JP2001114574A - Ceramic board for producing and inspecting semiconductor - Google Patents

Ceramic board for producing and inspecting semiconductor

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JP2001114574A
JP2001114574A JP29441599A JP29441599A JP2001114574A JP 2001114574 A JP2001114574 A JP 2001114574A JP 29441599 A JP29441599 A JP 29441599A JP 29441599 A JP29441599 A JP 29441599A JP 2001114574 A JP2001114574 A JP 2001114574A
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JP
Japan
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ceramic
sintered body
heat spreader
thermal conductivity
aluminum nitride
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Application number
JP29441599A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasutaka Ito
康隆 伊藤
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Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a cement board for producing and inspecting a semiconductor using a nitride ceramic sintered compact having thermal characteristics for suppressing the deterioration of thermal conductivity in a high-temperature region. SOLUTION: This ceramic board for producing and inspecting the semiconductor is obtained by arranging a thermal diffuser in the nitride ceramic sintered compact.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主に半導体産業に
おいて使用される、窒化物セラミックを用いる半導体製
造及び検査用のセラミック板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ceramic plate for manufacturing and testing semiconductors using nitride ceramics, which is mainly used in the semiconductor industry.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体製品関連分野に向けて
のセラミック材料の応用として、半導体素子を収容する
半導体素子収納用パッケージや、半導体素子及びその他
の各種電子部品等を搭載したハイブリッド集積回路装置
等の各種配線基板用絶縁基体等にアルミナ系等のセラミ
ック材料が多用されてきた。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an application of a ceramic material for a field related to a semiconductor product, a package for housing a semiconductor element, a hybrid integrated circuit device mounted with a semiconductor element and various other electronic parts, etc. Ceramic materials such as alumina have been widely used for insulating substrates for various wiring boards such as.

【0003】これに対し、近年、ドライエッチング装置
や化学的気相成長装置等の半導体製造装置において、後
述するように熱伝導率及び耐蝕性に優れることから窒化
アルミニウムが素材として注目され、窒化アルミニウム
等の窒化物セラミック焼結体を用いる静電チャック、ヒ
ータ、サセプタあるいはプロービング工程用ウエハプロ
ーバ等が提案されるようになってきた。
On the other hand, in recent years, in a semiconductor manufacturing apparatus such as a dry etching apparatus and a chemical vapor deposition apparatus, aluminum nitride has attracted attention as a material because of its excellent thermal conductivity and corrosion resistance as described later. , Such as an electrostatic chuck, a heater, a susceptor, or a wafer prober for a probing process using a nitride ceramic sintered body.

【0004】即ち、窒化アルミニウムや窒化珪素は、室
温レベルで100〜200W/ mK程度の熱伝導率を有
して熱伝導性に優れているとともに、当該装置において
用いるエッチングガスやクリーニングガス用のCF4
の腐食性の強いガスに対する耐蝕性の点においても優れ
ているからである。
That is, aluminum nitride and silicon nitride have a thermal conductivity of about 100 to 200 W / mK at room temperature and have excellent thermal conductivity, and a CF for etching gas and cleaning gas used in the apparatus. This is because they are also excellent in corrosion resistance to highly corrosive gases such as 4 .

【0005】このように窒化アルミニウム等の焼結体の
利用が進展してきているが、窒化アルミニウムは、30
0℃以上の高温領域で熱伝導率が低下する。この点に関
し、このような高温領域での熱伝導率の低下を抑制した
り、所望の熱伝導率を調整して所望の熱的特性、特に、
高温領域で所望の熱伝導率を得る窒化物セラミック焼結
体は知られていない。
[0005] As described above, the use of sintered bodies such as aluminum nitride has been progressing.
Thermal conductivity decreases in a high temperature region of 0 ° C. or higher. In this regard, it is possible to suppress a decrease in thermal conductivity in such a high-temperature region, or to adjust a desired thermal conductivity to obtain desired thermal characteristics, in particular,
A nitride ceramic sintered body that obtains a desired thermal conductivity in a high temperature region is not known.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述した現
状に鑑みてなされたものであり、高温領域での熱伝導率
の低下を抑制する熱的特性を具備する窒化物セラミック
焼結体を用いる半導体製造及び検査用のセラミック板を
提供することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned situation, and provides a nitride ceramic sintered body having thermal characteristics for suppressing a decrease in thermal conductivity in a high temperature region. An object of the present invention is to provide a ceramic plate for use in semiconductor manufacture and inspection.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決すべ
く、本発明者らが鋭意実験研究したところ、窒化物セラ
ミック焼結体に熱拡散体を埋設して構成することによ
り、素材として改質した焼結体が得られるという知見を
得るに至った。ここで、熱拡散体とは、内部の発熱体に
よる発熱等や外部からの加熱等のため生じる温熱の発生
又は偏在箇所等から、その温熱を周辺の所望の箇所へ分
散させつつ伝導することをいう。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention have conducted intensive experiments and researches. As a result, it has been found that a thermal diffusion material is buried in a nitride ceramic sintered body, thereby improving the material. It has been found that a high quality sintered body can be obtained. Here, the heat diffuser means that heat is generated or unevenly distributed due to heat generated by an internal heating element, external heating, or the like, and the heat is dispersed and transmitted to a desired peripheral area. Say.

【0008】このような知見から、高温領域での熱伝導
率の低下度合を低減する窒化物セラミック焼結体を得る
ために本発明者らが採った手段として、本発明の請求項
1記載の半導体製造及び検査用のセラミック板は、窒化
物セラミック焼結体中に熱拡散体が配設されてなること
を特徴とする。
[0008] Based on such findings, the present inventors have taken a measure according to claim 1 of the present invention as a measure taken by the present inventors to obtain a nitride ceramic sintered body that reduces the degree of decrease in thermal conductivity in a high temperature region. A ceramic plate for semiconductor production and inspection is characterized in that a heat spreader is disposed in a nitride ceramic sintered body.

