JP2001118515A - Plasma display panel and method for manufacturing therefor - Google Patents

Plasma display panel and method for manufacturing therefor

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JP2001118515A
JP2001118515A JP29631399A JP29631399A JP2001118515A JP 2001118515 A JP2001118515 A JP 2001118515A JP 29631399 A JP29631399 A JP 29631399A JP 29631399 A JP29631399 A JP 29631399A JP 2001118515 A JP2001118515 A JP 2001118515A
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Japan
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display panel
plasma display
partition
partition wall
color
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JP29631399A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Yonehara
浩幸 米原
Hiroshi Watanabe
拓 渡邉
Hideki Ashida
英樹 芦田
Shigeo Suzuki
茂夫 鈴木
Kazuo Otani
和夫 大谷
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display panel and manufacturing method therefore, which can control surface roughness of a rigid and tight membrane and also the top portion of a partition with high accuracy in melt-spinning membrane and also allows a low-priced and high quality display. SOLUTION: A plasma display panel is readily formed by coating a thick membrane or a sealing material on the upper portion of a thermal spray membrane formed by thermal spraying method.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法
において特に隔壁の形成工程に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel used for a display device or the like and a method of manufacturing the same, particularly to a step of forming a partition.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、薄型に適したディスプレイ装置と
して注目されているプラズマディスプレイパネルは、例
えば図1に示す構成を有する。このプラズマディスプレ
イパネルは、互いに対向して配置された前面基板300
と背面基板301とを備えている。前面基板300の上
には、表示電極302及び303、誘電体層304、及
びMgO誘電体保護層305が、順に形成されている。
また、背面基板301の上には、アドレス電極306及
び誘電体層307が形成されており、その上には、更に
隔壁308が形成されている。そして、隔壁308の側
面には、蛍光体層309が塗布されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a plasma display panel, which has attracted attention as a thin display device, has, for example, a configuration shown in FIG. The plasma display panel includes a front substrate 300 arranged opposite to each other.
And a back substrate 301. On the front substrate 300, display electrodes 302 and 303, a dielectric layer 304, and an MgO dielectric protection layer 305 are formed in this order.
An address electrode 306 and a dielectric layer 307 are formed on the rear substrate 301, and a partition 308 is further formed thereon. Then, a phosphor layer 309 is applied to a side surface of the partition wall 308.

【0003】前面基板300と背面基板301との間に
は、放電ガス310(例えばNe-Xeの混合ガス)
が、66000Pa〜80000Paの圧力で封入され
ている。この放電ガス310を表示電極302及び30
3の間で放電させて紫外線を発生させ、その紫外線を蛍
光体層309に照射することによって、カラー表示を含
む画像表示が可能になる。
A discharge gas 310 (for example, a mixed gas of Ne—Xe) is provided between the front substrate 300 and the rear substrate 301.
Are sealed at a pressure of 66000 Pa to 80000 Pa. The discharge gas 310 is supplied to the display electrodes 302 and 30.
By generating an ultraviolet ray by discharging between the three layers and irradiating the ultraviolet ray to the phosphor layer 309, an image display including a color display can be performed.

【0004】隔壁302は、個々の画素の色(R、G、
B)毎に微小な放電空間を形成して放電セルを形成する
ための仕切りであり、この隔壁308によって、放電を
各セル毎に制御することを可能とし、誤放電や誤表示を
防ぐことができる。隔壁308のサイズは、典型的には
40インチのNTSCパネルにおいて、隔壁ピッチが1
色あたり360μm、隔壁頂部の幅が50〜100μ
m、及び隔壁の高さが100〜150μmである。
[0004] The partition 302 has a color (R, G,
B) is a partition for forming a discharge cell by forming a minute discharge space for each cell. The partition wall 308 enables the discharge to be controlled for each cell, thereby preventing erroneous discharge and erroneous display. it can. The size of the partition wall 308 is typically set such that a partition pitch is 1 in a 40-inch NTSC panel.
360 μm per color, width of partition top 50-50 μm
m and the height of the partition walls are 100 to 150 μm.

【0005】なお、前面基板300と背面基板301
は、アドレス電極306と表示電極302の互いの長手
方向が直交するように対向させた状態で配されるが、図
1では便宜上、前面基板を90°回転させて表記してい
る。
The front substrate 300 and the rear substrate 301
Are arranged so that the longitudinal directions of the address electrode 306 and the display electrode 302 are orthogonal to each other, but in FIG. 1, the front substrate is rotated by 90 ° for convenience.

【0006】従来の隔壁の形成方法としては、(1)ス
クリーン印刷技術を用いて隔壁を形成する印刷法、
(2)隔壁材料を背面基板の前面に塗布後に感光性フィ
ルム層を塗布された隔壁材料の上に形成し、写真法によ
り所定パターンを形成した後に、サンドブラストにより
隔壁材料の不要部分を除去して感光性フィルム層を剥離
し、隔壁を形成するサンドブラスト法、(3)感光性ペ
ーストを塗布後に、写真法により不要部分を除去して隔
壁を形成するフォトペースト法、或いは、(4)基板に
感光性フィルム層を形成した後に写真法によって所定パ
ターンを形成し、更にパターンの溝部にペーストを埋め
込んでから感光性フィルムを剥離し、その後にペースト
を焼成工程で焼き固めるフォト埋め込み法(或いはリフ
トオフ法)、(5)基板に感光性フィルム層を形成した
後に写真法によって所定パターンを形成し、更にパター
ンの溝部に溶射により隔壁材料を埋め込んでから感光性
フィルムを剥離するプラズマ溶射法、などが挙げられ
る。
As a conventional method of forming a partition, (1) a printing method of forming a partition by using a screen printing technique;
(2) After applying the partition wall material to the front surface of the back substrate, forming a photosensitive film layer on the coated partition wall material, forming a predetermined pattern by a photographic method, and removing unnecessary portions of the partition wall material by sandblasting. A sand blast method in which a photosensitive film layer is peeled off to form a partition, (3) a photo paste method in which unnecessary portions are removed by a photographic method after applying a photosensitive paste to form a partition, or (4) a substrate is exposed to light. A photo-embedding method (or lift-off method) in which a predetermined pattern is formed by a photographic method after forming a conductive film layer, a paste is buried in a groove portion of the pattern, the photosensitive film is peeled off, and then the paste is baked in a firing step. (5) After forming a photosensitive film layer on a substrate, a predetermined pattern is formed by a photographic method, and further, thermal spraying is performed on a groove of the pattern. Plasma spraying peeling the photosensitive film from embed partition material Ri, and the like.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの隔壁
形成方法は、それぞれ問題点を有しているが、特にプラ
ズマ溶射法を用いて隔壁形成する場合、以下のような問
題点を有している。
However, each of these partition wall forming methods has a problem. However, particularly when the partition wall is formed by using the plasma spraying method, there are the following problems. I have.

