JP2001093285A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2001093285A
JP2001093285A JP26793899A JP26793899A JP2001093285A JP 2001093285 A JP2001093285 A JP 2001093285A JP 26793899 A JP26793899 A JP 26793899A JP 26793899 A JP26793899 A JP 26793899A JP 2001093285 A JP2001093285 A JP 2001093285A
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transistor
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統 松尾
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a semiconductor memory in which single end of a write bit line can be realized suppressing the increase of the number of transistors added when the number of the write ports is increased and regions for wiring and connection of wires. SOLUTION: This device has a pair of inverter 101, a pull-down nMOS 102, a pull-down element 103, two nMOS pass transistors 104. 105, a write word line 106, and a write bit line 107. Write data is supplied from the write bit line 107, and is supplied to a node 108 of one side of the pair of inverter 101 through the nMOS pass transistor 104 of which a gate is connected to the write word line 106. A drain of the pull-down nMOS 102 of which agate terminal is connected to the write bit line 107 a source is connected to GND is connected to the other side of a node 109 of the pair of inverter 101 through the pass transistor 105 of which a gate is connected to the word line 106, and the pull- down element 103 is arranged at a gate of the pull-down nMOS 102.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特に複数の(多くの)ライトポートを有しライトビ
ット線がシングルエンド化された半導体記憶装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a plurality of (many) write ports and a single-ended write bit line.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に、半導体記憶装置では、集積度
を向上させるために種々の改良がなされており、特に素
子数の削減や配線の引き回しのための領域等の削減がな
されている。特に、本発明に関わる多くのライトポート
を有する半導体記憶装置では、面積の増加が著しいため
に、その改良としてリードビット線のシングルエンド化
が行われている。
2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor memory device, various improvements have been made in order to improve the degree of integration. In particular, the number of elements and the area for wiring are reduced. In particular, in a semiconductor memory device having many write ports according to the present invention, since the area is remarkably increased, the read bit line is made single-ended as an improvement.

【0003】すなわち、近年、チップ上の演算器の増加
と共になお一層の多ポート化が進み、面積のさらなる削
減が要求されており、かかる要請に応えるために、例え
ば、「S. Hesley, et al.,”A 7th-Generation x86 Mic
roprocessor ”, 1999 IEEEInternational Solid-State
Circuits Conference Digest of technical Papers, p
p.92-93, 1999」に開示されているように、ライトポー
トのビット線をシングルエンド化することが提案されて
いる。
That is, in recent years, with the increase in the number of arithmetic units on a chip, the number of ports has been further increased, and a further reduction in the area has been demanded. To meet such a demand, for example, “S. Hesley, et al. ., ”A 7th-Generation x86 Mic
roprocessor ”, 1999 IEEE International Solid-State
Circuits Conference Digest of technical Papers, p
p.92-93, 1999, it has been proposed to make the bit line of the write port single-ended.

【0004】この先行技術文献に開示された手法は、図
10に示すように、1本のライトビット線107を、ラ
イトワード線106がゲート端子に接続されたnチャネ
ルMOSパストランジスタ104に接続すると共に、プ
ルダウンnチャネルMOSトランジスタ102のゲート
端子に接続し、またプルダウントランジスタ102のド
レイン端子を、ライトワード線106がゲート端子に接
続されたnチャネルMOSパストランジスタ105に接
続することで、疑似的に差動ライトを実現したものであ
る。
In the technique disclosed in this prior art document, as shown in FIG. 10, one write bit line 107 is connected to an n-channel MOS pass transistor 104 having a write word line 106 connected to a gate terminal. Simultaneously, by connecting the gate terminal of the pull-down n-channel MOS transistor 102 and the drain terminal of the pull-down transistor 102 to the n-channel MOS pass transistor 105 whose write word line 106 is connected to the gate terminal, A differential light is realized.

