JP2001122609A - Method for manufacturing disproportionation reaction product of silane compound - Google Patents

Method for manufacturing disproportionation reaction product of silane compound

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JP2001122609A
JP2001122609A JP30548799A JP30548799A JP2001122609A JP 2001122609 A JP2001122609 A JP 2001122609A JP 30548799 A JP30548799 A JP 30548799A JP 30548799 A JP30548799 A JP 30548799A JP 2001122609 A JP2001122609 A JP 2001122609A
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JP
Japan
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catalyst
reaction
disproportionation
disproportionation reaction
trichlorosilane
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JP30548799A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Kameda
誠 亀田
Kanji Sakata
勘治 坂田
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Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently perform the disproportionation reaction of hydrohalogenated silane by developing a catalyst having high catalytic activity. SOLUTION: The disproportionation reaction product of the silane compound is manufactured by using the catalyst composed of at least one metal or metal oxide selected from chromium, molybdenum, tungsten, nickel, platinum and fringing hydrohalogenated silane such as trichlorosilane into contact with the catalyst to cause the disproportionation reaction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種シラン化合物
の不均化反応生成物の製造方法に関する。さらに詳しく
は、ジクロロシラン等の水素化ハロゲン化シランを特定
の触媒存在下に不均化反応させることにより、モノシラ
ン等のシラン化合物の不均化反応生成物を製造する場合
に好適な方法に関する。
The present invention relates to a method for producing a disproportionation reaction product of various silane compounds. More specifically, the present invention relates to a method suitable for producing a disproportionation reaction product of a silane compound such as monosilane by disproportionating a hydrogenated silane such as dichlorosilane in the presence of a specific catalyst.

【0002】[0002]

【従来の技術】モノシラン、ジクロロシラン等のシラン
化合物は、シリコン単結晶の原料、シリコンのエピタキ
シャル成長等の半導体工業において重要な物質であり、
近年急激に需要が増大している。
2. Description of the Related Art Silane compounds such as monosilane and dichlorosilane are important materials in the semiconductor industry such as a raw material for silicon single crystal and epitaxial growth of silicon.
In recent years, demand has rapidly increased.

【0003】これらの化合物の製造方法としては、様々
な方法が知られているが、水素化ハロゲン化シランを不
均化して目的とするシラン化合物を含む多くの不均化反
応生成物を得て、その中から目的の化合物を蒸留等の手
段により分別して得る方法が、最も経済的であるとされ
る。
[0003] Various methods for producing these compounds are known. However, many disproportionation reaction products containing a target silane compound are obtained by disproportionating a hydrogenated silane. The most economical method is to obtain a target compound from the compound by distillation or other means.

【0004】ここで水素化ハロゲン化シランの不均化反
応とは、該水素化ハロゲン化シランの分子間で、水素と
ハロゲンを交換することにより、原料の水素化ハロゲン
化シランとは各々異なるシラン化合物を生成させる反応
である。新しく生成した化合物が、更に同様の交換反応
を繰り返すので、反応系は数種類のシラン化合物からな
る混合組成となる。
[0004] Here, the disproportionation reaction of the hydrogenated silane refers to a method in which hydrogen and halogen are exchanged between the molecules of the hydrogenated silane to form silanes different from the raw material hydrogenated silane. This is a reaction for producing a compound. Since the newly generated compound repeats the same exchange reaction, the reaction system has a mixed composition composed of several kinds of silane compounds.

【0005】例としてトリクロロシランの不均化を説明
する。ある適当な触媒の存在下では、下式のように、ま
ずトリクロロシラン同士が水素と塩素を交換し合い、ジ
クロロシランと四塩化ケイ素を生成する。ジクロロシラ
ンは同様にモノクロロシランとトリクロロシランを生成
する。モノクロロシランも同様に、モノシランとジクロ
ロシランを生成する。これらの反応が繰り返され、系は
モノシラン、モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリ
クロロシラン、四塩化ケイ素の5成分からなる混合組成
となる。
The disproportionation of trichlorosilane will be described as an example. In the presence of a suitable catalyst, trichlorosilanes first exchange hydrogen and chlorine to form dichlorosilane and silicon tetrachloride, as shown below. Dichlorosilane also produces monochlorosilane and trichlorosilane. Monochlorosilane similarly produces monosilane and dichlorosilane. These reactions are repeated, and the system becomes a mixed composition comprising five components of monosilane, monochlorosilane, dichlorosilane, trichlorosilane, and silicon tetrachloride.

【0006】[0006]

【化1】 例えば、目的物がモノシランの場合、この混合物の中か
ら蒸留などの方法によって分別すれば良い。なお、この
不均化反応は平衡反応であり、十分な反応時間(接触時
間)をとると、反応系は平衡組成に達する。但し、目的
物を分別して得る際に、必ずしも系が平衡に達している
必要はない。
Embedded image For example, when the target substance is monosilane, the mixture may be separated from the mixture by a method such as distillation. This disproportionation reaction is an equilibrium reaction, and the reaction system reaches an equilibrium composition when a sufficient reaction time (contact time) is taken. However, it is not always necessary for the system to reach equilibrium when separating and obtaining the target substance.

【0007】水素化ハロゲン化シランの不均化反応に使
用する触媒については、多くの技術が特許等に開示され
ている。例えば、特公昭63−16328号公報には、
第四級アンモニウム塩を液相均一系触媒として溶媒に溶
解して使用する方法が開示されており、一方、特開昭4
7−12569号公報には陰イオン交換樹脂を固体不均
一系触媒として使用する方法が開示されている。また、
特開平1−122914号公報には、金属ロジウムを触
媒として使用する方法が開示されている。
As to the catalyst used for the disproportionation reaction of the hydrogenated silane, many techniques are disclosed in patents and the like. For example, in Japanese Patent Publication No. 63-16328,
A method in which a quaternary ammonium salt is dissolved in a solvent and used as a liquid phase homogeneous catalyst is disclosed.
JP-A-7-12569 discloses a method using an anion exchange resin as a solid heterogeneous catalyst. Also,
JP-A-1-122914 discloses a method using metal rhodium as a catalyst.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公昭
63−16328号公報に記載されている第四級アンモ
ニウム塩を液相均一系触媒として使用した場合は、反応
生成物と触媒の分離に多大なエネルギーを要するという
問題があった。
However, when a quaternary ammonium salt described in JP-B-63-16328 is used as a homogeneous catalyst in a liquid phase, a great deal of work is required to separate the reaction product from the catalyst. There was a problem of requiring energy.

