcohol, decyl alcohol, 1-methylcyclohexanol, trimethylcyclohexanol, ethylene glycol monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isoamyl ether, ethylene glycol phenyl ether, ethylene glycol benzyl ether , Trimethylhexanol, tetrahydrofurfuryl alcohol, cresol, butyl lactate, benzyl alcohol,
Hydroxyethyl acrylate, phenethyl alcohol, mercaptobutanol, hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethylpiperazine, cyclohexanone oxime, hydroxymethoxyallylbenzene, hydroxymethoxybenzaldehyde, hydroxymethylpiperazine, hydroxypropionitrile, hydroxyacetonaphthone, hydroxybenzaldehyde, hydroxyacetophenone, Hydroxybenzimidazole, phenylphenol, hydroxybenzoic acid, hydroxybenzophenone, benzoin, thymol, hydroxymethoxybenzoic acid, hydroxymethylbenzoic acid, hydroxymethylpyrone, hydroxynaphthoic acid, hydroxynaphthoquinone, hydroxynorbornenedicarboximide, hydroxypheni Acid, hydroxyphenyl glycine, hydroxyphthalimide, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, hydroxy propiophenone, hydroxystearic acid, hydroxy succinic acid imide, hydroxy toluyl acid, and pentaerythritol diacrylate monostearate, and the like.

【0084】また、この発明に係るペースト組成物また
はスラリーにおいて、さらに有機高分子化合物のアニオ
ンを吸着する性質を有するアニオン吸着性物質をさらに
加えることができる。この発明に係るペースト組成物ま
たはスラリーにおいて、アミド構造を持つ化合物の代わ
りに、アニオン吸着性物質を加えた場合においても、ゲ
ル化はある一定期間防止されるが、この発明のように、
アミド構造を持つ化合物を加えることにより、ゲル化を
防止できる期間を飛躍的に延長することができ、均一性
の高いペースト組成物またはスラリーを得ることができ
る。
Further, in the paste composition or slurry according to the present invention, an anion-adsorbing substance having a property of adsorbing anions of the organic polymer compound can be further added. In the paste composition or slurry according to the present invention, even when an anion-adsorbing substance is added instead of the compound having an amide structure, gelation is prevented for a certain period of time.
By adding a compound having an amide structure, the period during which gelation can be prevented can be drastically extended, and a highly uniform paste composition or slurry can be obtained.

【0085】上記アニオン吸着性物質は、平均粒径0.
01〜50μmの微粒子であることが望ましい。このよ
うな粒径を有する微粒子であると、アニオン吸着性物質
が、効率良く、有機高分子化合物のアニオンを吸着する
ことができる。
The anion-adsorbing substance has an average particle size of 0.1.
It is desirable that the fine particles have a particle size of 01 to 50 μm. When the particles have such a particle size, the anion-adsorbing substance can efficiently adsorb the anion of the organic polymer compound.

【0086】また、アニオン吸着性物質は、無機微粒子
や有機微粒子の形態をとるものであってもよい。
The anion-adsorbing substance may be in the form of inorganic fine particles or organic fine particles.

【0087】上述の無機微粒子としては、ハイドロキシ
アパタイト、ハイドロタルサイト、リン酸ジルコニウ
ム、含水酸化アンチモン等が好適である。
As the above-mentioned inorganic fine particles, hydroxyapatite, hydrotalcite, zirconium phosphate, antimony hydrate and the like are preferred.

【0088】また、有機微粒子としては、アニオン交換
性樹脂等を用いることができ、たとえば、(1)ジビニ
ルベンゼンと、アクリレート、メタクリレートまたはア
クリロニトリルとの共重合体を母体に、1級、2級、3
級または4級アミノ基をイオン交換基として導入したも
の、(2)トリビニルベンゼンと、アクリレート、メタ
クリレートまたはアクリロニトリルとの共重合体を母体
に、1級、2級、3級または4級アミノ基をイオン交換
基として導入したもの、(3)トリメチロールプロパン
トリメタクリル酸エステルと、アクリレート、メタクリ
レートまたはアクリロニトリルとの共重合体を母体に、
1級、2級、3級または4級アミノ基をイオン交換基と
して導入したもの、および(4)エチレングリコールジ
メタクリル酸エステルと、アクリレート、メタクリレー
トまたはアクリロニトリルとの共重合体を母体に、1
級、2級、3級または4級アミノ基をイオン交換基とし
て導入したもの、等が挙げられる。
As the organic fine particles, an anion exchange resin or the like can be used. For example, (1) a copolymer of divinylbenzene and acrylate, methacrylate or acrylonitrile is used as a base material for primary, secondary, 3
Primary or secondary, tertiary or quaternary amino groups based on a copolymer of trivinylbenzene and acrylate, methacrylate or acrylonitrile as a parent, wherein a primary or secondary amino group is introduced as an ion exchange group; Wherein (3) a copolymer of trimethylolpropane trimethacrylate and acrylate, methacrylate or acrylonitrile is used as a base,
A polymer having a primary, secondary, tertiary or quaternary amino group introduced as an ion exchange group, and (4) a copolymer of ethylene glycol dimethacrylate and acrylate, methacrylate or acrylonitrile,
And a secondary, tertiary or quaternary amino group introduced as an ion exchange group.

【0089】また、この発明に係るペースト組成物また
はスラリーにおいて、さらにチクソ剤を加えることがで
きる。この発明に係るペースト組成物またはスラリーに
おいて、アミド構造を持つ化合物の代わりに、チクソ剤
を加えた場合においても、ゲル化はある一定期間防止さ
れるが、この発明のように、アミド構造を持つ化合物を
加えることにより、ゲル化を防止できる期間を飛躍的に
延長することができ、均一性の高いペースト組成物また
はスラリーを得ることができる。
Further, a thixotropic agent can be further added to the paste composition or slurry according to the present invention. In the paste composition or slurry according to the present invention, when a thixotropic agent is added instead of the compound having an amide structure, gelation is prevented for a certain period of time. By adding the compound, the period in which gelation can be prevented can be drastically extended, and a highly uniform paste composition or slurry can be obtained.

【0090】上記チクソ剤の含有量は、感光性ペースト
組成物またはスラリー全量に対して、好ましくは、0.
001〜30重量%、より好ましくは、0.1〜10重
量%とされる。0.001重量%未満ではゲル化を十分
に抑制することが困難であり、他方、30重量%を超え
ると、ペーストの粘度が高すぎて使用が困難になるため
である。
The content of the above-mentioned thixotropic agent is preferably 0.1 to the total amount of the photosensitive paste composition or slurry.
001 to 30% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight. If the amount is less than 0.001% by weight, it is difficult to sufficiently suppress the gelation, while if the amount exceeds 30% by weight, the viscosity of the paste is too high to use.

【0091】また、チクソ剤としては、一般に、「増粘
・ダレ止・沈降防止剤」、「ダレ止・沈降防止剤」また
は「顔料湿潤・分散・沈降防止剤」と言われているもの
を使用できる。
As the thixotropic agent, those generally referred to as “thickening / sagging / settling preventive”, “sagging / settling preventive” or “pigment wetting / dispersing / settling preventive” can be used. Can be used.

【0092】「増粘・ダレ止・沈降防止剤」としては、
植物重合油系、ポリエーテル・エステル型界面活性剤、
水添ひまし油系、水添ひまし油系とアマイド系の混合
物、脂肪酸アマイドワックス系等が挙げられる。
Examples of the “thickening / sagging / settling preventive” include:
Vegetable polymerized oil, polyether / ester type surfactant,
Examples include hydrogenated castor oil, a mixture of hydrogenated castor oil and amide, and fatty acid amide wax.

【0093】また、「ダレ止・沈降防止剤」としては、
特殊脂肪酸系、硫酸エステル型・アニオン系界面活性
剤、酸化ポリエチレン系、酸化ポリエチレン系とアマイ
ド系の混合物等を使用できる。
[0093] Further, as the "sagging / settling preventing agent",
Special fatty acid type, sulfate type / anionic type surfactant, polyethylene oxide type, a mixture of polyethylene oxide type and amide type and the like can be used.

【0094】「顔料湿潤・分散・沈降防止剤」として
は、脂肪酸系多価カルボン酸、高分子ポリエステルのア
ミン塩、ポリエーテル・エステル型アニオン系界面活性
剤、高分子量ポリカルボン酸の長鎖アミン塩、長鎖ポリ
アミノアマイドと高分子酸ポリエステルの塩、長鎖ポリ
アミノアマイドとリン酸の塩、特殊変性ポリアマイド
系、リン酸エステル系界面活性剤、高分子ポリエステル
酸のアマイドアミン塩等を使用できる。
Examples of the "pigment wetting / dispersion / precipitation inhibitor" include fatty acid-based polycarboxylic acids, amine salts of high molecular polyesters, polyether / ester type anionic surfactants, and long-chain amines of high molecular weight polycarboxylic acids. Salts, salts of long-chain polyaminoamides and high-molecular-weight polyesters, salts of long-chain polyaminoamides and phosphoric acid, specially-modified polyamide-based, phosphate-based surfactants, and amide amine salts of high-molecular-weight polyester acids can be used.

【0095】なお、この発明に係るペースト組成物また
はスラリーには、必要に応じて、さらに、重合禁止剤等
の保存安定剤、酸化防止剤、染料、顔料、消泡剤、界面
活性剤、紫外線吸収材等を、適宜、添加してもよい。
The paste composition or slurry according to the present invention may further contain, if necessary, a storage stabilizer such as a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dye, a pigment, an antifoaming agent, a surfactant, and an ultraviolet ray. An absorbent or the like may be appropriately added.

【0096】この発明に係るペースト組成物またはスラ
リーは、多層セラミック基板等の回路基板や多層回路素
子等のチップ部品といった種々の電子部品を製造するた
めに用いることができ、より具体的には、チップコンデ
ンサ、チップLCフィルタ等の高周波回路用電子部品
や、VCO(Voltage Controlled Oscillator )やPL
L(Phase Locked Loop )等の高周波モジュール用多層
セラミック基板や、圧電部品等を製造するために用いる
ことができる。
The paste composition or slurry according to the present invention can be used for producing various electronic parts such as circuit boards such as multilayer ceramic substrates and chip parts such as multilayer circuit elements. Electronic components for high frequency circuits such as chip capacitors and chip LC filters, VCO (Voltage Controlled Oscillator) and PL
It can be used to manufacture multilayer ceramic substrates for high frequency modules such as L (Phase Locked Loop), piezoelectric components, and the like.

【0097】次に、この発明に係るペースト組成物が、
上述のような電子部品を製造するために適用されたいく
つかの実施形態について、より具体的に説明する。
Next, the paste composition according to the present invention comprises:
Some embodiments applied for manufacturing the electronic component as described above will be described more specifically.

【0098】この発明に係るペースト組成物を、スクリ
ーン印刷法等の方法によって、適宜の基体上に塗布すれ
ば、所望のパターンをもってペースト膜を形成すること
ができる。
When the paste composition according to the present invention is applied to an appropriate substrate by a method such as a screen printing method, a paste film can be formed in a desired pattern.

【0099】この場合、感光性ペースト組成物を用いる
と、これを、スクリーン印刷法、スピンコート法等の方
法によって、適宜の基体上に塗布し、これを乾燥した
後、露光・現像することにより、ペースト膜に対して、
従来のスクリーン印刷法では得られない、たとえば、幅
やピッチが50μm以下といった微細パターンを与える
ことができる。なお、上述の乾燥は、具体的には、40
〜100℃、10分〜2時間の条件で行なわれる。
In this case, when the photosensitive paste composition is used, the composition is applied to an appropriate substrate by a method such as a screen printing method or a spin coating method, dried, exposed and developed. , For the paste film,
It is possible to give a fine pattern which cannot be obtained by the conventional screen printing method, for example, has a width and a pitch of 50 μm or less. In addition, the above-mentioned drying is specifically, 40
100100 ° C. for 10 minutes to 2 hours.

【0100】したがって、たとえば、セラミックグリー
ンシートに、この発明に係るペースト組成物によるペー
スト膜を、上述のように、所望のパターンで形成し、し
かる後、焼成等の熱処理を施すことによって、厚膜で構
成された機能材料膜を備える、回路基板または回路素子
のような電子部品を製造することができる。
Therefore, for example, a paste film of the paste composition according to the present invention is formed on a ceramic green sheet in a desired pattern as described above, and then subjected to a heat treatment such as firing to obtain a thick film. An electronic component, such as a circuit board or a circuit element, including the functional material film constituted by the above can be manufactured.

【0101】この場合、ポリエチレンテレフタレート
(PET)フィルム等の支持体上に、所望のパターンを
もって、この発明に係るペースト組成物を付与すること
によって、ペースト膜を形成した後、このペースト膜を
セラミックグリーンシート上に熱転写する方法が採用さ
れてもよい。
In this case, a paste film according to the present invention is applied on a support such as a polyethylene terephthalate (PET) film in a desired pattern to form a paste film. A method of performing thermal transfer on a sheet may be employed.

【0102】また、この発明に係るペースト組成物によ
るペースト膜を、セラミックグリーンシートまたは支持
体上に、所望のパターンをもって形成するにあたって、
前述したように、感光性ペースト組成物を用いる場合に
は、これを、スクリーン印刷法、スピンコート法等の方
法によって塗布し、これを乾燥した後、露光・現像する
ことにより、所望のパターンをペースト膜に与えるよう
にすればよい。
In forming a paste film of the paste composition according to the present invention on a ceramic green sheet or a support in a desired pattern,
As described above, when a photosensitive paste composition is used, it is applied by a method such as a screen printing method or a spin coating method, and then dried and then exposed and developed to form a desired pattern. What is necessary is just to give to a paste film.