【0009】窒化物セラミックのうち特に窒化アルミニ
ウムは300℃以上の高温領域で熱伝導率が低下する
が、熱拡散体を焼結体中に配設し、この熱拡散体が熱伝
導に寄与し、窒化アルミニウム焼結体の熱伝導率の高温
領域での低下を抑制する。
Among nitride ceramics, aluminum nitride, in particular, has a low thermal conductivity in a high-temperature region of 300 ° C. or higher. However, a heat spreader is disposed in a sintered body, and this heat spreader contributes to heat conduction. In addition, it suppresses a decrease in the thermal conductivity of the aluminum nitride sintered body in a high temperature region.

【0010】請求項2記載の半導体製造及び検査用のセ
ラミック板は、前記熱拡散体用が、高融点の金属を主成
分とする金属系材料又はセラミック材料によって構成さ
れてなる。前記金属系材料又はセラミック材料は高温領
域で熱伝導率の低下が小さい。尚、高融点とは1500
℃以上の融点をいう。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a ceramic plate for manufacturing and inspecting a semiconductor, wherein the heat diffusion member is made of a metal material or a ceramic material containing a high melting point metal as a main component. The metal-based material or the ceramic material has a small decrease in thermal conductivity in a high-temperature region. The high melting point is 1500
A melting point of not less than ° C.

【0011】請求項3記載の半導体製造及び検査用のセ
ラミック板窒化物セラミック焼結体は、前記金属系材料
が、タングステン、モリブデン及び貴金属のうち少なく
とも1 種を含んで構成され、これらの金属材料は、高融
点であるとともに高熱伝導率を有するので、窒化物セラ
ミック焼結体と同時焼成できる。尚、貴金属は金、銀、
白金、パラジウム、ロジウム、オスミウム等をいう。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a ceramic nitrided ceramic sintered body for manufacturing and inspecting a semiconductor, wherein the metal-based material includes at least one of tungsten, molybdenum, and a noble metal. Since it has a high melting point and a high thermal conductivity, it can be fired simultaneously with a nitride ceramic sintered body. The precious metals are gold, silver,
Platinum, palladium, rhodium, osmium and the like.

【0012】請求項4記載の半導体製造及び検査用のセ
ラミック板窒化物セラミック焼結体は、前記金属系材料
が、炭化タングステン及び炭化モリブデンのうち少なく
とも何れか1種を含んで構成され、これらの炭化物金属
は、高融点であるとともに高熱伝導率を有するので、窒
化物セラミック焼結体と同時焼成できる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a ceramic sintered compact for manufacturing and inspecting a semiconductor, wherein the metal-based material includes at least one of tungsten carbide and molybdenum carbide. Since the carbide metal has a high melting point and a high thermal conductivity, it can be co-fired with the nitride ceramic sintered body.

【0013】請求項5記載の半導体製造及び検査用のセ
ラミック板窒化物セラミック焼結体は、前記熱拡散体
が、セラミック板を構成する窒化物セラミック焼結体よ
りも300℃以上の温度にて熱伝導率が高く、酸化物セ
ラミック、窒化物セラミック及び炭化物セラミックのう
ち少なくとも何れか1種からなるもので構成され、これ
らのセラミック材料は、高熱伝導率であるとともに高融
点であるので、窒化物セラミックと同時焼成でき、熱膨
張率値も近似している。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a ceramic ceramic nitride body for semiconductor production and inspection, wherein the heat spreader is at a temperature of 300 ° C. or more than the nitride ceramic sintered body constituting the ceramic plate. It has a high thermal conductivity and is composed of at least one of oxide ceramic, nitride ceramic and carbide ceramic. These ceramic materials have a high thermal conductivity and a high melting point. It can be co-fired with ceramic and has a similar coefficient of thermal expansion.

【0014】請求項6記載の半導体製造及び検査用のセ
ラミック板窒化物セラミック焼結体は、前記熱拡散体の
形状が略円柱状であり、該熱拡散体の軸方向が前記窒化
物セラミック焼結体の厚さ方向に略平行で、複数個の前
記熱拡散体が上面視マトリックス状に配設される。
According to a sixth aspect of the present invention, the shape of the heat spreader is substantially cylindrical, and the axial direction of the heat spreader is the same as that of the nitride ceramic sintered body. A plurality of the heat spreaders are arranged in a matrix in a top view substantially parallel to the thickness direction of the binder.

【0015】マトリックス状の配置により、1個ずつの
各熱拡散体に関して、窒化物セラミックとの焼成収縮挙
動、熱膨張収縮の差が殆ど生じない。本発明において
は、窒化物セラミックとしては、窒化アルミニウム、窒
化珪素、窒化ホウ素を使用できる。
Due to the matrix-like arrangement, there is almost no difference between the firing shrinkage behavior and the thermal expansion / shrinkage with the nitride ceramic for each of the heat spreaders. In the present invention, aluminum nitride, silicon nitride, and boron nitride can be used as the nitride ceramic.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しつつ、本
発明の実施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0017】本発明に係わる熱拡散体を備えた窒化アル
ミニウム焼結体(以下、単に焼結体ということがある)の
構成及び製造方法を説明する。以下の説明においては、
図1に示す構成の熱拡散体の場合(パターンA)を主とし
て記載するが、例えば、図2に示す構成の熱拡散体25
(上端部25a 、下端部25b)の場合(パターンB)もあり、
本発明の効果を失わない範囲で熱拡散体の種々の配置の
させ方が存在する。
The structure and manufacturing method of an aluminum nitride sintered body (hereinafter, sometimes simply referred to as a sintered body) provided with a heat spreader according to the present invention will be described. In the following description,
The case of the heat spreader having the structure shown in FIG. 1 (pattern A) will be mainly described. For example, the heat spreader 25 having the structure shown in FIG.
(Upper end 25a, lower end 25b) (pattern B)
There are various ways of arranging the heat spreader within a range that does not lose the effect of the present invention.