【0008】プラズマ溶射法を用いて隔壁308を形成
する際、感光性フィルム層を露光及び現像を用いた写真
法によって所定のパターンを形成後、隔壁材料として溶
射膜を溝部に形成するが、ここで形成された溶射膜は、
従来のペースト材を用いて形成する隔壁に比べ、特に膜
の緻密性及び強度そして誘電体層307との密着性に関
して劣る傾向があり、プロセス中での隔壁の欠陥または
不良を発生させ歩留まり低下の要因となっていた。更に
溶射膜の表面は、表面粗さが10〜15μmと大きいた
め、前面基板300を貼り合わせ時に隔壁308の頂部
と前面基板300の間に隙間ができるという問題があっ
た。
When forming the partition wall 308 by using the plasma spraying method, after forming a predetermined pattern on the photosensitive film layer by a photographic method using exposure and development, a sprayed film is formed in the groove as a partition wall material. The sprayed film formed by
Compared to a partition formed using a conventional paste material, the density and strength of the film and the adhesion to the dielectric layer 307 tend to be inferior. Was a factor. Further, since the surface of the thermal sprayed film has a large surface roughness of 10 to 15 μm, there is a problem that a gap is formed between the top of the partition wall 308 and the front substrate 300 when the front substrate 300 is bonded.

【0009】本発明は、上記課題に対してなされたもの
であって、その目的は、溶射法によって形成された溶射
膜の上部へ、厚膜または封孔材を塗布形成することによ
り、高品質及び高精度な隔壁を形成して、高品位な表示
を可能とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to form a thick film or a sealing material on a thermal sprayed film formed by a thermal spraying method so as to achieve high quality. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a plasma display panel that enables high-quality display by forming high-precision partition walls.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、隔壁材料とし
て形成された溶射膜の上部に少なくとも厚膜形成または
封孔材を塗布形成することを特徴とする。
The present invention is characterized in that at least a thick film is formed or a sealing material is formed by coating on a sprayed film formed as a partition wall material.

【0011】また、ある実施形態では、本発明のプラズ
マディスプレイパネルは、1対の基板と、該1対の基板
の間に配置された電極、保護層及び蛍光体層と、を更に
備えており、前記隔壁は該1対の基板の間に配置されて
おり、前記放電空間にはガス媒体が封入されていて、該
ガス媒体の放電に伴って発生された紫外線が該蛍光体層
の照射時に可視光に変換され、これによって発光するこ
とを特徴とする。
[0011] In one embodiment, the plasma display panel of the present invention further includes a pair of substrates, and an electrode, a protective layer, and a phosphor layer disposed between the pair of substrates. The partition is disposed between the pair of substrates, and the discharge space is filled with a gas medium, and the ultraviolet light generated by the discharge of the gas medium emits ultraviolet light when irradiating the phosphor layer. It is characterized by being converted into visible light and emitting light.

【0012】前記隔壁は、その底部から所定の高さまで
単一色の色で形成、または第1の色の隔壁材料で形成さ
れ、該所定高さから頂部までは、厚膜による隔壁材料ま
たは封孔材による隔壁材料で第2の色が形成され得る。
例えば、第1の色は白色であり、前記第2の色は黒色で
ある。
The partition is formed of a single color from the bottom to a predetermined height, or is formed of a partition material of a first color, and from the predetermined height to the top, the partition material or sealing is made of a thick film. A second color can be formed of the partition material of the material.
For example, the first color is white, and the second color is black.

【0013】第1の色の隔壁材料は、アルミナまたはス
ピネルというガラス材のの混合または溶融物であり得
て、前記第2の色の隔壁材料は、少なくともガラス材を
含む厚膜材料または無機ポリマーを含む封孔材料であり
得る。
[0013] The partition material of the first color may be a mixture or a melt of a glass material of alumina or spinel, and the partition material of the second color may be a thick film material containing at least a glass material or an inorganic polymer. The sealing material may include:

【0014】また、溶射法により堆積した溶射膜の上部
に少なくとも厚膜材料を使用し塗布し焼成することによ
り、厚膜材料中のガラス材が軟化し溶射膜中へ含浸さ
れ、溶射膜の緻密性と強度の向上が可能となり、且つ硬
化後の表面粗さも小さくすることが可能となる。
Further, by applying and firing at least a thick film material on the upper portion of the sprayed film deposited by the spraying method, the glass material in the thick film material is softened and impregnated into the sprayed film, and the denseness of the sprayed film is increased. Thus, the properties and strength can be improved, and the surface roughness after curing can be reduced.

【0015】更に、溶射法により堆積した溶射膜の上部
に少なくとも封孔材料を使用し塗布することにより、溶
射膜中に封孔材料が含浸し、熱による硬化させることに
より溶射膜の緻密性と強度の向上が可能となり、且つ硬
化後の表面粗さも小さくすることが可能となる。
Further, at least a sealing material is applied to the upper portion of the sprayed film deposited by the thermal spraying method, so that the sealing material is impregnated in the sprayed film and cured by heat, thereby improving the denseness of the sprayed film. The strength can be improved, and the surface roughness after curing can be reduced.

【0016】本発明のプラズマディスプレイパネルの製
造方法は、放電空間を規定する隔壁を、あらかじめ溶射
法によって形成された溶射膜の上部に、少なくとも厚膜
形成または封孔材を塗布形成する隔壁形成工程を包含し
ている。
According to the method of manufacturing a plasma display panel of the present invention, a partition wall for defining a discharge space is formed on at least a thick film or a sealing material by coating on a sprayed film previously formed by a thermal spraying method. Is included.

【0017】ある実施形態では、前記隔壁形成工程は、
基板の上に感光性被覆層を形成する工程と、該感光性被
覆層に所定のパターンの開溝部を形成する工程と、少な
くとも該開溝部の内部に、溶射法によって前記隔壁材料
を所定の高さまで体積させて、前記溶射膜を形成する工
程と、前記溶射膜の上部に厚膜材料を塗布する工程と、
前記厚膜を乾燥する工程と、該感光性被覆層を除去し、
所定の形状の前記隔壁を得る工程と、前記厚膜を焼成す
る工程とを含む。
In one embodiment, the step of forming a partition wall comprises:
A step of forming a photosensitive coating layer on the substrate, a step of forming a groove in a predetermined pattern in the photosensitive coating layer, and applying the partition wall material by a thermal spraying method to at least the inside of the groove. Volume to the height of, the step of forming the sprayed film, and the step of applying a thick film material on top of the sprayed film,
Drying the thick film, removing the photosensitive coating layer,
A step of obtaining the partition having a predetermined shape; and a step of firing the thick film.