【0103】このように、特に、感光性ペースト組成物
として、この発明に係るペースト組成物を用いれば、フ
ォトリソグラフィ技術における現像処理を安定に実施で
きるので、バイアホール導体や導体膜等の電子回路に必
須な配線導体を微細かつ厚膜に形成でき、高周波特性に
優れた小型の回路基板または回路素子を製造することが
できるようになる。したがって、チップインダクタ、チ
ップ積層コンデンサ等の高周波チップ電子部品等の高密
度化や信号の高速化に十分に対応できる。
As described above, in particular, when the paste composition according to the present invention is used as the photosensitive paste composition, the development processing in the photolithography technique can be stably performed. In this case, a wiring conductor essential for the semiconductor device can be formed in a fine and thick film, and a small-sized circuit board or circuit element excellent in high-frequency characteristics can be manufactured. Accordingly, it is possible to sufficiently cope with high-density and high-speed signals of high-frequency chip electronic components such as chip inductors and chip multilayer capacitors.

【0104】この発明に係るペースト組成物によるペー
スト膜を形成するための前述したセラミックグリーンシ
ートは、通常、セラミック粉末と有機ビヒクルとを混合
したスラリーをシート状に成形したものであり、必要に
応じて、さらにガラス粉末を混合しておいてもよい。
The above-mentioned ceramic green sheet for forming a paste film of the paste composition according to the present invention is usually formed by forming a slurry obtained by mixing a ceramic powder and an organic vehicle into a sheet. Further, glass powder may be further mixed.

【0105】上述のセラミック粉末としては、たとえ
ば、Al2 3 等の絶縁性セラミック粉末、BaTiO
3 等の誘電体セラミック粉末、ニッケル亜鉛フェライ
ト、ニッケル亜鉛銅フェライト等のフェライト系粉末、
RuO2 、Pb2 Ru2 7 、Bi2 Ru2 7 、Mn
・Co・Niの複合酸化物等の導電性セラミック粉末、
PZT等の圧電体セラミック粉末等を、適宜選択して用
いることができる。
Examples of the above ceramic powder include insulating ceramic powder such as Al 2 O 3 and BaTiO 3.
Ferrite powders such as dielectric ceramic powders such as 3 , nickel zinc ferrite, nickel zinc copper ferrite, etc.,
RuO 2 , Pb 2 Ru 2 O 7 , Bi 2 Ru 2 O 7 , Mn
Conductive ceramic powder such as Co / Ni composite oxide,
A piezoelectric ceramic powder such as PZT can be appropriately selected and used.

【0106】また、後述する多層セラミック基板の製造
方法に関する実施形態において詳細に説明するように、
セラミックグリーンシートを得るためのスラリーに含ま
れる有機ビヒクルに感光性有機成分を混合しておくこと
によって、セラミックグリーンシートとして、感光性の
ものを使用し、これに、フォトリソグラフィ技術によっ
て微細なバイアホール用貫通孔を形成しておいてもよ
い。
As will be described in detail in an embodiment relating to a method of manufacturing a multilayer ceramic substrate described later,
By mixing a photosensitive organic component into an organic vehicle contained in a slurry for obtaining a ceramic green sheet, a photosensitive ceramic green sheet is used, and a fine via hole is formed by photolithography technology. May be formed in advance.

【0107】次に、この発明に係る多層セラミック基板
の製造方法についての好ましい実施形態を、図1を参照
しながら説明する。
Next, a preferred embodiment of a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to the present invention will be described with reference to FIG.

【0108】図1に示す多層セラミック基板1は、絶縁
体層2、3、4、5、6および7と誘電体層8および9
とを備える積層構造を有している。多層セラミック基板
1は、また、種々の内部導体膜10およびバイアホール
導体11を内部に形成し、かつ、いくつかの外部導体膜
12を外表面上に形成している。
The multilayer ceramic substrate 1 shown in FIG. 1 has insulating layers 2, 3, 4, 5, 6 and 7 and dielectric layers 8 and 9
And a laminated structure comprising: The multilayer ceramic substrate 1 also has various internal conductor films 10 and via-hole conductors 11 formed inside, and some external conductor films 12 formed on the outer surface.

【0109】上述した内部導体膜10およびバイアホー
ル導体11の特定のものによって、多層セラミック基板
1の内部には、コンデンサ素子C、コイル素子L、スト
リップライン等が形成されている。
With the specific internal conductor film 10 and via hole conductor 11 described above, a capacitor element C, a coil element L, a strip line, and the like are formed inside the multilayer ceramic substrate 1.

【0110】また、多層セラミック基板1の一方主面上
には、チップコンデンサ等のチップ部品13、厚膜抵抗
体14、半導体IC15等が設けられており、これら
は、対応の外部導体膜12およびバイアホール導体11
を介して特定の内部導体膜10と電気的に接続されてい
る。
A chip component 13 such as a chip capacitor, a thick-film resistor 14, a semiconductor IC 15 and the like are provided on one main surface of the multilayer ceramic substrate 1. Via-hole conductor 11
And is electrically connected to a specific internal conductor film 10 through.

【0111】この多層セラミック基板1は、たとえば、
次のようにして製造することができる。
The multilayer ceramic substrate 1 is, for example,
It can be manufactured as follows.

【0112】まず、ガラス粉末およびセラミック粉末
と、酸性官能基を有する有機高分子化合物および感光性
有機成分を含む有機バインダと、アミド構造を持つ化合
物とを混合することによって、感光性を付与した絶縁体
セラミックグリーンシート用スラリーを調製する。ま
た、同様にして、感光性を付与した誘電体セラミックグ
リーンシート用スラリーを調製する。
First, a glass powder and a ceramic powder, an organic polymer compound having an acidic functional group and an organic binder containing a photosensitive organic component, and a compound having an amide structure are mixed to provide a photosensitive insulating material. A slurry for a ceramic green sheet is prepared. Similarly, a slurry for a dielectric ceramic green sheet provided with photosensitivity is prepared.

【0113】次いで、得られた各スラリーをドクターブ
レード法等によってシート状に成形し、50〜150℃
の温度で乾燥させて、感光性の絶縁体セラミックグリー
ンシートおよび感光性の誘電体セラミックグリーンシー
トをそれぞれ作製する。
Next, each of the obtained slurries is formed into a sheet by a doctor blade method or the like.
To produce a photosensitive insulating ceramic green sheet and a photosensitive dielectric ceramic green sheet.

【0114】次いで、このように作製された各セラミッ
クグリーンシートの特定のものの上に、コンデンサ素子
Cやコイル素子L等を構成するための内部導体膜10と
なる導体ペーストを、所定のパターンをもって印刷等に
より付与する。
Next, a conductor paste serving as the internal conductor film 10 for forming the capacitor element C, the coil element L and the like is printed in a predetermined pattern on a specific one of the ceramic green sheets thus produced. And so on.

【0115】また、各セラミックグリーンシートの特定
のものには、バイアホール導体11を設ける。そのた
め、まず、フォトマスクを介してたとえば直径50μm
のバイアホール用貫通孔のためのパターンを露光し、次
いで、アルカリ水溶液等による現像処理を行なって不要
箇所を除去することによって、バイアホール用貫通孔を
形成した後、バイアホール用貫通孔に導体ペーストを充
填することが行なわれる。
Also, via hole conductors 11 are provided for specific ceramic green sheets. Therefore, first, for example, a diameter of 50 μm
After exposing the pattern for the via hole through hole, and then performing a development process with an alkaline aqueous solution to remove unnecessary portions, the via hole through hole is formed, and then the conductor is inserted into the via hole through hole. Filling the paste is performed.

【0116】次いで、内部導体膜10および/またはバ
イアホール導体11が設けられたセラミックグリーンシ
ートを含む、複数のセラミックグリーンシートを積み重
ね、圧着した後、所定温度にて焼成する。
Next, a plurality of ceramic green sheets including the ceramic green sheet provided with the internal conductor film 10 and / or the via-hole conductor 11 are stacked, pressed and fired at a predetermined temperature.

【0117】次いで、外部導体膜12を、所定のパター
ンをもって形成した後、チップ部品13、半導体IC1
5を搭載し、また、厚膜抵抗体14を印刷すれば、目的
とする多層セラミック基板1が完成される。
Next, after the external conductor film 12 is formed in a predetermined pattern, the chip component 13, the semiconductor IC 1
5 is mounted and the thick film resistor 14 is printed, whereby the target multilayer ceramic substrate 1 is completed.

【0118】上述した多層セラミック基板1の製造方法
によれば、絶縁体層2〜7が、この発明に係る感光性の
絶縁体セラミックグリーンシートによって形成され、ま
た、同様に、誘電体層8および9が、この発明に係る感
光性の絶縁体セラミックグリーンシートによって形成さ
れることができる。
According to the method for manufacturing the multilayer ceramic substrate 1 described above, the insulator layers 2 to 7 are formed by the photosensitive insulator ceramic green sheets according to the present invention. 9 can be formed by the photosensitive insulator ceramic green sheets according to the present invention.

【0119】したがって、これら絶縁体層2〜7ならび
に誘電体層8および9において、微細なバイアホール導
体11を、精度高く、簡易に形成することができる。
Therefore, fine via-hole conductors 11 can be easily formed with high precision in these insulator layers 2 to 7 and dielectric layers 8 and 9.

【0120】すなわち、この発明に係る感光性セラミッ
クグリーンシートによれば、ゲル化による経時的な粘度
変化が少なく、加工性に優れているので、粘性劣化に起
因する印刷にじみ等を抑制して、内部導体膜10のため
の導体ペースト膜を高精度に形成できるとともに、たと
えば、直径150μm未満、特に直径50μm以下とい
った極めて微細なバイアホール用貫通孔を高精度に形成
できる。また、スラリーの構成成分が均一に分散されて
いるので、焼結後には、緻密かつ高強度であって特性の
優れた絶縁体層2〜7ならびに誘電体層8および9とす
ることができる。
That is, according to the photosensitive ceramic green sheet of the present invention, there is little change in viscosity over time due to gelation and excellent workability, so that printing bleeding and the like due to viscosity deterioration are suppressed. A conductor paste film for the internal conductor film 10 can be formed with high precision, and extremely fine via-holes having a diameter of, for example, less than 150 μm, particularly 50 μm or less can be formed with high precision. In addition, since the components of the slurry are uniformly dispersed, after sintering, the insulating layers 2 to 7 and the dielectric layers 8 and 9 having high density and excellent strength can be obtained.

【0121】そのため、得られた多層セラミック基板1
において、高密度かつ高精度に内部導体膜10およびバ
イアホール導体11のような配線導体を配置することが
できるとともに、優れた機械的かつ電気的特性を実現す
ることができる。
Therefore, the obtained multilayer ceramic substrate 1
In this case, the wiring conductors such as the internal conductor film 10 and the via-hole conductor 11 can be arranged with high density and high accuracy, and excellent mechanical and electrical characteristics can be realized.

【0122】なお、上述の製造方法においては、絶縁体
層2〜7ならびに誘電体層8および9を作製するため
に、この発明に係る感光性セラミックグリーンシートを
用いたが、絶縁体層および誘電体層のいずれか一方を感
光性セラミックグリーンシートとし、他方は感光性を有
しないセラミックグリーンシートで形成してもよい。
In the above-described manufacturing method, the photosensitive ceramic green sheets according to the present invention were used to form the insulator layers 2 to 7 and the dielectric layers 8 and 9. One of the body layers may be formed of a photosensitive ceramic green sheet, and the other may be formed of a non-photosensitive ceramic green sheet.

【0123】また、上述のような多層セラミック基板の
製造方法において、この発明に従って調製された、磁性
体セラミック粉末を含む磁性体セラミックグリーンシー
トを用い、磁性体層を備える多層セラミック基板を得る
ようにしてもよい。たとえば、図1において、絶縁体層
5を磁性体層に置き換えると、この磁性体層に関連して
形成されたコイルパターン状の内部導体膜10によっ
て、コイル素子Lのインダクタンスをより高くすること
ができる。
In the method for manufacturing a multilayer ceramic substrate as described above, a multilayer ceramic substrate having a magnetic layer is obtained by using a magnetic ceramic green sheet containing a magnetic ceramic powder prepared according to the present invention. You may. For example, in FIG. 1, when the insulator layer 5 is replaced with a magnetic layer, the inductance of the coil element L can be further increased by the coil-patterned internal conductor film 10 formed in association with the magnetic layer. it can.

【0124】また、上述した多層セラミック基板1の製
造方法において、内部導体膜10および外部導体膜12
の形成のために、前述したこの発明に係るペースト組成
物を用いてもよい。すなわち、この発明に係るペースト
組成物からなるペースト膜を、前述した方法によって、
所望のパターンをもって、各セラミックグリーンシート
上に形成すれば、このペースト膜によって、多層セラミ
ック基板1中の内部導体膜10が与えられる。また、焼
成後において、多層セラミック基板1の表面に、この発
明に係るペースト組成物からなるペースト膜を、前述し
た方法によって、所望のパターンをもって形成すれば、
このペースト膜によって、外部導体膜12が与えられ
る。
Further, in the above-described method for manufacturing the multilayer ceramic substrate 1, the inner conductor film 10 and the outer conductor film 12
For forming the paste, the above-described paste composition according to the present invention may be used. That is, a paste film made of the paste composition according to the present invention is formed by the method described above.
If a desired pattern is formed on each ceramic green sheet, this paste film gives the internal conductor film 10 in the multilayer ceramic substrate 1. Further, after firing, if a paste film made of the paste composition according to the present invention is formed on the surface of the multilayer ceramic substrate 1 in a desired pattern by the above-described method,
The external conductor film 12 is provided by the paste film.

