JP2001147251A - Temperature distribution controller for thermostatic oven - Google Patents

Temperature distribution controller for thermostatic oven

Info

Publication number
JP2001147251A
JP2001147251A JP33233599A JP33233599A JP2001147251A JP 2001147251 A JP2001147251 A JP 2001147251A JP 33233599 A JP33233599 A JP 33233599A JP 33233599 A JP33233599 A JP 33233599A JP 2001147251 A JP2001147251 A JP 2001147251A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
board
burn
thermostat
thermostatic oven
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33233599A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takekatsu Moriya
全克 森谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FUJITA SEISAKUSHO KK
Fujita Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
FUJITA SEISAKUSHO KK
Fujita Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FUJITA SEISAKUSHO KK, Fujita Manufacturing Co Ltd filed Critical FUJITA SEISAKUSHO KK
Priority to JP33233599A priority Critical patent/JP2001147251A/en
Publication of JP2001147251A publication Critical patent/JP2001147251A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermostatic oven which holds its intake side at the same temperature with its blowout side as much as possible when air is sent in a next board rack by suppressing a temperature difference between both sides on the same burn-in board as much as possible and eliminating impedance to an air velocity between board racks and is simple and adaptive to a high load by making it possible to decrease a temperature error based upon prescribed temperature as a thermostatic oven which has board racks mounted with burn-in boards and arrayed in an array or laterally in arrays. SOLUTION: A board rack on which burn-in boards mounted with many devices is installed in the thermostatic oven; and one end of a heat pipe is installed where the temperature in the thermostatic oven desires to be lowered and the other end is installed where the temperature in the thermostatic oven desires to be held higher than specific temperature to hold the temperature on the turn-in boards in the thermostatic oven uniform.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はICやLSI等の
デバイスのバーンイン工程において使用する恒温槽の温
度分布制御装置に関し、恒温槽内の各バーンインボード
上における温度を均一化することが可能な、新規な恒温
槽の温度分布制御装置を提供しようとするものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a temperature distribution control device for a thermostatic oven used in a burn-in process of a device such as an IC or an LSI, which can equalize the temperature on each burn-in board in the thermostatic oven. It is an object of the present invention to provide a new temperature distribution control device for a thermostat.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ICやLSI等の半導体集積回路
からなるデバイスを恒温槽の炉の中に入れ、その炉内の
デバイスに外部から電源電圧や試験パターン信号を印加
して試験するバーンイン試験を実施して、デバイスの信
頼性を確保している。
2. Description of the Related Art Conventionally, a burn-in test in which a device composed of a semiconductor integrated circuit such as an IC or LSI is placed in a furnace of a thermostat and a power supply voltage or a test pattern signal is externally applied to the device in the furnace for testing. To ensure device reliability.

【0003】このバーンイン試験に際しては、恒温槽内
の炉の温度は高温または低温に設定し、長時間試験パタ
ーン信号を印加してストレスを加え、所期不良を検出し
ている。またバーンイン試験ではデバイスの1個当たり
の試験時間が長いので、炉の中には数千個から一万個の
デバイスを同時に入れて試験時間と経費がかさむことを
防いでいる。
In the burn-in test, the temperature of a furnace in a thermostat is set to a high temperature or a low temperature, a test pattern signal is applied for a long time to apply a stress, and an intended failure is detected. In the burn-in test, since the test time for each device is long, thousands to 10,000 devices are simultaneously placed in the furnace to prevent the test time and cost from being increased.

【0004】さらに近年、上記ICやLSI等の半導体
集積回路からなるデバイスの小型化が進み、バーンイン
ボードの同一面積上に実装されるデバイスの高密度化が
激しくなってきている。このように同一面積で実装数が
増えてくるということは、バーンイン工程中での負荷が
それだけ大きくなっていくということになる。したがっ
て、同じ恒温槽またはさらに小型化した恒温槽を使用し
て大きくなってくる負荷を取っていくためには、バーン
イン工程での条件を把握し、解決していかなければなら
ない。
Further, in recent years, devices made of semiconductor integrated circuits such as the ICs and LSIs have been reduced in size, and the density of devices mounted on the same area of a burn-in board has been increasing. The increase in the number of mountings in the same area in this way means that the load during the burn-in process increases accordingly. Therefore, in order to use the same thermostat or a miniaturized thermostat to reduce the load, the conditions in the burn-in process must be grasped and solved.

