JP2001154198A - Rubbing device, method of rubbing substrate for liquid crystal device, and liquid crystal device manufactured by the same - Google Patents

Rubbing device, method of rubbing substrate for liquid crystal device, and liquid crystal device manufactured by the same

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JP2001154198A
JP2001154198A JP33815999A JP33815999A JP2001154198A JP 2001154198 A JP2001154198 A JP 2001154198A JP 33815999 A JP33815999 A JP 33815999A JP 33815999 A JP33815999 A JP 33815999A JP 2001154198 A JP2001154198 A JP 2001154198A
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substrate
rubbing
liquid crystal
crystal device
rotational torque
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健一 山田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of rubbing liquid crystal device always ensuring stable display characteristics and a rubbing device used for it. SOLUTION: The rubbing device 48 is provided with a stage 40 on which a substrate 10 with an alignment layer formed on its one surface is mounted, a rubbing roller 41 brought into contact with the substrate 10 to rubbing-treat the alignment layer, a torque detection circuit 42 to detect the rotational torque of the rubbing roller at an end part of the substrate and a motor moving up and down to move the stage 40 so as to maintain the rotational torque within a specified range. As the rotational torque is thereby set up within the specified range for the individual substrates, the substrates can be rubbing-treated always with the constant rotational torque value even when, for example, a plurality of substrates with variation in thickness are treated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置の技術分野
に属し、特に配向膜のラビング処理の技術分野に属す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of a liquid crystal device, and particularly to the technical field of rubbing of an alignment film.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶装置は、対向基板とアクティブマト
リクス基板との間に液晶層を挟持して構成され、液晶層
に電圧を印加し液晶分子の光学特性を変化させることに
より表示を行う。対向基板及びアクティブマトリクス基
板の液晶層を接する面上には配向膜が配置され、配向膜
により液晶分子の配列が決定される。配向膜は、ポリイ
ミドといった有機膜の表面を、布などで所定の方向に擦
するラビング方法を施すことにより形成される。
2. Description of the Related Art A liquid crystal device is constituted by sandwiching a liquid crystal layer between a counter substrate and an active matrix substrate, and performs display by applying a voltage to the liquid crystal layer to change optical characteristics of liquid crystal molecules. An alignment film is disposed on a surface of the opposing substrate and the active matrix substrate that are in contact with the liquid crystal layer, and the alignment film determines the arrangement of the liquid crystal molecules. The alignment film is formed by performing a rubbing method of rubbing the surface of an organic film such as polyimide with a cloth or the like in a predetermined direction.

【0003】具体的なラビング方法は次の通りである。
まず、ラビング装置の載置台にポリイミド膜を有する基
板をポリイミド膜を上にして配置する。次に、ローラー
のまわりにラビング布が取りつけられたラビングローラ
ーをポリイミド膜と接するように配置し、ラビングロー
ラーを所定の方向に移動させて、ポリイミド膜を擦るこ
とにより、ラビング処理された配向膜を形成する。そし
て、このようなラビング装置においては、ある一枚の基
板を基準にしてラビングローラーと基板の位置関係を所
定の値に設定し、常にこの値を固定させた状態で他の基
板のラビング処理を行っていた。
A specific rubbing method is as follows.
First, a substrate having a polyimide film is placed on a mounting table of a rubbing apparatus with the polyimide film facing upward. Next, a rubbing roller with a rubbing cloth attached around the roller is arranged so as to be in contact with the polyimide film. Form. In such a rubbing apparatus, the positional relationship between the rubbing roller and the substrate is set to a predetermined value on the basis of a certain substrate, and the rubbing process of another substrate is always performed with this value fixed. I was going.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板間
で厚みが異なるため、ラビングローラーと基板の位置関
係を所定の値に設定してラビング処理を行うと、基板間
でラビング強度のばらつきが発生していた。
However, since the thickness differs between the substrates, if the rubbing treatment is performed with the positional relationship between the rubbing roller and the substrate set to a predetermined value, the rubbing strength varies between the substrates. I was

【0005】例えば、厚さが薄い基板と厚い基板とを比
較すると、薄い基板では、厚い基板と比較してラビング
布と配向膜との接触長の値が小さくなるため、ラビング
強度が小さくなる。このため、液晶分子の配向が弱くな
り、液晶分子のチルトむら、及びリバースツイストドメ
インが発生する原因となる。一方、厚い基板では、ラビ
ング強度が大きくなるため、液晶の配向が強くなりすぎ
て、配向膜の削れによる微小な異物の発生、及び液晶分
子のチルト低下要因になる。液晶駆動デバイスにTFT
を用い画素間、あるいはライン間で極性反転駆動した場
合、横電界の発生によりディスクリネーションが発生す
る。このようなチルトむら、リバースツイスト、ディス
クリネーションは、液晶装置の表示品位を著しく劣化さ
せてしまう。特に、このような液晶装置を投射型表示装
置のライトバルブとして用いた場合、投射型表示装置で
は拡大投影されるため、液晶の配向むらは致命的な表示
不良となってしまう。
For example, when a thin substrate is compared with a thick substrate, the value of the contact length between the rubbing cloth and the alignment film is smaller in the thin substrate than in the thick substrate, and the rubbing strength is smaller. For this reason, the alignment of the liquid crystal molecules is weakened, which causes tilt unevenness of the liquid crystal molecules and the generation of reverse twist domains. On the other hand, in the case of a thick substrate, the rubbing strength is high, so that the alignment of the liquid crystal becomes too strong, which causes the generation of minute foreign matters due to the shaving of the alignment film and the reduction of the tilt of the liquid crystal molecules. TFT for liquid crystal drive device
When the polarity inversion driving is performed between pixels or between lines using the above, disclination occurs due to generation of a horizontal electric field. Such uneven tilt, reverse twist, and disclination significantly degrade the display quality of the liquid crystal device. In particular, when such a liquid crystal device is used as a light valve of a projection type display device, since the projection type display device enlarges and projects, alignment unevenness of the liquid crystal causes a fatal display defect.