【0005】図10において、一対のインバータによる
記憶部分101の一方のノード108とライトビット線
107との間にパストランジスタ104が設けられてお
り、また他方のノード109とプルダウントランジスタ
102のドレインとの間にパストランジスタ105が設
けられており、これ等両パストランジスタ104,10
5のゲートはライトワード線106に接続されている。
そして、プルダウントランジスタ102のゲートにライ
トビット線107が接続されている。
In FIG. 10, a pass transistor 104 is provided between one node 108 of a storage portion 101 composed of a pair of inverters and a write bit line 107, and the other is connected between a node 109 and a drain of a pull-down transistor 102. A pass transistor 105 is provided between the two pass transistors 104 and 10.
The gate of No. 5 is connected to the write word line 106.
The write bit line 107 is connected to the gate of the pull-down transistor 102.

【0006】かかる構成において、ライトビット線10
7のライトデータがローレベルのときには、ワード線1
06をハイレベルとすることによって、パストランジス
タ104を介して一方のノード108にローレベルを書
込み、ライトビット線107のライトデータがハイレベ
ルのときには、ワード線106をハイレベルとすること
によって、プルダウントラジスタ102とパストランジ
スタ105とを介して他方のノード109にローレベル
を書込むのである。
In such a configuration, the write bit line 10
7 is low level, the word line 1
06 is set to the high level, a low level is written to one node 108 via the pass transistor 104, and when the write data of the write bit line 107 is at the high level, the word line 106 is set to the high level, so that the pull-down is performed. The low level is written to the other node 109 via the transistor 102 and the pass transistor 105.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、この従来の
技術では、ライトの各ポートでプルダウントランジスタ
1ヶ(102)とパストランジスタ2ヶ(104,10
5)の合計3ヶが必要となるため、ライトポートが増加
すると、図11に示す様に、トランジスタが3ヶ(20
2,204,205)増加して、配線の引き回しや接続
のための領域も増加する。尚、206,207はライト
ポート増加によって追加されたライトワード線、ライト
ビット線である。
However, in this conventional technique, one pull-down transistor (102) and two pass transistors (104, 10) are provided at each write port.
5), a total of three transistors are required. Therefore, when the number of write ports increases, as shown in FIG.
2, 204, 205), and the area for wiring and connection also increases. Note that reference numerals 206 and 207 denote write word lines and write bit lines added by increasing the number of write ports.

【0008】更にライトポートが増加すると、トランジ
スタ領域と、配線引き回し及び接続領域とがそれに伴っ
て大幅に増加するために、ライトビット線のシングルエ
ンド化による多ポート半導体記憶装置の面積削減効果が
小さくなるという問題がある。これは配線プロセスの多
層化が進むと一層顕著となる。更に、ワード線とビット
線との長さは半導体記憶装置の面積から決定されている
ため、面積削減効果が小さければ配線長の削減効果も小
さいことになる。このため、遅延削減効果も小さくなる
という問題もある。
When the number of write ports further increases, the transistor area and the wiring area and connection area greatly increase accordingly. Therefore, the effect of reducing the area of the multi-port semiconductor memory device due to the single-ended write bit line is small. Problem. This becomes more remarkable as the number of wiring processes increases. Further, since the lengths of the word lines and the bit lines are determined from the area of the semiconductor memory device, if the area reduction effect is small, the wiring length reduction effect is small. For this reason, there is also a problem that the delay reduction effect is reduced.

【0009】本発明の目的は、ライトポート数が多くな
っても面積増加の少ない半導体記憶装置を提供すること
である。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which the area increases little even if the number of write ports increases.

【0010】[0010]

【課題を解決するために手段】本発明によれば、インバ
ータ対からなる記憶部分にライトビット線データをワー
ド線の制御により書込むようにした半導体記憶装置であ
って、前記インバータ対の一方のノードと前記ライトビ
ット線との間に設けられ前記ワード線にゲートが接続さ
れたパストランジスタと、前記インバータ対の他方のノ
ードと接地電位との間に設けられたプルダウントランジ
スタと、このプルダウントランジスタのゲートと前記ラ
イトビット線との間に設けられ前記ワード線にゲートが
接続されたパストランジスタと、前記プルダウントラン
ジスタのゲートと接地電位との間に設けられたプルダウ
ン素子とを含むことを特徴とする半導体記憶装置が得ら
れる。
According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device in which write bit line data is written into a storage portion composed of an inverter pair by controlling a word line. A pass transistor provided between a node and the write bit line and having a gate connected to the word line; a pull-down transistor provided between the other node of the inverter pair and a ground potential; A pass transistor provided between a gate and the write bit line and having a gate connected to the word line; and a pull-down element provided between the gate of the pull-down transistor and a ground potential. A semiconductor memory device is obtained.

