JP2001141603A - Method for inspecting color filter - Google Patents
Method for inspecting color filterInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレー
（以下、ＬＣＤと記載）、プラズマディスプレーなどを
構成するカラーフィルターであって、表示ムラを発生さ
せないカラーフィルターを得るのに好適なカラーフィル
ターの検査方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter for a liquid crystal display (hereinafter, referred to as an LCD), a plasma display, etc., which is suitable for obtaining a color filter which does not cause display unevenness. It is about the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】カラーフィルターにおいて近年、基板上
に付着したパーティクルがＬＣＤ表示品位に影響を及ぼ
すことがわかってきた。とりわけ、洗浄で除去しにくい
非表示部のパーティクルは問題視されることがあった
が、厳密にどの程度まで表示品位的に許容されるのか明
確でなかった。その理由の一つとして従来、カラーフィ
ルターの非表示部のパーティクルを定量化する方法が無
く、官能検査に頼る方法が採用されたきたことが挙げら
れる。2. Description of the Related Art In recent years, it has been found that particles adhering to a substrate in a color filter affect LCD display quality. In particular, particles in the non-display portion, which are difficult to remove by washing, were regarded as a problem, but it was not clear exactly how much the display quality was allowed. One of the reasons is that there has been no method of quantifying particles in a non-display portion of a color filter, and a method relying on a sensory test has been employed.
【０００３】例えば、特開平９−６１６１９号公報に
は、カラーフィルター基板の非表示部に残った微粒子残
渣検査方法が記載されている。これによると該非表示部
分を走査型電子顕微鏡（以下、ＳＥＭと記載）で写真を
撮り、１：残渣皆無、２：少しは残渣有る、３：中程度
に残渣が有る、４：かなり残渣有る、５：非常に多く残
渣が有る、という５段階官能評価を行っている。しかし
ながら、この方法による評価方法を試みたが、写真のフ
ォーカス、コントラスト、明るさ等により残渣量の印象
が違ってくるため判定が難しく、同一写真を複数人で判
定した場合、判定に２段階の開きが発生するものもあっ
た。For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-61619 describes a method for inspecting the residue of fine particles remaining on a non-display portion of a color filter substrate. According to this, a photograph was taken of the non-displayed portion with a scanning electron microscope (hereinafter referred to as SEM), 1: no residue, 2: slight residue, 3: moderate residue, 4: considerable residue, 5: A five-level sensory evaluation that there is an extremely large amount of residue is performed. However, although an evaluation method using this method was attempted, it is difficult to determine the impression because the impression of the residue amount differs depending on the focus, contrast, brightness, and the like of the photograph. In some cases, opening occurred.
【０００４】このように評価に再現性が無く、定量性に
欠いた評価方法であるこの例のように、カラーフィルタ
ーの非表示部のパーティクルを定量化する方法が無かっ
たために表示ムラを発生させないレベルのパーティクル
数を規定したカラーフィルターは無かった。As described above, there is no method for quantifying particles in a non-display portion of a color filter, as in this example, which is an evaluation method lacking reproducibility and lacking in quantitativeness, so that display unevenness does not occur. There was no color filter that specified the number of particles at the level.
【０００５】例えば、同じく特開平９−６１６１９号公
報に記載のカラーフィルターの製造方法における実施例
によると、カラーフィルター非画像部の汚染度を複数人
数で５段階官能検査を実施して１．５を達成したとある
が、残渣がどのくらいのレベルであるのか漠然としてい
る。また、そのレベルが液晶パネル組立後の表示品位に
与える影響も明確でない。For example, according to an embodiment of a method for manufacturing a color filter described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-61619, the degree of contamination of a non-image area of a color filter is determined by performing a five-stage sensory test with a plurality of persons. Has been achieved, but it is vague at what level the residue is. Also, the effect of the level on the display quality after assembling the liquid crystal panel is not clear.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明においては、カ
ラーフィルター上のパーティクル検査における従来技術
の問題点を解決し、定量性のある検査方法を採用して、
カラーフィルター基板上のパーティクル数を明確に規定
することにより、液晶ディスプレーの表示ムラを発生さ
せないカラーフィルターを得るのに好適なカラーフィル
ターの検査方法を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the problems of the prior art in particle inspection on a color filter and employs a quantitative inspection method.