【0006】このように、従来のラビング装置によるラ
ビング方法では、常に一定した表示特性を有する液晶装
置を得ることができず、生産効率が悪いという問題があ
った。
As described above, the conventional rubbing method using a rubbing device has a problem that a liquid crystal device having constantly constant display characteristics cannot be obtained, resulting in poor production efficiency.

【0007】本発明は、このような課題を解決するため
になされたものであり、常に一定の表示特性を有する液
晶装置を得ることができるラビング装置及びラビング方
法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in order to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a rubbing device and a rubbing method capable of obtaining a liquid crystal device having always constant display characteristics.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るため、本発明は以下のような構成を採用している。
In order to solve such a problem, the present invention employs the following configuration.

【0009】本発明のラビング装置は、一方の面に配向
膜が形成された基板が、配向膜を上にして載置される載
置台と、前記基板に接し、前記基板の一端部から他端部
に向かって移動することにより前記配向膜をラビング処
理するラビングローラーと、前記基板の一端部における
前記ラビングローラーの回転トルクを検出するトルク検
出機構と、前記検出結果に基づき、前記回転トルクが所
定の範囲となるように、前記ラビングローラーまたは前
記載置台を移動させる移動機構とを具備する。
A rubbing apparatus according to the present invention is characterized in that a substrate having an alignment film formed on one surface thereof is mounted on a mounting table with the alignment film facing upward, and the substrate is in contact with the substrate and one end to the other end of the substrate. A rubbing roller for rubbing the alignment film by moving toward the portion, a torque detection mechanism for detecting a rotation torque of the rubbing roller at one end of the substrate, and the rotation torque being predetermined based on the detection result. And a moving mechanism for moving the rubbing roller or the mounting table described above.

【0010】このような構成によれば、基板毎にラビン
グローラーと載置台の位置調整を実施し、回転トルクを
所定の範囲に設定する、すなわちラビング圧力を所定の
範囲にすることが可能となる。例えば厚さばらつきのあ
る複数の基板を処理しても、常に一定のラビング圧力に
てそれぞれの基板にラビング処理を行うことがでる。そ
の結果、基板間のラビング強度ばらつきがなく、常に安
定した製品特性の液晶装置を提供できるという効果を有
する。更に、トルク値の検出を、基板の一端部で行うた
め、液晶装置用基板のラビング処理が必要とされない表
示領域外でこの検出が行われることになる。そして、こ
の検出結果をもとに基板とラビングローラとの距離が制
御され、更にトルク値が検出されて、所定の範囲内のト
ルク値となった時点で、ラビングローラが移動してラビ
ング処理が施される。したがって、ラビングローラが基
板の一端部に接し、他端部に向かって配向膜上を移動す
るという動作の流れの中で、トルク値の検出工程、ラビ
ングローラーと基板の距離制御工程、及びラビング処理
工程を行うことができるので、効率良くかつ適正なラビ
ング強度にてラビング処理を施すことができる。
According to such a configuration, it is possible to adjust the positions of the rubbing roller and the mounting table for each substrate and set the rotational torque within a predetermined range, that is, to set the rubbing pressure within a predetermined range. . For example, even if a plurality of substrates having thickness variations are processed, the rubbing process can be always performed on each substrate at a constant rubbing pressure. As a result, there is an effect that a rubbing strength does not vary between substrates and a liquid crystal device having stable product characteristics can be provided at all times. Further, since the detection of the torque value is performed at one end of the substrate, the detection is performed outside the display area where the rubbing treatment of the liquid crystal device substrate is not required. The distance between the substrate and the rubbing roller is controlled based on this detection result, and the torque value is further detected. When the torque value falls within a predetermined range, the rubbing roller moves and the rubbing process is performed. Will be applied. Therefore, in the flow of the operation in which the rubbing roller contacts one end of the substrate and moves on the alignment film toward the other end, the torque value detection step, the rubbing roller-substrate distance control step, and the rubbing process are performed. Since the process can be performed, a rubbing treatment can be performed efficiently and with an appropriate rubbing strength.

【0011】本発明の液晶装置用基板のラビング方法
は、(a)配向膜を有する液晶装置用基板の一端部に接
して配置されるラビングローラの回転トルク値を検出す
る工程と、(b)前記回転トルク値により、前記基板と
前記ラビングローラーとの距離を制御する工程と、
(c)前記回転トルク値が所定の範囲となるまで、前記
(a)工程、(b)工程を繰り返す工程と、(d)前記
回転トルク値が所定の範囲になったときの前記距離を保
持して、前記基板の一端部から他端部へ向かって、ラビ
ングローラーが相対的に移動する工程と、を有すること
を特徴とする。
The method of rubbing a substrate for a liquid crystal device according to the present invention comprises the steps of: (a) detecting a rotational torque value of a rubbing roller disposed in contact with one end of the liquid crystal device substrate having an alignment film; A step of controlling a distance between the substrate and the rubbing roller by the rotation torque value,
(C) repeating the steps (a) and (b) until the rotation torque value falls within a predetermined range; and (d) holding the distance when the rotation torque value falls within a predetermined range. And moving the rubbing roller relatively from one end to the other end of the substrate.