【0005】現状においては、搬送可能な治具を兼ねる
ボードラックを使用し、上記恒温槽の内部に、多数のデ
バイスを実装したバーンインボードを複数装着したボー
ドラックを設置しており、この恒温槽内のボードラック
の配置および使用本数はデバイスの容量、恒温槽の外径
寸法によって変わる。そしてこれらが実装されている状
態でバーンイン工程を行なっており、通常のバーンイン
工程では必ず温度を制御しながらバーンインテストを行
なっている。なお、この温度制御した温度分布には規定
温度からの温度誤差が認められている範囲がある。
At present, a board rack having a plurality of burn-in boards on which a large number of devices are mounted is installed inside the constant temperature bath using a board rack which also functions as a transportable jig. The arrangement of the board racks and the number of used board racks vary depending on the capacity of the device and the outer diameter of the thermostat. The burn-in process is performed with these components mounted. In the normal burn-in process, the burn-in test is performed while always controlling the temperature. It should be noted that this temperature-controlled temperature distribution has a range in which a temperature error from a specified temperature is recognized.

【0006】他方、上記ボードラックに対して所定の温
度に設定した温風または冷風を送風ファン等によって送
り込み、恒温槽内の炉の温度を所定の温度に保つように
なっている。しかしながら、図5のように送風ファンの
吹き出し側からボードラックに向けて送り込んだエア
は、デバイスから発生する熱によって昇温され、デバイ
スのバーンインボードへの実装密度やバーンインボード
のボードラックへの装着密度に応じて、その発熱量が増
大していく。したがって恒温槽内においてこの発熱量を
均等に分布させ、一定の温度精度を保障しなければなら
ない。
On the other hand, hot air or cold air set at a predetermined temperature is sent to the board rack by a blower fan or the like, and the temperature of the furnace in the constant temperature bath is maintained at the predetermined temperature. However, as shown in FIG. 5, the air blown into the board rack from the outlet side of the blower fan is heated by the heat generated from the device, and the mounting density of the device on the burn-in board and the mounting of the burn-in board on the board rack are increased. The calorific value increases according to the density. Therefore, the calorific value must be evenly distributed in the constant temperature bath to ensure constant temperature accuracy.

【0007】従来の恒温槽においては、上記温度変化の
調整を、送風ファンの吹き出し側からボードラックに向
けて送り込んだエアの風速を上げたり、吹き出し側に対
してボードラックの反対側に位置する吸い込み側のエア
の吸い込み量を調整して、エアの圧力に高低をつけて行
なっている。例えば、図6および図7のように恒温槽1
1にシロッコファンないしポンプ12、および無段階オ
ートダンパ13を付設し、恒温槽内の排気と室内空気と
を混合させて、シロッコファンないしポンプ12で恒温
槽内に送り込んでいる。そして、シロッコファンないし
ポンプ12の作動と無段階オートダンパ13の開閉とを
恒温槽内温度の設定値に同期させることによって温度調
整している。
In the conventional thermostat, the above-mentioned temperature change is adjusted by increasing the wind speed of the air blown from the blow-out side of the blower fan toward the board rack, or positioned on the opposite side of the board rack with respect to the blow-out side. The suction amount of the air on the suction side is adjusted, and the air pressure is adjusted to a certain level. For example, as shown in FIG. 6 and FIG.
A sirocco fan or pump 12 and a stepless automatic damper 13 are attached to 1, and the exhaust air in the thermostat and room air are mixed and sent into the thermostat by the sirocco fan or pump 12. The temperature is adjusted by synchronizing the operation of the sirocco fan or the pump 12 and the opening and closing of the stepless automatic damper 13 with the set value of the temperature in the constant temperature bath.