An object of the present invention is to provide a color filter inspection method suitable for obtaining a color filter which does not cause display unevenness of a liquid crystal display by clearly defining the number of particles on a color filter substrate.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の、前記目的を達
成するためのカラーフィルターの検査方法は、以下の構
成を有する。すなわち、基板上に、フォトリソ法により
着色層をパターニングしたカラーフィルターにおいて非
表示部上をある範囲に分割し、その範囲毎の物理量を測
定する測定手段と、得られた測定データを処理しパーテ
ィクルの特徴量を計算する処理手段とを備え、パーティ
クルの特徴量から前記カラーフィルターの良否を判断す
ることを特徴とするカラーフィルターの検査方法であ
る。According to the present invention, a color filter inspection method for achieving the above object has the following configuration. That is, a non-display portion is divided into a certain range in a color filter in which a colored layer is patterned by a photolithography method on a substrate, and a measuring means for measuring a physical quantity in each of the ranges, and processing the obtained measurement data to process particles Processing means for calculating a characteristic amount, and determining whether the color filter is good or not based on the characteristic amount of the particles.
【０００８】なお、上記における物理量とは高さ、輝度
などを表し、特徴量とは個数、サイズなどを表す。ある
範囲とは基板上パーティクルが認識出来る程度の解像度
が得られる測定範囲を表す。[0008] In the above description, the physical quantities represent height, luminance, and the like, and the feature quantities represent the number, size, and the like. The certain range represents a measurement range in which a resolution is obtained at which particles on the substrate can be recognized.
【０００９】また、上記に記載のカラーフィルター検査
方法により測定した非表示部のパーティクル数が１６０
個／１００μｍ2以下であることが好ましい。The number of particles in the non-display area measured by the above-described color filter inspection method is 160.
The number is preferably not more than 100 μm 2 .
【００１０】また、非表示部を測定する手段としては、
ＳＥＭあるいは原子間力顕微鏡（以下、ＡＦＭと記載）
を使用することが好ましい。As means for measuring the non-display portion,
SEM or atomic force microscope (hereinafter referred to as AFM)
It is preferred to use
【００１１】本発明では、パーティクルがＬＣＤ表示品
位低下につながるため、パーティクルが所定量以下に規
定したカラーフィルターであることが重要である。In the present invention, it is important that the particles are color filters defined to be equal to or less than a predetermined amount, since the particles lead to deterioration of LCD display quality.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】本発明者らは検討を行った結果、
非表示部のパーティクルは着色層フォトリソ工程でパタ
ーン加工する際に発生し、ガラス等の基板上に付着して
いるという知見を得た。また、分析の結果、これらのパ
ーティクルは顔料粒子が大部分を占めており、薄い樹脂
膜がバインダーとなり、基板と顔料が付着しているとい
う知見を得た。従って液晶パネル製造ラインにカラーフ
ィルターを投入する前にカラーフィルター非表示部のパ
ーティクル数が所定量以下であることが重要である。具
体的には、非表示部のパーティクル数が１６０個／１０
０μｍ2以下であることが好ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As a result of investigations by the present inventors,
It has been found that particles in the non-display area are generated during pattern processing in the colored layer photolithography process and adhere to a substrate such as glass. Further, as a result of the analysis, it was found that pigment particles occupy the majority of these particles, a thin resin film serves as a binder, and the pigment adheres to the substrate. Therefore, it is important that the number of particles in the color filter non-display portion is equal to or less than a predetermined amount before the color filter is put into the liquid crystal panel manufacturing line. Specifically, the number of particles in the non-display portion is 160/10
It is preferably 0 μm 2 or less.
【００１３】以下、本発明の実施の形態について説明す
る。カラーフィルターを作る基板にはガラス、プラスチ
ックなどの基板が使用される。基板に着色層パターンを
形成する方法としては、感光性着色樹脂を基板の全面あ
るいは部分的に塗布・乾燥し、露光・現像する方法と、
非感光性樹脂を同様に塗布・乾燥し、その上から感光性
樹脂を塗布・乾燥し、露光・現像を行うフォトリソ法が
一般的である。本発明においては、用いる感光性樹脂の
ネガ型、ポジ型の選択は露光マスクの設計にあわせてど
ちらであっても構わない。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. A substrate made of glass, plastic, or the like is used as a substrate for forming a color filter. As a method of forming a colored layer pattern on the substrate, a method of applying and drying a photosensitive colored resin on the entire or partial surface of the substrate, exposing and developing,
A photolithography method in which a non-photosensitive resin is similarly applied and dried, a photosensitive resin is applied and dried on the non-photosensitive resin, and exposure and development are performed is common. In the present invention, the negative or positive photosensitive resin used may be selected according to the design of the exposure mask.
