JP2001077504A - Ultrasonic wave equipment, flexible board using the ultrasonic wave equipment and manufacture thereof - Google Patents

Ultrasonic wave equipment, flexible board using the ultrasonic wave equipment and manufacture thereof

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JP2001077504A
JP2001077504A JP24696399A JP24696399A JP2001077504A JP 2001077504 A JP2001077504 A JP 2001077504A JP 24696399 A JP24696399 A JP 24696399A JP 24696399 A JP24696399 A JP 24696399A JP 2001077504 A JP2001077504 A JP 2001077504A
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Japan
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resin film
ultrasonic
metal film
film
flexible substrate
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JP24696399A
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Japanese (ja)
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Masayuki Nakamura
雅之 中村
Mitsuhiro Fukuda
光博 福田
Hiroyuki Usui
博由紀 薄井
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Original Assignee
Sony Chemicals Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form an aperture of satisfactory precision for a resin film on a metal film by using a simple process. SOLUTION: A protrusion 65 is made to abut against a resin film 6 formed on a metal film 1, and ultrasonic vibration is applied, while the resin film 6 is pressed. The resin film 6 is dug, digging is stopped when the tip of the protrusion 65 abuts against the metal film 1, and an aperture part 8 is formed. By arranging the plurality of protrusions 65 at positions corresponding to the positions of the aperture parts 8 to be formed, the plurality of aperture parts 8 are formed simultaneously. Thereby the control of etchant is dispensed with, and precision is high also.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はフレキシブル基板の
技術分野にかかり、特に、フレキシブル基板の樹脂フィ
ルムに開口部を形成する技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the technical field of a flexible substrate, and more particularly to a technique for forming an opening in a resin film of a flexible substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来よりフレキシブル基板は、柔軟性、
軽さ、薄さ等に優れた特徴を有しており、精密な小型の
電子装置等に広く使われている。それらのうち、金属膜
と樹脂フィルムとが複数層積層された多層構造のフレキ
シブル基板は、多数本の配線を接続できることから多用
されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a flexible substrate has a flexibility,
It has excellent features such as lightness and thinness, and is widely used in precision small electronic devices. Among them, a flexible substrate having a multilayer structure in which a metal film and a resin film are laminated in a plurality of layers is widely used because a large number of wirings can be connected thereto.

【0003】一般に、多層構造のフレキシブル基板は単
層のフレキシブル基板が複数枚張り合わせて構成されて
おり、そのため、単層のフレキシブル基板間を電気的に
接続させるために、フレキシブル基板の樹脂フィルムに
開口部を形成し、開口部に露出する金属膜にバンプを当
接させて金属膜同士を接続する技術が採用されている。
[0003] Generally, a flexible substrate having a multilayer structure is formed by laminating a plurality of single-layer flexible substrates. Therefore, in order to electrically connect the single-layer flexible substrates, an opening is formed in a resin film of the flexible substrate. A technique of forming a portion and connecting the metal films by making the bumps abut on the metal film exposed at the opening is adopted.

【0004】上記のような単層のフレキシブル基板に対
し、開口部を形成する従来の製造方法を説明する。
A conventional manufacturing method for forming an opening in a single-layered flexible substrate as described above will be described.

【0005】先ず、図10(a)を参照し、金属膜111
(ここでは厚み18μmの圧延銅箔を用いた)の表面に液
状のポリイミド前駆体を塗布・乾燥し、ポリイミド膜か
ら成る樹脂フィルム112を形成する。
[0005] First, referring to FIG.
A liquid polyimide precursor is applied to the surface of a rolled copper foil having a thickness of 18 μm (here, a rolled copper foil is used) and dried to form a resin film 112 made of a polyimide film.

【0006】次いで、樹脂フィルム112上に感光性フ
ィルム113を貼付し(図10(b))、露光・現像によっ
て所望形状にパターニングする(図10(c))。次に、そ
の感光性フィルム113をマスクとし、樹脂フィルム1
12をアルカリエッチングし、樹脂フィルム112をパ
ターニングする。
Next, a photosensitive film 113 is attached on the resin film 112 (FIG. 10B), and is patterned into a desired shape by exposure and development (FIG. 10C). Next, using the photosensitive film 113 as a mask, the resin film 1
12 is alkali-etched, and the resin film 112 is patterned.

【0007】図10(d)の符号114は、パターニング
された樹脂フィルム112の開口部を示しており、その
底面には金属膜111が露出している。
Reference numeral 114 in FIG. 10D indicates an opening of the patterned resin film 112, and the metal film 111 is exposed at the bottom thereof.

【0008】感光性フィルム113を剥離し、パターニ
ングした樹脂フィルム112を露出させ(図10(e))、
次いで、その表面にマスクフィルム116貼布する(図
11(f))。図11(f)では、図10(e)とは逆に、金
属膜111を図面上側に示し、樹脂フィルム112をそ
の金属膜111の下側に示してある。
The photosensitive film 113 is peeled off to expose the patterned resin film 112 (FIG. 10E).
Next, a mask film 116 is attached to the surface (FIG. 11F). In FIG. 11F, the metal film 111 is shown on the upper side of the drawing and the resin film 112 is shown on the lower side of the metal film 111, contrary to FIG.

【0009】この状態では金属膜111の表面は露出し
ており、その部分に感光性フィルム117を貼布し(図
11(g))、露光、現像し、所望形状にパターニングす
る(同図(h))。
In this state, the surface of the metal film 111 is exposed, and a photosensitive film 117 is attached to the exposed portion (FIG. 11 (g)), exposed, developed, and patterned into a desired shape (FIG. h)).

【0010】次にパターニングされた感光性樹脂フィル
ム117をマスクとし、金属膜111アルカリエッチン
グをすると、金属膜111がパターニングされる(同図
(i))。同図符号119はパターニングされた金属膜1
11が形成する配線間の分離部を示している。
Next, when the metal film 111 is alkali-etched using the patterned photosensitive resin film 117 as a mask, the metal film 111 is patterned.
(i)). Reference numeral 119 denotes a patterned metal film 1
11 shows a separation part between the wirings formed.

【0011】次に、感光性フィルム117を除去し、金
属膜118の表面を露出させる(図12(j))。金属膜1
18の表面にポリイミド前駆体溶液を塗布すると、パタ
ーニングされた金属膜111の分離部119内はポリイ
ミド前駆体によって埋められる(同図(k))。乾燥する
と、ポリイミド前駆体から成り、表面が平坦な樹脂フィ
ルム120が得られる次に、その樹脂フィルム120上
に感光性フィルム121を貼布し(同図(l))、露光・現
像してパターニングする(同図(m))。
Next, the photosensitive film 117 is removed to expose the surface of the metal film 118 (FIG. 12 (j)). Metal film 1
When a polyimide precursor solution is applied to the surface of the substrate 18, the inside of the separation part 119 of the patterned metal film 111 is filled with the polyimide precursor (FIG. 9 (k)). When dried, a resin film 120 composed of a polyimide precursor and having a flat surface is obtained.Next, a photosensitive film 121 is attached on the resin film 120 ((l) in the same figure), and exposed and developed to be patterned. ((M) in the figure).

