JP2001083309A - Reflection mirror - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、商業施設、文化
施設、住宅など、美観を求める場所に設置されるダウン
ライトなどに適用される反射鏡に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflector applied to a downlight installed in a place where beauty is required, such as a commercial facility, a cultural facility, and a house.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に反射型照明器具は、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、ナトリウム灯などの放電灯、白熱
灯、コンパクト蛍光灯などの光源からでる可視光線を反
射鏡表面に反射させることにより、被照射物や屋内外の
空間の明るさを増すために用いられている。2. Description of the Related Art In general, a reflection-type lighting apparatus reflects an object to be illuminated by reflecting visible light emitted from a light source such as a discharge lamp such as a mercury lamp, a metal halide lamp or a sodium lamp, an incandescent lamp or a compact fluorescent lamp on the surface of a reflecting mirror. It is used to increase the brightness of indoor and outdoor spaces.
【０００３】これらの照明器具は近年コンパクト化、省
エネルギー化の傾向にあり、より高反射率で高耐久性の
反射鏡の創出はかねてからニーズが高く、いろいろな試
みがなされている。[0003] In recent years, these lighting fixtures have tended to be compact and energy saving, and there has been a great need for creating a reflecting mirror having higher reflectivity and higher durability, and various attempts have been made.
【０００４】第１の提案例の反射鏡を図４（ａ）に示
す。５０は基材、５１はアンダーコート、５２はアルミ
ニウム蒸着膜、５３、５４は低屈折率膜、５５、５６は
高屈折率膜である。このように、第１の提案例では、反
射効率を高めるためにＴｉＯ2に代表される高屈折率物
質５５、５６とＳｉＯ2 に代表される低屈折率膜５３、
５４とを交互に４層積層した光干渉層を用いていること
を特徴する。このような構成の反射鏡は光干渉膜の増反
射効果により、反射率が９５〜９８％にも達するとされ
ている。FIG. 4A shows a reflecting mirror of the first proposed example. 50 is a base material, 51 is an undercoat, 52 is an aluminum vapor-deposited film, 53 and 54 are low-refractive-index films, and 55 and 56 are high-refractive-index films. As described above, in the first proposal example, in order to increase the reflection efficiency, the high refractive index materials 55 and 56 represented by TiO 2 and the low refractive index film 53 represented by SiO 2 are used.
The light interference layer is formed by alternately laminating four layers of the light interference layer. The reflecting mirror having such a configuration is said to have a reflectance of as high as 95 to 98% due to the reflection increasing effect of the optical interference film.
【０００５】反射鏡の反射率を高めるためには、上記構
成のように低屈折率物質／高屈折率物質の光干渉膜の層
数を２層、４層、６層と偶数層重ねて増反射効果を利用
すればよいことはよく知られている。しかし、４層以上
積層した場合、反射鏡は光の入射角度により反射スペク
トルが大きくシフトするため、人が見る角度によって反
射鏡の色が虹光色を呈するという問題が生ずる。これは
すなわち、図５に示すように、反射面が立った形状の複
数台のダウンライト５７ａ〜５７ｃが同じ天井面７０に
設置されるような場合、室内の人７１にはさまざまな違
った色の反射鏡として目に映ることとなり、不快感を与
える原因となる。例えば、ダウンライト５７ａはその上
に波長を表示しているように青色を呈し、ダウンライト
５７ｂは青色よりも長波長側にシフトした色を呈し、ダ
ウンライト５７ｃは橙色を呈し、各ダウンライトの反射
鏡から離れるにしたがって反射スペクトルが長波長側に
シフトして反射面が虹光色を呈するようになる。ダウン
ライト５７ａ〜５７ｃなどの照明器具は商業施設、文化
施設、住宅などに用いられ外観は特に重視されるため、
図４（ａ）のような構成の反射鏡は用いることができな
い。In order to increase the reflectivity of the reflecting mirror, the number of light interference films of a low refractive index substance / high refractive index substance is increased by stacking two, four and six even layers as described above. It is well known that the reflection effect can be used. However, when four or more layers are stacked, the reflection spectrum of the reflecting mirror shifts greatly depending on the incident angle of light, and thus the color of the reflecting mirror exhibits a rainbow color depending on the angle seen by a person. That is, as shown in FIG. 5, when a plurality of downlights 57 a to 57 c having a reflecting surface standing are installed on the same ceiling surface 70, the person 71 in the room has various different colors. It will be seen as a reflective mirror of the eyes, causing discomfort. For example, the downlight 57a exhibits a blue color on which the wavelength is displayed, the downlight 57b exhibits a color shifted to a longer wavelength side than the blue, the downlight 57c exhibits an orange color, and As the distance from the reflecting mirror increases, the reflection spectrum shifts to a longer wavelength side, and the reflecting surface exhibits a rainbow color. Lighting equipment such as downlights 57a to 57c is used for commercial facilities, cultural facilities, houses, etc., and the appearance is particularly important.