【0018】熱拡散体の配置のさせ方に関して、その熱
的挙動を解析すると、パターンAの場合は、焼結体と熱
拡散体との膨張時又は収縮時の変形歪みは、焼結体の大
きさに比較して体積の小さい1個ずつの熱拡散体に分散
され、しかも、焼結体全体に一様に分布することにな
り、全体としての熱的挙動で焼結体に歪みやクラック等
が生じたりすることは殆どない。従って、半導体製造装
置等における窒化アルミニウム焼結体を応用した製品に
対する冷熱の繰返し等によるクラック等の生じない焼結
体が得られる。
Analysis of the thermal behavior of the arrangement of the heat spreader reveals that, in the case of pattern A, the deformation strain of the sintered body and the heat spreader during expansion or contraction during expansion or contraction of the sintered body is Dispersed into individual heat spreaders, each having a smaller volume than the size, and evenly distributed throughout the sintered body, resulting in distortion and cracking of the sintered body due to the overall thermal behavior. Etc. hardly occur. Therefore, a sintered body free from cracks or the like due to repetition of cooling and heating for a product to which the aluminum nitride sintered body is applied in a semiconductor manufacturing apparatus or the like can be obtained.

【0019】これに対し、パターンBの場合は、熱拡散
体の面積と厚さとの比率を考慮して変形歪みが焼結体に
影響しないように構成する必要が生じるが、基板中への
造り込みは形状が単純であるので、パターンAよりも楽
である。
On the other hand, in the case of the pattern B, it is necessary to consider the ratio between the area and the thickness of the heat spreader so that the deformation strain does not affect the sintered body. The embedding is simpler than the pattern A because the shape is simple.

【0020】図1は、本発明に係わる窒化アルミニウム
焼結体基板10(以下、単に、基板ということがある) の
うち、(a) は基板の側面断面図であり、窒化アルミニ
ウム焼結体基板10の断面構造を示しており、(b) は、
一部破断平面図であり、熱拡散体20の一部を露出させた
状態を示す。基板10の厚さ方向においては、(a) に示
す如く、熱拡散体の両端部20a 及び20b は基板10の両主
面10a 及び10b に到達していない。尚、符号30は基板中
に埋設している発熱体を示す。
FIG. 1 is a side cross-sectional view of an aluminum nitride sintered body substrate 10 (hereinafter sometimes simply referred to as a substrate) according to the present invention. 10 shows a cross-sectional structure of FIG.
FIG. 4 is a partially cutaway plan view showing a state where a part of the thermal diffusion body 20 is exposed. In the thickness direction of the substrate 10, as shown in (a), both end portions 20a and 20b of the thermal diffusion member do not reach both the main surfaces 10a and 10b of the substrate 10. Reference numeral 30 indicates a heating element embedded in the substrate.

【0021】そして、平面方向においては、図1の(a)
に示したように、熱拡散体20a が平面視マトリックス
状に埋設されている。ここに、埋設というのは、図1の
(a)に示し、前述したように、熱拡散体の両端部が基板
10の両主面に到達していないことをいう。このように、
基板中に埋設することによる利点は、熱拡散体が直接外
界に接しないので、熱拡散体を構成する金属が反応して
熱伝導率が変わってしまうことを防止できることにあ
る。
Then, in the plane direction, FIG.
As shown in FIG. 7, the heat spreaders 20a are embedded in a matrix in plan view. Here, burying means
(a), as described above, both ends of the heat spreader
It means that it has not reached both main surfaces of 10. in this way,
The advantage of embedding in the substrate is that since the heat spreader does not directly contact the outside, it is possible to prevent the metal constituting the heat spreader from reacting and changing the thermal conductivity.

【0022】このときの「マトリックス状」の配置は、
図4に示すような配置であってもよい。また、熱拡散体
の側面形状は、軸方向視円形の場合が望ましいが、円形
に限定されるわけではなく、また、側面視矩形の場合が
多いが、三角形、平行四辺形等であってもよい。そし
て、熱拡散体を窒化アルミニウム中に埋設するときの熱
拡散体の体積の総計が焼結体中に占める容積的比率は、
1〜75容量%が望ましい。1容量%未満の場合は、高
温での熱伝導率低下を防止しにくく、75重量%を超え
ると、熱伝導率自体が低下して、いずれにせよ高温での
熱伝導率の低下を抑制できない。
At this time, the “matrix” arrangement is as follows.
The arrangement shown in FIG. 4 may be used. The side shape of the heat spreader is preferably circular when viewed in the axial direction.However, the shape is not limited to a circle.Although the side shape is often rectangular when viewed from the side, it may be a triangle, a parallelogram, or the like. Good. And the volume ratio of the total volume of the heat spreader when burying the heat spreader in aluminum nitride in the sintered body is:
1 to 75% by volume is desirable. If it is less than 1% by volume, it is difficult to prevent a decrease in the thermal conductivity at a high temperature. If it exceeds 75% by weight, the thermal conductivity itself decreases, and in any case, the decrease in the thermal conductivity at a high temperature cannot be suppressed. .

【0023】次に、このような熱拡散体を構成する組成
物の基材について説明する。以下、それぞれの物質ごと
に、括弧内に、室温付近の熱伝導率(W/mK)、及び、
熱膨張率(10-6/ ℃) を順に記載する。
Next, the base material of the composition constituting such a heat spreader will be described. Hereinafter, for each substance, the thermal conductivity around room temperature (W / mK) in parentheses, and
The coefficient of thermal expansion (10 −6 / ° C.) is described in order.