【0012】感光性フィルム121をマスクとし、樹脂
フィルム120をアルカリエッチングをすると、樹脂フ
ィルム120はパターニングされる(図13(n))。図1
3(n)の符号122は、樹脂フィルム120の開口部を
示している。開口部122の底面には、金属膜111が
露出している。
When the resin film 120 is alkali-etched using the photosensitive film 121 as a mask, the resin film 120 is patterned (FIG. 13 (n)). FIG.
Reference numeral 122 of 3 (n) indicates an opening of the resin film 120. The metal film 111 is exposed at the bottom of the opening 122.

【0013】最後に、感光性フィルム121とマスクフ
ィルム116を剥離した後、加熱処理すると、樹脂フィ
ルム112,120がイミド化され、硬化し、両面配線
の単層のフレキシブル基板125が得られる(同図
(o))。
Finally, when the photosensitive film 121 and the mask film 116 are peeled off and then subjected to a heat treatment, the resin films 112 and 120 are imidized and cured to obtain a single-layered flexible substrate 125 having double-sided wiring. Figure
(o)).

【0014】このフレキシブル基板125では、金属膜
111の表面及び裏面に形成されている樹脂フィルム1
12、120には、それぞれ開口部114、122が形
成されており、各開口部114、122の底面には金属
膜111が露出しており、その部分に他のフレキシブル
基板のバンプを接続したり、他の回路部品の端子部分を
接続できるようになっている。
In the flexible substrate 125, the resin film 1 formed on the front and back surfaces of the metal film 111
Openings 114 and 122 are formed in the openings 12 and 120, respectively. The metal film 111 is exposed on the bottom surface of each of the openings 114 and 122, and a bump of another flexible substrate is connected to the exposed portion. , And terminal portions of other circuit components can be connected.

【0015】上記のように、エッチングによって樹脂フ
ィルム112、120をパターニングする方法は、レー
ザーエッチング法やドリル法等に比べて、微小な開口部
を形成できるため、狭ピッチの開口部を有するフレキシ
ブル基板の製造に広く用いられている。
As described above, in the method of patterning the resin films 112 and 120 by etching, since a fine opening can be formed as compared with a laser etching method, a drill method, or the like, a flexible substrate having openings with a narrow pitch can be formed. Widely used in the manufacture of

【0016】しかしながら上記のようなアルカリ液を用
いたエッチング法では、液温や液の状態の管理が面倒で
ある。特に、エッチング条件の管理が悪い場合には、開
口部114、122を精度よく形成できないという問題
がある。また、開口部114、122を形成するため
に、感光性フィルム113、117、121を用いるた
め、製造コストが高くなるという問題もある。
However, in the above-described etching method using an alkaline liquid, it is troublesome to control the liquid temperature and the state of the liquid. In particular, when the control of the etching conditions is poor, there is a problem that the openings 114 and 122 cannot be formed accurately. In addition, since the photosensitive films 113, 117, and 121 are used to form the openings 114 and 122, there is a problem that the manufacturing cost increases.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の不都合を解決するために創作されたものであり、その
目的は、単層基板の生産性と基板接続口の開口精度を改
善することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned disadvantages of the prior art, and an object of the present invention is to improve the productivity of a single-layer substrate and the accuracy of opening a substrate connection port. It is.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明の発明者等は、超
音波振動を用いて樹脂フィルムに開口を形成した場合、
エッチング法よりも精度が高いことを見いだし、本発明
を創作するに到ったものであり、その請求項1記載の発
明は、超音波装置であって、超音波振動を発生する超音
波発生部と、前記超音波振動が伝達される共鳴部とを有
する超音波装置であって、前記共鳴部には、平面状の加
工対象物に対して当接可能な複数の突起が設けられたこ
とを特徴とする。請求項2記載の発明は、金属膜上に配
置された樹脂フィルムを掘削し、前記樹脂フィルムに、
底面に前記金属膜が露出し、所定位置に配置された複数
の開口部を形成する請求項1記載の超音波振動装置であ
って、前記各突起は、前記共鳴部上で、形成すべき前記
各開口部に対応する位置に配置されたことを特徴とす
る。請求項3記載の発明は、請求項2記載の超音波装置
であって、前記突起の高さは、掘削すべき前記樹脂フィ
ルムの厚さよりも大きくされたことを特徴とする。請求
項4記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれか1
項記載の超音波装置であって、前記突起に前記平面状の
加工対象物を押し当てたときに、前記共鳴部が伝達され
た前記超音波発生部からの超音波振動は、前記突起を、
前記加工対象物の表面に沿った方向に超音波振動させる
ように構成されたことを特徴とする。請求項5記載の発
明は、請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の超音
波装置であって、前記超音波発生部は、前記加工対象物
に対し、斜め姿勢に配置されたことを特徴とする。請求
項6記載の発明は、金属膜と、前記金属膜上に配置され
た樹脂フィルムと、前記樹脂フィルムの所定位置に配置
され、底面に前記金属膜が露出する複数の開口部とを有
するフレキシブル基板の製造方法であって、前記樹脂フ
ィルムの前記各開口部を形成すべき位置に突起をそれぞ
れ当接させ、前記各突起を押圧しながら超音波振動さ
せ、前記金属膜が露出するまで前記樹脂フィルムを掘削
し、前記開口部を形成することを特徴とするフレキシブ
ル基板の製造方法。請求項7記載の発明は、請求項6記
載のフレキシブル基板の製造方法であって、前記突起
を、前記樹脂フィルムの表面に沿った方向に超音波振動
させることを特徴とする。請求項8記載の発明は、請求
項6又は請求項7のいずれか1項記載のフレキシブル基
板の製造方法であって、前記突起の高さを、前記樹脂フ
ィルムの厚さよりも大きくしておくことを特徴とする。
請求項9記載の発明は、請求項6乃至請求項8のいずれ
か1項記載のフレキシブル基板の製造方法であって、前
記樹脂フィルムを硬化させた後、前記開口部を形成する
ことを特徴とする。請求項10記載の発明は、金属膜
と、前記金属膜上に配置された樹脂フィルムとを有する
フレキシブル基板であって、前記樹脂フィルムには、超
音波振動によって掘削され、底面に前記金属膜が露出す
る開口部が形成されたことを特徴とする。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have proposed that when an opening is formed in a resin film using ultrasonic vibration,
The present invention has been found to have higher accuracy than the etching method, and has led to the creation of the present invention. The invention according to claim 1 is an ultrasonic device, which is an ultrasonic generator for generating ultrasonic vibration. And an ultrasonic device having a resonance unit to which the ultrasonic vibration is transmitted, wherein the resonance unit is provided with a plurality of projections that can be brought into contact with a planar workpiece. Features. The invention according to claim 2 digs a resin film disposed on a metal film,
2. The ultrasonic vibration device according to claim 1, wherein the metal film is exposed on a bottom surface and forms a plurality of openings arranged at predetermined positions, wherein each of the protrusions is to be formed on the resonance part. It is characterized by being arranged at a position corresponding to each opening. The invention according to claim 3 is the ultrasonic apparatus according to claim 2, wherein the height of the projection is greater than the thickness of the resin film to be excavated. According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects,
The ultrasonic device according to claim, wherein, when the flat processing object is pressed against the protrusion, the ultrasonic vibration from the ultrasonic generation unit to which the resonance unit is transmitted, the protrusion,
It is characterized in that it is configured to vibrate ultrasonically in a direction along the surface of the processing object. According to a fifth aspect of the present invention, in the ultrasonic device according to any one of the first to fourth aspects, the ultrasonic generator is disposed at an oblique posture with respect to the workpiece. It is characterized by. The invention according to claim 6 is a flexible having a metal film, a resin film disposed on the metal film, and a plurality of openings disposed at predetermined positions of the resin film and exposing the metal film on a bottom surface. A method of manufacturing a substrate, wherein projections are respectively brought into contact with positions where the respective openings of the resin film are to be formed, ultrasonic vibration is performed while pressing the respective projections, and the resin is applied until the metal film is exposed. A method of manufacturing a flexible substrate, comprising excavating a film to form the opening. The invention according to claim 7 is the method for manufacturing a flexible substrate according to claim 6, wherein the projection is ultrasonically vibrated in a direction along a surface of the resin film. The invention according to claim 8 is the method for manufacturing a flexible substrate according to any one of claims 6 and 7, wherein the height of the protrusion is larger than the thickness of the resin film. It is characterized by.
The invention according to claim 9 is the method for manufacturing a flexible substrate according to any one of claims 6 to 8, wherein the opening is formed after the resin film is cured. I do. The invention according to claim 10 is a flexible substrate having a metal film and a resin film disposed on the metal film, wherein the resin film is excavated by ultrasonic vibration, and the metal film is formed on a bottom surface. An opening that is exposed is formed.

