JP2001093281A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2001093281A
JP2001093281A JP26886699A JP26886699A JP2001093281A JP 2001093281 A JP2001093281 A JP 2001093281A JP 26886699 A JP26886699 A JP 26886699A JP 26886699 A JP26886699 A JP 26886699A JP 2001093281 A JP2001093281 A JP 2001093281A
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JP
Japan
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sub
word line
main word
memory cell
main
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Yoshiyuki Ishizuka
良行 石塚
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory in which an access speed for a memory cell can be increased and increase in current consumption can be suppressed. SOLUTION: A memory cell array 12 comprises plural main word lines MW, plural sub-word lines SW corresponding to each main word line, and sub-word lines SW in the direction of column, and is divided into plural sub-arrays 13A-13H. The plural main word lines MW is divided into two groups of main word line groups G1 and G2. A main word decoder 14 selects one main word line MW out of the main word line groups G1, G2, plural sub-word decoders 16A-16H select sub-word lines SW corresponding to one main word line group in sub-arrays 13A-13H. Plural driving circuits 20, 22 drive correspondent sub- word line SW based on a selected result of the main word decoder 14 and the sub-word decoders 16A-16H.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に係
り、詳しくはメモリセルアレイのアクセスに関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to access to a memory cell array.

【0002】[0002]

【従来の技術】図12は従来の半導体記憶装置としての
DRAMを示す。このDRAM100は、メモリセルア
レイ102と、主ワードデコーダ104と、複数の副ワ
ードデコーダ106と、メモリセルアレイ102から読
み出されたデータを増幅するセンスアンプ108とを備
えている。メモリセルアレイ102は、行(縦)方向に
延びる複数のメインワード線MWと、各メインワード線
MWに対応して各メインワード線MWに沿って配設され
た複数のサブワード線SWと、列(横)方向に延びる複
数のビット線BLとを備えている。メモリセルアレイ1
02は、列方向における複数のサブワード線SWを含ん
でメインワード線MWに垂直に複数(例えば8つ)のサ
ブアレイ103に分割されている。各サブワード線SW
及び各ビット線BL間にそれぞれメモリセルCが接続さ
れている。主ワードデコーダ104は複数のメインワー
ド線MWに接続され、メモリセルへのアクセス時にいず
れか1本のメインワード線MWを選択しその電圧レベル
をHにするようになっている。各副ワードデコーダ10
6は各サブアレイ103に対応して設けられており、メ
モリセルCへのアクセス時にHレベルの信号を出力す
る。また、各サブワード線SWに対応してAND回路1
10が設けられている。各AND回路110の一方の入
力端子はメインワード線MWに接続され、他方の入力端
子は各副ワードデコーダ106の出力線に接続されてい
る。各AND回路110はメインワード線MWの信号レ
ベル及び各副ワードデコーダ106の出力信号レベルが
ともにHレベルにとき、Hレベルの信号を出力して対応
するサブワード線SWを駆動する。センスアンプ108
は選択されたサブワード線SWに接続された複数のメモ
リセルCからビット線BLを介して転送されたデータを
増幅する。
2. Description of the Related Art FIG. 12 shows a DRAM as a conventional semiconductor memory device. The DRAM 100 includes a memory cell array 102, a main word decoder 104, a plurality of sub-word decoders 106, and a sense amplifier 108 for amplifying data read from the memory cell array 102. The memory cell array 102 includes a plurality of main word lines MW extending in the row (longitudinal) direction, a plurality of sub-word lines SW arranged along each main word line MW corresponding to each main word line MW, and a column ( And a plurality of bit lines BL extending in the (lateral) direction. Memory cell array 1
Numeral 02 is divided into a plurality (for example, eight) of sub-arrays 103 perpendicular to the main word line MW, including a plurality of sub-word lines SW in the column direction. Each sub word line SW
The memory cells C are connected between the respective bit lines BL. The main word decoder 104 is connected to a plurality of main word lines MW, and selects one of the main word lines MW when accessing a memory cell and sets the voltage level thereof to H. Each sub-word decoder 10
6 is provided corresponding to each sub-array 103, and outputs an H-level signal when accessing the memory cell C. Also, an AND circuit 1 corresponding to each sub-word line SW is provided.
10 are provided. One input terminal of each AND circuit 110 is connected to the main word line MW, and the other input terminal is connected to the output line of each sub-word decoder 106. When both the signal level of the main word line MW and the output signal level of each sub-word decoder 106 are at H level, each AND circuit 110 outputs an H-level signal to drive the corresponding sub-word line SW. Sense amplifier 108
Amplifies data transferred from the plurality of memory cells C connected to the selected sub-word line SW via the bit line BL.

【0003】このように構成されたDRAM100にお
いては、アドレス信号が主ワードデコーダ104によっ
て選択信号にデコードされ、いずれか1つのメインワー
ド線MWが選択される。また、アドレス信号に基づいて
すべての副ワードデコーダ106の出力信号がHレベル
になり、選択されたメインワード線MWに接続されたA
ND回路110の出力信号がHレベルになり、そのAN
D回路110に対応するサブワード線SWが駆動され
る。その結果、選択されたサブワード線SWに接続され
たメモリセルCが活性化される。データの読み出し時に
はメモリセルCからデータがビット線BLを介してセン
スアンプ108に転送され、センスアンプ108にて増
幅されたデータは図示しないコラムゲートを介して出力
回路に転送され、出力回路から出力される。データの書
き込み時にはライトデータがビット線BLを介してメモ
リセルCに転送される。
In DRAM 100 configured as described above, an address signal is decoded into a selection signal by main word decoder 104, and any one of main word lines MW is selected. Also, the output signals of all the sub-word decoders 106 attain the H level based on the address signal, and the A signal connected to the selected main word line MW
The output signal of the ND circuit 110 becomes H level,
The sub word line SW corresponding to the D circuit 110 is driven. As a result, the memory cell C connected to the selected sub-word line SW is activated. At the time of reading data, data is transferred from the memory cell C to the sense amplifier 108 via the bit line BL, and the data amplified by the sense amplifier 108 is transferred to an output circuit via a column gate (not shown), and output from the output circuit. Is done. When writing data, write data is transferred to the memory cell C via the bit line BL.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図12
に示すDRAM100においては、メモリセルアレイ1
02内において1度にアクセス可能なメモリセルは、1
本のメインワード線MWに対応する複数のサブワード線
SWに接続されたメモリセルCに限られている。例え
ば、主ワードデコーダ104によってメインワード線M
Wiが選択されると、メインワード線MWiに対応する
複数のサブワード線SWが駆動され、その駆動されたサ
ブワード線SWに接続されたメモリセルCのみがアクセ
スされる。そして、メモリセルCに対するデータの書き
込み又は読み出しが行われ、この際、ビット線BLが充
放電される。従って、メインワード線MWiに対応する
複数のサブワード線SWi1,SWi2及びメインワー
ド線MWjに対応する複数のサブワード線SWj1,S
Wj2に接続されたメモリセルCにアクセスするために
は、複数回(この場合、2回)アクセスする必要があ
り、アクセスタイムが長くなるという問題がある。ま
た、DRAM100の消費電流の大部分はメモリセルの
アクセス時におけるビット線BLの充放電電流であり、
このように所望のメモリセルをアクセスするために複数
回アクセスすると、DRAM100の消費電流が増大す
るという問題がある。
However, FIG.
In the DRAM 100 shown in FIG.
02, the memory cells that can be accessed at one time are 1
It is limited to the memory cells C connected to the plurality of sub-word lines SW corresponding to the main word line MW. For example, the main word decoder M
When Wi is selected, a plurality of sub-word lines SW corresponding to the main word line MWi are driven, and only the memory cells C connected to the driven sub-word line SW are accessed. Then, writing or reading of data to or from the memory cell C is performed, and at this time, the bit line BL is charged and discharged. Therefore, a plurality of sub-word lines SWi1, SWi2 corresponding to the main word line MWi and a plurality of sub-word lines SWj1, Sj corresponding to the main word line MWj.
In order to access the memory cell C connected to Wj2, it is necessary to access a plurality of times (in this case, twice), and there is a problem that the access time becomes long. Most of the current consumption of the DRAM 100 is the charge / discharge current of the bit line BL when accessing the memory cell.
If the access is performed a plurality of times in order to access a desired memory cell, the current consumption of the DRAM 100 increases.

【0005】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、メモリセルのアクセス
の自由度を向上することにより、メモリセルへのアクセ
スの高速化を図ることができるとともに、消費電流の増
加を抑制することができる半導体記憶装置を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to increase the degree of freedom of access to a memory cell, thereby increasing the speed of access to the memory cell. It is another object of the present invention to provide a semiconductor memory device capable of suppressing an increase in current consumption.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、メモリセルアレイを複数のサブアレイに分割すると
ともに、各サブアレイ毎に複数のサブワード線を設け、
複数のサブワード線を複数のメインワード線に接続した
半導体記憶装置において、複数のメインワード線を選択
するとともに、各サブアレイにおいて該選択されたメイ
ンワード線の1つに対応するサブワード線を選択するよ
うにしたことを要旨とする。
According to a first aspect of the present invention, a memory cell array is divided into a plurality of subarrays, and a plurality of subword lines are provided for each subarray.
In a semiconductor memory device in which a plurality of sub word lines are connected to a plurality of main word lines, a plurality of main word lines are selected, and a sub word line corresponding to one of the selected main word lines is selected in each sub array. The gist is that it was done.