A reflecting mirror having a configuration as shown in FIG. 4A cannot be used.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】第２の提案例の反射鏡
を図４（ｂ）に示す。６０は基材、６１はアンダーコー
ト、６２は銀蒸着膜、６３は保護膜である。反射率の高
い銀蒸着膜６２を反射鏡の表面に蒸着し、その上に保護
膜６３をコーテイングした反射鏡も提案されている。こ
のような構成の反射鏡は銀蒸着膜６２の反射効果によ
り、反射率が９５〜９８％にも達するとされている。ま
た、光学多層膜を用いないために、上述したような虹光
色が発生するといった問題も起こらない。しかし、銀は
非常に反応し易い元素であるため、基材、アンダーコー
トなどから発生するガスや大気中に含まれる硫化物イオ
ン、塩素イオンなどと銀蒸着膜６２が反応し変色を起こ
すという問題がある。特に、反射鏡の表面温度が１４０
℃以上になり、しかも強い紫外線を発するようなＨＩＤ
ランプなどの光源を用いる場合には、このような構成の
反射鏡は使用することができない。FIG. 4B shows a reflecting mirror of the second proposed example. Reference numeral 60 denotes a base material, 61 denotes an undercoat, 62 denotes a silver deposited film, and 63 denotes a protective film. There has also been proposed a reflecting mirror in which a silver-deposited film 62 having a high reflectance is deposited on the surface of the reflecting mirror, and a protective film 63 is coated thereon. It is said that the reflecting mirror having such a configuration has a reflectance of as high as 95 to 98% due to the reflecting effect of the silver deposited film 62. In addition, since the optical multilayer film is not used, the above-described problem of generation of rainbow colors does not occur. However, since silver is a very reactive element, the silver deposited film 62 reacts with a gas generated from a base material, an undercoat, or the like, or a sulfide ion or a chlorine ion contained in the air to cause discoloration. There is. In particular, when the surface temperature of the reflecting mirror is 140
HID over ℃ and emits strong ultraviolet rays
When a light source such as a lamp is used, a reflecting mirror having such a configuration cannot be used.
【０００７】したがって、この発明の目的は、見る角度
によって違った色が現れず、また変色を起こさない反射
鏡を提供することである。Accordingly, an object of the present invention is to provide a reflector which does not show different colors depending on the viewing angle and does not cause discoloration.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに研究を重ねた結果、次のような構成にすることによ
り、高効率であり、しかも見る角度によって反射面の色
の変化の少ない反射鏡を実現することができることを見
出した。As a result of repeated studies to solve the above-mentioned problems, the following structure has high efficiency, and the color of the reflecting surface has little change depending on the viewing angle. It has been found that a reflecting mirror can be realized.
【０００９】請求項１記載の反射鏡は、基材の反射面側
に形成された鏡面反射層に屈折率が１．７以下の透明誘
電体薄膜からなる低屈折率膜を形成し、この薄膜に屈折
率が２．０以上の透明誘電体薄膜からなる高屈折率膜を
形成したものである。According to the first aspect of the present invention, a low refractive index film made of a transparent dielectric thin film having a refractive index of 1.7 or less is formed on a mirror reflection layer formed on the reflection surface side of the base material. And a high refractive index film made of a transparent dielectric thin film having a refractive index of 2.0 or more.
【００１０】請求項１記載の反射鏡によれば、高効率
で、見る角度によって反射面の色の変化が少なく変色を
起こさない反射鏡を実現できる。According to the first aspect of the present invention, it is possible to realize a reflecting mirror which is highly efficient, has little change in color of the reflecting surface depending on the viewing angle, and does not cause discoloration.
【００１１】請求項２記載の反射鏡は、請求項１におい
て、鏡面反射層がアルミニウム等の光輝性金属である。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the specular reflection layer is made of a bright metal such as aluminum.
【００１２】請求項２記載の反射鏡によれば、請求項１
と同様な効果がある。According to the reflecting mirror of the second aspect, the first aspect.
Has the same effect as.