【0011】そして、ライトポートの追加に対応して、
前記一方のノードと追加されたライトビット線との間
に、追加されたワード線にゲートが接続されたパストラ
ンジスタを追加し、また前記プルダウントランジスタの
ゲートと追加された前記ライトビット線との間に、追加
された前記ワード線にゲートが接続されたパストランジ
スタを追加してなることを特徴とする。
Then, in response to the addition of the write port,
A pass transistor having a gate connected to an added word line is added between the one node and the added write bit line, and a pass transistor is added between the gate of the pull-down transistor and the added write bit line. And a pass transistor having a gate connected to the added word line.

【0012】そして、前記プルダウン素子は抵抗でも良
く、またゲートが電源電位に接続されたnチャネルトラ
ンジスタでも良く、更に前記ワード線が入力に接続され
たインバータの出力がゲートに供給されたpチャネルト
ランジスタでも良く、更にはまた、ゲートが電源電位に
接続されたnチャネルトランジスタと、ゲートが前記ワ
ード線に接続されたpチャネルトランジスタとの並列回
路構成でも良いものである。
The pull-down element may be a resistor, an n-channel transistor whose gate is connected to a power supply potential, and a p-channel transistor whose gate is supplied with the output of an inverter whose word line is connected to the input. Alternatively, a parallel circuit configuration of an n-channel transistor whose gate is connected to the power supply potential and a p-channel transistor whose gate is connected to the word line may be used.

【0013】本発明の作用を述べる。半導体記憶回路の
書込み部分においては、ライトビット線の反転データを
生成するためのプルダウントランジスタのゲートに、複
数のライトポート用パストランジスタで選択された信号
を入力するという動作が実行される。従って、ライトポ
ートの追加毎にプルダウン用トランジスタを用意する必
要はなく、2つのパストランジスタの追加だけで良く、
トランジスタ領域と配線引き回し接続領域の増加を抑制
できるという効果が得られる。
The operation of the present invention will be described. In the write portion of the semiconductor memory circuit, an operation of inputting a signal selected by a plurality of write port pass transistors to a gate of a pull-down transistor for generating inverted data of a write bit line is executed. Therefore, it is not necessary to prepare a pull-down transistor every time a write port is added, and only the addition of two pass transistors is sufficient.
The effect of suppressing an increase in the transistor region and the wiring connection region can be obtained.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の目的、特徴および利点を
明確にすべく、以下添付した図面を参照しながら、本発
明の実施の形態につき詳細に説明する。図1は本発明の
一実施の形態を示す回路図であり、図10と同等部分は
同一符号にて示している。図1を参照すると、本発明の
一実施の形態としての1つのライトポートを有する半導
体記憶装置(リードポートは省略)が示されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In order to clarify the objects, features and advantages of the present invention, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, and the same parts as those in FIG. 10 are denoted by the same reference numerals. FIG. 1 shows a semiconductor memory device having one write port (a read port is omitted) as an embodiment of the present invention.

【0015】本半導体記憶装置は、インバータ対10
1、プルダウンnMOSトランジスタ102、プルダウ
ン素子103、nMOSパストランジスタ104,10
5、ライトワード線106、ライトビット線107を有
する。ライトデータはライトビット線107から供給さ
れるものであり、インバータ対101の一方のノード1
08に、ゲートがライトワード線106に接続されたn
MOSパストランジスタ104を介して供給される。
The present semiconductor memory device comprises an inverter pair 10
1, pull-down nMOS transistor 102, pull-down element 103, nMOS pass transistors 104 and 10
5, a write word line 106 and a write bit line 107. The write data is supplied from the write bit line 107, and is connected to one node 1 of the inverter pair 101.
08, n whose gate is connected to the write word line 106
It is supplied via a MOS pass transistor 104.