【0012】本発明のこのような構成によれば、基板毎
に回転トルクを検出し、基板とラビングローラーとの距
離を制御することにより、ラビング圧力を所定の範囲に
設定することができる。例えば厚さばらつきのある複数
の基板を処理しても、常に一定の回転トルク値、すなわ
ち一定のラビング圧力にてそれぞれの基板にラビング処
理を行うことが可能となる。その結果、基板間のラビン
グ強度ばらつきがなく、常に製品特性が安定した液晶装
置を得ることができるという効果を有する。
According to such a configuration of the present invention, the rubbing pressure can be set within a predetermined range by detecting the rotational torque for each substrate and controlling the distance between the substrate and the rubbing roller. For example, even if a plurality of substrates having thickness variations are processed, it is possible to always perform a rubbing process on each substrate with a constant rotational torque value, that is, a constant rubbing pressure. As a result, it is possible to obtain a liquid crystal device in which rubbing strength does not vary between substrates and product characteristics are always stable.

【0013】更に、前記(d)工程において、前記回転
トルク値が所定の範囲になったときの前記距離が記録さ
れ、前記基板に対する前記ラビングローラーの移動方向
が設定された後、前記距離を保持して、前記ラビングロ
ーラーが相対的に移動することを特徴とする。本構成に
よれば、あらゆるラビング方向、及びバイアスラビング
への対応が可能となる。
Further, in the step (d), the distance when the rotational torque value falls within a predetermined range is recorded, and after the moving direction of the rubbing roller with respect to the substrate is set, the distance is maintained. Then, the rubbing roller relatively moves. According to this configuration, it is possible to cope with all rubbing directions and bias rubbing.

【0014】また、前記液晶装置用基板は、アクティブ
領域と、前記回転トルクを検出するための検出領域とを
有することを特徴とする。本構成によれば、ラビングト
ルク測定用の検出領域を形成したことにより、検出領域
でラビングローラーと基板の位置関係が調整される為、
表示部を含むアクティブ領域には一定強度のラビング処
理が可能となる効果を有する。
Further, the liquid crystal device substrate has an active area and a detection area for detecting the rotational torque. According to this configuration, since the detection region for rubbing torque measurement is formed, the positional relationship between the rubbing roller and the substrate is adjusted in the detection region,
There is an effect that rubbing processing with a constant intensity can be performed on the active area including the display unit.

【0015】また、前記アクティブ領域は、表示画素領
域と該表示画素領域の表示を制御する周辺駆動回路領域
とを有することを特徴とする。このような構成によれ
ば、駆動回路一体型液晶装置にも適用できる。
Further, the active area has a display pixel area and a peripheral drive circuit area for controlling display of the display pixel area. According to such a configuration, the present invention can be applied to a liquid crystal device integrated with a driving circuit.

【0016】また、前記検出領域は、前記液晶装置用基
板端部に形成されてなることを特徴とする。このような
構成によれば、検出領域は基板端部に位置するため、こ
のような領域で回転トルク値を検出することにより、ラ
ビングローラーが他端部に向かって配向膜上を移動する
という動作の流れの中で、回転トルク値の検出工程、ラ
ビングローラーと基板の位置調整工程、及びラビング処
理工程を行うことができるので、効率良くかつ適正なラ
ビング強度にてラビング処理を施すことができる。
Further, the detection area is formed at an end of the liquid crystal device substrate. According to such a configuration, since the detection area is located at the end of the substrate, the operation of detecting the rotational torque value in such an area causes the rubbing roller to move on the alignment film toward the other end. In the flow, the step of detecting the rotational torque value, the step of adjusting the position of the rubbing roller and the substrate, and the step of rubbing can be performed, so that the rubbing can be performed efficiently and with appropriate rubbing strength.

【0017】また、前記(a)〜(d)工程は、異なる
液晶装置用基板毎に行われることを特徴とする。このよ
うな構成によれば、厚みの異なる基板を処理する場合で
あっても、基板間のラビング強度ばらつきがなく、常に
製品特性が安定した液晶装置を得ることができるという
効果を有する。
Further, the steps (a) to (d) are carried out for different liquid crystal device substrates. According to such a configuration, even when substrates having different thicknesses are processed, there is an effect that a rubbing strength does not vary between the substrates and a liquid crystal device having stable product characteristics can be always obtained.

【0018】本発明の液晶装置用基板は、上述の液晶装
置用基板のラビング方法により製造されることを特徴と
する。このような構成とすることにより、異なる基板間
におけるラビング強度のばらつきがないので、常に製品
特性が安定した液晶装置用基盤を得ることができる。
The substrate for a liquid crystal device according to the present invention is characterized by being manufactured by the rubbing method for a substrate for a liquid crystal device described above. With such a configuration, there is no variation in the rubbing strength between different substrates, so that it is possible to obtain a liquid crystal device substrate with stable product characteristics.

【0019】本発明の液晶装置は、上述の液晶装置用基
板を用いることを特徴とする。このような液晶装置は、
良好で安定した表示品質を得ることができる。
A liquid crystal device according to the present invention is characterized by using the above-described substrate for a liquid crystal device. Such a liquid crystal device is
Good and stable display quality can be obtained.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。また本発明の一実施形態として、
液晶装置用基板にTFTアレイ基板を使用した場合につ
いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. As one embodiment of the present invention,
A case where a TFT array substrate is used as a substrate for a liquid crystal device will be described.