【００１３】請求項３記載の反射鏡は、請求項１におい
て、低屈折率膜がシリカ、フッカマグネシウムおよびア
ルミナから選択しているものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided the reflecting mirror according to the first aspect, wherein the low refractive index film is selected from silica, fuchsia magnesium and alumina.
【００１４】請求項３記載の反射鏡によれば、請求項１
と同様な効果がある。[0014] According to the reflecting mirror of the third aspect, the first aspect.
Has the same effect as.
【００１５】請求項４記載の反射鏡は、請求項１におい
て、高屈折率膜がチタニア、酸化タンタル、ジルコニア
および硫化亜鉛から選択しているものである。According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect, the high refractive index film is selected from titania, tantalum oxide, zirconia and zinc sulfide.
【００１６】請求項４記載の反射鏡によれば、請求項１
と同様な効果がある。[0016] According to the reflecting mirror of the fourth aspect, the first aspect.
Has the same effect as.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】この発明の第１の実施の形態を図
１により説明する。図１（ａ）において、反射鏡は、基
材１の反射面側に形成された鏡面反射層３に屈折率が
１．７以下の透明誘電体薄膜からなる低屈折率膜４を形
成し、この薄膜に屈折率が２．０以上の透明誘電体薄膜
から成る高屈折率膜５を形成している。２はアンダーコ
ートである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 1A, the reflecting mirror is formed by forming a low refractive index film 4 made of a transparent dielectric thin film having a refractive index of 1.7 or less on a mirror reflecting layer 3 formed on a reflecting surface side of a base material 1, On this thin film, a high refractive index film 5 made of a transparent dielectric thin film having a refractive index of 2.0 or more is formed. 2 is an undercoat.
【００１８】図１（ｂ）は反射鏡６を用いたダウンライ
トであり、７はランプ、８は口金である。反射鏡６の形
状は、開口径（Ｌ）に対する奥行き（Ｈ）の比（以下、
Ｈ／Ｌ、もしくはアスペクト比）が０．５以上（反射面
が立った形状）の略ラッパ形状である。例えばＬが１０
０ｍｍ、Ｈが１００ｍｍである。また反射鏡６は少なく
とも光源対向側に鏡面反射層３を形成し、さらにその上
に低屈折率膜４、高屈折率膜５を２層積層してなる。FIG. 1B shows a downlight using a reflecting mirror 6, in which 7 is a lamp and 8 is a base. The shape of the reflecting mirror 6 is determined by the ratio of the depth (H) to the opening diameter (L) (hereinafter, referred to as the ratio).
H / L or aspect ratio) is 0.5 or more (shape with a reflective surface standing), and is a substantially trumpet shape. For example, if L is 10
0 mm and H are 100 mm. The reflecting mirror 6 is formed by forming a mirror-reflective layer 3 at least on the side facing the light source, and further laminating two low-refractive-index films 4 and high-refractive-index films 5 thereon.
【００１９】基材１は、反射鏡形状に成形できるもので
あれば、いかなる材料も用いることができるが、一般的
に照明器具用の反射鏡としてはヘラ絞り加工の容易な１
０００番系のアルミニウムや、高純度アルミニウムと３
０００番系アルミニウムなどの高強度金属を積層したク
ラッド材や複雑な反射鏡形状の設計が可能なプラスチッ
クが用いられる。As the base material 1, any material can be used as long as it can be formed into a reflecting mirror shape.
000 series aluminum or high purity aluminum and 3
A clad material in which a high-strength metal such as No. 000 series aluminum is laminated or a plastic capable of designing a complicated reflecting mirror shape is used.
【００２０】アンダーコート２は、金属の基材１をヘラ
絞り加工した場合やプラスチックを基材１として用いた
場合は、成形による表面の凹凸を軽減し、基材１と金属
蒸着膜との密着性を向上させるため、シリコン変性アク
リル樹脂塗料やシリコン変性アルキッド系塗料などの有
機系塗料もしくはシロキサン結合を主体とした無機系塗
料を塗装するものである。塗装する膜厚としては、５〜
２０μｍが望ましい。この範囲よりも薄いと、望むべき
鏡面性が得られず、この範囲よりも厚いと、タレ、ワ
キ、クラックなどの原因となる。When the metal substrate 1 is spatula-drawn or a plastic is used as the substrate 1, the undercoat 2 reduces the unevenness of the surface due to molding, and makes the substrate 1 adhere to the metal deposition film. In order to improve the properties, an organic paint such as a silicone-modified acrylic resin paint or a silicon-modified alkyd paint or an inorganic paint mainly containing siloxane bonds is applied. The coating thickness is 5
20 μm is desirable. If the thickness is smaller than this range, the desired specularity cannot be obtained. If the thickness is larger than this range, sagging, cracks, cracks, and the like may be caused.