【0019】本発明は上記のように構成されており、超
音波装置の共鳴部の先端に複数の突起を形成し、各突起
を樹脂フィルムに押し当て、押圧しながら超音波振動を
加えるので、バンプが樹脂フィルムを掘削し、開口部が
形成される。
The present invention is configured as described above. Since a plurality of projections are formed at the tip of the resonance part of the ultrasonic device, each projection is pressed against the resin film, and ultrasonic vibration is applied while pressing. The bump excavates the resin film, and an opening is formed.

【0020】各突起1個で開口部を1個形成するので、
突起の数は開口部の数に応じた数だけ設ける必要があ
る。
Since one opening is formed by each projection,
The number of projections needs to be provided in accordance with the number of openings.

【0021】また、樹脂フィルムに形成される開口部の
位置は予め決まっているから、各突起は、加工対象物の
開口部の位置に応じた位置に配置されている必要があ
る。特に、樹脂フィルムを超音波振動で掘削する場合、
形成される開口部は、突起径よりも大きくなるから、各
突起先端は、形成対象の開口部の略中央位置に廃しして
おくとよい。
Further, since the position of the opening formed in the resin film is predetermined, each projection must be arranged at a position corresponding to the position of the opening of the object to be processed. Especially when excavating resin film by ultrasonic vibration,
Since the opening to be formed is larger than the diameter of the projection, the tip of each projection is preferably disposed at a substantially central position of the opening to be formed.

【0022】下記表1に、超音波を使用し、ポリイミド
フィルムから成る樹脂フィルムに開口部を形成した場合
の、突起径と開口部の寸法の関係を示す。
Table 1 below shows the relationship between the diameter of the protrusion and the dimension of the opening when the opening is formed in a resin film made of a polyimide film using ultrasonic waves.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】超音波振動の周波数は40kHzであり、
印加時間は1分である。この表1から、突起径が大きく
なると開口部の寸法も大きくなることが分かる。高さが
40μmの突起を用いたため、樹脂フィルムの厚さが突
起高さよりも大きくなると、開口部が形成されず、不合
格となっている。この表1には、従来のようにエッチン
グによって開口部を形成した場合の開口部寸法も示して
おく。
The frequency of the ultrasonic vibration is 40 kHz,
The application time is one minute. From Table 1, it can be seen that the size of the opening increases as the diameter of the protrusion increases. Since the protrusion having a height of 40 μm was used, when the thickness of the resin film was larger than the height of the protrusion, no opening was formed and the film was rejected. Table 1 also shows the dimensions of the opening when the opening is formed by etching as in the prior art.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】本発明のフレキシブル基板とその
製造に用いる超音波装置をフレキシブル基板の製造方法
と共に図面を用いて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A flexible substrate according to the present invention and an ultrasonic apparatus used for producing the same will be described with reference to the drawings together with a method for producing a flexible substrate.

【0026】先ず図1(a)を参照し、符号1は厚さ18
μm〜30μmの圧延銅箔から成る金属膜であり、裏面
にはマスクフィルム2が貼布されている。この金属膜1
表面に感光性フィルム3を貼布し(図1(b))、露光・現
像によってパターニングする(図1(c))。
First, referring to FIG. 1A, reference numeral 1 indicates a thickness 18
It is a metal film made of a rolled copper foil of μm to 30 μm, and a mask film 2 is adhered on the back surface. This metal film 1
A photosensitive film 3 is adhered to the surface (FIG. 1B), and patterned by exposure and development (FIG. 1C).

【0027】次いで感光性フィルム3をマスクとして金
属膜1をアルカリエッチングし、パターニングする(図
1(d))。図1(d)の符号5は、パターニングされた金
属膜1によって構成される配線間の分離部を示してい
る。この分離部5の底面には、キャリアフィルム2の表
面が露出している。
Next, using the photosensitive film 3 as a mask, the metal film 1 is alkali-etched and patterned (FIG. 1D). Reference numeral 5 in FIG. 1D indicates a separation portion between wirings constituted by the patterned metal film 1. The surface of the carrier film 2 is exposed on the bottom surface of the separation section 5.

【0028】次いで、感光性フィルム3を剥離し、金属
膜1を露出させ(同図1(e))、その表面にポリイミド前
駆体溶液を塗布すると、分離部5はポリイミド前駆体溶
液で埋められる。その状態で加熱し、イミド化させる
と、ポリイミド膜から成り、表面が平坦な樹脂フィルム
6が形成される(図1(f))。図1(f)の符号4は、その
樹脂フィルム6が形成された状態のフレキシブル基板を
示している。
Next, the photosensitive film 3 is peeled off to expose the metal film 1 (FIG. 1 (e)), and a polyimide precursor solution is applied to the surface thereof, and the separating section 5 is filled with the polyimide precursor solution. . When heated and imidized in this state, a resin film 6 composed of a polyimide film and having a flat surface is formed (FIG. 1 (f)). Reference numeral 4 in FIG. 1F indicates a flexible substrate on which the resin film 6 is formed.

【0029】このフレキシブル基板4を加工対象物と
し、超音波装置によって樹脂フィルム6に開口部を形成
する。
Using the flexible substrate 4 as an object to be processed, an opening is formed in the resin film 6 by an ultrasonic device.

【0030】図6の符号60は、開口部の形成に用いる
超音波装置を示している。この超音波装置60は、筒状
の超音波発生部61と、加工対象物に超音波振動を加え
る共鳴部62と、板状の台座66と、2本のガイド67
1、672とを有している。
Reference numeral 60 in FIG. 6 denotes an ultrasonic device used for forming the opening. The ultrasonic device 60 includes a cylindrical ultrasonic generating section 61, a resonance section 62 for applying ultrasonic vibration to an object to be processed, a plate-shaped pedestal 66, and two guides 67.
And a 1, 67 2.