【0007】請求項1に記載の発明によれば、複数のメ
インワード線が選択され、各サブアレイにおいて選択さ
れたメインワード線の1つに対応するサブワード線が選
択される。そのため、異なる複数のメインワード線に対
応するサブワード線に接続された所望のメモリセルをア
クセスする際に、メモリセルのアクセスの自由度が向上
しメモリセルアレイのアクセス回数を減少させることが
できるようになり、アクセスの高速化を図ることができ
る。また、所望のメモリセルをアクセスする際、アクセ
ス回数を減少させることができるため、消費電流の増加
を抑制することができる。
According to the first aspect of the present invention, a plurality of main word lines are selected, and a sub word line corresponding to one of the selected main word lines in each sub array is selected. Therefore, when accessing a desired memory cell connected to a sub-word line corresponding to a plurality of different main word lines, the degree of freedom of access to the memory cell is improved, and the number of accesses to the memory cell array can be reduced. Thus, the access can be speeded up. Further, when accessing a desired memory cell, the number of accesses can be reduced, so that an increase in current consumption can be suppressed.

【0008】請求項2に記載の発明は、メモリセルアレ
イを複数のサブアレイに分割するとともに、各サブアレ
イ毎に複数のサブワード線を設け、複数のサブワード線
を複数のメインワード線に接続した半導体記憶装置にお
いて、前記複数のメインワード線を複数のメインワード
線群にグループ化し、各メインワード線群におけるいず
れか1つのメインワード線を選択する主ワードデコーダ
と、前記各サブアレイに対応して設けられ、前記各サブ
アレイにおいて前記複数のメインワード線群のいずれか
1つの群に対応するサブワード線を選択する複数の副ワ
ードデコーダと、前記各サブワード線に対応して設けら
れ、かつ前記主ワードデコーダの選択結果と該サブワー
ド線を含むサブアレイに対応する副ワードデコーダの選
択結果とに基づいて対応するサブワード線を駆動する複
数の駆動回路とを備えることを要旨とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device in which a memory cell array is divided into a plurality of sub arrays, a plurality of sub word lines are provided for each sub array, and the plurality of sub word lines are connected to a plurality of main word lines. , A plurality of main word lines are grouped into a plurality of main word line groups, and a main word decoder for selecting any one main word line in each main word line group; and a main word decoder provided for each of the sub-arrays; A plurality of sub-word decoders for selecting a sub-word line corresponding to any one of the plurality of main word line groups in each of the sub-arrays; and a selection of the main word decoder provided for each of the sub-word lines. Based on the result and the selection result of the sub-word decoder corresponding to the sub-array including the sub-word line And summarized in that and a plurality of drive circuits for driving a corresponding word line.

【0009】請求項2に記載の発明によれば、複数のメ
インワード線群において1つのメインワード線が選択さ
れ、各サブアレイにおいていずれか1つのメインワード
線群に対応するサブワード線が選択される。そして、主
ワードデコーダの選択結果と副ワードデコーダの選択結
果とに基づいてサブワード線が駆動される。そのため、
異なる複数のメインワード線に対応するサブワード線に
接続された所望のメモリセルをアクセスする際に、メモ
リセルのアクセスの自由度が向上しメモリセルアレイの
アクセス回数を減少させることができるようになり、ア
クセスの高速化を図ることができる。また、所望のメモ
リセルをアクセスする際、アクセス回数を減少させるこ
とができるため、消費電流の増加を抑制することができ
る。
According to the second aspect of the present invention, one main word line is selected in a plurality of main word line groups, and a sub word line corresponding to any one of the main word line groups is selected in each sub array. . Then, the sub-word line is driven based on the selection result of the main word decoder and the selection result of the sub-word decoder. for that reason,
When accessing a desired memory cell connected to a sub-word line corresponding to a plurality of different main word lines, the degree of freedom in accessing the memory cell is improved, and the number of accesses to the memory cell array can be reduced. Access can be speeded up. Further, when accessing a desired memory cell, the number of accesses can be reduced, so that an increase in current consumption can be suppressed.

【0010】請求項3に記載の発明は、メモリセルアレ
イを複数のサブアレイに分割するとともに、各サブアレ
イ毎に複数のサブワード線を設け、複数のサブワード線
を複数のメインワード線に接続した半導体記憶装置にお
いて、メインワード線に沿って配設される複数のサブワ
ード線を1群とし、各メインワード線に対応して複数の
サブワード線群が接続されており、前記複数のメインワ
ード線のいずれか1つを選択する主ワードデコーダと、
前記各サブアレイに対応して設けられ、各サブアレイに
おいて前記各メインワード線に対応する複数のサブワー
ド線のいずれか1つのサブワード線を選択する複数の副
ワードデコーダと、前記各サブワード線に対応して設け
られ、かつ前記主ワードデコーダの選択結果と該サブワ
ード線を含むサブアレイに対応する副ワードデコーダの
選択結果とに基づいて対応するサブワード線を駆動する
複数の駆動回路とを備えることを要旨とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device in which a memory cell array is divided into a plurality of sub arrays, a plurality of sub word lines are provided for each sub array, and the plurality of sub word lines are connected to a plurality of main word lines. , A plurality of sub-word lines arranged along a main word line are grouped, and a plurality of sub-word line groups are connected to each of the main word lines, and any one of the plurality of main word lines is connected. A main word decoder for selecting one;
A plurality of sub-word decoders provided corresponding to each of the sub-arrays and selecting any one of the plurality of sub-word lines corresponding to each of the main word lines in each of the sub-arrays; And a plurality of driving circuits for driving a corresponding sub-word line based on a selection result of the main word decoder and a selection result of a sub-word decoder corresponding to a sub-array including the sub-word line. .

【0011】請求項3に記載の発明によれば、1つのメ
インワード線が選択され、各サブアレイにおいてメイン
ワード線に対応する複数のサブワード線のいずれか1つ
が選択される。そして、主ワードデコーダの選択結果と
副ワードデコーダの選択結果とに基づいてサブワード線
が駆動される。そのため、異なる複数のサブワード線群
に接続された所望のメモリセルをアクセスする際に、メ
モリセルのアクセスの自由度が向上しメモリセルアレイ
のアクセス回数を減少させることができるようになり、
アクセスの高速化を図ることができる。また、所望のメ
モリセルをアクセスする際、アクセス回数を減少させる
ことができるため、消費電流の増加を抑制することがで
きる。
According to the third aspect of the present invention, one main word line is selected, and one of a plurality of sub word lines corresponding to the main word line is selected in each sub array. Then, the sub-word line is driven based on the selection result of the main word decoder and the selection result of the sub-word decoder. Therefore, when accessing a desired memory cell connected to a plurality of different sub-word line groups, the degree of freedom of access to the memory cell is improved, and the number of accesses to the memory cell array can be reduced.
Access can be speeded up. Further, when accessing a desired memory cell, the number of accesses can be reduced, so that an increase in current consumption can be suppressed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】[第1実施形態]以下、本発明を
具体化した第1実施形態を図1〜図5に従って説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0013】図1は本実施形態の半導体記憶装置として
のDRAM10を示す。このDRAM10は、メモリセ
ルアレイ12と、主ワードデコーダ14と、複数(本実
施形態では8個)の副ワードデコーダ16A〜16H
と、メモリセルアレイ12から読み出されたデータを増
幅するセンスアンプ18とを備えている。
FIG. 1 shows a DRAM 10 as a semiconductor memory device of the present embodiment. The DRAM 10 includes a memory cell array 12, a main word decoder 14, and a plurality (eight in this embodiment) of sub word decoders 16A to 16H.
And a sense amplifier 18 for amplifying data read from the memory cell array 12.

【0014】メモリセルアレイ12は、行(縦)方向に
延びる複数のメインワード線MWと、各メインワード線
MWに対応して各メインワード線MWに沿って配設され
た複数のサブワード線SWと、列(横)方向に延びる複
数のビット線BLとを備えている。各サブワード線SW
及び各ビット線BL間にそれぞれメモリセルCが接続さ
れている。なお、図示していないが、メモリセルアレイ
12は各ビット線BLと対をなす反転側ビット線BLバ
ーを備え、各サブワード線SW及び各ビット線BLバー
間にもメモリセルが接続されている。
The memory cell array 12 includes a plurality of main word lines MW extending in the row (longitudinal) direction, and a plurality of sub word lines SW arranged along each main word line MW corresponding to each main word line MW. , And a plurality of bit lines BL extending in the column (horizontal) direction. Each sub word line SW
The memory cells C are connected between the respective bit lines BL. Although not shown, the memory cell array 12 includes an inversion side bit line BL bar paired with each bit line BL, and a memory cell is connected between each sub word line SW and each bit line BL bar.

【0015】メモリセルアレイ12は、列方向における
複数のサブワード線SWを含んでメインワード線MWに
垂直に複数(例えば8つ)のサブアレイ13A〜13H
に分割されている。また、複数のメインワード線MWは
同一の本数よりなる複数(本実施形態では2つ)のメイ
ンワード線群G1,G2にグループ化されており、メモ
リセルアレイ12にはこれらのメインワード線群G1,
G2を含んでアレイ12A,12Bを定義されている。
The memory cell array 12 includes a plurality of (for example, eight) sub arrays 13A to 13H including a plurality of sub word lines SW in the column direction and perpendicular to the main word line MW.
Is divided into Further, the plurality of main word lines MW are grouped into a plurality of (two in the present embodiment) main word line groups G1 and G2 having the same number, and the memory cell array 12 includes these main word line groups G1 and G2. ,
Arrays 12A and 12B are defined including G2.