【００２１】しかし、クラッド材を用いる場合や、コア
の表面が鏡面研磨された金型を用いて、プラスチックを
射出成形する場合は、アンダーコートは必要ない場合も
ある。However, when a clad material is used, or when a plastic is injection-molded using a mold having a mirror-polished core surface, an undercoat may not be necessary.
【００２２】鏡面反射層３の形成方法は、基材１の上に
形成されたアンダーコート２の上に物理的蒸着法（ＰＶ
Ｄ）によって高純度アルミニウムに代表される光輝性金
属の薄膜を形成するものである。望ましいＰＶＤ法とし
ては、真空蒸着法やスパッタリング法などである。蒸着
膜厚は０．０５〜０．２μｍが望ましい。０．０５μｍ
以下では十分な光反射性能が得られない。また、０．２
μｍ以上ではアンダーコート２との十分な密着力が得ら
れず、成膜後にクラックなどが発生する恐れがある。The method for forming the specular reflection layer 3 is such that a physical vapor deposition method (PV) is formed on the undercoat 2 formed on the substrate 1.
By D), a thin film of a brilliant metal represented by high-purity aluminum is formed. Desirable PVD methods include a vacuum deposition method and a sputtering method. The thickness of the deposited film is preferably 0.05 to 0.2 μm. 0.05μm
Below, sufficient light reflection performance cannot be obtained. Also, 0.2
If it is more than μm, sufficient adhesion to the undercoat 2 cannot be obtained, and cracks or the like may occur after film formation.
【００２３】また、コアの表面が鏡面研磨された金型を
用いて、プラスチックを射出成形する場合はアンダーコ
ート２を形成せずに直接光輝性金属膜を形成する場合も
ある。基材１にクラッド材を用いる場合はヘラ絞り加工
後、反射面をバフ研磨し、さらに電解研磨を行い、鏡面
反射層を形成する。When a plastic is injection-molded by using a mold whose surface of the core is mirror-polished, a glittering metal film may be directly formed without forming the undercoat 2 in some cases. When a clad material is used for the base material 1, after the spatula drawing process, the reflection surface is buff-polished and further subjected to electrolytic polishing to form a mirror reflection layer.
【００２４】光干渉膜の形成方法は、上記のように形成
した鏡面反射層３の上に低屈折率薄膜４と高屈折率薄膜
５の２層を形成するものである。低屈折率薄膜４とは屈
折率（ｎ）が１．７以下の透明誘電体薄膜からなる膜厚
が０．０５〜０．１５μｍの薄膜である。低屈折率物質
として代表的なものはシリカ（ＳｉＯ2 ）、フッ化マグ
ネシウム（ＭｇＦ2 ）、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）などが
ある。屈折率が１．７よりも大きい場合は、十分な増反
射効果が得られず、望むべき反射率は達成できない。高
屈折率薄膜５とは、屈折率が２．０以上の透明誘電体薄
膜からなる膜厚が０．０５〜０．１５μｍの薄膜であ
る。高屈折率物質として代表的なものは、チタニア（Ｔ
ｉＯ2 ）、酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）、ジルコニア
（ＺｒＯ2 ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）などがある。屈折率
が２．０よりも低い場合は、やはり十分な増反射効果が
得られず、望むべき反射率は達成できない。両層の各膜
厚は、上記の範囲内で、使用する光源の波長スペクトル
や光源発光部と反射面の角度を考慮して、最適な反射率
が得られるよう選定する。In the method of forming the light interference film, two layers of a low refractive index thin film 4 and a high refractive index thin film 5 are formed on the specular reflection layer 3 formed as described above. The low refractive index thin film 4 is a transparent dielectric thin film having a refractive index (n) of 1.7 or less and a thickness of 0.05 to 0.15 μm. Typical examples of the low refractive index substance include silica (SiO 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), and alumina (Al 2 O 3 ). When the refractive index is larger than 1.7, a sufficient reflection enhancing effect cannot be obtained, and a desired reflectance cannot be achieved. The high refractive index thin film 5 is a thin film made of a transparent dielectric thin film having a refractive index of 2.0 or more and having a thickness of 0.05 to 0.15 μm. A typical high refractive index material is titania (T
iO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), zirconia (ZrO 2 ), zinc sulfide (ZnS), and the like. If the refractive index is lower than 2.0, a sufficient reflection enhancing effect cannot be obtained, and the desired reflectance cannot be achieved. The respective film thicknesses of the two layers are selected within the above range so as to obtain an optimum reflectance in consideration of the wavelength spectrum of the light source used and the angle between the light source light emitting portion and the reflecting surface.