【0016】インバータ対101のもう一方のノード1
09と接地電位との間には、プルダウンnMOSトラン
ジスタ102が設けられており、このトランジスタ10
2のゲートには、ワード線106がゲートに接続された
パストランジスタ105を介してライトビット線107
が接続されており、トランジスタ102のゲートと接地
電位との間には、プルダウン素子103が配置されてい
る。
Another node 1 of inverter pair 101
09 and a ground potential, a pull-down nMOS transistor 102 is provided.
The write bit line 107 is connected to the gate of the write bit line 107 through the pass transistor 105 whose word line 106 is connected to the gate.
Is connected, and a pull-down element 103 is arranged between the gate of the transistor 102 and the ground potential.

【0017】ライトビット線107のライトデータがロ
ーレベルの時は、パストランジスタ104を介してノー
ド108にローレベルが書込まれ、ライトビット線10
7のライトデータがハイレベルの時は、パストランジス
タ105を介してプルダウントランジスタ102を介し
てもう一方のノード109にローレベルが書込まれる。
プルダウントランジスタ102のゲートに接続されてい
るプルダウン素子103は、プルダウントランジスタ1
02のゲートがフローティングノードとなって誤書込み
するのを回避している。プルダウン素子103の抵抗値
は高くて良く書込み動作への影響は小さい。
When the write data on the write bit line 107 is at a low level, a low level is written to the node 108 via the pass transistor 104 and the write bit line 10
When the write data of No. 7 is at the high level, the low level is written to the other node 109 via the pull-down transistor 102 via the pass transistor 105.
The pull-down element 103 connected to the gate of the pull-down transistor 102 is a pull-down transistor 1
This prevents the erroneous writing of the gate 02 as a floating node. The resistance value of the pull-down element 103 may be high, and the influence on the write operation is small.

【0018】図2を参照すると、本発明の別の実施の形
態として2つのライトポートを有する半導体記憶装置
(リードポートは省略)が示されている。本半導体記憶
装置は、図1の半導体記憶装置に対して、nMOSパス
トランジスタ204,205と、ライトワード線206
と、ライトビット線207とが追加されている。
Referring to FIG. 2, there is shown a semiconductor memory device having two write ports (a read port is omitted) as another embodiment of the present invention. This semiconductor memory device is different from the semiconductor memory device of FIG. 1 in that nMOS pass transistors 204 and 205 and a write word line 206 are provided.
And a write bit line 207 are added.

【0019】パストランジスタ204は、ライトビット
線207とインバータ対101の一方のノード108と
の間において、ゲートにライトワード線206が接続さ
れて配置されている。また、パストランジスタ205は
ライトビット線207とプルダウントランジスタ102
のゲートとの間において、ゲートにライトワード線20
6が接続されて配置されている。この様に、ライトポー
トの追加に際して素子の追加は、単にトランジスタ2ヶ
の追加で済むことになる。
The pass transistor 204 has a gate connected to a write word line 206 between the write bit line 207 and one node 108 of the inverter pair 101. Further, the pass transistor 205 includes the write bit line 207 and the pull-down transistor 102.
Between the gate and the write word line 20
6 are connected and arranged. In this way, when adding a write port, an element is simply added by adding two transistors.

【0020】図3を参照すると、図1のプルダウン素子
103の一例を示したものである。すなわち、図1のプ
ルダウン素子103として抵抗110を使用した例であ
る。かくして、前述した処理を実行する。図のインバー
タ対101は、当業者にとってよく知られており、また
本発明とは直接関係しないので、その詳細な構成は省略
する。また、リードポート回路については、ここでは言
及していないため図からは省略している。
Referring to FIG. 3, there is shown an example of the pull-down element 103 of FIG. That is, this is an example in which the resistor 110 is used as the pull-down element 103 in FIG. Thus, the above-described processing is executed. The illustrated inverter pair 101 is well known to those skilled in the art and is not directly related to the present invention. Also, the read port circuit is omitted from the figure because it is not mentioned here.