【0021】まず、本発明のラビング装置を用いてラビ
ング処理された基板が組み込まれた液晶装置の構造につ
いて図4〜図6を用いて簡単に説明する。図6はラビン
グ処理時における本発明の液晶装置用基板の斜視図であ
る。アクテイブ領域100には複数のTFTアレイ、及
び周辺駆動ドライバが形成されている。また、基板端部
にはラビングローラーの回転トルクを検出する為の検出
領域101が形成されている。ラビング処理後のTFT
アレイ基板は、液晶装置組立時などに必要に応じてラビ
ングロ−ラーの回転トルク検出部101の一部が切断さ
れる場合がある。図4は、液晶装置の画像形成領域を構
成するマトリクス状に形成された複数の画素における各
種素子、配線等の等価回路である。図4は、データ線、
走査線、画素電極、遮光膜等が形成されたTFTアレイ
基板の相隣接する複数の画素群の平面図、図5は液晶装
置の表示領域中の縦断面図である。尚、各図において
は、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさと
するため、各層や各部材毎に縮尺を適宜設定している。
First, the structure of a liquid crystal device in which a substrate rubbed using the rubbing device of the present invention is incorporated will be briefly described with reference to FIGS. FIG. 6 is a perspective view of the liquid crystal device substrate of the present invention during a rubbing process. In the active area 100, a plurality of TFT arrays and a peripheral driver are formed. Further, a detection area 101 for detecting the rotation torque of the rubbing roller is formed at the end of the substrate. TFT after rubbing treatment
When the liquid crystal device is assembled, a part of the rotation torque detecting unit 101 of the rubbing roller may be cut off from the array substrate as needed. FIG. 4 is an equivalent circuit of various elements, wiring, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix forming an image forming area of the liquid crystal device. FIG. 4 shows a data line,
FIG. 5 is a plan view of a plurality of pixel groups adjacent to each other on a TFT array substrate on which a scanning line, a pixel electrode, a light-shielding film, and the like are formed. FIG. In each drawing, the scale is appropriately set for each layer and each member so that each layer and each member have a size that can be recognized in the drawings.

【0022】図5に示すように、液晶装置31は、液晶
装置用基板としてのTFTアレイ基板10と、これに対
向配置される対向基板20とを備え、両基板間に液晶層
50が挟持されて構成されている。TFTアレイ基板1
0及び対向基板20は、それぞれ液晶層50と接する側
に配向膜16及び22を有している。配向膜16及び2
2は、それぞれ互いに交差する方向にラビング処理が施
されており、液晶層50は、画素電極9aからの電界が
印加されていない状態で配向膜16及び22により所定
の配向状態を採る。
As shown in FIG. 5, the liquid crystal device 31 includes a TFT array substrate 10 as a substrate for the liquid crystal device, and an opposing substrate 20 disposed opposite thereto, and a liquid crystal layer 50 is sandwiched between both substrates. It is configured. TFT array substrate 1
0 and the opposing substrate 20 have alignment films 16 and 22 on the side in contact with the liquid crystal layer 50, respectively. Alignment films 16 and 2
2 is subjected to rubbing treatment in directions intersecting each other, and the liquid crystal layer 50 adopts a predetermined alignment state by the alignment films 16 and 22 in a state where no electric field is applied from the pixel electrode 9a.

【0023】図6に示すように、本発明の液晶装置用基
板はアクテイブ領域100、基板端部にはラビングロー
ラーの回転トルクを検出する為の検出領域101が形成
されている。
As shown in FIG. 6, an active area 100 is formed on the substrate for a liquid crystal device of the present invention, and a detection area 101 for detecting a rotational torque of a rubbing roller is formed at an end of the substrate.

【0024】図4に示すように、液晶装置用基板10の
アクティブ領域100は、表示画素領域とこの表示画素
領域の表示を制御する周辺駆動回路領域とからなる。表
示画素領域には、互いに交差する複数の走査線3と複数
のデータ線6とが配置され、各交差部毎に画素電極9a
が配置され、この画素電極9aを制御するための薄膜ト
ランジスタ(以下、TFT)30が配置され、更に走査
線3とほぼ平行に容量線3bが配置されている。そし
て、周辺駆動回路領域には、走査線3に走査信号G1、
G2、…Gnを供給する走査線駆動回路104、データ
線6に画像信号S1、S2…、Snを供給するデータ線
駆動回路105が配置されている。図5に示すように、
TFTアレイ基板10では、石英基板60上にTFT3
0に対応して配置される遮光膜11aと、遮光膜11a
上に配置される下地絶縁膜12と、下地絶縁膜12上に
配置されるTFT30の一部を構成する半導体層1と、
半導体層1を覆うゲート絶縁膜2と、ゲート絶縁膜2上
に配置される走査線3の一部をなすゲート電極3a及び
容量線3bと、ゲート電極3a及び容量線3bとを覆う
絶縁膜4とが形成されている。更に、絶縁膜4上にはデ
ータ線6が配置され、データ線6は絶縁膜4に形成され
るコンタクトホール5を介して半導体層1のソース領域
1dと電気的に接続されている。更に、データ線6上に
は層間絶縁膜7が配置され、層間絶縁膜7上に配置され
る画素電極9aは絶縁膜4及び層間絶縁膜7に形成され
るコンタクトホール8により半導体層1のドレイン領域
1eと電気的に接続されている。そして、画素電極9a
上には、基板前面にポリイミド膜からなる配向膜16が
配置されている。この配向膜16は、走査線3に沿った
方向でラビング処理が施されており、詳細な処理方法に
ついては後述する。半導体層1は、チャネル領域1aを
挟むように両側に低濃度不純物領域1b、1c、更にこ
れらを挟んで高濃度不純物領域1d、1eが配置された
LDD構造となっている。また、半導体層1の一部は容
量用電極1fとして機能し、容量線3bとゲート絶縁膜
2を介して蓄積容量70を形成している。一方、検出領
域110には、表示用スイッチング素子領域に形成され
る下地絶縁膜12、絶縁膜4、層間絶縁膜7、配向膜1
6が延在して配置され、各膜はベタ膜状に形成されてい
る。
As shown in FIG. 4, the active area 100 of the liquid crystal device substrate 10 includes a display pixel area and a peripheral drive circuit area for controlling display of the display pixel area. In the display pixel area, a plurality of scanning lines 3 and a plurality of data lines 6 intersecting with each other are arranged, and a pixel electrode 9a is provided for each intersection.
Are arranged, a thin film transistor (hereinafter, referred to as TFT) 30 for controlling the pixel electrode 9 a is arranged, and a capacitance line 3 b is arranged almost in parallel with the scanning line 3. Then, in the peripheral driving circuit area, the scanning signal G1
A scanning line driving circuit 104 for supplying G2,... Gn, and a data line driving circuit 105 for supplying image signals S1, S2,. As shown in FIG.
In the TFT array substrate 10, the TFT 3 is placed on the quartz substrate 60.
0, and a light-shielding film 11a
A base insulating film 12 disposed thereon, a semiconductor layer 1 constituting a part of a TFT 30 disposed on the base insulating film 12,
A gate insulating film 2 covering the semiconductor layer 1; a gate electrode 3a and a capacitor line 3b forming a part of the scanning line 3 disposed on the gate insulating film 2; and an insulating film 4 covering the gate electrode 3a and the capacitor line 3b Are formed. Further, a data line 6 is arranged on the insulating film 4, and the data line 6 is electrically connected to a source region 1 d of the semiconductor layer 1 via a contact hole 5 formed in the insulating film 4. Further, an interlayer insulating film 7 is disposed on the data line 6, and a pixel electrode 9 a disposed on the interlayer insulating film 7 is connected to a drain of the semiconductor layer 1 by a contact hole 8 formed in the insulating film 4 and the interlayer insulating film 7. It is electrically connected to the region 1e. Then, the pixel electrode 9a
On top, an alignment film 16 made of a polyimide film is arranged on the front surface of the substrate. The alignment film 16 has been subjected to a rubbing process in a direction along the scanning line 3, and a detailed processing method will be described later. The semiconductor layer 1 has an LDD structure in which low-concentration impurity regions 1b and 1c are arranged on both sides of the channel region 1a, and high-concentration impurity regions 1d and 1e are arranged on both sides of the channel region 1a. A part of the semiconductor layer 1 functions as a capacitor electrode 1f, and forms a storage capacitor 70 via the capacitor line 3b and the gate insulating film 2. On the other hand, in the detection region 110, the base insulating film 12, the insulating film 4, the interlayer insulating film 7, the alignment film 1 formed in the display switching element region.
6 are arranged to extend, and each film is formed in a solid film shape.