【００１４】樹脂の塗布方式としてはスピンコート、ス
リットダイコート、ロールコートなどがあり、いずれも
採用できる。塗布ではないが着色フィルムにより基板転
写する方法でも採用できる。As a method of applying the resin, there are spin coating, slit die coating, roll coating and the like, and any of them can be adopted. Instead of coating, a method of transferring a substrate using a colored film can also be employed.
【００１５】現像液には無機アルカリ系、有機アルカリ
系のものを用いることができる。また、着色層を形成す
る樹脂材料としては、アクリル系、ポリイミド系、ポリ
ビニールアルコール系、エポキシ系、ウレタン系、ポリ
カーボネート系などが用いられる。さらに、樹脂内に分
散混入される顔料としては、有機顔料、無機顔料等が用
いられ、所望の分光特性を得られるものであればどのよ
うな組み合わせで作られた着色樹脂層であっても構わな
い。As the developing solution, an inorganic alkali type or an organic alkali type can be used. In addition, as a resin material for forming the coloring layer, an acrylic resin, a polyimide resin, a polyvinyl alcohol resin, an epoxy resin, a urethane resin, a polycarbonate resin, or the like is used. Further, as the pigment dispersed and mixed in the resin, an organic pigment, an inorganic pigment, or the like is used, and a colored resin layer made of any combination may be used as long as desired spectral characteristics can be obtained. Absent.
【００１６】本発明の検査法方に適用するカラーフィル
ターは製造に使用される塗布方式、現像液、感光性・非
感光性着色樹脂材料、感光性樹脂は限定はしない。ま
た、どのような組み合わせで製造したカラーフィルター
にも適用される。The color filter applied to the inspection method of the present invention is not limited to a coating method, a developer, a photosensitive / non-photosensitive colored resin material, and a photosensitive resin used in the production. Further, the present invention is applied to color filters manufactured in any combination.
【００１７】このようにしてフォトリソ工程を経て出来
上がったカラーフィルターの非表示部にはパーティクル
が残っている。これを布で拭き取りをすると着色するこ
とからこのパーティクルは顔料粒子であると推定される
が、詳細に分析すると樹脂カスなども含まれている。Particles remain in the non-display portion of the color filter formed through the photolithography process as described above. The particles are presumed to be pigment particles because they are colored when they are wiped off with a cloth, but when analyzed in detail, resin particles and the like are included.
【００１８】前記したように、顔料粒子は薄い樹脂層が
バインダーとなって付着しており、パーティクルを除去
したカラーフィルターを製造する手段としては、着色樹
脂の乾燥条件、露光・現像条件、ＵＶ照射によるバイン
ダー層の分解、ブラシ洗浄、洗浄液などの組み合わせに
より達成が可能である。As described above, pigment particles have a thin resin layer adhered as a binder, and means for producing a color filter from which particles have been removed include drying conditions of a colored resin, exposure and development conditions, UV irradiation, and the like. This can be achieved by a combination of decomposition of a binder layer, brush cleaning, cleaning liquid, and the like.
【００１９】パーティクルの定量評価は、パーティクル
の大きさ以下の分解能で、非表示部の基板部分とパーテ
ィクル部分の物理量を測定する測定手段と、測定データ
からパーティクルの個数、大きさ等の特徴量を計算する
処理手段により達成可能である。The quantitative evaluation of the particles is performed by measuring the physical quantities of the substrate portion and the particle portion of the non-display portion with a resolution equal to or smaller than the size of the particles, and measuring the characteristic quantities such as the number and size of the particles from the measurement data. This can be achieved by a processing means for calculating.
