JP2001147399A - Laser beam machining device and adjusting method therefor - Google Patents

Laser beam machining device and adjusting method therefor

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JP2001147399A
JP2001147399A JP32820999A JP32820999A JP2001147399A JP 2001147399 A JP2001147399 A JP 2001147399A JP 32820999 A JP32820999 A JP 32820999A JP 32820999 A JP32820999 A JP 32820999A JP 2001147399 A JP2001147399 A JP 2001147399A
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JP
Japan
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galvanometers
laser
laser beam
galvanometer
detector
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JP32820999A
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Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Oda
雅之 小田
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser beam machining device, where adjustment is simplified and precise machining is realized. SOLUTION: There are installed first means 21 adjusting first and second galvanometers 9 and 11 so that laser power becomes a maximum by scanning a laser beam on a detector 15 for adjusting the offsets and the gains of the first and second galvanometers 9 and 11, a second means 22 comparing rotation command data of the first and second galvanometers 9 and 11 when the laser beam is scanned on the detector 15 and laser power is maximum with position data with the detector 15, a third means 23 obtaining the offset values of the first and second galvanometers 9 and 11 based on the comparison result obtained by the second means 22 and a fourth means 24 obtaining the correction values of the gains of the first and second galvanometers 9 and 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ加工装置と
その調整方法に係わり、特に、調整を簡単にして、精度
良い加工を可能にしたレーザ加工装置とその調整方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus and a method of adjusting the same, and more particularly, to a laser processing apparatus and a method of adjusting the laser processing apparatus which can simplify the adjustment and perform the processing with high accuracy.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ガルバノメータを使ったレー
ザ加工装置は、マーキング加工や溶接および切断加工に
使われていたが、高い位置決め精度や加工品質を要求さ
れるレーザ加工には使用されていなかった。
2. Description of the Related Art Conventionally, a laser processing apparatus using a galvanometer has been used for marking processing, welding and cutting processing, but has not been used for laser processing requiring high positioning accuracy and processing quality. .

【0003】ガルバノメータは、短期的には高い位置決
め精度が期待できるが、環境の変化に弱く、高い位置決
め精度を維持するにはゲイン、オフセットの調整を頻繁
に行う必要がある。また、レーザ光も環境の変化によ
り、その出力やビームウエスト径が変化する。ガルバノ
メータを使ったレーザ加工は、位置決めやレーザ光を長
期的に安定させることが困難なため、加工位置精度や加
工状態が不安定になるという問題点があった。
[0003] Galvanometers can be expected to have high positioning accuracy in the short term, but are vulnerable to environmental changes, and require frequent adjustment of gain and offset to maintain high positioning accuracy. The output and beam waist diameter of the laser light also change due to a change in the environment. In laser processing using a galvanometer, it is difficult to stabilize positioning and laser light for a long period of time, so that there has been a problem that processing position accuracy and processing state become unstable.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
した従来技術の欠点を改良し、特に、調整を自動化する
ことで調整を簡単にすると共に、精度良い加工を可能に
した新規なレーザ加工装置とその調整方法を提供するも
のである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to improve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and in particular to a novel laser which simplifies the adjustment by automating the adjustment and enables high-precision machining. A processing device and an adjustment method thereof are provided.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、基本的には、以下に記載されたような技
術構成を採用するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention basically employs the following technical configuration to achieve the above object.