【0009】また、上記特開昭47−12569号公報
に記載されている陰イオン交換樹脂を触媒として使用す
れば、上記した分離の問題は解消できるが、陰イオン交
換樹脂の最高使用温度が100℃程度と低いため、十分
な反応速度を得ることができず、更に高価であるという
問題があった。
If the anion exchange resin described in JP-A-47-12569 is used as a catalyst, the above-mentioned separation problem can be solved, but the maximum use temperature of the anion exchange resin is 100%. Since the temperature is as low as about ° C., there was a problem that a sufficient reaction rate could not be obtained and the cost was higher.

【0010】特開平1−122914号公報に記載され
ている金属ロジウムを触媒に用いる方法は、反応生成物
と触媒の分離も容易であり、耐熱性にも優れているが、
触媒の活性が低いという問題があった。
The method using a metal rhodium as a catalyst described in JP-A-1-122914 is easy in separating a reaction product and a catalyst and is excellent in heat resistance.
There was a problem that the activity of the catalyst was low.

【0011】したがって、上記水素化ハロゲン化シラン
の不均化反応において、反応生成物と触媒との分離が容
易で、高い耐熱性を有し、更に高い触媒活性を有する触
媒を開発し、該反応を効率良く行うことが課題であっ
た。
Therefore, in the disproportionation reaction of the above-mentioned hydrogenated silane, a catalyst which can easily separate the reaction product from the catalyst, has high heat resistance, and has higher catalytic activity has been developed. The task was to perform the process efficiently.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
について鋭意研究を重ねた結果、クロム、モリブデン、
タングステン、ニッケル、白金から選ばれる少なくとも
一種の金属または金属酸化物からなる触媒を用いること
によって、水素化ハロゲン化シランの不均化反応を高い
反応活性で行うことができることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on the above-mentioned problems and found that chromium, molybdenum,
By using a catalyst comprising at least one metal or metal oxide selected from tungsten, nickel, and platinum, it has been found that the disproportionation reaction of a hydrogenated silane can be performed with high reaction activity, and the present invention has been completed. I came to.

【0013】即ち、本発明は、クロム、モリブデン、タ
ングステン、ニッケル、白金から選ばれる少なくとも一
種の金属または金属酸化物からなる触媒を用いて、水素
化ハロゲン化シランを不均化させることを特徴とするシ
ラン化合物の不均化反応生成物の製造方法である。
That is, the present invention is characterized in that a hydrogenated silane is disproportionated using a catalyst comprising at least one metal or metal oxide selected from chromium, molybdenum, tungsten, nickel and platinum. This is a method for producing a disproportionation reaction product of a silane compound.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明において使用される水素化
ハロゲン化シランは、ケイ素に結合した水素原子および
ハロゲン原子をそれぞれ少なくとも一つ有するシラン化
合物である。かかる水素化ハロゲン化シランとしては、
一般には、下記の一般式(1)で表わされる化合物が使用
される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The hydrogenated silane used in the present invention is a silane compound having at least one hydrogen atom and at least one halogen atom bonded to silicon. Such hydrogenated halogenated silanes include:
Generally, a compound represented by the following general formula (1) is used.

【0015】 Y(4-m-n)SiHnm (1) ここで、Yはアルキル基またはアリール基を表わし、X
はハロゲン原子を表わす。また、mおよびnは1以上3
以下の整数で、かつm+nは4以下である。アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、およびブ
チル基等の炭素数1〜4のものが好ましく、アリール基
としては、フェニル基等が好ましい。具体例としては、
トリクロロシラン、ジクロロシラン、モノクロロシラ
ン、メチルジクロロシラン、メチルモノクロロシラン、
ジメチルモノクロロシラン、エチルジクロロシラン、エ
チルモノクロロシラン、ジエチルモノクロロシラン、フ
ェニルジクロロシラン、フェニルモノクロロシラン、ジ
フェニルモノクロロシランおよびこれらの混合物等が挙
げられる。
Y (4-mn) SiH n X m (1) wherein Y represents an alkyl group or an aryl group;
Represents a halogen atom. M and n are 1 or more and 3
The following integer and m + n is 4 or less. As the alkyl group, one having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group are preferable, and as the aryl group, a phenyl group and the like are preferable. As a specific example,
Trichlorosilane, dichlorosilane, monochlorosilane, methyldichlorosilane, methylmonochlorosilane,
Examples thereof include dimethylmonochlorosilane, ethyldichlorosilane, ethylmonochlorosilane, diethylmonochlorosilane, phenyldichlorosilane, phenylmonochlorosilane, diphenylmonochlorosilane, and mixtures thereof.

【0016】これらのうち、前記m+n=4の化合物、
すなわち下記の一般式(2) SiHnm (2) で表わされるトリクロロシラン、ジクロロシラン、モノ
クロロシランから選ばれるクロロシラン化合物、または
これらの混合物が特に好適である。
Of these, the compound of m + n = 4;
That is, a chlorosilane compound selected from trichlorosilane, dichlorosilane and monochlorosilane represented by the following general formula (2) SiH n X m (2), or a mixture thereof is particularly preferable.

【0017】なお、モノシランやメチルシランのような
ケイ素原子に結合したハロゲン原子を有さない水素化シ
ランおよび、四塩化ケイ素やメチルトリクロロシランの
ようなケイ素原子に結合した水素原子を有さないハロゲ
ン化シランは、それ単独では不均化反応を起こさない。
しかし、上記の水素化ハロゲン化シランと共存する場合
は、不均化反応に関与し、対応した混合物を与える。
Incidentally, hydrogenated silanes having no halogen atom bonded to silicon atoms such as monosilane and methylsilane, and halogenated silanes having no hydrogen atom bonded to silicon atoms such as silicon tetrachloride and methyltrichlorosilane Silane alone does not cause a disproportionation reaction.
However, when co-existing with the above-mentioned hydrohalogenated silane, it participates in the disproportionation reaction and gives a corresponding mixture.