【0125】また、上述したような多層セラミック基板
の製造方法は、多層回路素子のような電子部品の製造方
法にも適用することができる。
The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate as described above can be applied to a method for manufacturing an electronic component such as a multilayer circuit element.

【0126】また、多層セラミック基板または多層回路
素子を製造するため、上述したように、所望の内部導体
膜10およびバイアホール導体11が形成された複数の
セラミックグリーンシートを積層する方法によるのでは
なく、この発明に係るペースト組成物を使って、基板や
支持体等上に導体膜を形成した後、適宜の機能材料と有
機バインダとを含む混合物を塗布し、また、必要に応じ
て、バイアホール導体をこの発明に係るペースト組成物
によって形成することを繰り返して、積層構造物を作製
し、この積層構造物に対して焼成等の熱処理を施すこと
によって、多層回路基板または多層回路素子を製造する
こともできる。
Further, in order to manufacture a multilayer ceramic substrate or a multilayer circuit element, as described above, instead of a method of laminating a plurality of ceramic green sheets on which desired internal conductor films 10 and via-hole conductors 11 are formed, as described above. After forming a conductive film on a substrate, a support, or the like using the paste composition according to the present invention, a mixture containing an appropriate functional material and an organic binder is applied, and if necessary, a via hole is formed. By repeatedly forming a conductor with the paste composition according to the present invention, a laminated structure is produced, and a heat treatment such as firing is performed on the laminated structure to produce a multilayer circuit board or a multilayer circuit element. You can also.

【0127】なお、上述の機能材料としては、セラミッ
ク粉末や、これにガラス粉末を加えたものや、場合によ
っては、銅、銀等の導電性金属からなる粉末等を用いる
ことができる。
As the above-mentioned functional material, a ceramic powder, a material obtained by adding a glass powder to the powder, or a powder made of a conductive metal such as copper or silver can be used in some cases.

【0128】以下、この発明の構成および効果を、実験
例に従って、より具体的に説明する。
Hereinafter, the structure and effects of the present invention will be described more specifically with reference to experimental examples.

【0129】[0129]

【実験例1】まず、実験例1では、この発明に係るペー
スト組成物について説明する。
[Experimental Example 1] First, in Experimental Example 1, a paste composition according to the present invention will be described.

【0130】以下の例1ないし例13に係る各ペースト
組成物を作製した。
The paste compositions according to Examples 1 to 13 below were prepared.

【0131】例1 次の組成および配合量の各種成分を混合後、3本ロール
ミルによる混練を行ない、感光性ペースト組成物とし
た。
Example 1 After mixing the various components of the following composition and amount, the mixture was kneaded with a three-roll mill to obtain a photosensitive paste composition.

【0132】<有機バインダ> メタクリル酸/メタクリル酸メチルの共重合割合が重量
基準で25/75の共重合体(重量平均分子量=50,
000):2.0g <導電性金属粉末> 銅粉末(平均粒径3μm):15.0g <反応性官能基含有モノマー> トリメチロールプロパントリアクリレート:1.0g <光重合開始剤> 2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2
−モルフォリノプロパン−1−オン:0.4g 2,4−ジエチルチオキサントン:0.1g <有機溶剤> チルカルビトールアセテート:4.0g <アミド構造を持つ化合物> ステアリン酸アミド:0.01g <紫外線吸収材> アゾ系赤色顔料:0.1g例2 ステアリン酸アミドを添加しない以外は例1と同様にし
て、感光性ペースト組成物を作製した。
<Organic Binder> A copolymer having a copolymerization ratio of methacrylic acid / methyl methacrylate of 25/75 by weight (weight average molecular weight = 50,
000): 2.0 g <Conductive metal powder> Copper powder (average particle diameter 3 μm): 15.0 g <Reactive functional group-containing monomer> Trimethylolpropane triacrylate: 1.0 g <Photopolymerization initiator> 2-methyl -1- [4- (methylthio) phenyl] -2
-Morpholinopropan-1-one: 0.4 g 2,4-diethylthioxanthone: 0.1 g <organic solvent> tyl carbitol acetate: 4.0 g <compound having an amide structure> stearamide: 0.01 g <ultraviolet light Absorbent> Azo-based red pigment: 0.1 g Example 2 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that stearamide was not added.

【0133】例3 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにリン酸0.1
gを添加した以外は例1と同様にして、感光性ペースト
組成物を作製した。
Example 3 Phosphoric acid 0.1 instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that g was added.

【0134】例4 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにベンゾトリア
ゾール0.02gを添加した以外は例1と同様にして、
感光性ペースト組成物を作製した。
Example 4 The procedure of Example 1 was repeated, except that 0.02 g of benzotriazole was added instead of 0.01 g of stearamide.
A photosensitive paste composition was prepared.

【0135】例5 ステアリン酸アミド0.01gの代わりに酢酸1.0g
を添加した以外は例1と同様にして、感光性ペースト組
成物を作製した。
Example 5 1.0 g of acetic acid instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that was added.

【0136】例6 ステアリン酸アミドの代わりに3−メトキシ−3−メチ
ルブタノールを用いた以外は例1と同様にして、感光性
ペースト組成物を作製した。
Example 6 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 3-methoxy-3-methylbutanol was used instead of stearic acid amide.

【0137】例7 導電性金属粉末を銅粉末15.0gの代わりに銀粉末
(平均粒径3μm)12.0gを用い、さらにガラス粉
末としてSiO2 −PbO−B2 3 系ガラス粉末(ホ
ウ酸含有量17重量%、平均粒径3μm)0.9gを添
加した以外は、例1と同様にして、感光性ペースト組成
物を作製した。
Example 7 Instead of 15.0 g of copper powder, 12.0 g of silver powder (average particle size: 3 μm) was used as the conductive metal powder, and SiO 2 —PbO—B 2 O 3 glass powder (borane) was used as glass powder. A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.9 g of an acid content of 17% by weight and an average particle size of 3 μm was added.

【0138】例8 ステアリン酸アミドを添加しない以外は例7と同様にし
て、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 8 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 7, except that no stearamide was added.

【0139】例9 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにリン酸0.1
gを添加した以外は例7と同様にして、感光性ペースト
組成物を作製した。
Example 9 Phosphoric acid 0.1 instead of 0.01 g of stearic acid amide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 7 except that g was added.

【0140】例10 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにベンゾトリア
ゾール0.02gを添加した以外は例7と同様にして、
感光性ペースト組成物を作製した。
Example 10 The procedure of Example 7 was repeated, except that 0.02 g of benzotriazole was added instead of 0.01 g of stearamide.
A photosensitive paste composition was prepared.

【0141】例11 ステアリン酸アミド0.01gの代わりに酢酸1.0g
を添加した以外は例7と同様にして、感光性ペースト組
成物を作製した。
Example 11 1.0 g of acetic acid instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 7, except that was added.

【0142】例12 ステアリン酸アミドの代わりに3−メトキシ−3−メチ
ルブタノールを用いた以外は例7と同様にして、感光性
ペースト組成物を作製した。
Example 12 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 7 except that 3-methoxy-3-methylbutanol was used instead of stearamide.

【0143】例13 導電性金属粉末を添加せず、ガラス粉末としてSiO2
−PbO−B2 3 系ガラス粉末(ホウ酸含有量17重
量%、平均粒径3μm)0.9gの代わりにSiO2
2 O−B2 3 系ガラス粉末(ホウ酸含量17%、平
均粒径3 μm)5.0gを添加した以外は、すべて例7
と同様にして、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 13 Without adding conductive metal powder, SiO 2 was used as glass powder.
-PbO-B 2 O 3 based glass powder (boric acid content 17 wt%, average particle size 3 [mu] m) SiO in place of 0.9 g 2 -
K 2 O-B 2 O 3 based glass powder (boric acid content 17%, average particle size 3 [mu] m), except that the addition of 5.0 g, all Example 7
In the same manner as in the above, a photosensitive paste composition was prepared.

【0144】例14 ステアリン酸アミドを添加しない以外は例13と同様に
して、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 14 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 13 except that stearamide was not added.

【0145】例15 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにリン酸0.1
gを添加した以外は例13と同様にして、感光性ペース
ト組成物を作製した。
Example 15 Phosphoric acid 0.1 instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 13 except that g was added.

【0146】例16 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにベンゾトリア
ゾール0.02gを添加した以外は例13と同様にし
て、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 16 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 13 except that 0.02 g of benzotriazole was added instead of 0.01 g of stearamide.

【0147】例17 ステアリン酸アミド0.01gの代わりに酢酸1.0g
を添加した以外は例13と同様にして、感光性ペースト
組成物を作製した。
Example 17 1.0 g of acetic acid instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 13 except that was added.

【0148】例18 ステアリン酸アミドの代わりに3−メトキシ−3−メチ
ルブタノールを用いた以外は例13と同様にして、感光
性ペースト組成物を作製した。
Example 18 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 13, except that 3-methoxy-3-methylbutanol was used instead of stearamide.

【0149】例19 ガラス粉末を添加せず、無機粉末としてニッケル亜鉛銅
フェライト5.0gを添加した以外は、例13と同様に
して、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 19 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 13, except that 5.0 g of nickel zinc copper ferrite was added as an inorganic powder without adding glass powder.

【0150】例20 ステアリン酸アミドを添加しない以外は例19と同様に
して、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 20 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 19 except that no stearamide was added.

【0151】例21 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにリン酸0.1
gを添加した以外は例19と同様にして、感光性ペース
ト組成物を作製した。
Example 21 Phosphoric acid 0.1 instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 19 except that g was added.

【0152】例22 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにベンゾトリア
ゾール0.02gを添加した以外は例19と同様にし
て、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 22 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 19 except that 0.02 g of benzotriazole was added instead of 0.01 g of stearamide.

【0153】例23 ステアリン酸アミド0.01gの代わりに酢酸1.0g
を添加した以外は例19と同様にして、感光性ペースト
組成物を作製した。
Example 23 1.0 g of acetic acid instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 19 except that was added.

【0154】例24 ステアリン酸アミドの代わりに3−メトキシ−3−メチ
ルブタノールを用いた以外は例19と同様にして、感光
性ペースト組成物を作製した。
Example 24 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 19 except that 3-methoxy-3-methylbutanol was used instead of stearamide.

【0155】例25 無機粉末として、ニッケル亜鉛銅フェライト5.0gの
代わりに、SiO2 −PbO−B2 3 系ガラス粉末
(ホウ酸含量17%)3.0gとRuO2 (抵抗体)
2.0gの混合物を添加した以外は、例19と同様にし
て、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 25 Instead of 5.0 g of nickel zinc copper ferrite, 3.0 g of SiO 2 —PbO—B 2 O 3 based glass powder (borate content: 17%) and RuO 2 (resistor) were used as the inorganic powder.
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 19, except that 2.0 g of the mixture was added.

【0156】例26 ステアリン酸アミドを添加しない以外は例25と同様に
して、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 26 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 25 except that stearamide was not added.

【0157】例27 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにリン酸0.1
gを添加した以外は例25と同様にして、感光性ペース
ト組成物を作製した。
Example 27 Phosphoric acid 0.1 instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 25 except that g was added.

【0158】例28 ステアリン酸アミド0.01gの代わりにベンゾトリア
ゾール0.02gを添加した以外は例25と同様にし
て、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 28 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 25 except that 0.02 g of benzotriazole was added instead of 0.01 g of stearamide.

【0159】例29 ステアリン酸アミド0.01gの代わりに酢酸1.0g
を添加した以外は例25と同様にして、感光性ペースト
組成物を作製した。
Example 29 1.0 g of acetic acid instead of 0.01 g of stearamide
A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 25 except that was added.

【0160】例30 ステアリン酸アミドの代わりに3−メトキシ−3−メチ
ルブタノールを用いた以外は例25と同様にして、感光
性ペースト組成物を作製した。
Example 30 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 25 except that 3-methoxy-3-methylbutanol was used instead of stearamide.

【0161】次に、例1および例7の各感光性ペースト
組成物を、アルミナ絶縁性基板上にスピンコーターによ
って塗布し、これら各々を100℃にて1時間乾燥し
て、20μm厚の塗膜を形成した。次いで、得られた塗
膜を24時間放置した後、露光処理を行なった。ここ
で、ライン/スペース(L/S)=20/20(μm)
のパターンが描画されたマスクを通して、高圧水銀灯の
光線を250mJ/cm2の露光量で照射した。その
後、炭酸ナトリウム水溶液による現処理像を行なうこと
により、L/S=20/20(μm)のパターンを得る
ことができた。そして、脱脂処理を施した後、900
℃、N2 雰囲気中で焼成して、L/S=10/30(μ
m)の導体パターンを形成することができた。
Next, each of the photosensitive paste compositions of Examples 1 and 7 was applied on an alumina insulating substrate by a spin coater, and each of them was dried at 100 ° C. for 1 hour to form a 20 μm thick coating film. Was formed. Next, after the obtained coating film was left for 24 hours, an exposure treatment was performed. Here, line / space (L / S) = 20/20 (μm)
Through a mask on which the pattern (1) was drawn, a light of a high-pressure mercury lamp was applied at an exposure of 250 mJ / cm 2 . Thereafter, by performing the current processing image with an aqueous solution of sodium carbonate, a pattern of L / S = 20/20 (μm) could be obtained. And after degreasing, 900
° C., and calcined in an N 2 atmosphere, L / S = 10/30 (μ
The conductor pattern of m) could be formed.