【0008】またさらに、ヒータや冷凍機等で加熱した
り冷却したりすることによっても、上記デバイスの発熱
量による恒温槽内の温度変化を補助的に調整することが
行なわれている。
Further, by heating or cooling with a heater, a refrigerator, or the like, the temperature change in the thermostat due to the calorific value of the device has been supplementarily adjusted.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述のように恒温槽の
中には、エアを一定の方向に循環させるために、エアの
吹き出し側とエアの吸い込み側とが配置されている。そ
して恒温槽内に温度面での負荷がない場合には吹き出し
側と吸い込み側の温度差はほとんどない。しかしなが
ら、恒温槽内に温度面での負荷をかけると、吹き出し側
から吸い込み側に向かいながら温度が上昇していく。な
ぜならデバイスの発熱をそのまま拾っていくためであ
る。
As described above, in the constant temperature bath, an air blowing side and an air suction side are arranged to circulate air in a certain direction. When there is no load on the temperature side in the thermostat, there is almost no temperature difference between the blow-out side and the suction side. However, when a temperature load is applied to the thermostat, the temperature rises from the blowing side to the suction side. This is because the heat of the device is picked up as it is.

【0010】一列のバーンインボードであっても吹き出
し側と吸い込み側とでこの温度差が生じるのに、例えば
図1のようにボードラックを2列にすると、その温度差
は倍になることが考えられる。そしてこのような温度差
を確実かつ迅速に制御することは、従来のヒータや冷凍
機等による制御においては非常に難しかったのが実情で
ある。
[0010] Even with a single row of burn-in boards, this temperature difference occurs between the blow-out side and the suction side. For example, if the board racks are arranged in two rows as shown in Fig. 1, the temperature difference may be doubled. Can be In fact, it is very difficult to control such a temperature difference reliably and quickly in the conventional control using a heater, a refrigerator, or the like.

【0011】そこでこの発明の恒温槽の温度分布制御装
置は、バーンインボードを装着したボードラックが一列
または横方向に複数列並ぶ配置の恒温槽において、同一
バーンインボード上での両側の温度差を極力押さえ、ま
た各ボードラック間の風速を妨げることのないようにし
て、次のボードラックにエアが送り込まれるときにその
吸い込み側において吹き出し側と極力同じ温度にしよう
とするものである。そして、このような均等な温度調整
が可能で迅速に所定温度まで冷却することができる冷却
手段を備えているために、規定温度からの温度誤差を小
さくすることが可能で、シンプルで高負荷に対応するこ
とができる恒温槽を提供しようとするものである。
Therefore, the temperature distribution control device for a thermostatic bath according to the present invention, in a thermostatic bath in which board racks on which burn-in boards are mounted are arranged in a single row or in a plurality of rows in a horizontal direction, minimizes the temperature difference between both sides on the same burn-in board. The air is sent to the next board rack so that the temperature of the suction side is the same as that of the blowing side when air is sent to the next board rack so as not to hinder the air pressure between the board racks. And since such a uniform temperature adjustment is possible and the cooling means which can quickly cool to the predetermined temperature is provided, it is possible to reduce the temperature error from the specified temperature, and to achieve a simple and high load. It is intended to provide a thermostatic bath that can respond.