【0018】したがって、本発明では原料として、水素
化ハロゲン化シランを用いる他、これらのものと上記ハ
ロゲン化シランや水素化シランとを混合して用いても良
い。
Accordingly, in the present invention, a hydrogenated silane may be used as a raw material, or these may be mixed with the above-mentioned halogenated silane or hydrogenated silane.

【0019】本発明では、上記水素化ハロゲン化シラン
の不均化反応において、クロム、モリブデン、タングス
テン、ニッケル、白金から選ばれる少なくとも一種の金
属または金属酸化物からなる触媒が用いられる。
In the present invention, in the disproportionation reaction of the hydrogenated silane, a catalyst comprising at least one metal or metal oxide selected from chromium, molybdenum, tungsten, nickel and platinum is used.

【0020】本発明で用いられる金属または金属酸化物
の具体例としては、クロム、酸化クロム(II)、酸化クロ
ム(III)、酸化クロム(VI)、モリブデン、酸化モリブデ
ン(IV)、酸化モリブデン(VI)、タングステン、酸化タン
グステン(IV)、酸化タングステン(VI)、ニッケル、ラネ
ーニッケル、酸化ニッケル(II)、白金、白金スポンジ、
白金黒、酸化白金(II)、酸化白金(IV)二白金(II)、酸化
白金(IV)とそれらの格子欠陥による不定比化合物等が挙
げられるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples of the metal or metal oxide used in the present invention include chromium, chromium (II) oxide, chromium (III) oxide, chromium (VI) oxide, molybdenum, molybdenum oxide (IV), and molybdenum oxide (IV). VI), tungsten, tungsten (IV) oxide, tungsten (VI) oxide, nickel, Raney nickel, nickel (II) oxide, platinum, platinum sponge,
Examples include, but are not limited to, platinum black, platinum (II) oxide, platinum (IV) oxide, diplatinum (II), platinum (IV) oxide and non-stoichiometric compounds due to their lattice defects.

【0021】本発明では、上記金属または金属酸化物を
単独で触媒に用いてもよいが、活性炭等の担体に担持さ
せて比表面積を大きくしたものの方がより好ましい。こ
こで使用される担体は、一般に触媒用担体として用いら
れるものであれば、特に制限されない。具体的には、シ
リカ、アルミナ、活性炭、グラファイト、シリカ−アル
ミナ、ゼオライト、チタニア、ジルコニア、カーボラン
ダム等が挙げられる。特に、比表面積が10〜2000
2/g、好適には100〜400m2/gのものを用いる
のが好ましい。また、粒子径は、10μm〜1mm、好
適には30μm〜200μmであるのが好ましい。
In the present invention, the above-mentioned metal or metal oxide may be used alone for the catalyst, but it is more preferable that the metal or metal oxide is supported on a carrier such as activated carbon to increase the specific surface area. The carrier used here is not particularly limited as long as it is generally used as a catalyst carrier. Specific examples include silica, alumina, activated carbon, graphite, silica-alumina, zeolite, titania, zirconia, and carborundum. In particular, the specific surface area is 10 to 2000
m 2 / g, preferably it is preferable to use those 100 to 400 m 2 / g. Further, the particle diameter is preferably 10 μm to 1 mm, more preferably 30 μm to 200 μm.

【0022】本発明において、触媒の調製方法は、特に
限定されるものではない。具体的には、活性金属を含む
化合物の水溶液に触媒担体を浸漬、乾燥させ、その後に
熱処理と活性化処理を行う含浸法、活性金属の硝酸塩、
炭酸塩、水酸化物、有機酸塩やアンモニウム塩を高温で
加熱分解し、必要に応じて活性化処理等を行うか焼法の
他に、活性金属を含む化合物の水溶液と水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸アンモ
ニウム等の沈殿剤の水溶液を攪拌しながら、同時に蒸留
水に滴下し、活性金属の炭酸塩等の沈殿を調製し、その
沈殿に熱処理と活性化処理を行う沈殿法、ゼオライトや
イオン交換樹脂に代表されるイオン交換体を活性金属を
含む化合物の水溶液に浸漬させ、ゼオライトのナトリウ
ムイオン等を活性金属を含むイオンに交換し、十分水洗
した後に乾燥させ、熱処理と活性化処理を行うイオン交
換法等で行っても良い。
In the present invention, the method for preparing the catalyst is not particularly limited. Specifically, the catalyst support is immersed in an aqueous solution of a compound containing an active metal, dried, and then subjected to a heat treatment and an activation treatment.
Carbonates, hydroxides, organic acid salts and ammonium salts are thermally decomposed at high temperatures, and if necessary, activated, etc., besides the calcination method, an aqueous solution of a compound containing an active metal and sodium hydroxide, carbonate A precipitation method in which an aqueous solution of a precipitant such as sodium, sodium bicarbonate, ammonium carbonate or the like is simultaneously dropped into distilled water to prepare a precipitate such as a carbonate of an active metal, and the precipitate is subjected to heat treatment and activation treatment. , An ion exchanger typified by zeolite or an ion exchange resin is immersed in an aqueous solution of a compound containing an active metal, the sodium ions of the zeolite are exchanged for ions containing the active metal, washed sufficiently with water, dried, and then heat-treated and activated. It may be performed by an ion-exchange method or the like for performing a conversion treatment.

【0023】担持触媒の場合、活性金属成分の担持量は
特に制限されないが、通常、触媒全量に対して0.01
〜50重量%、好適には0.1〜20重量%の範囲であ
ることが望ましい。
In the case of a supported catalyst, the amount of the active metal component supported is not particularly limited, but is usually 0.01 to the total amount of the catalyst.
It is desirably in the range of from 50 to 50% by weight, preferably from 0.1 to 20% by weight.