【0006】即ち、本発明に係わるレーザ加工装置とそ
の調整方法の第1態様は、レーザビームをX方向に走査
する第1のガルバノメータと、レーザビームをY方向に
走査する第2のガルバノメータとを用いて、レーザビー
ムを所定の位置に走査するレーザ加工装置において、前
記第1及び第2のガルバノメータのオフセット及び利得
調整用の検出器をワークを載置し加工を行う加工領域の
周辺部に4つ設け、前記4つの検出器は、夫々前記加工
領域の中心から等距離に設けられ、且つ、前記4つの検
出器は、夫々等間隔に設けられたことを特徴とするもの
であり、叉、第2態様は、前記第1及び第2のガルバノ
メータのオフセット及び利得を調整するため、前記検出
器上でレーザビームをスキャンしてレーザパワーが最大
になるように、前記第1及び第2のガルバノメータを調
整する第1の手段と、前記検出器上でレーザビームをス
キャンしてレーザパワーが最大である時の前記第1及び
第2のガルバノメータの回転指令データと前記検出器と
の位置データとを比較する第2の手段と、前記第2の手
段で得られた比較結果に基づき前記第1及び第2のガル
バノメータのオフセット値を求める第3の手段と、前記
第1及び第2のガルバノメータの利得の補正値を求める
第4の手段とが設けられていることを特徴とするもので
ある。
That is, a first embodiment of the laser processing apparatus and the adjusting method according to the present invention comprises a first galvanometer that scans a laser beam in an X direction and a second galvanometer that scans a laser beam in a Y direction. In a laser processing apparatus that scans a laser beam to a predetermined position using a laser beam, a detector for adjusting the offset and gain of the first and second galvanometers is placed around a processing area where a workpiece is mounted and processed. And wherein the four detectors are provided at an equal distance from the center of the processing area, and the four detectors are provided at equal intervals, respectively. A second aspect is to adjust the offset and gain of the first and second galvanometers by scanning a laser beam on the detector so that the laser power is maximized. First means for adjusting the first and second galvanometers, and rotation command data for the first and second galvanometers when the laser power is maximized by scanning a laser beam on the detector and the detection. Second means for comparing position data with a vessel, third means for obtaining offset values of the first and second galvanometers based on the comparison result obtained by the second means, and And a fourth means for obtaining a correction value of the gain of the second galvanometer.

【0007】叉、本発明に係わるレーザ加工装置と調整
方法の態様は、レーザビームをX方向に走査する第1の
ガルバノメータと、レーザビームをY方向に走査する第
2のガルバノメータとを用いて、レーザビームを所定の
位置に走査するレーザ加工装置の調整方法であって、前
記第1及び第2のガルバノメータのオフセット及び利得
を調整するため、前記検出器上でレーザビームをスキャ
ンしてレーザパワーが最大になるように、前記第1及び
第2のガルバノメータを調整する第1の工程と、前記検
出器上でレーザビームをスキャンしてレーザパワーが最
大である時の前記第1及び第2のガルバノメータの回転
指令データと前記検出器との位置データとを比較する第
2の工程と、前記第2の工程で得られた比較結果に基づ
き前記第1及び第2のガルバノメータのオフセット値を
求めると共にその補正値を求める第3の工程と、前記第
3の工程で求められた補正値を前記第1及び第2のガル
バノメータに出力する第4の工程と、前記第1及び第2
のガルバノメータのオフセットを補正した後、第1及び
第2のガルバノメータの利得を調節する第5の工程と、
前記第5の工程で得られた前記第1及び第2のガルバノ
メータの利得の補正値を前記第1及び第2のガルバノメ
ータに夫々設定する第6の工程と、を少なくとも含むこ
とを特徴とするものである。
The laser processing apparatus and the adjusting method according to the present invention use a first galvanometer that scans a laser beam in an X direction and a second galvanometer that scans a laser beam in a Y direction. A method for adjusting a laser processing apparatus that scans a laser beam at a predetermined position, wherein the laser power is scanned by scanning the laser beam on the detector to adjust offset and gain of the first and second galvanometers. A first step of adjusting the first and second galvanometers to be maximized, and scanning the laser beam on the detector to obtain the first and second galvanometers when the laser power is at a maximum. A second step of comparing the rotation command data of the detector with the position data of the detector, and the first and second steps are performed based on the comparison result obtained in the second step. A third step of obtaining an offset value of the galvanometer and calculating a correction value thereof; a fourth step of outputting the correction value obtained in the third step to the first and second galvanometers; 1st and 2nd
A fifth step of adjusting the gains of the first and second galvanometers after correcting the galvanometer offset of
A sixth step of setting the correction values of the gains of the first and second galvanometers obtained in the fifth step to the first and second galvanometers, respectively. It is.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明に係わるレーザ加工装置
は、ガルバノメータ9とガルバノメータ11とでスキャ
ンしたレーザ光100をディテクタ15で検出し、ディ
テクタ15の実際の位置とガルバノメータ9とガルバノ
メータ11の回転指令データとを比較して、ガルバノメ
ータ9及びガルバノメータ11のオフセットの調整を行
い、その後、ガルバノメータ9及びガルバノメータ11
のゲインの調整をする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a laser processing apparatus according to the present invention, a laser beam 100 scanned by a galvanometer 9 and a galvanometer 11 is detected by a detector 15, and an actual position of the detector 15 and a rotation command of the galvanometer 9 and the galvanometer 11 are issued. By comparing the data with the data, the offset of the galvanometer 9 and the galvanometer 11 is adjusted, and thereafter, the galvanometer 9 and the galvanometer 11 are adjusted.
Adjust the gain of.