【0024】まず、熱伝導率の点からは、例えば、銅(4
00,16.5) や金(300,14.2) 、銀(428,19.7) が適用可
能と考えられる。また、熱膨張率の点からは、窒化アル
ミニウムの熱膨張率が4〜5(×10-6/ ℃)であることか
ら、これに近い数値の基材が好適であることが予想され
る。
First, in terms of thermal conductivity, for example, copper (4
00, 16.5), gold (300, 14.2) and silver (428, 19.7) are considered to be applicable. Further, from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion, since the coefficient of thermal expansion of aluminum nitride is 4 to 5 (× 10 −6 / ° C.), it is expected that a base material having a numerical value close to this is suitable.

【0025】このような観点から、本発明者らが鋭意、
実験や試作を重ねて研究したところ、熱拡散体として
は、高融点の金属を主成分とする金属系材料、又は、セ
ラミック材料(酸化物セラミック、窒化物セラミック、
炭化物セラミック等)が好適であるとの結果を得た。
From such a viewpoint, the present inventors have earnestly
As a result of repeated experiments and trial production, the heat spreader was found to be a metal material mainly composed of a high melting point metal or a ceramic material (oxide ceramic, nitride ceramic,
And the like.

【0026】即ち、高融点の金属を主成分とする金属系
材料は、例えば、タングステン(167,4.3)、モリブデン
(143,4.9)、貴金属、のうち何れか、又は、これらのう
ちの少なくとも1 種を主成分とする合金等、が、熱伝導
率が大きく、しかも、高温領域で熱伝導率の低下が小さ
いとともに、窒化アルミニウム焼結体中に同時焼成によ
り形成し得るので好適である。
That is, the metal-based material mainly composed of a high melting point metal is, for example, tungsten (167,4.3), molybdenum.
(143,4.9), noble metal, or an alloy containing at least one of these as a main component has a large thermal conductivity and a small decrease in the thermal conductivity in a high temperature region. In addition, it is preferable because it can be formed by simultaneous firing in an aluminum nitride sintered body.

【0027】従って、これらの金属材料は、窒化アルミ
ニウム焼結体の熱拡散体用の材料として用いて窒化アル
ミニウム焼結体の高温領域での熱膨張率の低下を抑制す
ることができ、しかも、入手しやすい材料を用い得ると
いう利点がある。
Accordingly, these metal materials can be used as a material for a heat spreader of an aluminum nitride sintered body to suppress a decrease in the coefficient of thermal expansion of the aluminum nitride sintered body in a high temperature region. The advantage is that readily available materials can be used.

【0028】尚、このとき、金属材料は列記したうちの
1種だけでもよく、2種以上を併用してもよい。また、
合金は例示した材料で合金化し、かつ熱伝導及び熱膨張
に関して主成分の基材の特性を損なわない基材(元素)を
溶融するものであればよい。
At this time, the metal material may be used alone or in combination of two or more. Also,
The alloy may be any alloy that can be alloyed with the exemplified materials and melts a base material (element) that does not impair the properties of the base material in terms of heat conduction and thermal expansion.

【0029】また、炭化タングステン(180〜190,4.
6)、又は、炭化モリブデン(150,4.5)のうちの何れか、
又は、これらのうちの少なくとも1種を主成分とする炭
化物金属が、熱伝導率が大きく、しかも、高温領域で熱
伝導率の低下が小さいとともに、高融点であり、窒化ア
ルミニウム焼結体中に同時焼成により形成し得るので好
適である。従って、これらの炭化物金属は、窒化アルミ
ニウム焼結体中に埋設して熱拡散体として使用でき、ま
た、炭化タングステン、炭化モリブデンは、窒化アルミ
ニウム中のカーボンと反応せず、変性して熱伝導率が変
わることもない。
Further, tungsten carbide (180 to 190, 4.
6) or any of molybdenum carbide (150, 4.5),
Alternatively, a carbide metal containing at least one of these as a main component has a high thermal conductivity, a small decrease in the thermal conductivity in a high temperature region, a high melting point, and a high melting point in the aluminum nitride sintered body. It is preferable because it can be formed by simultaneous firing. Therefore, these carbide metals can be buried in an aluminum nitride sintered body to be used as a thermal diffuser. Tungsten carbide and molybdenum carbide do not react with carbon in aluminum nitride, but are modified to have a thermal conductivity. Does not change.

【0030】また、セラミック材料としては、ベリリア
(250,7.5)や炭化珪素(270,3.7)等を使用することができ
る。
As the ceramic material, beryllia
(250, 7.5) and silicon carbide (270, 3.7) can be used.

【0031】これらの材料は300℃で炭化タングステ
ン140W/mK、炭化モリブデン120W/mK、ベリリア20
0W/mK、炭化珪素210W/mKという熱伝導率を有して
おり、好適に使用できる。
At 300 ° C., these materials are made of tungsten carbide 140 W / mK, molybdenum carbide 120 W / mK, beryllia 20
It has a thermal conductivity of 0 W / mK and silicon carbide 210 W / mK, and can be suitably used.

【0032】これらのセラミック材料は、300℃以上
の温度にて窒化物セラミック焼結体よりも高熱伝導率で
あるとともに、窒化アルミニウムと同時焼成でき、熱膨
張率値も近似している。従って、これらのセラミック材
料は、窒化アルミニウム焼結体中に埋設して熱拡散体と
して使用でき、この窒化アルミニウムの応用製品におけ
る熱膨張収縮の繰返しに関する耐久性がよいという利点
がある。
These ceramic materials have a higher thermal conductivity than a nitride ceramic sintered body at a temperature of 300 ° C. or higher, can be co-fired with aluminum nitride, and have similar thermal expansion coefficients. Therefore, these ceramic materials can be used as a heat spreader by being buried in an aluminum nitride sintered body, and there is an advantage that durability of the aluminum nitride applied product with respect to repeated thermal expansion and contraction is good.