【0025】一方、対向基板20は、例えばガラス基板
80上に、格子状に設けられた遮光層23と、これを覆
うように配置された対向電極21と、更に対向電極21
上に配置されたポリイミド膜からなる配向膜22とから
構成される。配向膜22は、TFTアレイ基板側に配置
される配向膜16に施されるラビング処理方向とほぼ直
交した方向にラビング処理が施されている。
On the other hand, the opposing substrate 20 includes, for example, a light-shielding layer 23 provided in a grid pattern on a glass substrate 80, an opposing electrode 21 disposed so as to cover the
And an alignment film 22 made of a polyimide film disposed thereon. The alignment film 22 is rubbed in a direction substantially orthogonal to the rubbing direction of the alignment film 16 disposed on the TFT array substrate side.

【0026】TFTアレイ基板10及び対向基板20そ
れぞれに形成される配向膜16、22は、次に示すラビ
ング装置を用いてラビング処理が施され、以下、TFT
アレイ基板10をラビング処理する場合を例に挙げて説
明する。
The alignment films 16 and 22 formed on the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, respectively, are subjected to a rubbing process using a rubbing device described below.
The case where the rubbing process is performed on the array substrate 10 will be described as an example.

【0027】本発明のラビング装置46は、図1に示す
ように、TFTアレイ基板10を載置し、上下方向(図
中、Aで示す矢印方向)及び基板平面と平行な直線方向
(図中、Bで示す矢印方向)に移動可能な移動機構を有
する載置台としてのステージ40と、TFTアレイ基板
10と接するように配置されたラビング布がローラに巻
きついたラビングローラー41と、ラビングローラーを
回転させる回転用モーター(図示せず)とを具備する。
更に、ラビング装置48には、回転用モーターのトルク
を検出するトルク検出機構としてのトルク検出回路42
と、ステージの位置を検出する位置検出回路43と、ト
ルク検出回路42及び位置検出回路43により検出され
たデータが入力され、これらのデータを処理するコンピ
ュータ44と、コンピュータ44により処理されたデー
タに基づきステージの動作を制御す制御回路45と、制
御回路45により指示されてステージを上下方向に移動
させる移動機構としての上下移動モーター46と、制御
回路45により指示されたステージを基板平面と平行な
直線方向に移動させる移動機構としての基板面方向移動
モーター47とを具備する。トルク検出回路42では、
基板10のラビング処理開始側の一端部におけるトルク
を検出し、このトルクを検出する箇所は、図6に示した
アクティブ領域100と別領域に形成された検出領域1
01である。尚、本実施形態においては、ラビングロー
ラー41の位置は固定し、ステージ40を移動すること
によりラビング処理を行い、更に基板10とラビングロ
ーラー41との距離の制御はステージ40の上下移動に
より行うが、このような形態に限定されない。例えば、
ステージ40を固定し、ラビングローラ41自体を上下
方向、基板面と平行な方向に移動させても良く、ステー
ジ40及びラビングローラ41の両方を移動可能として
も良い。
In the rubbing device 46 of the present invention, as shown in FIG. 1, the TFT array substrate 10 is placed, and the rubbing device 46 is placed in the vertical direction (the direction indicated by the arrow A in the drawing) and the linear direction parallel to the substrate plane (the drawing). , A rubbing roller 41 in which a rubbing cloth arranged so as to be in contact with the TFT array substrate 10 is wound around the roller, and a rubbing roller 41. And a rotation motor (not shown) for rotating.
Further, the rubbing device 48 has a torque detection circuit 42 as a torque detection mechanism for detecting the torque of the rotation motor.
, A position detection circuit 43 for detecting the position of the stage, data detected by the torque detection circuit 42 and the position detection circuit 43, a computer 44 for processing these data, and a data processed by the computer 44. A control circuit 45 for controlling the operation of the stage, a vertical movement motor 46 as a moving mechanism for moving the stage in the vertical direction instructed by the control circuit 45, and a stage instructed by the control circuit 45 to be parallel to the substrate plane. A substrate surface direction moving motor 47 is provided as a moving mechanism for moving in a linear direction. In the torque detection circuit 42,
The torque at one end of the substrate 10 on the rubbing process start side is detected, and the location where the torque is detected is the detection area 1 formed in a different area from the active area 100 shown in FIG.
01. In the present embodiment, the position of the rubbing roller 41 is fixed, the rubbing process is performed by moving the stage 40, and the distance between the substrate 10 and the rubbing roller 41 is controlled by moving the stage 40 up and down. However, the present invention is not limited to such a form. For example,
The stage 40 may be fixed, and the rubbing roller 41 itself may be moved in the vertical direction, in a direction parallel to the substrate surface, or both the stage 40 and the rubbing roller 41 may be movable.