【0012】すなわち、ヒートパイプの非常にすばやい
熱伝達を利用するものであり、ヒートパイプの一端を恒
温槽内の温度を下げたい部位に設置し、他端を恒温槽内
の所定温度よりも低い温度の部位に設置することによ
り、上記部位のテストによる負荷でヒートアップした雰
囲気を瞬時にクールダウンさせることが可能な恒温槽の
温度分布制御装置を提供しようとするものである。
That is, the heat pipe utilizes a very quick heat transfer. One end of the heat pipe is installed at a portion where the temperature in the thermostat is to be lowered, and the other end is lower than a predetermined temperature in the thermostat. An object of the present invention is to provide a temperature distribution control device for a thermostatic bath, which can be instantaneously cooled down by setting up at a temperature site, an atmosphere heated up by a load based on the test of the site.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この発明の恒温槽の温度
分布制御装置は、多数のデバイスを実装したバーンイン
ボードを複数装着したボードラックを内部に設置した恒
温槽において、ヒートパイプの一端を恒温槽内の温度を
下げたい部位に設置し、他端を恒温槽内の所定温度より
も低い温度の部位に設置することにより、恒温槽内の各
バーンインボード上における温度を均一化したことを特
徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A temperature distribution control apparatus for a thermostat according to the present invention comprises a thermostat in which a board rack in which a plurality of burn-in boards on which a large number of devices are mounted is mounted is provided. The temperature on each burn-in board in the thermostat is made uniform by installing it at the location where you want to lower the temperature in the thermostat and by installing the other end at a temperature lower than the predetermined temperature in the thermostat. It is assumed that.

【0014】この発明の恒温槽の温度分布制御装置は、
多数のデバイスを実装したバーンインボードを複数装着
したボードラックを内部に設置した恒温槽において、ヒ
ートパイプを恒温槽内のエアーの流れ方向に沿って設置
することにより、恒温槽内の各バーンインボード上にお
ける温度を均一化したことを特徴とするものである。
[0014] The temperature distribution control device for a thermostatic bath according to the present invention comprises:
By installing heat pipes along the direction of air flow in the constant-temperature bath in a constant-temperature bath in which a board rack with multiple burn-in boards with multiple devices mounted is installed, Characterized in that the temperature in the above is made uniform.

【0015】したがってこの発明によれば、ヒートパイ
プの一端を恒温槽内の温度を下げたい部位に設置し、他
端を恒温槽内の所定温度よりも低い温度の部位に設置す
ることにより、ヒートパイプの非常にすばやい熱伝達を
効果的に利用することができるようになり、上記部位の
テストによる負荷でヒートアップした雰囲気を瞬時にク
ールダウンさせることが可能な、新規な恒温槽の温度分
布制御装置を提供することができるようになった。
Therefore, according to the present invention, by setting one end of the heat pipe at a position in the constant temperature bath where the temperature is desired to be lowered, and setting the other end at a position lower than a predetermined temperature in the constant temperature bath, A new type of temperature distribution control in a constant temperature bath that enables the very quick heat transfer of the pipes to be used effectively and allows the atmosphere that has been heated up by the load from the above test to be instantly cooled down. Equipment can now be provided.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、この発明の恒温槽の温度分
布制御装置の実施例を、図面に基づいて詳細に説明す
る。図1はこの発明の恒温槽の温度分布制御装置の1実
施例を示す概略図、図2はこの発明の恒温槽の温度分布
制御装置の他の実施例を示す概略図、図3はさらに別の
実施例を示す概略図、図4はテストの負荷をかけた状態
の温度変化を示す概略図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a temperature distribution control device for a thermostatic bath according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing one embodiment of a temperature distribution control device for a thermostatic bath of the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram showing another embodiment of the temperature distribution control device for a thermostatic bath of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing a temperature change under a test load.

【0017】図1において、1は恒温槽であり、多数の
デバイスを実装したバーンインボードを複数装着した一
対のボードラック3−1,3−2を炉本体2の内部に設
置したものである。この恒温槽1にはエア循環機構が付
設されている(図示せず)。そして、恒温槽1の−Y℃
の外気を取り込むとともに、これを循環させてボードラ
ック3−1,3−2内の温度X℃と混合して温度調整す
るようになっている。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a thermostat, in which a pair of board racks 3-1 and 3-2 on which a plurality of burn-in boards on which a number of devices are mounted are mounted are installed inside the furnace body 2. The constant temperature bath 1 is provided with an air circulation mechanism (not shown). And, -Y ° C. of the thermostat 1
Is circulated and mixed with the temperature X ° C. in the board racks 3-1 and 3-2 to adjust the temperature.