【0021】以下、本実施の形態の動作につき説明す
る。まず、プルダウン素子103として抵抗110を使
用した場合のライトの動作について、図4のタイミング
図を用いて説明する。疑似的な差動動作であるので、ラ
イトデータがハイレベルかローレベルかで動作が異な
る。ライトビット線107のデータがハイレベルの時、
ワード線106がハイレベルになると、インバータ対1
01の一方のノード108はパストランジスタ104を
介してハイレベルに引上げられ、もう一方のノード10
9はパストランジスタ105を通過後、プルダウントラ
ンジスタ102をオンさせ、ローレベルに引き落とされ
る。
Hereinafter, the operation of the present embodiment will be described. First, the write operation when the resistor 110 is used as the pull-down element 103 will be described with reference to the timing chart of FIG. Since this is a pseudo differential operation, the operation differs depending on whether the write data is at a high level or a low level. When the data on the write bit line 107 is at a high level,
When the word line 106 goes high, the inverter pair 1
01 is pulled up to a high level via the pass transistor 104, and the other node 10
9 passes the pass transistor 105, turns on the pull-down transistor 102, and is pulled down to a low level.

【0022】一方のノード108はパストランジスタ1
04を介するため、そのトランジスタの閾値分だけ低下
するいわゆるVt 落ちして、ハイレベルが書込まれにく
いが、もう一方のノード109にローレベルが書込まれ
るためにハイレベルとなる。ワード線106がローレベ
ルになると、プルダウントランジスタ102のゲートが
プルダウン抵抗110により徐々にローレベルに引落と
され、プルダウントランジスタがオフになる。
One node 108 is a pass transistor 1
Since the voltage passes through the transistor 04, so-called Vt drops by the threshold value of the transistor, and the high level is hardly written. However, the low level is written to the other node 109, and the high level is attained. When the word line 106 becomes low level, the gate of the pull-down transistor 102 is gradually pulled down to low level by the pull-down resistor 110, and the pull-down transistor is turned off.

【0023】ライトビット線107のデータがローレベ
ルの時、ワード線106がハイレベルになると、インバ
ータ対101の一方のノード108はパストランジスタ
104を介してローレベルに引落とされ、もう一方はプ
ルダウントランジスタ102がオフのままであり、ロー
レベルが書込まれる。ワード線106がローレベルにな
ると、インバータ対101はビット線107と切離され
てデータを保持する。
When the word line 106 goes high when the data on the write bit line 107 is low, one node 108 of the inverter pair 101 is pulled down to the low level via the pass transistor 104 and the other is pulled down. The transistor 102 remains off and a low level is written. When the word line 106 goes low, the inverter pair 101 is disconnected from the bit line 107 and holds data.

【0024】ワード線106がハイレベルの時に、ビッ
ト線107のデータが変化する場合も同様に、ビット線
107の変化に従って書込みが行われる。ビット線10
7のデータがハイレベルの時、パストランジスタ10
4,105を通過後の信号のハイレベルレベルはいわゆ
るVt 落ちする。パストランジスタ105を通過したプ
ルダウントランジスタ102のゲートはプルダウン抵抗
110により、VddのVt 落ちよりもさらに低下する
が、プルダウントランジスタ102はインバータ対10
1のもう一方のノード109の引下げに寄与し、ハイレ
ベルが書込まれる。
Similarly, when the data on the bit line 107 changes when the word line 106 is at the high level, writing is performed according to the change on the bit line 107. Bit line 10
7 is high level, the pass transistor 10
The high level of the signal after passing through 4,105 drops by the so-called Vt. The gate of the pull-down transistor 102 that has passed through the pass transistor 105 is further reduced by the pull-down resistor 110 from Vdd dropped by Vt.
1 contributes to the lowering of the other node 109, and a high level is written.