【0018】また、前記溶射膜の上部へ封孔材を塗布す
る工程の場合は、前記封孔材を乾燥する工程と、該感光
性被覆層を除去し、所定の形状の前記隔壁を得る工程
と、前記封孔材を硬化する工程と、を含む。
In the step of applying a sealing material on the sprayed film, a step of drying the sealing material and a step of removing the photosensitive coating layer to obtain the partition having a predetermined shape. And curing the sealing material.

【0019】以上のような特徴を有する本発明による
と、感光性被覆層に所定のパターンの溝を形成した後に
溶射法(例えばプラズマ溶射法)によって溝内に隔壁材
料を堆積させ、その後、該堆積膜の上部に少なくとも厚
膜材料を塗布形成し焼成するか、または封孔材を塗布形
成し硬化することにより、溶射法によって形成された堆
積膜の緻密性及び強度また誘電体層との密着性を向上す
ることができ、且つ、隔壁頂部の表面粗さも5μm以下
へ向上することができる。これらにより、後工程中での
隔壁の欠陥また不良の低減による歩留まり向上から低コ
スト化が実現される。また前面基板との貼り合わせ精度
が向上し、高品位な表示を可能とする隔壁が形成され
る。
According to the present invention having the above-described features, after a groove having a predetermined pattern is formed in the photosensitive coating layer, a partition material is deposited in the groove by a thermal spraying method (for example, a plasma spraying method). The denseness and strength of the deposited film formed by thermal spraying and adhesion to the dielectric layer by coating at least a thick film material on top of the deposited film and baking it, or applying and sealing a sealing material and curing. The surface roughness of the top of the partition wall can be improved to 5 μm or less. As a result, the cost can be reduced by improving the yield by reducing the defects and defects of the partition walls in the post-process. Further, a partition wall which improves the bonding accuracy with the front substrate and enables high-quality display is formed.

【0020】また、上記の隔壁形成に際して、隔壁の底
部から所定の高さまでを溶射膜と厚膜材料または溶射膜
と封孔材の各々白色材料で形成すれば、隔壁の可視光反
射率を向上させることができるので、隔壁側面に塗布さ
れた蛍光体からの放電による可視光の利用効率が向上
し、その結果として、プラズマディスプレイパネルの輝
度が向上する。
Further, when forming the above-mentioned partition walls, the visible light reflectance of the partition walls can be improved by forming the sprayed film and the thick film material or the sprayed film and the sealing material each of a white material from the bottom of the partition to a predetermined height. As a result, the efficiency of use of visible light by the discharge from the phosphor applied to the side wall of the partition is improved, and as a result, the brightness of the plasma display panel is improved.

【0021】また、隔壁の所定高さから頂部までを黒色
の厚膜材料または封孔材料で形成すれば、外光の反射が
抑制され、その結果として、プラズマディスプレイパネ
ルの高コントラスト化が実現される。
Further, when the partition from the predetermined height to the top is formed of a black thick film material or a sealing material, reflection of external light is suppressed, and as a result, a high contrast of the plasma display panel is realized. You.

【0022】更に、基板上に形成した感光性被覆層に所
定パターンの開溝部を形成後に、溶射法(例えばプラズ
マ溶射法)またスクリーン印刷法などによって隔壁材料
を前記開溝部に堆積させて隔壁を形成すれば、隔壁の形
状が感光性被覆層に形成させたパターンの形状に限定さ
れるため、隔壁を高精度に形成することが可能である。
Further, after forming a groove of a predetermined pattern in the photosensitive coating layer formed on the substrate, a partition wall material is deposited on the groove by a thermal spraying method (for example, a plasma spraying method) or a screen printing method. When the partition is formed, the shape of the partition is limited to the shape of the pattern formed on the photosensitive coating layer, so that the partition can be formed with high precision.

【0023】また、上記の感光性被覆層に形成した開口
部の断面形状を、頂部よりも底部が広い台形形状であ
り、且つその台形状開溝部の底角を60度以上且つ90
度未満にすれば、隔壁材料がパターンの開溝部へ充填し
て堆積し、隔壁の形状精度や基板との密着性を均一にす
ることが可能になる一方で、感光性被覆層の剥離を容易
にし、感光性被覆層の剥離時における隔壁の欠損をなく
すことが可能になる。
The cross-sectional shape of the opening formed in the photosensitive coating layer is a trapezoid whose bottom is wider than the top, and the bottom angle of the trapezoidal groove is 60 degrees or more and 90 degrees or more.
If it is less than the degree, the partition wall material fills and deposits in the groove portion of the pattern, and it becomes possible to make the shape accuracy of the partition wall and the adhesion to the substrate uniform, while removing the photosensitive coating layer. This facilitates the removal of the partition walls when the photosensitive coating layer is peeled off.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)図2は、実施の
形態にかかるAC面放電型PDPの主要構成を示す部分
的な断面斜視図である。図中、z方向がPDPの厚み方
向、xy平面がPDP面に平行な平面に相当する。当図
に示すように、本PDPは互いに主面を対向させて配設
された前面板101および背面板201から構成され
る。
(First Embodiment) FIG. 2 is a partial sectional perspective view showing a main structure of an AC surface discharge type PDP according to an embodiment. In the drawing, the z direction corresponds to the thickness direction of the PDP, and the xy plane corresponds to a plane parallel to the PDP surface. As shown in the figure, the present PDP includes a front plate 101 and a rear plate 201 arranged with their main surfaces facing each other.

【0025】前面板101の基板となる前面板ガラス1
02には、その片面に一対の透明電極103がx方向を
長手方向として複数並設される。さらに透明電極103
には、透明電極103よりも十分に幅が狭く、導電性に
優れるバス電極104が積層される。この透明電極10
3とバス電極104とが面放電にかかる表示電極107
として動作する。表示電極107を配設した前面板ガラ
ス102には、当該ガラス面全体にわたって誘電体層1
05がコートされ、誘電体層105には保護膜106が
コートされている。
Front plate glass 1 serving as substrate of front plate 101
02, a plurality of pairs of transparent electrodes 103 are arranged on one side thereof with the x direction as a longitudinal direction. Further, the transparent electrode 103
A bus electrode 104, which is sufficiently narrower than the transparent electrode 103 and has excellent conductivity, is laminated thereon. This transparent electrode 10
3 and the bus electrode 104 are subjected to surface discharge and the display electrode 107
Works as The front glass plate 102 on which the display electrodes 107 are disposed has a dielectric layer 1 over the entire glass surface.
The protective layer 106 is coated on the dielectric layer 105.