【0162】また、例13の感光性ペースト組成物を、
上述の例1および例7の場合と同様の方法に従って、塗
布して、乾燥して、20μm厚の塗膜を形成し、次い
で、得られた塗膜を24時間放置した後、露光処理し、
現像処理することによって、L/S=20/20(μ
m)のパターンを形成した。そして、これを850℃、
空気中で焼成して、L/S=10/30(μm)の絶縁
体パターンを得た。
Further, the photosensitive paste composition of Example 13 was
According to the same method as in Examples 1 and 7 described above, coating and drying were performed to form a coating film having a thickness of 20 μm. Then, the obtained coating film was left for 24 hours, and then exposed to light.
By developing, L / S = 20/20 (μ
m) was formed. And this is 850 ° C,
By firing in air, an insulator pattern of L / S = 10/30 (μm) was obtained.

【0163】また、例19の感光性ペースト組成物を、
前述の例1および例7の場合と同様の方法に従って、塗
布し、乾燥して、20μm厚の塗膜を形成した。次い
で、得られた塗膜を24時間放置した後、露光処理を行
なった。ここでは、直径20μmのバイアホール用貫通
孔のためのパターンが描画されたマスクを通して、高圧
水銀灯の光線を250mJ/cm2 の露光量で照射し
た。引き続いて、炭酸ナトリウム水溶液による現像処理
を行なうことにより、直径20μmのバイアホール用貫
通孔を作製した。さらに、バイアホール用貫通孔に導体
ペースト組成物を充填した後、950℃、空気中で焼成
して、直径30μmのバイアホール導体を形成した。
Also, the photosensitive paste composition of Example 19 was
According to the same method as in Examples 1 and 7 described above, coating and drying were performed to form a coating film having a thickness of 20 μm. Next, after the obtained coating film was left for 24 hours, an exposure treatment was performed. Here, a light beam of a high-pressure mercury lamp was irradiated at an exposure amount of 250 mJ / cm 2 through a mask on which a pattern for a through hole for a via hole having a diameter of 20 μm was drawn. Subsequently, a development treatment using an aqueous solution of sodium carbonate was performed to form a through hole for a via hole having a diameter of 20 μm. Furthermore, the via-hole through-hole was filled with the conductor paste composition, and then fired at 950 ° C. in air to form a via-hole conductor having a diameter of 30 μm.

【0164】また、例25の感光性ペースト組成物をア
ルミナ絶縁性基板上にスピンコーター法によって塗布
し、これを100℃にて1時間乾燥して、30μm厚の
塗膜を形成した。次いで、得られた塗膜を24時間放置
した後、露光処理を行なった。ここでは、30μm角の
正方形のパターンが描画されたマスクを通して、高圧水
銀灯の光線を250mJ/cm2 の露光量で照射した。
その後、炭酸ナトリウム水溶液による現像処理を行なう
ことにより、30μm×30μm×30μmの立方体構
造物を得ることができた。そして、これを850℃、空
気中で焼成して、20μm×20μm×20μmの抵抗
体を得た。この抵抗体の電気抵抗を測ったところ、16
kΩであった。
The photosensitive paste composition of Example 25 was applied on an alumina insulating substrate by a spin coater method, and dried at 100 ° C. for 1 hour to form a 30 μm thick coating film. Next, after the obtained coating film was left for 24 hours, an exposure treatment was performed. Here, light from a high-pressure mercury lamp was applied at an exposure of 250 mJ / cm 2 through a mask on which a 30 μm square pattern was drawn.
Thereafter, a cubic structure having a size of 30 μm × 30 μm × 30 μm was obtained by performing development processing with an aqueous solution of sodium carbonate. Then, this was fired at 850 ° C. in the air to obtain a resistor of 20 μm × 20 μm × 20 μm. When the electrical resistance of this resistor was measured, it was 16
kΩ.

【0165】また、例1、例7、例13、例19および
例25の各感光性ペースト組成物について、温度20℃
下、空気中にて、作製直後、1日後、3日後、1週間
後、1ヶ月後、2ヶ月後、3ヶ月後、4ヶ月後、5ヶ月
後および6カ月後の各時点でその保存状態を評価した。
その結果、これら例による感光性ペースト組成物はいず
れの時点においてもゲル化していなかった。すなわち、
作製直後、1日後、3日後、1週間後、1ヶ月後、2ヶ
月後、3ヶ月後、4ヶ月後、5ヶ月後および6カ月後の
各時点で、絶縁性基板上にスピンコーターによる塗布を
行ない、かつ、フォトリソグラフィ技術によるパターン
形成を行なうことが可能であった。
The photosensitive paste compositions of Examples 1, 7, 13, 19, and 25 were subjected to a temperature of 20 ° C.
In the air, immediately after preparation, 1 day, 3 days, 1 week, 1 month, 2 months, 3 months, 4 months, 5 months and 6 months Was evaluated.
As a result, the photosensitive paste compositions according to these examples were not gelled at any time. That is,
Immediately after fabrication, 1 day, 3 days, 1 week, 1 month, 2 months, 3 months, 4 months, 5 months, and 6 months, apply on the insulating substrate by a spin coater And a pattern can be formed by photolithography.

【0166】他方、例2〜6、例8〜12、例14〜1
8、例20〜24、および例26〜30の各感光性ペー
スト組成物の保存安定性を、上述したのと同様の条件で
評価した。
On the other hand, Examples 2 to 6, Examples 8 to 12, and Examples 14 to 1
8, the storage stability of each of the photosensitive paste compositions of Examples 20 to 24 and Examples 26 to 30 was evaluated under the same conditions as described above.

【0167】これらの評価結果が、以下の表1に示され
ている。なお、表1中の「○」は、感光性ペースト組成
物がゲル化しておらず、塗布可能な状態であったことを
意味する。また、「×」は、感光性ペースト組成物がゲ
ル化しており、塗布不可能な状態であったことを意味す
る。
The results of these evaluations are shown in Table 1 below. In addition, "o" in Table 1 means that the photosensitive paste composition was not gelled and was in a coatable state. In addition, “x” means that the photosensitive paste composition was gelled and was in a state where application was impossible.

【0168】[0168]

【表1】 [Table 1]

【0169】表1から、例2〜6、例8〜12、例14
〜18、例20〜24、および例26〜30のように、
アミド構造を持つ化合物を全く含まない感光性ペースト
組成物やアミド構造を持つ化合物以外のゲル化防止剤を
含む感光性ペースト組成物は、その作製直後はゲル化を
防止して良好な安定性を示していたが、例6、12、1
8、24、30の各感光性ペースト組成物を除いて、経
時的にゲル化が生じ始めてしまったことがわかる。
From Table 1, Examples 2 to 6, Examples 8 to 12, and Example 14
-18, Examples 20-24, and Examples 26-30,
A photosensitive paste composition containing no compound having an amide structure or a photosensitive paste composition containing an anti-gelling agent other than a compound having an amide structure can prevent gelation immediately after the preparation and have good stability. As shown, Examples 6, 12, 1
It can be seen that gelling began to occur over time except for the photosensitive paste compositions of 8, 24 and 30.

【0170】また、例6、例12および例18の各感光
性ペースト組成物について、例1、例7および例13の
場合と同様にして、L/S=20/20(μm)のパタ
ーン形成を試みた。また、例24の感光性ペースト組成
物について、例19の場合と同様にして、直径20μm
のバイアホール導体の作製を試みた。また、例30の感
光性ペースト組成物について、例25の場合と同様にし
て、20μm×20μm×20μmの抵抗体の作製を試
みた。そして、例6、例12、例18、例24および例
30の各感光性ペースト組成物による塗膜について、現
像処理時の安定性の評価を行なった。
For each of the photosensitive paste compositions of Examples 6, 12 and 18, a pattern formation of L / S = 20/20 (μm) was performed in the same manner as in Examples 1, 7 and 13. Tried. Further, the photosensitive paste composition of Example 24 had a diameter of 20 μm in the same manner as in Example 19.
Of via-hole conductors. Further, for the photosensitive paste composition of Example 30, the production of a resistor of 20 μm × 20 μm × 20 μm was attempted in the same manner as in Example 25. The stability of the coating film of each of the photosensitive paste compositions of Example 6, Example 12, Example 18, Example 24, and Example 30 at the time of development was evaluated.

【0171】以下の表2には、上述の例6、例12、例
18、例24および例30の各感光性ペースト組成物の
評価結果が、例1、例7、例13、例19および例25
による各感光性ペースト組成物の評価結果とともに示さ
れている。なお、表2中の「○」は、未露光部が現像液
に溶出してパターン形成を良好に行なうことができたこ
とを意味する。また、表2中の「△」は、未露光部が現
像液に一部溶出しているものの、パターン形成が十分に
行なえなかったことを意味し、「×」は、未露光部が現
像液に溶出せず、パターン形成ができなかったことを意
味する。
Table 2 below shows the evaluation results of the photosensitive paste compositions of Examples 6, 12, 12, 18, 24, and 30 described above. Examples 1, 7, 7, 13, 19 and Example 25
Are shown together with the evaluation results of the respective photosensitive paste compositions. In Table 2, “○” means that the unexposed portion was eluted in the developing solution and the pattern was successfully formed. Further, “△” in Table 2 means that although the unexposed portion was partially eluted in the developer, the pattern could not be sufficiently formed, and “×” indicates that the unexposed portion was in the developer. , Which means that pattern formation was not possible.

【0172】[0172]

【表2】 [Table 2]

【0173】表2から、アミド構造を持つ化合物を含ん
だ例1、例7、例13、例19および例25による各感
光性ペースト組成物によれば、未露光部が現像液に容易
に溶出して、形状性に優れたパターンを形成できたこと
がわかる。
According to Table 2, according to each of the photosensitive paste compositions according to Examples 1, 7, 13, 13, 19, and 25 containing the compound having an amide structure, the unexposed portion was easily eluted into the developing solution. As a result, it was found that a pattern having excellent shape was formed.

【0174】これに対して、例6、例12、例18、例
24および例30のように、ゲル化防止剤が3−メトキ
シ−3−メチルブタノールの場合、未露光部が現像液に
十分に溶出せず、形状性の良いパターン形成ができなか
った。これは、感光性ペースト組成物の塗布後、その乾
燥処理時に塗膜から3−メトキシ−3−メチルブタノー
ルが蒸発してしまい、ゲル化防止能が経時的に劣化して
しまったことによるものと思われる。
On the other hand, when the anti-gelling agent is 3-methoxy-3-methylbutanol as in Examples 6, 12, 12, 18, and 30, the unexposed area is sufficient for the developing solution. And a pattern having good shape could not be formed. This is due to the fact that 3-methoxy-3-methylbutanol evaporates from the coating film during the drying treatment after the application of the photosensitive paste composition, and the ability to prevent gelation has deteriorated with time. Seem.

【0175】また、以下の例31ないし例36に係る各
ペースト組成物を作製した。
Further, paste compositions according to the following Examples 31 to 36 were prepared.

【0176】例31 ステアリン酸アミドを添加せず、エチルカルビトールア
セテートの量を1.0gにし、モノオール化合物として
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル4.0gを
添加した以外は、例1と同様にして、感光性ペースト組
成物を作製した。
Example 31 The procedure of Example 1 was repeated, except that stearic acid amide was not added, the amount of ethyl carbitol acetate was changed to 1.0 g, and 4.0 g of dipropylene glycol monomethyl ether was added as a monol compound. A photosensitive paste composition was prepared.

【0177】例32 ステアリン酸アミド0.01gを添加した以外は、例3
1と同様にして、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 32 Example 3 except that 0.01 g of stearamide was added.
In the same manner as in Example 1, a photosensitive paste composition was prepared.

【0178】例33 ステアリン酸アミドを添加せず、ハイドロキシアパタイ
ト(平均粒径5μm)0.1gを添加した以外は、例1
と同様にして、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 33 Example 1 was repeated except that 0.1 g of hydroxyapatite (average particle size: 5 μm) was added without adding stearamide.
In the same manner as in the above, a photosensitive paste composition was prepared.

【0179】例34 ステアリン酸アミド0.01gを添加した以外は、例3
3と同様にして、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 34 Example 3 except that 0.01 g of stearamide was added.
In the same manner as in 3, a photosensitive paste composition was prepared.

【0180】例35 ステアリン酸アミドを添加せず、チクソ剤(ディスパロ
ン305、楠本化成社製:水添ひまし油系)0.1gを
添加した以外は、例1と同様にして、感光性ペースト組
成物を作製した。
Example 35 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.1 g of a thixotropic agent (Disparon 305, manufactured by Kusumoto Chemicals, hydrogenated castor oil) was added without adding stearic acid amide. Was prepared.

【0181】例36 ステアリン酸アミド0.01gを添加した以外は、例3
5と同様にして、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 36 Example 3 except that 0.01 g of stearamide was added.
In the same manner as in 5, a photosensitive paste composition was prepared.

【0182】以上、例31〜36の各感光性ペースト組
成物の保存安定性を評価した。なお、感光性ペースト組
成物の保存は20℃下、空気中にて行なった。その評価
結果を下記表3に示す。なお、表3において、「○」お
よび「×」は、それぞれ、表1に示した「○」および
「×」と同様のことを意味する。
As described above, the storage stability of each of the photosensitive paste compositions of Examples 31 to 36 was evaluated. The photosensitive paste composition was stored at 20 ° C. in the air. The evaluation results are shown in Table 3 below. In Table 3, “○” and “×” mean the same as “○” and “×” shown in Table 1, respectively.

【0183】[0183]

【表3】 [Table 3]

【0184】表3から、例31、例33および例35の
ように、アミド構造を持つ化合物を全く含まない感光性
ペースト組成物であっても、モノオール化合物、または
ヒドロキシアパタイト、またはチクソ剤を含有していれ
ば、その作製から2ヶ月まではゲル化を防止して良好な
安定性を示していたが、経時的にゲル化が生じ始めてし
まったことがわかる。
From Table 3, it can be seen that even when the photosensitive paste composition does not contain any compound having an amide structure as in Examples 31, 33 and 35, the monool compound, hydroxyapatite, or thixotropic agent is used. If it is contained, gelation was prevented and good stability was exhibited for up to two months from its production, but it can be seen that gelation began to occur over time.