【００２５】両層を形成するための手段としては特に限
定されないが、物理的方法としては、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法、プラズマ
アシスト蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。
また、化学的方法としては、化学的蒸着法（ＣＶＤ）、
液相成長法（ＬＰＤ）等が挙げられる。しかし、表面硬
度や耐食性などの膜の耐久性に高い性能が要求される場
合は、緻密な膜を成膜することが可能な、高密度プラズ
マを用いた成膜方法（高密度反応性イオンプレーティン
グ法、イオンアシスト蒸着法など）が望ましい。The means for forming both layers is not particularly limited, but examples of the physical method include a vacuum evaporation method, an ion plating method, an ion-assisted evaporation method, a plasma-assisted evaporation method, and a sputtering method.
The chemical methods include chemical vapor deposition (CVD),
Liquid phase growth method (LPD) and the like can be mentioned. However, when high performance is required for film durability such as surface hardness and corrosion resistance, a film formation method using high-density plasma (high-density reactive ion plating) that can form a dense film is required. For example, a sputtering method or an ion-assisted vapor deposition method.
【００２６】図２（ａ）は反射鏡の第２の実施の形態で
ある。基材は強度に優れるアルミニウム合金もしくはス
テンレスなどの金属の表面に高純度アルミニウムを積層
したクラッド基材６を用いる。形状は第１の実施の形態
と同様である。鏡面反射層３は成形したクラッド基材６
の高純度アルミニウム層表面を鏡面研磨して得られた層
である。第１の実施の形態のようなアンダーコートを用
いていない。低屈折率膜４および高屈折率膜５は第１の
実施の形態と同じものである。FIG. 2A shows a second embodiment of the reflecting mirror. As the substrate, a clad substrate 6 in which high-purity aluminum is laminated on the surface of a metal such as an aluminum alloy or stainless steel having excellent strength is used. The shape is the same as in the first embodiment. The specular reflection layer 3 is formed of a clad base material 6
Is a layer obtained by mirror-polishing the surface of the high-purity aluminum layer of Example 1. No undercoat is used as in the first embodiment. The low refractive index film 4 and the high refractive index film 5 are the same as those in the first embodiment.
【００２７】図２（ｂ）は反射鏡の第３の実施の形態で
ある。基材７の材質はプラスチックを用いる。形状は第
１の実施の形態と同様である。鏡面反射層３の形成方法
としては、コア表面を鏡面研磨した金型を用いてプラス
チックを反射鏡形状に射出成形した後、その反射鏡内面
にアルミニウムなどの光輝性金属を物理蒸着（ＰＶＤ）
して得られた層である。第１の実施の形態のようなアン
ダーコートを用いていない。低屈折率膜４および高屈折
率膜５は第１の実施の形態と同じものである。FIG. 2B shows a third embodiment of the reflecting mirror. The material of the base material 7 is plastic. The shape is the same as in the first embodiment. As a method for forming the specular reflection layer 3, plastic is injection-molded into a reflection mirror shape using a mold having a mirror-polished core surface, and then a glittering metal such as aluminum is physically deposited (PVD) on the inner surface of the reflection mirror.
This is the layer obtained by No undercoat is used as in the first embodiment. The low refractive index film 4 and the high refractive index film 5 are the same as those in the first embodiment.
【００２８】第１の実施の形態から第３の実施の形態お
よび比較例の反射鏡の反射率の測定について説明する。
第１の実施の形態（実施例１）は、基材がアルミニウム
（Ａ１０７０、住友軽金属社製）、成形方法はヘラ絞
り、アンダーコートはシリコン変成アルキッド塗料（大
日本インキ化学工業社製）、アンダーコート塗装方法は
スペレー塗装、反射面形成方法は高純度アルミニウム真
空蒸着（ＢＭＣ−５００、シンクロン社製）、干渉膜成
膜方法は高密度反応性イオンプレーティング装置（ＪＥ
ＩＰ−９００ＦＡ、日本電子社製）を用い、第１層は膜
厚（ｄ）＝０．０９６（μｍ）のＳｉＯ2 、第２層は膜
厚（ｄ）＝０．０６０（μｍ）のＴｉＯ2である。The measurement of the reflectance of the reflecting mirrors of the first to third embodiments and the comparative example will be described.