【0024】本発明において不均化反応は、原料の水素
化ハロゲン化シランを、上記触媒と接触させることによ
り実施される。用いる反応装置、方法は特に制限されず
従来公知の方法を用いればよい。
In the present invention, the disproportionation reaction is carried out by bringing the raw material hydrogenated silane into contact with the above catalyst. The reaction apparatus and method used are not particularly limited, and a conventionally known method may be used.

【0025】本発明において反応方法は、特に制限され
ず、回分式でも流通式でもよく、気相でも液相でもよ
い。また、接触方法は、固定床式、流動床式あるいは触
媒懸濁液を接触させる方式等が任意に採用される。
In the present invention, the reaction method is not particularly limited, and may be a batch type or a flow type, and may be a gas phase or a liquid phase. As the contact method, a fixed bed system, a fluidized bed system, a system in which a catalyst suspension is brought into contact, or the like is optionally adopted.

【0026】その中でも、本発明を最も有効に実施する
ためには、触媒を固定床とする流通式反応が望ましい。
この反応は、減圧から加圧まで幅広い反応条件で行うこ
とができるが、反応の効率と安全性を考慮すれば、0.
5〜100気圧で行うことが望ましく、より好適には、
常圧〜60気圧で行うことが望ましい。また、反応温度
に関しても、幅広い範囲で反応が可能であるが、反応を
速やかに進行させるためには、0℃以上であることが望
ましく、触媒の安全性を考慮すれば、400℃以下が望
ましい。より好ましくは、40〜300℃の範囲、さら
に好ましくは100〜300℃の範囲で反応を行うこと
が望ましい。
Among them, in order to carry out the present invention most effectively, a flow-type reaction using a fixed bed as a catalyst is desirable.
This reaction can be carried out under a wide range of reaction conditions from reduced pressure to increased pressure, but considering the efficiency and safety of the reaction, the reaction can be carried out at 0.1.
It is desirable to carry out at 5 to 100 atm, more preferably,
It is desirable to carry out at normal pressure to 60 atm. In addition, the reaction can be performed in a wide range with respect to the reaction temperature. However, the reaction temperature is preferably 0 ° C. or higher for promptly proceeding the reaction, and is preferably 400 ° C. or lower in consideration of the safety of the catalyst. . More preferably, it is desirable to carry out the reaction in the range of 40 to 300C, more preferably in the range of 100 to 300C.

【0027】接触時間は、反応系が平衡組成にほぼ到達
する程度に設定することが望ましい。接触時間が短すぎ
る場合、十分に不均化反応が進行しないため、目的物の
収率が低くなる。接触時間が必要以上に長い場合、平衡
組成に十分達しているため、原料に対する目的物の収率
は変わらないが、平衡組成以上に目的物の割合が増加す
ることは有り得ず、結果として単位時間当たりの目的物
の収量が少なくなる。適当な接触時間は、反応温度や圧
力、原料、触媒、およびその他の要素によって異なる
が、一般には原料が気体の場合で0.01〜300秒、
原料が液体の場合で0.05〜60分から採択される。
The contact time is desirably set so that the reaction system almost reaches the equilibrium composition. If the contact time is too short, the disproportionation reaction does not proceed sufficiently, so that the yield of the target product decreases. If the contact time is longer than necessary, the equilibrium composition is sufficiently reached, and the yield of the target substance with respect to the raw material does not change.However, the ratio of the target substance cannot exceed the equilibrium composition, and as a result, the unit time The yield of the desired product is reduced. The appropriate contact time depends on the reaction temperature and pressure, the raw material, the catalyst, and other factors, but is generally 0.01 to 300 seconds when the raw material is a gas,
When the raw material is liquid, it is adopted from 0.05 to 60 minutes.

【0028】本発明の製造方法によれば、原料の水素化
ハロゲン化シランは、上記不均化反応により、多くの不
均化反応生成物を与える。従って、その混合物中から、
必要な成分を蒸留などの一般的な方法を用いて分別し、
取得すれば良い。
According to the production method of the present invention, the hydrogenated silane as the raw material gives many disproportionation reaction products by the disproportionation reaction. Therefore, from the mixture,
The necessary components are separated using common methods such as distillation,
Just get it.

【0029】その中でも、水素化ハロゲン化シランとし
て、トリクロロシラン、ジクロロシラン、およびモノク
ロロシランから選ばれる少なくとも一種を、必要により
四塩化ケイ素と混合して用い、不均化反応生成物とし
て、上記水素化ハロゲン化シランよりも高次に水素化さ
れたシラン化合物を取得するのに適用するのが好まし
い。
Among them, at least one selected from trichlorosilane, dichlorosilane and monochlorosilane is used as a hydrogenated silane, if necessary, mixed with silicon tetrachloride. It is preferably applied to obtain a silane compound which is hydrogenated to a higher degree than a halogenated silane.

【0030】特に、水素化ハロゲン化シランとして、ト
リクロロシランを用い、二段の不均化反応を実施してモ
ノシランを取得するのが好適であり、その工程の例を図
1に示す。
In particular, it is preferable to use trichlorosilane as the hydrogenated silane and to carry out a two-stage disproportionation reaction to obtain monosilane. An example of the process is shown in FIG.