【0185】これに対して、例32、例34および例3
6のように、さらにアミド構造を持つ化合物としてステ
アリン酸アミドを添加した各感光性ペースト組成物で
は、その作製から12ヶ月までゲル化を防止して良好な
安定性を示しており、アミド構造を持つ化合物を添加す
ることで飛躍的にペースト安定性を向上できることがわ
かる。
On the other hand, Example 32, Example 34 and Example 3
As shown in 6, each of the photosensitive paste compositions to which stearic acid amide is further added as a compound having an amide structure prevents gelation for up to 12 months from the preparation thereof and exhibits good stability. It can be seen that the paste stability can be dramatically improved by adding a compound having the same.

【0186】また、以下の例37および例38に係る各
ペースト組成物を作製した。
Also, paste compositions according to the following Examples 37 and 38 were prepared.

【0187】例37 アミド構造を持つ化合物として、ステアリン酸アミド
0.01gの代わりにメタクリル酸/メタクリル酸メチ
ル/アクリル酸アミドの共重合体(共重合割合が重量基
準で25/70/5の共重合体、重量平均分子量=5,
000)0.1gを添加した以外は、例1と同様にし
て、感光性ペースト組成物を作製した。
Example 37 As a compound having an amide structure, a copolymer of methacrylic acid / methyl methacrylate / acrylic amide (a copolymer having a copolymerization ratio of 25/70/5 by weight) was used in place of 0.01 g of stearamide. Polymer, weight average molecular weight = 5
000) A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.1 g was added.

【0188】例38 アミド構造を持つ化合物として、ステアリン酸アミド
0.01gの代わりにアクリル酸アミド0.1gを添加
した以外は、例1と同様にして、感光性ペースト組成物
を作製した。
Example 38 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.1 g of acrylamide was added instead of 0.01 g of stearamide as a compound having an amide structure.

【0189】以上、例37および例38の各感光性ペー
スト組成物の保存安定性を評価した。なお、感光性ペー
スト組成物の保存は20℃下、空気中にて行なった。そ
の評価結果を、例1による感光性ペースト組成物の評価
結果とともに以下の表4に示す。なお、表4において、
「○」および「×」は、それぞれ、表1に示した「○」
および「×」と同様のことを意味する。
The storage stability of each of the photosensitive paste compositions of Examples 37 and 38 was evaluated as described above. The photosensitive paste composition was stored at 20 ° C. in the air. The evaluation results are shown in Table 4 below together with the evaluation results of the photosensitive paste composition according to Example 1. In Table 4,
“O” and “X” are “○” shown in Table 1, respectively.
And the same as "x".

【0190】[0190]

【表4】 [Table 4]

【0191】表4から、例37のように、アミド構造を
持つ化合物としてモノアミド化合物を含まない感光性ペ
ースト組成物は、その作製から2ヶ月はゲル化を防止し
て良好な安定性を示していたが、経時的にゲル化が生じ
始めてしまったことがわかる。
From Table 4, as shown in Example 37, the photosensitive paste composition containing no monoamide compound as a compound having an amide structure shows good stability by preventing gelation for two months from the preparation. However, it can be seen that gelation began to occur over time.

【0192】また、例38のように、アミド構造を持つ
化合物として飽和脂肪酸アミドを含まない感光性ペース
ト組成物は、その作製から3ヶ月はゲル化を防止して良
好な安定性を示していたが、経時的にゲル化が生じ始め
てしまったことがわかる。
Also, as in Example 38, the photosensitive paste composition containing no saturated fatty acid amide as a compound having an amide structure exhibited good stability by preventing gelation for three months from its production. However, it can be seen that gelation began to occur over time.

【0193】また、以下の例39に係るペースト組成物
を作製した。
Also, a paste composition according to Example 39 below was prepared.

【0194】例39 トリメチロールプロパントリアクリレート1.0g、2
−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−
モルフォリノプロパン−1−オン0.4g、2,4−ジ
エチルチオキサントン0.1gを添加しない以外は、例
1と同様にして、ペースト組成物を作製した。
Example 39 1.0 g of trimethylolpropane triacrylate, 2
-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-
A paste composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.4 g of morpholinopropan-1-one and 0.1 g of 2,4-diethylthioxanthone were not added.

【0195】次いで、例39のペースト組成物を用いて
アルミナ絶縁性基板上にスクリーン印刷法によってパタ
ーンを形成し、これを100℃にて1時間乾燥して、L
/S=100/100(μm)のパターンを形成した。
次いで、このアルミナ絶縁性基板を24時間放置した
後、900℃、N2 雰囲気中で焼成して、L/S=80
/120(μm)の導体パターンを形成した。
Next, a pattern was formed on the alumina insulating substrate by the screen printing method using the paste composition of Example 39, and this was dried at 100 ° C. for 1 hour.
A pattern of / S = 100/100 (μm) was formed.
Next, after leaving this alumina insulating substrate for 24 hours, it is baked at 900 ° C. in an N 2 atmosphere to obtain an L / S = 80.
/ 120 (μm) was formed.

【0196】また、例39のペースト組成物について、
温度20℃、空気中にて、作製直後、1日後、3日後、
1週間後、1ヶ月後の各時点での保存状態を評価した。
その結果、この例39によるペースト組成物はいずれの
時点においてもゲル化していなかった。すなわち、作製
直後、1日後、3日後、1週間後、1ヶ月後の各時点
で、基板上にスクリーン印刷による塗膜形成を行なうこ
とが可能であった。
Further, with respect to the paste composition of Example 39,
In the air at a temperature of 20 ° C., immediately after production, 1 day, 3 days
One week and one month later, the state of storage at each time point was evaluated.
As a result, the paste composition according to Example 39 was not gelled at any time. That is, it was possible to form a coating film on the substrate by screen printing immediately after the production, 1 day, 3 days, 1 week, and 1 month.

【0197】また、以下の例40ないし例44に係る各
ペースト組成物を作製した。
Further, paste compositions according to the following Examples 40 to 44 were prepared.

【0198】例40 ステアリン酸アミドのペースト組成物中に占める割合を
0.02重量%になるように、ステアリン酸アミドの添
加量を変えた以外は、例1と同様にして、感光性ペース
ト組成物を作製した。
Example 40 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of stearamide was changed so that the proportion of stearamide in the paste composition was 0.02% by weight. A product was made.

【0199】例41 ステアリン酸アミドのペースト組成物中に占める割合を
0.03重量%になるように、ステアリン酸アミドの添
加量を変えた以外は、例1と同様にして、感光性ペース
ト組成物を作製した。
Example 41 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of stearamide was changed so that the proportion of stearamide in the paste composition was 0.03% by weight. A product was made.

【0200】例42 ステアリン酸アミドのペースト組成物中に占める割合を
0.4重量%になるように、ステアリン酸アミドの添加
量を変えた以外は、例1と同様にして、感光性ペースト
組成物を作製した。
Example 42 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of stearamide was changed so that the proportion of stearamide in the paste composition was 0.4% by weight. A product was made.

【0201】例43 ステアリン酸アミドのペースト組成物中に占める割合を
0.5重量%になるように、ステアリン酸アミドの添加
量を変えた以外は、例1と同様にして、感光性ペースト
組成物を作製した。
Example 43 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of stearamide was changed so that the proportion of stearamide in the paste composition was 0.5% by weight. A product was made.

【0202】例44 ステアリン酸アミドのペースト組成物中に占める割合を
0.6重量%になるように、ステアリン酸アミドの添加
量を変えた以外は、例1と同様にして、感光性ペースト
組成物を作製した。
Example 44 A photosensitive paste composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of stearamide was changed so that the proportion of stearamide in the paste composition was 0.6% by weight. A product was made.

【0203】以上、例40〜44の各感光性ペースト組
成物の作製直後、1日後、3日後、1週間後、2週間
後、3週間後、1ヶ月後の各時点での保存安定性を評価
した。なお、感光性ペースト組成物の保存は20℃下、
空気中にて行なった。その評価結果を、例1による感光
性ペースト組成物の評価結果とともに以下の表5に示
す。なお、表5において、「○」および「×」は、それ
ぞれ、表1に示した「○」および「×」と同様のことを
意味する。
As described above, the storage stability at each time point immediately after the preparation of the photosensitive paste compositions of Examples 40 to 44, 1 day, 3 days, 1 week, 2 weeks, 3 weeks, and 1 month was determined. evaluated. The storage of the photosensitive paste composition was performed at 20 ° C.
Performed in air. The evaluation results are shown in Table 5 below together with the evaluation results of the photosensitive paste composition according to Example 1. In Table 5, “○” and “×” mean the same as “○” and “×” shown in Table 1, respectively.

【0204】[0204]

【表5】 [Table 5]

【0205】表5を参照して、例41〜44のように、
アミド構造を持つ化合物の含有率が0.03重量%以上
の感光性ペースト組成物は、作製直後、1日後、3日
後、1週間後、2週間後、3週間後、1ヶ月後のいずれ
の時点においても、ゲル化しておらず、これらの時点の
いずれにおいても、絶縁性基板上にスピンコーターによ
る塗布を行ない、かつ、フォトリソグラフィ技術による
パターン形成を行なうことが可能であった。
Referring to Table 5, as in Examples 41 to 44,
The photosensitive paste composition in which the content of the compound having an amide structure has a content of 0.03% by weight or more can be obtained by any of 1 day, 3 days, 1 week, 2 weeks, 3 weeks, and 1 month immediately after preparation. At this time, the gel was not gelled, and at any of these times, it was possible to perform the coating on the insulating substrate by the spin coater and to form the pattern by the photolithography technique.

【0206】これに対して、例40のように、アミド構
造を持つ化合物の含有率が0.03重量%未満の感光性
ペースト組成物は、表5から、その作製直後から2週間
後はゲル化を防止して良好な安定性を示していたが、経
時的にゲル化が生じ始めてしまったことがわかる。
On the other hand, as shown in Example 40, the photosensitive paste composition in which the content of the compound having an amide structure is less than 0.03% by weight is shown in Table 5 from the point of gelling two weeks after immediately after the preparation. It shows that the gelation was prevented and good stability was exhibited, but gelation began to occur over time.

【0207】また、例40〜44の各感光性ペースト組
成物の均一塗布性を評価した。ここで、均一塗布性は、
ペースト組成物をドクターブレード法を使ってポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に塗布した際の均一塗布
性をもって評価した。
Further, uniform applicability of each of the photosensitive paste compositions of Examples 40 to 44 was evaluated. Here, the uniform applicability is
The paste composition was evaluated with uniform applicability when applied on a polyethylene terephthalate film using a doctor blade method.

【0208】その評価結果が、例1による感光性ペース
ト組成物の評価結果とともに、以下の表6に示されてい
る。なお、表6において、「○」は、感光性ペースト組
成物の表面張力が弱く、均一に塗布可能であったことを
意味する。また、「×」は、感光性ペースト組成物の表
面張力が強く、均一に塗布できなかったことを意味す
る。
The evaluation results are shown in Table 6 below together with the evaluation results of the photosensitive paste composition according to Example 1. In Table 6, “○” means that the photosensitive paste composition had a low surface tension and could be uniformly applied. In addition, "x" means that the photosensitive paste composition had a high surface tension and could not be uniformly applied.

【0209】[0209]

【表6】 [Table 6]

【0210】表6から、アミド構造を持つ化合物の含有
率が0.5重量%以下の例1および例40〜43による
各感光性ペースト組成物によれば、感光性ペースト組成
物の表面張力が弱く、均一に塗布可能であったことがわ
かる。
From Table 6, according to the photosensitive paste compositions of Examples 1 and 40 to 43 in which the content of the compound having an amide structure is 0.5% by weight or less, the surface tension of the photosensitive paste composition is reduced. It can be seen that the coating was weak and uniform.

【0211】これに対して、例44のように、アミド構
造を持つ化合物の含有率が0.5重量%を超える感光性
ペースト組成物の場合、感光性ペースト組成物の表面張
力が強く、均一に塗布することができなかったことがわ
かる。
On the other hand, as in Example 44, in the case of a photosensitive paste composition in which the content of the compound having an amide structure is more than 0.5% by weight, the surface tension of the photosensitive paste composition is high and the photosensitive paste composition is uniform. It could be seen that the coating could not be applied.

【0212】[0212]

【実験例2】次に、実験例2では、この発明に係るセラ
ミックグリーンシートについて説明する。
[Experimental Example 2] Next, in Experimental Example 2, a ceramic green sheet according to the present invention will be described.

【0213】以下の実施例1ないし3ならびに比較例1
ないし3に係る各セラミックグリーンシートを作製し
た。
The following Examples 1 to 3 and Comparative Example 1
Each of the ceramic green sheets according to Nos. 1 to 3 was produced.

【0214】実施例1(絶縁体セラミックグリーンシー
ト) ホウ珪酸系ガラス粉末37.3g、アルミナ粉末24.
9g、カルボキシル基含有アクリル系有機バインダ6.
2g、エタノール3.1g、および、ステアリン酸アミ
ド0.01gを混合して得たスラリーを、ドクターブレ
ード法によってシート状に成形し、さらに100℃で乾
燥させて、シート厚み30μmの絶縁体セラミックグリ
ーンシートを得た。
Example 1 (Insulator ceramic green sheet) 37.3 g of borosilicate glass powder, 24.3 g of alumina powder
5. 9 g, carboxyl group-containing acrylic organic binder
A slurry obtained by mixing 2 g, 3.1 g of ethanol, and 0.01 g of stearamide was formed into a sheet by a doctor blade method, and further dried at 100 ° C. to form an insulating ceramic green sheet having a sheet thickness of 30 μm. I got a sheet.