In the first embodiment (Example 1), the base material is aluminum (A1070, manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.), the forming method is spatula drawing, the undercoat is a silicon-modified alkyd paint (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), and the undercoat is The coating method is Spray coating, the reflective surface forming method is high-purity aluminum vacuum deposition (BMC-500, manufactured by SYNCHRON), and the interference film forming method is a high-density reactive ion plating apparatus (JE).
IP-900FA, manufactured by JEOL Ltd.), the first layer is SiO 2 having a thickness (d) of 0.096 (μm), and the second layer is TiO having a thickness (d) of 0.060 (μm). 2
【００２９】第２の実施の形態（実施例２）は、基材が
アルミニウム（１０９９／３００３クラッド材、ＺＢ１
−０、昭和アルミ社製）、成形方法はヘラ絞り、アンダ
ーコートは無し、反射面形成方法はバフ研磨〜電解研磨
（表面粗さ、Ｒｙ≦１μｍ）、干渉膜成膜方法は高密度
反応性イオンプレーティング装置（ＪＥＩＰ−９００Ｆ
Ａ、日本電子社製）を用い、第１層は膜厚（ｄ）＝０．
０９６（μｍ）のＳｉＯ2 、第２層は膜厚（ｄ）＝０．
０６０（μｍ）のＴｉＯ2 である。In the second embodiment (Example 2), the base material is aluminum (1099/3003 clad material, ZB1
0, manufactured by Showa Aluminum Co., Ltd.), spatula drawing, no undercoat, buffing to electrolytic polishing (surface roughness, Ry ≦ 1 μm), reflection film forming method, high-density reactivity for interference film forming method Ion plating equipment (JEIP-900F
A, manufactured by JEOL Ltd.), and the first layer has a thickness (d) = 0.
096 (μm) of SiO 2 , and the second layer has a thickness (d) = 0.
060 (μm) TiO 2 .
【００３０】第３の実施の形態（実施例３）は、基材が
ポリフェニレンサルファイド（日本ＧＥプラスチック社
製）、成形方法はコア型の反射面部を鏡面研磨した金型
（Ｒｙ≦１μｍ）で射出成形、アンダーコートは無し、
反射面形成方法は高純度アルミニウム真空蒸着（ＢＭＣ
−５００、シンクロン社製）、干渉膜成膜方法は高密度
反応性イオンプレーティング装置（ＪＥＩＰ−９００Ｆ
Ａ、日本電子社製）を用い、第１層は膜厚（ｄ）＝０．
０９６（μｍ）のＳｉＯ2 、第２層は膜厚（ｄ）＝０．
０６０（μｍ）のＴｉＯ2 である。In the third embodiment (Example 3), the base material is polyphenylene sulfide (manufactured by GE Plastics Japan), and the molding method is injection using a mold (Ry ≦ 1 μm) in which the reflection surface of the core mold is mirror-polished. No molding, no undercoat,
The reflective surface is formed by high-purity aluminum vacuum deposition (BMC
-500, manufactured by SYNCHRON CORPORATION), and the interference film forming method is a high-density reactive ion plating apparatus (JEIP-900F).
A, manufactured by JEOL Ltd.), and the first layer has a thickness (d) = 0.
096 (μm) of SiO 2 , and the second layer has a thickness (d) = 0.
060 (μm) TiO 2 .
【００３１】比較例１は、基材がアルミニウム（Ａ１０
７０、住友軽金属社製）、成形方法はヘラ絞り、反射面
処理はバフ研磨〜化学研磨〜陽極酸化皮膜（アルマイ
ト）処理である。In Comparative Example 1, the base material was aluminum (A10
70, manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.), the forming method was spatula drawing, and the reflection surface treatment was buffing to chemical polishing to anodizing film (alumite) treatment.
【００３２】比較例２は、基材がアルミニウム（Ａ１０
７０、住友軽金属社製）、成形方法はヘラ絞り、アンダ
ーコートはシリコン変成アルキッド塗料（大日本インキ
化学工業社製）、アンダーコート塗装方法はスペレー塗
装、反射面形成方法は高純度アルミニウム真空蒸着（Ｂ
ＭＣ−５００、シンクロン社製）、干渉膜成膜方法は高
密度反応性イオンプレーティング装置（ＪＥＩＰ−９０
０ＦＡ、日本電子社製）を用い、第１層は膜厚（ｄ）＝
０．０９６（μｍ）のＳｉＯ2 、第２層は膜厚（ｄ）＝
０．０６０（μｍ）のＴｉＯ2 、第３層は膜厚（ｄ）＝
０．０９６（μｍ）のＳｉＯ2 、第４層は膜厚（ｄ）＝
０．０６０（μｍ）のＴｉＯ2 である。上記のいずれも
反射鏡の形状は第１の実施の形態と同様である。In Comparative Example 2, the base material was aluminum (A10
70, manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.), using a spatula drawing method, a silicon modified alkyd paint (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), an undercoat coating method using spray coating, and a reflective surface forming method using high-purity aluminum vacuum evaporation ( B
MC-500, manufactured by SYNCHRON CORPORATION), and a method of forming an interference film is a high-density reactive ion plating apparatus (JEIP-90).