【0031】ガイド671、672は、台座66上に立設
されており、超音波発生部61が、水平な姿勢でガイド
671、672に上下動可能に取り付けられている。
The guide 67 1, 67 2 is erected on the pedestal 66, the ultrasonic generator 61 is mounted to be vertically movable in guides 67 1, 67 2 in a horizontal position.

【0032】共鳴部62の一端部は、超音波発生部61
の先端に取り付けられており、他端は曲げ加工され、そ
の先端部表面69は、超音波発生部61及び共鳴部62
の中心軸線81に対して水平になるように形成されてい
る。
One end of the resonance section 62 is connected to the ultrasonic wave generation section 61.
The other end is bent, and the front end surface 69 has an ultrasonic generator 61 and a resonance unit 62.
Are formed so as to be horizontal with respect to the central axis 81.

【0033】共鳴部62の先端付近64の拡大図を図8
に示す。超音波発生部61及び共鳴部62は、水平な状
態でバイ°671、672に取り付けられるようになって
おり、その状態で超音波発生部61及び共鳴部62を中
心軸線81を中心として回転させ、位置合わせをする
と、先端部表面69を水平にできるようになっている。
FIG. 8 is an enlarged view of the vicinity 64 of the tip of the resonance section 62.
Shown in Ultrasound generating unit 61 and the resonance unit 62 around the Bi ° 67 1, 67 2 have become attached way, the central axis 81 of ultrasonic wave generator 61 and the resonance unit 62 in that state in a horizontal state When rotated and aligned, the tip surface 69 can be made horizontal.

【0034】先端部表面69には、突起65が複数個設
けられており、先端部表面69が水平な状態では、各突
起65は鉛直下方に向けられる。
The tip surface 69 is provided with a plurality of projections 65. When the tip surface 69 is horizontal, each projection 65 is directed vertically downward.

【0035】台座66の上には、上部表面が平面状のワ
ーク68が配置されており、開口を形成する樹脂フィル
ム6を上に向けた状態で、ワーク68上に処理対象物
(フレキシブル基板4)を配置すると、共鳴部62の先端
部表面69と、樹脂フィルム6とは水平な状態で平行に
対向する。
A work 68 having a flat upper surface is disposed on the pedestal 66, and the object to be processed is placed on the work 68 with the resin film 6 forming the opening facing upward.
When the (flexible substrate 4) is arranged, the front end surface 69 of the resonance part 62 and the resin film 6 face in parallel in a horizontal state.

【0036】この状態で、共鳴部62上方に配置された
エアシリンダ63を動作させ、超音波発生部61及び共
鳴部62をガイド671、672に沿って垂直に降下させ
ると、基台部69上に配置された突起65が樹脂フィル
ム6に垂直に当接される。
[0036] In this state, the air cylinder 63 which is arranged above the resonance unit 62 is operated, the lowering vertically along the ultrasonic wave generator 61 and the resonance unit 62 in the guide 67 1, 67 2, the base portion The protrusion 65 arranged on 69 is vertically in contact with the resin film 6.

【0037】図2(g)はその状態を示しており、先端部
表面69上に形成された各突起65は、先端部表面69
からの高さHが略等しくなるようにされており、従っ
て、共鳴部62が垂直に降下した場合、各突起65はほ
ぼ同時に樹脂フィルム6に当接される。
FIG. 2G shows this state, in which each projection 65 formed on the front end surface 69 is attached to the front end surface 69.
Are made substantially equal, and therefore, when the resonance part 62 is vertically lowered, the respective protrusions 65 contact the resin film 6 almost simultaneously.

【0038】各突起65を樹脂フィルム6に当接させた
状態で超音波発生部61を動作させると、生成された超
音波振動が共鳴部62を介して各突起65に伝達され
る。
When the ultrasonic generator 61 is operated in a state where each projection 65 is in contact with the resin film 6, the generated ultrasonic vibration is transmitted to each projection 65 via the resonance section 62.

【0039】超音波発生部61で生成された超音波振動
の方向は、超音波発生部61に対して垂直な成分はほと
んどゼロであり、超音波発生部61の中心軸線81に沿
った成分だけで構成されている。超音波発生部61は水
平に配置されているため、その超音波振動が突起65に
伝達されると、各突起65は水平方向に超音波振動す
る。
The direction of the ultrasonic vibration generated by the ultrasonic generator 61 is such that the component perpendicular to the ultrasonic generator 61 is almost zero, and only the component along the central axis 81 of the ultrasonic generator 61. It is composed of Since the ultrasonic wave generator 61 is arranged horizontally, when the ultrasonic vibration is transmitted to the projection 65, each projection 65 ultrasonically vibrates in the horizontal direction.

【0040】各突起65は、エアシリンダ63によって
樹脂フィルム6に押圧された状態で超音波振動するが、
加工対象物であるフレキシブル基板4は、摩擦力によっ
てワーク68に対して静止している。
Each projection 65 is ultrasonically vibrated while being pressed against the resin film 6 by the air cylinder 63.
The flexible substrate 4 which is a processing object is stationary with respect to the work 68 by frictional force.

【0041】そのため、各突起65は、超音波振動の力
によって樹脂フィルム6を掘削し、内部に食い込む。こ
こでは各突起65の形状は半球形にされているため、各
突起65の表面を構成する曲面によって樹脂フィルム6
が掘削され、その結果、超音波の振動方向を長手方向と
する楕円形の凹部が形成される。図2(h)の符号7は、
その凹部を示している。
For this reason, each projection 65 excavates the resin film 6 by the force of the ultrasonic vibration and cuts into the inside. Here, since the shape of each projection 65 is hemispherical, the resin film 6 is formed by a curved surface forming the surface of each projection 65.
Is excavated, and as a result, an elliptical concave portion whose longitudinal direction is the vibration direction of the ultrasonic wave is formed. Reference numeral 7 in FIG.
The recess is shown.

【0042】樹脂フィルム6に形成すべき開口部の位置
は予め決められており、各突起65は、開口部に対応す
る位置に配置されている。開口部の底面には金属膜1が
露出されるべきであるから、各突起65の下方には、分
離部5ではなく、金属膜1が配置されていることにな
る。
The position of the opening to be formed in the resin film 6 is predetermined, and each projection 65 is arranged at a position corresponding to the opening. Since the metal film 1 should be exposed at the bottom surface of the opening, the metal film 1 is arranged below each projection 65 instead of the separation portion 5.

【0043】ここで、各突起65の高さHは樹脂フィル
ム6の厚さTよりも大きくなるように形成されており
(H>T)、従って、掘削が進行すると、先端部表面69
が樹脂フィルム6に接触する前に、各突起65の先端部
分が金属膜1に到達する。
Here, the height H of each projection 65 is formed so as to be larger than the thickness T of the resin film 6.
(H> T) Therefore, as the excavation proceeds, the tip surface 69
Before the contact with the resin film 6, the tip of each projection 65 reaches the metal film 1.

