JP2001083494A - Semitransmission reflection type liquid crystal device and electronic appliance using the same - Google Patents

Semitransmission reflection type liquid crystal device and electronic appliance using the same

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JP2001083494A
JP2001083494A JP26050699A JP26050699A JP2001083494A JP 2001083494 A JP2001083494 A JP 2001083494A JP 26050699 A JP26050699 A JP 26050699A JP 26050699 A JP26050699 A JP 26050699A JP 2001083494 A JP2001083494 A JP 2001083494A
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JP
Japan
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liquid crystal
insulating film
substrate
film
light
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Withdrawn
Application number
JP26050699A
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Japanese (ja)
Inventor
Akinori Masuzawa
明徳 増澤
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To display a bright and high-quality image for both of reflection-type display and transmission-type display in a semitransmission reflection type liquid crystal device without causing double reflection due to the parallax or blurred display. SOLUTION: The semitransmission reflection type liquid crystal device is equipped with a second insulation film 13, a semitransmission reflection electrode 11 having an opening, a first insulation film 12, and an alignment film 15 in this order formed on the liquid crystal layer 50 side of a first substrate 10. The film thickness and refractive index of each of the semitransmission reflection electrode, first insulation film and alignment film are determined to optimize the reflectance of the laminated body consisting of the semitransmission reflection electrode, first insulation film 12 and alignment film 15 in the reflection region. The film thickness and refractive index of the second insulation film 13 are determined to optimize the transmittance of the laminated body consisting of the second insulation film 13, first insulation film 12 and alignment film 15 in the transmission region.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、パッシブマトリク
ス駆動方式、アクティブマトリクス駆動方式、セグメン
ト駆動方式等の液晶装置及びこれを用いた電子機器の技
術分野に属し、特に基板の液晶に面する側に反射電極層
を設けた内面反射方式を採る、反射型表示と透過型表示
とを切り換えて表示可能な半透過反射型の液晶装置、更
にこのような液晶装置を用いた電子機器の技術分野に属
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of a liquid crystal device of a passive matrix drive system, an active matrix drive system, a segment drive system, and the like, and an electronic apparatus using the same. It belongs to the technical field of a transflective liquid crystal device adopting an internal reflection method provided with a reflective electrode layer and capable of switching between a reflective display and a transmissive display for display, and electronic equipment using such a liquid crystal device. .

【0002】[0002]

【背景技術】従来、バックライト等の光源を用いること
なく、外光を利用して表示を行う反射型液晶装置は、低
消費電力化、小型軽量化等の観点から有利であるが、外
光を利用して表示を視認可能にしており暗い場所では表
示を読みとることができないため、明るい場所で通常の
反射型液晶装置と同様に外光を利用すると共に暗い場所
で内部の光源により表示を視認可能にした形式の半透過
反射型の液晶装置が提案されている。これは、実開昭5
7−049271号公報に記載されているように、液晶
パネルの観察側と反対側の外面に偏光板、半透過反射
板、バックライトを順次配置した構成をしている。この
液晶装置では、周囲が明るい場合には外光を取り入れて
半透過反射板にて反射された光を利用して反射型表示を
行い、周囲が暗くなるとバックライトを点灯して半透過
反射板を透過させた光により表示を視認可能とした透過
型表示を行う。
2. Description of the Related Art Conventionally, a reflection type liquid crystal device which performs display by using external light without using a light source such as a backlight is advantageous from the viewpoint of low power consumption, small size and light weight. The display can be viewed using a light source, and the display cannot be read in a dark place. Therefore, in a bright place, the outside light is used in the same way as a normal reflective liquid crystal device, and the display is viewed in a dark place by the internal light source. A transflective liquid crystal device of a possible type has been proposed. This is Shokai 5
As described in JP-A-7-049271, a polarizing plate, a transflective plate, and a backlight are sequentially arranged on the outer surface of the liquid crystal panel opposite to the observation side. In this liquid crystal device, when the surroundings are bright, external light is taken in and reflective display is performed using light reflected by the semi-transmissive reflecting plate. When the surroundings are dark, the backlight is turned on and the semi-transmissive reflecting plate is turned on. A transmissive display in which the display can be visually recognized by the light transmitted through is provided.

【0003】別の半透過反射型の液晶装置としては、反
射型表示の明るさを向上させた特開平8−292413
号公報に記載されたものがある。この液晶装置は、液晶
パネルの観察側と反対側の外面に半透過反射板、偏光
板、バックライトを順次配置しているので、液晶セルと
半透過反射板の間に偏光板がないため、前述した実開昭
57−049271号公報に記載の液晶装置よりも明る
い反射型表示が得られる。
Another transflective liquid crystal device is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 8-292413 in which the brightness of a reflective display is improved.
Is described in Japanese Patent Application Publication No. In this liquid crystal device, the transflective plate, the polarizing plate, and the backlight are sequentially arranged on the outer surface of the liquid crystal panel opposite to the observation side, so that there is no polarizing plate between the liquid crystal cell and the transflective plate. A reflective display brighter than the liquid crystal device described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 57-049271 can be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平8−292413号公報等に記載された半透過反射
型の液晶装置では、液晶層と半透過反射板との間に透明
基板が介在するため、二重映りや表示のにじみなどが発
生してしまう。更にカラーフィルタを組み合わせると、
半透過反射板を液晶パネルの後方に配置しているため、
液晶層やカラーフィルタと半透過反射板との間に厚い透
明基板が介在するため、視差によって二重映りや表示の
にじみなどが発生し、十分な発色を得ることができない
という問題点がある。
However, in the transflective liquid crystal device described in JP-A-8-292413 or the like, a transparent substrate is interposed between the liquid crystal layer and the transflective plate. However, double reflection or blurring of display may occur. Further combining color filters,
Because the transflector is located behind the LCD panel,
Since a thick transparent substrate is interposed between the liquid crystal layer or the color filter and the semi-transmissive reflection plate, there is a problem that due to parallax, double reflection or blurring of display occurs, so that it is impossible to obtain a sufficient color.

【0005】これに対し特開平7−318929号公報
では、液晶セルの内面に半透過反射膜を兼ねる画素電極
を設けた半透過反射型の液晶装置が提案されており、金
属膜からなる半透過反射膜上に、ITO膜からなる透明
画素電極を絶縁膜を介して重ねた構成を開示している。
しかしながら、この液晶装置では、半透過反射膜を兼ね
る画素電極に対して或いは透明画素電極が重ねられる半
透過反射膜に対して、孔欠陥、凹入欠陥等の微細な欠陥
部や微細な開口部を多数設ける必要が有るため、装置構
成が複雑化すると共にその製造において特殊な工程が付
加的に必要となってしまう。そして、この液晶装置で
は、一方で基板上に形成された積層体の反射型表示にお
ける反射率を高めるように該積層体を構成する各膜の膜
厚や屈折率を設定することは可能であり、他方で、該積
層体の透過型表示における透過率を高めるように該積層
体を構成する各膜の膜厚や屈折率を設定することは可能
であるが、これらの反射率及び透過率の両者の最適化を
同時に行うことは一般にほぼ不可能である(即ち、両者
を同時に最適化するような各膜及各屈折率の条件は一般
に存在しない)。この結果、明るい反射型表示と明るい
透過型表示との両方を可能ならしめる半透過反射型の液
晶装置を実現することは困難であるという問題点があ
る。
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-318929 proposes a transflective liquid crystal device in which a pixel electrode serving as a transflective film is provided on the inner surface of a liquid crystal cell. A configuration is disclosed in which a transparent pixel electrode made of an ITO film is stacked on a reflective film via an insulating film.
However, in this liquid crystal device, a fine defect such as a hole defect or a dent defect or a fine opening is formed with respect to a pixel electrode also serving as a transflective film or a transflective film on which a transparent pixel electrode is superimposed. It is necessary to provide a large number of devices, which complicates the device configuration and additionally requires special steps in its manufacture. In this liquid crystal device, on the other hand, it is possible to set the film thickness and the refractive index of each film constituting the laminate so as to increase the reflectance in the reflective display of the laminate formed on the substrate. On the other hand, it is possible to set the film thickness and the refractive index of each film constituting the laminate so as to increase the transmittance in the transmission type display of the laminate. It is generally almost impossible to optimize both at the same time (that is, there is generally no condition for each film and each refractive index that optimizes both at the same time). As a result, there is a problem in that it is difficult to realize a transflective liquid crystal device that enables both bright reflective display and bright transmissive display.

【0006】加えて、本願出願人は、特願平10−23
656号や特願平10−160866号により夫々、新
規な半透過反射型の液晶装置を発明しているが、これら
の液晶装置の場合にも、やはり基板上に形成された積層
体の反射型表示時における反射率及び透過型表示におけ
る透過率の両者の最適化を同時に行うことは一般にほぼ
不可能であり、明るい反射型表示と明るい透過型表示と
の両方を可能ならしめる半透過反射型の液晶装置を実現
することは困難であるという同様の問題点がある。
[0006] In addition, the present applicant has filed Japanese Patent Application No.
No. 656 and Japanese Patent Application No. 10-160866 each invent a novel transflective liquid crystal device. In the case of these liquid crystal devices as well, a reflective type liquid crystal device formed on a substrate is also used. It is generally almost impossible to simultaneously optimize both the reflectance at the time of display and the transmittance at the time of transmissive display, and the transflective type that enables both bright reflective display and bright transmissive display. There is a similar problem that it is difficult to realize a liquid crystal device.

【0007】本発明は上述の問題点に鑑みなされたもの
であり、視差による二重映りや表示のにじみなどが発生
せず、しかも明るい反射型表示及び明るい透過型表示の
両者を可能ならしめる半透過反射型の液晶装置及びこれ
を用いた電子機器を提供することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and does not cause double reflection or display bleeding due to parallax, and furthermore, realizes both a bright reflective display and a bright transmissive display. It is an object to provide a transflective liquid crystal device and an electronic device using the same.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の半透過反射型の
液晶装置は上記課題を解決するために、透明の第1基板
と、該第1基板に対向配置された透明の第2基板と、前
記第1及び第2基板間に挟持された液晶と、前記第1基
板の前記液晶と反対側に設けられた光源と、前記第1基
板の前記第2基板に対向する側に配置された透明の第2
絶縁膜と、該第2絶縁膜上に配置されていると共に前記
光源からの光を透過する開口部が設けられている反射電
極層と、該反射電極層上に配置された透明の第1絶縁膜
と、該第1絶縁膜上に配置された配向膜とを備える。
In order to solve the above problems, a transflective liquid crystal device according to the present invention comprises a transparent first substrate and a transparent second substrate opposed to the first substrate. A liquid crystal sandwiched between the first and second substrates, a light source provided on the first substrate on a side opposite to the liquid crystal, and a liquid crystal arranged on a side of the first substrate facing the second substrate. Transparent second
An insulating film, a reflective electrode layer provided on the second insulating film and provided with an opening for transmitting light from the light source, and a transparent first insulating film provided on the reflective electrode layer. A film, and an alignment film disposed on the first insulating film.

【0009】本発明の半透過反射型の液晶装置によれ
ば、第1基板上には、第2絶縁膜、反射電極層、第1絶
縁膜及び配向膜からなる積層体が設けられている。ここ
で、反射電極層と配向膜とは、第1絶縁膜により相互に
絶縁されているため、反射電極層或いはその配線におけ
る漏電や対向電極との短絡などの欠陥が発生する可能性
は低減され、全体として装置信頼性が高まる。
According to the transflective liquid crystal device of the present invention, on the first substrate is provided a laminate comprising a second insulating film, a reflective electrode layer, a first insulating film and an alignment film. Here, since the reflective electrode layer and the alignment film are insulated from each other by the first insulating film, the possibility of occurrence of defects such as electric leakage or short circuit with the counter electrode in the reflective electrode layer or its wiring is reduced. As a whole, the device reliability is improved.

【0010】このように構成された半透過反射型の液晶
装置によれば、反射型表示時には、第2基板側から外光
が入射すると、この外光は、第2基板及び液晶を介し
て、反射電極層(但し、開口部を除く部分)並びにこの
上に積層された第1絶縁膜及び配向膜からなる積層体に
より反射され、再び液晶及び第2基板を介して第2基板
側から出射される。従って、例えば第2基板の外面側
(即ち、液晶と反対側)に偏光板を配置すれば、反射電
極層を用いての電界印加により液晶の配向状態を制御す
ることで、反射後に液晶を介して表示光として出射され
る外光強度を制御できる。即ち、反射型表示を行える。
According to the transflective liquid crystal device having such a configuration, when external light is incident from the second substrate side during reflective display, the external light is transmitted through the second substrate and the liquid crystal. The light is reflected by the reflective electrode layer (excluding the opening portion) and the laminated body including the first insulating film and the alignment film laminated thereon, and is again emitted from the second substrate side via the liquid crystal and the second substrate. You. Therefore, for example, if a polarizing plate is arranged on the outer surface side of the second substrate (that is, on the side opposite to the liquid crystal), the alignment state of the liquid crystal is controlled by applying an electric field using the reflective electrode layer, so that the liquid crystal is reflected through the liquid crystal after reflection. Thus, the intensity of external light emitted as display light can be controlled. That is, reflection type display can be performed.

【0011】他方、透過型表示時には、光源から発せら
れた光源光が第1基板に入射すると、この光源光は、反
射電極層の開口部に位置する第2絶縁膜、第1絶縁膜及
び配向膜を透過し、液晶及び第2基板を介して第2基板
側から出射される。従って、例えば第1基板及び第2基
板の外面側(即ち、液晶と反対側)に偏光板を夫々配置
すれば、反射電極層を用いての電界印加により液晶の配
向状態を制御することで、透過後に液晶を介して表示光
として出射される光源光強度を制御できる。即ち、透過
型表示を行える。
On the other hand, at the time of transmissive display, when light from the light source is incident on the first substrate, the light from the light source is transmitted to the second insulating film, the first insulating film, and the alignment film located at the opening of the reflective electrode layer. The light passes through the film and is emitted from the second substrate side through the liquid crystal and the second substrate. Therefore, for example, if a polarizing plate is disposed on the outer surface side of the first substrate and the second substrate (that is, on the side opposite to the liquid crystal), the alignment state of the liquid crystal is controlled by applying an electric field using the reflective electrode layer. The light source light intensity emitted as display light via the liquid crystal after transmission can be controlled. That is, transmissive display can be performed.

【0012】従って、液晶からの外光入射に対する反射
電極層、第1絶縁膜及び配向膜からなる積層体の反射率
を高めるように、これら各膜の膜厚及び屈折率を設定
し、同時にこのように設定された膜厚及び屈折率を固定
した条件下で、第1基板から液晶へ透過する光源光に対
する第2絶縁膜、第1絶縁膜及び配向膜からなる積層体
の透過率を高めるように、外光反射と関係の無い第2絶
縁膜の膜厚及び屈折率を設定することが可能となる。言
い換えれば、第2絶縁膜を第1基板と反射電極層との間
に配置することにより、第2絶縁膜と無関係に反射型表
示における反射率の最適化を図ることが可能となると同
時に、第2絶縁膜の膜厚及び屈折率を調整することによ
り透過型表示における透過率の最適化を図ることが可能
となるのである。
Therefore, the film thickness and the refractive index of each of these films are set so as to increase the reflectivity of the laminated body composed of the reflective electrode layer, the first insulating film and the alignment film with respect to the incidence of external light from the liquid crystal. Under the condition that the film thickness and the refractive index set as described above are fixed, the transmittance of the laminated body including the second insulating film, the first insulating film, and the alignment film with respect to the source light transmitted from the first substrate to the liquid crystal is increased. In addition, it is possible to set the thickness and the refractive index of the second insulating film irrespective of external light reflection. In other words, by arranging the second insulating film between the first substrate and the reflective electrode layer, it is possible to optimize the reflectance in the reflective display independently of the second insulating film, By adjusting the thickness and the refractive index of the two insulating films, it is possible to optimize the transmittance in the transmission type display.

【0013】以上の結果、本発明によれば、反射型表示
時でも透過型表示時でも、前述した従来の実開昭57−
049271号公報、特開平8−292413号公報等
のように液晶層と半透過反射板との間の透明基板の存在
により二重映りや表示のにじみなどが発生することはな
くなりカラー化した場合にも十分な発色を得ることが可
能となり、更に、反射型表示時でも透過型表示時でも明
るい表示が可能とる。
As a result of the above, according to the present invention, the above-mentioned conventional real opening and closing method can be used for both reflective display and transmissive display.
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 049271 and Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 8-292413, when a color image is formed without the occurrence of double reflection or display bleeding due to the presence of the transparent substrate between the liquid crystal layer and the semi-transmissive reflector. In addition, a sufficient color can be obtained, and furthermore, a bright display can be performed in both the reflective display and the transmissive display.