【0026】背面板201の基板となる背面板ガラス2
02には、その片面に複数のアドレス電極203がy方
向を長手方向としてストライプ状に並設され、誘電体層
204がアドレス電極203を配した背面板ガラス20
2の全面にわたってコートされる。この誘電体層204
上には、隣接するアドレス電極203の間隔に合わせて
隔壁205が配設される。そして隣接する隔壁205と
その間の誘電体層204の面上には、RGBの何れかに
対応する蛍光体層207が形成されている。
Back plate glass 2 serving as substrate of back plate 201
02, a plurality of address electrodes 203 are arranged on one side thereof in a stripe shape with the y-direction as a longitudinal direction, and a dielectric layer 204 is formed on the back plate glass 20 on which the address electrodes 203 are arranged.
2 is coated over the entire surface. This dielectric layer 204
On the upper side, a partition wall 205 is provided in accordance with the interval between the adjacent address electrodes 203. A phosphor layer 207 corresponding to one of RGB is formed on the surface of the adjacent partition wall 205 and the dielectric layer 204 therebetween.

【0027】このような構成を有する前面板101と背
面板201は、アドレス電極203と表示電極107の
互いの長手方向が直交するように対向させた状態で配さ
れ、両板101、201の外周縁部は封着ガラスで接着
し封止されている。そして前記両面板101、201の
間には、He、Xe、Neなどの希ガス成分からなる放
電ガス(封入ガス)が66000〜80000Pa程度
の圧力で封入されている。これにより、隣接する隔壁2
05間に形成される空間が放電空間208となり、隣り
合う一対の表示電極107と1本のアドレス電極203
が放電空間208を挟んで交叉する領域が、画像表示に
かかるセルとなる。
The front plate 101 and the rear plate 201 having such a configuration are arranged so that the address electrodes 203 and the display electrodes 107 face each other so that the longitudinal directions thereof are orthogonal to each other. The peripheral part is adhered and sealed with sealing glass. A discharge gas (filled gas) composed of a rare gas component such as He, Xe, or Ne is filled between the double-sided plates 101 and 201 at a pressure of about 66,000 to 80000 Pa. Thereby, the adjacent partition 2
The discharge space 208 is formed between the display electrodes 107 and one address electrode 203.
The area where the lines intersect with each other across the discharge space 208 is a cell for image display.

【0028】PDP駆動時には各セルにおいて、アドレ
ス電極203と表示電極107、また一対の表示電極1
07同士での放電によって短波長の紫外線(波長約14
7nm)が発生し、蛍光体層207が発光して画像表示
がなされる。
At the time of driving the PDP, in each cell, the address electrode 203 and the display electrode 107, and the pair of display electrodes 1
07 generate short-wavelength ultraviolet rays (wavelength of about 14).
7 nm), the phosphor layer 207 emits light, and an image is displayed.

【0029】ここで、本発明のPDPとその製造方法に
おける主な特徴部分は、隔壁頂部206と保護膜106
の接着に関するところにある。
The main features of the PDP of the present invention and the method of manufacturing the same are that the top 206 of the partition wall and the protective film 106
Is about bonding.

【0030】次に、本PDPの作製方法を具体的に説明
する。
Next, a method of manufacturing the present PDP will be specifically described.

【0031】(前面板101の作製)厚さ約2.6mm
のソーダーガラスからなる前面板ガラス102の表面上
に、ITO(Indium Tin Oxide)またはSnO2など
の導電体材料により、厚さ約3000オングストローム
の透明電極103を平行に作製する。さらに、この透明
電極103の上に銀またはクロム−銅−クロムの3層か
らなるバス電極104を積層し、表示電極107とす
る。これらの電極の作製方法に関しては、スクリーン印
刷法、フォトリソグラフィー法などの公知の各作製法が
適用できる。
(Preparation of front plate 101) Thickness of about 2.6 mm
A transparent electrode 103 having a thickness of about 3000 Å is formed in parallel with a conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or SnO 2 on the surface of a front plate glass 102 made of soda glass. Further, a bus electrode 104 composed of three layers of silver or chromium-copper-chromium is laminated on the transparent electrode 103 to form a display electrode 107. Known methods such as a screen printing method and a photolithography method can be applied to these electrodes.

【0032】次に表示電極107を作製した前面板ガラ
ス102の面上に、鉛系ガラスのペーストを全面にわた
ってコートし、焼成して約20〜30μmの誘電体層1
05を形成する。そして、誘電体層105の表面に、厚
さ約1μmの酸化マグネシウム(MgO)からなる保護
膜106を蒸着法あるいはCVDなどにより形成する。
Next, a lead-based glass paste is coated over the entire surface of the front plate glass 102 on which the display electrodes 107 have been formed, and baked to form a dielectric layer 1 of about 20 to 30 μm.
05 is formed. Then, a protective film 106 made of magnesium oxide (MgO) having a thickness of about 1 μm is formed on the surface of the dielectric layer 105 by a vapor deposition method or a CVD method.

【0033】これで前面板101が完成する。Thus, the front plate 101 is completed.

【0034】(背面板201の作製)厚さ約2.6mm
のソーダーガラスからなる背面板ガラス202の面上
に、スクリーン印刷法により、銀を主成分とする導電体
材料を一定間隔でストライプ状に塗布し、厚さ約5〜1
0μmのアドレス電極203を形成する。ここで作製す
るPDPを40インチクラスのハイビジョンテレビとす
るためには、隣り合う2つのアドレス電極203の間隔
を0.2mm程度以下に設定する。
(Preparation of back plate 201) Thickness of about 2.6 mm
A conductive material containing silver as a main component is applied in a stripe pattern at regular intervals on the surface of a back plate glass 202 made of soda glass by a screen printing method.
An address electrode 203 of 0 μm is formed. In order to make the PDP manufactured here a 40-inch class high-definition television, the interval between two adjacent address electrodes 203 is set to about 0.2 mm or less.

【0035】続いてアドレス電極203を形成した背面
板ガラス202の面全体にわたって、鉛系ガラスのペー
ストをコートして焼成し、厚さ約10〜20μmの誘電
体層204を形成する。
Subsequently, a lead-based glass paste is coated and baked over the entire surface of the rear plate glass 202 on which the address electrodes 203 are formed, thereby forming a dielectric layer 204 having a thickness of about 10 to 20 μm.