【0044】図2(i)はその状態を示している。超音波
振動している突起65は金属膜1に押圧されるため、金
属膜1は突起65と一緒に超音波振動し、金属膜1には
超音波振動による力が加わらなくなり、掘削の進行は停
止する。その結果、樹脂フィルム6には、底面に金属膜
1が露出する開口部8が形成される。
FIG. 2 (i) shows this state. Since the projection 65 that is ultrasonically vibrated is pressed against the metal film 1, the metal film 1 ultrasonically vibrates together with the projection 65, and no force is applied to the metal film 1 by the ultrasonic vibration. Stop. As a result, an opening 8 in which the metal film 1 is exposed on the bottom surface is formed in the resin film 6.

【0045】開口部8が形成された後、超音波発生部6
1を停止させ、エアシリンダ63を動作させ、共鳴部6
2及び超音波発生部61をガイド671、672に沿って
上方に移動させ、開口部8を形成したフレキシブル基板
4をワーク68上から取り出す。図3(j)は、その状態
のフレキシブル基板4を示している。なお、連続して開
口部を形成する場合、処理が終了したフレキシブル基板
4を未処理のフレキシブル基板と交換し、超音波振動に
よる掘削を行う。
After the opening 8 is formed, the ultrasonic wave generator 6
1 is stopped, the air cylinder 63 is operated, and the resonance unit 6
2 and ultrasonic generator 61 along the guide 67 1, 67 2 are moved upward to take out the flexible substrate 4 to form an opening 8 on the work 68. FIG. 3 (j) shows the flexible substrate 4 in that state. When the openings are continuously formed, the flexible substrate 4 after the processing is replaced with an unprocessed flexible substrate, and excavation is performed by ultrasonic vibration.

【0046】図9(a)は、半球形の突起65により、樹
脂フィルム6に形成された開口部8の斜視図である。同
図(b)は、開口部8を樹脂フィルム6の上方から見た平
面図である。長径L1>短径L2であり、超音波振動の方
向は長径L1の方向である。
FIG. 9A is a perspective view of the opening 8 formed in the resin film 6 by the hemispherical projection 65. FIG. 2B is a plan view of the opening 8 as viewed from above the resin film 6. The major axis L 1 > the minor axis L 2 , and the direction of the ultrasonic vibration is the direction of the major axis L 1 .

【0047】なお、先端部表面69に、図9(c)のよう
な矩形形状の突起69'を配置し、樹脂フィルム6に対
し、各突起69'を垂直に押し当てて掘削した場合に
は、形成される開口部8'は、同図(d)の平面図に示す
ように長方形形状になる。
When a rectangular projection 69 ′ as shown in FIG. 9C is arranged on the front end surface 69, and each projection 69 ′ is pressed vertically against the resin film 6, The opening 8 'formed has a rectangular shape as shown in the plan view of FIG.

【0048】次に、開口部8を形成したフレキシブル基
板4のマスクフィルム2を剥離し、金属膜1の裏面を露
出させる(同図(k))。
Next, the mask film 2 of the flexible substrate 4 in which the opening 8 has been formed is peeled off to expose the back surface of the metal film 1 (FIG. 9 (k)).

【0049】樹脂フィルム6を下側に向け、金属膜1を
上側に向け(図3(k))の状態を上下反転させる。)、露
出させた金属膜1上にポリイミド前駆体溶液を塗布し、
加熱してイミド化し、ポリイミド膜から成る樹脂フィル
ム10を形成する(図3(l))。
The state in which the resin film 6 faces downward and the metal film 1 faces upward (FIG. 3 (k)) is turned upside down. ), Applying a polyimide precursor solution on the exposed metal film 1,
It is imidized by heating to form a resin film 10 made of a polyimide film (FIG. 3 (l)).

【0050】次にこの樹脂フィルム10に対し、上記の
超音波装置60を用い、上記と同じ工程で掘削して開口
部を形成すると、本発明のフレキシブル基板2が得られ
る(図3(m))。図3(m)の符号11は、その開口部を示
している。開口部11底面には金属膜1が露出してい
る。
Next, the resin film 10 is excavated by using the above-described ultrasonic device 60 in the same process as above to form an opening, whereby the flexible substrate 2 of the present invention is obtained (FIG. 3 (m)). ). Reference numeral 11 in FIG. 3 (m) indicates the opening. The metal film 1 is exposed at the bottom of the opening 11.

【0051】次に、このフレキシブル基板2を用いて多
層構造のフレキシブル基板を製造する工程について説明
する。図4(a)の符号16は、金属膜13と、該金属膜
13上に立設されたバンプ17と、金属膜13の表面と
裏面に形成された樹脂フィルム14、15とを有するフ
レキシブル基板を示している。
Next, a process of manufacturing a flexible substrate having a multilayer structure using the flexible substrate 2 will be described. Reference numeral 16 in FIG. 4A denotes a flexible substrate having a metal film 13, bumps 17 erected on the metal film 13, and resin films 14 and 15 formed on the front and back surfaces of the metal film 13. Is shown.

【0052】バンプ17の先端部分は、一方の樹脂フィ
ルム14上に突き出されている。バンプ17は複数個設
けられており、各バンプは上記フレキシブル基板2の開
口部8に対応した位置に配置されている。
The tip of the bump 17 protrudes onto one of the resin films 14. A plurality of bumps 17 are provided, and each bump is arranged at a position corresponding to the opening 8 of the flexible substrate 2.

【0053】このフレキシブル基板16のバンプ17
と、上記フレキシブル基板2の開口部8とを、接着フィ
ルム12を間に挟んで対向させ、バンプ17を、開口部
8底面に露出する金属膜1に、接着フィルム12を介し
て当接させる。
The bumps 17 of the flexible substrate 16
And the opening 8 of the flexible substrate 2 are opposed to each other with the adhesive film 12 interposed therebetween, and the bump 17 is brought into contact with the metal film 1 exposed on the bottom surface of the opening 8 via the adhesive film 12.

【0054】各バンプ17表面には半田被膜が形成され
ており、バンプ17及び接着フィルム12を加熱する
と、バンプ17と金属膜1とは溶融した半田被膜によっ
て電気的に接続されると共に、2枚のフレキシブル基板
2、16は、接着力が発現した接着フィルム12によっ
て一体に接着され、図4(b)に示す多層のフレキシブル
基板3が得られる。
A solder film is formed on the surface of each bump 17. When the bump 17 and the adhesive film 12 are heated, the bump 17 and the metal film 1 are electrically connected by the molten solder film, and two bumps are formed. The flexible substrates 2 and 16 are integrally bonded by the adhesive film 12 exhibiting an adhesive force, and a multilayer flexible substrate 3 shown in FIG. 4B is obtained.

【0055】この多層構造のフレキシブル基板3では、
裏面に金属膜13が露出する開口部18が形成されてお
り、バンプを有する他のフレキシブル基板を更に積層さ
せることができる。また、表面に形成されている開口部
11には、半導体素子のバンプを接続したり、他の電気
回路との接続端子に用いることができる。
In the flexible substrate 3 having the multilayer structure,
An opening 18 through which the metal film 13 is exposed is formed on the back surface, so that another flexible substrate having a bump can be further laminated. The opening 11 formed on the surface can be connected to a bump of a semiconductor element or used as a connection terminal for another electric circuit.