【0009】また、CCDカメラ17を用いて、焦点位
置での加工の像を計測する。この計測結果から、ビーム
ウエストを算出し、予め設定したビームの大きさと比較
して、エキスパンダ4でビーム径102を調整する。焦
点は、像がもっとも小さくなるようエキスパンダ6で拡
がり角104を調整して行う。
An image of the processing at the focal position is measured using the CCD camera 17. From this measurement result, a beam waist is calculated, and the beam diameter 102 is adjusted by the expander 4 in comparison with a preset beam size. Focusing is performed by adjusting the spread angle 104 with the expander 6 so that the image is minimized.

【0010】[0010]

【実施例】以下に、本発明に係わるレーザ加工装置とそ
の調整方法の具体例を図面を参照しながら詳細に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific examples of a laser processing apparatus according to the present invention and an adjusting method thereof will be described in detail with reference to the drawings.

【0011】図1乃至図4は、本発明に係わるレーザ加
工装置とその調整方法の具体例を示す図であって、これ
らの図には、レーザビームLBをX方向に走査する第1
のガルバノメータ9と、レーザビームLBをY方向に走
査する第2のガルバノメータ11とを用いて、レーザビ
ームを所定の位置に走査するレーザ加工装置において、
前記第1及び第2のガルバノメータ9、11のオフセッ
ト及び利得調整用の検出器15をワークを載置し加工を
行う加工領域WEの周辺部に4つ設け、前記4つの検出
器15a〜15dは、夫々前記加工領域WOの中心から
等距離に設けられ、且つ、前記4つの検出器15a〜1
5dは、夫々等間隔に設けられたことを特徴とするレー
ザ加工装置が示されており、また、前記第1及び第2の
ガルバノメータ9、11のオフセット及び利得を調整す
るため、前記検出器上15でレーザビームをスキャンし
てレーザパワーが最大になるように、前記第1及び第2
のガルバノメータ9、11を調整する第1の手段21
と、前記検出器上でレーザビームをスキャンしてレーザ
パワーが最大である時の前記第1及び第2のガルバノメ
ータ9、11の回転指令データと前記検出器との位置デ
ータとを比較する第2の手段22と、前記第2の手段2
2で得られた比較結果に基づき前記第1及び第2のガル
バノメータ9、11のオフセット値を求める第3の手段
23と、前記第1及び第2のガルバノメータ9、11の
利得の補正値を求める第4の手段24とが設けられてい
るレーザ加工装置が示されている。
FIGS. 1 to 4 show specific examples of a laser processing apparatus according to the present invention and a method of adjusting the laser processing apparatus. FIG. 1 to FIG. 4 show a first example in which a laser beam LB is scanned in an X direction.
A laser processing apparatus that scans a laser beam at a predetermined position using a galvanometer 9 and a second galvanometer 11 that scans a laser beam LB in the Y direction.
Four detectors 15 for offset and gain adjustment of the first and second galvanometers 9 and 11 are provided around a processing area WE where a workpiece is placed and processed, and the four detectors 15a to 15d are provided. , Each of which is provided at an equal distance from the center of the processing area WO, and the four detectors 15a to 15a
Reference numeral 5d denotes a laser processing apparatus characterized in that the laser processing apparatuses are provided at equal intervals. In addition, the laser processing apparatus is provided on the detector to adjust the offset and gain of the first and second galvanometers 9 and 11. The first and second laser beams are scanned at 15 so that the laser power is maximized.
First means 21 for adjusting the galvanometers 9 and 11
And a second step of scanning a laser beam on the detector and comparing rotation command data of the first and second galvanometers 9 and 11 when the laser power is at a maximum with position data of the detector. Means 22 and the second means 2
A third means for obtaining offset values of the first and second galvanometers 9 and 11 based on the comparison result obtained in Step 2, and a correction value of a gain of the first and second galvanometers 9 and 11 The laser processing apparatus provided with the fourth means 24 is shown.