【0016】主ワードデコーダ14は複数のメインワー
ド線群G1,G2に対応する複数のデコード部14A,
14Bからなり、各デコード部14A,14Bにはメイ
ンワード線群G1,G2を構成する複数のメインワード
線MWが接続されている。各デコード部14A,14B
は、メモリセルアレイ12へのアクセス時においてアド
レス信号を選択信号にデコードし、各メインワード線群
G1,G2におけるいずれか1本のメインワード線MW
を選択しその電圧レベルをHにするようになっている。
The main word decoder 14 includes a plurality of decoding sections 14A, 14A, corresponding to the plurality of main word line groups G1, G2.
A plurality of main word lines MW constituting the main word line groups G1 and G2 are connected to each of the decoding units 14A and 14B. Each decoding unit 14A, 14B
Decodes an address signal into a selection signal when accessing the memory cell array 12, and selects one of the main word lines MW in each of the main word line groups G1 and G2.
And the voltage level thereof is set to H.

【0017】各副ワードデコーダ16A〜16Hは各サ
ブアレイ13A〜13Hに対応して設けられている。各
副ワードデコーダ16A〜16Hはメモリセルアレイ1
2のアクセス時においてアドレス信号を選択信号にデコ
ードし、列方向に延びる2つの出力線17a,17bの
いずれか1つをHレベルにすることにより複数のメイン
ワード線群G1,G2のいずれか1つのメインワード線
群に対応するサブワード線SWを選択するようになって
いる。
Each of the sub-word decoders 16A to 16H is provided corresponding to each of the sub-arrays 13A to 13H. Each of the sub-word decoders 16A to 16H is connected to the memory cell array 1
2, the address signal is decoded into a selection signal, and one of the two output lines 17a and 17b extending in the column direction is set to the H level, whereby any one of the plurality of main word line groups G1 and G2 is set. The sub word line SW corresponding to one main word line group is selected.

【0018】また、前記アレイ12Aにおける各サブワ
ード線SWに対応して駆動回路としてのAND回路20
が設けられ、前記アレイ12Bにおける各サブワード線
SWに対応して駆動回路としてのAND回路22が設け
られている。各AND回路20の一方の入力端子は各サ
ブワード線SWに対応するメインワード線群G1のメイ
ンワード線MWに接続され、他方の入力端子は副ワード
デコーダ16A〜16Hの出力線17aに接続されてい
る。各AND回路22の一方の入力端子は各サブワード
線SWに対応するメインワード線群G2のメインワード
線MWに接続され、他方の入力端子は副ワードデコーダ
16A〜16Hの出力線17bに接続されている。各A
ND回路20はメインワード線MWの電圧レベル及び各
副ワードデコーダ16A〜16Hの出力線17aの電圧
レベルがともにHレベルのとき、Hレベルの信号を出力
して対応するサブワード線SWを駆動する。各AND回
路22はメインワード線MWの電圧レベル及び各副ワー
ドデコーダ16A〜16Hの出力線17bの電圧レベル
がともにHレベルのとき、Hレベルの信号を出力して対
応するサブワード線SWを駆動する。
An AND circuit 20 as a driving circuit corresponding to each sub-word line SW in the array 12A.
And an AND circuit 22 as a drive circuit is provided corresponding to each sub-word line SW in the array 12B. One input terminal of each AND circuit 20 is connected to the main word line MW of the main word line group G1 corresponding to each sub word line SW, and the other input terminal is connected to the output line 17a of the sub word decoders 16A to 16H. I have. One input terminal of each AND circuit 22 is connected to the main word line MW of the main word line group G2 corresponding to each sub word line SW, and the other input terminal is connected to the output line 17b of the sub word decoders 16A to 16H. I have. Each A
When both the voltage level of the main word line MW and the voltage level of the output line 17a of each of the sub-word decoders 16A to 16H are at the H level, the ND circuit 20 outputs an H-level signal to drive the corresponding sub-word line SW. When both the voltage level of the main word line MW and the voltage level of the output line 17b of each of the sub-word decoders 16A to 16H are at the H level, each AND circuit 22 outputs an H-level signal to drive the corresponding sub-word line SW. .

【0019】センスアンプ18は駆動されたサブワード
線SWに接続された複数のメモリセルCからビット線B
Lを介して転送されたデータを増幅する。このように構
成されたDRAM10においては、アドレス信号が主ワ
ードデコーダ14の各デコード部14A,14Bによっ
て選択信号にデコードされ、各メインワード線群G1,
G2においてそれぞれ1つのメインワード線MWが選択
される。また、アドレス信号に基づいて各副ワードデコ
ーダ16A〜16Hの出力線17a,17bのいずれか
一方の出力線の電圧レベルのみがHレベルになる。従っ
て、各サブアレイ13A〜13HにおいていずれかのA
ND回路20,22の出力信号がHレベルになり、その
AND回路に対応するサブワード線SWが選択駆動され
る。その結果、選択されたサブワード線SWに接続され
たメモリセルCが活性化される。
The sense amplifier 18 receives a bit line B from a plurality of memory cells C connected to the driven sub-word line SW.
Amplify the data transferred via L. In the DRAM 10 configured as described above, the address signal is decoded into a selection signal by each of the decoding units 14A and 14B of the main word decoder 14, and each of the main word line groups G1 and G1,
In G2, one main word line MW is selected. Further, based on the address signal, only the voltage level of one of the output lines 17a and 17b of each of the sub-word decoders 16A to 16H becomes H level. Therefore, in each of the sub-arrays 13A to 13H,
The output signals of the ND circuits 20 and 22 become H level, and the sub word line SW corresponding to the AND circuit is selectively driven. As a result, the memory cell C connected to the selected sub-word line SW is activated.

【0020】データの読み出し時にはメモリセルCから
データが対応するビット線BLを介してセンスアンプ1
8に転送され、センスアンプ18にて増幅されたデータ
は図示しないコラムゲートを介して出力回路に転送さ
れ、出力回路から出力される。データの書き込み時には
ライトデータがビット線BLを介して対応するメモリセ
ルCに転送される。
At the time of reading data, the sense amplifier 1 is connected to the memory cell C via the corresponding bit line BL.
The data amplified by the sense amplifier 18 is transferred to an output circuit via a column gate (not shown) and output from the output circuit. At the time of data writing, write data is transferred to the corresponding memory cell C via the bit line BL.

【0021】メモリセルのアクセスを具体的に説明する
と、今、主ワードデコーダ14の各デコード部14A,
14Bによってアドレス信号が選択信号にデコードさ
れ、各メインワード線群G1,G2においてそれぞれ1
つのメインワード線MW、例えばメインワード線MW
i,MWjが選択される。
The access of the memory cell will be specifically described. Now, each of the decoding units 14A, 14A,
14B, the address signal is decoded into a selection signal, and each of the main word line groups G1 and G2 is
One main word line MW, for example, main word line MW
i and MWj are selected.

【0022】また、アドレス信号に基づいて各副ワード
デコーダ16A〜16Hの出力線17a,17bのいず
れか一方の出力線の電圧レベルのみがHレベルになる。
例えば副ワードデコーダ16Aでは出力線17aがHレ
ベル、副ワードデコーダ16Bでは出力線17bがHレ
ベル、副ワードデコーダ16Gでは出力線17bがHレ
ベル、副ワードデコーダ16Hでは出力線17aがHレ
ベルになる。
Further, based on the address signal, only one of the output lines 17a and 17b of each of the sub-word decoders 16A to 16H attains the H level.
For example, in the sub-word decoder 16A, the output line 17a is at H level, in the sub-word decoder 16B, the output line 17b is at H level, in the sub-word decoder 16G, the output line 17b is at H level, and in the sub-word decoder 16H, the output line 17a is at H level. .

【0023】従って、サブアレイ13Aではメインワー
ド線MWiに接続されたAND回路20の出力信号がH
レベルになり、そのAND回路20に対応するサブワー
ド線SWが駆動される。サブアレイ13Bではメインワ
ード線MWjに接続されたAND回路22の出力信号が
Hレベルになり、そのAND回路22に対応するサブワ
ード線SWが駆動される。サブアレイ13Gではメイン
ワード線MWjに接続されたAND回路22の出力信号
がHレベルになり、そのAND回路22に対応するサブ
ワード線SWが駆動される。サブアレイ13Hではメイ
ンワード線MWiに接続されたAND回路20の出力信
号がHレベルになり、そのAND回路20に対応するサ
ブワード線SWが駆動される。
Therefore, in the sub-array 13A, the output signal of the AND circuit 20 connected to the main word line MWi is H
Level, and the sub-word line SW corresponding to the AND circuit 20 is driven. In the sub-array 13B, the output signal of the AND circuit 22 connected to the main word line MWj becomes H level, and the sub-word line SW corresponding to the AND circuit 22 is driven. In the sub-array 13G, the output signal of the AND circuit 22 connected to the main word line MWj becomes H level, and the sub-word line SW corresponding to the AND circuit 22 is driven. In the sub-array 13H, the output signal of the AND circuit 20 connected to the main word line MWi becomes H level, and the sub-word line SW corresponding to the AND circuit 20 is driven.

【0024】その結果、選択されたサブワード線SWに
接続されたメモリセルCが活性化される。データの読み
出し時にはメモリセルCからデータがビット線BLを介
してセンスアンプ108に転送され、センスアンプ10
8にて増幅されたデータは図示しないコラムゲートを介
して出力回路に転送され、出力回路から出力される。デ
ータの書き込み時にはライトデータがビット線BLを介
してメモリセルCに転送される。
As a result, the memory cell C connected to the selected sub-word line SW is activated. When reading data, data is transferred from the memory cell C to the sense amplifier 108 via the bit line BL,
The data amplified at 8 is transferred to an output circuit via a column gate (not shown) and output from the output circuit. When writing data, write data is transferred to the memory cell C via the bit line BL.