【0031】原料のトリクロロシランは、ドラム6より
不均化反応器1、例えば流動床式または固定床式の反応
器に供給され、金属または金属酸化物触媒と接触させ
る。それにより、各種のクロロシラン化合物、主にジク
ロロシラン、トリクロロシランおよび四塩化ケイ素の混
合系が生成する。この時点では目的物であるモノシラン
の割合は低い。不均化反応器1で生成した混合物は、次
工程の分別装置である蒸留塔3へと送られる。蒸留塔3
からは、ジクロロシランとトリクロロシランを中心とす
る低沸点成分がパイプライン8より、蒸留塔4へと送ら
れ、蒸留塔3の底部からは四塩化ケイ素が排出される。
蒸留塔4では、ジクロロシランを中心とする低沸点成分
がパイプライン9より不均化反応器2に供給される。蒸
留塔4の底部からはトリクロロシランがドラム6へと回
収され、不均化反応に供される。不均化反応器2では、
同様に触媒と接触させて、各種のクロロシラン化合物、
主にモノシラン、モノクロロシラン、ジクロロシランお
よびトリクロロシランの混合系が生成する。この時点で
は、目的物のモノシランが十分分別可能な割合で含まれ
ていることが好ましい。この混合物は蒸留塔5へと送ら
れ、モノシランをパイプライン10より取得する。蒸留
塔5の底部からは主に、モノクロロシラン、ジクロロシ
ランおよびトリクロロシランがドラム7へと回収され、
さらに蒸留塔4でモノクロロシランとジクロロシランを
中心とする低沸点成分とトリクロロシランを中心とする
高沸点成分に分けられる。この低沸点成分と高沸点成分
は、それぞれ不均化反応器2と不均化反応器1へと送ら
れ、再び不均化反応に供される。このようにして、トリ
クロロシランを原料に用いて、モノシランを得ることが
可能となる。
The raw material trichlorosilane is supplied from the drum 6 to the disproportionation reactor 1, for example, a fluidized bed type or fixed bed type reactor, and brought into contact with a metal or metal oxide catalyst. Thereby, a mixed system of various chlorosilane compounds, mainly dichlorosilane, trichlorosilane and silicon tetrachloride is generated. At this point, the proportion of the target monosilane is low. The mixture generated in the disproportionation reactor 1 is sent to a distillation column 3 which is a separation device in the next step. Distillation tower 3
, Low-boiling components centering on dichlorosilane and trichlorosilane are sent from the pipeline 8 to the distillation column 4, and silicon tetrachloride is discharged from the bottom of the distillation column 3.
In the distillation column 4, low-boiling components centering on dichlorosilane are supplied from the pipeline 9 to the disproportionation reactor 2. Trichlorosilane is recovered from the bottom of the distillation column 4 to the drum 6 and subjected to a disproportionation reaction. In the disproportionation reactor 2,
Similarly, by contacting with a catalyst, various chlorosilane compounds,
A mixed system of mainly monosilane, monochlorosilane, dichlorosilane and trichlorosilane is formed. At this point, it is preferable that the target monosilane is contained in a ratio that can be sufficiently separated. This mixture is sent to the distillation column 5 and monosilane is obtained from the pipeline 10. Monochlorosilane, dichlorosilane and trichlorosilane are mainly recovered from the bottom of the distillation column 5 to the drum 7,
Further, in the distillation column 4, it is separated into a low boiling component mainly composed of monochlorosilane and dichlorosilane and a high boiling component mainly composed of trichlorosilane. The low-boiling component and the high-boiling component are sent to the disproportionation reactor 2 and the disproportionation reactor 1, respectively, and are again subjected to the disproportionation reaction. Thus, monosilane can be obtained using trichlorosilane as a raw material.

【0032】もちろん、モノシラン以外のシラン化合
物、例えばジクロロシランを目的物とする場合には、例
えば分別工程として蒸留を採択する場合であれば、蒸留
条件を変更することにより目的物であるジクロロシラン
のみを分取し、より高沸点または低沸点のクロロシラン
化合物を不均化反応器へ循環する。このようにして、不
均化反応生成物のいずれかの一種、または二種以上のク
ロロシラン化合物をも、目的物として取得することがで
きる。
Of course, when a target compound is a silane compound other than monosilane, for example, dichlorosilane, for example, when distillation is adopted as a separation step, the distillation conditions are changed to obtain only the target compound, dichlorosilane. And the higher or lower boiling chlorosilane compound is recycled to the disproportionation reactor. In this manner, any one of the disproportionation reaction products or two or more chlorosilane compounds can be obtained as the target product.

【0033】[0033]

【実施例】本発明を、具体例を用いて説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0034】実施例1 モリブデン酸アンモニウム3.2gを水20mlに溶解
し、そこに触媒担体であるアルミナ(住友化学社製;A
C−11、比表面積:120m2/g、細孔容積:0.3
7ml/g、平均細孔径:12nm、粒径:80〜10
0μm)17.4gを加え、110℃で乾燥させた。次
に、空気中、520℃で5時間焼成し、さらに、水素気
流中、415℃で3時間活性化処理を行い、酸化モリブ
デン(VI)/アルミナ触媒を得た。
Example 1 3.2 g of ammonium molybdate was dissolved in 20 ml of water, and alumina as a catalyst carrier (Sumitomo Chemical; A
C-11, specific surface area: 120 m 2 / g, pore volume: 0.3
7 ml / g, average pore size: 12 nm, particle size: 80 to 10
(0 μm) and dried at 110 ° C. Next, the mixture was calcined at 520 ° C. for 5 hours in air, and further activated in a hydrogen stream at 415 ° C. for 3 hours to obtain a molybdenum (VI) oxide / alumina catalyst.

【0035】内径がそれぞれ4mm及び8mmである2
本のガラス製反応管に、調製した酸化モリブデン(VI)/
アルミナ触媒を4mmの反応管には0.5ml、8mm
の反応管には2.0ml充填し、それぞれ、200℃に
加熱した。ここに、トリクロロシランとヘリウムの1:
1混合ガスを、4mmの反応管には60ml/分および
30ml/分で流通させ、8mmの反応管には60ml/
分および24ml/分で流通させて、不均化反応をおこ
なった。この時の接触時間は、それぞれ0.5秒、1.0
秒、2.0秒、5.0秒であった(なお、接触時間0.5秒
及び1.0秒は4mmの反応管、接触時間2.0秒および
5.0秒は8mmの反応管での値である。)。また、反応
は常圧で行った。
2 having an inner diameter of 4 mm and 8 mm, respectively
The prepared molybdenum oxide (VI) /
0.5 ml of alumina catalyst in a 4 mm reaction tube, 8 mm
The reaction tubes were filled with 2.0 ml and heated to 200 ° C., respectively. Here is one of trichlorosilane and helium:
One mixed gas was passed through a 4 mm reaction tube at 60 ml / min and 30 ml / min, and an 8 mm reaction tube was supplied with 60 ml / min.
Min and at a flow rate of 24 ml / min to carry out a disproportionation reaction. The contact time at this time was 0.5 seconds and 1.0, respectively.
And 2.0 seconds and 5.0 seconds (note that the contact times of 0.5 and 1.0 seconds were 4 mm reaction tubes, and the contact times of 2.0 and 5.0 seconds were 8 mm reaction tubes). Is the value at.). The reaction was performed at normal pressure.