【００２０】測定手段としては、ＡＦＭ、ＳＥＭが好ま
しいが、基板部分とパーティクル部分の物理量の相違を
測定できるものであれば、どのような測定手段でも構わ
ない。測定手段として例えばＡＦＭを使用した場合に
は、得られる測定結果は表面の高さである。パーティク
ルの高さは３０オングストローム〜３０００オングスト
ロームであり、基板自体の表面粗さＲａ２オングストロ
ーム〜５オングストロームに対して大きいため、パーテ
ィクルと基板自体の持つ突起との識別は容易である。Ａ
ＦＭでの測定面積として望ましいのが１００μｍ2〜２
５００μｍ2である。しかし、この範囲を外れる面積で
の測定による方法が本発明の効果に何ら影響を与えるも
のではない。測定手段によってえられた測定データを処
理装置に掛け、２値計測などの既存の画像処理手法を使
用して、個数、サイズなどのパーティクルの特徴量を定
量評価することが可能である。As the measuring means, AFM and SEM are preferable, but any measuring means may be used as long as it can measure the difference in physical quantity between the substrate portion and the particle portion. If, for example, an AFM is used as the measuring means, the measurement result obtained is the height of the surface. The height of the particles is 30 angstroms to 3000 angstroms, which is larger than the surface roughness Ra2 angstroms to 5 angstroms of the substrate itself, so that it is easy to distinguish the particles from the projections of the substrate itself. A
It is preferable that the measurement area in FM is 100 μm 2 to 2.
It is 500 μm 2 . However, a method based on measurement in an area outside this range does not affect the effect of the present invention at all. The measurement data obtained by the measuring means can be applied to a processing device to quantitatively evaluate the feature amounts of particles, such as the number and size, using an existing image processing technique such as binary measurement.
【００２１】[0021]
【実施例】実施例１ 以下、本発明の実施例を示す。本実施例ではＮＨテクノ
ガラス社製ＮＡ３５ガラス３６０×４６５×０．７ｍｍ
ｔ基板上に所望の分光特性が得られる膜厚になるよう赤
色ポリイミド系顔料分散樹脂を塗布・乾燥し、ポジ型レ
ジストを塗布・乾燥後、マスク露光および有機アルカリ
現像液（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）によ
るフォトリソ加工を行い、ストライプパターンを基板上
に形成した。これを緑色ポリイミド系顔料分散樹脂、青
色ポリイミド系顔料分散樹脂について同様に繰り返し、
ＲＧＢ着色層パターニングを行い、ナイロン植毛ロール
ブラシのブラシ押し込み量（０ｍｍ〜２ｍｍ）、回転数
（３０ｒｐｍ〜８０ｒｐｍ）等の条件を変えながら洗浄
を行い、その後、表示部にＩＴＯ電極膜を成膜してカラ
ーフィルターを作成した。非表示部を１００ｃｍ2の大
きさにガラス切りで切り出し、切り出しサンプルをＡＦ
Ｍにセットして非表示部の素ガラス上のパーティクルを
１ポイント測定した。 ＜ＡＦＭ＞ 装置メーカー：デジタルインスツルメント社製 機種 ：Ｄ３０００ コントロールユニット：大型サンプル観測用NanoscopeI
IIaを使用。主な測定パラメーターは、 測定方式：タッピングモード Ｓｃａｎ ｓｉｚｅ：１０μｍ×１０μｍ Ｓｃａｎ ｓｐｅｅｄ：０．５００Ｈｚ Ｓａｎｐｌｅ／ｌｉｎｅ：５１２ Ｌｉｎｅ：５１２ Ｚ ｌｉｍｉｔ：４４０Ｖである。Embodiment 1 An embodiment of the present invention will be described below. In this embodiment, NA35 glass manufactured by NH Techno Glass Co., Ltd. 360 × 465 × 0.7 mm
Apply and dry a red polyimide-based pigment-dispersed resin on the substrate so as to obtain a desired spectral characteristic, apply and dry a positive resist, and perform mask exposure and an organic alkali developer (tetramethylammonium hydroxide solution). ) To form a stripe pattern on the substrate. This is repeated for the green polyimide pigment dispersion resin and the blue polyimide pigment dispersion resin in the same manner,
The RGB colored layer is patterned, and washed while changing the conditions such as the amount of pushing of the nylon flocking roll brush (0 mm to 2 mm) and the number of rotations (30 rpm to 80 rpm). To create a color filter. The non-display part is cut out by glass cutting to a size of 100 cm 2 , and the cut out sample is AF