【0025】このように、上記メモリセルアレイ10で
は、異なる複数のメインワード線MWに対応する複数の
サブワード線SWに接続された所望のメモリセルをアク
セスする際に、メモリセルアレイ10のアクセス回数が
1回となり、従来のDRAM100(図12参照)と比
較してアクセス回数が減少し、アクセスの高速化が可能
になる。また、DRAM10の消費電流の大部分はメモ
リセルCのアクセス時におけるビット線BLの充放電電
流であるが、このように所望のメモリセルをアクセスす
るためにメモリセルアレイ10へのアクセス回数が減少
するため、DRAM10の消費電流の増加が抑制され
る。
As described above, in the memory cell array 10, when accessing a desired memory cell connected to a plurality of sub-word lines SW corresponding to a plurality of different main word lines MW, the number of accesses to the memory cell array 10 is reduced by one. , The number of accesses is reduced as compared with the conventional DRAM 100 (see FIG. 12), and the access can be speeded up. Most of the current consumed by the DRAM 10 is the charge / discharge current of the bit line BL when accessing the memory cell C. In this way, the number of accesses to the memory cell array 10 decreases in order to access a desired memory cell. Therefore, an increase in current consumption of the DRAM 10 is suppressed.

【0026】次に、上記のように構成されたDRAM1
0を画像データの記録用に応用した例を図2〜図5に基
づいて説明する。画像処理では、表示器の全画面中の一
部分をブロックとして取り出す作業が行われる。図2は
ブロック26を示し、ブロック26は8つの画素列26
A〜26Hよりなり、各画素列26A〜26Hは8つの
画素よりなる。図3はブロック26をDRAM10に格
納する例を示す。なお、図3では、簡略化のため、DR
AM10における副ワードデコーダ16A〜16Hの出
力線、ビット線及びメモリセルを省略し、1本のメイン
ワード線MW及び同メインワード線MWに対応するサブ
ワード線SWのみを図示している。
Next, the DRAM 1 configured as described above
An example in which 0 is applied for recording image data will be described with reference to FIGS. In the image processing, an operation of extracting a part of the entire screen of the display as a block is performed. FIG. 2 shows a block 26, which comprises eight pixel columns 26.
A to 26H, and each pixel column 26A to 26H includes eight pixels. FIG. 3 shows an example in which the block 26 is stored in the DRAM 10. In FIG. 3, for simplicity, DR
The output lines, bit lines and memory cells of the sub-word decoders 16A to 16H in the AM 10 are omitted, and only one main word line MW and a sub-word line SW corresponding to the main word line MW are shown.

【0027】図3において、1つのメインワード線MW
に対応する複数のサブワード線SWに接続されたメモリ
セルに、ブロック26の各画素列26A〜26Hのデー
タを格納する。この例では最右端の画素列26Aのデー
タはサブアレイ13Aに、その左の画素列26Bのデー
タはサブアレイ13Bに、というように格納していき、
最左端の画素列26Hのデータはサブアレイ13Hに格
納する。なお、簡単のため、1画素のデータを8ビット
(256階調)の輝度信号とすると、1つのサブワード
線SWには64ビット(8ビット×8画素)のメモリセ
ルが接続され、1つのメインワード線MWには512ビ
ット(64ビット×8サブアレイ)のメモリセルがつな
がっていることとなる。
In FIG. 3, one main word line MW
The data of each of the pixel columns 26A to 26H of the block 26 is stored in the memory cells connected to the plurality of sub-word lines SW corresponding to. In this example, the data of the rightmost pixel column 26A is stored in the subarray 13A, the data of the left pixel column 26B is stored in the subarray 13B, and so on.
The data of the leftmost pixel column 26H is stored in the sub-array 13H. For the sake of simplicity, assuming that the data of one pixel is a luminance signal of 8 bits (256 gradations), a memory cell of 64 bits (8 bits × 8 pixels) is connected to one sub-word line SW and one main word The word line MW is connected to memory cells of 512 bits (64 bits × 8 subarrays).

【0028】図3に図示されたメインワード線MWにつ
ながるすべてのメモリセルにアクセスすると、図2のブ
ロック26のすべてのデータを読み書きすることができ
る。しかしながら、図4に示すように、互いに隣接した
複数のブロック26,27に跨るような8つの画素列の
データは1つのメインワード線MWにつながるメモリセ
ルだけでは読み書きすることはできない。
When all memory cells connected to the main word line MW shown in FIG. 3 are accessed, all data in the block 26 in FIG. 2 can be read and written. However, as shown in FIG. 4, data of eight pixel columns straddling a plurality of blocks 26 and 27 adjacent to each other cannot be read / written only by the memory cells connected to one main word line MW.

【0029】図4に示すように、互いに隣接したブロッ
ク26,27のデータをメモリセルアレイ12に格納す
る場合、ブロック26のデータはアレイ12Aに格納
し、ブロック27のデータはアレイ12Bに格納する。
As shown in FIG. 4, when data of adjacent blocks 26 and 27 are stored in the memory cell array 12, the data of the block 26 is stored in the array 12A and the data of the block 27 is stored in the array 12B.

【0030】ブロック26の各画素列26A〜26Hの
データは上記のようにアレイ12Aの各サブアレイ13
A〜13Hに格納する。アレイ12Bへのブロック27
のデータの格納は、最右端の画素列27Aのデータはサ
ブアレイ13Aに、その左の画素列27Bのデータはサ
ブアレイ13Bに、というように格納していき、最左端
の画素列27Hのデータはサブアレイ13Hに格納す
る。このように各ブロック26,27のデータをアレイ
12A,12Bに格納することにより、図4に斜線で示
されるブロック26,27に跨る8つの画素列のデータ
は図5に太線で示されるサブワード線SWに接続された
メモリセルに格納されることとなる。従って、主ワード
デコーダ14により各アレイ12A,12Bにおいてそ
れぞれ1つのメインワード線を選択し、副ワードデコー
ダ16A〜16Eによりアレイ12Aを選択するととも
に、副ワードデコーダ16F〜16Hによりアレイ12
Bを選択することにより、所望する8つの画素列のデー
タをメモリセルアレイ12への1回のアクセスで読み書
きすることができる。
The data of each pixel column 26A to 26H of the block 26 is stored in each of the sub-arrays 13 of the array 12A as described above.
A to 13H. Block 27 to array 12B
Is stored in the subarray 13A, the data in the leftmost pixel column 27B is stored in the subarray 13B, and so on, and the data in the leftmost pixel column 27H is stored in the subarray 13B. 13H. By storing the data of the blocks 26 and 27 in the arrays 12A and 12B in this manner, the data of the eight pixel columns straddling the blocks 26 and 27 indicated by oblique lines in FIG. The data is stored in the memory cell connected to the SW. Therefore, one main word line is selected in each of the arrays 12A and 12B by the main word decoder 14, the array 12A is selected by the sub word decoders 16A to 16E, and the array 12 is selected by the sub word decoders 16F to 16H.
By selecting B, data of desired eight pixel columns can be read and written by one access to the memory cell array 12.

【0031】このように構成されたDRAM10によれ
ば、以下の効果がある。・ 複数のメインワード線群G
1,G2においてそれぞれ1つのメインワード線MWを
選択し、各サブアレイ13A〜13Hにおいていずれか
1つのメインワード線群G1,G2に対応するサブワー
ド線SWを選択するようにした。そのため、異なる複数
のメインワード線MWに対応するサブワード線SWに接
続された所望のメモリセルをアクセスする際に、メモリ
セルのアクセスの自由度が向上しメモリセルアレイ12
のアクセス回数を減少させることができ、アクセスの高
速化を図ることができる。
According to the DRAM 10 configured as described above, the following effects can be obtained. A plurality of main word line groups G
1 and G2, one main word line MW is selected, and in each of the sub-arrays 13A to 13H, a sub-word line SW corresponding to any one of the main word line groups G1 and G2 is selected. Therefore, when accessing a desired memory cell connected to the sub-word line SW corresponding to a plurality of different main word lines MW, the degree of freedom of memory cell access is improved, and the memory cell array 12
Can be reduced, and the access speed can be increased.

【0032】・ また、DRAM10の消費電流の大部
分はメモリセルCのアクセス時におけるビット線BLの
充放電電流であるが、このように所望のメモリセルをア
クセスするためにメモリセルアレイ10へのアクセス回
数を減少させることができるため、DRAM10の消費
電流の増加を抑制することができる。
Most of the current consumption of the DRAM 10 is the charge / discharge current of the bit line BL when accessing the memory cell C. In order to access a desired memory cell as described above, the access to the memory cell array 10 is performed. Since the number of times can be reduced, an increase in current consumption of the DRAM 10 can be suppressed.

【0033】[第2実施形態]次に、本発明をDRAM
に具体化した第2実施形態を図6〜図8に従って説明す
る。なお、重複説明を避けるため、図1において説明し
たものと同じ要素については、同じ参照番号が付されて
いる。図6では、簡略化のため、DRAM30における
ビット線及びメモリセルを省略し、メインワード線及び
サブワード線のみを図示している。
[Second Embodiment] Next, the present invention is applied to a DRAM.
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In order to avoid redundant description, the same elements as those described in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 6, for simplification, the bit lines and the memory cells in the DRAM 30 are omitted, and only the main word lines and the sub word lines are shown.