【0215】実施例2(誘電体セラミックグリーンシー
ト) ホウ珪酸系ガラス粉末6.2g、チタン酸バリウム5
6.0g、カルボキシル基含有アクリル系有機バインダ
6.2g、エタノール3.1g、および、ステアリン酸
アミド0.01gを混合して得たスラリーを、ドクター
ブレード法によってシート状に成形し、さらに100℃
で乾燥させて、シート厚み30μmの誘電体セラミック
グリーンシートを得た。
Example 2 (Dielectric Ceramic Green Sheet) 6.2 g of borosilicate glass powder, 5 barium titanate
A slurry obtained by mixing 6.0 g, 6.2 g of a carboxyl group-containing acrylic organic binder, 3.1 g of ethanol, and 0.01 g of stearamide was formed into a sheet by a doctor blade method, and further 100 ° C.
To obtain a dielectric ceramic green sheet having a sheet thickness of 30 μm.

【0216】実施例3(磁性体セラミックグリーンシー
ト) ホウ珪酸系ガラス粉末6.2g、ニッケル亜鉛フェライ
ト56.0g、カルボキシル基含有アクリル系有機バイ
ンダー6.2g、エタノール3.1g、および、ステア
リン酸アミド0.01gを混合して得たスラリーを、ド
クターブレード法によってシート状に成形し、100℃
で乾燥させて、シート厚み30μmの磁性体セラミック
グリーンシートを得た。
Example 3 (Magnetic Ceramic Green Sheet) 6.2 g of borosilicate glass powder, 56.0 g of nickel zinc ferrite, 6.2 g of a carboxyl group-containing acrylic organic binder, 3.1 g of ethanol, and stearamide The slurry obtained by mixing 0.01 g was formed into a sheet by a doctor blade method,
To obtain a magnetic ceramic green sheet having a sheet thickness of 30 μm.

【0217】比較例1(絶縁体セラミックグリーンシー
ト) ステアリン酸アミドを混合しない以外は実施例1と同様
のスラリーを、ドクターブレード法によってシート状に
成形し、さらに100℃で乾燥させて、シート厚み30
μmの絶縁体セラミックグリーンシートを得た。
Comparative Example 1 (Insulating Ceramic Green Sheet) The same slurry as in Example 1 except that stearic acid amide was not mixed was formed into a sheet by a doctor blade method, and further dried at 100 ° C. to obtain a sheet thickness. 30
A μm insulating ceramic green sheet was obtained.

【0218】比較例2(誘電体セラミックグリーンシー
ト) ステアリン酸アミドを混合しない以外は実施例2と同様
のスラリーを、ドクターブレード法によってシート状に
成形し、さらに100℃で乾燥させて、シート厚み30
μmの誘電体セラミックグリーンシートを得た。
Comparative Example 2 (Dielectric Ceramic Green Sheet) The same slurry as in Example 2 except that stearic acid amide was not mixed was formed into a sheet by a doctor blade method, and further dried at 100 ° C. to obtain a sheet thickness. 30
A μm dielectric ceramic green sheet was obtained.

【0219】比較例3(磁性体セラミックグリーンシー
ト) ステアリン酸アミドを混合しない以外は実施例3と同様
のスラリーを、ドクターブレード法によってシート状に
成形し、100℃で乾燥させて、シート厚み30μmの
磁性体セラミックグリーンシートを得た。
Comparative Example 3 (Magnetic Ceramic Green Sheet) The same slurry as in Example 3 except that stearic acid amide was not mixed was formed into a sheet by a doctor blade method, dried at 100 ° C., and dried to a sheet thickness of 30 μm. Was obtained.

【0220】以上、実施例1〜3ならびに比較例1〜3
の各セラミックグリーンシートを脱脂した後、900
℃、空気中で焼成した。そして、得られた焼成後のセラ
ミック基板(焼結体)の抗折強度および密度を測定し
た。その測定結果を以下の表7に示す。
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3
After degreasing each ceramic green sheet, 900
Calcination was carried out in air at ℃. Then, the transverse strength and density of the obtained fired ceramic substrate (sintered body) were measured. The measurement results are shown in Table 7 below.

【0221】[0221]

【表7】 [Table 7]

【0222】表7から、実施例1〜3の各々による絶縁
体セラミックグリーンシート、誘電体セラミックグリー
ンシートおよび磁性体セラミックグリーンシートは、抗
折強度と密度とのバランスに優れ、強度が大きく、基板
特性に優れていることがわかる。
From Table 7, it can be seen that the insulating ceramic green sheets, dielectric ceramic green sheets and magnetic ceramic green sheets according to Examples 1 to 3 are excellent in the balance between the transverse rupture strength and the density and have a large strength. It can be seen that the characteristics are excellent.

【0223】これに対して、比較例1〜3の各々による
各種セラミックグリーンシートは、アミド構造を持つ化
合物であるステアリン酸アミドを含んでいないので、抗
折強度が小さいか、あるいは、焼結基板の密度が小さく
なってしまった。これは、セラミックグリーンシート用
スラリーがゲル化によって不均一になったことを意味す
る。
On the other hand, since the various ceramic green sheets according to Comparative Examples 1 to 3 do not contain stearic acid amide, which is a compound having an amide structure, the bending strength is low or the sintered substrate Has become less dense. This means that the slurry for ceramic green sheets became non-uniform due to gelation.

【0224】また、以下のように、感光性を付与した実
施例4〜6ならびに比較例4〜6の各々に係る感光性セ
ラミックグリーンシートを作製した。
Further, as described below, photosensitive ceramic green sheets according to Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6 provided with photosensitivity were produced.

【0225】実施例4(感光性絶縁体セラミックグリー
ンシート) ホウ珪酸系ガラス粉末37.3g、アルミナ粉末24.
9g、カルボキシル基含有アクリル系有機バインダ6.
2g、エタノール3.1g、トリメチロールプロパント
リアクリレート3.0g、2−メチル−1−[4−(メ
チルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1
−オン1.2g、2,4−ジエチルチオキサントン0.
3g、および、ステアリン酸アミド0.01gを混合し
て得たスラリーを、ドクターブレード法によってシート
状に成形し、さらに100℃で乾燥させて、シート厚み
30μmの感光性絶縁体セラミックグリーンシートを得
た。
Example 4 (Photosensitive Insulator Ceramic Green Sheet) Borosilicate glass powder 37.3 g, alumina powder
5. 9 g, carboxyl group-containing acrylic organic binder
2 g, ethanol 3.1 g, trimethylolpropane triacrylate 3.0 g, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1
1.2 g, 2,4-diethylthioxanthone 0.1 g.
A slurry obtained by mixing 3 g and 0.01 g of stearamide was formed into a sheet by a doctor blade method, and further dried at 100 ° C. to obtain a photosensitive insulator ceramic green sheet having a sheet thickness of 30 μm. Was.

【0226】実施例5(感光性誘電体セラミックグリー
ンシート) ホウ珪酸系ガラス粉末6.2g、チタン酸バリウム5
6.0g、カルボキシル基含有アクリル系有機バインダ
6.2g、エタノール3.1g、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート3.0g、2−メチル−1−[4−
(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン
−1−オン1.2g、2,4−ジエチルチオキサントン
0.3g、および、ステアリン酸アミド0.01gを混
合して得たスラリーを、ドクターブレード法によってシ
ート状に成形し、さらに100℃で乾燥させて、シート
厚み30μmの感光性誘電体セラミックグリーンシート
を得た。
Example 5 (Photosensitive dielectric ceramic green sheet) 6.2 g of borosilicate glass powder, barium titanate 5
6.0 g, carboxyl group-containing acrylic organic binder 6.2 g, ethanol 3.1 g, trimethylolpropane triacrylate 3.0 g, 2-methyl-1- [4-
(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 1.2 g, 2,4-diethylthioxanthone 0.3 g, and a slurry obtained by mixing stearamide 0.01 g were subjected to a doctor blade method. The sheet was formed into a sheet and dried at 100 ° C. to obtain a photosensitive dielectric ceramic green sheet having a sheet thickness of 30 μm.

【0227】実施例6(感光性磁性体セラミックグリー
ンシート) ホウ珪酸系ガラス粉末6.2g、ニッケル亜鉛フェライ
ト56.0g、カルボキシル基含有アクリル系有機バイ
ンダー6.2g、エタノール3.1g、トリメチロール
プロパントリアクリレート3.0g、2−メチル−1−
[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプ
ロパン−1−オン1.2g、2,4−ジエチルチオキサ
ントン0.3g、および、ステアリン酸アミド0.01
gを混合して得たスラリーを、ドクターブレード法によ
ってシート状に成形し、100℃で乾燥させて、シート
厚み30μmの感光性磁性体セラミックグリーンシート
を得た。
Example 6 (Photosensitive magnetic ceramic green sheet) 6.2 g of borosilicate glass powder, 56.0 g of nickel zinc ferrite, 6.2 g of acrylic organic binder containing a carboxyl group, 3.1 g of ethanol, trimethylolpropane 3.0 g of triacrylate, 2-methyl-1-
[4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 1.2 g, 2,4-diethylthioxanthone 0.3 g, and stearamide 0.01
g was mixed and formed into a sheet by a doctor blade method, and dried at 100 ° C. to obtain a photosensitive magnetic ceramic green sheet having a sheet thickness of 30 μm.

【0228】比較例4(感光性絶縁体セラミックグリー
ンシート) ステアリン酸アミドを混合しない以外は実施例4と同様
のスラリーを、ドクターブレード法によってシート状に
成形し、さらに100℃で乾燥させて、シート厚み30
μmの感光性絶縁体セラミックグリーンシートを得た。
Comparative Example 4 (Photosensitive Insulator Ceramic Green Sheet) The same slurry as in Example 4 except that stearic acid amide was not mixed was formed into a sheet by a doctor blade method, and further dried at 100 ° C. Sheet thickness 30
A μm photosensitive insulator ceramic green sheet was obtained.

【0229】比較例5(感光性誘電体セラミックグリー
ンシート) ステアリン酸アミドを混合しない以外は実施例5と同様
のスラリーを、ドクターブレード法によってシート状に
成形し、さらに100℃で乾燥させて、シート厚み30
μmの感光性誘電体セラミックグリーンシートを得た。
Comparative Example 5 (Photosensitive Dielectric Ceramic Green Sheet) The same slurry as in Example 5 except that stearic acid amide was not mixed was formed into a sheet by a doctor blade method, and further dried at 100 ° C. Sheet thickness 30
A photosensitive dielectric ceramic green sheet of μm was obtained.

【0230】比較例6(感光性磁性体セラミックグリー
ンシート) ステアリン酸アミドを混合しない以外は実施例6と同様
のスラリーを、ドクターブレード法によってシート状に
成形し、100℃で乾燥させて、シート厚み30μmの
感光性磁性体セラミックグリーンシートを得た。
Comparative Example 6 (Photosensitive Magnetic Ceramic Green Sheet) The same slurry as in Example 6 except that stearic acid amide was not mixed was formed into a sheet by a doctor blade method, and dried at 100 ° C. to obtain a sheet. A 30 μm thick photosensitive magnetic ceramic green sheet was obtained.

【0231】以上、実施例4〜6ならびに比較例4〜6
に係るセラミックグリーンシートに、直径30μmのバ
イアホール用貫通孔のためのパターンが描画されたマス
クを通して、高圧水銀灯の光線を250mJ/cm2
露光量で照射した。引き続いて、炭酸ナトリウム水溶液
による現像を行なうことにより、直径30μmのバイア
ホール用貫通孔を作製した。そして、このバイアホール
用貫通孔に導体材料を充填し、脱脂した後、900℃、
空気中で焼成した。
As described above, Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6
Was irradiated with a light of a high-pressure mercury lamp at an exposure of 250 mJ / cm 2 through a mask on which a pattern for a through hole for a via hole having a diameter of 30 μm was drawn. Subsequently, by performing development with an aqueous solution of sodium carbonate, a through hole for a via hole having a diameter of 30 μm was formed. Then, a conductive material is filled into the via-hole and degreased.
Fired in air.

【0232】得られた焼成後のセラミック基板の抗折強
度および密度を測定した。その測定結果を以下の表8に
示す。
[0232] The bending strength and density of the obtained fired ceramic substrate were measured. The measurement results are shown in Table 8 below.

【0233】[0233]

【表8】 [Table 8]

【0234】表8から、実施例4〜6の各々による絶縁
体セラミックグリーンシート、誘電体セラミックグリー
ンシートおよび磁性体セラミックグリーンシートは、い
ずれも、抗折強度と密度とのバランスに優れ、強度が大
きく、基板特性に優れていることがわかる。また、表8
には示していないが、バイアホール導体の形状性にも優
れていた。
From Table 8, it can be seen that the insulating ceramic green sheets, dielectric ceramic green sheets and magnetic ceramic green sheets according to Examples 4 to 6 are all excellent in the balance between the bending strength and the density and have the strength. It can be seen that they are large and have excellent substrate characteristics. Table 8
Although not shown, the via hole conductor was also excellent in shape.

【0235】これに対して、比較例4〜6による各種セ
ラミックグリーンシートは、アミド構造を持つ化合物で
あるステアリン酸アミドを含んでいないので、抗折強度
が小さいか、あるいは、焼結基板の密度が小さくなって
しまった。さらに、バイアホールの形状が悪かった。こ
れは、セラミックグリーンシート用スラリーがゲル化に
よって分散性が低下し、不均一になったことを意味す
る。
On the other hand, since the various ceramic green sheets according to Comparative Examples 4 to 6 do not contain stearic acid amide, which is a compound having an amide structure, the bending strength is low or the density of the sintered substrate is low. Has become smaller. Further, the shape of the via hole was bad. This means that the dispersibility of the slurry for ceramic green sheets was reduced due to gelation and became non-uniform.