【0014】本発明の半透過反射型の液晶装置の駆動方
式としては、パッシブマトリクス駆動方式、TFT(Th
in Film Transistor)アクティブマトリクス駆動方式、
TFD(Thin Film Diode)アクティブマトリクス駆動
方式、セグメント駆動方式等の公知の各種駆動方式を採
用可能である。この際、反射型表示と透過型表示とでは
液晶セルの電圧−反射率(透過率)特性が異なる場合が
多いので、反射型表示時と透過型表示時とで駆動電圧を
相異ならせ、各々で最適化した方が好ましい。また、第
2基板(対向基板)上には、駆動方式に応じて適宜、複
数のストライプ状やセグメント状の透明電極が形成され
たり、第2基板のほぼ全面に透明電極が形成されたりす
る。或いは、第2基板上に対向電極を設けることなく、
第1基板上の反射電極層からなる画素電極間における基
板に平行な横電界で駆動してもよい。更に、液晶装置に
は、表示方式に応じて適宜、第1基板や第2基板の外面
に、偏光板や位相差板などが夫々配置される。また透過
型表示時に点灯される光源としては、小型の液晶装置用
には、LED(Light Emitting Diode)素子、EL(El
ectro-Luminescence)素子等が適しており、大型の液晶
装置用には、導光板を介して側方から光を導入する蛍光
管等が適している。
The driving method of the transflective liquid crystal device of the present invention includes a passive matrix driving method and a TFT (Th.
in Film Transistor) Active matrix drive system,
Various known driving methods such as a TFD (Thin Film Diode) active matrix driving method and a segment driving method can be adopted. At this time, since the voltage-reflectance (transmittance) characteristics of the liquid crystal cell are often different between the reflective display and the transmissive display, the driving voltages are made different between the reflective display and the transmissive display, and It is preferable to optimize with. Further, a plurality of stripe-shaped or segment-shaped transparent electrodes are formed on the second substrate (counter substrate) as appropriate according to the driving method, or a transparent electrode is formed on almost the entire surface of the second substrate. Alternatively, without providing a counter electrode on the second substrate,
It may be driven by a horizontal electric field parallel to the substrate between pixel electrodes formed of a reflective electrode layer on the first substrate. Further, in the liquid crystal device, a polarizing plate, a retardation plate, and the like are respectively disposed on the outer surfaces of the first substrate and the second substrate according to the display method. Light sources illuminated during transmissive display include LED (Light Emitting Diode) elements and EL (El
An ectro-Luminescence element or the like is suitable, and for a large-sized liquid crystal device, a fluorescent tube or the like that introduces light from the side via a light guide plate is suitable.

【0015】本発明の半透過反射型の液晶装置の一の態
様では、前記開口部は、前記反射電極層に開けられた複
数の貫通穴からなる。
In one embodiment of the transflective liquid crystal device of the present invention, the opening comprises a plurality of through holes formed in the reflective electrode layer.

【0016】この態様によれば、反射電極層は例えば、
正方形、長方形、多角形、円形等のスリット、若しくは
規則的又は不規則な微細孔等の貫通穴が複数開口されて
おり、反射型表示時には、このような貫通穴を除く反射
電極層部分で外光が反射され、透過型表示時には、この
ような貫通穴を介して光源光が透過される。従って、前
述のように反射電極層、第1絶縁膜及び配向膜からなる
積層体の反射率の最適化を図りつつ、(液晶側から見て
貫通穴内にのみ見える)第2絶縁膜により第2絶縁膜、
第1絶縁膜及び配向膜からなる積層体の透過率の最適化
を図れば、反射型表示時でも透過型表示時でも明るい表
示が可能とる。
According to this aspect, the reflective electrode layer is, for example,
A plurality of through holes such as square, rectangular, polygonal, and circular slits or regular or irregular fine holes are provided. Light is reflected, and at the time of transmissive display, light from the light source is transmitted through such a through hole. Therefore, as described above, while optimizing the reflectivity of the laminated body including the reflective electrode layer, the first insulating film, and the alignment film, the second insulating film (visible only in the through hole when viewed from the liquid crystal side) forms the second insulating film. Insulating film,
By optimizing the transmittance of the stacked body composed of the first insulating film and the alignment film, a bright display can be performed in both the reflective display and the transmissive display.

【0017】或いは本発明の半透過反射型の液晶装置の
他の態様では、前記反射電極層は、前記第2基板に垂直
な方向から平面的に見て相互に分断された複数の反射板
からなり、前記開口部は、前記複数の反射板の間隙から
なる。
Alternatively, in another aspect of the transflective liquid crystal device of the present invention, the reflective electrode layer is formed of a plurality of reflective plates separated from each other when viewed two-dimensionally from a direction perpendicular to the second substrate. And the opening comprises a gap between the plurality of reflectors.

【0018】この態様によれば、反射電極層は例えば、
画像信号が供給される単位毎に分断された複数のストラ
イプ状やアイランド状の反射板(即ち、画素電極)から
なり、反射型表示時には、複数の反射板で外光が反射さ
れ、透過型表示時には、複数の反射板の間隙を介して光
源光が透過される。従って、前述のように反射電極層、
第1絶縁膜及び配向膜からなる積層体の反射率の最適化
を図りつつ、(液晶側から見て複数の反射板の間隙にの
み見える)第2絶縁膜により第2絶縁膜、第1絶縁膜及
び配向膜からなる積層体の透過率の最適化を図れば、反
射型表示時でも透過型表示時でも明るい表示が可能と
る。この態様によれば特に、前述した従来の特開平7−
318929号公報に記載された半透過反射型の液晶装
置のように、装置構成や製造プロセスの複雑化を招く微
細な欠陥部や微細な開口部を多数設けなくても半透過反
射層を構成できるため、実用上有利であり、装置信頼性
や製造歩留まりを向上させることも可能となる。
According to this aspect, the reflection electrode layer is, for example,
It comprises a plurality of striped or island-shaped reflectors (that is, pixel electrodes) divided for each unit to which an image signal is supplied. In a reflective display, external light is reflected by the plurality of reflectors and a transmissive display is performed. Sometimes, light from the light source is transmitted through a gap between the plurality of reflectors. Therefore, as described above, the reflective electrode layer,
While optimizing the reflectance of the stacked body composed of the first insulating film and the alignment film, the second insulating film (visible only from the gap between the plurality of reflectors when viewed from the liquid crystal side) has the second insulating film and the first insulating film. By optimizing the transmittance of the laminate composed of the film and the alignment film, a bright display can be performed both in the reflective display and the transmissive display. According to this aspect, in particular, the above-described conventional Japanese Patent Laid-Open No.
As in the transflective liquid crystal device described in Japanese Patent No. 318929, the transflective layer can be formed without providing a large number of fine defects and fine openings that may complicate the device configuration and manufacturing process. Therefore, it is practically advantageous, and it is also possible to improve device reliability and manufacturing yield.

【0019】本発明の半透過反射型の液晶装置の他の態
様では、前記光源と前記第1基板との間に位相差板を更
に備える。
In another aspect of the transflective liquid crystal device of the present invention, a phase difference plate is further provided between the light source and the first substrate.

【0020】この態様によれば、位相差板を備えるの
で、反射型表示と透過型表示とのいずれにおいても良好
な表示制御ができる。より具体的には、第2基板側に設
けられる偏光板、位相差板等の光学素子により、反射型
表示時における光の波長分散に起因する色付きなどの色
調への影響を低減すると共に、当該光源と第1基板との
間に備えられる位相差板により、透過型表示時における
光の波長分散に起因する色付きなどの色調への影響を低
減することが可能となる。更にまた、第2基板側に設け
られる偏光板、位相差板等の光学素子、液晶及び反射電
極層における光学特性を反射型表示時におけるコントラ
ストを高める設定とすると共に、この条件下で当該光源
と第1基板との間に備えられる位相差板における光学特
性を透過型表示時におけるコントラストを高める設定と
することにより、反射型表示と透過型表示とのいずれに
おいても高いコントラスト特性を得ることができる。
According to this aspect, since the phase difference plate is provided, good display control can be performed in both the reflection type display and the transmission type display. More specifically, an optical element such as a polarizing plate and a retardation plate provided on the second substrate side reduces the influence on color tone such as coloring caused by wavelength dispersion of light during reflective display, and With the phase difference plate provided between the light source and the first substrate, it is possible to reduce the influence on the color tone such as coloring due to the wavelength dispersion of light during transmission display. Further, the optical characteristics of the polarizing plate, the retardation plate and the like, the liquid crystal and the reflective electrode layer provided on the second substrate side are set to enhance the contrast at the time of the reflective display, and under this condition, By setting the optical characteristics of the phase difference plate provided between the first substrate and the first substrate so as to increase the contrast in the transmissive display, high contrast characteristics can be obtained in both the reflective display and the transmissive display. .

【0021】本発明の半透過反射型の液晶装置の他の態
様では、前記液晶側からの波長550nm付近の光に対
する前記反射電極層、前記第1絶縁膜及び前記配向膜か
らなる積層体の反射率が最も高くなるように前記反射電
極層、前記第1絶縁膜及び前記配向膜の各膜厚及び各屈
折率が設定されており、前記第1基板側からの波長55
0nm付近の光に対する前記第2絶縁膜、前記第1絶縁
膜及び前記配向膜からなる積層体の透過率が最も高くな
るように前記第2絶縁膜、前記第1絶縁膜及び前記配向
膜の各膜厚及び各屈折率が設定されている。
In another aspect of the transflective liquid crystal device according to the present invention, the reflection of the reflection electrode layer, the first insulating film, and the alignment film from the liquid crystal side to light having a wavelength of about 550 nm is preferred. The thickness and the refractive index of the reflective electrode layer, the first insulating film, and the alignment film are set so that the refractive index becomes highest, and the wavelength 55 from the first substrate side is set.
Each of the second insulating film, the first insulating film, and the alignment film such that the transmittance of light near 0 nm of the stacked body including the second insulating film, the first insulating film, and the alignment film is highest. The film thickness and each refractive index are set.

【0022】この態様によれば、液晶からの波長550
nm(即ち、人間の視覚上で感度が高く表示画像の明る
さを定める上で重要な緑色光に対応する波長)付近の光
に対する反射電極層、第1絶縁膜及び配向膜からなる積
層体の反射率がこれら各膜の膜厚及び屈折率により最適
化され、同時に、このように反射率を最適化するように
固定された膜厚及び屈折率の条件下で、第1基板から液
晶へ透過する波長550nm付近の光に対する第2絶縁
膜、第1絶縁膜及び配向膜からなる積層体の透過率を最
適化するように、外光反射と関係の無い第2絶縁膜の膜
厚及び屈折率が設定される。従って反射型表示時でも透
過型表示時でも特に人間の視覚上で非常に明るい表示が
可能とる。
According to this aspect, the wavelength 550 from the liquid crystal is obtained.
nm (that is, a wavelength corresponding to green light that is highly sensitive to human visual perception and is important for determining the brightness of a displayed image) of a reflective electrode layer, a first insulating film, and an alignment film. The reflectivity is optimized by the film thickness and the refractive index of each of these films, and at the same time, the light is transmitted from the first substrate to the liquid crystal under the conditions of the fixed film thickness and the refractive index so as to optimize the reflectivity. The thickness and refractive index of the second insulating film irrelevant to external light reflection, so as to optimize the transmittance of the laminated body including the second insulating film, the first insulating film, and the alignment film to light having a wavelength around 550 nm. Is set. Therefore, a very bright display can be made, especially in human vision, both in the reflection type display and the transmission type display.

【0023】この態様では、前記第1絶縁膜の屈折率
は、1.4〜1.6の範囲内に有り、前記第2絶縁膜の
屈折率は、前記第1絶縁膜の屈折率とは異なり且つ1.
4〜1.6の範囲内に有ってもよい。
In this aspect, the refractive index of the first insulating film is in the range of 1.4 to 1.6, and the refractive index of the second insulating film is different from the refractive index of the first insulating film. Different and 1.
It may be in the range of 4-1.6.

【0024】このように構成すれば、実用上比較的容易
に、反射型表示における波長550nm付近の光に対す
る反射率を最も高めると同時に、透過型表示における波
長550nm付近の光に対する透過率を最も高めること
ができる。例えば、酸化シリコン膜の屈折率は、約1.
46であり、Al(アルミニウム)酸化膜の屈折率は、
約1.7であり、ゾルゲル法を用いて両者間にある所望
の屈折率を持つ絶縁膜を第1又は第2絶縁膜として形成
可能である。
With this configuration, the reflectance for light near the wavelength of 550 nm in the reflective display is most easily increased in practical use, and the transmittance for light near the wavelength of 550 nm in the transmissive display is most easily increased. be able to. For example, the refractive index of a silicon oxide film is about 1.
46, and the refractive index of the Al (aluminum) oxide film is
It is about 1.7, and an insulating film having a desired refractive index between them can be formed as the first or second insulating film by using the sol-gel method.

【0025】本発明の半透過反射型の液晶装置の他の態
様では、前記第1及び第2絶縁膜は夫々、酸化シリコン
を主成分とする。
In another embodiment of the transflective liquid crystal device of the present invention, the first and second insulating films each contain silicon oxide as a main component.

【0026】この態様によれば、酸化シリコンを主成分
とする透明の第1及び第2絶縁膜を形成すればよいの
で、比較的容易な製造プロセス且つ比較的低コストで、
第1基板上における積層体の外光に対する反射率を高め
られ且つ光源光に対する透過率を高められる。
According to this aspect, since the transparent first and second insulating films containing silicon oxide as a main component may be formed, a relatively simple manufacturing process and a relatively low cost can be achieved.
The reflectance of the stacked body on the first substrate with respect to external light and the transmittance with respect to light from the light source can be increased.

【0027】本発明の電子機器は上記課題を解決するた
めに、上述した本発明の半透過反射型の液晶装置を備え
る。
According to another aspect of the invention, an electronic apparatus includes the above-described transflective liquid crystal device.

【0028】本発明の電子機器によれば、視差による二
重映りや表示のにじみがなく、明るい反射型表示と明る
い透過型表示とを切り換えて表示することのできる半透
過反射型の液晶装置を用いた携帯電話、腕時計、電子手
帳、ノートパソコン等の各種の電子機器を実現できる。
According to the electronic apparatus of the present invention, there is provided a transflective liquid crystal device capable of switching between bright reflective display and bright transmissive display without causing double reflection due to parallax or blurring of display. Various electronic devices such as a mobile phone, a wristwatch, an electronic organizer, and a notebook personal computer that are used can be realized.

【0029】本発明のこのような作用及び他の利得は次
に説明する実施の形態から明らかにされる。
The operation and other advantages of the present invention will become more apparent from the embodiments explained below.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0031】(第1実施形態)先ず、本発明による液晶
装置の第1実施形態の構成について、図1から図3を参
照して説明する。第1実施形態は、本発明をパッシブマ
トリクス駆動方式の半透過反射型の液晶装置に適用した
ものである。尚、図1は、液晶装置を対向基板上に形成
されるカラーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側か
ら見た様子を示す図式的平面図であり、図2は、図1の
A−A’断面をカラーフィルタを含めて示す液晶装置の
図式的断面図である。また、図3は、図2に示された半
透過反射電極板付近における外光を反射し且つ光源光を
透過する構成を拡大して示す図式的拡大断面図である。
尚、図1では、説明の便宜上ストライプ状電極を縦横6
本づつ図式的に示しているが実際には、多数本の電極が
存在しており、図2及び図3においては、各層や各部材
を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や
各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
First Embodiment First, the structure of a liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the first embodiment, the present invention is applied to a transflective liquid crystal device of a passive matrix driving system. FIG. 1 is a schematic plan view showing the liquid crystal device viewed from the counter substrate side with a color filter formed on the counter substrate removed for convenience, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal device including a color filter. FIG. 3 is a schematic enlarged cross-sectional view showing, in an enlarged manner, a configuration near the transflective electrode plate shown in FIG. 2 that reflects external light and transmits light from a light source.
In FIG. 1, for convenience of explanation, the stripe-shaped electrodes are vertically and horizontally aligned.
Although each of them is shown schematically, there are actually a large number of electrodes. In FIGS. 2 and 3, each layer and each member are formed so as to be recognizable in the drawings. And the scale is different for each member.