【0036】なお、ここからの工程に本発明の製造方法
の特徴が含まれる。図3(a)〜図3(e)を参照し
て、本発明における隔壁形成プロセスを説明する。図3
(a)〜図3(e)は、上記プロセスの各工程を説明す
る断面図である。
The following steps include the features of the manufacturing method of the present invention. The partition forming process according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG.
3A to 3E are cross-sectional views illustrating each step of the above process.

【0037】まず、図3(a)に示すように、形成した
基板403の上に、感光性被覆層405を形成する。本
実施形態では、感光性被覆層404として感光性のドラ
イフィルムレジスト(以下、DFRと称する)を用い
て、厚さ60μmのDFRを2層重ねて120μmの厚
さにラミネート形成する。
First, as shown in FIG. 3A, a photosensitive coating layer 405 is formed on the formed substrate 403. In the present embodiment, a photosensitive dry film resist (hereinafter, referred to as DFR) is used as the photosensitive coating layer 404, and two DFRs each having a thickness of 60 μm are laminated and formed to a thickness of 120 μm.

【0038】次に、図3(b)に示すように、所定の幅
及びピッチを有するフォトマスク405を用いて紫外線
光(UV光)を照射し、露光を行う。露光量は、フォト
マスク405のパターン幅及びピッチに応じて適正化さ
せる。
Next, as shown in FIG. 3B, exposure is performed by irradiating with ultraviolet light (UV light) using a photomask 405 having a predetermined width and pitch. The exposure amount is optimized according to the pattern width and the pitch of the photomask 405.

【0039】図3(c)の工程では、1%炭酸ナトリウ
ム水溶液の現像液を使用し、現像を行い、現像後直ちに
水洗する。露光及び現像を経て、DFR404にストラ
イプ状の所定パターンの溝(開溝部)407を形成す
る。溝406のサイズは、典型的には、上部の開口幅を
80μm、ピッチを360μmとする。
In the step of FIG. 3C, development is performed using a developing solution of a 1% aqueous solution of sodium carbonate, and washing is performed immediately after the development. After exposure and development, a groove (groove) 407 having a predetermined pattern in a stripe shape is formed in the DFR 404. The size of the groove 406 typically has an upper opening width of 80 μm and a pitch of 360 μm.

【0040】次に図3(d)に示すように、溝406の
パターン形成後に、基板403の上部からプラズマ溶射
を行い、DFR404の溝406の中に溶射膜(隔壁材
料)410を堆積させる。具体的には、プラズマ溶射ト
ーチ407には冷却ガスポート408が設置されてお
り、プラズマジェット409の溶射と同時に、冷却ガス
を基板403へ吹き付ける。
Next, as shown in FIG. 3D, after forming the pattern of the groove 406, plasma spraying is performed from above the substrate 403, and a sprayed film (partition material) 410 is deposited in the groove 406 of the DFR 404. Specifically, a cooling gas port 408 is provided in the plasma spraying torch 407, and sprays a cooling gas onto the substrate 403 simultaneously with the spraying of the plasma jet 409.

【0041】この冷却ガスには窒素を用いる。冷却ガス
の作用により、溶射時の熱によるDFR404へのダメ
ージを軽減し、精度のよい隔壁形成が可能となる。ま
た、この溶射工程で、溶射膜410はDFR404の溝
406の内部に主として堆積され、またDFR404の
表面から約15μm下方まで堆積される。しかし、その
周囲のDFR404の上には、溶射膜はほとんど堆積
(付着)しない。
As the cooling gas, nitrogen is used. By the action of the cooling gas, damage to the DFR 404 due to heat at the time of thermal spraying can be reduced, and a highly accurate partition wall can be formed. In this thermal spraying process, the thermal spray film 410 is mainly deposited inside the groove 406 of the DFR 404, and is deposited about 15 μm below the surface of the DFR 404. However, the thermal spray film hardly deposits (adheres) on the surrounding DFR 404.

【0042】次に図3(e)に示すように、隔壁の頂部
幅とほぼ同寸法に開口したスクリーンマスク411を用
い、例えばPbO-B23-SiO2-CaO系のガラス材
と溶剤であるターピネオール及び高分子樹脂であるエチ
ルセルロースを主組成とする厚膜ペースト材413をス
キージー412により隔壁頂部のみへ印刷塗布する。塗
布後、レベリングを行った後、80℃にて20分間乾燥
し、その後150℃にて30分硬化する。
Next, as shown in FIG. 3E, using a screen mask 411 having an opening substantially the same size as the top width of the partition wall, for example, a PbO—B 2 O 3 —SiO 2 —CaO-based glass material and a solvent A thick-film paste material 413 mainly composed of terpineol as the main component and ethylcellulose as the polymer resin is printed and applied only to the top of the partition wall by the squeegee 412. After the application, leveling is performed, followed by drying at 80 ° C. for 20 minutes and then curing at 150 ° C. for 30 minutes.

【0043】次に図3(f)に示すように、基板403
を剥離液、例えば5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬す
ることによって、DFR404を剥離する。これによっ
て所定の形状の隔壁415が形成される。
Next, as shown in FIG.
Is immersed in a stripping solution, for example, a 5% aqueous sodium hydroxide solution, to strip the DFR 404. Thereby, a partition 415 having a predetermined shape is formed.

【0044】感光性皮膚膜404の剥離除去が完了した
後、ピーク温度が約550℃となるようにプロファイル
形成されたの焼成炉を用いて、前記隔壁415を焼成す
る。
After the peeling and removal of the photosensitive skin film 404 is completed, the partition wall 415 is fired by using a firing furnace having a profile formed so that the peak temperature becomes about 550 ° C.

【0045】次に図3(g)に示すように、隔壁415
の壁面と、隣接する隔壁415間で露出している誘電体
層402に表面に、赤色(R)、蛍光体、緑色(G)蛍
光体、青色(B)蛍光体の何れかを含む蛍光体インクを
塗布する。この後に蛍光体インクを乾燥、焼成して各色
の蛍光体層406を形成する。
Next, as shown in FIG.
A phosphor containing any one of red (R), phosphor, green (G) phosphor, and blue (B) phosphor is provided on the surface of the dielectric layer 402 exposed between the wall surface and the adjacent partition wall 415. Apply ink. Thereafter, the phosphor ink is dried and fired to form phosphor layers 406 of each color.

【0046】ここで、一般的にPDPに使用されている
蛍光体材料の一例を以下に列挙する。
Here, examples of phosphor materials generally used in PDPs are listed below.