0FA, manufactured by JEOL Ltd.), and the first layer has a thickness (d) =
0.096 (μm) of SiO 2 , and the second layer has a thickness (d) =
0.060 (μm) of TiO 2 , and the third layer has a thickness (d) =
0.096 (μm) of SiO 2 , and the fourth layer has a thickness (d) =
0.060 (μm) of TiO 2 . In each case, the shape of the reflecting mirror is the same as that of the first embodiment.
【００３３】比較例１、２と、実施例１〜３の条件で作
製した反射鏡の反射面部分からφ３０ｍｍの円形サンプ
ルを切り出し、自記分光光度計（Ｕ−４０００：日立製
作所）を用いて可視光線（波長域３８０〜７８０ｎｍ）
の反射率を測定した。その後、下記の式１を用いて、反
射効率（Ｅ）を比較した。表１に結果を示す。A circular sample having a diameter of 30 mm was cut out from the reflecting surface of each of the reflecting mirrors prepared under the conditions of Comparative Examples 1 and 2 and Examples 1 to 3, and was visible using a self-recording spectrophotometer (U-4000: Hitachi, Ltd.). Light (wavelength range 380-780 nm)
Was measured for reflectance. Then, the reflection efficiency (E) was compared using the following equation 1. Table 1 shows the results.
【００３４】[0034]
【数１】 (Equation 1)
【００３５】[0035]
【表１】 [Table 1]
【００３６】次に実施例１と比較例２の条件で作製した
反射鏡をダウンライト照明器具に組み込み、１ｍ間隔で
５台を図３のように一列に取り付けそれを横方向に３列
配置した。反射鏡は図１（ｂ）の形状で開口径Ｌを１０
０ｍｍ、奥行き（高さ）Ｈを１００ｍｍとしている。図
３において、天井１２の床１３からの高さ約２．５ｍ、
見る人１１の目の高さ約１．６ｍとし、人１１の目の観
察位置は３個並ぶ横方向の端のダウンライト１０から約
１ｍ離れている。Next, the reflectors manufactured under the conditions of Example 1 and Comparative Example 2 were incorporated into a downlight illuminator, and five mirrors were mounted in a row at 1 m intervals as shown in FIG. . The reflecting mirror has the shape shown in FIG.
0 mm and depth (height) H is 100 mm. In FIG. 3, the height of the ceiling 12 from the floor 13 is about 2.5 m,
The height of the eyes of the viewer 11 is about 1.6 m, and the observation position of the eyes of the viewer 11 is about 1 m away from the downlight 10 at the lateral end where the three are arranged.
【００３７】全てのタウンライト１０のランプ７を同時
に点灯した後、３０分後の反射鏡の反射面の色を外観評
価したところ、実施例１は大きな色の変化が無いのに対
し、比較例１は色が大きく異なっていた。After turning on the lamps 7 of all the town lights 10 at the same time, the appearance of the color of the reflecting surface of the reflecting mirror 30 minutes later was evaluated. 1 was significantly different in color.
【００３８】以上の結果から、本発明により、高効率
で、しかも見る角度によって反射面の色の変化の少ない
反射鏡を実現できることが確認できた。From the above results, it has been confirmed that the present invention can realize a reflecting mirror with high efficiency and little change in the color of the reflecting surface depending on the viewing angle.
【００３９】[0039]
【発明の効果】請求項１記載の反射鏡によれば、高効率
で、見る角度によって反射面の色の変化が少なく変色を
起こさない反射鏡を実現できる。According to the reflecting mirror of the first aspect, it is possible to realize a reflecting mirror which is highly efficient and has little change in color of the reflecting surface depending on the viewing angle and does not cause discoloration.
【００４０】請求項２記載の反射鏡によれば、請求項１
と同様な効果がある。According to the reflecting mirror of the second aspect, the first aspect.
Has the same effect as.
【００４１】請求項３記載の反射鏡によれば、請求項１
と同様な効果がある。According to the reflecting mirror of the third aspect, the first aspect.
Has the same effect as.