【0236】以上のように、セラミックグリーンシート
用スラリー中にステアリン酸アミドのようなアミド構造
を持つ化合物を含有させることによって、ゲル化が進行
せず、均一なスラリーが得られるため、このようなスラ
リーから作製されたセラミックグリーンシートは、バイ
アホール導体や導体膜の形成に関して優れた加工性を示
し、さらに、焼成後もクラックが発生せず、結果として
力学的に丈夫なセラミック基板を得ることができた。
As described above, by including a compound having an amide structure such as stearic acid amide in the slurry for ceramic green sheets, gelation does not progress and a uniform slurry can be obtained. Ceramic green sheets made from the slurry show excellent workability with respect to the formation of via-hole conductors and conductor films.Furthermore, cracks do not occur even after firing, and as a result, a mechanically strong ceramic substrate can be obtained. did it.

【0237】また、実施例4におけるスラリーに含まれ
るアミド構造を有する化合物として、ステアリン酸アミ
ド以外のものを用いた、実施例7および8の各々に係る
感光性セラミックグリーンシートを作製した。
Further, photosensitive ceramic green sheets according to Examples 7 and 8 were produced using compounds other than stearamide as compounds having an amide structure contained in the slurry in Example 4.

【0238】実施例7 スラリーに、 アミド構造を持つ化合物として、ステアリ
ン酸アミド0.01gの代わりにメタクリル酸/メタク
リル酸メチル/アクリル酸アミドの共重合体(共重合割
合が重量基準で25/70/5の共重合体、重量平均分
子量=5,000)0.1gを添加した以外は、実施例
4と同様にして、セラミックグリーンシートを作製し
た。
Example 7 In the slurry, as a compound having an amide structure, a copolymer of methacrylic acid / methyl methacrylate / acrylic amide (copolymerization ratio was 25/70 by weight) instead of 0.01 g of stearamide was used. A ceramic green sheet was produced in the same manner as in Example 4 except that 0.1 g of a copolymer (weight ratio: 5,000) was added.

【0239】実施例8 スラリーに、 アミド構造を持つ化合物として、ステアリ
ン酸アミド0.01gのかわりにアクリル酸アミド0.
1gを添加した以外は、実施例4と同様にして、セラミ
ックグリーンシートを作製した。
Example 8 In a slurry, as a compound having an amide structure, instead of 0.01 g of stearamide, 0.1 g of acrylic acid amide was used.
A ceramic green sheet was produced in the same manner as in Example 4 except that 1 g was added.

【0240】これら実施例7および8に係る各セラミッ
クグリーンシートに対して、前述した実施例4〜6なら
びに比較例4〜6の場合と同様の方法に従って、露光お
よび現像を行なうことにより、直径30μmのバイアホ
ール用貫通孔を作製し、そして、このバイアホール用貫
通孔に導体材料を充填し、脱脂した後、900℃、空気
中で焼成した。
Each of the ceramic green sheets according to Examples 7 and 8 was exposed and developed in the same manner as in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6 to obtain a diameter of 30 μm. Then, a via material was filled with a conductive material, degreased, and then baked at 900 ° C. in air.

【0241】得られた焼成後のセラミック基板の抗折強
度および密度を測定した。その測定結果を実施例4の測
定結果とともに以下の表9に示す。
The bending strength and density of the fired ceramic substrate were measured. The measurement results are shown in Table 9 below together with the measurement results of Example 4.

【0242】[0242]

【表9】 [Table 9]

【0243】表9から、実施例4によるセラミックグリ
ーンシートは、実施例7および8の各場合と異なり、 ア
ミド構造を持つ化合物として、モノアミド化合物であっ
てかつ飽和脂肪酸アミドであるステアリン酸アミドを含
んでいるので、実施例7および8の各場合よりも、抗折
強度と密度とのバランスに優れ、強度が大きく、基板特
性に優れていることがわかる。また、表9には示さない
が、バイアホール導体の形状性にも優れていた。
From Table 9, it is found that the ceramic green sheet according to Example 4 is different from Examples 7 and 8 in that the compound having an amide structure includes a monoamide compound and a saturated fatty acid amide stearamide. Therefore, it can be seen that, as compared with the cases of Examples 7 and 8, the balance between the bending strength and the density is excellent, the strength is large, and the substrate characteristics are excellent. Although not shown in Table 9, the via hole conductor was also excellent in shape.

【0244】また、以下のような実施例7〜9ならびに
比較例9〜11の各々に係るセラミックグリーンシート
を作製した。
Further, the following ceramic green sheets according to Examples 7 to 9 and Comparative Examples 9 to 11 were produced.

【0245】比較例7 ステアリン酸アミドを添加せず、モノオール化合物とし
てジプロピレングリコールモノメチルエーテル0.5g
を添加した以外は、実施例4と同様にして、セラミック
グリーンシートを作製した。
Comparative Example 7 0.5 g of dipropylene glycol monomethyl ether was used as a monol compound without adding stearic acid amide.
A ceramic green sheet was produced in the same manner as in Example 4 except that was added.

【0246】実施例9 ステアリン酸アミド0.01gを添加した以外は、比較
例7と同様にして、セラミックグリーンシートを作製し
た。
Example 9 A ceramic green sheet was prepared in the same manner as in Comparative Example 7, except that 0.01 g of stearamide was added.

【0247】比較例8 ステアリン酸アミドを添加せず、ハイドロキシアパタイ
ト(平均粒径5μm)0.1gを添加した以外は、実施
例4と同様にして、セラミックグリーンシートを作製し
た。
Comparative Example 8 A ceramic green sheet was produced in the same manner as in Example 4, except that 0.1 g of hydroxyapatite (average particle size: 5 μm) was added without adding stearic acid amide.

【0248】実施例10 ステアリン酸アミド0.01gを添加した以外は、比較
例8と同様にして、セラミックグリーンシートを作製し
た。
Example 10 A ceramic green sheet was produced in the same manner as in Comparative Example 8, except that 0.01 g of stearamide was added.

【0249】比較例9 ステアリン酸アミドを添加せず、チクソ剤(ディスパロ
ン305、楠本化成社製:水添ひまし油系)0.1gを
添加した以外は、実施例4と同様にして、セラミックグ
リーンシートを作製した。
Comparative Example 9 A ceramic green sheet was prepared in the same manner as in Example 4, except that 0.1 g of a thixotropic agent (Disparon 305, manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd .: hydrogenated castor oil) was added without adding stearic acid amide. Was prepared.

【0250】実施例11 ステアリン酸アミド0.01gを添加した以外は、比較
例9と同様にして、セラミックグリーンシートを作製し
た。
Example 11 A ceramic green sheet was produced in the same manner as in Comparative Example 9 except that 0.01 g of stearamide was added.

【0251】以上、実施例9〜11ならびに比較例7〜
9の各セラミックグリーンシートに対して、前述した実
施例4〜6ならびに比較例4〜6の場合と同様の方法に
従って、露光および現像を行なうことにより、直径30
μmのバイアホール用貫通孔を作製し、そして、このバ
イアホール用貫通孔に導体材料を充填し、脱脂した後、
900℃、空気中で焼成した。
As described above, Examples 9 to 11 and Comparative Examples 7 to
9 was exposed and developed in the same manner as in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6 to obtain a diameter of 30 cm.
After forming a through hole for a via hole of μm, and filling the via hole with a conductive material and degreased,
It was fired at 900 ° C. in air.

【0252】得られた焼成後のセラミック基板の抗折強
度および密度を測定した。その測定結果を以下の表10
に示す。
[0252] The bending strength and density of the obtained fired ceramic substrate were measured. The measurement results are shown in Table 10 below.
Shown in

【0253】[0253]

【表10】 [Table 10]

【0254】表10から、実施例9〜11による各セラ
ミックグリーンシートは、比較例7〜9の場合と異な
り、 アミド構造を持つ化合物としてステアリン酸アミド
を含んでいるので、比較例7〜9よりも抗折強度と密度
とのバランスに優れ、強度が大きく、基板特性に優れて
いることがわかる。また、表10には示さないが、実施
例9〜11の場合には、バイアホール導体の形状性にも
優れていた。
From Table 10, each of the ceramic green sheets according to Examples 9 to 11 differs from Comparative Examples 7 to 9 in that it contains stearamide as a compound having an amide structure. It can also be seen that the steel sheet also has an excellent balance between the bending strength and the density, has a large strength, and has excellent substrate characteristics. Further, although not shown in Table 10, in the case of Examples 9 to 11, the shape of the via-hole conductor was also excellent.

【0255】[0255]

【発明の効果】この発明に係るペースト組成物によれ
ば、酸性官能基を有する有機高分子化合物を含む有機バ
インダ、および多価金属またはその化合物を含む無機粉
末を混合してなるペースト組成物中に、アミド構造を持
つ化合物を含有させているので、これを適宜の基体上に
塗布するとき、塗布前のペースト状態、塗布・乾燥後の
塗膜状態のいずれにおいても、ゲル化の発生を十分に抑
制することができ、また、基体との密着力が高く、微細
かつ厚膜の導体膜のような機能材料膜を容易に形成する
ことができる。
According to the paste composition of the present invention, an organic binder containing an organic polymer compound having an acidic functional group and a polyvalent metal or an inorganic powder containing the compound are mixed. In addition, since a compound having an amide structure is contained, when this is applied to an appropriate substrate, the occurrence of gelation is sufficiently suppressed in both the paste state before application and the coating state after application and drying. In addition, it is possible to easily form a functional material film such as a fine and thick conductive film having high adhesion to the substrate.

【0256】特に、この発明に係るペースト組成物にさ
らに感光性有機成分を含有させると、上述したように、
塗布前のペースト状態、塗布・乾燥後の塗膜状態のいず
れにおいてもゲル化の発生を十分に抑制できるばかりで
なく、フォトリソグラフィ技術による現像処理を安定し
て実施することができ、したがって、極めて微細なパタ
ーンをもって、厚膜の機能材料膜を高精度に容易に形成
することができる。
In particular, when the paste composition according to the present invention further contains a photosensitive organic component, as described above,
In both the paste state before coating and the coating state after coating and drying, not only the occurrence of gelation can be sufficiently suppressed, but also development processing by photolithography technology can be stably performed, and therefore, extremely With a fine pattern, a thick functional material film can be easily formed with high precision.

【0257】また、上述したようなペースト組成物を用
いて構成される電子部品によれば、基体上に、この発明
に係るペースト組成物によって所望のパターンを有する
機能材料膜が形成されているので、この機能材料膜の基
体との密着力を高くすることができるとともに、微細か
つ厚膜の各種パターンを機能材料膜に与えることがで
き、機能材料膜が導体膜である場合には、高密度配線
化、高速信号化を達成した回路基板等の電子部品を得る
ことができる。
According to the electronic component constituted by using the paste composition as described above, the functional material film having a desired pattern is formed on the base by the paste composition according to the present invention. In addition to increasing the adhesion of the functional material film to the substrate, various fine and thick patterns can be applied to the functional material film. An electronic component such as a circuit board that achieves wiring and high-speed signal can be obtained.

【0258】この発明に係るセラミックグリーンシート
にあっては、これを得るためのスラリーが、酸性官能基
を備えた有機高分子化合物を含む有機バインダ、および
多価金属を含有したセラミック粉末および/またはガラ
ス粉末を含むとともに、アミド構造を持つ化合物を含ん
でいるので、このスラリーのゲル化が抑制され、そのた
め、セラミックグリーンシートの成形を円滑に進めるこ
とができるとともに、得られたセラミックグリーンシー
トを均一かつ加工性に優れたものとすることができる。
In the ceramic green sheet according to the present invention, the slurry for obtaining the ceramic green sheet includes an organic binder containing an organic polymer compound having an acidic functional group, and a ceramic powder and / or a polyvalent metal-containing powder. Since it contains a glass powder and a compound having an amide structure, the gelation of this slurry is suppressed, so that the molding of the ceramic green sheet can be smoothly performed and the obtained ceramic green sheet can be uniformly formed. And it can be excellent in workability.

【0259】特に、感光性有機成分を含有した感光性セ
ラミックグリーンシートによれば、フォトリソグラフィ
技術によって微細かつ高精度にバイアホール用貫通孔を
形成することができるとともに、導体膜の微細化にも十
分に対応可能なセラミックグリーンシートとすることが
できる。
In particular, according to the photosensitive ceramic green sheet containing a photosensitive organic component, a through hole for a via hole can be formed finely and with high precision by photolithography, and the conductive film can be miniaturized. A ceramic green sheet that can be sufficiently used can be obtained.

【0260】また、上述のようなセラミックグリーンシ
ートを焼成してなるセラミック層を備える電子部品によ
れば、セラミック層を、その強度が高くかつ緻密なもの
とすることができる。
According to the electronic component having the ceramic layer formed by firing the ceramic green sheet as described above, the ceramic layer can have high strength and high density.

【0261】また、この発明に係る多層セラミック基板
の製造方法によれば、均一かつ加工性に優れた、上述の
ようなセラミックグリーンシートを用いるので、バイア
ホール導体や導体膜のような配線導体を高密度かつ微細
に形成できると同時に、力学的に丈夫で信頼性の高い多
層セラミック基板を得ることができる。
Further, according to the method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to the present invention, since the above-described ceramic green sheet which is uniform and excellent in workability is used, wiring conductors such as via-hole conductors and conductor films can be used. A multilayer ceramic substrate that can be formed densely and finely and that is mechanically robust and highly reliable can be obtained.