【0012】以下に、この具体例を更に詳細に説明す
る。
Hereinafter, this specific example will be described in more detail.

【0013】本発明のレーザ加工装置1は、レーザ発振
器2と、レーザ発振器2から出射したレーザ光100の
レーザパワーを制御するアッテネータ3と、アッテネー
タ3からでたレーザ光100のビーム径102を変更す
るエキスパンダ4と、エキスパンダ4からでたレーザ光
100の拡がり角103を変更するエキスパンダ6と、
エキスパンダ6からでたレーザ光100を受ける全反射
ミラー8と、この全反射ミラー8を回転させるガルバノ
メータ9と、全反射ミラー8で反射したレーザ光100
を受ける全反射ミラー10と、この全反射ミラー10を
回転させるガルバノメータ11と、この全反射ミラー1
0に反射したレーザ光100を集光するfθレンズ12
と、fθレンズ12の焦点位置105にワーク13を固
定する載物台14と、この載物台14上に設置された4
つのディテクタ15と、前記fθレンズ12、全反射ミ
ラー10、全反射ミラー8、反射ミラー16とからなる
光軸107上に設けられたCCDカメラ17とで構成さ
れている。
The laser processing apparatus 1 of the present invention changes the laser oscillator 2, the attenuator 3 for controlling the laser power of the laser light 100 emitted from the laser oscillator 2, and the beam diameter 102 of the laser light 100 emitted from the attenuator 3. An expander 4 that changes the spread angle 103 of the laser beam 100 emitted from the expander 4,
A total reflection mirror 8 for receiving the laser light 100 from the expander 6, a galvanometer 9 for rotating the total reflection mirror 8, and a laser light 100 reflected by the total reflection mirror 8
, A galvanometer 11 for rotating the total reflection mirror 10, and a total reflection mirror 1
Fθ lens 12 for condensing laser light 100 reflected to 0
A stage 14 for fixing the work 13 at the focal position 105 of the fθ lens 12, and a stage 4 mounted on the stage 14
And a CCD camera 17 provided on an optical axis 107 including the fθ lens 12, the total reflection mirror 10, the total reflection mirror 8, and the reflection mirror 16.

【0014】そして、前記エキスパンダ4は、駆動部5
によりビーム径102を変更し、前記エキスパンダ6
は、駆動部7により拡がり角103を変更する。
The expander 4 includes a driving unit 5
The beam diameter 102 is changed by the
Changes the spread angle 103 by the drive unit 7.

【0015】また、レーザ発振器2、アッテネータ3、
駆動部5、駆動部7、ガルバノメータ9、ガルバノメー
タ11、CCDカメラ17は、制御部18によって制御
される。
The laser oscillator 2, the attenuator 3,
The drive unit 5, the drive unit 7, the galvanometer 9, the galvanometer 11, and the CCD camera 17 are controlled by the control unit 18.

【0016】前記ガルバノメータ9とガルバノメータ1
1は、それぞれの反射ミラーへの回転指令が「0」の
時、レーザ光100がfθレンズ12の中心を通り、し
かも、ガルバノメータ9への回転指令「0」のとき、ガ
ルバノメータ11がスキャンしたスキャニングラインは
108であり、ガルバノメータ11への回転指令「0」
のとき、ガルバノメータ9がスキャンしたスキャニング
ラインは109であり、且つ、スキャニングラインは1
08とスキャニングラインは109とは、垂直に点WO
で交わるように制御される。
The galvanometer 9 and the galvanometer 1
1 indicates that scanning is performed by the galvanometer 11 when the rotation command to each reflection mirror is “0”, the laser beam 100 passes through the center of the fθ lens 12, and when the rotation command to the galvanometer 9 is “0”. The line is 108, and the rotation command “0” to the galvanometer 11
, The scanning line scanned by the galvanometer 9 is 109, and the scanning line is 1
08 and the scanning line 109 are perpendicular to the point WO
Is controlled to intersect.