【００４２】請求項４記載の反射鏡によれば、請求項１
と同様な効果がある。According to the reflecting mirror of the fourth aspect, the first aspect.
Has the same effect as.
【図１】（ａ）はこの発明の第１の実施の形態の反射鏡
の部分拡大断面図、（ｂ）はダウンライトの斜視図であ
る。FIG. 1A is a partially enlarged sectional view of a reflector according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a perspective view of a downlight.
【図２】（ａ）は第２の実施の形態の反射鏡の部分拡大
断面図、（ｂ）は第３の実施の形態の反射鏡の部分拡大
断面図である。FIG. 2A is a partially enlarged sectional view of a reflecting mirror according to a second embodiment, and FIG. 2B is a partially enlarged sectional view of a reflecting mirror according to a third embodiment.
【図３】比較試験のためのダウンライトの観察方法を説
明する説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating a method of observing a downlight for a comparative test.
【図４】（ａ）は第１の提案例の反射鏡の部分拡大断面
図、（ｂ）は第２の提案例の反射鏡の部分拡大断面図で
ある。FIG. 4A is a partially enlarged sectional view of a reflecting mirror of a first proposed example, and FIG. 4B is a partially enlarged sectional view of a reflecting mirror of a second proposed example.
【図５】第１の提案例の反射面が虹光色を呈することを
説明する説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining that the reflection surface of the first proposed example exhibits a rainbow light color.
１ 基材 ３ 鏡面反射層 ４ 低屈折率膜 ５ 高屈折率膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 3 Specular reflection layer 4 Low refractive index film 5 High refractive index film
フロントページの続き (72)発明者 野口 晋治 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 DA02 DA10 DA11 DA14 DA18 DC02 DE04 4F100 AA06C AA11D AA17D AA19C AA20C AA21D AA27D AB01A AB04 AB10 AB10B AB31 AK01A AK52 AK55 AT00A BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D CC00 EH46 EH66 GB07 JM02C JM02D JN06B JN18C JN18D JN24B JN28 YY00C YY00D Continued on the front page (72) Inventor Shinji Noguchi 1048 Odakadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works F-term (reference) 2H042 DA02 DA10 DA11 DA14 DA18 DC02 DE04 4F100 AA06C AA11D AA17D AA19C AA20C AA21D AA1010 AB04 AK01A AK52 AK55 AT00A BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D CC00 EH46 EH66 GB07 JM02C JM02D JN06B JN18C JN18D JN24B JN28 YY00C YY00D
Claims (4)
に屈折率が１．７以下の透明誘電体薄膜からなる低屈折
率膜を形成し、この薄膜に屈折率が２．０以上の透明誘
電体薄膜からなる高屈折率膜を形成した反射鏡。1. A low-refractive-index film made of a transparent dielectric thin film having a refractive index of 1.7 or less is formed on a mirror-reflective layer formed on the reflective surface side of a substrate, and the thin film has a refractive index of 2.0. A reflecting mirror on which a high refractive index film made of the above transparent dielectric thin film is formed.
属である請求項１記載の反射鏡。2. The reflecting mirror according to claim 1, wherein the specular reflecting layer is a bright metal such as aluminum.
ムおよびアルミナから選択している請求項１記載の反射
鏡。3. The reflector according to claim 1, wherein the low refractive index film is selected from silica, magnesium fluoride and alumina.
ジルコニアおよび硫化亜鉛から選択している請求項１記
載の反射鏡。4. The high refractive index film is made of titania, tantalum oxide,
2. The reflector according to claim 1, wherein the reflector is selected from zirconia and zinc sulfide.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25520299A JP2001083309A (en) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | Reflection mirror |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25520299A JP2001083309A (en) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | Reflection mirror |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001083309A true JP2001083309A (en) | 2001-03-30 |
Family
ID=17275450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25520299A Pending JP2001083309A (en) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | Reflection mirror |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001083309A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018024018A (en) * | 2016-07-27 | 2018-02-15 | 東洋アルミニウム株式会社 | Aluminum member for visible light reflection material |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61231501A (en) * | 1985-04-05 | 1986-10-15 | Toa Shinku Kogyo Kk | Reflecting plate |
| JPS63102112U (en) * | 1986-12-24 | 1988-07-02 | ||
| JPH09281313A (en) * | 1995-09-12 | 1997-10-31 | Alusuisse Technol & Manag Ltd | Reflection mirror, its use and its production |
-
1999
- 1999-09-09 JP JP25520299A patent/JP2001083309A/en active Pending
Patent Citations (3)
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