【0047】 赤色蛍光体 (YXGd1-X)BO3:Eu 緑色蛍光体 Zn2SiO4:Mn 青色蛍光体 BaMgAl1017:Eu3+ 各蛍光体材料は平均粒径約3μmの粉末を使用した。蛍
光体インクの塗布法は幾つかの方法が考えられるが、こ
こではメニスカス法と称される極細ノズルからメニスカ
ス(表面張力による架橋)を形成しながら蛍光体インク
を吐出する方法を用いる。この方法は蛍光体インクを目
的の領域に均一に塗布するのに好都合である。メニスカ
ス法の一例を以下に説明する。
Red phosphor (Y X Gd 1 -x) BO 3 : Eu Green phosphor Zn 2 SiO 4 : Mn Blue phosphor BaMgAl 10 O 17 : Eu 3+ Each phosphor material has an average particle diameter of about 3 μm. It was used. There are several methods of applying the phosphor ink. Here, a method of discharging the phosphor ink while forming a meniscus (crosslinking by surface tension) from an extremely fine nozzle, which is called a meniscus method, is used. This method is advantageous for uniformly applying the phosphor ink to a target area. An example of the meniscus method will be described below.

【0048】蛍光体インクは、蛍光体材料とバインダー
(エチルセルロース)および有機溶剤(α-ターピネオ
ール)を45:2:53の重量比で混合したものを用い
ることとする。この蛍光体インクをタンク(不図示)に
入れ、当該タンクに連結したノズル(先端径80μm)
の先端を隔壁415の感覚に合わせる。そしてこのノズ
ルを、誘電体層402から約100μmの距離を保ちつ
つ、隔壁415の長手方向に沿って、速度50mm/s
で走査しながら圧力4800Paで蛍光体インクを吐出
することにより、ノズルと隔壁415との間、もしくは
ノズルと誘電体層402表面との間に蛍光体インクのメ
ニスカスを形成しながら塗布する。
The phosphor ink used is a mixture of a phosphor material, a binder (ethyl cellulose) and an organic solvent (α-terpineol) at a weight ratio of 45: 2: 53. This phosphor ink is put in a tank (not shown), and a nozzle connected to the tank (tip diameter: 80 μm)
To the sense of partition 415. The nozzle is moved at a speed of 50 mm / s along the longitudinal direction of the partition 415 while maintaining a distance of about 100 μm from the dielectric layer 402.
By discharging the phosphor ink at a pressure of 4800 Pa while scanning with, the phosphor ink is applied while forming a meniscus of the phosphor ink between the nozzle and the partition 415 or between the nozzle and the surface of the dielectric layer 402.

【0049】蛍光体インクはこのようにして塗布した
後、最大温度約520℃で2時間プロファイルの焼成を
行うことによって蛍光体層416が形成される。
After the phosphor ink is applied in this manner, the phosphor layer 416 is formed by baking the profile at a maximum temperature of about 520 ° C. for 2 hours.

【0050】以上のようにすれば、溶射法によって形成
された溶射膜の上部へ、厚膜または封孔材を塗布形成す
ることにより、高品質及び高精度の形成が実現する。
As described above, by forming a thick film or a sealing material on the sprayed film formed by the spraying method, high quality and high precision formation can be realized.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、プラズマ
ディスプレイパネルにおける隔壁形成において、溶射法
によって形成された溶射膜の上部へ、厚膜または封孔材
を塗布形成することにより、強固で緻密な膜を得ること
ができ、且つ、隔壁の頂部の表面粗さを高精度に制御可
能とするため、低コストで高品位な表示を可能とするプ
ラズマディスプレイパネルを実現することが可能とな
る。
As described above, according to the present invention, in forming a partition wall in a plasma display panel, a thick film or a sealing material is applied and formed on the sprayed film formed by the spraying method, whereby the plasma display panel becomes strong. Since a dense film can be obtained and the surface roughness of the top of the partition wall can be controlled with high precision, it is possible to realize a plasma display panel that enables high-quality display at low cost. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】プラズマディスプレイパネルの構成を模式的に
示す図
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a plasma display panel.

【図2】AC面放電型プラズマディスプレイパネルの主
要構成を示す一部断面斜視図
FIG. 2 is a partial cross-sectional perspective view showing a main configuration of an AC surface discharge type plasma display panel.

【図3】(a)〜(g)は本発明の実施の形態における
隔壁形成プロセスの各工程を説明する断面図
FIGS. 3A to 3G are cross-sectional views illustrating each step of a partition wall forming process in an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 前面板 102 前面板ガラス 103 透明電極 104 バス電極 106 保護層 107 表示電極 201 背面板 202 背面板ガラス 203 アドレス電極 204 誘電体層 205 隔壁 206 隔壁頂部 207 蛍光体層 300 前面基板 301 背面基板 302,303 表示電極 304 誘電体層 305 誘電体保護層 306 アドレス電極 307 誘電体層 308 隔壁 309 蛍光体層 310 放電ガス 400 ガラス基板 401 アドレス電極 402 誘電体層 403 基板 404 感光性被覆層(DFR) 405 フォトマスク 406 開溝部 407 プラズマ溶射トーチ 408 冷却ガスポート 409 プラズマジェット 410 溶射膜(隔壁材料) 411 スクリーンマスク 412 スキージー 413 厚膜ペースト 414 厚膜材料 415 隔壁 416 蛍光体層 REFERENCE SIGNS LIST 101 front plate 102 front plate glass 103 transparent electrode 104 bus electrode 106 protective layer 107 display electrode 201 back plate 202 back plate glass 203 address electrode 204 dielectric layer 205 partition 206 partition top 207 phosphor layer 300 front substrate 301 rear substrate 302, 303 display Electrode 304 Dielectric layer 305 Dielectric protection layer 306 Address electrode 307 Dielectric layer 308 Partition wall 309 Phosphor layer 310 Discharge gas 400 Glass substrate 401 Address electrode 402 Dielectric layer 403 Substrate 404 Photosensitive coating layer (DFR) 405 Photomask 406 Groove 407 Plasma spray torch 408 Cooling gas port 409 Plasma jet 410 Thermal spray film (partition material) 411 Screen mask 412 Squeegee 413 Thick film paste 414 Thick film material 41 5 partition 416 phosphor layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芦田 英樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 鈴木 茂夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 大谷 和夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA09 5C040 GF13 GF18 GF19 JA02 JA07 JA15 JA20 JA22 KA04 KA07 KB09 KB13 KB14 KB19 MA04 MA10 MA23 MA26 5C094 AA42 AA44 BA31 CA19 DA13 FB02 FB05 FB20 GB01 5G435 AA17 BB06 HH01 HH20 KK05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hideki Ashida 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Pref. Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Shigeo Suzuki 1006 Kazuma Kadoma Kadoma, Osaka Pref. 72) Inventor Kazuo Otani 1006 Kazuma Kadoma, Kazuma City, Osaka Prefecture F-term in Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. CA19 DA13 FB02 FB05 FB20 GB01 5G435 AA17 BB06 HH01 HH20 KK05