【0036】触媒層を通過したガスを、ガスクロマトグ
ラフィーで分析し、各接触時間におけるトリクロロシラ
ンの転化率を求め、その値を200℃でのトリクロロシ
ランの平衡転化率29.9%で除した。この値を平衡到
達率とした。結果を表1に示した。接触時間1.0秒に
おいて、平衡到達率は88.6%の高率に達していた。
The gas passed through the catalyst layer was analyzed by gas chromatography to determine the conversion of trichlorosilane at each contact time, and the value was divided by the equilibrium conversion of trichlorosilane at 200 ° C. of 29.9%. . This value was defined as the equilibrium attainment rate. The results are shown in Table 1. At a contact time of 1.0 second, the equilibrium attainment rate reached a high rate of 88.6%.

【0037】尚、接触時間5.0秒におけるガス組成
は、 モノシラン ; 0.1mol% モノクロロシラン; 0.9mol% ジクロロシラン ;13.0mol% トリクロロシラン;70.1mol% 四塩化ケイ素 ;15.9mol% であった。この組成は200℃におけるトリクロロシラ
ンの不均化反応の平衡組成と一致した。
The gas composition at a contact time of 5.0 seconds is as follows: monosilane; 0.1 mol% monochlorosilane; 0.9 mol% dichlorosilane; 13.0 mol% trichlorosilane; 70.1 mol% silicon tetrachloride; 15.9 mol % Met. This composition was consistent with the equilibrium composition of the disproportionation reaction of trichlorosilane at 200 ° C.

【0038】実施例2 90℃に温めた3%アンモニア水100mlに、タング
ステン酸アンモニウム8.0gを徐々に加えて溶解させ
た。この温度で濃硝酸を注意深く滴下し、黄色の沈殿の
生成がなくなるまで加え、室温まで放冷した。温水を加
えてデカンテーションで中性になるまでよく洗浄した。
ろ過後、100℃で乾燥し、さらに、水素気流中、35
0℃で3時間活性化処理を行い、酸化タングステン(VI)
触媒を得た。
Example 2 8.0 g of ammonium tungstate was gradually added and dissolved in 100 ml of 3% aqueous ammonia heated to 90 ° C. At this temperature, concentrated nitric acid was carefully added dropwise until no yellow precipitate was formed, and the mixture was allowed to cool to room temperature. Warm water was added and the mixture was thoroughly washed by decantation until neutral.
After filtration, the resultant was dried at 100 ° C., and further dried in a hydrogen stream at 35 ° C.
Activate at 0 ° C for 3 hours, and use tungsten oxide (VI)
A catalyst was obtained.

【0039】この触媒を用いる以外は、実施例1に準じ
て反応を行った。結果を表1に示した。
The reaction was carried out according to Example 1, except that this catalyst was used. The results are shown in Table 1.

【0040】実施例3 6.3gの酸化クロム(VI)を水30mlに溶解し、そこ
に触媒担体であるアルミナ30.0gを加え、120℃
で乾燥させた。次に、空気中、500℃で30分焼成
し、酸化クロム(VI)/アルミナ触媒を得た。
Example 3 6.3 g of chromium (VI) oxide was dissolved in 30 ml of water, and 30.0 g of alumina as a catalyst carrier was added thereto.
And dried. Next, it was calcined at 500 ° C. for 30 minutes in the air to obtain a chromium (VI) oxide / alumina catalyst.

【0041】この触媒を用いる以外は、実施例1に準じ
て反応を行った。結果を表1に示した。
The reaction was carried out according to Example 1, except that this catalyst was used. The results are shown in Table 1.

【0042】実施例4 硝酸アルミニウム九水和物9.1gを水60mlに溶解
した溶液を、5〜10℃で20%水酸化ナトリウム水溶
液20mlに攪拌しながら加え、アルミン酸ナトリウム
溶液を調製した。次に、硝酸ニッケル2.0gを10m
lの水に溶解し、濃硝酸1.0mlを加えた溶液を調製
し、この溶液に5〜10℃で先に調製したアルミン酸ナ
トリウム溶液を徐々に滴下した。そこで生成した沈殿を
デカンテーションで中性までよく洗浄し、110℃で乾
燥させた。さらに、水素気流中、360℃で還元処理を
行い、ニッケル/アルミナ触媒を得た。
Example 4 A solution of 9.1 g of aluminum nitrate nonahydrate in 60 ml of water was added to 20 ml of a 20% aqueous sodium hydroxide solution at 5 to 10 ° C. while stirring to prepare a sodium aluminate solution. Next, 2.0 g of nickel nitrate was added for 10 m.
1 ml of water and 1.0 ml of concentrated nitric acid was added to the solution, and the sodium aluminate solution previously prepared was gradually added dropwise at 5 to 10 ° C. The resulting precipitate was thoroughly washed to neutrality by decantation and dried at 110 ° C. Further, a reduction treatment was performed at 360 ° C. in a hydrogen stream to obtain a nickel / alumina catalyst.

【0043】この触媒を用いる以外は、実施例1に準じ
て反応を行った。結果を表1に示した。
The reaction was carried out according to Example 1, except that this catalyst was used. The results are shown in Table 1.

【0044】実施例5 アダムス触媒(酸化白金(IV)触媒;アルドリッチ社製)を
用いる以外は、実施例1に準じて反応を行った。結果を
表1に示した。
Example 5 A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that an Adams catalyst (platinum (IV) oxide catalyst; manufactured by Aldrich) was used. The results are shown in Table 1.