【0033】以上のようにそれぞれ組成した熱拡散体を
窒化アルミニウムと同時焼成すると、窒化アルミニウム
焼結体の熱的挙動に対してこれら金属材料等の熱的特性
の寄与が生じることになり、この熱拡散体を埋設した窒
化アルミニウム焼結体の熱伝導率をその組成によって制
御できるとともに、熱伝導率の温度特性も適宜変更で
き、これらの熱拡散体が窒化アルミニウム焼結体の高温
領域での熱伝導率の低下の度合を減少する。
When the heat diffusers having the respective compositions as described above are co-fired with aluminum nitride, the thermal characteristics of these metal materials and the like contribute to the thermal behavior of the aluminum nitride sintered body. The thermal conductivity of the aluminum nitride sintered body in which the heat spreader is embedded can be controlled by its composition, and the temperature characteristics of the thermal conductivity can be appropriately changed. Reduce the degree of decrease in thermal conductivity.

【0034】このようにして、本発明にかかわる熱拡散
体は、窒化アルミニウム焼結体の好適な使用温度範囲を
著しく拡大する効果を奏する。
As described above, the heat spreader according to the present invention has an effect of remarkably widening the preferable operating temperature range of the aluminum nitride sintered body.

【0035】従って、本発明は、例えば、ヒータやサセ
プタ、ウエハプローバ等のような窒化アルミニウムセラ
ミック基板の種々の用途に対して要求される種々の熱的
特性のそれぞれに合致させた窒化アルミニウム焼結体を
当該種々の用途に利用できるという画期的な効果を奏す
る。
Accordingly, the present invention provides an aluminum nitride sintered body that meets various thermal characteristics required for various applications of aluminum nitride ceramic substrates such as, for example, heaters, susceptors, wafer probers, and the like. It has an epoch-making effect that the body can be used for the various uses.

【0036】次に、かかる熱拡散体を埋設した窒化アル
ミニウム焼結体の製造方法を説明する。以下は、グリー
ンシート法によって製造する場合を説明するが、この方
法に限定されるものではない。
Next, a method for manufacturing an aluminum nitride sintered body in which such a heat diffusion body is embedded will be described. Hereinafter, the case of manufacturing by the green sheet method will be described, but the present invention is not limited to this method.

【0037】まず、シート成形用のスラリーを調製す
る。即ち、窒化アルミニウム原料粉末に対して、それぞ
れ所定量のバインダや可塑剤、それらの溶媒等及び焼結
助剤等が所定量添加され、これらの混合物をボールミル
等に投入して所定時間混合混練することによってスラリ
ーが調製される。
First, a slurry for forming a sheet is prepared. That is, a predetermined amount of a binder, a plasticizer, a solvent thereof, a sintering aid, and the like are added to the aluminum nitride raw material powder in a predetermined amount, and the mixture is charged into a ball mill or the like and mixed and kneaded for a predetermined time. Thereby, a slurry is prepared.

【0038】次に、前記スラリーからグリーンシートを
成形する。グリーンシートは、例えば、ドクターブレー
ド法等のシート成形法の定法に従って所定形状のグリー
ンシートに成形される。このとき、ドクターブレード法
によってグリーンシートを成形するには、ドクターブレ
ード装置や、成形用下地フィルム、乾燥炉等を備えてな
るドクターブレード成形機等が用いられる。
Next, a green sheet is formed from the slurry. The green sheet is formed into a green sheet having a predetermined shape, for example, according to a standard sheet forming method such as a doctor blade method. At this time, in order to form a green sheet by the doctor blade method, a doctor blade device, a doctor blade forming machine including a forming base film, a drying furnace, and the like are used.

【0039】スラリーは一旦、ドクターブレード装置中
の液溜部に貯留され、下地フィルムが巻き取り装置によ
って巻き取られながら移送されつつ、ドクターブレード
装置と下地フィルムとの間隙から下地フィルムの移送に
伴って薄層状に引き出される。このとき、前記間隙によ
ってスラリーの厚さが制御されて定量的にスラリーが下
地フィルム上に引出され、下地フィルムとともに乾燥炉
に送られる。
The slurry is temporarily stored in a liquid reservoir in the doctor blade device, and the base film is transported while being taken up by the take-up device. Drawn out in a thin layer. At this time, the thickness of the slurry is controlled by the gap, and the slurry is quantitatively drawn out onto the base film and sent to the drying furnace together with the base film.

【0040】そして、乾燥炉中で、スラリー中に含有さ
れる揮発溶剤成分等が乾燥蒸発されてグリーンシートが
得られる。こののち、そのグリーンシートの所望の位置
に、熱拡散体用の空洞部がパンチング等によって形成さ
れる。また、所望の発熱体等が、発熱体用の抵抗体用材
料を含有する粘液状の発熱体用ペーストを用いてスクリ
ーン印刷法等の定法に従って印刷される。
Then, in a drying oven, the volatile solvent components and the like contained in the slurry are dried and evaporated to obtain a green sheet. Thereafter, a cavity for the heat spreader is formed at a desired position on the green sheet by punching or the like. Further, a desired heating element or the like is printed using a viscous liquid heating element paste containing a resistor element material for the heating element according to a standard method such as a screen printing method.

【0041】こののち、グリーンシートは下地フィルム
が剥離され、グリーンシート同士が所定の積層体を構成
するように順序正しく積層されたのち、前記空洞部に前
記熱拡散体の構成材料が充填される。
After that, the base sheet is peeled off from the green sheets, and the green sheets are laminated in order so as to form a predetermined laminated body, and then the cavity is filled with the constituent material of the heat spreader. .