【0034】図6は本実施形態の半導体記憶装置として
のDRAM30を示す。このDRAM30は、メモリセ
ルアレイ32と、主ワードデコーダ34と、複数(本実
施形態では8個)の副ワードデコーダ36A〜36H
と、メモリセルアレイ32から読み出されたデータを増
幅するセンスアンプ18とを備えている。
FIG. 6 shows a DRAM 30 as a semiconductor memory device of the present embodiment. The DRAM 30 includes a memory cell array 32, a main word decoder 34, and a plurality (eight in the present embodiment) of sub word decoders 36A to 36H.
And a sense amplifier 18 for amplifying data read from the memory cell array 32.

【0035】メモリセルアレイ32は、行(縦)方向に
延びる複数のメインワード線MW0,MW1,MW2,
・・・と、メインワード線に沿って配設された複数のサ
ブワード線SWと、列(横)方向に延びる複数のビット
線とを備えている。なお、メインワード線に沿って配設
される複数のサブワード線SWk(k=0,1,2,・
・・)を1群とし、各メインワード線MW0,MW1,
MW2,・・・に対応して複数(本実施形態では3つ)
のサブワード線群が設けられている。すなわち、メイン
ワード線MW1に対してはサブワード線群SW1,SW
2,SW3の3つのサブワード線群が設けられている。
メインワード線MW2に対してはメインワード線MW1
に対するサブワード線群SW1,SW2,SW3の配置
関係と同様にしてサブワード線群SW3,SW4と別の
1つのサブワード線群(図示略)が設けられている。な
お、メインワード線MW0に対しては同メインワード線
MW0の左隣には隣接するメインワード線が存在しない
ため、サブワード線群SW0,SW1の2つのサブワー
ド線群が設けられている。なお、各メインワード線MW
0,MW1,MW2,・・・に対応して配設された3つ
のサブワード線群のうちの両端のサブワード線群は互い
に隣接するメインワード線に関して兼用されている。す
なわち、サブワード線群SW1はメインワード線MW
0,MW1に関して兼用され、サブワード線群SW3は
メインワード線MW1,MW2に関して兼用されてい
る。
The memory cell array 32 includes a plurality of main word lines MW0, MW1, MW2,
.., A plurality of sub-word lines SW arranged along the main word line, and a plurality of bit lines extending in the column (lateral) direction. Note that a plurality of sub-word lines SWk (k = 0, 1, 2,...) Arranged along the main word line
..) as a group, and each main word line MW0, MW1,
Multiple (corresponding to MW2,..., Three in this embodiment)
Of sub word lines are provided. That is, for the main word line MW1, the sub word line groups SW1, SW
2 and 3 are provided.
For main word line MW2, main word line MW1
, And another sub-word line group (not shown) is provided in the same manner as the sub-word line groups SW1, SW2, SW3. Since there is no main word line adjacent to the main word line MW0 to the left of the main word line MW0, two sub word line groups of sub word line groups SW0 and SW1 are provided. Note that each main word line MW
Of the three sub-word line groups arranged corresponding to 0, MW1, MW2,..., The sub-word line groups at both ends are also used for main word lines adjacent to each other. That is, the sub word line group SW1 is connected to the main word line MW
0 and MW1, and the sub word line group SW3 is also used for the main word lines MW1 and MW2.

【0036】各サブワード線SW及び図示しない各ビッ
ト線間にそれぞれメモリセルが接続されている。メモリ
セルアレイ32は、列方向における複数のサブワード線
SWを含んでメインワード線に垂直に複数(例えば8
つ)のサブアレイ33A〜33Hに分割されている。
A memory cell is connected between each sub-word line SW and each bit line (not shown). The memory cell array 32 includes a plurality of sub-word lines SW in the column direction and a plurality (for example, 8
) Sub-arrays 33A to 33H.

【0037】主ワードデコーダ34は複数のメインワー
ド線MW0,MW1,MW2等が接続されている。主ワ
ードデコーダ34は、メモリセルアレイ32へのアクセ
ス時においてアドレス信号を選択信号にデコードし、い
ずれか1本のメインワード線を選択しその電圧レベルを
Hにするようになっている。
The main word decoder 34 is connected to a plurality of main word lines MW0, MW1, MW2 and the like. The main word decoder 34 decodes an address signal into a selection signal when accessing the memory cell array 32, selects any one main word line, and sets its voltage level to H.

【0038】各副ワードデコーダ36A〜36Hは各サ
ブアレイ33A〜33Hに対応して設けられている。各
副ワードデコーダ36A〜36Hはメモリセルアレイ3
2のアクセス時においてアドレス信号を選択信号にデコ
ードし、列方向に延びる4つの出力線37a,37b,
37c,37dのいずれか1つの電圧レベルをHにする
ようになっている。
Each of the sub-word decoders 36A to 36H is provided corresponding to each of the sub-arrays 33A to 33H. Each of the sub-word decoders 36A to 36H is a memory cell array 3
2, the address signal is decoded into a selection signal at the time of access, and four output lines 37a, 37b,
One of the voltage levels 37c and 37d is set to H level.

【0039】また、各メインワード線MW0,MW1等
の右側に隣接するサブワード線群に対応して駆動回路と
しての論理回路40が設けられ、各メインワード線MW
1,MW2,・・・の左側に隣接するサブワード線群に
対応して駆動回路としての論理回路50が設けられてい
る。
A logic circuit 40 as a drive circuit is provided corresponding to a sub word line group adjacent to the right side of each main word line MW0, MW1, etc., and each main word line MW
, MW2,..., A logic circuit 50 as a drive circuit is provided corresponding to the sub-word line group adjacent to the left side.

【0040】各論理回路40はOR回路42とAND回
路44とからなる。OR回路42の2つの入力端子は前
記各副ワードデコーダの出力線37b,37dに接続さ
れている。OR回路42は出力線37b,37dの少な
くとも一方の電圧レベルがHのとき、Hレベルの信号を
出力する。AND回路44の一方の入力端子は各サブワ
ード線に対応するメインワード線に接続され、他方の入
力端子はOR回路42の出力端子に接続されている。従
って、AND回路44はメインワード線の電圧レベル及
びOR回路42の出力信号の電圧レベルがともにHレベ
ルのとき、Hレベルの信号を出力して対応するサブワー
ド線SWを駆動する。
Each logic circuit 40 includes an OR circuit 42 and an AND circuit 44. Two input terminals of the OR circuit 42 are connected to output lines 37b and 37d of each of the sub-word decoders. The OR circuit 42 outputs an H level signal when at least one of the output lines 37b and 37d has a voltage level of H. One input terminal of the AND circuit 44 is connected to a main word line corresponding to each sub word line, and the other input terminal is connected to an output terminal of the OR circuit 42. Therefore, when both the voltage level of the main word line and the voltage level of the output signal of the OR circuit 42 are at the H level, the AND circuit 44 outputs a signal at the H level to drive the corresponding sub-word line SW.

【0041】各論理回路50は2つのAND回路52,
54とOR回路56とからなる。AND回路52の一方
の入力端子は各サブワード線に対応する一方のメインワ
ード線に接続され、他方の入力端子は前記各副ワードデ
コーダの出力線37cに接続されている。AND回路5
2はメインワード線の電圧レベル及び出力線37cの電
圧レベルがともにHレベルのとき、Hレベルの信号を出
力する。AND回路54の一方の入力端子は各サブワー
ド線に対応する他方のメインワード線に接続され、他方
の入力端子は前記各副ワードデコーダの出力線37aに
接続されている。AND回路54はメインワード線の電
圧レベル及び出力線37aの電圧レベルがともにHレベ
ルのとき、Hレベルの信号を出力する。OR回路56の
2つの入力端子は両AND回路52,54の出力端子に
接続されている。従って、OR回路56はAND回路5
2,54の少なくとも一方の出力信号の電圧レベルがH
のとき、Hレベルの信号を出力して対応するサブワード
線SWを駆動する。
Each logic circuit 50 has two AND circuits 52,
54 and an OR circuit 56. One input terminal of the AND circuit 52 is connected to one main word line corresponding to each sub word line, and the other input terminal is connected to the output line 37c of each sub word decoder. AND circuit 5
2 outputs an H level signal when both the voltage level of the main word line and the voltage level of the output line 37c are H level. One input terminal of the AND circuit 54 is connected to the other main word line corresponding to each sub-word line, and the other input terminal is connected to the output line 37a of each sub-word decoder. AND circuit 54 outputs an H level signal when both the voltage level of the main word line and the voltage level of output line 37a are at the H level. Two input terminals of the OR circuit 56 are connected to output terminals of both AND circuits 52 and 54. Therefore, the OR circuit 56 is connected to the AND circuit 5
2, 54 of at least one output signal is at H level.
At this time, an H level signal is output to drive the corresponding sub word line SW.

【0042】このように構成されたDRAM30におい
ては、アドレス信号が主ワードデコーダ34によって選
択信号にデコードされ、1つのメインワード線が選択さ
れる。また、アドレス信号に基づいて各副ワードデコー
ダ36A〜36Hの出力線37a〜37dのいずれか1
つの出力線の電圧レベルのみがHレベルになる。従っ
て、各サブアレイ33A〜33Hにおいていずれかの論
理回路40,50の出力信号がHレベルになり、その論
理回路に対応するサブワード線SWが選択駆動される。
その結果、選択されたサブワード線SWに接続されたメ
モリセルが活性化される。
In the DRAM 30 configured as described above, the address signal is decoded into a selection signal by the main word decoder 34, and one main word line is selected. Further, any one of the output lines 37a to 37d of each of the sub-word decoders 36A to 36H is determined based on the address signal.
Only the voltage levels of the two output lines become H level. Therefore, in each of the sub-arrays 33A to 33H, the output signal of one of the logic circuits 40 and 50 becomes H level, and the sub-word line SW corresponding to the logic circuit is selectively driven.
As a result, the memory cells connected to the selected sub-word line SW are activated.