【0032】図1及び図2において、第1実施形態にお
ける液晶装置は、第1基板10と、第1基板10に対向
配置された透明の第2基板20と、第1基板10及び第
2基板20間に挟持された液晶層50と、第1基板10
の第2基板20に対向する側(即ち、図2で上側表面)
に配置された透明の第2絶縁膜13と、第2絶縁膜13
上に配置された複数のストライプ状の半透過反射電極板
11と、半透過反射電極板11上に配置された透明の第
1絶縁膜12と、第1絶縁膜12上に配置された配向膜
15とを備える。液晶装置はまた、第2基板上の第1基
板10に対向する側(即ち、図2で下側表面)に配置さ
れたカラーフィルタ23と、カラーフィルタ23上に配
置されたカラーフィルタ平坦化膜24と、カラーフィル
タ平坦化膜24上に半透過反射電極板11と相交差する
ように配置された複数のストライプ状の透明電極21
と、透明電極21上に配置された配向膜25とを備えて
構成されている。第1基板10及び第2基板20は、液
晶層50の周囲において、シール材31により貼り合わ
されており、液晶層50は、シール材31及び封止材3
2により、第1基板10及び第2基板20間に封入され
ている。液晶装置は更に、第1基板10の液晶層50と
反対側に、偏光板107及び位相差板108を備えてい
ると共に第2基板20の液晶層50と反対側に、偏光板
105及び位相差板106を備えている。偏光板107
の外側には、蛍光管119と蛍光管119からの光を偏
光板107から液晶パネル内に導くための導光板118
とを備えて構成されている。
Referring to FIGS. 1 and 2, the liquid crystal device according to the first embodiment includes a first substrate 10, a transparent second substrate 20 opposed to the first substrate 10, a first substrate 10 and a second substrate. The liquid crystal layer 50 sandwiched between the first substrate 10 and the first substrate 10
Side facing the second substrate 20 (that is, the upper surface in FIG. 2)
Second insulating film 13 disposed on the
A plurality of striped semi-transmissive reflective electrode plates 11 disposed thereon, a transparent first insulating film 12 disposed on the semi-transmissive reflective electrode plate 11, and an alignment film disposed on the first insulating film 12 15 is provided. The liquid crystal device also includes a color filter 23 disposed on a side of the second substrate facing the first substrate 10 (ie, a lower surface in FIG. 2), and a color filter flattening film disposed on the color filter 23. And a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 21 arranged on the color filter flattening film 24 so as to intersect with the transflective electrode plate 11.
And an alignment film 25 disposed on the transparent electrode 21. The first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other around the liquid crystal layer 50 by a sealing material 31. The liquid crystal layer 50 is formed by the sealing material 31 and the sealing material 3.
2 encloses between the first substrate 10 and the second substrate 20. The liquid crystal device further includes a polarizing plate 107 and a retardation plate 108 on the opposite side of the first substrate 10 from the liquid crystal layer 50, and a polarizing plate 105 and a retardation plate on the opposite side of the second substrate 20 from the liquid crystal layer 50. A plate 106 is provided. Polarizing plate 107
Outside, a fluorescent tube 119 and a light guide plate 118 for guiding light from the fluorescent tube 119 from the polarizing plate 107 into the liquid crystal panel.
It is comprised including.

【0033】ここに本実施形態における半透過反射電極
板11とは、第1基板10側からの光源光を透過するた
めのスリット又は微細孔などの開口部が設けられた反射
板であって、液晶駆動用の画素電極としての機能をも果
たすものをいう。
Here, the transflective electrode plate 11 in the present embodiment is a reflector provided with an opening such as a slit or a fine hole for transmitting the light source light from the first substrate 10 side. It also functions as a pixel electrode for driving liquid crystal.

【0034】即ち、図3に拡大して示すように、半透過
反射電極板11は、AgやAlなどにより形成され、透
過領域A2において第1基板10側からの光源光L2を
透過するための2μm径の開口部11aが多数設けてあ
る。半透過反射電極板11の表面は、開口部11aを除
く反射領域A1において、第2基板20の側から入射す
る外光L1を反射する反射面となっている。透過領域A
2の総面積は反射領域A1の総面積に対して約10%の
割合となるように開口部11aをランダム或いは規則的
に設けてある。このような半透過反射電極板11は、蒸
着やスパッタ等により形成される。
That is, as shown in an enlarged manner in FIG. 3, the transflective electrode plate 11 is formed of Ag, Al, or the like, and transmits the light source light L2 from the first substrate 10 side in the transmissive area A2. Many openings 11a having a diameter of 2 μm are provided. The surface of the transflective electrode plate 11 is a reflection surface that reflects external light L1 incident from the second substrate 20 side in the reflection area A1 except for the opening 11a. Transmission area A
The openings 11a are provided randomly or regularly so that the total area of 2 is about 10% of the total area of the reflection area A1. Such a transflective electrode plate 11 is formed by vapor deposition, sputtering, or the like.

【0035】再び図1及び図2において、第1基板10
及び第2基板20は夫々、可視光に対して透明或いは少
なくとも半透明であることが要求されており、例えばガ
ラス基板や石英基板等からなる。
Referring again to FIGS. 1 and 2, the first substrate 10
The second substrate 20 is required to be transparent or at least translucent to visible light, and is made of, for example, a glass substrate or a quartz substrate.

【0036】配向膜15及び25は夫々、ポリイミド薄
膜などの有機薄膜からなり、スピンコート又はフレキソ
印刷により形成され、ラビング処理等の所定の配向処理
が施されている。
Each of the alignment films 15 and 25 is made of an organic thin film such as a polyimide thin film, is formed by spin coating or flexographic printing, and has been subjected to a predetermined alignment process such as a rubbing process.

【0037】液晶層50は、半透過反射電極板11及び
透明電極21間で電界が印加されていない状態で配向膜
15及び25により所定の配向状態をとる。液晶層50
は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合し
た液晶からなる。
The liquid crystal layer 50 is in a predetermined alignment state by the alignment films 15 and 25 when no electric field is applied between the transflective electrode plate 11 and the transparent electrode 21. Liquid crystal layer 50
Is composed of, for example, a liquid crystal in which one or several kinds of nematic liquid crystals are mixed.

【0038】シール材31は、例えば光硬化性樹脂や熱
硬化性樹脂からなる接着剤である。特に、当該液晶装置
が対角数インチ程度以下の小型の場合には、シール材中
に両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバ
ー或いはガラスビーズ等のギャップ材(スペーサ)が混
入される。但し、このようなギャップ材は、当該液晶装
置が対角数インチ〜10インチ程度或いはそれ以上の大
型の場合には、液晶層50内に混入されてもよい。ま
た、封止材32は、シール材31の注入口を介して液晶
を真空注入した後に、当該注入口を封止する樹脂性接着
剤等からなる。
The sealing member 31 is an adhesive made of, for example, a photo-curing resin or a thermosetting resin. In particular, when the liquid crystal device is small, having a diagonal size of several inches or less, a gap material (spacer) such as glass fiber or glass beads is mixed into the sealing material to make the distance between the two substrates a predetermined value. You. However, such a gap material may be mixed in the liquid crystal layer 50 when the size of the liquid crystal device is several inches to 10 inches or more. The sealing material 32 is made of a resin adhesive or the like that seals the injection port after vacuum-injecting the liquid crystal through the injection port of the sealing material 31.

【0039】カラーフィルタ23は、青色光、緑色光及
び赤色光を画素毎に夫々透過する色材膜と共に各画素の
境界にブラックマスク或いはブラックマトリクスと称さ
れる遮光膜が形成されて各画素間の混色を防止するよう
に構成されたデルタ配列、ストライプ配列、モザイク配
列、トライアングル配列等の公知のカラーフィルタであ
る。また遮光膜は形成されていなくても良い。また図1
及び図2では省略しているが、シール材52の内側に並
行して、例えばカラーフィルタ23中の遮光膜と同じ或
いは異なる材料から成る画像表示領域の周辺を規定する
額縁としての遮光膜が設けられてもよい。或いはこのよ
うな額縁は、液晶装置を入れる遮光性のケースの縁によ
り規定してもよい。
The color filter 23 includes a color material film that transmits blue light, green light and red light for each pixel, and a light shielding film called a black mask or a black matrix formed at the boundary of each pixel. Is a known color filter such as a delta arrangement, a stripe arrangement, a mosaic arrangement, and a triangle arrangement configured to prevent color mixing. Further, the light-shielding film may not be formed. FIG.
Although not shown in FIG. 2, a light-shielding film as a frame defining the periphery of an image display area made of the same or different material as the light-shielding film in the color filter 23 is provided in parallel with the inside of the sealing material 52. You may be. Alternatively, such a frame may be defined by an edge of a light-shielding case for housing the liquid crystal device.

【0040】蛍光管119と共にバックライトを構成す
る導光板118は、裏面全体に散乱用の粗面が形成さ
れ、或いは散乱用の印刷層が形成されたアクリル樹脂板
などの透明体であり、光源である蛍光管119の光を端
面にて受けて、図の上面からほぼ均一な光を放出するよ
うになっている。
The light guide plate 118 constituting a backlight together with the fluorescent tube 119 is a transparent body such as an acrylic resin plate having a scattering rough surface formed on the entire back surface or a scattering printing layer formed thereon. Is received at the end face, and substantially uniform light is emitted from the upper surface of the drawing.

【0041】ここで、本実施形態における半透過反射電
極板11の開口部11a(図3参照)の各種具体例につ
いて図4を参照して説明する。
Here, various specific examples of the opening 11a (see FIG. 3) of the transflective electrode plate 11 in this embodiment will be described with reference to FIG.

【0042】図4(a)に示すように各画素毎に4つの
矩形スロットを4方に開口部11aとして配置してもよ
いし、図4(b)に示すように各画素毎に4つの矩形ス
ロットを横並びに開口部11aとして配置してもよい
し、図4(c)示すように各画素毎に多数の円形開口を
開口部11aとして離散配置してもよいし、図4(d)
示すように各画素毎に1つの比較的大きな矩形スロット
を開口部11aとして配置してもよい。このような開口
部11aは、レジストを用いたフォト工程/現像工程/
剥離工程で容易に作製することができる。開口部11a
の平面形状は図示のほかにも、正方形でもよいし、或い
は、多角形、楕円形、不規則形でもよいし、複数の画素
に跨って延びるスリット状でもよい。また、図1に示し
た如きストライプ状の半透過反射電極板11をパターニ
ングするときに同時に開口部11aを開孔することも可
能であり、このようにすれば製造工程数を増やさず済
む。また、いずれの形状であっても、開口部11aの径
は、0.01μm以上20μm以下とされ、更に開口部
11aは、反射領域A1に対して透過領域A2が5%以
上30%以下の面積比で形成されるように開口されるの
が好ましい。
As shown in FIG. 4A, four rectangular slots may be arranged for each pixel as openings 11a in four directions, or as shown in FIG. 4B, four rectangular slots may be arranged for each pixel. The rectangular slots may be arranged side by side as openings 11a, a large number of circular openings may be discretely arranged as openings 11a for each pixel as shown in FIG. 4C, or FIG.
As shown, one relatively large rectangular slot may be arranged for each pixel as the opening 11a. The opening 11a is formed in a photo process using a resist / developing process /
It can be easily manufactured in a peeling step. Opening 11a
May be square, polygonal, elliptical, irregular, or slit-like extending over a plurality of pixels. In addition, it is possible to form the opening 11a at the same time as the patterning of the stripe-shaped transflective electrode plate 11 as shown in FIG. 1, so that the number of manufacturing steps does not need to be increased. In any shape, the diameter of the opening 11a is 0.01 μm or more and 20 μm or less, and the opening 11a has an area where the transmission area A2 is 5% or more and 30% or less with respect to the reflection area A1. Preferably, the openings are formed so as to have a ratio.

【0043】尚、このような半透過反射電極板11は、
第2基板20に垂直な方向から平面的に見て相互に分断
されており相互間隙が透過領域A2となる(即ち、この
間隙に対面する液晶部分を半透過反射電極板11による
斜め電界にて駆動する)ように構成されてもよい。この
ように構成すれば、装置構成や製造プロセスの複雑化を
招く微細な欠陥部や微細な開口部を多数設けなくても半
透過反射電極板11を構成できるため、実用上有利であ
り、装置信頼性や製造歩留まりを向上させることも可能
となる。
Incidentally, such a transflective electrode plate 11 is
When viewed two-dimensionally from the direction perpendicular to the second substrate 20, they are separated from each other, and the mutual gap becomes the transmission region A <b> 2 (that is, the liquid crystal portion facing this gap is formed by the oblique electric field generated by the transflective electrode plate 11). Drive). With such a configuration, the transflective electrode plate 11 can be configured without providing a large number of fine defects and fine openings that cause the device configuration and the manufacturing process to be complicated, which is practically advantageous. It is also possible to improve reliability and manufacturing yield.

【0044】次に、以上の如く構成された第1実施形態
の半透過反射型の液晶装置の動作について図2及び図3
を参照して説明する。
Next, the operation of the transflective liquid crystal device of the first embodiment configured as described above will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【0045】先ず反射型表示について説明する。この場
合には、第2基板20の側から外光L1が入射すると、
第2基板20及び液晶層50を介して、反射領域A1に
おける第1基板10上に設けられた配向膜15、第1絶
縁膜12及び半透過反射電極板11からなる積層体によ
り多重反射され、再び液晶層50及び第2基板20を介
して第2基板20側から出射される。従って、外部回路
から半透過反射電極板11及び透明電極21に、画像信
号及び走査信号を所定タイミングで供給すれば、半透過
反射電極板11及び透明電極21が交差する個所におけ
る液晶層50部分には、行毎又は列毎若しくは画素毎に
電界が順次印加される。これにより液晶層50の配向状
態を各画素単位で制御することにより、外光L1を変調
し、階調表示が可能となる。
First, the reflection type display will be described. In this case, when external light L1 is incident from the second substrate 20 side,
Through the second substrate 20 and the liquid crystal layer 50, the light is multiple-reflected by the laminate including the alignment film 15, the first insulating film 12, and the transflective electrode plate 11 provided on the first substrate 10 in the reflection area A 1, The light is again emitted from the second substrate 20 side via the liquid crystal layer 50 and the second substrate 20. Therefore, when an image signal and a scanning signal are supplied from an external circuit to the transflective electrode plate 11 and the transparent electrode 21 at a predetermined timing, the transflective electrode plate 11 and the transparent electrode 21 are provided at a portion where the transflective electrode plate 11 and the transparent electrode 21 intersect. , An electric field is sequentially applied to each row, each column, or each pixel. Thus, by controlling the alignment state of the liquid crystal layer 50 on a pixel-by-pixel basis, the external light L1 is modulated, and a gray scale display becomes possible.

【0046】次に透過型表示について説明する。この場
合には、第1基板10の下側から光源光L2が入射する
と、透過領域A2(即ち、半透過反射電極板11の開口
部11a)における第1基板10上に設けられた第2絶
縁膜13、第1絶縁膜12及び配向膜15を透過し、液
晶層50及び第2基板20を介して第2基板20側から
出射される。従って、外部回路から半透過反射電極板1
1及び透明電極21に、画像信号及び走査信号を所定タ
イミングで供給すれば、半透過反射電極板11及び透明
電極21が交差する個所における液晶層50部分には、
行毎又は列毎若しくは画素毎に電界が順次印加される。
これにより液晶層50の配向状態を各画素単位で制御す
ることにより、光源光L2を変調し、階調表示が可能と
なる。
Next, the transmission type display will be described. In this case, when the light source light L2 enters from below the first substrate 10, the second insulating layer provided on the first substrate 10 in the transmission area A2 (that is, the opening 11a of the transflective electrode plate 11). The light passes through the film 13, the first insulating film 12, and the alignment film 15, and is emitted from the second substrate 20 side via the liquid crystal layer 50 and the second substrate 20. Therefore, the transflective electrode plate 1 is provided from an external circuit.
When the image signal and the scanning signal are supplied to the first and the transparent electrodes 21 at a predetermined timing, the portion of the liquid crystal layer 50 where the transflective electrode plate 11 and the transparent electrode 21 intersect,
An electric field is sequentially applied to each row, each column, or each pixel.
Thus, by controlling the alignment state of the liquid crystal layer 50 for each pixel, the light source light L2 is modulated, and a gray scale display can be performed.

【0047】以上の如く動作する第1実施形態では特
に、図3に示したように反射領域A1において液晶層5
0からの波長550nm付近の外光L1の入射に対する
半透過反射電極板11、第1絶縁膜12及び配向膜15
からなる積層体の反射率R1を最適化するように、これ
ら各膜の膜厚及び屈折率が設定される。そして、このよ
うに設定された膜厚及び屈折率を固定した条件下で、透
過領域A2において第1基板10から液晶層50へ透過
する波長550nm付近の光源光L2に対する第2絶縁
膜13、第1絶縁膜12及び配向膜15からなる積層体
の透過率T2を最適化するように、反射領域A1におけ
る外光L1の反射と無関係である第2絶縁膜13の膜厚
及び屈折率が設定される。
In the first embodiment which operates as described above, particularly, as shown in FIG.
A transflective electrode plate 11, a first insulating film 12, and an alignment film 15 for incidence of external light L1 having a wavelength of about 550 nm from zero.
The thickness and the refractive index of each of these films are set so as to optimize the reflectance R1 of the laminated body composed of. Then, under the condition that the film thickness and the refractive index set as described above are fixed, the second insulating film 13 for the light source light L2 having a wavelength of about 550 nm transmitted from the first substrate 10 to the liquid crystal layer 50 in the transmission region A2. The film thickness and the refractive index of the second insulating film 13 that are irrelevant to the reflection of the external light L1 in the reflection area A1 are set so as to optimize the transmittance T2 of the stacked body including the 1 insulating film 12 and the alignment film 15. You.

【0048】次に、反射領域A1において半透過反射
電極板11の上に形成される第1絶縁膜12及び配向膜
15(合計2層)からなる積層体が液晶層50に面して
いる系における当該積層体の外光L1に対する反射率R
1を求めるシミュレーションと、透過領域A2におい
て第2絶縁膜13、第1絶縁膜12及び配向膜15(合
計3層)からなる積層体が入射側で第1基板10に面し
ており且つ出射側で液晶層50に面している系における
当該積層体の光源光L2に対する透過率T2を求めるた
めのシミュレーションとについて説明を加える。
Next, a system in which a laminate composed of the first insulating film 12 and the alignment film 15 (two layers in total) formed on the transflective electrode plate 11 in the reflection area A1 faces the liquid crystal layer 50. , The reflectance R of the laminate to external light L1
1 and the laminated body composed of the second insulating film 13, the first insulating film 12, and the alignment film 15 (three layers in total) faces the first substrate 10 on the incident side and the emitting side in the transmission region A2. A description will be given of a simulation for obtaining the transmittance T2 of the stacked body with respect to the light source light L2 in the system facing the liquid crystal layer 50.