M was set at M, and one point of particles on the non-display portion of the raw glass was measured. <AFM> Equipment maker: Digital Instruments Model: D3000 Control unit: Nanoscope I for large sample observation
Use IIa. The main measurement parameters are: measurement method: tapping mode Scan size: 10 μm × 10 μm Scan speed: 0.500 Hz Sample / line: 512 Line: 512 Z limit: 440 V
【００２２】測定後、ハードディスクに取り込んだイメ
ージ画像データを平滑処理して、その後、２値化閾値を
２０オングストロームに設定し、２値化処理を行いパー
ティクル数をカウントした。その後、既存の方法で配向
膜塗布、ラビング実施後カラーフィルターと薄膜トラン
ジスター基板をエポキシ樹脂で貼り合わせ液晶を注入
し、モジュール化し、液晶パネルをグレー表示で点灯さ
せ表示ムラを評価した。パーティクル数と表示ムラ発生
の関係は、以下の表１に示すような結果が得られた。After the measurement, the image data taken into the hard disk was smoothed, and thereafter, the binarization threshold was set to 20 angstroms, the binarization was performed, and the number of particles was counted. Then, after applying an alignment film and rubbing by an existing method, the color filter and the thin film transistor substrate were bonded together with an epoxy resin, and liquid crystal was injected to form a module. The liquid crystal panel was lit in gray display to evaluate display unevenness. Regarding the relationship between the number of particles and the occurrence of display unevenness, results as shown in Table 1 below were obtained.
【００２３】[0023]
【表１】 [Table 1]
【００２４】表示ムラで、○はムラ発生無し、△は程度
の弱いムラ有り×は強いムラ発生有りである。パーティ
クル数が１８１個／１００μｍ2以下のものは表示ムラ
は発生しなかった。＜従来の技術＞で記載の５段階官能
検査では表示ムラと評点との関係が明確でなかった。In the display unevenness, ○ indicates no unevenness, Δ indicates slight unevenness, and X indicates strong unevenness. When the number of particles was 181/100 μm 2 or less, no display unevenness occurred. In the five-stage sensory test described in <Prior Art>, the relationship between the display unevenness and the score was not clear.
【００２５】実施例２ 実施例１で作成したのと同様のカラーフィルターを用
い、非表示部を１ｃｍ2の大きさにガラス切りで切り出
し、白金を１００オングストローム蒸着した後、ＳＥＭ
によるガラス上の撮像を１視野行いハードディスクドラ
イブに画像データーを取り込んだ。 ＜ＳＥＭ＞ 装置メーカー：日立製作所 機種 ：Ｓ−４７００形 高分解能走査型電子顕微鏡
サンプル観察条件は、 加速電圧：１０ｋＶ 倍率 ：１万倍 観察アングル：サンプル基板表面に対し６０度 取り込んだ画像データを処理装置にて平滑化、２値化処
理をしてパーティクル数をカウントした結果、以下の表
２に示すような結果が得られた。Example 2 Using a color filter similar to that prepared in Example 1, the non-display portion was cut out with a glass cut into a size of 1 cm 2 , and platinum was vapor-deposited for 100 angstroms.
One field of view was taken on the glass by the camera, and the image data was taken into the hard disk drive. <SEM> Equipment manufacturer: Hitachi Model: S-4700 type high-resolution scanning electron microscope Sample observation conditions: Acceleration voltage: 10 kV Magnification: 10,000 times Observation angle: Processing image data captured at 60 degrees to the sample substrate surface As a result of performing the smoothing and binarization processing with the device and counting the number of particles, the results shown in Table 2 below were obtained.
【００２６】[0026]
【表２】 [Table 2]
【００２７】パーティクル数が１８６個／１００μｍ2
以下のものは表示ムラ発生しなかった。The number of particles is 186/100 μm 2
In the following, no display unevenness occurred.