【0018】上記構造の恒温槽1には、炉本体2内の一
対のボードラック3−1,3−2の間に配設され、上端
を炉本体2上部に突出させたヒートパイプユニット5が
取り付けられている。このヒートパイプユニット5は、
密閉された金属パイプ製容器の内部を真空にし、水やフ
ロンの液体を少量封入したものである。そして、例えば
一端を加熱し、他端を冷却すると内部の液体に[沸騰]
−[蒸気の移動]−[凝縮]−[還流]のサイクルが生
じ、このような潜熱のやり取りを通じて熱が極めて迅速
に輸送される。
In the thermostat 1 having the above structure, a heat pipe unit 5 is provided between the pair of board racks 3-1 and 3-2 in the furnace main body 2 and has an upper end protruding above the furnace main body 2. Installed. This heat pipe unit 5
The inside of the sealed metal pipe container is evacuated, and a small amount of water or CFC liquid is sealed. Then, for example, when one end is heated and the other end is cooled, the internal liquid becomes [boiling].
A [vapor transfer]-[condensation]-[reflux] cycle occurs, and heat is transported very quickly through the exchange of latent heat.

【0019】すなわち、ヒートパイプユニット5の一端
を恒温槽1内の温度を下げたい部位に設置し、他端を恒
温槽1内の所定温度よりも低い温度の部位に設置するこ
とにより、恒温槽1内の各バーンインボード上における
温度が均一化されるのである。その際の温度変化を図1
下部のグラフに示す。
That is, by installing one end of the heat pipe unit 5 at a location where the temperature in the thermostat 1 is to be lowered and the other end at a location in the thermostat 1 at a temperature lower than a predetermined temperature, The temperature on each burn-in board in 1 is equalized. Figure 1 shows the temperature change at that time.
This is shown in the lower graph.

【0020】図2の第2の実施例において、1は恒温槽
であり、多数のデバイスを実装したバーンインボード6
を複数装着した一対のボードラック3−1,3−2を炉
本体2の内部に設置したものである。この恒温槽1には
エア循環機構が付設されており(図示せず)、恒温槽1
のエアを循環させてボードラック3−1,3−2内の温
度が均一化するよう温度調整している。そしてこの例で
は、細径ヒートパイプ、シート状ヒートパイプ等からな
るヒートパイプユニット群5’をバーンインボード6に
沿って多数配設してある。しかも、このヒートパイプユ
ニット群5’は、エアの流れの前後に位置する一対のボ
ードラック3−1,3−2間にまたがって、例えばそれ
ぞれ対応する高さのバーンインボード6に沿って多数配
設されている。
In the second embodiment shown in FIG. 2, reference numeral 1 denotes a thermostat, and a burn-in board 6 on which a number of devices are mounted.
Are mounted inside the furnace main body 2. The constant temperature bath 1 is provided with an air circulation mechanism (not shown).
Is circulated to make the temperature in the board racks 3-1 and 3-2 uniform. In this example, a large number of heat pipe unit groups 5 ′ including a small diameter heat pipe, a sheet heat pipe and the like are arranged along the burn-in board 6. Moreover, a large number of the heat pipe unit groups 5 ′ are arranged, for example, along the burn-in boards 6 of corresponding heights, between the pair of board racks 3-1 and 3-2 located before and after the flow of air. Has been established.

【0021】この例では、一対のボードラック3−1,
3−2間を流れるエアの温度を、図2下部のグラフのよ
うに常に均一に保つことができる。したがって、恒温槽
1においては炉本体2の外部のエア温度をコントロール
するだけで、一対のボードラック3−1,3−2間を流
れるエアの温度を調整することができるのである。
In this example, a pair of board racks 3-1,
The temperature of the air flowing between 3-2 can always be kept uniform as shown in the lower graph of FIG. Therefore, in the thermostat 1, the temperature of the air flowing between the pair of board racks 3-1 and 3-2 can be adjusted only by controlling the temperature of the air outside the furnace body 2.