【0056】なお、以上説明した単層のフレキシブル基
板2では、金属膜1の両面の樹脂フィルム6、10に対
して開口部8、11を形成したが、本発明は、金属膜1
の表面、又は裏面のいずれか一方の樹脂フィルムに、超
音波振動によって開口部を形成し、その底面に金属膜を
露出させればよい。
In the single-layer flexible substrate 2 described above, the openings 8 and 11 are formed in the resin films 6 and 10 on both surfaces of the metal film 1.
An opening may be formed in the resin film on either the front surface or the back surface by ultrasonic vibration, and the metal film may be exposed on the bottom surface.

【0057】また、上記実施例では、金属膜1をパター
ニングした後、開口部8、11を形成したが、パターニ
ングされる前の金属箔の状態で、樹脂フィルムに開口部
を形成し、その底面に金属膜を露出させてもよい。
In the above embodiment, the openings 8 and 11 were formed after the metal film 1 was patterned. However, the openings were formed in the resin film in the state of the metal foil before patterning, and the bottom surface was formed. Alternatively, the metal film may be exposed.

【0058】次に、開口部の形成に一層適した超音波装
置を説明する。図7を参照し、符号70は、上記実施例
で用いた超音波装置60を改良した超音波装置である。
Next, an ultrasonic device which is more suitable for forming an opening will be described. Referring to FIG. 7, reference numeral 70 denotes an ultrasonic device obtained by improving the ultrasonic device 60 used in the above embodiment.

【0059】この超音波装置70は、上記超音波装置6
0と同様に、筒状の超音波発生部71と、加工対象物に
超音波振動を与える共鳴部72と、平板状の台座76
と、2本のガイド771、772とを有している。
The ultrasonic device 70 is the same as the ultrasonic device 6
Similarly to FIG. 0, a cylindrical ultrasonic generator 71, a resonance unit 72 for applying ultrasonic vibration to an object to be processed, and a flat base 76
When, and a two guide 77 1, 77 2.

【0060】この超音波装置70でも各ガイド771
772は、台座76上に立設されているが、上記超音波
装置60とは異なり、超音波発生部71は、斜め姿勢で
ガイド771、772に取り付けられている。
In this ultrasonic device 70, each guide 77 1 ,
77 2 has been erected on the pedestal 76, unlike the ultrasonic device 60, ultrasonic generator 71 is attached to guide 771, 77 2 in the inclined posture.

【0061】共鳴部72は、一端が超音波発生部71の
先端に取り付けられており、図8に示すように、他端の
先端部表面79には複数の突起75が垂直に立設されて
いる。
One end of the resonance section 72 is attached to the tip of the ultrasonic wave generation section 71. As shown in FIG. 8, a plurality of projections 75 are vertically provided on the tip surface 79 of the other end. I have.

【0062】共鳴部72の先端部分は曲げ加工されてお
り、先端部表面79が、超音波発生部71及び共鳴部7
2の中心軸線82に対して所定角度傾くように構成され
ている。この図8では、先端部表面79と中心軸線82
との傾きはθで表されている。
The distal end portion of the resonance section 72 is bent, and the front end surface 79 is formed by the ultrasonic wave generation section 71 and the resonance section 7.
It is configured to incline at a predetermined angle with respect to the center axis 82 of the second. In FIG. 8, the tip surface 79 and the central axis 82
Is represented by θ.

【0063】従って、超音波発生部71をガイド7
1、772に取り付ける際、超音波発生部71の中心軸
線82を水平方向から角度θだけ傾けると、共鳴部72
の先端部分の表面79は水平になる。先端部表面79が
水平な状態では、各突起75は鉛直下方を向けられてい
る。
Accordingly, the ultrasonic generator 71 is connected to the guide 7
7 1, when attached to the 77 2, tilting the center axis 82 of the ultrasonic generator 71 from the horizontal direction by an angle theta, resonance portion 72
The surface 79 of the tip portion of is horizontal. When the tip surface 79 is horizontal, each projection 75 is directed vertically downward.

【0064】このように先端部表面79を位置合わせし
た後、台座76に載置されたワーク78上に加工対象物
であるフレキシブル基板4を配置し、エアシリンダ73
によって超音波発生部71及び共鳴部72を垂直に降下
させると、上記実施例で説明した超音波装置60の場合
と同様に、フレキシブル基板4表面の樹脂フィルム6に
突起75先端が垂直に当接される。
After aligning the front end surface 79 in this way, the flexible substrate 4 to be processed is placed on the work 78 placed on the pedestal 76, and the air cylinder 73
When the ultrasonic wave generating section 71 and the resonance section 72 are vertically moved downward, the tip of the projection 75 comes into vertical contact with the resin film 6 on the surface of the flexible substrate 4 as in the case of the ultrasonic apparatus 60 described in the above embodiment. Is done.

【0065】この超音波装置70では、超音波発生部7
1が生成する超音波振動は、超音波発生部71の中心軸
線82に対して平行な成分と垂直な成分を有しており、
超音波発生部71を傾いた姿勢にし、共鳴部72の先端
部分の表面79を水平にしたときに、突起75は水平方
向にのみ超音波振動するように構成されている。
In the ultrasonic device 70, the ultrasonic generator 7
The ultrasonic vibration generated by 1 has a component parallel to and perpendicular to the central axis 82 of the ultrasonic generator 71,
When the ultrasonic generator 71 is in a tilted posture and the front surface 79 of the tip of the resonance unit 72 is horizontal, the protrusion 75 is configured to ultrasonically vibrate only in the horizontal direction.

【0066】従って、突起75を樹脂フィルム6表面に
押圧しながら超音波振動させると、突起75は、上記超
音波装置60と同様に、樹脂フィルム6を掘削する。
Therefore, when ultrasonic vibration is applied while pressing the projection 75 against the surface of the resin film 6, the projection 75 excavates the resin film 6, similarly to the ultrasonic device 60.

【0067】この超音波装置70では、超音波発生部7
1及び共鳴部72が傾いて取り付けられているため、共
鳴部72が処理対象物に接触することがなく、作業性が
高い。
In the ultrasonic device 70, the ultrasonic generator 7
Since the resonance part 1 and the resonance part 72 are attached at an angle, the resonance part 72 does not come into contact with the object to be processed, and the workability is high.

【0068】また、ワーク78の面積を大きくし、大面
積の処理対象物を配置しても開口部を形成することがで
きる。上記実施例で説明した超音波装置60では、加工
可能な範囲が20〜30mm程度であったが、この超音
波装置70を用いると、実質上無制限となる。共鳴部7
2とその先端部分の表面79との傾きは、0°(水平な
姿勢)〜30°程度が適当である。
Further, the opening can be formed even when the area of the work 78 is increased and a processing object having a large area is arranged. In the ultrasonic device 60 described in the above embodiment, the range that can be processed is about 20 to 30 mm. However, when the ultrasonic device 70 is used, there is substantially no limit. Resonance part 7
The inclination between 2 and the front surface 79 of the tip is suitably about 0 ° (horizontal posture) to about 30 °.