【0049】 反射率R1を求めるためのシミュレー
ション:ここでは、半透過反射板11、第1絶縁膜12
及び配向膜15からなる積層体が媒質(液晶層50)中
にあるときの反射率R1をRouardの方法により求
めることにする。
Simulation for obtaining reflectance R 1: here, transflective reflector 11, first insulating film 12
In addition, the reflectance R1 when the laminated body including the alignment film 15 is in the medium (the liquid crystal layer 50) is determined by the method of Rouard.

【0050】先ず、一般に金属膜や半導体膜などの吸収
体の屈折率nは、次式の如く複素数で表される。
First, in general, the refractive index n * of an absorber such as a metal film or a semiconductor film is represented by a complex number as shown in the following equation.

【0051】n=n−ik 但し、n、k:吸収体の光学定数 これらの光学定数n、kは、各吸収体に固有のものであ
り、波長依存性がある。また、成膜条件によっても変化
する。従って、吸収体並びにその成膜条件が決まれば、
経験的、実験的或いはシミュレーションにより一義的に
定めることができる。ここでは、第1実施形態における
半透過反射電極板11を構成するアルミニウムについて
の光学定数n、kを求めるためのチャートの一例を図5
に示す。
N * = n-ik where n and k are optical constants of the absorbers These optical constants n and k are specific to each absorber and have wavelength dependence. It also changes depending on the film forming conditions. Therefore, once the absorber and its deposition conditions are determined,
It can be uniquely determined by empirical, experimental, or simulation. Here, FIG. 5 shows an example of a chart for obtaining optical constants n and k of aluminum constituting the transflective electrode plate 11 in the first embodiment.
Shown in

【0052】図5において、横軸として光の波長(n
m)が示されており、縦軸として光学定数n(左側)及
びk(右側)が示されており、実線の曲線が、光学定数
nの波長依存性を示す曲線であり、点線の曲線が、光学
定数kの波長依存性を示す曲線である。従って、アルミ
ニウムについて、例えば、波長650nm(赤色光)で
あれば、チャート中矢印で示したように、実線の曲線と
波長650nmとの交点をたどることにより、n=1.
3が求まり、例えば、波長700nmであれば、チャー
ト中矢印で示したように、点線の曲線と波長700nm
との交点をたどることにより、k=6.8が求まるとい
う具合に、図5に示したチャートを用いて任意の光の波
長について光学定数n、kを簡単に求めることが出来
る。尚、銀についての光学定数n,kも同様にして求め
ることができ、波長550nmでの値はn=0.055
でk=3.32である。
In FIG. 5, the wavelength of light (n
m) is shown, the optical constants n (left) and k (right) are shown on the vertical axis, the solid curve is the curve showing the wavelength dependence of the optical constant n, and the dotted curve is And a curve showing the wavelength dependence of the optical constant k. Therefore, for aluminum, for example, if the wavelength is 650 nm (red light), by following the intersection between the curve of the solid line and the wavelength of 650 nm as indicated by the arrow in the chart, n = 1.
3 is obtained. For example, if the wavelength is 700 nm, as indicated by the arrow in the chart, the dotted line curve and the wavelength 700 nm
By following the intersection with, the optical constants n and k can be easily obtained for any wavelength of light using the chart shown in FIG. 5, in a manner that k = 6.8 is obtained. The optical constants n and k for silver can be obtained in the same manner, and the value at a wavelength of 550 nm is n = 0.055.
And k = 3.32.

【0053】次に、本実施形態における半透過反射電極
板11、第1絶縁膜12及び配向膜15からなる積層体
が液晶層50に面している系における半透過反射電極板
11(吸収体)の光学定数をn、kとし、第1絶縁膜1
2(誘電体)の屈折率をnとすると共にその膜厚をd
とし、配向膜15(誘電体)の屈折率をnとすると
共にその膜厚をdとし、液晶層50の液晶(媒質)の
屈折率をnとすると、振幅反射率rは、次式で表され
る。
Next, the transflective electrode plate 11 (absorber) in the system in which the laminated body composed of the transflective electrode plate 11, the first insulating film 12, and the alignment film 15 faces the liquid crystal layer 50 in the present embodiment. ) Are defined as n and k, and the first insulating film 1
2 (dielectric) is defined as n 2 and its film thickness is set as d.
2 , the refractive index of the alignment film 15 (dielectric) is n 1 , the film thickness is d 1, and the refractive index of the liquid crystal (medium) of the liquid crystal layer 50 is n 0 . It is expressed by the following equation.

【0054】r=(r+r−iθ1+r
−i(θ1+θ2)+r−iθ2)/(1
+r−iθ1+r−i(θ1+θ2)
+r−iθ2) 但し、 r=(n−n)/(n+n) r=(n−n)/(n+n) r=(n−n−ik)/(n+n−ik) θ=4πn/λ θ=4πn/λ 従って、反射領域A1におけるエネルギ反射率R1(=
反射率)は、上記振幅反射率rに、r、r、r
代入し、その分母と分子で夫々実数項と虚数項とにまと
めて、その共役複素数を乗じることにより得られる。
R = (r 1 + r 2 e -iθ1 + r 3 e
-I (θ1 + θ2) + r 1 r 2 r 3 e -iθ2) / (1
+ R 1 r 2 e -iθ1 + r 1 r 3 e -i (θ1 + θ2)
+ R 2 r 3 e -iθ2) where, r 1 = (n 1 -n 0) / (n 1 + n 0) r 2 = (n 2 -n 1) / (n 2 + n 1) r 3 = (n- n 2 −ik) / (n + n 2 −ik) θ 1 = 4πn 1 d 1 / λ θ 2 = 4πn 2 d 2 / λ Therefore, the energy reflectance R1 (=
The reflectance is obtained by substituting r 1 , r 2 , and r 3 into the amplitude reflectance r, combining the denominator and numerator into a real term and an imaginary term, and multiplying the conjugate complex number.

【0055】 透過率T2を求めるためのシミュレー
ション:この場合には、光源光L2に対する透過率T2
の代わりに、先ず透過領域A2において第2絶縁膜1
3、第1絶縁膜12、配向膜15(合計3層)からなる
積層体が入射側で第1基板10に面しており且つ出射側
で液晶層50に面している系における当該積層体の光源
光L2に対する反射率R2とこれら各層の膜厚及び各屈
折率との関係を求めることにする。すると、この反射率
R2と相補関係にある透過率T2(=1−R2)は直ぐ
に求まる。従って、この透過率T2(反射率R2)につ
いても、上述した反射率R1を求めるためのシミュレー
ションの場合と同様の手法により求めることができる。
Simulation for finding transmittance T2: In this case, transmittance T2 for source light L2
Instead of the first insulating film 1 in the transmission region A2.
3, a laminate comprising a first insulating film 12 and an orientation film 15 (three layers in total) facing the first substrate 10 on the incident side and facing the liquid crystal layer 50 on the exit side The relationship between the reflectance R2 for the light source light L2 and the film thickness of each layer and each refractive index will be obtained. Then, the transmittance T2 (= 1−R2) complementary to the reflectance R2 is immediately obtained. Therefore, the transmittance T2 (reflectance R2) can also be obtained by the same method as in the above-described simulation for obtaining the reflectance R1.

【0056】即ち、ここでは液晶層50上に設置された
3層(第2絶縁膜13、第1絶縁膜12及び配向膜1
5)からなる積層体が媒質(第1基板10)中にあると
きの反射率R2をRouardの方法により求めること
にする。
That is, here, three layers (the second insulating film 13, the first insulating film 12, and the alignment film 1) provided on the liquid crystal layer 50 are provided.
The reflectance R2 when the laminated body composed of 5) is in the medium (the first substrate 10) is determined by the method of Rouard.

【0057】先ず、上述した反射率R1を求める際に図
5を参照して説明したのと同様に、第1実施形態におけ
る液晶層50を構成する液晶についての光学定数n、k
を求める。ここで、液晶層50は誘電体(吸収が無い)
と見なせるためにk=0とすることができる。このため
液晶層50の光学定数はn(屈折率)のみで決定され
る。
First, the optical constants n and k of the liquid crystal constituting the liquid crystal layer 50 in the first embodiment are determined in the same manner as described with reference to FIG.
Ask for. Here, the liquid crystal layer 50 is made of a dielectric material (having no absorption).
Can be set to k = 0. Therefore, the optical constant of the liquid crystal layer 50 is determined only by n (refractive index).

【0058】次に、透過領域A2で液晶層50上に配向
膜15、第1絶縁膜12及び第2絶縁膜13が積層され
てなる積層体が第1基板10に面している系における液
晶層50の光学定数をn、k(液晶層50の屈折率をn
とし、k=0とする)とし、第1基板10(媒質)の屈
折率をnとすると、振幅反射率rは、次式で表され
る。(但しこの場合には、下層から順に、第2絶縁膜1
3の屈折率をnとすると共に膜厚をdとし、第1絶
縁膜12の屈折率をnとすると共に膜厚をdとし、
配向膜15の屈折率をnとすると共に膜厚をdとす
る。) r=(r+r−iθ1)/(1+r
−iθ1) 但し、 r=(r+r−iθ2)/(1+r
−iθ2) r=(r+r−iθ3)/(1+r
−iθ3) r=(n−n)/(n+n) r=(n−n)/(n+n) r=(n−n)/(n+n) r=(n−n−ik)/(n+n−ik) θ=4πn/λ θ=4πn/λ θ=4πn/λ 従って、エネルギ反射率R2(=反射率)は、各膜の屈
折率及び膜厚を代入して上記θ〜θ及びr〜r
を先ず計算し、次にこれらの値を代入してrからr
の値を順次計算し、次にrとrを代入することによ
りrを計算し、得られた振幅反射率rにrの共役複素数
を乗じることにより得られる。この結果、透過率T2
(=1−R2)が得られる。
Next, a liquid crystal in a system in which a laminated body in which the alignment film 15, the first insulating film 12, and the second insulating film 13 are stacked on the liquid crystal layer 50 in the transmission region A 2 faces the first substrate 10. The optical constants of the layer 50 are n and k (the refractive index of the liquid crystal layer 50 is n
, K = 0) and the refractive index of the first substrate 10 (medium) is n 0 , and the amplitude reflectance r is expressed by the following equation. (However, in this case, in order from the lower layer, the second insulating film 1
Refractive index of 3 was the film thickness d 1 with a n 1, the film thickness and d 2 with the refractive index of the first insulating film 12 and n 2,
The refractive index of the alignment film 15 is set to n 3 and the film thickness is set to d 3 . ) R = (r 1 + r a e -iθ1) / (1 + r 1 r a e
-Aishita1) However, r a = (r 2 + r b e -iθ2) / (1 + r 2 r b e
-Iθ2) r b = (r 3 + r c e -iθ3) / (1 + r 3 r c e
−iθ3 ) r 1 = (n 1 −n 0 ) / (n 1 + n 0 ) r 2 = (n 2 −n 1 ) / (n 2 + n 1 ) r 3 = (n 3 −n 2 ) / (n 3 + n 2) r 4 = (n-n 3 -ik) / (n + n 3 -ik) θ 1 = 4πn 1 d 1 / λ θ 2 = 4πn 2 d 2 / λ θ 3 = 4πn 3 d 3 / λ Therefore , The energy reflectivity R2 (= reflectance) is obtained by substituting the refractive index and the film thickness of each film into the above θ 1 to θ 3 and r 1 to r 4.
The first calculation, and then substituting these values from r a r b
Values sequentially calculate a, then calculates r by substituting r 1 and r a, it is obtained by multiplying the complex conjugate of r the resulting amplitude reflectance r. As a result, the transmittance T2
(= 1−R2) is obtained.

【0059】以上及びのシミュレーションを用いれ
ば、第1絶縁膜12及び配向膜15における反射率R1
を最適化する(即ち、最も高める)ための各膜厚及び各
屈折率の条件が求まり、この条件下で、反射率R1に影
響を与えない第2絶縁膜13における反射率R2を最適
化する(即ち、最も低める)膜厚及び屈折率の条件が求
まる。
Using the above simulations, the reflectance R1 of the first insulating film 12 and the alignment film 15 can be obtained.
Are determined for optimizing (i.e., maximizing) the refractive index R2 in the second insulating film 13 which does not affect the reflectance R1 under these conditions. The conditions of the film thickness (that is, the lowest) and the refractive index are determined.

【0060】以上のようにのシミュレーションにより
求めた反射率R2と第2絶縁膜13の膜厚及び屈折率と
の関係を図6から図8に示す。ここでは、人間の視覚上
で感度が高く表示画像の明るさを定める上で重要な緑色
光に対応する波長550nmの光に対する積層体の反射
率(R2)を求めることとし、本シュミレーションの条
件は以下の通りとする。
FIGS. 6 to 8 show the relationship between the reflectance R2 obtained by the simulation as described above and the thickness and the refractive index of the second insulating film 13. FIG. Here, the reflectance (R2) of the laminated body with respect to light having a wavelength of 550 nm corresponding to green light, which is sensitive to human vision and is important in determining the brightness of a display image, is determined. It is as follows.

【0061】 液晶層50の屈折率 =1.6 配向膜15の屈折率 =1.65 配向膜15の膜厚 =30.0nm 配向膜15の光学膜厚 =50.1 第1絶縁膜12の屈折率 =1.60 :図6の場合 =1.54 :図7の場合 =1.46 :図8の場合 第1絶縁膜12の膜厚 =90.0nm 第1絶縁膜12の光学膜厚=144.0:図6の場合 =138.6:図7の場合 =131.4:図8の場合 そして第2絶縁膜13の屈折率を、図6から図8に夫々
示すように、1.2〜2.2まで変化させつつ、第2絶
縁膜13の膜厚に関しては50nm、75nm及び10
0nmの夫々について、反射率R2をシミュレーション
により求める。
The refractive index of the liquid crystal layer 50 = 1.6 The refractive index of the alignment film 15 = 1.65 The thickness of the alignment film 15 = 30.0 nm The optical thickness of the alignment film 15 = 50.1 Refractive index = 1.60: FIG. 6 = 1.54: FIG. 7 = 1.46: FIG. 8 Thickness of first insulating film 12 = 90.0 nm Optical thickness of first insulating film 12 = 144.0: In the case of FIG. 6 = 138.6: In the case of FIG. 7 = 131.4: In the case of FIG. 8, and the refractive index of the second insulating film 13 is 1 as shown in FIGS. The thickness of the second insulating film 13 was changed to 50 nm, 75 nm, and 10
For each of 0 nm, the reflectance R2 is obtained by simulation.

【0062】図6から図8に示すように、第1絶縁膜1
2の屈折率や膜厚を変化させても、第2絶縁膜13の屈
折率を変化させることにより、反射率R2を十分に低く
すること(即ち、透過型表示における透過率T2を十分
に高くすること)が可能である。
As shown in FIGS. 6 to 8, the first insulating film 1
Even if the refractive index or the film thickness of the second insulating film 13 is changed, the reflectance R2 is made sufficiently low by changing the refractive index of the second insulating film 13 (that is, the transmittance T2 in the transmission type display is made sufficiently high). Is possible).

【0063】特に図6に示すように、第1絶縁膜12の
屈折率が1.60であれば、第2絶縁膜13の膜厚に殆
ど依存することなく、第2絶縁膜13の屈折率が約1.
50〜1.60の範囲で、反射率R2を極小的に低く抑
えることができる。即ち、第2絶縁膜13の膜厚を調整
することなく、その屈折率のみを調整することで、反射
率R2(透過率T2)の最適化を容易に図れる。
In particular, as shown in FIG. 6, when the refractive index of the first insulating film 12 is 1.60, the refractive index of the second insulating film 13 is almost independent of the thickness of the second insulating film 13. Is about 1.
Within the range of 50 to 1.60, the reflectance R2 can be minimized. That is, by adjusting only the refractive index without adjusting the thickness of the second insulating film 13, the reflectance R2 (transmittance T2) can be easily optimized.

【0064】また図7に示すように、第1絶縁膜12の
屈折率が1.54であれば、やはり第2絶縁膜13の膜
厚に殆ど依存することなく、第2絶縁膜13の屈折率が
約1.45〜1.55の範囲で、反射率R2を極小的に
低く抑えることができる。即ち、第2絶縁膜13の膜厚
を調整することなく、その屈折率のみを調整すること
で、反射率R2(透過率T2)の最適化を容易に図れ
る。
As shown in FIG. 7, when the refractive index of the first insulating film 12 is 1.54, the refractive index of the second insulating film 13 is almost independent of the thickness of the second insulating film 13. When the reflectance is in the range of about 1.45 to 1.55, the reflectance R2 can be minimized. That is, by adjusting only the refractive index without adjusting the thickness of the second insulating film 13, the reflectance R2 (transmittance T2) can be easily optimized.