Claims (34)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 放電空間を規定する隔壁が、隔壁材料の
溶射によって形成された溶射膜から構成されており、そ
の上部に更に厚膜形成されていることを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル。
1. A plasma display panel, wherein a partition defining a discharge space is formed of a sprayed film formed by spraying a partition material, and a thicker film is formed thereon.
【請求項2】 前記隔壁が、隔壁材料の溶射によって形
成された溶射膜から構成されており、その上部に更に封
孔材塗布形成されていることを特徴とするプラズマディ
スプレイパネル。
2. The plasma display panel according to claim 1, wherein the partition wall is formed of a sprayed film formed by spraying a partition wall material, and a sealing material is further formed on the sprayed film.
【請求項3】 1対の基板と、該1対の基板の間に配置
された電極、誘電体層、及び蛍光体層と、を更に備えて
おり、前記隔壁は該1対の基板の間に配置されており、
前記放電空間にはガス媒体が封入されていて、該ガス媒
体の放電に伴って発生された紫外線が該蛍光体層の照射
時に可視光に変換され、これによって発光する請求項1
または2に記載のプラズマディスプレイパネル。
3. The semiconductor device further comprises a pair of substrates, and an electrode, a dielectric layer, and a phosphor layer disposed between the pair of substrates, wherein the partition wall is provided between the pair of substrates. Are located in
2. A gas medium is sealed in the discharge space, and ultraviolet light generated by the discharge of the gas medium is converted into visible light when the phosphor layer is irradiated, thereby emitting light.
Or the plasma display panel according to 2.
【請求項4】 隔壁は単一の色である請求項1または2
に記載のプラズマディスプレイパネル。
4. The partition according to claim 1, wherein the partition is of a single color.
The plasma display panel according to item 1.
【請求項5】 前記隔壁は、その底部から所定の高さま
では溶射による隔壁材料である第1の色で形成され、所
定高さから頂部までは厚膜による隔壁材料である第2の
色で形成されている請求項1に記載のプラズマディスプ
レイパネル。
5. The partition wall is formed in a first color which is a partition material by thermal spraying at a predetermined height from a bottom thereof, and is formed in a second color which is a partition material by a thick film from a predetermined height to a top portion. The plasma display panel according to claim 1, wherein the plasma display panel is formed.
【請求項6】 前記隔壁は、その底部から所定の高さま
では溶射による隔壁材料である第1の色で形成され、所
定高さから頂部までは封孔材による隔壁材料である第2
の色で形成されている請求項2に記載のプラズマディス
プレイパネル。
6. The partition wall is formed of a first color that is a partition wall material formed by thermal spraying at a predetermined height from a bottom thereof, and a second color is a partition wall material formed of a sealing material from a predetermined height to a top portion.
3. The plasma display panel according to claim 2, wherein the plasma display panel is formed in the following colors.
【請求項7】 前記第1の色はほぼ白色であり、前記第
2の色はほぼ黒色である請求項5または6に記載のプラ
ズマディスプレイパネル。
7. The plasma display panel according to claim 5, wherein said first color is substantially white, and said second color is substantially black.
【請求項8】 前記第1の色はほぼ白であり、前記第2
の色はほぼ透明である請求項5または6に記載のプラズ
マディスプレイパネル。
8. The method of claim 1, wherein the first color is substantially white and the second color is
7. The plasma display panel according to claim 5, wherein the color is substantially transparent.
【請求項9】 前記溶射がプラズマ溶射である請求項1
または2に記載のプラズマディスプレイパネル。
9. The method according to claim 1, wherein said thermal spraying is plasma spraying.
Or the plasma display panel according to 2.
【請求項10】 前記溶射の隔壁材料がアルミナまたは
スピネルを含むことを特徴とする請求項1または2に記
載のプラズマディスプレイパネル。
10. The plasma display panel according to claim 1, wherein a material of the partition walls for the thermal spraying includes alumina or spinel.
【請求項11】 前記溶射の隔壁材料が、ガラスを含む
ことを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマデ
ィスプレイパネル。
11. The plasma display panel according to claim 1, wherein the material of the partition walls for thermal spraying includes glass.
【請求項12】 前記上部に形成される厚膜材料が、ガ
ラス材を含むことを特徴とする請求項1または2に記載
のプラズマディスプレイパネル。
12. The plasma display panel according to claim 1, wherein the thick film material formed on the upper portion includes a glass material.
【請求項13】 前記上部に形成される封孔材が、少な
くとも最大10μm以下の粒子を含むことを特徴とする
請求項2に記載のプラズマディスプレイパネル。
13. The plasma display panel according to claim 2, wherein the sealing material formed on the upper part contains particles of at least 10 μm or less.
【請求項14】 前記上部に形成される封孔材が、少な
くとも無機ポリマーを含むことを特徴とし、熱により硬
化する請求項2に記載のプラズマディスプレイパネル。
14. The plasma display panel according to claim 2, wherein the sealing material formed on the upper portion contains at least an inorganic polymer, and is cured by heat.
【請求項15】 放電空間を規定する隔壁が、隔壁材料
の溶射によって形成された溶射膜とから構成されてお
り、その上部を更に厚膜を形成するプラズマディスプレ
イパネルの製造方法であって、隔壁形成工程を包含する
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
15. A method for manufacturing a plasma display panel, wherein a partition wall defining a discharge space is constituted by a sprayed film formed by spraying a partition wall material, and a thicker film is formed on an upper portion thereof. A method for manufacturing a plasma display panel including a forming step.
【請求項16】 放電空間を規定する隔壁が、隔壁材料
の溶射によって形成された溶射膜から構成されており、
その上部に更に封孔材が塗布形成するプラズマディスプ
レイパネルの製造方法であって、隔壁形成工程を包含す
るプラズマディスプレイパネルの製造方法。
16. A partition defining a discharge space is formed of a sprayed film formed by spraying a partition material,
What is claimed is: 1. A method for manufacturing a plasma display panel, wherein a sealing material is further applied and formed on an upper part thereof, the method including a step of forming a partition wall.
【請求項17】 前記隔壁形成工程は、基板の上に感光
性被覆層を形成する工程と、該感光性被覆層に所定のパ
ターンの開口部を形成する工程と、少なくとも、該開口
部の内部に、溶射法によって前記隔壁材料を所定の高さ
まで堆積させて、前記溶射膜を形成する工程と、前記溶
射膜の上部に厚膜材料を塗布する工程と、前記厚膜材料
を乾燥する工程と、該感光性被覆層を除去し、所定の形
状の前記隔壁を得る工程と、前記厚膜材料を焼成する工
程とを含む請求項15に記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
17. The step of forming a partition, the step of forming a photosensitive coating layer on a substrate, the step of forming an opening having a predetermined pattern in the photosensitive coating layer, Depositing the partition wall material to a predetermined height by a thermal spraying method to form the thermal sprayed film, applying a thick film material on the thermal sprayed film, and drying the thick film material; The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 15, further comprising: removing the photosensitive coating layer to obtain the partition having a predetermined shape; and baking the thick film material.