【0025】ビット線107のデータがローレベルの場
合、パストランジスタ104通過後の一方のノード10
8はローレベルに引落とされ、パストランジスタ105
通過後のプルダウントランジスタ102のゲートはロー
レベルに引落とされてオフとなり、ローレベルが書込ま
れる。図2のライトポート追加の場合も同様の動作によ
り書込みが行われることは明白である。
When the data on bit line 107 is at a low level, one node 10 after passing through pass transistor 104
8 is pulled down to low level and the pass transistor 105
After passing, the gate of the pull-down transistor 102 is pulled down to a low level and turned off, and the low level is written. Obviously, the writing is performed by the same operation in the case of adding the write port in FIG.

【0026】本発明の他の実施の形態として、その基本
的構成は上記の通りであるが、プルダウン素子103に
ついてさらに工夫している。その構成を図5に示す。図
5を参照すると、図1のプルダウン素子103は以下の
ように構成されている。すなわち、ゲートがVdd に接
続されたnMOSトランジスタ111である。高抵抗素
子を精度良く作成するのに比べ、容易に実現可能であ
る。前述と同様の処理を実行し、タイミング図も図4と
同様である。
In another embodiment of the present invention, the basic configuration is as described above, but the pull-down element 103 is further devised. The configuration is shown in FIG. Referring to FIG. 5, the pull-down element 103 of FIG. 1 is configured as follows. That is, the nMOS transistor 111 has a gate connected to Vdd. This can be easily realized as compared with the case where a high-resistance element is produced with high accuracy. The same processing as described above is executed, and the timing chart is the same as that in FIG.

【0027】また、図1のプルダウン素子103は図6
のようにも構成される。すなわち、ライトワード線10
6が入力端子に接続されたインバータ112の出力がゲ
ートに接続されたnMOSトランジスタ111からな
る。ワード線がハイレベルの時にプルダウン抵抗は大き
くなり書込み動作への影響を小さくでき、ローレベルの
時にプルダウン抵抗は小さくなりホールド効果を増加で
きる。
The pull-down element 103 shown in FIG.
It is also configured as follows. That is, the write word line 10
6 is an nMOS transistor 111 whose output terminal of the inverter 112 connected to the input terminal is connected to the gate. When the word line is at a high level, the pull-down resistance increases and the influence on the write operation can be reduced. When the word line is at a low level, the pull-down resistance decreases and the hold effect can be increased.

【0028】この実施例の動作としては、図7のタイミ
ング図に従って実行される。すなわち、ワード線106
がハイレベルの時に、インバータ112はローレベルを
出力し、プルダウントランジスタ111はオフとなり、
ワード線106がローレベルの時に、インバータ112
はハイレベルを出力し、プルダウントランジスタ111
はオンとなる。
The operation of this embodiment is performed according to the timing chart of FIG. That is, the word line 106
Is at a high level, the inverter 112 outputs a low level, the pull-down transistor 111 is turned off,
When the word line 106 is at a low level, the inverter 112
Outputs a high level, and the pull-down transistor 111
Turns on.

【0029】このように、ワード線106がハイレベル
の書込みの時にプルダウントランジスタ102のゲート
端子を引落とす駆動力を抑制しているので、ワードビッ
ト線107のデータがハイレベルの時に、よりプルダウ
ントランジスタ102のゲート端子電圧が高くなる。従
って、ハイレベルの書込みがより高速化でき、またより
電源電圧を低下でき低電力化が可能となる。さらには、
この実施の形態では、ワード線106がローレベルの保
持の時にプルダウントランジスタ102のゲートを引落
とす駆動力を増加しているので、ノイズ等による誤書込
みをより防止可能である。
As described above, since the driving force for pulling down the gate terminal of the pull-down transistor 102 during the writing of the word line 106 at the high level is suppressed, the pull-down transistor is more activated when the data of the word bit line 107 is at the high level. The gate terminal voltage of 102 increases. Therefore, high-level writing can be performed at a higher speed, the power supply voltage can be further reduced, and power consumption can be reduced. Moreover,
In this embodiment, since the driving force for pulling down the gate of the pull-down transistor 102 is increased when the word line 106 is held at a low level, erroneous writing due to noise or the like can be further prevented.