【0065】更に図8に示すように、第1絶縁膜12の
屈折率が1.46であれば、反射率R2の極小値は、第
2絶縁膜13の膜厚に若干依存するものの、当該極小値
を与える(即ち、反射率R2を最適化する)第2絶縁膜
13の屈折率は約1.40〜1.50の範囲であり、や
はり最適化する際の第2絶縁膜13の膜厚依存性は低
い。即ち、第2絶縁膜13の膜厚を調整することなく、
その屈折率のみを調整することで、実践的な意味におけ
る反射率R2(透過率T2)の最適化を容易に図れる。
Further, as shown in FIG. 8, when the refractive index of the first insulating film 12 is 1.46, the minimum value of the reflectance R 2 slightly depends on the thickness of the second insulating film 13. The refractive index of the second insulating film 13 that gives a minimum value (that is, optimizes the reflectance R2) is in the range of about 1.40 to 1.50. Thickness dependence is low. That is, without adjusting the thickness of the second insulating film 13,
By adjusting only the refractive index, the reflectance R2 (transmittance T2) in a practical sense can be easily optimized.

【0066】仮に透過領域A2において第2絶縁膜13
が存在しないとすれば、第1基板10と第1絶縁膜12
との界面が存在しているため、反射率R1を最適化する
ようにこれらの光学特性を設定した場合には、両者間の
屈折率の相違により反射率R2が高くなってしまう(即
ち、透過率T2が低くなってしまう)ことも多く、少な
くとも反射率R2(透過率T2)も偶然に最適化される
ような可能性は殆どない。しかるに、本実施形態によれ
ば、透過領域A2に第1絶縁膜12と屈折率の異なる第
2絶縁膜13を配置することで、反射率R1と無関係に
第2絶縁膜13の膜厚や屈折率を調整できるので、反射
率R2を低める(即ち、透過率T2を高める)ことが可
能となるのである。
It is assumed that the second insulating film 13 is formed in the transmission area A2.
Is not present, the first substrate 10 and the first insulating film 12
When these optical characteristics are set so as to optimize the reflectance R1, the reflectance R2 increases due to the difference in the refractive index between the two (that is, the transmission R2). In many cases, the reflectance T2 is lowered), and there is almost no possibility that at least the reflectance R2 (transmittance T2) is accidentally optimized. However, according to the present embodiment, by arranging the second insulating film 13 having a different refractive index from the first insulating film 12 in the transmission region A2, the thickness and refraction of the second insulating film 13 are independent of the reflectance R1. Since the rate can be adjusted, the reflectance R2 can be reduced (that is, the transmittance T2 can be increased).

【0067】本実施形態では、第1絶縁膜12及び第2
絶縁膜13は夫々、上述の条件を満たすように、例えば
酸化シリコンを主成分としており、液晶の屈折率1.6
0及び配向膜15の屈折率1.65に対して、第1絶縁
膜12及び第2絶縁膜13の屈折率は相互に異なり且つ
夫々約1.4〜1.6の範囲内の値とされている。この
ように構成すれば、実用上比較的容易に、反射型表示に
おける波長550nm付近の光に対する反射率R1を最
も高めると同時に、透過型表示における波長550nm
付近の光に対する透過率T2を最も高めることができ
る。例えば、酸化シリコン膜の屈折率は、約1.46で
あり、Al(アルミニウム)酸化膜の屈折率は、約1.
7であり、ゾルゲル法を用いて両者間にある所望の屈折
率を持つ絶縁膜を第1絶縁膜12又は第2絶縁膜13と
して形成可能である。この場合、第1基板10としては
例えば、屈折率が約1.54の無アルカリガラス基板或
いは約1.52〜1.55のソーダガラスなどを用いれ
ばよい。
In this embodiment, the first insulating film 12 and the second
Each of the insulating films 13 includes, for example, silicon oxide as a main component so as to satisfy the above-described conditions, and has a refractive index of liquid crystal of 1.6.
The refractive index of the first insulating film 12 and the refractive index of the second insulating film 13 are different from each other with respect to 0 and 1.65 of the refractive index of the alignment film 15 and each have a value within a range of about 1.4 to 1.6. ing. With this configuration, the reflectance R1 for light near the wavelength of 550 nm in the reflective display is most easily increased practically, and at the same time, the wavelength 550 nm in the transmissive display is obtained.
The transmittance T2 for the nearby light can be maximized. For example, a silicon oxide film has a refractive index of about 1.46, and an Al (aluminum) oxide film has a refractive index of about 1.46.
7, an insulating film having a desired refractive index between the two can be formed as the first insulating film 12 or the second insulating film 13 by using the sol-gel method. In this case, as the first substrate 10, for example, an alkali-free glass substrate having a refractive index of about 1.54 or soda glass having a refractive index of about 1.52 to 1.55 may be used.

【0068】尚、配向膜15の膜厚については、配向膜
として良好に機能するように、例えば10〜80nm程
度に設定すればよく、半透過反射電極板11の膜厚につ
いては、画素電極として良好に機能するように例えば1
0〜300nmに設定すればよい。
The thickness of the alignment film 15 may be set to, for example, about 10 to 80 nm so as to function well as the alignment film. For example, 1
What is necessary is just to set to 0-300 nm.

【0069】以上のように本実施形態によれば、波長5
50nm(即ち、人間の視覚上で感度が高く表示画像の
明るさを定める上で重要な緑色光に対応する波長)付近
の光に対する反射型表示における反射率R1が最適化さ
れており同時に透過型表示における透過率T2も最適化
されているので、反射型表示時でも透過型表示時でも特
に人間の視覚上で非常に明るい表示が可能とる。
As described above, according to the present embodiment, the wavelength 5
The reflectance R1 in the reflective display for light near 50 nm (that is, a wavelength corresponding to green light that is highly sensitive to human vision and is important for determining the brightness of a display image) is optimized, and at the same time, the transmissive type is used. Since the transmittance T2 in the display is also optimized, a very bright display can be obtained, especially in human vision, both in the reflective display and the transmissive display.

【0070】しかも本実施形態によれば、第1基板の外
側に設けた反射板により反射する伝統的な液晶装置と比
べて、第1基板10の上側における半透過反射電極板1
1、第1絶縁膜12及び配向膜15からなる積層体によ
る多重反射により外光を反射するので、光路が短くなる
分だけ表示画像における視差が低減され且つ表示画像に
おける明るさも向上する。
Further, according to the present embodiment, the transflective electrode plate 1 on the upper side of the first substrate 10 is compared with the conventional liquid crystal device that reflects light by the reflector provided outside the first substrate.
1. Since external light is reflected by multiple reflection by the laminated body including the first insulating film 12 and the alignment film 15, parallax in a display image is reduced and brightness in the display image is improved by the shortened optical path.

【0071】加えて、仮に第1基板10上に、第1絶縁
膜12を介在させることなく、半透過反射電極板11及
び配向膜15を形成したのでは、特に、液晶層50中又
はシール材31中のギャップ材(スペーサ)より大きな
サイズの導電性の異物が液晶層50中に混入した場合
に、配向膜15及び25を破って、半透過反射電極板1
1と透明電極21とがショートする、即ち、装置欠陥が
発生する可能性が高い。しかしながら、第1実施形態に
よれば、配向膜15よりも強度が高い第1絶縁膜12の
存在により、或いは、配向膜15と第1絶縁膜12との
協動によりこのような装置欠陥の発生確率を顕著に低減
し得る。
In addition, if the transflective electrode plate 11 and the alignment film 15 were formed on the first substrate 10 without the interposition of the first insulating film 12, especially in the liquid crystal layer 50 or in the sealing material When conductive foreign matter having a size larger than the gap material (spacer) in the liquid crystal layer 31 enters the liquid crystal layer 50, the liquid crystal layer 50 breaks the alignment films 15 and 25 and
1 and the transparent electrode 21 are short-circuited, that is, there is a high possibility that a device defect occurs. However, according to the first embodiment, the occurrence of such a device defect is caused by the presence of the first insulating film 12 having a higher strength than the alignment film 15 or by the cooperation between the alignment film 15 and the first insulating film 12. The probability can be significantly reduced.

【0072】また、第1実施形態では上述のように、第
1絶縁膜12や第2絶縁膜13は酸化シリコンを主成分
とし、反射板14は、アルミニウムを主成分とするの
で、比較的容易な製造プロセス且つ比較的低コストで反
射率の向上を図れる。但し、反射板14の主成分を銀や
クロム等の他の金属としても、上述の如き第1実施形態
における効果は得られる。
In the first embodiment, as described above, the first insulating film 12 and the second insulating film 13 are mainly composed of silicon oxide, and the reflection plate 14 is mainly composed of aluminum. The reflectance can be improved with a simple manufacturing process and at a relatively low cost. However, even if the main component of the reflection plate 14 is another metal such as silver or chromium, the effects of the first embodiment as described above can be obtained.

【0073】以上説明した第1実施形態では、第1絶縁
膜12及び第2絶縁膜13は、好ましくは、平均粒径が
50nm以下の無機酸化物粒子を含有する。このように
構成すれば、第1絶縁膜12上に形成される配向膜15
との接着性及び第2絶縁膜13上に形成される第1絶縁
膜12との接着性が良くなり、比較的容易に当該液晶装
置を製造できると共に装置信頼性を高められる。このよ
うな無機酸化物粒子は、例えば酸化シリコン粒子、酸化
アルミニウム粒子、酸化スズ粒子、酸化インジウム粒子
等からなり、例えばゾルゲル法により、このような無機
酸化物粒子を絶縁膜中に比較的容易に含有させることが
できる。
In the first embodiment described above, the first insulating film 12 and the second insulating film 13 preferably contain inorganic oxide particles having an average particle size of 50 nm or less. With this configuration, the alignment film 15 formed on the first insulating film 12
And the first insulating film 12 formed on the second insulating film 13 are improved, so that the liquid crystal device can be manufactured relatively easily and the device reliability can be improved. Such inorganic oxide particles are composed of, for example, silicon oxide particles, aluminum oxide particles, tin oxide particles, indium oxide particles, and the like. It can be contained.

【0074】以上説明した第1実施形態では、半透過反
射電極板11の第1基板10上の端子領域に引き出され
た端子部及び透明電極21の第2基板20上の端子領域
に引き出された端子部には、例えばTAB(Tape Autom
ated bonding)基板上に実装されており、半透過反射電
極板11及び透明電極21に画像信号や走査信号を所定
タイミングで供給するデータ線駆動回路や走査線駆動回
路を含む駆動用LSIを、異方性導電フィルムを介して
電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。或い
は、シール材31の外側の第1基板10又は第2基板2
0上の周辺領域に、このようなデータ線駆動回路や走査
線駆動回路を形成して所謂駆動回路内蔵型の液晶装置と
して構成してもよく、更に、製造途中や出荷時の当該液
晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形
成して所謂周辺回路内蔵型の液晶装置としてもよい。
In the first embodiment described above, the terminal portion of the transflective electrode plate 11 extended to the terminal region on the first substrate 10 and the transparent electrode 21 extended to the terminal region of the second substrate 20. For example, TAB (Tape Autom
A driving LSI that is mounted on a substrate and includes a data line driving circuit and a scanning line driving circuit for supplying an image signal and a scanning signal to the transflective electrode plate 11 and the transparent electrode 21 at a predetermined timing is used. The connection may be made electrically and mechanically via an isotropic conductive film. Alternatively, the first substrate 10 or the second substrate 2 outside the sealing material 31
Such a data line driving circuit or a scanning line driving circuit may be formed in a peripheral region on the pixel 0 to form a so-called liquid crystal device with a built-in driving circuit. A so-called peripheral circuit built-in type liquid crystal device may be formed by forming an inspection circuit or the like for inspecting quality, defects and the like.

【0075】また、第1基板10や第2基板20の外面
側には、例えば、TN(Twisted Nematic)モード、V
A(Vertically Aligned)モード、PDLC(Polymer Dis
persed Liquid Crystal)モード等の動作モードや、ノー
マリーホワイトモード/ノーマリーブラックモードの別
に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板など
が所定の方向で配置される。更に、第1基板10又は第
2基板20上に1画素1個対応するようにマイクロレン
ズを形成してもよい。このようにすれば、入射光の集光
効率を向上することで、明るい液晶装置が実現できる。
更にまた、第2基板20上に、何層もの屈折率の相違す
る干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、RG
B色を作り出すダイクロイックフィルタを形成してもよ
い。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によれ
ば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。
On the outer surface of the first substrate 10 or the second substrate 20, for example, a TN (Twisted Nematic) mode, V
A (Vertically Aligned) mode, PDLC (Polymer Dis
A polarizing film, a retardation film, a polarizing plate, and the like are arranged in a predetermined direction according to an operation mode such as a persed liquid crystal (persed liquid crystal) mode and a normally white mode / normally black mode. Further, a micro lens may be formed on the first substrate 10 or the second substrate 20 so as to correspond to one pixel. In this case, a bright liquid crystal device can be realized by improving the efficiency of collecting incident light.
Furthermore, by depositing a number of interference layers having different refractive indexes on the second substrate 20, RG can be utilized by utilizing light interference.
A dichroic filter for producing the B color may be formed. According to the counter substrate with the dichroic filter, a brighter color liquid crystal device can be realized.

【0076】次に、第1実施形態における偏光板10
5、位相差板106、偏光板107及び位相差板108
(図2参照)の光学設定について、図9及び図10を参
照して説明する。
Next, the polarizing plate 10 according to the first embodiment will be described.
5, retardation plate 106, polarizing plate 107 and retardation plate 108
The optical setting (see FIG. 2) will be described with reference to FIGS.

【0077】第1実施形態では、位相差板106により
反射型表示時における光の波長分散に起因する色付きな
どの色調への影響を低減する(即ち、位相差板106を
用いて反射型表示時における表示の最適化を図る)と共
に、位相差板108により透過型表示時における光の波
長分散に起因する色付きなどの色調への影響を低減する
(即ち、位相差板106により反射型表示時における表
示の最適化を図った条件下で、更に、位相差板108に
より透過型表示時における表示の最適化を図る)ことが
可能となる。なお、位相差板106及び108について
は夫々、液晶セルの着色補償、もしくは視角補償により
複数枚位相差板を配置することも可能である。このよう
に位相差板106又は108として、位相差板を複数枚
用いれば着色補償或いは視覚補償の最適化をより容易に
行える。
In the first embodiment, the phase difference plate 106 reduces the influence on the color tone such as coloring caused by the wavelength dispersion of light in the reflection type display (ie, the reflection type display using the phase difference plate 106 In addition, the phase difference plate 108 reduces the influence on the color tone such as coloring caused by the wavelength dispersion of light in the transmission type display (that is, the phase difference plate 106 reduces the influence on the reflection type display). Under the condition of optimizing the display, it is possible to further optimize the display in the transmissive display by the phase difference plate 108). In addition, it is also possible to arrange a plurality of retardation plates 106 and 108 by color compensation of a liquid crystal cell or viewing angle compensation, respectively. As described above, if a plurality of retardation plates are used as the retardation plates 106 or 108, optimization of coloring compensation or visual compensation can be more easily performed.