【0022】図3の第3の実施例において、1は多数の
デバイスを実装したバーンインボードを複数装着したボ
ードラック3−1,3−2,3−3を炉本体2の内部に
設置した恒温槽である。この恒温槽1にはシロッコファ
ン等からなるエア循環機構4が付設されており、恒温槽
1のエアを循環させてボードラック3−1,3−2,3
−3内の温度が均一化するよう温度調整している。そし
てこの例では、ヒートパイプユニット5−1,5−2を
各ボードラック3−1,3−2,3−3間にそれぞれ配
設してある。そして、このヒートパイプユニット5−
1,5−2を、互いに連結しておけば、各ボードラック
3−1,3−2,3−3間における温度差をなくし、各
ボードラック3−1,3−2,3−3における温度を常
に一定に保つことができる。
In the third embodiment shown in FIG. 3, reference numeral 1 denotes a constant temperature in which a board rack 3-1, 3-2, 3-3 on which a plurality of burn-in boards on which a large number of devices are mounted is mounted inside the furnace body 2. It is a tank. An air circulation mechanism 4 composed of a sirocco fan or the like is attached to the constant temperature bath 1, and the air in the constant temperature bath 1 is circulated so that the board racks 3-1, 3-2, 3
The temperature is adjusted so as to make the temperature within -3 uniform. In this example, the heat pipe units 5-1 and 5-2 are arranged between the board racks 3-1, 3-2 and 3-3, respectively. And this heat pipe unit 5-
If 1, 5-2 are connected to each other, the temperature difference between the board racks 3-1, 3-2, 3-3 is eliminated, and the board racks 3-1, 3-2, 3-3 The temperature can always be kept constant.

【0023】その際の温度変化を図4に示す。すなわ
ち、ヒートパイプユニット5−1,5−2が配設されて
いない場合は図の左側のようにボードラック3−1→3
−2→3−3の順に温度が上昇してしまうが、ヒートパ
イプユニット5−1,5−2を配設することにより図の
右側のように正確な温度調整を行なうことができるよう
になるのである。
FIG. 4 shows the temperature change at that time. That is, when the heat pipe units 5-1 and 5-2 are not provided, the board racks 3-1 → 3 as shown on the left side of FIG.
Although the temperature rises in the order of −2 → 3−3, by arranging the heat pipe units 5-1 and 5-2, accurate temperature adjustment can be performed as shown on the right side of FIG. It is.

【0024】以上の恒温槽の温度分布制御装置の実施例
における効果を例示すれば次の通りである。 1)恒温槽内の所定の温度分布の±精度の範囲内に設定
温度を正確に保つことができる。 2)現状の恒温槽を用い、現状の負荷よりも大きな負荷
をかけることができるようになり、高負荷のデバイスへ
も対応することが可能となるとともに、現状においても
デバイスの実装数を増やすことができるようになる。し
たがって、一回に行なうバーンイン工程において、バー
ンインにかかる単価をも下げることができる。 3)恒温槽の温度分布制御装置の温度分布調整を自動的
に行うことができ、温度調整の時間が短縮でき、ヒート
パイプユニット等の部材の追加分を工数削減で補うこと
ができる。 4)ヒートパイプユニット等のユニット構成とすること
により、恒温槽を大型化させることなく小型の装置とす
ることができ、フロア面積におけるデバイス単価を安く
することができる。 5)ボードラックを並列に複数個並べる構造とすること
ができ、大容量のバーンインテストを行なうことができ
るようになる。 6)温度下降時も現状よりも迅速に温度低下させること
ができるので、バーンイン工程の時間短縮につながる。
The following is an example of the effects of the embodiment of the temperature distribution control device for a constant temperature bath. 1) The set temperature can be accurately maintained within a range of ± precision of a predetermined temperature distribution in the thermostat. 2) By using the current thermostat, it is possible to apply a load larger than the current load, and it is possible to cope with a device with a high load, and to increase the number of mounted devices even under the current condition. Will be able to Therefore, in the burn-in process performed at one time, the unit price for burn-in can be reduced. 3) The temperature distribution of the temperature distribution control device of the thermostatic bath can be automatically adjusted, the time of the temperature adjustment can be shortened, and the additional components such as the heat pipe unit can be compensated for by reducing the number of steps. 4) By adopting a unit configuration such as a heat pipe unit, a small-sized apparatus can be provided without increasing the size of a thermostat, and the unit cost of a device in a floor area can be reduced. 5) A plurality of board racks can be arranged in parallel, and a large-capacity burn-in test can be performed. 6) Since the temperature can be lowered more rapidly than at the time of temperature lowering, the time required for the burn-in process can be shortened.