【0042】このとき熱拡散体用組成物材料(以下、組
成物用ペーストという)としては、前記組成物材料粉末
に対して、アクリル系樹脂、エチルセルロース、ブチル
セロソルブ及びポリビニルアルコールから選ばれる少な
くとも1種のバインダと、α−テルピオーネ、グリコー
ル、エチルアルコール及びブタノールから選ばれる少な
くとも1種の溶媒とを均一に混練して調製した組成物用
ペーストが好適である。
At this time, the composition material for the heat spreader (hereinafter, referred to as the composition paste) is based on at least one of acrylic resin, ethyl cellulose, butyl cellosolve and polyvinyl alcohol with respect to the composition material powder. A composition paste prepared by uniformly kneading a binder and at least one solvent selected from α-terpione, glycol, ethyl alcohol and butanol is preferred.

【0043】このとき、概ね金属系材料の組成物用ペー
ストの組成比は金属材料100重量部に対してバインダ
は1.5〜7.0重量部、溶剤は5〜20重量部であ
る。
At this time, the composition ratio of the metal-based material composition paste is generally 1.5 to 7.0 parts by weight of the binder and 5 to 20 parts by weight of the solvent with respect to 100 parts by weight of the metal material.

【0044】このようにして組成物用ペーストが空洞部
に充填されたのち、所望形状に切断されたりして焼成前
の生成形体としての最終的な形状に整えられる。
After the composition paste is filled in the hollow portion in this way, the composition paste is cut into a desired shape or the like, and is adjusted to a final shape as a formed product before firing.

【0045】次に、この生成形体は、N2気流中で保持
温度350℃以上の分解条件でバインダ成分を分解し
た。こののち、N2気流中で保持温度1800℃でホッ
トプレスして窒化アルミニウム焼結体基板を得た。
Next, the formed component was decomposed in a stream of N 2 under a decomposing condition at a holding temperature of 350 ° C. or higher. Thereafter, the substrate was hot-pressed at a holding temperature of 1800 ° C. in a stream of N 2 to obtain an aluminum nitride sintered body substrate.

【0046】このような工程を経て発熱体及び熱拡散体
を焼結体中に備えた所望の窒化アルミニウム焼結体が作
製される。
Through these steps, a desired aluminum nitride sintered body having a heating element and a heat diffusion element in the sintered body is manufactured.

【0047】このように、熱拡散体用の組成物は、16
00〜2000℃程度の温度で窒化アルミニウムと同時
焼成可能であるとともに、窒化アルミニウムとの焼成収
縮挙動の整合、特に近似の焼成収縮率が得られる。この
結果、窒化アルミニウムとの界面で前記組成物の突起等
が生じることが殆どなく、該組成物と窒化アルミニウム
との密着した良好な界面が得られる。
Thus, the composition for the heat spreader is 16
At the temperature of about 00 to 2000 ° C., it can be fired simultaneously with aluminum nitride, and at the same time, matching of firing shrinkage behavior with aluminum nitride, in particular, approximate firing shrinkage can be obtained. As a result, there is almost no occurrence of protrusions or the like of the composition at the interface with the aluminum nitride, and a good interface between the composition and the aluminum nitride can be obtained.

【0048】従って、熱拡散体を埋設した窒化アルミニ
ウム焼結体は高温領域において熱伝導率の低下が小さく
なり、前記組成物の組成比率によって熱伝導率及び熱伝
導率の温度特性の設定を制御でき、焼結体中に発熱体を
設けたような場合、発熱体の温度上昇を迅速に熱伝導で
きる等の効果を奏する。
Therefore, in the aluminum nitride sintered body in which the thermal diffusion material is embedded, the decrease in the thermal conductivity is small in a high temperature region, and the setting of the thermal conductivity and the temperature characteristics of the thermal conductivity are controlled by the composition ratio of the composition. In the case where the heating element is provided in the sintered body, the effect that the temperature rise of the heating element can be rapidly conducted is provided.

【0049】尚、グリーンシート法以外の製造方法とし
ては、例えば、プレス成形法等によるブロック状の生成
形体に熱拡散体用の空洞部を穿設し、熱拡散体用組成物
を充填し、さらに充填物を覆って蓋をする如く窒化アル
ミニウム原料粉末を充填して一体焼成する等してもよ
い。
As a manufacturing method other than the green sheet method, for example, a cavity for a heat spreader is formed in a block-shaped formed body by a press molding method or the like, and a composition for a heat spreader is filled. Further, the aluminum nitride raw material powder may be filled so as to cover the filler and cover, followed by integrally firing.

【0050】実施例 以下、本発明の実施例を説明するが、本実施例は本発明
を限定するものではなく、例示にすぎない。実施例の説
明中に記載した工程条件は一例であり、処理量等によっ
て適宜変更される。
EXAMPLES Hereinafter, examples of the present invention will be described. However, the present examples do not limit the present invention, but are merely examples. The process conditions described in the description of the embodiments are merely examples, and may be appropriately changed depending on the processing amount and the like.

【0051】まず、窒化アルミニウム粉末(トクヤマ社
製:平均粒径1.1μm)100重量部、イットリア(平
均粒径0.4μm)4重量部、アクリル系バインダ1
1.5重量部、分散剤0.5重量部、及び、1 −ブタノ
ールとエタノールとからなるアルコール混合物53重量
部、を混合した混合物を用いてドクターブレード法によ
ってPET等からなる下地シート上にシート成形を行っ
て厚さ0.47mmのグリーンシートを得た。このグリ
ーンシートを80℃で5時間乾燥させた後、前記熱拡散
体用貫通孔を所定のパターンに従ってパンチングにより
開設した。
First, 100 parts by weight of aluminum nitride powder (manufactured by Tokuyama: average particle size 1.1 μm), 4 parts by weight of yttria (average particle size 0.4 μm), acrylic binder 1
Using a mixture obtained by mixing 1.5 parts by weight, a dispersant 0.5 parts by weight, and an alcohol mixture composed of 1-butanol and ethanol 53 parts by weight, a sheet is formed on a base sheet made of PET or the like by a doctor blade method. The molding was performed to obtain a green sheet having a thickness of 0.47 mm. After drying the green sheet at 80 ° C. for 5 hours, the through holes for the heat diffusion body were opened by punching according to a predetermined pattern.