【0078】更にまた、偏光板105、位相差板10
6、液晶層50及び半透過反射電極板11における光学
特性を反射型表示時におけるコントラストを高める設定
とすると共に、この条件下で偏光板107及び位相差板
108における光学特性を透過型表示時におけるコント
ラストを高める設定とすることにより、反射型表示と透
過型表示とのいずれにおいても高いコントラスト特性を
得ることができる。例えば、反射型表示時には、外光
が、偏光板105を通って直線偏光となり、更に位相差
板106及び電圧非印加状態(暗表示状態)にある液晶
層50部分を通って右円偏光となって半透過反射電極板
11に達し、ここで反射されて進行方向が逆転すると共
に左円偏光に変換され、再び電圧非印加状態にある液晶
層50部分を通って直線偏光に変換され、偏光板105
で吸収される(即ち、暗くなる)ように偏光板105、
位相差板106、液晶層50及び半透過反射電極板11
における光学特性が設定される。この時、電圧印加状態
(明表示状態)にある液晶層50部分を通る外光は、液
晶層50部分を素通りするため、半透過反射電極板11
で反射されて偏光板105から出射される(即ち、明る
くなる)。他方で、透過型表示時には、バックライトか
ら発せられ、偏光板107及び位相差板108を介して
半透過反射電極板11の開口部11aを透過する光源光
が、上述した反射型表示時における半透過反射電極板1
1で反射される左円偏光と同様な光となるように、偏光
板107及び位相差板108の光学特性が設定される。
すると、反射型表示時と比べて光源及び光路が異なるに
も拘わらず、透過型表示時における半透過反射電極板1
1の開口部11aを透過する光源光は、反射型表示時に
おける半透過反射電極板11で反射する外光と同様に電
圧非印加状態(暗表示状態)にある液晶層50部分を通
って直線偏光に変換され、偏光板105で吸収される
(即ち、暗くなる)。この時、電圧印加状態(明表示状
態)にある液晶層50部分を通る光は、液晶層50部分
を素通りして偏光板105から出射される(即ち、明る
くなる)。
Further, the polarizing plate 105 and the retardation plate 10
6. The optical characteristics of the liquid crystal layer 50 and the transflective electrode plate 11 are set so as to enhance the contrast at the time of reflective display, and the optical characteristics of the polarizing plate 107 and the phase difference plate 108 at the time of the transmissive display under this condition. By setting the contrast to be high, high contrast characteristics can be obtained in both the reflective display and the transmissive display. For example, during reflective display, external light passes through the polarizing plate 105 to become linearly polarized light, and further passes through the phase difference plate 106 and the liquid crystal layer 50 in a voltage non-applied state (dark display state) to become right circularly polarized light. Then, the light reaches the transflective electrode plate 11, where the light is reflected, the traveling direction is reversed, the light is converted into left-handed circularly polarized light, and is again converted into linearly-polarized light through the liquid crystal layer 50 portion where no voltage is applied. 105
The polarizer 105 is absorbed by (ie, darkens)
Phase difference plate 106, liquid crystal layer 50 and transflective electrode plate 11
Is set. At this time, since external light passing through the liquid crystal layer 50 in the voltage applied state (bright display state) passes through the liquid crystal layer 50, the transflective electrode plate 11
And is emitted from the polarizing plate 105 (ie, becomes brighter). On the other hand, at the time of the transmissive display, the light source light emitted from the backlight and transmitted through the opening 11a of the transflective electrode plate 11 via the polarizing plate 107 and the phase difference plate 108 is partially reflected at the time of the above-mentioned reflective display. Transmission / reflection electrode plate 1
The optical characteristics of the polarizing plate 107 and the retardation plate 108 are set so that the light becomes the same as the left circularly polarized light reflected at 1.
Then, although the light source and the optical path are different from those in the reflective display, the transflective electrode plate 1 in the transmissive display is provided.
The light from the light source passing through the first opening 11a passes through the portion of the liquid crystal layer 50 in a voltage non-applied state (dark display state) similarly to the external light reflected on the transflective electrode plate 11 during the reflective display. The light is converted into polarized light and absorbed by the polarizing plate 105 (that is, darkened). At this time, light that passes through the liquid crystal layer 50 in the voltage applied state (bright display state) passes through the liquid crystal layer 50 and is emitted from the polarizing plate 105 (ie, becomes brighter).

【0079】このように反射型表示と透過型表示とのい
ずれにおいても高いコントラスト特性が得られる偏光板
105、位相差板106、液晶層50、半透過反射電極
板11、偏光板107及び位相差板108における光学
特性についての二つの具体例を図9及び図10に示す。
尚、図9及び図10において夫々、積層された5枚の長
方形は、上から順に偏光板105、位相差板106、液
晶層50等を含む液晶セル、位相差板108及び偏光板
107の各層を示し、各長方形に描いた矢印によって軸
方向を示している。また図9及び図10に示す例では夫
々、液晶セルの上側の位相差板106が2枚の位相差板
からなる(以下、第1位相差板106a及び第2位相差
板106bとする)ものとし、更に図10に示す例で
は、液晶セルの下側の位相差板108が2枚の位相差板
からなる(第3位相差板108a及び第4位相差板10
8bとする)ものとする。
As described above, the polarizing plate 105, the retardation plate 106, the liquid crystal layer 50, the transflective electrode plate 11, the polarizing plate 107, and the retardation plate capable of obtaining high contrast characteristics in both the reflection type display and the transmission type display. Two specific examples of the optical characteristics of the plate 108 are shown in FIGS.
In FIG. 9 and FIG. 10, the five stacked rectangles respectively indicate a liquid crystal cell including the polarizing plate 105, the retardation plate 106, the liquid crystal layer 50, and the respective layers of the retardation plate 108 and the polarizing plate 107 in order from the top. , And the axial direction is indicated by arrows drawn in each rectangle. 9 and 10, the upper retardation plate 106 of the liquid crystal cell is composed of two retardation plates (hereinafter referred to as a first retardation plate 106a and a second retardation plate 106b). Further, in the example shown in FIG. 10, the lower retarder 108 of the liquid crystal cell is composed of two retarders (the third retarder 108a and the fourth retarder 10a).
8b).

【0080】図9において、偏光板105の吸収軸13
01はパネル長手方向に対して左35.5度である。第
1位相差板106aの遅延軸方向1302は、パネル長
手方向に対して左102.5度であり、そのリターデー
ションは455nmである。第2位相差板106bの遅
延軸方向1303は、パネル長手方向に対して左48.
5度であり、そのリターデーションは544nmであ
る。液晶セルの透明基板20側の配向膜のラビング方向
1304は、パネル長手方向に対して右37.5度であ
る。液晶セルの透明基板10側のラビング方向1305
は、パネル長手方向に対して左37.5度である。液晶
は、透明基板20から透明基板10に向って左回りに2
55度ツイストしている。また、液晶の複屈折Δnとセ
ルギャップdの積は、0.90μmである。位相差板1
08の遅延軸方向1306は、パネル長手方向に対して
右0.5度であり、そのリターデーションは140nm
である。偏光板107の吸収軸1307はパネル長手方
向に対して左49.5度である。この条件下では、バッ
クライトから発せられた光は、波長560nmの緑色光
が、楕円率が0.85の楕円偏光の状態で、液晶セル内
に配置された半透過反射電極板11の開口部11aを通
過する。また、その回転方向は右回りであり、偏光板1
05側から入射し、暗表示状態にある液晶層を通って半
透過反射電極板11で反射した外光とほぼ同一の偏光状
態となる。よって、この例の如く光学特性を設定すれ
ば、反射型表示と透過型表示とのいずれにおいても高い
コントラスト特性が得られる。
In FIG. 9, the absorption axis 13 of the polarizing plate 105 is shown.
01 is 35.5 degrees to the left with respect to the longitudinal direction of the panel. The delay axis direction 1302 of the first retardation plate 106a is 102.5 degrees to the left with respect to the longitudinal direction of the panel, and its retardation is 455 nm. The delay axis direction 1303 of the second retardation plate 106b is at the left 48.
5 degrees and the retardation is 544 nm. The rubbing direction 1304 of the alignment film on the transparent substrate 20 side of the liquid crystal cell is 37.5 degrees to the right with respect to the longitudinal direction of the panel. Rubbing direction 1305 on the transparent substrate 10 side of the liquid crystal cell
Is 37.5 degrees left with respect to the longitudinal direction of the panel. The liquid crystal is rotated counterclockwise from the transparent substrate 20 toward the transparent substrate 10.
Twisted 55 degrees. The product of the birefringence Δn of the liquid crystal and the cell gap d is 0.90 μm. Phase difference plate 1
08 is 10.5 degrees to the right with respect to the panel longitudinal direction, and its retardation is 140 nm.
It is. The absorption axis 1307 of the polarizing plate 107 is 49.5 degrees to the left with respect to the longitudinal direction of the panel. Under this condition, the light emitted from the backlight is a green light having a wavelength of 560 nm, in an elliptically polarized state having an ellipticity of 0.85, and an opening of the transflective electrode plate 11 arranged in the liquid crystal cell. 11a. The rotation direction is clockwise, and the polarizer 1
The polarization state is substantially the same as that of the external light that is incident from the side 05 and passes through the liquid crystal layer in the dark display state and is reflected by the transflective electrode plate 11. Therefore, if the optical characteristics are set as in this example, high contrast characteristics can be obtained in both the reflective display and the transmissive display.

【0081】図10において、偏光板105の吸収軸1
401はパネル長手方向に対して左110度である。第
1位相差板106aの遅延軸方向1402は、パネル長
手方向に対して左127.5度であり、そのリターデー
ションは270nmである。第2位相差板106bの遅
延軸方向1403は、パネル長手方向に対して左10度
であり、そのリターデーションは140nmである。液
晶セルの透明基板20側の配向膜のラビング方向140
4は、パネル長手方向に対して右51度である。液晶セ
ルの透明基板10側のラビング方向1405は、パネル
長手方向に対して左50度である。液晶は、透明基板2
0から透明基板10に向って右回りに79度ツイストし
ている。また、液晶の複屈折Δnとセルギャップdの積
は、0.24μmである。第3位相差板108aの遅延
軸方向1406は、パネル長手方向に対して左100度
であり、そのリターデーションは140nmである。第
4位相差板108bの遅延軸方向1407は、パネル長
手方向に対して左37.5度であり、そのリターデーシ
ョンは270nmである。偏光板108の吸収軸140
8はパネル長手方向に対して左20度である。この条件
下では、バックライトから発せられた光は、波長560
nmの緑色光を中心とする比較的広い波長範囲で、楕円
率が最大0.96という極めて円偏光に近い楕円偏光の
状態で液晶セル内に配置された半透過反射電極板11の
開口部11aを通過する。またその回転方向は左回りで
あり、偏光板105側から入射し、暗表示状態にある液
晶層を通って半透過反射電極板11で反射した外光とほ
ぼ同一の偏光状態となる。よって、この例の如く光学特
性を設定すれば、反射型表示と透過型表示とのいずれに
おいても高いコントラスト特性が得られる。
In FIG. 10, the absorption axis 1 of the polarizing plate 105 is shown.
Reference numeral 401 denotes left 110 degrees with respect to the panel longitudinal direction. The delay axis direction 1402 of the first retardation plate 106a is 127.5 degrees to the left with respect to the longitudinal direction of the panel, and the retardation is 270 nm. The delay axis direction 1403 of the second retardation plate 106b is 10 degrees to the left with respect to the longitudinal direction of the panel, and the retardation is 140 nm. Rubbing direction 140 of alignment film on transparent substrate 20 side of liquid crystal cell
4 is 51 degrees to the right with respect to the panel longitudinal direction. The rubbing direction 1405 on the transparent substrate 10 side of the liquid crystal cell is at left 50 degrees with respect to the panel longitudinal direction. The liquid crystal is a transparent substrate 2
It is twisted 79 degrees clockwise from 0 toward the transparent substrate 10. The product of the birefringence Δn of the liquid crystal and the cell gap d is 0.24 μm. The delay axis direction 1406 of the third retardation plate 108a is 100 degrees to the left with respect to the longitudinal direction of the panel, and its retardation is 140 nm. The delay axis direction 1407 of the fourth retardation plate 108b is 37.5 degrees to the left with respect to the longitudinal direction of the panel, and its retardation is 270 nm. Absorption axis 140 of polarizing plate 108
Reference numeral 8 denotes left 20 degrees with respect to the panel longitudinal direction. Under this condition, the light emitted from the backlight has a wavelength of 560
The opening 11a of the transflective electrode plate 11 arranged in the liquid crystal cell in a relatively wide wavelength range centered on green light of nm and having an ellipticity of 0.96 at the maximum in an elliptically polarized state close to circularly polarized light. Pass through. The rotation direction is counterclockwise, and the polarization state is substantially the same as the external light that enters from the polarizing plate 105 side, passes through the liquid crystal layer in the dark display state, and is reflected by the transflective electrode plate 11. Therefore, if the optical characteristics are set as in this example, high contrast characteristics can be obtained in both the reflective display and the transmissive display.

【0082】以上の図9及び図10を参照して説明した
ように、本発明の液晶装置では、偏光板105及び位相
差板106並びに偏光板107及び位相差板108を備
えるので、反射型表示と透過型表示とのいずれにおいて
も良好な色補償と高いコントラスト特性を得ることが可
能となる。尚、これらの光学特性の設定については、図
9及び図10に例示したものに限られる訳ではなく、実
験的又は理論的に若しくはシミュレーション等により、
液晶装置の仕様上要求される明るさやコントラスト比に
見合った設定とすることができる。
As described above with reference to FIGS. 9 and 10, the liquid crystal device of the present invention includes the polarizing plate 105 and the retardation plate 106, and the polarizing plate 107 and the retardation plate 108, so that the reflection type display is performed. It is possible to obtain good color compensation and high contrast characteristics in both of the transmission type display and the transmission type display. The setting of these optical characteristics is not limited to those illustrated in FIGS. 9 and 10, but may be performed experimentally, theoretically, or by simulation.
The setting can be made in accordance with the brightness and contrast ratio required in the specification of the liquid crystal device.

【0083】尚、第1及び第2実施形態において、半透
過反射電極板11の液晶層50に面する表面を凹凸に構
成して、これらの鏡面感を無くし、散乱面(白色面)に
見せるようにしてもよい。また、凹凸による散乱によっ
て視野角を広げてもよい。この凹凸形状は、半透過反射
電極板11及び第2絶縁膜13の下地に感光性のアクリ
ル樹脂等を用いて形成したり、下地の基板自身をフッ酸
によって荒らすこと等によって形成することができる。
尚、半透過反射電極板11の凹凸表面上に透明な平坦化
膜(絶縁膜)を形成して、液晶層50に面する表面(配
向膜を形成する表面)を平坦化しておくことが液晶の配
向不良を防ぐ観点から望ましい。
In the first and second embodiments, the surface of the transflective electrode plate 11 facing the liquid crystal layer 50 is made uneven so that the mirror surface is eliminated and the surface is made to appear as a scattering surface (white surface). You may do so. The viewing angle may be widened by scattering due to unevenness. This uneven shape can be formed by using a photosensitive acrylic resin or the like for the base of the transflective electrode plate 11 and the second insulating film 13 or by roughening the base substrate itself with hydrofluoric acid. .
Note that a transparent flattening film (insulating film) is formed on the uneven surface of the transflective electrode plate 11 so that the surface facing the liquid crystal layer 50 (the surface on which the alignment film is formed) is flattened. This is desirable from the viewpoint of preventing poor alignment of the polymer.

【0084】(第2実施形態)次に、本発明による液晶
装置の第2実施形態について、図11から図14を参照
して説明する。第2実施形態は、本発明をTFDアクテ
ィブマトリクス駆動方式の半透過反射型の液晶装置に適
用したものである。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the second embodiment, the present invention is applied to a TFD active matrix driving type transflective liquid crystal device.

【0085】先ず、本実施の形態に用いられるTFD駆
動素子付近における構成について図11及び図12を参
照して説明する。ここに、図11は、TFD駆動素子を
画素電極等と共に模式的に示す平面図であり、図12
は、図11のB−B’断面図である。尚、図12におい
ては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさ
とするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてあ
る。
First, the configuration near the TFD drive element used in the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 11 is a plan view schematically showing a TFD driving element together with a pixel electrode and the like.
FIG. 12 is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 11. In FIG. 12, the scale of each layer and each member is made different so that each layer and each member have a size recognizable in the drawing.

【0086】図11及び図12において、TFD駆動素
子40は、第1基板の他の一例であるTFDアレイ基板
10’上に形成された第2絶縁膜13を下地として、そ
の上に形成されており、第2絶縁膜13の側から順に第
1金属膜42、絶縁層44及び第2金属膜46から構成
され、TFD構造或いはMIM構造を持つ。そして、T
FD駆動素子40の第1金属膜42は、TFDアレイ基
板10’上に形成された走査線61に接続されており、
第2金属膜46は、画素電極62に接続されている。
尚、走査線61に代えてデータ線(後述する)をTFD
アレイ基板10’上に形成し、画素電極62に接続し
て、走査線61を対向基板側に設けてもよい。
Referring to FIGS. 11 and 12, the TFD drive element 40 is formed on a second insulating film 13 formed on a TFD array substrate 10 ', which is another example of the first substrate, as a base. The first metal film 42, the insulating layer 44, and the second metal film 46 are arranged in this order from the side of the second insulating film 13, and have a TFD structure or an MIM structure. And T
The first metal film 42 of the FD drive element 40 is connected to a scanning line 61 formed on the TFD array substrate 10 ′,
The second metal film 46 is connected to the pixel electrode 62.
Note that a data line (to be described later) is replaced with a TFD instead of the scanning line 61.
The scanning lines 61 may be formed on the array substrate 10 ', connected to the pixel electrodes 62, and provided on the counter substrate side.

【0087】TFDアレイ基板10’は、例えばガラ
ス、プラスチックなどの絶縁性及び透明性を有する基板
等からなる。このように本実施形態では、第2絶縁膜1
3は、TFD素子40の下地膜としても機能するが、第
2絶縁膜13とは異なる下地膜専用の絶縁膜を酸化タン
タル等から形成しても良いし、或いは、TFDアレイ基
板10’の表面状態に問題が無ければ、このような下地
膜は省略することも可能である。第1金属膜42は導電
性の金属薄膜からなり、例えばタンタル単体又はタンタ
ル合金からなる。絶縁膜44は、例えば化成液中で第1
金属膜42の表面に陽極酸化により形成された酸化膜か
らなる。第2金属膜46は導電性の金属薄膜からなり、
例えばクロム単体又はクロム合金からなる。
The TFD array substrate 10 ′ is made of, for example, an insulating and transparent substrate such as glass or plastic. As described above, in the present embodiment, the second insulating film 1
3 also functions as a base film of the TFD element 40, but an insulating film dedicated to the base film different from the second insulating film 13 may be formed of tantalum oxide or the like, or the surface of the TFD array substrate 10 '. If there is no problem in the state, such a base film can be omitted. The first metal film 42 is made of a conductive metal thin film, for example, tantalum alone or a tantalum alloy. The insulating film 44 is made of, for example,
It consists of an oxide film formed on the surface of the metal film 42 by anodic oxidation. The second metal film 46 is made of a conductive metal thin film,
For example, it is composed of chromium alone or a chromium alloy.