【0043】次に、メモリセルアレイ32のアクセスを
具体的に説明する。今、主ワードデコーダ34によって
アドレス信号が選択信号にデコードされ、1つのメイン
ワード線MW、例えばメインワード線MW1が選択され
る。また、アドレス信号に基づいて各副ワードデコーダ
36A〜36Hの出力線37a〜37dのいずれか1つ
の出力線の電圧レベルのみがHレベルになる。例えば副
ワードデコーダ36Aでは出力線37aがHレベル、副
ワードデコーダ36Bでは出力線37aがHレベル、副
ワードデコーダ36Gでは出力線37bがHレベル、副
ワードデコーダ36Hでは出力線37bがHレベルにな
る。
Next, the access of the memory cell array 32 will be specifically described. Now, the address signal is decoded into a selection signal by the main word decoder 34, and one main word line MW, for example, the main word line MW1 is selected. Further, based on the address signal, only the voltage level of any one of the output lines 37a to 37d of each of the sub-word decoders 36A to 36H becomes H level. For example, in the sub-word decoder 36A, the output line 37a is at H level, in the sub-word decoder 36B, the output line 37a is at H level, in the sub-word decoder 36G, the output line 37b is at H level, and in the sub-word decoder 36H, the output line 37b is at H level. .

【0044】従って、サブアレイ33A,33Bではメ
インワード線MW1に接続された論理回路50の出力信
号がHレベルになり、その論理回路50に対応するサブ
ワード線SW1が駆動される。サブアレイ33G,33
Hではメインワード線MW1に接続された論理回路40
の出力信号がHレベルになり、その論理回路40に対応
するサブワード線SW2が駆動される。
Therefore, in the sub-arrays 33A and 33B, the output signal of the logic circuit 50 connected to the main word line MW1 becomes H level, and the sub-word line SW1 corresponding to the logic circuit 50 is driven. Subarray 33G, 33
In H, the logic circuit 40 connected to the main word line MW1
Becomes an H level, and the sub-word line SW2 corresponding to the logic circuit 40 is driven.

【0045】その結果、選択されたサブワード線SWに
接続されたメモリセルCが活性化される。データの読み
出し時にはメモリセルCからデータがビット線BLを介
してセンスアンプ108に転送され、センスアンプ10
8にて増幅されたデータは図示しないコラムゲートを介
して出力回路に転送され、出力回路から出力される。デ
ータの書き込み時にはライトデータがビット線BLを介
してメモリセルCに転送される。
As a result, the memory cell C connected to the selected sub-word line SW is activated. When reading data, data is transferred from the memory cell C to the sense amplifier 108 via the bit line BL,
The data amplified at 8 is transferred to an output circuit via a column gate (not shown) and output from the output circuit. When writing data, write data is transferred to the memory cell C via the bit line BL.

【0046】また、メモリセルアレイ32へのアクセス
時において、主ワードデコーダ34によってアドレス信
号が選択信号にデコードされ、1つのメインワード線M
W、例えばメインワード線MW1が選択される。このと
き、例えば副ワードデコーダ36Aでは出力線37dが
Hレベル、副ワードデコーダ36Bでは出力線37dが
Hレベル、副ワードデコーダ36Gでは出力線37cが
Hレベル、副ワードデコーダ36Hでは出力線37cが
Hレベルになるものとする。
When accessing memory cell array 32, the address signal is decoded by main word decoder 34 into a selection signal, and one main word line M
W, for example, the main word line MW1 is selected. At this time, for example, the output line 37d of the sub-word decoder 36A is at the H level, the output line 37d of the sub-word decoder 36B is at the H level, the output line 37c of the sub-word decoder 36G is at the H level, and the output line 37c of the sub-word decoder 36H is at the H level. Level.

【0047】すると、サブアレイ33A,33Bではメ
インワード線MW1に接続された論理回路40の出力信
号がHレベルになり、その論理回路40に対応するサブ
ワード線SW2が駆動される。サブアレイ33G,33
Hではメインワード線MW1に接続された論理回路50
の出力信号がHレベルになり、その論理回路50に対応
するサブワード線SW3が駆動される。
Then, in the sub-arrays 33A and 33B, the output signal of the logic circuit 40 connected to the main word line MW1 becomes H level, and the sub-word line SW2 corresponding to the logic circuit 40 is driven. Subarray 33G, 33
In H, the logic circuit 50 connected to the main word line MW1
Becomes an H level, and the sub-word line SW3 corresponding to the logic circuit 50 is driven.

【0048】このように、上記メモリセルアレイ30で
は、各メインワード線MW0,MW1等に対応して配設
された異なる複数のサブワード線群SW0,SW1等に
接続された所望のメモリセルをアクセスする際に、メモ
リセルのアクセスの自由度が向上しメモリセルアレイ3
0のアクセス回数が1回となり、従来のDRAM100
(図12参照)と比較してアクセス回数が減少し、アク
セスの高速化が可能になる。また、DRAM30の消費
電流の大部分はメモリセルのアクセス時におけるビット
線の充放電電流であるが、このように所望のメモリセル
をアクセスするためにメモリセルアレイ30へのアクセ
ス回数が減少するため、DRAM30の消費電流の増加
を抑制することができる。
As described above, in the memory cell array 30, desired memory cells connected to a plurality of different sub-word line groups SW0, SW1, etc. arranged corresponding to the respective main word lines MW0, MW1, etc., are accessed. In this case, the degree of freedom of memory cell access is improved and the memory cell array 3
0 is one, and the conventional DRAM 100
The number of accesses is reduced as compared with (see FIG. 12), and the access can be speeded up. Most of the current consumption of the DRAM 30 is the charge / discharge current of the bit line at the time of accessing the memory cell. However, since the number of accesses to the memory cell array 30 for accessing a desired memory cell is reduced, An increase in current consumption of the DRAM 30 can be suppressed.

【0049】また、メモリセルアレイ32のアクセス時
において1つのメインワード線MW、例えばメインワー
ド線MW1が選択された場合において、副ワードデコー
ダ36A〜36Hのデコード結果に基づいて、各サブア
レイ33A〜33Hにおいてメインワード線MW1に対
応するサブワード線SW1〜SW3の任意のサブワード
線を選択することができる。従って、上記のように構成
されたDRAM30は画像データの記録用に応用する
と、好適に画像処理を行うことができる。
When one main word line MW, for example, main word line MW1 is selected at the time of accessing memory cell array 32, each of sub arrays 33A to 33H is controlled based on the decoding result of sub word decoders 36A to 36H. Any sub word line of sub word lines SW1 to SW3 corresponding to main word line MW1 can be selected. Therefore, when the DRAM 30 configured as described above is applied to recording of image data, image processing can be suitably performed.

【0050】図8に示すように、互いに横方向に隣接し
たブロック60,61,62,63のデータをメモリセ
ルアレイ32に格納する。なお、ブロック60,61,
62,63は前記ブロック26と同様に8画素よりなる
画素列を8画素列まとめたものとする。この場合、例え
ばブロック60のデータをサブワード線群SW1に接続
されたメモリセルに格納し、ブロック61のデータをサ
ブワード線群SW2に接続されたメモリセルに格納し、
ブロック62のデータをサブワード線群SW3に接続さ
れたメモリセルに格納し、さらにブロック63のデータ
をサブワード線群SW4に接続されたメモリセルに格納
する。
As shown in FIG. 8, data of blocks 60, 61, 62 and 63 adjacent to each other in the horizontal direction are stored in the memory cell array 32. Blocks 60, 61,
Reference numerals 62 and 63 denote a group of eight pixels arranged in a row of eight pixels, similarly to the block 26. In this case, for example, the data of the block 60 is stored in the memory cell connected to the sub-word line group SW1, the data of the block 61 is stored in the memory cell connected to the sub-word line group SW2,
The data of the block 62 is stored in a memory cell connected to the sub-word line group SW3, and the data of the block 63 is stored in a memory cell connected to the sub-word line group SW4.

【0051】このように各ブロック60〜63のデータ
を各サブワード線群SW1〜SW3に格納することによ
り、図8に斜線で示されるようにブロック60,61に
跨る8つの画素列からなるブロック65のデータや、ブ
ロック61,62に跨るブロック66のデータを、メモ
リセルアレイ32への1回のアクセスで所望するメモリ
セルに対して読み書きすることができる。
By storing the data of each of the blocks 60 to 63 in each of the sub-word line groups SW1 to SW3, a block 65 composed of eight pixel columns extending over the blocks 60 and 61 as shown by oblique lines in FIG. And the data of the block 66 extending over the blocks 61 and 62 can be read / written from / to the desired memory cell by one access to the memory cell array 32.

【0052】また、本実施形態のDRAM30では、1
つのメインワード線に対して複数群のサブワード線群を
配設したので、メモリセルアレイにおけるサブワード線
の数を所定値にするとメインワード線の数を減らすこと
ができ、配線率を向上することができるとともに、配線
設計の短縮化を図ることができる。
In the DRAM 30 of the present embodiment, 1
Since a plurality of sub word line groups are provided for one main word line, the number of main word lines can be reduced and the wiring ratio can be improved by setting the number of sub word lines in the memory cell array to a predetermined value. At the same time, wiring design can be shortened.

【0053】[第3実施形態]次に、本発明の第3実施
形態を図9に従って説明する。なお、重複説明を避ける
ため、図7において説明したものと同じ要素について
は、同じ参照番号が付されている。また、前述した第2
実施形態との相違点を中心に説明する。
[Third Embodiment] Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Note that the same elements as those described in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals to avoid redundant description. In addition, the second
The description will focus on the differences from the embodiment.