【0017】前記ディテクタ15は、載物台上に4箇所
あり、前記スキャニングライン108とスキャニングラ
イン109上の点WOから4方向等距離の位置に配置さ
れている。ディテクタ15は、レーザパワーを検出す
る。検出したレーザパワーによりアッテネータ3を制御
してレーザパワーを適正値に補正する。
The detectors 15 are provided at four places on the stage, and are arranged at equal distances in four directions from the scanning line 108 and the point WO on the scanning line 109. The detector 15 detects the laser power. The attenuator 3 is controlled by the detected laser power to correct the laser power to an appropriate value.

【0018】次に、ガルバノメータのオフセット及び利
得について、図4を参照して説明する。
Next, the offset and gain of the galvanometer will be described with reference to FIG.

【0019】ガルバノメータ9とガルバノメータ11と
のオフセットと利得とが完全に調整されている時、ガル
バノメータ9のスキャンでは、ディテクタ15a−15
c間を走査し、また、ガルバノメータ11では、ディテ
クタ15b−15d間を走査し、図4の点線の領域内を
走査し、点線の領域外を走査することはない。
When the offset and gain between the galvanometer 9 and the galvanometer 11 are completely adjusted, the scanning of the galvanometer 9 requires the detectors 15a-15
The scanning between c and the galvanometer 11 scans between the detectors 15b and 15d, scans the area indicated by the dotted line in FIG. 4, and does not scan the area outside the dotted line.

【0020】図4に示した点線110は、ガルバノメー
タ11にオフセット△SOがある場合のスキャニングラ
インであり、夫々のガルバノメータのオフセットをなく
し、しかも、利得を適正にすることで、精度良い加工を
可能にするものである。
The dotted line 110 shown in FIG. 4 is a scanning line in the case where the galvanometer 11 has an offset 、 SO. Eliminating the offset of each galvanometer and making the gains appropriate enables accurate machining. It is to be.

【0021】次に、本発明のレーザ加工装置の調整方法
について説明する。
Next, a method of adjusting the laser processing apparatus of the present invention will be described.

【0022】さて、ディテクタ15の検出面は、ビーム
ウエストよりも小さい。このため、レーザビームLB
を、ディテクタ15上で2次元的に走査することで、レ
ーザパワーの最大状態を検出し、この状態でのガルバノ
メータ9、11の回転指令データをメモリする。
The detection surface of the detector 15 is smaller than the beam waist. Therefore, the laser beam LB
Is two-dimensionally scanned on the detector 15 to detect the maximum state of the laser power, and stores the rotation command data of the galvanometers 9 and 11 in this state.

【0023】そして、このデータと、いま検出用に用い
ているディテクタの位置とを比較し、その値からオフセ
ット値を算出し、このオフセット値がなくなるように得
られた夫々の補正値を夫々のガルバノメータ9、11に
出力する。
Then, this data is compared with the position of the detector currently used for detection, an offset value is calculated from the value, and each correction value obtained so as to eliminate this offset value is converted into the respective correction value. Output to the galvanometers 9 and 11.

【0024】この状態では、ガルバノメータ9、11
は、図4の実線上をスキャンするが、まだ、利得が適正
でないため、最大にスキャンした時、ディテクタまで来
なかったり、或いは、ディテクタを通過してしまう。こ
の為、最大にスキャンした時、正確にディテクタ上にく
るように、ガルバノメータ9、11の利得を調整する。
In this state, the galvanometers 9 and 11
Scans on the solid line in FIG. 4, but because the gain is not yet appropriate, when scanning is performed at the maximum, the detector does not arrive or passes through the detector. For this reason, the gains of the galvanometers 9 and 11 are adjusted so that they are accurately positioned on the detector when scanning is performed at the maximum.