【0028】次に、図1及び図2を用いて、ラビング装
置の動作について説明する。
Next, the operation of the rubbing device will be described with reference to FIGS.

【0029】まず、配向膜16となるポリイミド膜が基
板全面に形成された図6に示すTFTアレイ基板10を
用意する。工程フロー図2について説明する。図2の
(1)工程に示すように、このTFTアレイ基板10を
配向膜16を上面にして、図1に示すラビング装置48
のステージ40上に、TFTアレイ基板10が搬送さ
れ、載置される。この際、ステージ40とラビングロー
ラー41とは十分に離間されている。
First, a TFT array substrate 10 shown in FIG. 6 in which a polyimide film serving as an alignment film 16 is formed on the entire surface of the substrate is prepared. The process flow diagram 2 will be described. As shown in the step (1) of FIG. 2, the rubbing device 48 shown in FIG.
The TFT array substrate 10 is transported and placed on the stage 40. At this time, the stage 40 and the rubbing roller 41 are sufficiently separated.

【0030】次に(2)工程に示すように、基板10と
ラビングローラー41とが接する程度にステージ40を
所定位置まで上昇させる。この際、ラビングローラー4
1は基板10の検出領域101に位置し、この一端部側
がラビング処理の開始側となる。
Next, as shown in step (2), the stage 40 is raised to a predetermined position so that the substrate 10 and the rubbing roller 41 are in contact with each other. At this time, the rubbing roller 4
Numeral 1 is located in the detection area 101 of the substrate 10, and one end of the substrate 1 is a rubbing processing start side.

【0031】次に、(3)工程に示すように、検出領域
101におけるラビングローラの回転モーターのトルク
値がトルク検出回路42により測定される。また、ステ
ージ位置は位置検出回路43によって検出される。
Next, as shown in step (3), the torque value of the rotating motor of the rubbing roller in the detection area 101 is measured by the torque detection circuit 42. The stage position is detected by the position detection circuit 43.

【0032】次に、(4)工程、(5)工程に示すよう
に、検出領域101におけるトルク値とステージ位置の
データがコンピュータ44に入力され、トルク値が所定
トルク値範囲に適合されるかどうか判断される。
Next, as shown in steps (4) and (5), the data of the torque value and the stage position in the detection area 101 are input to the computer 44, and whether the torque value matches the predetermined torque value range. Is determined.

【0033】ここで、コンピュータ44により所定トル
ク値範囲に適合すると判断されると、制御回路45によ
り基板面方向移動モーター47が作動し、(6)工程に
示すように、ステージは、所定速度で基板面と平行な方
向(図1中、矢印Bで示される方向)に移動される。移
動は、図6の矢印に示すように、基板の一端部から他端
部に向かって一方向に行われ、これにより配向膜にラビ
ング処理が施される。
If the computer 44 determines that the torque value is within the predetermined torque value range, the control circuit 45 activates the board surface direction moving motor 47, and the stage is moved at the predetermined speed as shown in step (6). It is moved in a direction parallel to the substrate surface (the direction indicated by arrow B in FIG. 1). The movement is performed in one direction from one end to the other end of the substrate, as shown by the arrow in FIG. 6, whereby a rubbing process is performed on the alignment film.

【0034】次に、ラビング処理が終了すると、(7)
工程に示すように、ステージが下降され、(8)工程に
示すようにラビング処理された基板がステージ40から
搬出される。
Next, when the rubbing process is completed, (7)
As shown in the process, the stage is lowered, and the substrate subjected to the rubbing process is carried out of the stage 40 as shown in the process (8).

【0035】一方、(5)工程において、所定トルク値
範囲に適合されないと判断されると、測定されたトルク
値とステージ位置のデータを基に、制御回路45により
上下移動モーター46が作動し、(9)工程に示すよう
にステージが上昇または下降される。そして、再び
(3)工程に戻って、トルク値が測定される。このよう
にトルク値が所定トルク値範囲内になるまで(3)工
程、(4)工程、(5)工程、(9)工程は順に繰り返
される。
On the other hand, if it is determined in the step (5) that the torque value does not conform to the predetermined torque value range, the vertical movement motor 46 is operated by the control circuit 45 based on the measured torque value and data on the stage position. (9) The stage is raised or lowered as shown in the step. Then, returning to the step (3), the torque value is measured. Steps (3), (4), (5), and (9) are repeated in this order until the torque value falls within the predetermined torque value range.