【0054】本実施形態は、第2実施形態のDRAM3
0における論理回路40,50と同様の機能を有する駆
動回路を、トランジスタで実現したものである。駆動回
路としてのゲート回路70は前記論理回路40に相当
し、駆動回路としてのゲート回路72は前記論理回路5
0に相当する。
This embodiment is different from the DRAM 3 of the second embodiment.
A drive circuit having the same function as the logic circuits 40 and 50 at 0 is realized by a transistor. The gate circuit 70 as a drive circuit corresponds to the logic circuit 40, and the gate circuit 72 as a drive circuit is the logic circuit 5
It corresponds to 0.

【0055】まず、サブワード線SW1を選択するため
には、各副ワードデコーダの出力線37aの電圧レベル
をHにするとともに、メインワード線MW1の電圧レベ
ルをHに立上げる。
First, in order to select the sub-word line SW1, the voltage level of the output line 37a of each sub-word decoder is set to H, and the voltage level of the main word line MW1 is raised to H.

【0056】出力線37aを立上げると、16個のトラ
ンジスタのうち、トランジスタ77,81,85,89
のゲートが“H”になり、これらのトランジスタのう
ち、メインワード線MW1とつながっているトランジス
タ81のみがメインワード線MW1の“H”情報を左か
ら2本目のサブワード線SW1に伝える。トランジスタ
77,85はグランド線(ゼロ・ボルト)に、トランジ
スタ89は立上がっていないメインワード線MW2(M
W1以外の主ワード線はすべて立上がっていない)につ
ながっているので、残り3本のサブワード線SW0,S
W2,SW3はゼロ・ボルトに固定される。
When the output line 37a rises, the transistors 77, 81, 85, 89 out of the 16 transistors
Becomes "H", and only the transistor 81 connected to the main word line MW1 transmits "H" information of the main word line MW1 to the second sub word line SW1 from the left. The transistors 77 and 85 are connected to the ground line (zero volt), and the transistor 89 is connected to the inactive main word line MW2 (M
(All the main word lines other than W1 are not raised), so that the remaining three sub word lines SW0, S
W2 and SW3 are fixed at zero volts.

【0057】次に、サブワード線SW2を選択するため
には、副ワードデコーダの出力線37bの電圧レベルを
Hにするとともに、メインワード線MW1の電圧レベル
をHに立上げる。
Next, in order to select the sub-word line SW2, the voltage level of the output line 37b of the sub-word decoder is set to H, and the voltage level of the main word line MW1 is raised to H.

【0058】出力線37bを立上げると、16個のトラ
ンジスタのうち、トランジスタ75,79,83,87
のゲートが“H”になり、これらのトランジスタのう
ち、メインワード線MW1とつながっているトランジス
タ83のみがメインワード線MW1の“H”情報をサブ
ワード線SW2に伝える。トランジスタ79,87はグ
ランド線に、トランジスタ75は立上がっていないメイ
ンワード線MW0につながっているので、残り3本のサ
ブワード線SW0,SW1,SW3はゼロ・ボルトに固
定される。
When the output line 37b rises, the transistors 75, 79, 83, 87 out of the 16 transistors
Of the main word line MW1, and only the transistor 83 connected to the main word line MW1 transmits the "H" information of the main word line MW1 to the sub word line SW2. Since the transistors 79 and 87 are connected to the ground line and the transistor 75 is connected to the non-rising main word line MW0, the remaining three sub-word lines SW0, SW1 and SW3 are fixed to zero volts.

【0059】次に、サブワード線SW2を選択するため
には、副ワードデコーダの出力線37dの電圧レベルを
Hにするとともに、メインワード線MW1の電圧レベル
をHに立上げる。
Next, in order to select the sub-word line SW2, the voltage level of the output line 37d of the sub-word decoder is set to H and the voltage level of the main word line MW1 is raised to H.

【0060】出力線37dを立上げると、16個のトラ
ンジスタのうち、トランジスタ74,78,82,86
のゲートが“H”になり、これらのトランジスタのう
ち、メインワード線MW1とつながっているトランジス
タ82のみがメインワード線MW1の“H”情報をサブ
ワード線SW2に伝える。トランジスタ78,86はグ
ランド線に、トランジスタ74は立上がっていないメイ
ンワード線MW0につながっているので、残り3本のサ
ブワード線SW0,SW1,SW3はゼロ・ボルトに固
定される。
When the output line 37d rises, the transistors 74, 78, 82, 86 out of the 16 transistors
Of the main word line MW1, and only the transistor 82 connected to the main word line MW1 transmits the "H" information of the main word line MW1 to the sub word line SW2. Since the transistors 78 and 86 are connected to the ground line and the transistor 74 is connected to the inactive main word line MW0, the remaining three sub-word lines SW0, SW1 and SW3 are fixed to zero volt.

【0061】次に、サブワード線SW3を選択するため
には、副ワードデコーダの出力線37cの電圧レベルを
Hにするとともに、メインワード線MW1の電圧レベル
をHに立上げる。
Next, in order to select the sub-word line SW3, the voltage level of the output line 37c of the sub-word decoder is set to H, and the voltage level of the main word line MW1 is raised to H.

【0062】出力線37cを立上げると、16個のトラ
ンジスタのうち、トランジスタ76,80,84,88
のゲートが“H”になり、これらのトランジスタのう
ち、メインワード線MW1とつながっているトランジス
タ88のみがメインワード線MW1の“H”情報をサブ
ワード線SW3に伝える。トランジスタ76,84はグ
ランド線に、トランジスタ80は立上がっていないメイ
ンワード線MW0につながっているので、残り3本のサ
ブワード線SW0,SW1,SW2はゼロ・ボルトに固
定される。
When the output line 37c rises, the transistors 76, 80, 84, 88 out of the 16 transistors
Of the main word line MW1, and only the transistor 88 connected to the main word line MW1 transmits the "H" information of the main word line MW1 to the sub word line SW3. Since the transistors 76 and 84 are connected to the ground line and the transistor 80 is connected to the inactive main word line MW0, the remaining three sub-word lines SW0, SW1 and SW2 are fixed to zero volts.

【0063】本実施形態は上記のように構成されている
ので、第2実施形態と同様の作用及び効果に加えて、サ
ブワード線SW0,SW1,SW2等を選択して駆動す
るゲート回路70,72をトランジスタにより構成した
ので、回路占有面積を縮小することができ、よってDR
AMの小型化及び高集積過化を図ることができる。
Since the present embodiment is configured as described above, the gate circuits 70 and 72 for selecting and driving the sub-word lines SW0, SW1, SW2, etc., in addition to the functions and effects similar to those of the second embodiment. Is composed of transistors, the area occupied by the circuit can be reduced.
It is possible to reduce the size and integration of the AM.

【0064】なお、実施の形態は上記に限定されるもの
ではなく、次のように変更してもよい。 ・ 画像処理を行う場合、所望する画素のブロックのデ
ータが左右(横)方向に隣接するブロックに跨る場合の
みでなく、上下(縦)方向に隣接するブロックに跨る場
合があるが、この場合にも第1〜第3実施形態に示した
ように、ブロックのデータを格納するようにしてもよ
い。この場合にはメモリセルアレイを2回アクセスする
必要が生じるが、従来のDRAM100においてはメモ
リセルアレイを4回アクセスすることと比較すると、メ
モリセルアレイへのアクセス回数は半分になり、アクセ
スを高速化することができるとともに、DRAMの消費
電流の増加を抑制することができる。
The embodiment is not limited to the above, but may be modified as follows. When performing image processing, data of a block of a desired pixel may not only extend over blocks adjacent in the horizontal direction (horizontal direction), but may also extend over blocks adjacent in the vertical direction (vertical direction). Also, as shown in the first to third embodiments, block data may be stored. In this case, it is necessary to access the memory cell array twice. However, compared to accessing the memory cell array four times in the conventional DRAM 100, the number of accesses to the memory cell array is reduced by half, and the access is speeded up. And an increase in current consumption of the DRAM can be suppressed.

【0065】・ 図10に示すように、画像処理を行う
場合、所望するブロック90のデータが左右(横)方向
に隣接するブロックB1,B2及び上下に隣接するブロ
ックB3,B4に跨る場合がある。このようなブロック
90のデータを記憶するためのDRAM91として、図
11に示すように、メモリセルアレイ92を行方向にお
いてブロックB1,B2,B3,B4のデータを格納す
るための4つのアレイ92A〜92Dに分割する。そし
て、図10に示すブロックB1のデータをアレイ92A
に格納し、ブロックB2のデータをアレイ92Bに格納
し、ブロックB3のデータをアレイ92Cに格納し、ブ
ロックB4のデータをアレイ92Dに格納するようにす
る。また、主ワードデコーダ93はアレイ92A〜92
Dに対応する4つのデコード部により構成し、メモリセ
ルアレイ92へのアクセス時においてアドレス信号を選
択信号にデコードし、各アレイ92A〜92Dにおける
いずれか1本のメインワード線を選択するようになって
いる。このようにすれば、任意のブロック90のデータ
をメモリセルアレイ92への1回のアクセスで読み書き
することができる。
As shown in FIG. 10, when performing image processing, data of a desired block 90 may straddle blocks B1 and B2 adjacent in the left-right (horizontal) direction and blocks B3 and B4 adjacent vertically. . As shown in FIG. 11, as a DRAM 91 for storing data of such a block 90, a memory cell array 92 includes four arrays 92A to 92D for storing data of blocks B1, B2, B3, and B4 in a row direction. Divided into Then, the data of the block B1 shown in FIG.
, The data of block B2 is stored in array 92B, the data of block B3 is stored in array 92C, and the data of block B4 is stored in array 92D. The main word decoder 93 includes arrays 92A to 92A.
D is configured by four decoding units corresponding to D, and when accessing the memory cell array 92, an address signal is decoded into a selection signal, and one of the main word lines in each of the arrays 92A to 92D is selected. I have. In this way, data in an arbitrary block 90 can be read and written by one access to the memory cell array 92.