【請求項18】 前記隔壁形成工程は、基板の上に感光
性被覆層を形成する工程と、該感光性被覆層に所定のパ
ターンの開口部を形成する工程と、少なくとも、該開口
部の内部に、溶射法によって前記隔壁材料を所定の高さ
まで堆積させて、前記溶射膜を形成する工程と、前記溶
射膜の上部に封孔材を塗布する工程と、前記封孔材を乾
燥する工程と、該感光性被覆層を除去し、所定の形状の
前記隔壁を得る工程と、前記封孔材を硬化する工程とを
含む請求項16に記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
18. The step of forming a partition, the step of forming a photosensitive coating layer on a substrate, the step of forming an opening having a predetermined pattern in the photosensitive coating layer, and at least the inside of the opening. A step of depositing the partition wall material to a predetermined height by a thermal spraying method to form the thermal sprayed film, a step of applying a sealing material on top of the thermal sprayed film, and a step of drying the sealing material. 17. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 16, further comprising: removing the photosensitive coating layer to obtain the partition having a predetermined shape; and curing the sealing material.
【請求項19】 前記感光性被覆層に形成された前記所
定パターンの開口部が、頂部より底部が広い台形状の断
面形状を有していることを特徴とする請求項15または
16に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
19. The method according to claim 15, wherein the opening of the predetermined pattern formed in the photosensitive coating layer has a trapezoidal cross section whose bottom is wider than the top. A method for manufacturing a plasma display panel.
【請求項20】 隔壁は単一の色である請求項15また
は16に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
20. The method according to claim 15, wherein the partition is of a single color.
【請求項21】 前記隔壁は、その底部から所定の高さ
までは溶射による隔壁材料である第1の色で形成され、
所定高さから頂部までは厚膜による隔壁材料である第2
の色で形成されている請求項15に記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。
21. The partition wall is formed of a first color which is a partition wall material formed by thermal spraying at a predetermined height from a bottom of the partition wall.
From the predetermined height to the top, a second partition wall made of a thick film is used.
The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 15, wherein the color is formed in the following colors.
【請求項22】 前記隔壁は、その底部から所定の高さ
までは溶射による隔壁材料である第1の色で形成され、
所定高さから頂部までは封孔材による隔壁材料である第
2の色で形成されている請求項16に記載のプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
22. The partition wall is formed of a first color, which is a partition wall material formed by thermal spraying at a predetermined height from a bottom of the partition wall,
17. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 16, wherein a portion from a predetermined height to a top portion is formed of a second color which is a partition material made of a sealing material.
【請求項23】 前記第1の色はほぼ白色であり、前記
第2の色はほぼ黒色である請求項15または16に記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
23. The method according to claim 15, wherein the first color is substantially white, and the second color is substantially black.
【請求項24】 前記第1の色はほぼ白であり、前記第
2の色はほぼ透明である請求項15または16に記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
24. The method according to claim 15, wherein the first color is substantially white, and the second color is substantially transparent.
【請求項25】 前記溶射がプラズマ溶射である請求項
15または16に記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
25. The method according to claim 15, wherein the thermal spraying is plasma thermal spraying.
【請求項26】 前記溶射の隔壁材料がアルミナまたは
スピネルを含むことを特徴とする請求項15または16
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
26. The thermal spraying barrier rib material comprises alumina or spinel.
3. The method for manufacturing a plasma display panel according to 1.
【請求項27】 前記溶射の隔壁材料が、ガラスを含む
ことを特徴とする請求項15または16に記載のプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
27. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 15, wherein the material for the partition walls for thermal spraying includes glass.
【請求項28】 前記上部に形成される厚膜材料が、ガ
ラス材を含むことを特徴とする請求項15または16に
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
28. The method according to claim 15, wherein the thick film material formed on the upper portion includes a glass material.
【請求項29】 前記上部に形成される封孔材が、少な
くとも最大10μm以下の粒子を含むことを特徴とする
請求項16に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
29. The method according to claim 16, wherein the sealing material formed on the upper part contains particles having a size of at most 10 μm or less.
【請求項30】 前記上部に形成される封孔材が、少な
くとも無機ポリマーを含むことを特徴とする請求項16
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
30. The sealing material according to claim 16, wherein the sealing material formed on the upper portion contains at least an inorganic polymer.
3. The method for manufacturing a plasma display panel according to 1.
【請求項31】 前記溶射膜の形成工程は、前記基板を
裏面から加熱して、該基板内の温度分布を所定の範囲内
に維持する工程を含む請求項15または16に記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
31. The plasma display panel according to claim 15, wherein the step of forming the sprayed film includes a step of heating the substrate from a back surface to maintain a temperature distribution in the substrate within a predetermined range. Manufacturing method.
【請求項32】 前記溶射膜の形成工程は、前記基板の
表面を冷却して、該基板内の温度分布を所定の範囲内に
維持する工程を含む請求項15または16に記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
32. The plasma display panel according to claim 15, wherein the step of forming the sprayed film includes a step of cooling a surface of the substrate to maintain a temperature distribution in the substrate within a predetermined range. Manufacturing method.
【請求項33】 前記溶射膜の形成工程は、前記基板の
裏面から加熱及び該基板表面の冷却を行って、該基板内
の温度分布を所定の範囲内に維持する工程を含む請求項
15または16に記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
33. The method according to claim 15, wherein the step of forming the thermal sprayed film includes a step of heating the substrate from the back side and cooling the surface of the substrate to maintain a temperature distribution in the substrate within a predetermined range. 17. The method for manufacturing a plasma display panel according to item 16.
【請求項34】 前記感光性被覆膜の除去後に、蛍光体
層を形成する工程を更に含む請求項15または16に記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
34. The method according to claim 15, further comprising a step of forming a phosphor layer after removing the photosensitive coating film.
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