【0030】本実施の形態では、さらに、書込み遅延削
減、ノイズマージン向上という効果が得られる。尚、本
例において、ポートを追加する場合、それに伴ってライ
トワード線106も追加されるが、その場合には、イン
バータ112を多入力ノアゲートとすれば良いもことに
なる。
In this embodiment, the effects of further reducing the write delay and improving the noise margin can be obtained. In this example, when a port is added, the write word line 106 is also added, and in that case, the inverter 112 may be a multi-input NOR gate.

【0031】図6の構成において、プルダウン素子10
3(インバータ112+nMOSトランジスタ111)
は、図8のようにも構成される。図8において、プルダ
ウン素子103は、ライトワード線106がゲートに接
続されたpMOSトランジスタ113と、ゲートにVdd
が接続されたnMOSトランジスタ111との並列接
続構成である。図6と同様の効果がある上、pMOSの
利用により、インバータ112を省略可能となる。並列
接続したnMOSトランジスタ111はVt 落ちで接地
(GND)レベルを実現できないpMOSトランジスタ
113の補助となる。
In the configuration shown in FIG.
3 (inverter 112 + nMOS transistor 111)
Is also configured as shown in FIG. In FIG. 8, a pull-down element 103 includes a pMOS transistor 113 having a write word line 106 connected to the gate, and a Vdd
Are connected in parallel with the nMOS transistor 111 to which the NMOS transistor 111 is connected. In addition to the effect similar to that of FIG. 6, the inverter 112 can be omitted by using pMOS. The nMOS transistor 111 connected in parallel serves as the pMOS transistor 113 which cannot realize the ground (GND) level due to the drop in Vt.

【0032】この例においてもライトポートを追加する
場合には、トランジスタ113のゲートにおいて、多入
力オアゲートを使用して各追加ライトワード線を当該オ
アゲートの各入力に接続すれば良い。
In this example, when a write port is added, each additional write word line may be connected to each input of the OR gate by using a multi-input OR gate in the gate of the transistor 113.

【0033】図9は本発明の効果を示す図であり、ライ
トポート数とライト用素子数との関係をまとめている。
ライトポート数が増加した場合、本発明によりトランジ
スタ数の増加を抑制でき、またこれに伴いい配線の引き
回し、接続のための領域の増加等も抑制できるものであ
る。尚、本発明は上記各実施の形態に限定されることな
く、本発明の技術思想の範囲内において、各実施例は適
宜変更され得ることは明らかである。
FIG. 9 is a diagram showing the effect of the present invention, and summarizes the relationship between the number of write ports and the number of write elements.
When the number of write ports increases, the present invention can suppress an increase in the number of transistors, and can also suppress an increase in the number of wirings and an increase in the area for connection. It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiments, and it is apparent that each embodiment can be appropriately modified within the scope of the technical idea of the present invention.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ライトポートを追加する際のトランジスタ数の増加を2
ヶに抑制することができ、多数のライトポートに対応す
る場合には、著しいトランジスタの削減ができ、よって
専用面積の大幅な縮小が可能であり、逆にいえば、集積
度の向上が期待できるという効果がある。
As described above, according to the present invention,
Increase the number of transistors when adding a write port by 2
In the case of supporting a large number of write ports, the number of transistors can be remarkably reduced, so that the dedicated area can be significantly reduced, and conversely, an improvement in the degree of integration can be expected. This has the effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施の形態の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第二の実施の形態の回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram according to a second embodiment of the present invention.

【図3】図1の回路におけるプルダウン素子の一例を示
す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a pull-down element in the circuit of FIG.

【図4】本発明の動作を説明するためのタイムチャート
である。
FIG. 4 is a time chart for explaining the operation of the present invention.

【図5】図1の回路におけるプルダウン素子の他の例を
示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing another example of the pull-down element in the circuit of FIG. 1;

【図6】図1の回路におけるプルダウン素子の更に他の
例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing still another example of the pull-down element in the circuit of FIG.

【図7】図6の動作を説明するためのタイムチャートで
ある。
FIG. 7 is a time chart for explaining the operation of FIG. 6;

【図8】図1の回路におけるプルダウン素子の別の例を
示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing another example of the pull-down element in the circuit of FIG.