【0262】上述の多層セラミック基板の製造方法にお
いて、感光性有機成分を含有した感光性セラミックグリ
ーンシートを用いると、フォトリソグラフィ技術により
微細かつ高精度にバイアホール用貫通孔を形成すること
がより容易になり、これによって、配線導体のさらなる
高密度化および微細化に寄与させることができる。
When a photosensitive ceramic green sheet containing a photosensitive organic component is used in the above-described method for manufacturing a multilayer ceramic substrate, it is easier to form via holes for via holes with fine and high precision by photolithography. This can contribute to further increase in the density and miniaturization of the wiring conductor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施形態による製造方法によって
得られた多層セラミック基板1を示す概略断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a multilayer ceramic substrate 1 obtained by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 多層セラミック基板 2〜7 絶縁体層 8,9 誘電体層 10 内部導体膜 11 バイアホール導体 12 外部導体膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Multilayer ceramic substrate 2-7 Insulator layer 8, 9 Dielectric layer 10 Inner conductor film 11 Via hole conductor 12 Outer conductor film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 H C04B 35/00 J Fターム(参考) 4G030 AA07 AA08 AA09 AA10 AA16 AA17 AA20 AA22 AA31 AA32 AA35 AA36 AA40 AA43 AA61 AA63 BA02 GA14 PA22 4J002 BF021 BG011 BH021 CF092 CF132 DA076 DA086 DA096 DA116 DE289 DL006 DM006 EC039 EC069 EE038 EE039 EH039 EH078 EH128 EH159 EJ029 EP017 EQ038 ES019 EU139 EU238 EV069 EV308 EW049 EW148 FD312 GQ00 5E346 AA12 AA15 AA35 AA38 AA43 BB01 CC18 DD02 DD13 DD34 DD45 EE24 EE29 FF18 FF35 GG03 GG04 GG06 GG08 HH11 HH21 5G301 DA02 DA03 DA04 DA05 DA06 DA10 DA11 DA12 DA14 DA22 DA32 DA34 DA42 DA51 DD01──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/46 H05K 3/46 H C04B 35/00 J F term (Reference) 4G030 AA07 AA08 AA09 AA10 AA16 AA17 AA20 AA22 AA31 AA32. AA43 BB01 CC18 DD02 DD13 DD34 DD45 EE24 EE29 FF18 FF35 GG03 GG04 GG06 GG08 HH11 HH21 5G301 DA02 DA03 DA04 DA05 DA06 DA10 DA11 DA12 DA14 DA22 DA32 DA34 DA42 DA51 DD01

Claims (30)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸性官能基を有する有機高分子化合物を
含む有機バインダと、 多価金属またはその化合物を含む無機粉末と、 アミド構造を持つ化合物とを含む、ペースト組成物。
1. A paste composition comprising: an organic binder containing an organic polymer compound having an acidic functional group; an inorganic powder containing a polyvalent metal or a compound thereof; and a compound having an amide structure.
【請求項2】 前記アミド構造を持つ化合物は、モノア
ミド化合物である、請求項1に記載のペースト組成物。
2. The paste composition according to claim 1, wherein the compound having an amide structure is a monoamide compound.
【請求項3】 前記アミド構造を持つ化合物は、脂肪酸
アミドである、請求項1または2に記載のペースト組成
物。
3. The paste composition according to claim 1, wherein the compound having an amide structure is a fatty acid amide.
【請求項4】 前記アミド構造を持つ化合物は、飽和脂
肪酸アミドである、請求項3に記載のペースト組成物。
4. The paste composition according to claim 3, wherein the compound having an amide structure is a saturated fatty acid amide.
【請求項5】 前記アミド構造を持つ化合物は、当該ペ
ースト組成物中において、0.03重量%〜0.5重量
%含有する、請求項1ないし4のいずれかに記載のペー
スト組成物。
5. The paste composition according to claim 1, wherein the compound having an amide structure is contained in the paste composition at 0.03% by weight to 0.5% by weight.
【請求項6】 さらに感光性有機成分を含む、請求項1
ないし5のいずれかに記載のペースト組成物。
6. The method according to claim 1, further comprising a photosensitive organic component.
6. The paste composition according to any one of claims 1 to 5.
【請求項7】 前記酸性官能基を有する有機高分子化合
物は、側鎖にカルボキシル基を有するアクリル系共重合
体である、請求項1ないし6のいずれかに記載のペース
ト組成物。
7. The paste composition according to claim 1, wherein the organic polymer compound having an acidic functional group is an acrylic copolymer having a carboxyl group in a side chain.
【請求項8】 前記無機粉末は、多価金属またはその化
合物を含む、導電性金属粉末または導電性金属粉末とガ
ラス粉末との混合物である、請求項1ないし7のいずれ
かに記載のペースト組成物。
8. The paste composition according to claim 1, wherein the inorganic powder is a conductive metal powder or a mixture of a conductive metal powder and a glass powder containing a polyvalent metal or a compound thereof. object.
【請求項9】 前記導電性金属粉末は、金、銀、銅、白
金、アルミニウム、パラジウム、ニッケル、モリブデン
およびタングステンからなる群より選ばれる少なくとも
1種を含む粉末である、請求項8に記載のペースト組成
物。
9. The conductive metal powder according to claim 8, wherein the conductive metal powder is a powder containing at least one selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, aluminum, palladium, nickel, molybdenum and tungsten. Paste composition.
【請求項10】 前記無機粉末は、多価金属またはその
化合物を含有する、ガラス粉末および/またはセラミッ
ク粉末である、請求項1ないし7のいずれかに記載のペ
ースト組成物。
10. The paste composition according to claim 1, wherein the inorganic powder is a glass powder and / or a ceramic powder containing a polyvalent metal or a compound thereof.
【請求項11】 さらにモノオール化合物を含む、請求
項1ないし10のいずれかに記載のペースト組成物。
11. The paste composition according to claim 1, further comprising a monol compound.
【請求項12】 さらに前記有機高分子化合物のアニオ
ンを吸着する性質を有するアニオン吸着性物質を含む、
請求項1ないし11のいずれかに記載のペースト組成
物。
12. An anion-adsorbing substance having a property of adsorbing anions of the organic polymer compound,
The paste composition according to any one of claims 1 to 11.
【請求項13】 さらにチクソ剤を含む、請求項1ない
し12のいずれかに記載のペースト組成物。
13. The paste composition according to claim 1, further comprising a thixotropic agent.
【請求項14】 基体と、請求項1ないし13のいずれ
かに記載のペースト組成物を、前記基体上に付与し、次
いで焼成することによって得られた、機能材料膜とを備
える、電子部品。
14. An electronic component comprising: a base; and a functional material film obtained by applying the paste composition according to claim 1 on the base and then firing the paste.
【請求項15】 基体と、請求項6に記載のペースト組
成物を、前記基体上に付与し、フォトリソグラフィ技術
を用いてパターニングし、次いで焼成することによって
得られた、機能材料膜とを備える、電子部品。
15. A substrate, and a functional material film obtained by applying the paste composition according to claim 6 on the substrate, patterning the paste composition by using a photolithography technique, and then firing the functional material film. , Electronic components.
【請求項16】 請求項1ないし13のいずれかに記載
のペースト組成物を焼成することによって得られた層を
備える、電子部品。
16. An electronic component comprising a layer obtained by firing the paste composition according to claim 1. Description:
【請求項17】 酸性官能基を有する有機高分子化合物
を含む有機バインダと、 多価金属を含有したセラミック粉末および/またはガラ
ス粉末と、 アミド構造を持つ化合物とを含むスラリーを、シート状
に成形することによって得られた、セラミックグリーン
シート。
17. A slurry containing an organic binder containing an organic polymer compound having an acidic functional group, a ceramic powder and / or a glass powder containing a polyvalent metal, and a compound having an amide structure are formed into a sheet shape. The ceramic green sheet obtained by doing.
【請求項18】 前記アミド構造を持つ化合物は、モノ
アミド化合物である、請求項17に記載のセラミックグ
リーンシート。
18. The ceramic green sheet according to claim 17, wherein the compound having an amide structure is a monoamide compound.
【請求項19】 前記アミド構造を持つ化合物は、脂肪
酸アミドである、請求項17または18に記載のセラミ
ックグリーンシート。
19. The ceramic green sheet according to claim 17, wherein the compound having an amide structure is a fatty acid amide.
【請求項20】 前記アミド構造を持つ化合物は、飽和
脂肪酸アミドである、請求項19に記載のセラミックグ
リーンシート。
20. The ceramic green sheet according to claim 19, wherein the compound having an amide structure is a saturated fatty acid amide.
【請求項21】 前記アミド構造を持つ化合物は、前記
スラリー中において、0.03重量%〜0.5重量%含
有する、請求項17ないし20のいずれかに記載のセラ
ミックグリーンシート。
21. The ceramic green sheet according to claim 17, wherein the compound having an amide structure is contained in the slurry in an amount of 0.03% by weight to 0.5% by weight.
【請求項22】 前記酸性官能基を有する有機高分子化
合物は、側鎖にカルボキシル基を有するアクリル系共重
合体である、請求項17ないし21のいずれかに記載の
セラミックグリーンシート。
22. The ceramic green sheet according to claim 17, wherein the organic polymer compound having an acidic functional group is an acrylic copolymer having a carboxyl group in a side chain.
【請求項23】 前記セラミック粉末および/またはガ
ラス粉末は、ホウ素、バリウム、マグネシウム、アルミ
ニウム、カルシウム、鉛、ビスマス、銅、亜鉛、ジルコ
ニウム、ニオブ、クロム、ストロンチウムおよびチタン
からなる群より選ばれる少なくとも1種の多価金属およ
び/またはその酸化物を含む、請求項17ないし22の
いずれかに記載のセラミックグリーンシート。
23. The ceramic powder and / or glass powder is at least one selected from the group consisting of boron, barium, magnesium, aluminum, calcium, lead, bismuth, copper, zinc, zirconium, niobium, chromium, strontium and titanium. The ceramic green sheet according to any one of claims 17 to 22, comprising a polyvalent metal and / or an oxide thereof.
【請求項24】 前記スラリーは、さらに感光性有機成
分を含む、請求項17ないし23のいずれかに記載のセ
ラミックグリーンシート。
24. The ceramic green sheet according to claim 17, wherein the slurry further contains a photosensitive organic component.
【請求項25】 前記スラリーは、さらにモノオール化
合物を含む、請求項17ないし24のいずれかに記載の
セラミックグリーンシート。
25. The ceramic green sheet according to claim 17, wherein the slurry further contains a monol compound.
【請求項26】 前記スラリーは、さらに前記有機高分
子化合物のアニオンを吸着する性質を有するアニオン吸
着性物質を含む、請求項17ないし25のいずれかに記
載のセラミックグリーンシート。
26. The ceramic green sheet according to claim 17, wherein the slurry further contains an anion-adsorbing substance having a property of adsorbing anions of the organic polymer compound.
【請求項27】 前記スラリーは、さらにチクソ剤を含
む、請求項17ないし26のいずれかに記載のセラミッ
クグリーンシート。
27. The ceramic green sheet according to claim 17, wherein the slurry further contains a thixotropic agent.
【請求項28】 請求項17ないし27のいずれかに記
載のセラミックグリーンシートを焼成してなるセラミッ
ク層を備える、電子部品。
28. An electronic component comprising a ceramic layer formed by firing the ceramic green sheet according to claim 17.
【請求項29】 請求項17ないし27のいずれかに記
載の複数のセラミックグリーンシートを用意する工程
と、 前記セラミックグリーンシートの特定のものに貫通孔を
設ける工程と、 前記貫通孔内に導体ペーストを付与することによってバ
イアホール導体を形成する工程と、 前記バイアホール導体に接続されるように前記セラミッ
クグリーンシート上に導体ペーストを付与することによ
って導体膜を形成する工程と、 前記バイアホール導体が形成された前記セラミックグリ
ーンシートを含む複数の前記セラミックグリーンシート
を積層することによって生の積層体を作製する工程と、 前記生の積層体を焼成する工程とを備える、多層セラミ
ック基板の製造方法。
29. A step of preparing a plurality of ceramic green sheets according to claim 17, a step of providing a through hole in a specific one of the ceramic green sheets, and a conductive paste in the through hole. Forming a conductive film by applying a conductive paste on the ceramic green sheet so as to be connected to the via-hole conductor; and A method for manufacturing a multilayer ceramic substrate, comprising: a step of forming a green laminate by laminating a plurality of ceramic green sheets including the formed ceramic green sheet; and a step of firing the green laminate.
【請求項30】 請求項24に記載の複数のセラミック
グリーンシートを用意する工程と、 前記セラミックグリーンシートの特定のものにフォトリ
ソグラフィ技術を用いて貫通孔を設ける工程と、 前記貫通孔内に導体ペーストを付与することによってバ
イアホール導体を形成する工程と、 前記バイアホール導体に接続されるように前記セラミッ
クグリーンシート上に導体ペーストを付与することによ
って導体膜を形成する工程と、 前記バイアホール導体が形成された前記セラミックグリ
ーンシートを含む複数の前記セラミックグリーンシート
を積層することによって生の積層体を作製する工程と、 前記生の積層体を焼成する工程とを備える、多層セラミ
ック基板の製造方法。
30. A step of preparing a plurality of ceramic green sheets according to claim 24, a step of providing a through hole in a specific one of the ceramic green sheets by using a photolithography technique, and a conductor in the through hole. Forming a via-hole conductor by applying a paste; forming a conductive film by applying a conductive paste on the ceramic green sheet so as to be connected to the via-hole conductor; Forming a green laminate by laminating a plurality of the ceramic green sheets including the ceramic green sheets on which the ceramic green sheets are formed; and firing the green laminate, a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate. .
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