【0025】次に、CCDカメラ17を用いて、焦点で
の像が最も小さくなるようにエキスパンダ6で拡がり角
104を調整し、更に、エキスパンダ4で所定の大きさ
のビーム径になるように調整し、調整を終了する。
Next, the divergence angle 104 is adjusted by the expander 6 using the CCD camera 17 so that the image at the focal point is minimized, and the beam diameter is set to a predetermined size by the expander 4. To adjust and end the adjustment.

【0026】なお、レーザ発振器2としては、発振方式
(パルス、連続、Qスイッチ)やレーザパワー、波長に
よらず適用可能である。
The laser oscillator 2 is applicable irrespective of the oscillation method (pulse, continuous, Q-switch), laser power, and wavelength.

【0027】また、ディテクタ15によりビームウエス
トを計測するように構成すれば、CCDカメラ17及び
反射ミラー16を削除することができる。
If the beam waist is measured by the detector 15, the CCD camera 17 and the reflection mirror 16 can be omitted.

【0028】更に、レーザパワー一定にして、ディテク
タ15上をスキャンすれば、レーザパワーの分布を計測
することができ、この分布によりビームウエストを算出
するように構成しても良い。
Further, by scanning the detector 15 with the laser power kept constant, the laser power distribution can be measured, and the beam waist may be calculated from this distribution.

【0029】また、ディテクタ15上をスキャンしたと
きのレーザパワー最大位置でビーム位置を固定し、駆動
部7によりエキスパンダ6で拡がり角104を変化させ
る。広がり角104変化させた時、レーザパワー最大の
とき、ディテクタ15上で焦点があったことになる。こ
のように、拡がり角104を修正することで、ワーク1
3上での焦点合わせを行うように構成することもでき
る。
Further, the beam position is fixed at the maximum laser power position when scanning on the detector 15, and the expansion angle 104 is changed by the expander 6 by the drive unit 7. When the divergence angle 104 is changed, when the laser power is the maximum, it means that the focus is on the detector 15. By correcting the spread angle 104 in this manner, the work 1
3 can be configured to perform focusing.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明に係わるレーザ加工装置とその調
整方法は、上述のように構成したので、調整が簡単にな
り、しかも、精度良い加工が可能になった。
The laser processing apparatus and the method of adjusting the laser processing apparatus according to the present invention are constructed as described above, so that the adjustment is simplified and the processing can be performed with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わるレーザ加工装置の構成を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a laser processing apparatus according to the present invention.

【図2】エキスパンダ4の出力と、エキスパンダ6の出
力とを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an output of an expander 4 and an output of an expander 6;

【図3】本発明のレーザ加工装置の構成を示すブロック
図である。
FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration of a laser processing apparatus according to the present invention.

【図4】ディテクタの配置と調整状態を説明するための
図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining an arrangement and an adjustment state of a detector.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 レーザ発振器 3 アッテネータ 4、6 エキスパンダ 5、7 駆動部 8、10 全反射ミラー 9、11 ガルバノメータ 12 fθレンズ 13 ワーク 14 載物台 15、15a〜15d ディテクタ 16 反射ミラー 17 CCDカメラ 18 制御部 21 第1の手段 22 第2の手段 23 第3の手段 24 第4の手段 100 レーザ光 105 焦点 106 光軸 108 ガルバノメータ11のスキャニングライン 109 ガルバノメータ9のスキャニングライン LB レーザビーム △SO オフセット Reference Signs List 2 laser oscillator 3 attenuator 4, 6 expander 5, 7 drive unit 8, 10 total reflection mirror 9, 11 galvanometer 12 fθ lens 13 work 14 mounting table 15, 15a to 15d detector 16 reflection mirror 17 CCD camera 18 control unit 21 First means 22 Second means 23 Third means 24 Fourth means 100 Laser beam 105 Focus 106 Optical axis 108 Scanning line of galvanometer 11 109 Scanning line of galvanometer 9 LB Laser beam △ SO offset