【0025】[0025]

【発明の効果】この発明によれば、ヒートパイプの一端
を恒温槽内の温度を下げたい部位に設置し、他端を恒温
槽内の所定温度よりも低い温度の部位に設置することに
より、ヒートパイプの非常にすばやい熱伝達を効果的に
利用することができるようになり、上記部位のテストに
よる負荷でヒートアップした雰囲気を瞬時にクールダウ
ンさせることが可能な、新規な恒温槽の温度分布制御装
置を提供することができるようになった。
According to the present invention, by installing one end of the heat pipe in a portion of the thermostat where the temperature is desired to be lowered and the other end in a portion of the thermostat having a temperature lower than a predetermined temperature, A new thermostatic chamber temperature distribution that can effectively utilize the very fast heat transfer of the heat pipe and instantly cool down the atmosphere that has been heated up by the load of the above part test A control device can now be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の恒温槽の温度分布制御装置の1実施
例を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of a temperature distribution control device for a thermostatic bath according to the present invention.

【図2】この発明の恒温槽の温度分布制御装置の他の実
施例を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing another embodiment of the temperature distribution control device for a thermostatic bath of the present invention.

【図3】さらに別の実施例を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view showing still another embodiment.

【図4】図3の実施例においてテストの負荷をかけた状
態の温度変化を示す概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a temperature change under a test load in the embodiment of FIG. 3;

【図5】従来の恒温槽の1例を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic view showing an example of a conventional thermostat.

【図6】従来の恒温槽の温度分布制御装置の1例を示す
概略図である。
FIG. 6 is a schematic view showing an example of a conventional temperature distribution control device for a thermostatic bath.

【図7】その要部を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic view showing a main part thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 恒温槽 2 炉本体 3−1,3−2,3−3 ボードラック 4 エア循環機構 5,5−1,5−2 ヒートパイプユニット 5’ ヒートパイプユニット群 6 バーンインボード 11 恒温槽 12 シロッコファンないしポンプ 13 無段階オートダンパ REFERENCE SIGNS LIST 1 constant temperature bath 2 furnace body 3-1, 3-2, 3-3 board rack 4 air circulation mechanism 5, 5-1, 5-2 heat pipe unit 5 'heat pipe unit group 6 burn-in board 11 constant temperature bath 12 sirocco fan Or pump 13 stepless automatic damper