【0088】本実施形態では特に、画素電極62は、第
1実施形態における開口部11a(図4参照)が設けら
れた半透過反射電極板11と同様に、第2絶縁膜13上
に形成されており、例えばAl等の反射性且つ導電性の
金属膜からなりスリット又は微細孔などの開口部62a
が設けられている。尚、第2実施形態において、画素電
極62を各画素領域よりも一回り小さい島状に形成し
て、画素電極62間の間隙が各画素領域における光透過
領域として機能するように構成してもよい。
In this embodiment, in particular, the pixel electrode 62 is formed on the second insulating film 13 similarly to the transflective electrode plate 11 provided with the opening 11a (see FIG. 4) in the first embodiment. And an opening 62a such as a slit or a fine hole made of a reflective and conductive metal film such as Al.
Is provided. In the second embodiment, the pixel electrodes 62 may be formed in an island shape slightly smaller than each pixel region, and the gap between the pixel electrodes 62 may function as a light transmission region in each pixel region. Good.

【0089】更に、画素電極62、TFD駆動素子4
0、走査線61等の液晶に面する側(図中上側表面)に
は、第1実施形態の場合と同様に第1絶縁膜12が設け
られており、その上に配向膜15が設けられている。
Further, the pixel electrode 62, the TFD driving element 4
The first insulating film 12 is provided on the side facing the liquid crystal (the upper surface in the figure), such as the scanning line 61 and the scanning line 61, and the alignment film 15 is provided thereon as in the case of the first embodiment. ing.

【0090】以上、2端子型非線形素子としてTFD駆
動素子について説明したが、ZnO(酸化亜鉛)バリス
タ、MSI(Metal Semi-Insulator)駆動素子、RD
(Ring Diode)などの双方向ダイオード特性を有する
2端子型非線形素子を本実施形態の液晶装置に適用可能
である。
The TFD drive element has been described as a two-terminal type nonlinear element. However, a ZnO (zinc oxide) varistor, an MSI (Metal Semi-Insulator) drive element, an RD
A two-terminal nonlinear element having bidirectional diode characteristics such as (Ring Diode) can be applied to the liquid crystal device of the present embodiment.

【0091】次に、以上のように構成されたTFD駆動
素子を備えて構成される第2実施形態であるTFDアク
ティブマトリクス駆動方式の液晶装置の構成及び動作に
ついて図13及び図14を参照して説明する。ここに、
図13は、液晶素子を駆動回路と共に示した等価回路図
であり、図14は、液晶素子を模式的に示す部分破断斜
視図である。
Next, the configuration and operation of the liquid crystal device of the TFD active matrix driving system according to the second embodiment, which is provided with the TFD driving elements configured as described above, will be described with reference to FIGS. explain. here,
FIG. 13 is an equivalent circuit diagram showing a liquid crystal element together with a driving circuit, and FIG. 14 is a partially cutaway perspective view schematically showing the liquid crystal element.

【0092】図13において、TFDアクティブマトリ
クス駆動方式の液晶装置は、TFDアレイ基板10’上
に配列された複数の走査線61が、Yドライバ回路10
0に接続されており、その対向基板上に配列された複数
のデータ線71が、Xドライバ回路110に接続されて
いる。尚、Yドライバ回路100及びXドライバ回路1
10は、TFDアレイ基板10’又はその対向基板上に
形成されていてもよいし、液晶装置とは独立した外部I
Cから構成され、所定の配線を経て走査線61やデータ
線71に接続されてもよい。
Referring to FIG. 13, in the liquid crystal device of the TFD active matrix drive system, a plurality of scanning lines 61 arranged on a TFD array substrate
0, and a plurality of data lines 71 arranged on the opposite substrate are connected to the X driver circuit 110. The Y driver circuit 100 and the X driver circuit 1
10 may be formed on the TFD array substrate 10 'or its counter substrate, or may be an external I / O independent of the liquid crystal device.
C, and may be connected to the scanning lines 61 and the data lines 71 via predetermined wiring.

【0093】マトリクス状の各画素領域において、走査
線61は、TFD駆動素子40の一方の端子に接続され
ており(図11及び図12参照)、データ線71は、液
晶層50及び画素電極62を介してTFD駆動素子40
の他方の端子に接続されている。従って、各画素領域に
対応する走査線61に走査信号が供給され、データ線7
1にデータ信号が供給されると、当該画素領域における
TFD駆動素子40がオン状態となり、TFD駆動素子
40を介して、画素電極62及びデータ線71間にある
液晶層50に駆動電圧が印加される。
In each pixel region of the matrix, the scanning line 61 is connected to one terminal of the TFD drive element 40 (see FIGS. 11 and 12), and the data line 71 is connected to the liquid crystal layer 50 and the pixel electrode 62. Through the TFD drive element 40
Is connected to the other terminal. Therefore, a scanning signal is supplied to the scanning line 61 corresponding to each pixel region, and the data line 7 is supplied.
When the data signal is supplied to the pixel region 1, the TFD driving element 40 in the pixel region is turned on, and a driving voltage is applied to the liquid crystal layer 50 between the pixel electrode 62 and the data line 71 via the TFD driving element 40. You.

【0094】図14において、液晶装置は、TFDアレ
イ基板10’と、これに対向配置される透明な第2基板
(対向基板)20とを備えている。
In FIG. 14, the liquid crystal device includes a TFD array substrate 10 ′ and a transparent second substrate (opposite substrate) 20 disposed opposite to the TFD array substrate 10 ′.

【0095】第2基板20には、走査線61と交差する
方向に伸びており短冊状に配列された複数のデータ線7
1が設けられている。データ線71の下側には、配向膜
25が設けられている。データ線71は、例えばITO
膜などの透明導電性薄膜からなる。尚、図14では、光
源、偏光板等の光学要素については省略している。
The second substrate 20 has a plurality of data lines 7 extending in a direction intersecting the scanning lines 61 and arranged in a strip shape.
1 is provided. The alignment film 25 is provided below the data line 71. The data line 71 is, for example, ITO
It is made of a transparent conductive thin film such as a film. In FIG. 14, optical elements such as a light source and a polarizing plate are omitted.

【0096】以上説明したように、第2実施形態のTF
Dアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置によれば、
画素電極62とデータ線71との間で、各画素電極62
における液晶部分に電界を順次印加することにより、各
液晶部分の配向状態を制御可能となり、各液晶部分を介
して表示光として出射される外光強度や光源光強度を制
御できる。ここで第1実施形態の場合と同様に、各画素
電極62の反射領域においては、液晶層50側から順に
配向膜15、第1絶縁膜12及び画素電極62が形成さ
れており、これらの各層における膜厚及び屈折率は、液
晶層50から入射される外光に対する反射率を最適化す
るように設定されているので、反射型表示時には高い反
射率を得ることが出来る。しかも、透過領域において
は、TFDアレイ基板10’側から順に第2絶縁膜1
3、第1絶縁膜12及び配向膜15が形成されており、
反射率とは無関係の第2絶縁膜13を利用して、光源光
に対する透過率を最適化するので、透過型表示時にも高
い透過率を得ることが出来る。特に、TFD40を介し
て各画素電極62に電力を供給するため、画素電極62
間におけるクロストークを低減でき、より高品位の画像
表示が可能となる。
As described above, the TF of the second embodiment
According to the D active matrix driving type liquid crystal device,
Each pixel electrode 62 is provided between the pixel electrode 62 and the data line 71.
By sequentially applying an electric field to the liquid crystal portions, the alignment state of each liquid crystal portion can be controlled, and the intensity of external light or light source emitted as display light via each liquid crystal portion can be controlled. Here, similarly to the case of the first embodiment, in the reflection region of each pixel electrode 62, the alignment film 15, the first insulating film 12, and the pixel electrode 62 are formed in this order from the liquid crystal layer 50 side. Is set so as to optimize the reflectance with respect to external light incident from the liquid crystal layer 50, so that a high reflectance can be obtained at the time of reflective display. Moreover, in the transmission region, the second insulating film 1 is sequentially arranged from the TFD array substrate 10 'side.
3, the first insulating film 12 and the alignment film 15 are formed,
Since the transmittance for the light from the light source is optimized by using the second insulating film 13 irrelevant to the reflectance, a high transmittance can be obtained even in the transmission type display. In particular, since power is supplied to each pixel electrode 62 through the TFD 40, the pixel electrode 62
Crosstalk between them can be reduced, and higher-quality image display can be performed.

【0097】(第3実施形態)次に、本発明による液晶
装置の第3実施形態について、図15から図17を参照
して説明する。第3実施形態は、本発明をTFTアクテ
ィブマトリクス駆動方式の半透過反射型の液晶装置に適
用したものである。図15は、液晶装置の画像表示領域
を構成するマトリクス状に形成された複数の画素におけ
る各種素子、配線等の等価回路であり、図16は、デー
タ線、走査線、画素電極等が形成されたTFTアレイ基
板の相隣接する複数の画素群の平面図であり、図17
は、図16のC−C’断面図である。尚、図17におい
ては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさ
とするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてあ
る。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the third embodiment, the present invention is applied to a transflective liquid crystal device of a TFT active matrix driving system. FIG. 15 is an equivalent circuit of various elements, wiring, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix forming an image display area of the liquid crystal device. FIG. 16 is a diagram in which data lines, scanning lines, pixel electrodes, and the like are formed. FIG. 17 is a plan view of a plurality of pixel groups adjacent to each other on the TFT array substrate shown in FIG.
FIG. 17 is a sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 16. In FIG. 17, in order to make each layer and each member have a size recognizable in the drawing, the scale is different for each layer and each member.

【0098】図15において、第3実施形態のTFTア
クティブマトリクス方式の液晶装置では、画素電極62
を制御するためのTFT130がマトリクス状に複数形
成されており、画像信号が供給されるデータ線135が
TFT130のソースに電気的に接続されている。デー
タ線135に書き込む画像信号S1、S2、…、Sn
は、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接す
る複数のデータ線135同士に対して、グループ毎に供
給するようにしても良い。また、TFT130のゲート
に走査線131が電気的に接続されており、所定のタイ
ミングで、走査線131にパルス的に走査信号G1、G
2、…、Gmを、この順に線順次で印加するように構成
されている。画素電極62は、TFT130のドレイン
に電気的に接続されており、スイッチング素子であるT
FT130を一定期間だけそのスイッチを開けることに
より、データ線135から供給される画像信号S1、S
2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。画素電極
62を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号
S1、S2、…、Snは、TFT130のスイッチが閉
じられた後、対向電極との間で一定期間保持される。こ
こで、保持された画像信号がリークするのを防ぐため
に、画素電極62と対向電極との間に形成される液晶容
量と並列に蓄積容量170を付加する。
In FIG. 15, in the liquid crystal device of the TFT active matrix system of the third embodiment, the pixel electrode 62
Are formed in a matrix, and a data line 135 to which an image signal is supplied is electrically connected to a source of the TFT 130. Image signals S1, S2,..., Sn to be written to the data lines 135
May be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied to a plurality of adjacent data lines 135 for each group. Further, the scanning line 131 is electrically connected to the gate of the TFT 130, and the scanning signals G1 and G are pulsed to the scanning line 131 at a predetermined timing.
, Gm are applied line-sequentially in this order. The pixel electrode 62 is electrically connected to the drain of the TFT 130 and has a switching element T
By opening the switch of the FT 130 for a certain period, the image signals S1 and S1 supplied from the data line 135 are output.
2, ..., Sn are written at a predetermined timing. The image signals S1, S2,..., Sn of a predetermined level written in the liquid crystal via the pixel electrodes 62 are held for a certain period of time between the counter electrodes after the switch of the TFT 130 is closed. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 170 is added in parallel with a liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 62 and the counter electrode.

【0099】図16において、TFTアレイ基板上に
は、マトリクス状の画素電極62(その輪郭62aが図
中点線で示されている)が設けられており、画素電極6
2の縦横の境界に各々沿ってデータ線135、走査線1
31及び容量線132が設けられている。データ線13
5は、コンタクトホール5を介してポリシリコン膜等か
らなる半導体層1aのうちソース領域に電気的接続され
ている。画素電極62は、コンタクトホール8を介して
半導体層1aのうちドレイン領域に電気的接続されてい
る。容量線132は、絶縁膜を介して半導体層1aのう
ちのドレイン領域から延設された第1蓄積容量電極に対
向配置しており、蓄積容量170を構成する。また、半
導体層1aのうち図中右上がりの斜線領域で示したチャ
ネル領域1a’に対向するように走査線131が配置さ
れており、走査線131はゲート電極として機能する。
このように、走査線131とデータ線135との交差す
る個所には夫々、チャネル領域1a’に走査線131が
ゲート電極として対向配置されたTFT130が設けら
れている。
In FIG. 16, a matrix of pixel electrodes 62 (the outline 62a is indicated by a dotted line in the figure) is provided on the TFT array substrate.
Data line 135, scan line 1 along the vertical and horizontal boundaries of
31 and a capacitance line 132 are provided. Data line 13
Reference numeral 5 is electrically connected to the source region of the semiconductor layer 1a made of a polysilicon film or the like via the contact hole 5. The pixel electrode 62 is electrically connected to the drain region of the semiconductor layer 1a via the contact hole 8. The capacitance line 132 is opposed to the first storage capacitance electrode extending from the drain region of the semiconductor layer 1a via the insulating film, and forms the storage capacitance 170. In addition, the scanning line 131 is arranged so as to face the channel region 1a 'indicated by the hatched region in the semiconductor layer 1a which rises to the right in the figure, and the scanning line 131 functions as a gate electrode.
As described above, at the intersections of the scanning lines 131 and the data lines 135, the TFTs 130 in which the scanning lines 131 are opposed to each other as gate electrodes in the channel region 1a 'are provided.

【0100】図16に示すように、液晶装置は、第1基
板の他の一例を構成するTFTアレイ基板10”と、こ
れに対向配置される透明な第2基板(対向基板)20と
を備えている。
As shown in FIG. 16, the liquid crystal device includes a TFT array substrate 10 ″, which constitutes another example of the first substrate, and a transparent second substrate (opposite substrate) 20 disposed opposite to the TFT array substrate 10 ″. ing.

【0101】本実施形態では特に、TFTアレイ基板1
0”に設けられる画素電極62は、第1実施形態におけ
る開口部11a(図4参照)が設けられた半透過反射電
極板11と同様に、第2絶縁膜13上に形成されてお
り、例えばAl等の反射性且つ導電性の金属膜からなり
スリット又は微細孔などの開口部62aが設けられてい
る。尚、第3実施形態において、画素電極62を各画素
領域よりも一回り小さい島状に形成して、画素電極62
間の間隙が各画素領域における光透過領域として機能す
るように構成してもよい。
In this embodiment, in particular, the TFT array substrate 1
The pixel electrode 62 provided at 0 ″ is formed on the second insulating film 13 like the transflective electrode plate 11 provided with the opening 11a (see FIG. 4) in the first embodiment. An opening 62a such as a slit or a fine hole is formed of a reflective and conductive metal film such as Al. In the third embodiment, the pixel electrode 62 is formed in an island shape slightly smaller than each pixel region. And the pixel electrode 62
The gap between them may function as a light transmitting area in each pixel area.

【0102】画素電極62、TFT130等の液晶に面
する側(図中上側表面)には、第1実施形態の場合と同
様に第1絶縁膜12及び配向膜15が設けられている。
On the side facing the liquid crystal, such as the pixel electrode 62 and the TFT 130 (upper surface in the figure), the first insulating film 12 and the alignment film 15 are provided as in the case of the first embodiment.

【0103】他方、第2基板20には、そのほぼ全面に
透明電極の他の一例としての対向電極121が設けられ
ており、各画素の非開口領域に、ブラックマスク或いは
ブラックマトリクスと称される第2遮光膜122が設け
られている。対向電極121の下側には、配向膜25が
設けられている。
On the other hand, a counter electrode 121 as another example of a transparent electrode is provided on almost the entire surface of the second substrate 20, and a non-opening region of each pixel is called a black mask or a black matrix. The second light shielding film 122 is provided. An alignment film 25 is provided below the counter electrode 121.

【0104】TFTアレイ基板10”には、各画素電極
62に隣接する位置に、各画素電極62をスイッチング
制御する画素スイッチング用TFT130が設けられて
いる。
On the TFT array substrate 10 ″, a pixel switching TFT 130 for controlling switching of each pixel electrode 62 is provided at a position adjacent to each pixel electrode 62.

【0105】このように画素電極62と対向電極121
とが対面するように配置されたTFTアレイ基板10”
と第2基板20との間には、第1実施形態の場合と同様
にシール材により囲まれた空間に液晶が封入され、液晶
層50が形成される。
As described above, the pixel electrode 62 and the counter electrode 121
And the TFT array substrate 10 "
Liquid crystal is sealed in a space surrounded by the sealing material between the first substrate and the second substrate 20 as in the first embodiment, and a liquid crystal layer 50 is formed.