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザビームをX方向に走査する第1の
ガルバノメータと、レーザビームをY方向に走査する第
2のガルバノメータとを用いて、レーザビームを所定の
位置に走査するレーザ加工装置において、 前記第1及び第2のガルバノメータのオフセット及び利
得調整用の検出器をワークを載置し加工を行う加工領域
の周辺部に4つ設け、前記4つの検出器は、夫々前記加
工領域の中心から等距離に設けられ、且つ、前記4つの
検出器は、夫々等間隔に設けられたことを特徴とするレ
ーザ加工装置。
1. A laser processing apparatus that scans a laser beam at a predetermined position using a first galvanometer that scans a laser beam in an X direction and a second galvanometer that scans a laser beam in a Y direction. Four detectors for offset and gain adjustment of the first and second galvanometers are provided on the periphery of a processing area where a workpiece is placed and processed, and the four detectors are respectively located from the center of the processing area. A laser processing apparatus provided at equal distances, and wherein the four detectors are provided at equal intervals.
【請求項2】 前記第1及び第2のガルバノメータのオ
フセット及び利得を調整するため、前記検出器上でレー
ザビームをスキャンしてレーザパワーが最大になるよう
に、前記第1及び第2のガルバノメータを調整する第1
の手段と、 前記検出器上でレーザビームをスキャンしてレーザパワ
ーが最大である時の前記第1及び第2のガルバノメータ
の回転指令データと前記検出器との位置データとを比較
する第2の手段と、 前記第2の手段で得られた比較結果に基づき前記第1及
び第2のガルバノメータのオフセット値を求める第3の
手段と、 前記第1及び第2のガルバノメータの利得の補正値を求
める第4の手段とが設けられていることを特徴とする請
求項1記載のレーザ加工装置。
2. The first and second galvanometers for adjusting the offset and gain of the first and second galvanometers so that a laser beam is scanned on the detector so that laser power is maximized. Adjust the first
Means for scanning a laser beam on the detector and comparing rotation command data of the first and second galvanometers when the laser power is at a maximum with position data of the detector. Means, third means for obtaining offset values of the first and second galvanometers based on a comparison result obtained by the second means, and correction values for gains of the first and second galvanometers are obtained. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising a fourth means.
【請求項3】 レーザビームをX方向に走査する第1の
ガルバノメータと、レーザビームをY方向に走査する第
2のガルバノメータとを用いて、レーザビームを所定の
位置に走査するレーザ加工装置の調整方法であって、 前記第1及び第2のガルバノメータのオフセット及び利
得を調整するため、前記検出器上でレーザビームをスキ
ャンしてレーザパワーが最大になるように、前記第1及
び第2のガルバノメータを調整する第1の工程と、 前記検出器上でレーザビームをスキャンしてレーザパワ
ーが最大である時の前記第1及び第2のガルバノメータ
の回転指令データと前記検出器との位置データとを比較
する第2の工程と、 前記第2の工程で得られた比較結果に基づき前記第1及
び第2のガルバノメータのオフセット値を求めると共に
その補正値を求める第3の工程と、 前記第3の工程で求められた補正値を前記第1及び第2
のガルバノメータに出力する第4の工程と、 前記第1及び第2のガルバノメータのオフセットを補正
した後、第1及び第2のガルバノメータの利得を調節す
る第5の工程と、 前記第5の工程で得られた前記第1及び第2のガルバノ
メータの利得の補正値を前記第1及び第2のガルバノメ
ータに夫々設定する第6の工程と、 を少なくとも含むことを特徴とするレーザ加工装置の調
整方法。
3. Adjustment of a laser processing apparatus that scans a laser beam at a predetermined position using a first galvanometer that scans a laser beam in an X direction and a second galvanometer that scans a laser beam in a Y direction. A method for adjusting the offset and gain of the first and second galvanometers by scanning a laser beam over the detector to maximize laser power. A first step of adjusting the rotation of the first and second galvanometers when the laser power is maximum by scanning a laser beam on the detector and the position data of the detector. A second step of comparing, and calculating an offset value of the first and second galvanometers based on the comparison result obtained in the second step, and A third step of obtaining a correction value; and correcting the correction value obtained in the third step by the first and second
A fourth step of outputting to the galvanometer, a fifth step of adjusting the gains of the first and second galvanometers after correcting the offsets of the first and second galvanometers, and the fifth step. And a sixth step of setting the obtained correction values of the gains of the first and second galvanometers in the first and second galvanometers, respectively.
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