【0052】そして、表1に示すように、種々の組成の
熱拡散体用組成物の粉末を準備し、各ペースト100重
量部に対して、アクリル系バインダ1.9重量部、α−
テルピオーネ溶媒3.7重量部、及び、分散剤0.2重
量部を混合して組成物用ペーストとした。このとき、粘
度は、50〜500Pa・s(50000〜50000
0cps)であった。
As shown in Table 1, powders of various compositions for heat diffusing material were prepared, and 1.9 parts by weight of an acrylic binder and α-
3.7 parts by weight of a terpione solvent and 0.2 parts by weight of a dispersant were mixed to prepare a paste for a composition. At this time, the viscosity is 50 to 500 Pa · s (50,000 to 50,000).
0 cps).

【0053】次に、所望により、グリーンシートに所定
の発熱体パターンを印刷成形したのち、実施例試料は、
熱拡散体用貫通孔を前記A又はBの所定のパターンに従
って組成物用ペーストを充填した。比較例は熱拡散体を
設けずに試料を作製する。この点以外の他の点は実施例
と同様である。
Next, if desired, a predetermined heating element pattern is printed and formed on the green sheet.
The paste for the composition was filled in the through holes for the heat spreader according to the predetermined pattern of A or B above. In the comparative example, a sample is prepared without providing a heat spreader. Other points other than this point are the same as the embodiment.

【0054】ここで、組成物用ペーストに用いた原料
は、例えば、タングステンは、平均粒径が3.0μm、
略球状の粉末、モリブデンは平均粒径が3.0μm、略
球状の粉末、炭化タングステンは、平均粒径が1.0μ
mの略球状の粉末、を、それぞれ用いるのが好ましい。
The raw material used for the composition paste is, for example, tungsten having an average particle size of 3.0 μm.
Substantially spherical powder, molybdenum has an average particle size of 3.0 μm, and approximately spherical powder, tungsten carbide has an average particle size of 1.0 μm.
It is preferable to use a substantially spherical powder of m.

【0055】そして、発熱体パターン等が印刷され熱拡
散体用の貫通孔に組成物用ペーストが充填されたグリー
ンシートを50枚積層し、130kg/cm2の圧力で
一体化してグリーンシート積層体を作製した。熱拡散体
の埋設のため、積層体の上下主面には貫通孔はなく、組
成物の充填もないグリーンシートが所要枚数積層され
る。
Then, 50 sheets of green sheets on which a heating element pattern or the like is printed and the paste for the composition is filled in the through-holes for the heat spreader are laminated and integrated under a pressure of 130 kg / cm 2 to form a green sheet laminate. Was prepared. Due to the burying of the heat spreader, a required number of green sheets without through holes on the upper and lower main surfaces of the laminate and without filling with the composition are laminated.

【0056】こののち、このグリーンシート積層体を窒
素ガス中で約600℃で5時間程度脱脂し、約1890
℃且つ圧力150kg/cm2で3時間ホットプレス
し、厚さ4mmの窒化アルミニウムの板状のセラミック
基板11を得た。この得られたセラミック基板11を直径2
30mmの円板状に切り出した。また、比較例として熱
拡散体を埋設しないものも同様にして製造した。
Thereafter, the green sheet laminate was degreased in nitrogen gas at about 600 ° C. for about 5 hours, and
By hot pressing at 150 ° C. and a pressure of 150 kg / cm 2 for 3 hours, a 4 mm-thick aluminum nitride plate-shaped ceramic substrate 11 was obtained. The obtained ceramic substrate 11 was used for a
A 30 mm disk was cut out. As a comparative example, a device without a heat diffuser embedded therein was similarly manufactured.

【0057】ここで、パターンAの場合、熱拡散体16及
び17の大きさは直径3.0mm、深さ3.0mmであ
り、焼成収縮率は、60%であった。パターンBの場合
も60%であった。そして、実施例及び比較例の試料の
熱伝導率をそれぞれ調べたところ、表1に示す結果( 熱
伝導率はそれぞれ25℃、400℃で測定) であった。
Here, in the case of the pattern A, the size of the thermal diffusion bodies 16 and 17 was 3.0 mm in diameter and 3.0 mm in depth, and the firing shrinkage was 60%. In the case of pattern B, it was 60%. When the thermal conductivity of each of the samples of the examples and the comparative examples was examined, the results shown in Table 1 were obtained (the thermal conductivity was measured at 25 ° C. and 400 ° C., respectively).

【表1】 [Table 1]

【0058】そして、さらに、これらの試料について、
25〜400℃での熱伝導率の温度変化を調べたとこ
ろ、図3に示す結果を得た。図3において、実線が実施
例1、一点鎖線が比較例を示す。また、発熱体30の発熱
による温度上昇を熱伝導する速度が向上したことが観測
できた。
Further, regarding these samples,
When the temperature change of the thermal conductivity at 25 to 400 ° C. was examined, the result shown in FIG. 3 was obtained. In FIG. 3, a solid line indicates Example 1 and a dashed line indicates a comparative example. In addition, it was observed that the speed at which the temperature rise due to the heat generated by the heating element 30 was conducted was improved.

【0059】これらの結果から、熱拡散体を設けなかっ
た比較例に対し、実施例の試料では、400℃近辺でも
熱伝導率が大きくなり、熱拡散体用組成物による焼結体
全体の温度特性への寄与が認められる。
From these results, in comparison with the comparative example in which the heat spreader was not provided, in the sample of the example, the thermal conductivity was increased even at around 400 ° C., and the temperature of the entire sintered body of the composition for the heat spreader was increased. A contribution to the properties is observed.