【0036】ここで、上述の構成に加え、ステージが回
転する機構を設けることもできる。ステージを回転する
ことにより、基板に対して所望のラビング方向を提供す
ることができ、この場合の工程について図3を用いて説
明する。尚、図3に示す工程(1)〜(5)は上述の工
程フロー図2に示す工程(1)〜(5)と同様であるた
め、ここでは説明を省略し、工程(6)以降から説明す
る。
Here, in addition to the above configuration, a mechanism for rotating the stage may be provided. By rotating the stage, a desired rubbing direction can be provided to the substrate, and the process in this case will be described with reference to FIG. The steps (1) to (5) shown in FIG. 3 are the same as the steps (1) to (5) shown in the above-mentioned step flow chart 2, so that the description is omitted here, and the steps from the step (6) onward are performed. explain.

【0037】工程(6)にて所定トルク値範囲に適合し
た場合におけるステージ位置dがコンピュータ44に記
録される。ここで、ステージ位置dが記録されることに
より、基板とラビングローラとの距離が間接的に記録さ
れることになる。次に、工程(7)にて一旦ステージが
ラビングローラーと基板が接触しなくなる所定の位置ま
で下降する。
In the step (6), the stage position d in the case where the torque value conforms to the predetermined torque value range is recorded in the computer 44. Here, by recording the stage position d, the distance between the substrate and the rubbing roller is indirectly recorded. Next, in step (7), the stage is once lowered to a predetermined position where the rubbing roller and the substrate do not come into contact with each other.

【0038】次に、工程(8)にてステージが、ステー
ジ平面内で所定角度回転する。これにより、基板に対す
るラビングローラーの移動方向が設定される。
Next, in step (8), the stage is rotated by a predetermined angle in the plane of the stage. Thereby, the moving direction of the rubbing roller with respect to the substrate is set.

【0039】次に、工程(9)にてステージが記録され
た位置dまで上昇する。
Next, in step (9), the stage is raised to the position d where the stage was recorded.

【0040】次に、工程(10)に示すように、ステー
ジは、所定速度で基板面と平行な方向(図1中、矢印B
で示される方向)に移動される。これにより配向膜にラ
ビング処理が施される。
Next, as shown in step (10), the stage is moved at a predetermined speed in a direction parallel to the substrate surface (arrow B in FIG. 1).
In the direction indicated by. Thereby, a rubbing process is performed on the alignment film.

【0041】次に、ラビング処理が終了すると、(1
1)工程に示すように、ステージが下降され、(12)
工程に示すようにラビング処理された基板がステージ4
0から搬出される。一方、(5)工程において、所定ト
ルク値範囲に適合されないと判断されると、図2と同様
な工程フローが繰り返される。
Next, when the rubbing process is completed, (1)
1) As shown in the step, the stage is lowered, and (12)
The substrate rubbed as shown in the process is the stage 4
It is carried out from 0. On the other hand, in step (5), when it is determined that the torque value is not matched with the predetermined torque value range, the same process flow as that in FIG. 2 is repeated.

【0042】これらのラビングに関する一連の動作は、
基板毎に行われる。本実施形態においては、異なる基板
毎に回転トルクを所定の範囲に設定することができるた
め、例えば厚さばらつきのある複数の液晶装置用基板を
処理しても、常に一定の回転トルク値、すなわちラビン
グ圧力にてそれぞれの基板のラビング処理を行うことが
可能である。その結果、基板間のラビング強度ばらつき
がなく、常に表示品質が安定した液晶装置を得ることが
できる。また、トルク値の検出を、製品構成上ラビング
処理が必要ない基板の一端部で行い、このトルク値の検
出に基づいて所望のトルク値で表示領域中のラビング処
理を行うため、トルク検出とラビング処理を連続した動
作で行うことができ、製造効率が良い。
A series of operations relating to these rubbings is as follows.
This is performed for each substrate. In the present embodiment, since the rotation torque can be set to a predetermined range for each different substrate, even when processing a plurality of liquid crystal device substrates having a thickness variation, for example, always a constant rotation torque value, that is, The rubbing treatment of each substrate can be performed at a rubbing pressure. As a result, it is possible to obtain a liquid crystal device in which rubbing intensity does not vary between substrates and display quality is always stable. In addition, since the torque value is detected at one end of the substrate that does not require rubbing processing due to the product configuration, the rubbing processing in the display area is performed at a desired torque value based on the detection of the torque value. Processing can be performed in a continuous operation, and the production efficiency is good.

【0043】また、ラビング時のラビング処理を施す基
板は、1枚の基板から複数個の液晶装置用基板を形成で
きる多面取り基板であっても良いし、1枚の基板から1枚
の液晶装置用基板がとれる単個取りであっても良い。
The substrate to be subjected to the rubbing treatment at the time of rubbing may be a multi-panel substrate on which a plurality of substrates for a liquid crystal device can be formed from one substrate, or one substrate may be used for one liquid crystal device. It may be a single piece that can be used to remove the substrate.

【0044】以上説明したラビング方法を施した液晶装
置は、適正なラビング処理が施されるため表示特性が良
く、液晶配向むらが表示特性に大きく影響する投射型表
示装置に適用するのに特に効果が発揮される。
The liquid crystal device that has been subjected to the rubbing method described above has a good display characteristic because of the proper rubbing treatment, and is particularly effective when applied to a projection type display device in which uneven liquid crystal alignment greatly affects the display characteristic. Is exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態におけるラビング装置を示す模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a rubbing device according to an embodiment.

【図2】実施形態におけるラビング方法を示すフローチ
ャート図である。
FIG. 2 is a flowchart illustrating a rubbing method according to the embodiment.