【0069】下記表2に、突起75に加える超音波振動
成分(水平方向の成分、及び鉛直方向の成分)と、導通結
果を示す。共鳴部の仕様が「水平」とあるのは(水平方
向との傾きが0°のもの)は、上記した水平姿勢の超音
波装置60の場合である。水平方向は、図8のX軸の方
向であり、鉛直方向は同図Y軸方向である。
Table 2 below shows the ultrasonic vibration components (horizontal component and vertical component) applied to the protrusion 75 and the conduction results. The specification of the resonance unit as “horizontal” (when the inclination with respect to the horizontal direction is 0 °) is in the case of the ultrasonic device 60 in the horizontal posture described above. The horizontal direction is the direction of the X axis in FIG. 8, and the vertical direction is the Y axis direction in FIG.

【0070】[0070]

【表2】 [Table 2]

【0071】この表2から分かるように、鉛直方向の振
動成分が含まれると、導通不良になる。
As can be seen from Table 2, when a vibration component in the vertical direction is included, conduction failure occurs.

【0072】以上は、超音波装置60、70を用いて硬
化したポリイミドフィルムに開口部を形成する場合につ
いて説明したが、本発明はポリイミドフィルムに限定さ
れるものではなく、ポリエステルフィルム、エポキシフ
ィルム等の他の樹脂フィルムにも開口部を形成すること
ができる。
Although the case where the openings are formed in the cured polyimide film using the ultrasonic devices 60 and 70 has been described above, the present invention is not limited to the polyimide film, but includes polyester film, epoxy film and the like. Openings can be formed in other resin films.

【0073】なお、上記共鳴部62、72及び突起6
5、65'、75は鉄製であり、突起65、65'、75
は、共鳴部62、72の先端部分を放電加工して形成し
たが、本発明の超音波装置はそれに限定されるものでは
なく、チタン製や他の金属製のものも含まれる。
The resonance portions 62 and 72 and the projection 6
5, 65 ', 75 are made of iron, and the projections 65, 65', 75
Was formed by electric discharge machining of the tip portions of the resonance portions 62 and 72, but the ultrasonic device of the present invention is not limited to this, and includes those made of titanium and other metals.

【0074】各突起65、65'、75の高さTを均一
にする際、放電加工後に研磨をするとよい。また、各突
起65、65'、75の表面に被膜を形成し、耐久性を
高めてもよい。
In order to make the height T of each of the projections 65, 65 ', 75 uniform, it is preferable to carry out polishing after electric discharge machining. Further, a coating may be formed on the surface of each of the protrusions 65, 65 ', and 75 to enhance durability.

【0075】また、突起65、65’、75は、先端部
表面69、79に複数個を設けてもよいし、1個だけ設
けてもよい。
Further, a plurality of projections 65, 65 ', 75 may be provided on the front end surfaces 69, 79, or only one projection may be provided.

【0076】[0076]

【発明の効果】エッチング液を用いて開口部を形成する
のではないため、薬液管理が不要であり、また工程も簡
略化されるため生産性が高くなる。形成される開口部の
精度も高い。
According to the present invention, since the opening is not formed by using an etching solution, it is not necessary to manage a chemical solution, and the process is simplified, so that productivity is increased. The accuracy of the opening formed is also high.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)〜(f):本発明のフレキシブル基板の開口
部形成までの工程を説明するための図
FIGS. 1A to 1F are views for explaining steps up to the formation of an opening in a flexible substrate according to the present invention.

【図2】(g)〜(i):開口部を形成する工程を説明する
ための図
FIGS. 2G to 2I are diagrams for explaining a step of forming an opening.

【図3】(j)〜(m):開口部形成後の工程を説明するた
めの図
FIGS. 3 (j) to 3 (m): views for explaining steps after forming an opening.

【図4】(a)、(b):本発明のフレキシブル基板を積層
させる工程を説明するための図
FIGS. 4A and 4B are diagrams for explaining a step of laminating a flexible substrate of the present invention.

【図5】本発明の超音波装置の一例FIG. 5 shows an example of the ultrasonic apparatus of the present invention.

【図6】その先端付近の拡大図FIG. 6 is an enlarged view of the vicinity of the tip.

【図7】本発明の超音波装置の他の例FIG. 7 shows another example of the ultrasonic apparatus of the present invention.

【図8】その先端付近の拡大図FIG. 8 is an enlarged view of the vicinity of the tip.

【図9】(a)〜(d):開口部の状態を説明するための図FIGS. 9A to 9D are diagrams for explaining states of openings.

【図10】(a)〜(e):従来技術のフレキシブル基板の
製造工程を説明するための図
FIGS. 10A to 10E are diagrams for explaining a manufacturing process of a conventional flexible substrate.

【図11】(f)〜(i):その続きの工程を説明するため
の図
FIGS. 11 (f) to (i): diagrams for explaining subsequent steps

【図12】(j)〜(m):その続きの工程を説明するため
の図
FIGS. 12 (j) to (m): diagrams for explaining subsequent steps

【図13】(n)、(o):工程の最後の部分を説明するた
めの図
FIGS. 13 (n) and (o): diagrams for explaining the last part of the process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……金属膜 2、3……フレキシブル基板 4……加工対象物 6……樹脂フィルム 8、11……開口部 60、70……超音波装置 61、71……超音波発生部 62、72……共鳴部 65、65'、75……突起 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal film 2, 3 ... Flexible board 4 ... Workpiece 6 ... Resin film 8, 11 ... Opening 60, 70 ... Ultrasonic device 61, 71 ... Ultrasonic wave generator 62, 72 ...... Resonance part 65, 65 ', 75 ... Protrusion

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年7月31日(2000.7.3
1)
[Submission date] July 31, 2000 (2007.3.
1)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】発明の名称[Correction target item name] Name of invention

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【発明の名称】超音波装置並びにその超音波装置を用い
たフレキシブル基板及びその製造方法。
An ultrasonic apparatus, a flexible substrate using the ultrasonic apparatus, and a method of manufacturing the same.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0018[Correction target item name] 0018