【0106】更に、複数の画素スイッチング用TFT1
30の下には、第1層間絶縁膜112が設けられてい
る。第1層間絶縁膜112は、TFTアレイ基板10の
全面に形成されることにより、TFT30のための下地
膜として機能する。
Furthermore, a plurality of pixel switching TFTs 1
Below the 30, a first interlayer insulating film 112 is provided. The first interlayer insulating film 112 functions as a base film for the TFT 30 by being formed on the entire surface of the TFT array substrate 10.

【0107】図17において、画素スイッチング用TF
T130は、コンタクトホール5を介してデータ線13
5に接続されたソース領域、走査線131にゲート絶縁
膜を介して対向配置されたチャネル領域1a’及びコン
タクトホール8を介して画素電極62に接続されたドレ
イン領域を含んで構成されている。走査線131は、A
l等の低抵抗な金属膜や金属シリサイド等の合金膜など
の遮光性且つ導電性の薄膜から構成されている。また、
その上には、コンタクトホール5及び8が開孔された第
2層間絶縁膜114が形成されており、更に、その上に
は、コンタクトホール8が開孔された第3層間絶縁膜1
17が形成されている。
In FIG. 17, a TF for pixel switching is used.
T130 is connected to the data line 13 via the contact hole 5.
5, a channel region 1 a ′ opposed to the scanning line 131 via a gate insulating film, and a drain region connected to the pixel electrode 62 via a contact hole 8. The scanning line 131 is A
It is composed of a light-shielding and conductive thin film such as a low-resistance metal film such as 1 or an alloy film such as metal silicide. Also,
A second interlayer insulating film 114 having contact holes 5 and 8 formed thereon is formed thereon, and a third interlayer insulating film 1 having contact holes 8 formed therein is further formed thereon.
17 are formed.

【0108】画素スイッチング用TFT130は、LD
D構造、オフセット構造、セルフアライン構造等いずれ
の構造のTFTであってもよい。更にシングルゲート構
造の他、デュアルゲート或いはトリプルゲート以上でT
FT130を構成してもよい。
The pixel switching TFT 130 is an LD
The TFT may have any structure such as a D structure, an offset structure, and a self-aligned structure. In addition to single gate structure, T
The FT 130 may be configured.

【0109】以上説明したように、第3実施形態のTF
Tアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置によれば、
画素電極62と対向電極121との間で、各画素電極6
2における液晶部分に電界を順次印加することにより、
各液晶部分の配向状態を制御可能となり、各液晶部分を
介して表示光として出射される外光強度又は光源光強度
を制御できる。ここで第1実施形態の場合と同様に、各
画素電極62の反射領域においては、液晶層50側から
順に配向膜15、第1絶縁膜12及び画素電極62が形
成されており、これらの各層における膜厚及び屈折率
は、液晶層50から入射される外光に対する反射率を最
適化するように設定されているので、反射型表示時には
高い反射率を得ることが出来る。しかも、透過領域にお
いては、TFTアレイ基板10”側から順に第2絶縁膜
13、第1絶縁膜12及び配向膜15が形成されてお
り、反射率とは無関係の第2絶縁膜13を利用して、光
源光に対する透過率を最適化するので、透過型表示時に
も高い透過率を得ることが出来る。特に、TFT130
を介して各画素電極62に電力を供給するため、画素電
極62間におけるクロストークを低減でき、より高品位
の画像表示が可能となる。
As described above, the TF of the third embodiment
According to the liquid crystal device of the T active matrix drive system,
Each pixel electrode 6 is provided between the pixel electrode 62 and the counter electrode 121.
By sequentially applying an electric field to the liquid crystal portion in 2,
The alignment state of each liquid crystal portion can be controlled, and the intensity of external light or light source light emitted as display light via each liquid crystal portion can be controlled. Here, similarly to the case of the first embodiment, in the reflection region of each pixel electrode 62, the alignment film 15, the first insulating film 12, and the pixel electrode 62 are formed in this order from the liquid crystal layer 50 side. Is set so as to optimize the reflectance with respect to external light incident from the liquid crystal layer 50, so that a high reflectance can be obtained during the reflective display. Moreover, in the transmission region, the second insulating film 13, the first insulating film 12, and the alignment film 15 are formed in this order from the TFT array substrate 10 ″ side, and the second insulating film 13 irrespective of the reflectance is used. Therefore, since the transmittance with respect to the light from the light source is optimized, a high transmittance can be obtained even in the transmission type display.
, Power is supplied to each pixel electrode 62, so that crosstalk between the pixel electrodes 62 can be reduced, and higher-quality image display can be performed.

【0110】(第4実施形態)次に、本発明による液晶
装置の第4実施形態について、図18を参照して説明す
る。第4実施形態は、上述した本発明の第1から第3実
施形態の半透過反射型の液晶装置を適用した各種の電子
機器からなる。
(Fourth Embodiment) Next, a liquid crystal device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The fourth embodiment includes various electronic devices to which the transflective liquid crystal devices according to the first to third embodiments of the present invention described above are applied.

【0111】先ず、第1から第3実施形態における液晶
装置を、例えば図18(a)に示すような携帯電話10
00の表示部1001に適用すれば、反射型表示時にも
透過型表示時にも明るく高コントラストであり、しかも
視差が殆ど無く高精細の白黒又はカラー表示を行う省エ
ネルギ型の携帯電話を実現できる。
First, the liquid crystal device according to the first to third embodiments is connected to, for example, a mobile phone 10 as shown in FIG.
When applied to the display unit 1001 of 00, an energy-saving mobile phone that is bright and has high contrast in both reflective display and transmissive display, and that performs high-definition monochrome or color display with almost no parallax can be realized.

【0112】また、図18(b)に示すような腕時計1
100の表示部1101に適用すれば、反射型表示時に
も透過型表示時にも明るく高コントラストであり、しか
も視差が殆ど無く高精細の白黒又はカラー表示を行う省
エネルギ型の腕時計を実現できる。
A wristwatch 1 as shown in FIG.
When applied to the display unit 1101 of 100, an energy-saving wristwatch that is bright and has high contrast in both reflective display and transmissive display, and that performs high-definition monochrome or color display with almost no parallax can be realized.

【0113】更に、図18(c)に示すようなパーソナ
ルコンピュータ(或いは、情報端末)1200におい
て、キーボード1202付きの本体1204に開閉自在
に取り付けられるカバー内に設けられる表示画面120
6に適用すれば、反射型表示時にも透過型表示時にも明
るく高コントラストであり、しかも視差が殆ど無く高精
細の白黒又はカラー表示を行う省エネルギ型の省エネル
ギ型のパーソナルコンピュータを実現できる。
Further, in a personal computer (or information terminal) 1200 as shown in FIG. 18C, a display screen 120 provided in a cover which can be opened and closed on a main body 1204 with a keyboard 1202 is provided.
Applying to No. 6, an energy-saving personal computer that is bright and has high contrast in both reflective display and transmissive display and that performs high-definition monochrome or color display with almost no parallax can be realized.

【0114】以上図18に示した電子機器の他にも、液
晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデ
オテープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手
帳、電卓、ワードプロセッサ、エンジニアリング・ワー
クステーション(EWS)、テレビ電話、POS端末、
タッチパネルを備えた装置等などの電子機器にも、第1
から第3実施形態の半透過反射型の液晶装置を適用可能
である。
In addition to the electronic apparatus shown in FIG. 18, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation system, an electronic organizer, a calculator, a word processor, an engineering workstation (EWS), Videophone, POS terminal,
Electronic devices such as devices with touch panels, etc.
Accordingly, the transflective liquid crystal device of the third embodiment can be applied.

【0115】尚、本発明は、以上説明した実施形態に限
るものではなく、本発明の要旨を変えない範囲で実施形
態を適宜変更して実施することができる。
The present invention is not limited to the embodiments described above, but can be implemented by appropriately changing the embodiments without departing from the spirit of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態であるパッシブマトリク
ス駆動方式の液晶装置を、対向基板上に形成されるカラ
ーフィルタを便宜上取り除いて対向基板側から見た様子
を示す図式的平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing a passive matrix driving type liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention viewed from a counter substrate side with a color filter formed on the counter substrate removed for convenience. .

【図2】図1のA−A’断面をカラーフィルタを含めて
示す液晶装置の図式的断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal device showing a cross section taken along line AA ′ of FIG. 1 including a color filter.

【図3】図2に示された半透過反射電極板付近における
外光を反射し且つ光源光を透過する構成を拡大して示す
図式的拡大断面図である。
3 is a schematic enlarged cross-sectional view showing, in an enlarged manner, a configuration in the vicinity of the transflective electrode plate shown in FIG. 2 that reflects external light and transmits light from a light source.

【図4】第1実施形態の半透過反射電極板に設けられる
開口部に係る各種具体例を示す拡大平面図である。
FIG. 4 is an enlarged plan view showing various specific examples of an opening provided in the transflective electrode plate of the first embodiment.

【図5】第1実施形態における半透過反射電極板を構成
するアルミニウムについての光学定数n、kを求めるた
めのチャートの一例を示す特性図である。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing an example of a chart for obtaining optical constants n and k of aluminum constituting the transflective electrode plate in the first embodiment.

【図6】第1実施形態においてシュミレーションで得ら
れる、透過領域における反射率と第2絶縁膜の膜厚及び
屈折率との関係を示す特性図(その1)である。
FIG. 6 is a characteristic diagram (part 1) showing the relationship between the reflectance in the transmission region and the thickness and the refractive index of the second insulating film, obtained by simulation in the first embodiment.

【図7】第1実施形態においてシュミレーションで得ら
れる、透過領域における反射率と第2絶縁膜の膜厚及び
屈折率との関係を示す特性図(その2)である。
FIG. 7 is a characteristic diagram (part 2) showing the relationship between the reflectance in the transmission region and the thickness and the refractive index of the second insulating film, obtained by simulation in the first embodiment.

【図8】第1実施形態においてシュミレーションで得ら
れる、透過領域における反射率と第2絶縁膜の膜厚及び
屈折率との関係を示す特性図(その3)である。
FIG. 8 is a characteristic diagram (part 3) showing the relationship between the reflectance in the transmission region and the thickness and the refractive index of the second insulating film, obtained by simulation in the first embodiment.

【図9】第1実施形態において好適な光学特性の設定パ
ターンの一例を示す概念図である。
FIG. 9 is a conceptual diagram showing an example of a preferable optical characteristic setting pattern in the first embodiment.

【図10】第1実施形態において好適な光学特性の設定
パターンの他の例を示す概念図である。
FIG. 10 is a conceptual diagram showing another example of a setting pattern of a suitable optical characteristic in the first embodiment.

【図11】本発明の第2実施形態であるTFDアクティ
ブマトリクス駆動方式の液晶装置に用いられるTFD駆
動素子を画素電極等と共に模式的に示す平面図である。
FIG. 11 is a plan view schematically showing a TFD drive element used in a TFD active matrix drive type liquid crystal device according to a second embodiment of the present invention, together with pixel electrodes and the like.

【図12】図11のB−B’断面図である。FIG. 12 is a sectional view taken along line B-B 'of FIG.

【図13】第2実施形態の液晶装置の画素部の等価回路
を周辺駆動回路と共に示す等価回路図である。
FIG. 13 is an equivalent circuit diagram showing an equivalent circuit of a pixel portion of a liquid crystal device according to a second embodiment together with a peripheral driving circuit.

【図14】第2実施形態の液晶装置を模式的に示す部分
破断斜視図である。
FIG. 14 is a partially broken perspective view schematically showing a liquid crystal device according to a second embodiment.

【図15】本発明の第3実施形態であるTFTアクティ
ブマトリクス駆動方式の液晶装置の画素部の等価回路図
である。
FIG. 15 is an equivalent circuit diagram of a pixel portion of a liquid crystal device of a TFT active matrix drive system according to a third embodiment of the present invention.

【図16】第3実施形態の液晶装置の画素部の平面図で
ある。
FIG. 16 is a plan view of a pixel portion of a liquid crystal device according to a third embodiment.

【図17】図16のC−C’断面図である。FIG. 17 is a sectional view taken along line C-C ′ of FIG. 16;

【図18】本発明の第4実施形態である各種電子機器の
外観図である。
FIG. 18 is an external view of various electronic devices according to a fourth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…第1基板 11…半透過反射電極板 11a…開口部 12…第1絶縁膜 13…第2絶縁膜 15…配向膜 20…第2基板 25…配向膜 31…シール材 32…封止材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... 1st substrate 11 ... Transflective electrode plate 11a ... Opening 12 ... 1st insulating film 13 ... 2nd insulating film 15 ... Alignment film 20 ... 2nd substrate 25 ... Alignment film 31 ... Sealing material 32 ... Sealing material

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Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明の第1基板と、 該第1基板に対向配置された透明の第2基板と、 前記第1及び第2基板間に挟持された液晶と、 前記第1基板の前記液晶と反対側に設けられた光源と、 前記第1基板の前記第2基板に対向する側に配置された
透明の第2絶縁膜と、 該第2絶縁膜上に配置されていると共に前記光源からの
光を透過する開口部が設けられている反射電極層と、 該反射電極層上に配置された透明の第1絶縁膜と、 該第1絶縁膜上に配置された配向膜とを備えたことを特
徴とする半透過反射型の液晶装置。
A transparent first substrate; a transparent second substrate opposed to the first substrate; a liquid crystal sandwiched between the first and second substrates; and a liquid crystal of the first substrate. A light source provided on a side opposite to the first substrate, a transparent second insulating film disposed on a side of the first substrate facing the second substrate, and a light source disposed on the second insulating film and from the light source. A reflective electrode layer provided with an opening through which the light is transmitted, a transparent first insulating film disposed on the reflective electrode layer, and an alignment film disposed on the first insulating film. A transflective liquid crystal device, characterized in that:
【請求項2】 前記開口部は、前記反射電極層に開けら
れた複数の貫通穴からなることを特徴とする請求項1に
記載の半透過反射型の液晶装置。
2. The transflective liquid crystal device according to claim 1, wherein the opening comprises a plurality of through holes formed in the reflective electrode layer.
【請求項3】 前記反射電極層は、前記第2基板に垂直
な方向から平面的に見て相互に分断された複数の反射板
からなり、 前記開口部は、前記複数の反射板の間隙からなることを
特徴とする請求項1に記載の半透過反射型の液晶装置。
3. The reflective electrode layer includes a plurality of reflectors separated from each other when viewed in a plan view from a direction perpendicular to the second substrate, and the opening is formed from a gap between the plurality of reflectors. The transflective liquid crystal device according to claim 1, wherein:
【請求項4】 前記光源と前記第1基板との間に位相差
板を更に備えたことを特徴とする請求項1から3のいず
れか一項に記載の半透過反射型の液晶装置。
4. The transflective liquid crystal device according to claim 1, further comprising a retardation plate between the light source and the first substrate.
【請求項5】 前記液晶側からの波長550nm付近の
光に対する前記反射電極層、前記第1絶縁膜及び前記配
向膜からなる積層体の反射率が最も高くなるように前記
反射電極層、前記第1絶縁膜及び前記配向膜の各膜厚及
び各屈折率が設定されており、 前記第1基板側からの波長550nm付近の光に対する
前記第2絶縁膜、前記第1絶縁膜及び前記配向膜からな
る積層体の透過率が最も高くなるように前記第2絶縁
膜、前記第1絶縁膜及び前記配向膜の各膜厚及び各屈折
率が設定されていることを特徴とする請求項1から4の
いずれか一項に記載の半透過反射型の液晶装置。
5. The reflective electrode layer, the reflective electrode layer, and the second conductive layer, wherein the reflective electrode layer, the first insulating film, and the alignment film have the highest reflectance with respect to light near the wavelength of 550 nm from the liquid crystal side. 1 The thickness and the refractive index of each of the insulating film and the alignment film are set, and the second insulating film, the first insulating film, and the alignment film for light having a wavelength of about 550 nm from the first substrate side. The thickness and refractive index of each of the second insulating film, the first insulating film, and the alignment film are set so that the transmittance of the stacked body becomes highest. 3. The transflective liquid crystal device according to claim 1.
【請求項6】 前記第1絶縁膜の屈折率は、1.4〜
1.6の範囲内に有り、 前記第2絶縁膜の屈折率は、前記第1絶縁膜の屈折率と
は異なり且つ1.4〜1.6の範囲内に有ることを特徴
とする請求項5に記載の半透過反射型の液晶装置。
6. The refractive index of the first insulating film is 1.4 to 1.4.
The refractive index of the second insulating film is different from the refractive index of the first insulating film and is in a range of 1.4 to 1.6. 6. The transflective liquid crystal device according to 5.
【請求項7】 前記第1及び第2絶縁膜は夫々、酸化シ
リコンを主成分とすることを特徴とする請求項1から6
のいずれか一項に記載の半透過反射型の液晶装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein each of the first and second insulating films contains silicon oxide as a main component.
3. The transflective liquid crystal device according to claim 1.
【請求項8】 請求項1から7のいずれか一項に記載の
半透過反射型の液晶装置を備えたことを特徴とする電子
機器。
8. An electronic apparatus comprising the transflective liquid crystal device according to claim 1. Description:
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