【図3】他の実施形態におけるラビング方法を示すフロ
ーチャート図である。
FIG. 3 is a flowchart illustrating a rubbing method according to another embodiment.

【図4】液晶装置の表示用スイッチング素子領域中の等
価回路図である。
FIG. 4 is an equivalent circuit diagram in a display switching element region of the liquid crystal device.

【図5】液晶装置の縦断面図である。FIG. 5 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal device.

【図6】TFTアレイ基板の概略斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view of a TFT array substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

16、22…配向膜 10…TFTアレイ基板 20…対向基板 31…液晶装置 40…ステージ 41…ラビングローラー 42…トルク検出回路 43…位置検出回路 44…コンピュータ 45…制御回路 46…上下移動モーター 47…基板面方向移動モーター 48…ラビング装置 100…アクティブ領域 101…検出領域 104、105…周辺駆動回路領域 16, 22 ... alignment film 10 ... TFT array substrate 20 ... counter substrate 31 ... liquid crystal device 40 ... stage 41 ... rubbing roller 42 ... torque detection circuit 43 ... position detection circuit 44 ... computer 45 ... control circuit 46 ... vertical movement motor 47 ... Substrate surface direction movement motor 48 rubbing device 100 active region 101 detection region 104, 105 peripheral drive circuit region

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の面に配向膜が形成された基板が、
配向膜を上にして載置される載置台と、 前記基板に接し、前記基板の一端部から他端部に向かっ
て移動することにより前記配向膜をラビング処理するラ
ビングローラーと、 前記基板の一端部における前記ラビングローラーの回転
トルクを検出するトルク検出機構と、 前記検出結果に基づき、前記回転トルクが所定の範囲と
なるように、前記ラビングローラーまたは前記載置台を
移動させる移動機構と、 を具備するラビング装置。
1. A substrate having an alignment film formed on one surface thereof,
A mounting table on which the alignment film is mounted, a rubbing roller that is in contact with the substrate and moves from one end of the substrate toward the other end to perform a rubbing process on the alignment film, and one end of the substrate A torque detection mechanism that detects a rotation torque of the rubbing roller in the unit, and a movement mechanism that moves the rubbing roller or the mounting table so that the rotation torque is within a predetermined range based on the detection result. Rubbing equipment.
【請求項2】 (a)配向膜を有する液晶装置用基板の
一端部に接して配置されるラビングローラの回転トルク
値を検出する工程と、 (b)前記回転トルク値により、前記基板と前記ラビン
グローラーとの距離を制御する工程と、 (c)前記回転トルク値が所定の範囲となるまで、前記
(a)工程、(b)工程を繰り返す工程と、 (d)前記回転トルク値が所定の範囲になったときの前
記距離を保持して、前記基板の一端部から他端部へ向か
って、ラビングローラーが相対的に移動する工程と、を
有することを特徴とする液晶装置用基板のラビング方
法。
(A) detecting a rotational torque value of a rubbing roller disposed in contact with one end of a liquid crystal device substrate having an alignment film; and (b) detecting the rotational torque value of the substrate by using the rotational torque value. Controlling the distance to the rubbing roller; (c) repeating the steps (a) and (b) until the rotational torque value falls within a predetermined range; and (d) controlling the rotational torque value to a predetermined value. The rubbing roller relatively moves from one end to the other end of the substrate while maintaining the distance when the range of the liquid crystal device is reached. Rubbing method.
【請求項3】 前記(d)工程において、 前記回転トルク値が所定の範囲になったときの前記距離
が記録され、 前記基板に対する前記ラビングローラーの移動方向が設
定された後、 前記距離を保持して、前記ラビングローラーが相対的に
移動することを特徴とする請求請2記載の液晶装置用基
板のラビング方法。
3. In the step (d), the distance when the rotational torque value falls within a predetermined range is recorded, and after the moving direction of the rubbing roller with respect to the substrate is set, the distance is maintained. 3. The method according to claim 2, wherein the rubbing roller relatively moves.
【請求項4】 前記液晶装置用基板は、アクティブ領域
と、前記回転トルクを検出するための検出領域とを有す
ることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の液
晶装置用基板のラビング方法。
4. The rubbing of the liquid crystal device substrate according to claim 2, wherein the liquid crystal device substrate has an active area and a detection area for detecting the rotational torque. Method.
【請求項5】 前記アクティブ領域は、表示画素領域と
該表示画素領域の表示を制御する周辺駆動回路領域とを
有することを特徴とする請求項4に記載の液晶装置用基
板のラビング方法。
5. The method according to claim 4, wherein the active area includes a display pixel area and a peripheral driving circuit area for controlling display of the display pixel area.
【請求項6】 前記検出領域は、前記液晶装置用基板端
部に形成されてなることを特徴とする請求項4または請
求項5に記載の液晶装置用基板のラビング方法。
6. The method for rubbing a substrate for a liquid crystal device according to claim 4, wherein the detection area is formed at an end of the substrate for a liquid crystal device.
【請求項7】 前記(a)〜(d)工程は、異なる液晶
装置用基板毎に行われることを特徴とする請求項2から
請求項6のいずれか一項に記載の液晶装置用基板のラビ
ング方法。
7. The liquid crystal device substrate according to claim 2, wherein the steps (a) to (d) are performed for different liquid crystal device substrates. Rubbing method.
【請求項8】 請求項2から請求項7のいずれか一項に
記載の液晶装置用基板のラビング方法により製造される
ことを特徴とする液晶装置用基板。
8. A substrate for a liquid crystal device, which is manufactured by the method for rubbing a substrate for a liquid crystal device according to claim 2. Description:
【請求項9】 請求項8に記載の液晶装置用基板を用い
ることを特徴とする液晶装置。
9. A liquid crystal device using the substrate for a liquid crystal device according to claim 8.
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