【００２８】実施例３ 実施例１で作成した条件５の基板を使用して実施例１、
２のＡＦＭ、ＳＥＭによるパーティクル数測定でシート
内１０ポイントのパーティクル数分布のバラツキおよび
シート間のバラツキを測定し、以下の表３に示すような
結果が得られた。Example 3 Using the substrate of Condition 5 prepared in Example 1,
The variation in particle number distribution at 10 points in the sheet and the variation between sheets were measured by measuring the number of particles by AFM and SEM of No. 2, and the results shown in Table 3 below were obtained.
【００２９】[0029]
【表３】 [Table 3]
【００３０】実施例１、２、３からパーティクルの分布
バラツキを考慮した表示ムラを発生させないパーティク
ル数は１６０個／１００μｍ2以下であるとした。From Examples 1, 2, and 3, it is assumed that the number of particles that do not cause display unevenness in consideration of the distribution variation of particles is 160 particles / 100 μm 2 or less.
【００３１】[0031]
【発明の効果】本発明により、カラーフィルター製造工
程での基板上パーティクル数の管理が明確になり、ＬＣ
Ｄ表示ムラをなくすことが出来た。また、これを達成す
るためにＡＦＭあるいはＳＥＭ等の高分解能を有する表
面観察手段等によりパーティクルを定量することが出来
た。According to the present invention, the control of the number of particles on the substrate in the color filter manufacturing process becomes clear,
D display unevenness could be eliminated. In order to achieve this, particles could be quantified by a surface observation means having a high resolution such as AFM or SEM.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０６Ｍ 11/00 Ｇ０６Ｍ 11/00 Ａ Ｆターム(参考） 2G001 AA03 BA07 CA03 GA06 MA04 2G086 EE05 EE10 2H048 BA02 BA16 BA17 BA20 BA25 BA29 BB02 BB14 BB43 2H091 FA02Y FC10 FC30 LA15 LA18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G06M 11/00 G06M 11/00 A F-term (Reference) 2G001 AA03 BA07 CA03 GA06 MA04 2G086 EE05 EE10 2H048 BA02 BA16 BA17 BA20 BA25 BA29 BB02 BB14 BB43 2H091 FA02Y FC10 FC30 LA15 LA18
Claims (5)
ーニングしたカラーフィルターにおいて、非表示部上を
ある範囲に分割し、その範囲毎の物理量を測定する測定
手段と、得られた測定データを処理しパーティクルの特
徴量を計算する処理手段とを備え、パーティクルの特徴
量から前記カラーフィルターの良否を判断することを特
徴とするカラーフィルターの検査方法。In a color filter in which a colored layer is patterned on a substrate by a photolithography method, a non-display portion is divided into a certain range, and a measuring means for measuring a physical quantity in each range, and processing the obtained measurement data Processing means for calculating the characteristic amount of the particles, and determining whether the color filter is good or not based on the characteristic amounts of the particles.
数であって、パーティクル個数が１６０個／１００μｍ
2以下であることを特徴とするカラーフィルターの検査
方法。2. The characteristic amount of the particles according to claim 1 is a number, and the number of particles is 160/100 μm.
An inspection method of a color filter, wherein the number is 2 or less.
徴とする請求項１記載のカラーフィルターの検査方法。3. The color filter inspection method according to claim 1, wherein the measuring means is an atomic force microscope.
特徴とする請求項１記載のカラーフィルターの検査方
法。4. The color filter inspection method according to claim 1, wherein the measuring means is a scanning electron microscope.
ィルターの検査方法によって得られた非表示部のパーテ
ィクル個数が１６０個／１００μｍ2以下であることを
特徴とするカラーフィルター。5. A color filter, wherein the number of particles in a non-display portion obtained by the method for inspecting a color filter according to claim 1 is 160/100 μm 2 or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32389699A JP2001141603A (en) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | Method for inspecting color filter |
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| JP32389699A JP2001141603A (en) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | Method for inspecting color filter |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001141603A true JP2001141603A (en) | 2001-05-25 |
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|---|---|---|---|
| JP32389699A Pending JP2001141603A (en) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | Method for inspecting color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001141603A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8314936B2 (en) | 2006-09-08 | 2012-11-20 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Evaluation method of fouling, fouling evaluation apparatus, production method of optical member, optical layered body, and display product |
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1999
- 1999-11-15 JP JP32389699A patent/JP2001141603A/en active Pending
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