【0045】実施例6 実施例1で用いた酸化モリブデン(VI)/アルミナ触媒
を、さらに水素気流中、520℃で還元処理を行い、モ
リブデン/アルミナ触媒を得た。
Example 6 The molybdenum (VI) oxide / alumina catalyst used in Example 1 was further reduced at 520 ° C. in a hydrogen stream to obtain a molybdenum / alumina catalyst.

【0046】この触媒を用いる以外は、実施例1に準じ
て反応を行った。結果を表1に示した。
The reaction was carried out according to Example 1, except that this catalyst was used. The results are shown in Table 1.

【0047】実施例7 実施例2で用いた酸化タングステン(VI)触媒を、さらに
水素気流中、520℃で還元処理を行い、タングステン
触媒を得た。
Example 7 The tungsten (VI) catalyst used in Example 2 was further reduced at 520 ° C. in a hydrogen stream to obtain a tungsten catalyst.

【0048】この触媒を用いる以外は、実施例1に準じ
て反応を行った。結果を表1に示した。
The reaction was carried out according to Example 1, except that this catalyst was used. The results are shown in Table 1.

【0049】実施例8 硝酸ニッケル六水和物2.8gを水10mlに溶解し、
そこに触媒担体であるアルミナ9.3gを加え、110
℃で乾燥させた。次に、窒素気流中、415℃で1時間
焼成し、酸化ニッケル(II)/アルミナ触媒を得た。
Example 8 2.8 g of nickel nitrate hexahydrate was dissolved in 10 ml of water.
9.3 g of alumina as a catalyst carrier was added thereto, and
Dry at ℃. Next, the mixture was calcined at 415 ° C. for 1 hour in a nitrogen stream to obtain a nickel (II) oxide / alumina catalyst.

【0050】この触媒を用いる以外は、実施例1に準じ
て反応を行った。結果を表1に示した。
The reaction was carried out according to Example 1, except that this catalyst was used. The results are shown in Table 1.

【0051】実施例9 トリクロロシランの代わりに、ジクロロシランを用いる
以外は、実施例1に準じて反応を行った。ここでの平衡
到達率は、各接触時間におけるジクロロシランの転化率
を200℃でのジクロロシランの平衡転化率62.0%
で除して求めた。接触時間0.5、1.0、2.0、5.0
秒での平衡到達率はそれぞれ69.9、90.9、99.
2、100%であった。
Example 9 A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that dichlorosilane was used instead of trichlorosilane. Here, the equilibrium attainment rate was determined by converting the conversion rate of dichlorosilane at each contact time into an equilibrium conversion rate of dichlorosilane at 200 ° C. of 62.0%.
Divided by Contact time 0.5, 1.0, 2.0, 5.0
The equilibrium arrival rates in seconds are 69.9, 90.9, and 99.
2,100%.

【0052】尚、接触時間5.0秒におけるガス組成
は、 モノシラン ;10.7mol% モノクロロシラン;13.7mol% ジクロロシラン ;38.0mol% トリクロロシラン;36.2mol% 四塩化ケイ素 ; 1.4mol% であった。この組成は200℃におけるジクロロシラン
の不均化反応の平衡組成と一致した。
The gas composition at a contact time of 5.0 seconds is as follows: monosilane; 10.7 mol% monochlorosilane; 13.7 mol% dichlorosilane; 38.0 mol% trichlorosilane; 36.2 mol% silicon tetrachloride; 1.4 mol % Met. This composition was consistent with the equilibrium composition of the disproportionation reaction of dichlorosilane at 200 ° C.

【0053】比較例1 触媒として、ローム&ハース社製の弱塩基性陰イオン交
換樹脂アンバーリストA−21(イオン交換容量;4.6
meq/g)を用い、80℃で反応を行った以外は、実施
例1に準じて反応を行った。結果を表1に示した。接触
時間2.0秒において、平衡到達率は63.2%にしか達
していなかった。
Comparative Example 1 As a catalyst, a weak basic anion exchange resin Amberlyst A-21 manufactured by Rohm & Haas Co. (ion exchange capacity: 4.6)
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the reaction was carried out at 80 ° C. using meq / g). The results are shown in Table 1. At a contact time of 2.0 seconds, the equilibrium attainment rate reached only 63.2%.

【0054】比較例2〜4 シリカ(西尾工業社製;IDゲル、比表面積:310m2
/g、細孔容積:1.2ml/g、平均細孔径:15n
m、粒径:250〜500μm)に、オクチルアミン(O
cNH2)、ジオクチルアミン(Oc2NH)、トリオクチ
ルアミン(Oc3N)を担持した触媒を調製した。担持量
はすべて5重量%であり、含浸法により担持させた。
Comparative Examples 2 to 4 Silica (manufactured by Nishio Industry; ID gel, specific surface area: 310 m 2)
/ g, pore volume: 1.2 ml / g, average pore diameter: 15 n
m, particle size: 250-500 μm) and octylamine (O
A catalyst supporting cNH 2 ), dioctylamine (Oc 2 NH), and trioctylamine (Oc 3 N) was prepared. The loading amount was 5% by weight in all cases, and was carried by the impregnation method.

【0055】これらの触媒を用い、80℃で反応を行っ
た以外は、実施例1に準じて反応を行った。結果を表1
に示した。これらの触媒では、接触時間5.0秒におい
ても、平衡到達率は80%に達していなかった。
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the reaction was carried out at 80 ° C. using these catalysts. Table 1 shows the results
It was shown to. With these catalysts, the equilibrium attainment rate did not reach 80% even at a contact time of 5.0 seconds.