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数のデバイスを実装したバーンインボ
ードを複数装着したボードラックを内部に設置した恒温
槽において、ヒートパイプの一端を恒温槽内の温度を下
げたい部位に設置し、他端を恒温槽内の所定温度よりも
低い温度の部位に設置することにより、恒温槽内の各バ
ーンインボード上における温度を均一化したことを特徴
とする恒温槽の温度分布制御装置。
1. A thermostat in which a board rack in which a plurality of burn-in boards on which a number of devices are mounted is mounted is installed inside a heat pipe, one end of a heat pipe is installed in a portion where the temperature in the thermostat is to be lowered, and the other end is thermostated. A temperature distribution control device for a thermostatic bath, wherein the temperature distribution on each burn-in board in the thermostatic bath is made uniform by being installed in a portion of the bath having a temperature lower than a predetermined temperature.
【請求項2】 多数のデバイスを実装したバーンインボ
ードを複数装着したボードラックを内部に設置した恒温
槽において、ヒートパイプを恒温槽内のエアーの流れ方
向に沿って設置することにより、恒温槽内の各バーンイ
ンボード上における温度を均一化したことを特徴とする
恒温槽の温度分布制御装置。
2. A constant-temperature bath in which a board rack on which a plurality of burn-in boards on which a large number of devices are mounted is mounted is installed in a constant-temperature bath by installing a heat pipe along a flow direction of air in the constant-temperature bath. A temperature distribution control device for a thermostat, wherein the temperature on each burn-in board is made uniform.
JP33233599A 1999-11-24 1999-11-24 Temperature distribution controller for thermostatic oven Pending JP2001147251A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33233599A JP2001147251A (en) 1999-11-24 1999-11-24 Temperature distribution controller for thermostatic oven

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33233599A JP2001147251A (en) 1999-11-24 1999-11-24 Temperature distribution controller for thermostatic oven

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001147251A true JP2001147251A (en) 2001-05-29

Family

ID=18253823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33233599A Pending JP2001147251A (en) 1999-11-24 1999-11-24 Temperature distribution controller for thermostatic oven

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001147251A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007225496A (en) * 2006-02-24 2007-09-06 Espec Corp Environmental testing device
JP2010025920A (en) * 2008-06-18 2010-02-04 Espec Corp Environmental testing device
JP2010223789A (en) * 2009-03-24 2010-10-07 Espec Corp Temperature humidity treatment device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007225496A (en) * 2006-02-24 2007-09-06 Espec Corp Environmental testing device
JP4554535B2 (en) * 2006-02-24 2010-09-29 エスペック株式会社 Environmental test equipment
JP2010025920A (en) * 2008-06-18 2010-02-04 Espec Corp Environmental testing device
KR101123026B1 (en) * 2008-06-18 2012-03-16 에스펙 가부시키가이샤 Environment test device
JP2010223789A (en) * 2009-03-24 2010-10-07 Espec Corp Temperature humidity treatment device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5941083A (en) Cooling device and cooling method
US6450803B2 (en) Heat treatment apparatus
US7017658B2 (en) Heat processing device
JP3665826B2 (en) Substrate heat treatment equipment
JPWO2003007007A1 (en) Electronic component handling apparatus and electronic component temperature control method
US6504392B2 (en) Actively controlled heat sink for convective burn-in oven
US20020017916A1 (en) Termperature-controlled semiconductor wafer chuck system
WO1999038209A2 (en) Method and apparatus for temperature control of a semiconductor electrical-test contactor assembly
US7947215B2 (en) Heat treatment apparatus, heat treatment method, and recording medium storing computer program carrying out the same
JP2005156172A (en) Test burn-in device for middle power and high power ic
KR20170023340A (en) Apparatus for testing reliability of semiconductor component in which air flows efficiently
KR20180016121A (en) Test apparatus of semiconductor package
KR102623795B1 (en) Method for controlling temperature of substrate support and inspection apparatus
JP2001147251A (en) Temperature distribution controller for thermostatic oven
JP3611174B2 (en) Semiconductor wafer temperature test equipment
KR102659795B1 (en) Inspection system and inspection method
JP3170237B2 (en) Heat treatment equipment that can heat one side of a flat work without wind
US9377423B2 (en) Systems and methods for handling substrates at below dew point temperatures
JP4129206B2 (en) Heat treatment equipment
KR100938363B1 (en) The reliability testing for temperature regulation system of memory module
JP2998557B2 (en) Room temperature controller for constant temperature bath
JP2520558Y2 (en) Low temperature handler
KR19990036603A (en) Heat treatment device that can heat flat work without wind
JPH10239386A (en) Burn-in system
CN208848864U (en) Semiconductor diffusion equipment