【図9】本発明の素子数の増加抑制の効果を示す図表で
ある。
FIG. 9 is a table showing the effect of suppressing an increase in the number of elements according to the present invention.

【図10】従来の実施の形態の回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram of a conventional embodiment.

【図11】従来の他の実施の形態の回路図である。FIG. 11 is a circuit diagram of another conventional embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 インバータ対 102 プルダウンnMOSトランジスタ 103 プルダウン素子 104,105,204,205 nMOSパストラン
ジスタ 106,206 ライトワード線 107,207 ライトビット線 108 インバータ対の一方のノード 109 インバータ対のもう一方のノード 110 プルダウン抵抗 111 プルダウンnMOSトランジスタ 112 インバータ 113 プルダウンpMOSトランジスタ
Reference Signs List 101 inverter pair 102 pull-down nMOS transistor 103 pull-down element 104, 105, 204, 205 nMOS pass transistor 106, 206 write word line 107, 207 write bit line 108 one node of inverter pair 109 the other node of inverter pair 110 pull-down resistor 111 pull-down nMOS transistor 112 inverter 113 pull-down pMOS transistor

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 インバータ対からなる記憶部分にライト
ビット線データをワード線の制御により書込むようにし
た半導体記憶装置であって、前記インバータ対の一方の
ノードと前記ライトビット線との間に設けられ前記ワー
ド線にゲートが接続されたパストランジスタと、前記イ
ンバータ対の他方のノードと接地電位との間に設けられ
たプルダウントランジスタと、このプルダウントランジ
スタのゲートと前記ライトビット線との間に設けられ前
記ワード線にゲートが接続されたパストランジスタと、
前記プルダウントランジスタのゲートと接地電位との間
に設けられたプルダウン素子とを含むことを特徴とする
半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device in which write bit line data is written into a storage portion composed of an inverter pair by controlling word lines, wherein a write bit line data is written between one node of the inverter pair and the write bit line. A pass transistor having a gate connected to the word line, a pull-down transistor provided between the other node of the inverter pair and a ground potential, and a pass transistor provided between the gate of the pull-down transistor and the write bit line. A pass transistor provided with a gate connected to the word line;
A semiconductor memory device comprising: a pull-down element provided between a gate of the pull-down transistor and a ground potential.
【請求項2】 ライトポートの追加に対応して、前記一
方のノードと追加されたライトビット線との間に、追加
されたワード線にゲートが接続されたパストランジスタ
を追加し、また前記プルダウントランジスタのゲートと
追加された前記ライトビット線との間に、追加された前
記ワード線にゲートが接続されたパストランジスタを追
加してなることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶
装置。
2. In response to the addition of a write port, a pass transistor having a gate connected to an added word line is added between said one node and an added write bit line, and 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a pass transistor having a gate connected to the added word line, between the gate of the transistor and the added write bit line.
【請求項3】 前記プルダウン素子は抵抗であることを
特徴とする請求項1または2記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said pull-down element is a resistor.
【請求項4】 前記プルダウン素子は、ゲートが電源電
位に接続されたnチャネルトランジスタであることを特
徴とする請求項1または2記載の半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said pull-down element is an n-channel transistor having a gate connected to a power supply potential.
【請求項5】 前記プルダウン素子は、前記ワード線が
入力に接続されたインバータの出力がゲートに供給され
たpチャネルトランジスタであることを特徴とする請求
項1または2記載の半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said pull-down element is a p-channel transistor whose gate is supplied with an output of an inverter having said word line connected to an input.
【請求項6】 前記プルダウン素子は、ゲートが電源電
位に接続されたnチャネルトランジスタと、ゲートが前
記ワード線に接続されたpチャネルトランジスタとの並
列回路構成であることを特徴とする請求項1または2記
載の半導体記憶装置。
6. The pull-down element according to claim 1, wherein an n-channel transistor having a gate connected to a power supply potential and a p-channel transistor having a gate connected to the word line are arranged in parallel. Or the semiconductor memory device according to 2.
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