【0066】・ 上記第1〜第3実施形態では、画素の
ブロックを縦方向に分割してその画素データをメモリセ
ルアレイに格納するようにしたが、画素のブロックを横
方向に分割してその画素データをメモリセルアレイに格
納するようにしてもよい。
In the first to third embodiments, the pixel block is divided in the vertical direction and the pixel data is stored in the memory cell array. However, the pixel block is divided in the horizontal direction and the pixel data is stored in the memory cell array. Data may be stored in a memory cell array.

【0067】・ 上記第1〜第3実施形態では、DRA
Mに具体化したが、SRAM、フラッシュメモリ、Fe
(強誘電体)RAM等の各種のメモリに具体化すること
ができる。
In the first to third embodiments, the DRA
M, SRAM, flash memory, Fe
(Ferroelectric) It can be embodied in various memories such as a RAM.

【0068】・ 上記第1実施形態において、第2実施
形態の構成を採用してもよい。すなわち、メモリセルア
レイの複数のメインワード線を複数のメインワード線群
に分割するとともに、メインワード線に沿って配設され
る複数のサブワード線を1群とし、各メインワード線に
対応して複数のサブワード線群を接続した構成のメモリ
セルアレイとしてもよい。
In the first embodiment, the configuration of the second embodiment may be adopted. That is, a plurality of main word lines of the memory cell array are divided into a plurality of main word line groups, and a plurality of sub word lines arranged along the main word lines are grouped into one group. May be configured as a memory cell array configured to connect the sub-word line groups.

【0069】次に、上記各実施形態から把握できる他の
技術的思想を、以下に記載する。 ・ 請求項2に記載の半導体記憶装置において、主ワー
ドデコーダは複数のメインワード線群に対応する複数の
デコーダ部からなる半導体記憶装置。
Next, other technical ideas that can be grasped from the above embodiments will be described below. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the main word decoder includes a plurality of decoder units corresponding to a plurality of main word line groups.

【0070】・ 請求項3に記載の半導体記憶装置にお
いて、前記各メインワード線に対応して配設された複数
のサブワード線群の一部のサブワード線群は互いに隣接
するメインワード線に対して兼用されている半導体記憶
装置。
The semiconductor memory device according to claim 3, wherein a part of the plurality of sub-word line groups provided corresponding to each of the main word lines is connected to a main word line adjacent to each other. A semiconductor memory device that is also used.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上詳述したように、請求項1〜3のい
ずれかに記載の発明によれば、メモリセルへのアクセス
の高速化を図ることができるとともに、消費電流の増加
を抑制することができる。
As described above in detail, according to any one of the first to third aspects of the present invention, it is possible to speed up access to a memory cell and suppress an increase in current consumption. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態の半導体記憶装置を示す概略構成
図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a semiconductor memory device according to a first embodiment.

【図2】画素ブロックを示す説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a pixel block.

【図3】半導体記憶装置への画素列データの記憶方式を
示す説明図。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a method of storing pixel column data in a semiconductor memory device.

【図4】隣接した一対の画素ブロックにおけるデータア
クセス方法を示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a data access method in a pair of adjacent pixel blocks.

【図5】図4に対応した画素列に対応するアクセス方法
を示す説明図。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an access method corresponding to a pixel column corresponding to FIG. 4;

【図6】第2実施形態の半導体記憶装置を示す概略構成
図。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram illustrating a semiconductor memory device according to a second embodiment.

【図7】同じく論理回路を示す回路図。FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a logic circuit.

【図8】同じく隣接した一対の画素ブロックにおけるデ
ータアクセス方法を示す説明図。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a data access method in a pair of adjacent pixel blocks.

【図9】第3実施形態の半導体記憶装置を示す概略図。FIG. 9 is a schematic view showing a semiconductor memory device according to a third embodiment.

【図10】互いに隣接した複数の画素ブロックを示す説
明図。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a plurality of pixel blocks adjacent to each other.

【図11】別の実施形態の半導体記憶装置を示す概略構
成図。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing a semiconductor memory device of another embodiment.

【図12】従来の半導体記憶装置を示す概略構成図。FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12,32,92…メモリセルアレイ、13A〜13
H,33A〜33H…サブアレイ、14,34,93…
主ワードデコーダ、16A〜16H,36A〜36H…
副ワードデコーダ、40,50…駆動回路としての論理
回路、70,72…駆動回路としてのゲート回路、BL
…ビット線、G1,G2…メインワード線群、MW,M
Wi,MWj…メインワード線、SW…サブワード線。
12, 32, 92 ... memory cell array, 13A to 13
H, 33A to 33H ... subarray, 14, 34, 93 ...
Main word decoder, 16A-16H, 36A-36H ...
Sub word decoders, 40, 50... Logic circuits as drive circuits, 70, 72... Gate circuits as drive circuits, BL
... bit lines, G1, G2 ... main word line groups, MW, M
Wi, MWj: Main word line, SW: Sub word line.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルアレイを複数のサブアレイに
分割するとともに、各サブアレイ毎に複数のサブワード
線を設け、複数のサブワード線を複数のメインワード線
に接続した半導体記憶装置において、 複数のメインワード線を選択するとともに、各サブアレ
イにおいて該選択されたメインワード線の1つに対応す
るサブワード線を選択するようにした半導体記憶装置。
In a semiconductor memory device in which a memory cell array is divided into a plurality of sub-arrays, a plurality of sub-word lines are provided for each sub-array, and the plurality of sub-word lines are connected to a plurality of main word lines, And a sub-word line corresponding to one of the selected main word lines in each sub-array.
【請求項2】 メモリセルアレイを複数のサブアレイに
分割するとともに、各サブアレイ毎に複数のサブワード
線を設け、複数のサブワード線を複数のメインワード線
に接続した半導体記憶装置において、 前記複数のメインワード線を複数のメインワード線群に
グループ化し、各メインワード線群におけるいずれか1
つのメインワード線を選択する主ワードデコーダと、 前記各サブアレイに対応して設けられ、前記各サブアレ
イにおいて前記複数のメインワード線群のいずれか1つ
の群に対応するサブワード線を選択する複数の副ワード
デコーダと、 前記各サブワード線に対応して設けられ、かつ前記主ワ
ードデコーダの選択結果と該サブワード線を含むサブア
レイに対応する副ワードデコーダの選択結果とに基づい
て対応するサブワード線を駆動する複数の駆動回路とを
備える半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device in which a memory cell array is divided into a plurality of sub-arrays, a plurality of sub-word lines are provided for each sub-array, and the plurality of sub-word lines are connected to a plurality of main word lines. Lines are grouped into a plurality of main word line groups, and any one of the main word line groups
A main word decoder for selecting one main word line; and a plurality of sub-words provided corresponding to each of the sub-arrays and selecting a sub-word line corresponding to any one of the plurality of main word line groups in each of the sub-arrays. A word decoder; and a corresponding sub-word line provided corresponding to each of the sub-word lines, based on a selection result of the main word decoder and a sub-word decoder corresponding to a sub-array including the sub-word line. A semiconductor memory device including a plurality of drive circuits.
【請求項3】 メモリセルアレイを複数のサブアレイに
分割するとともに、各サブアレイ毎に複数のサブワード
線を設け、複数のサブワード線を複数のメインワード線
に接続した半導体記憶装置において、 メインワード線に沿って配設される複数のサブワード線
を1群とし、各メインワード線に対応して複数のサブワ
ード線群が接続されており、 前記複数のメインワード線のいずれか1つを選択する主
ワードデコーダと、 前記各サブアレイに対応して設けられ、各サブアレイに
おいて前記各メインワード線に対応する複数のサブワー
ド線のいずれか1つのサブワード線を選択する複数の副
ワードデコーダと、 前記各サブワード線に対応して設けられ、かつ前記主ワ
ードデコーダの選択結果と該サブワード線を含むサブア
レイに対応する副ワードデコーダの選択結果とに基づい
て対応するサブワード線を駆動する複数の駆動回路とを
備える半導体記憶装置。
3. A semiconductor memory device in which a memory cell array is divided into a plurality of sub-arrays, a plurality of sub-word lines are provided for each sub-array, and the plurality of sub-word lines are connected to a plurality of main word lines. A plurality of sub-word lines arranged as one group, and a plurality of sub-word line groups are connected corresponding to the respective main word lines; and a main word decoder for selecting any one of the plurality of main word lines A plurality of sub-word decoders provided corresponding to each of the sub-arrays and selecting any one of the plurality of sub-word lines corresponding to each of the main word lines in each of the sub-arrays; And a sub-word corresponding to a sub-array including the selection result of the main word decoder and the sub-word line. The semiconductor memory device comprising a plurality of drive circuits for driving the sub-word line corresponding based on the selection result of Dodekoda.
JP26886699A 1999-09-22 1999-09-22 Semiconductor memory Pending JP2001093281A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003075280A1 (en) * 2002-03-06 2003-09-12 Ricoh Company, Ltd. Semiconductor storing device
US6990039B2 (en) 2002-03-06 2006-01-24 Ricoh Company, Ltd. Semiconductor storing device
CN100437822C (en) * 2002-03-06 2008-11-26 株式会社理光 Semiconductor storing device

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