【0060】尚、熱伝導率の測定方法は、レーザフラッ
シュ法を使用し、具体的には「リガクレーザフラッシュ
法熱定数測定装置」を使用した。
The thermal conductivity was measured by a laser flash method, specifically, a "Rigaku laser flash thermal constant measuring apparatus".

【0061】[0061]

【発明の効果】以上のようにそれぞれ組成した熱拡散体
用組成物を窒化アルミニウムと同時焼成すると、窒化ア
ルミニウム焼結体の熱的挙動に対してこれら金属材料等
の熱的特性の寄与が生じることになり、この熱拡散体を
埋設した窒化アルミニウム焼結体の熱伝導率をその組成
によって制御できるとともに、熱伝導率の温度特性も適
宜変更でき、これらの熱拡散体用組成物が窒化アルミニ
ウム焼結体の高温領域での熱伝導率の低下の度合を減少
する。
When the composition for a heat diffuser thus composed is simultaneously fired with aluminum nitride, the thermal properties of these metallic materials and the like contribute to the thermal behavior of the aluminum nitride sintered body. In other words, the thermal conductivity of the aluminum nitride sintered body in which the heat diffuser is embedded can be controlled by its composition, and the temperature characteristics of the thermal conductivity can be appropriately changed. The degree of decrease in thermal conductivity in the high temperature region of the sintered body is reduced.

【0062】従って、焼結体中に発熱体も埋設している
場合であれば、発熱体の温度上昇を迅速に熱伝導できる
こととなり、本発明は、窒化アルミニウムセラミック基
板の種々の用途に対して要求される種々の熱的特性のそ
れぞれに合致させた窒化アルミニウム焼結体を当該種々
の用途に利用できるという画期的な効果を奏し、窒化ア
ルミニウム焼結体の産業利用を促進する。
Therefore, when the heating element is also embedded in the sintered body, the temperature rise of the heating element can be rapidly conducted, and the present invention is applicable to various uses of the aluminum nitride ceramic substrate. It has an epoch-making effect that aluminum nitride sintered bodies matched to various required thermal properties can be used for the various applications, and promotes industrial use of aluminum nitride sintered bodies.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係わる熱拡散体を有す
るセラミック基板を示し、(a)は側面断面図、(b)は一
部破断により熱拡散体の一部を露出させた状態の平面
図。
1A and 1B show a ceramic substrate having a heat spreader according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a side cross-sectional view, and FIG. FIG.

【図2】本発明の他の実施の形態に係わる熱拡散体を有
するセラミック基板を示し、(a)は側面断面図、(b)は
一部破断により熱拡散体の一部を露出させた状態の平面
図。
FIGS. 2A and 2B show a ceramic substrate having a heat spreader according to another embodiment of the present invention, wherein FIG. 2A is a side sectional view, and FIG. The top view of a state.

【図3】本発明の実施の形態に係わる熱拡散体を有する
セラミック基板の熱伝導率を示すグラフ。
FIG. 3 is a graph showing the thermal conductivity of a ceramic substrate having a thermal diffuser according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施の形態に係わる熱拡散体の配
置を示す部分破断平面図。
FIG. 4 is a partially broken plan view showing an arrangement of a heat spreader according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…セラミック基板、20…熱拡散体、30…発熱体 10 ... ceramic substrate, 20 ... heat diffuser, 30 ... heating element

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 窒化物セラミック焼結体中に熱拡散体が
配設されてなることを特徴とする半導体製造及び検査用
のセラミック板。
1. A ceramic plate for manufacturing and inspecting a semiconductor, wherein a heat spreader is provided in a nitride ceramic sintered body.
【請求項2】 前記熱拡散体が高融点の金属を主成分と
する金属系材料又はセラミック材料からなる請求項1記
載の半導体製造及び検査用のセラミック板。
2. The ceramic plate for semiconductor production and inspection according to claim 1, wherein said heat spreader is made of a metal material or a ceramic material containing a high melting point metal as a main component.
【請求項3】 前記金属系材料が、タングステン、モリ
ブデン及び貴金属のうち少なくとも1 種を含む請求項2
記載の半導体製造及び検査用のセラミック板。
3. The metal-based material contains at least one of tungsten, molybdenum, and a noble metal.
A ceramic plate for semiconductor manufacture and inspection as described.
【請求項4】 前記金属系材料が、炭化タングステン及
び炭化モリブデンのうち少なくとも何れか1種を含む請
求項2記載の半導体製造及び検査用のセラミック板。
4. The ceramic plate for semiconductor production and inspection according to claim 2, wherein said metal-based material contains at least one of tungsten carbide and molybdenum carbide.
【請求項5】 前記熱拡散体が、セラミック板を構成す
る窒化物セラミック焼結体よりも300℃以上の温度に
て熱伝導率が高く、酸化物セラミック、窒化物セラミッ
ク及び炭化物セラミックのうち少なくとも何れか1種か
らなる請求項1記載の半導体製造及び検査用のセラミッ
ク板。
5. The thermal diffusion body has a higher thermal conductivity at a temperature of 300 ° C. or more than a nitride ceramic sintered body constituting a ceramic plate, and at least one of an oxide ceramic, a nitride ceramic, and a carbide ceramic. 2. The ceramic plate for semiconductor production and inspection according to claim 1, wherein the ceramic plate comprises any one kind.
【請求項6】 前記熱拡散体の形状が略円柱状であり、
該熱拡散体の軸方向が前記窒化物セラミック焼結体の厚
さ方向に略平行で、複数個の前記熱拡散体が上面視マト
リックス状に配設されてなる請求項1記載の半導体製造
及び検査用のセラミック板。
6. The heat diffusion body has a substantially cylindrical shape,
2. The semiconductor manufacturing method according to claim 1, wherein an axial direction of said heat spreader is substantially parallel to a thickness direction of said nitride ceramic sintered body, and a plurality of said heat spreaders are arranged in a matrix form when viewed from above. Ceramic plate for inspection.
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