【0056】[0056]

【表1】 実施例10 図2に示した反応塔と蒸留塔を有する加圧液相2段反応
装置を用いて、トリクロロシランの不均化反応を行っ
た。不均化反応器11では、200℃−6気圧で、不均
化反応器12では、80℃−30気圧で不均化反応をお
こなった。また、蒸留塔13、14は、理論段数40段
のものを用いた。実施例1で用いた触媒を不均化反応器
11に300ml、不均化反応器12に30ml充填
し、不均化反応器11にトリクロロシランを10ml/
分(液体)で連続的に供給し不均化反応を行った。このと
きの接触時間は30分であった。ついで、蒸留塔13
で、ジクロロシラン留分(モノクロロシラン含む)と四
塩化珪素留分(トリクロロシラン含む)とに分離し、ジ
クロロシラン留分を不均化反応器12に連続的に供給し
た。不均化反応器12では、ジクロロシランが1ml/
分(液体)で流通し、その接触時間は30分であった。そ
して、蒸留塔14で、モノシランと他の留分とに分離
し、モノシランを得た。
[Table 1] Example 10 A disproportionation reaction of trichlorosilane was carried out using a two-stage pressurized liquid phase reactor having a reaction tower and a distillation tower shown in FIG. In the disproportionation reactor 11, the disproportionation reaction was performed at 200 ° C.-6 atm, and in the disproportionation reactor 12, the disproportionation reaction was performed at 80 ° C.-30 atm. The distillation columns 13 and 14 used had 40 theoretical plates. The disproportionation reactor 11 was charged with 300 ml of the catalyst used in Example 1 and the disproportionation reactor 12 with 30 ml, and the disproportionation reactor 11 was charged with 10 ml / ml of trichlorosilane.
The disproportionation reaction was carried out by continuously supplying the mixture in minutes (liquid). The contact time at this time was 30 minutes. Then, the distillation column 13
Then, a dichlorosilane fraction (including monochlorosilane) and a silicon tetrachloride fraction (including trichlorosilane) were separated, and the dichlorosilane fraction was continuously supplied to the disproportionation reactor 12. In the disproportionation reactor 12, the amount of dichlorosilane was 1 ml /
Per minute (liquid) and the contact time was 30 minutes. Then, in the distillation column 14, monosilane and other fractions were separated to obtain monosilane.

【0057】10時間の連続運転を行ったところ、蒸留
塔14の上部からモノシランを40ml/分(気体;標準
状態)で取得することができた。
After continuous operation for 10 hours, monosilane was obtained from the upper part of the distillation column 14 at a rate of 40 ml / min (gas; standard state).

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、従来の方法
に比べ、より短い接触時間でシラン化合物の製造を行う
ことができる。即ち、本発明に記載の触媒を使用すれ
ば、反応速度が大きいため、十分に不均化反応を進行さ
せるために必要な時間が、従来のものに比べて短く設定
できる。従って、同じ触媒量ならば、従来方法に比べ、
単位時間当たりの収量をより多くできる。逆に同じ収量
を得るためには、触媒量がより少なくて済む。
According to the production method of the present invention, a silane compound can be produced in a shorter contact time than in the conventional method. That is, when the catalyst according to the present invention is used, the reaction rate is high, so that the time required to sufficiently advance the disproportionation reaction can be set shorter than that of the conventional catalyst. Therefore, if the catalyst amount is the same, compared to the conventional method,
The yield per unit time can be increased. Conversely, to obtain the same yield, less catalyst is required.

【0059】また、水素化ハロゲン化シランの不均化反
応は平衡反応であるので、金属または金属酸化物触媒の
耐熱性を生かし、反応温度を従来より高く設定すること
ができる。これにより、平衡組成を効率よく変化させる
ことが可能である。先に説明したトリクロロシランを原
料に用いた二段の不均化反応によるモノシランの製造方
法においては、一段目の反応であるトリクロロシランの
不均化の反応温度を高めることで、トリクロロシランの
平衡転化率を向上させることができ、非常に有用であ
る。
Since the disproportionation reaction of the hydrogenated silane is an equilibrium reaction, the reaction temperature can be set higher than before by making use of the heat resistance of the metal or metal oxide catalyst. Thereby, the equilibrium composition can be changed efficiently. In the above-described method for producing monosilane by a two-stage disproportionation reaction using trichlorosilane as a raw material, the reaction temperature for disproportionation of trichlorosilane, which is the first-stage reaction, is raised to increase the equilibrium of trichlorosilane. The conversion can be improved and is very useful.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明を実施するための製造プロセス
の代表的形態を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a typical mode of a manufacturing process for carrying out the present invention.

【図2】図2は、加圧液相2段不均化反応装置を示す概
略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a pressurized liquid phase two-stage disproportionation reactor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2;不均化反応器 3、4、5;蒸留塔 6、7;ドラム 8、9、10;パイプライン 11、12;不均化反応器 13、14;蒸留塔 1, 2; disproportionation reactors 3, 4, 5; distillation columns 6, 7; drums 8, 9, 10; pipelines 11, 12; disproportionation reactors 13, 14;

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01J 23/755 C01B 33/107 A C01B 33/107 Z B01J 23/74 321M Fターム(参考) 4G069 AA02 AA03 AA08 BA01B BB02A BB02B BB04A BB04B BC58A BC58B BC59A BC59B BC60A BC60B BC68A BC68B BC75A BC75B CB81 DA06 4G072 AA05 AA08 AA11 GG03 HH05 HH07 KK09 KK11 KK20 MM01 RR02 UU01 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B01J 23/755 C01B 33/107 A C01B 33/107 Z B01J 23/74 321M F-term (Reference) 4G069 AA02 AA03 AA08 BA01B BB02A BB02B BB04A BB04B BC58A BC58B BC59A BC59B BC60A BC60B BC68A BC68B BC75A BC75B CB81 DA06 4G072 AA05 AA08 AA11 GG03 HH05 HH07 KK09 KK11 KK20 MM01 RR02 UU01

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】クロム、モリブデン、タングステン、ニッ
ケル、白金から選ばれる少なくとも一種の金属または金
属酸化物からなる触媒を用いて、水素化ハロゲン化シラ
ンを不均化させることを特徴とするシラン化合物の不均
化反応生成物の製造方法。
1. A silane compound characterized in that a hydrogenated silane is disproportionated using a catalyst comprising at least one metal or metal oxide selected from chromium, molybdenum, tungsten, nickel and platinum. A method for producing a disproportionation reaction product.
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