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明の発明者等は、超
音波振動を用いて樹脂フィルムに開口を形成した場合、
エッチング法よりも精度が高いことを見いだし、本発明
を創作するに到ったものであり、その請求項1記載の発
明は、超音波振動を発生する超音波発生部と、前記超音
波振動が伝達される共鳴部と、前記共鳴部の先端部表面
に設けられ、平面状の加工対象物に対して当接可能な複
数の突起とを有し、金属膜上に配置された樹脂フィルム
に前記各突起を当接させ、前記各突起に超音波を印加し
て前記樹脂フィルムを掘削し、前記樹脂フィルムに、底
面に前記金属膜が露出した複数の開口部を前記樹脂フィ
ルムの所定位置に形成する超音波振動装置であって、前
記各突起は、形成すべき前記各開口部に対応する前記共
鳴部上の位置に配置された超音波装置である。請求項2
記載の発明は、請求項1記載の超音波装置であって、前
記先端部表面は、加工対象の樹脂フィルムに対し、平行
に配置された超音波装置である。請求項3記載の発明
は、請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の超音波
装置であって、前記突起の高さは、掘削すべき前記樹脂
フィルムの厚さよりも大きくされた超音波装置である。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれ
か1項記載の超音波装置であって、前記超音波発生部に
よって生成され、前記共鳴部に伝達された超音波振動
は、前記各突起を加工対象の前記樹脂フィルム表面に押
し当てたときに、前記各突起を前記樹脂フィルムの表面
に沿った方向に超音波振動させるように構成された超音
波装置である。請求項5記載の発明は、請求項1乃至請
求項4のいずれか1項記載の超音波装置であって、前記
超音波発生部は、加工対象の前記樹脂フィルムに対し、
斜め姿勢に配置された超音波装置である。請求項6記載
の発明は、金属膜と、前記金属膜上に配置された樹脂フ
ィルムと、前記樹脂フィルムの所定位置に配置され、底
面に前記金属膜が露出する複数の開口部とを有するフレ
キシブル基板の製造方法であって、前記各開口部を形成
すべき位置の前記樹脂フィルム上に突起をそれぞれ当接
させ、前記各突起を押圧しながら超音波振動させ、前記
各突起によって前記樹脂フィルムを掘削し、前記各突起
の先端が前記金属膜に到達した後、前記超音波振動を停
止させ、前記樹脂フィルムに前記開口部を形成するフレ
キシブル基板の製造方法である。請求項7記載の発明
は、請求項6記載のフレキシブル基板の製造方法であっ
て、前記突起を、前記樹脂フィルムの表面に沿った方向
に超音波振動させるフレキシブル基板の製造方法であ
る。請求項8記載の発明は、請求項6又は請求項7のい
ずれか1項記載のフレキシブル基板の製造方法であっ
て、前記突起の高さを、前記樹脂フィルムの厚さよりも
大きくしておくフレキシブル基板の製造方法である。請
求項9記載の発明は、請求項6乃至請求項8のいずれか
1項記載のフレキシブル基板の製造方法であって、前記
樹脂フィルムを硬化させた後、前記開口部を形成するフ
レキシブル基板の製造方法である。請求項10記載の発
明は、金属膜と、前記金属膜上に配置された樹脂フィル
ムとを有するフレキシブル基板であって、前記樹脂フィ
ルムには、超音波振動によって掘削され、底面に前記金
属膜が露出する開口部が形成されたフレキシブル基板で
ある。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have proposed that when an opening is formed in a resin film using ultrasonic vibration,
The inventors have found that the accuracy is higher than that of the etching method, and have come to create the present invention. The invention according to claim 1 includes an ultrasonic generator that generates ultrasonic vibration, and an ultrasonic generator that generates ultrasonic vibration. The transmitted resonance part, and a plurality of projections provided on the surface of the tip part of the resonance part and capable of abutting against a planar object to be processed, the resin film disposed on a metal film, The protrusions are brought into contact with each other, ultrasonic waves are applied to the protrusions, and the resin film is excavated, and a plurality of openings in which the metal film is exposed on the bottom surface are formed at predetermined positions on the resin film. The ultrasonic vibration device according to claim 1, wherein each of the protrusions is disposed at a position on the resonance unit corresponding to each of the openings to be formed. Claim 2
The invention described in the above is the ultrasonic apparatus according to claim 1, wherein the front end surface is arranged in parallel with the resin film to be processed. The invention according to claim 3 is the ultrasonic apparatus according to any one of claims 1 and 2, wherein the height of the projection is greater than the thickness of the resin film to be excavated. A sonic device.
The invention according to claim 4 is the ultrasonic apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the ultrasonic vibration generated by the ultrasonic generation unit and transmitted to the resonance unit is: An ultrasonic device configured to ultrasonically vibrate each of the projections in a direction along the surface of the resin film when each of the projections is pressed against the surface of the resin film to be processed. The invention according to claim 5 is the ultrasonic apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the ultrasonic generator is configured to perform processing on the resin film to be processed.
This is an ultrasonic device arranged in an oblique posture. The invention according to claim 6 is a flexible having a metal film, a resin film disposed on the metal film, and a plurality of openings disposed at predetermined positions of the resin film and exposing the metal film on a bottom surface. A method of manufacturing a substrate, wherein projections are respectively brought into contact with the resin film at positions where the respective openings are to be formed, and ultrasonic vibration is performed while pressing the respective projections. A method of manufacturing a flexible substrate in which excavation is performed and the ultrasonic vibration is stopped after the tip of each projection reaches the metal film, and the opening is formed in the resin film. The invention according to claim 7 is the method for manufacturing a flexible substrate according to claim 6, wherein the protrusion is ultrasonically vibrated in a direction along a surface of the resin film. The invention according to claim 8 is the method for manufacturing a flexible substrate according to any one of claims 6 and 7, wherein the height of the protrusion is greater than the thickness of the resin film. This is a method for manufacturing a substrate. According to a ninth aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a flexible substrate according to any one of the sixth to eighth aspects, wherein the opening is formed after the resin film is cured. Is the way. The invention according to claim 10 is a flexible substrate having a metal film and a resin film disposed on the metal film, wherein the resin film is excavated by ultrasonic vibration, and the metal film is formed on a bottom surface. This is a flexible substrate on which an exposed opening is formed.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0030[Correction target item name] 0030

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0030】図5の符号60は、開口部の形成に用いる
超音波装置を示している。この超音波装置60は、筒状
の超音波発生部61と、加工対象物に超音波振動を加え
る共鳴部62と、板状の台座66と、2本のガイド67
1、672とを有している。
Reference numeral 60 in FIG . 5 indicates an ultrasonic device used for forming the opening. The ultrasonic device 60 includes a cylindrical ultrasonic generating section 61, a resonance section 62 for applying ultrasonic vibration to an object to be processed, a plate-shaped pedestal 66, and two guides 67.
And a 1, 67 2.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0033[Correction target item name] 0033

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0033】共鳴部62の先端付近64の拡大図を図8
に示す。超音波発生部61及び共鳴部62は、水平な状
態でガイド671、672に取り付けられるようになって
おり、その状態で超音波発生部61及び共鳴部62を中
心軸線81を中心として回転させ、位置合わせをする
と、先端部表面69を水平にできるようになっている。
FIG. 8 is an enlarged view of the vicinity 64 of the tip of the resonance section 62.
Shown in Ultrasound generating unit 61 and the resonance unit 62 rotates about the guide 67 1, 67 2 have become attached way, the central axis 81 of ultrasonic wave generator 61 and the resonance unit 62 in that state in a horizontal state Then, when the alignment is performed, the front end surface 69 can be made horizontal.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 薄井 博由紀 栃木県鹿沼市さつき町12−3 ソニーケミ カル株式会社第2工場内 Fターム(参考) 5E338 AA12 AA16 BB02 BB19 BB28 CC01 EE31  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Hiroyuki Usui 12-3 Satsukicho, Kanuma City, Tochigi Prefecture Sony Chemical Co., Ltd. 2nd factory F-term (reference) 5E338 AA12 AA16 BB02 BB19 BB28 CC01 EE31

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】超音波振動を発生する超音波発生部と、 前記超音波振動が伝達される共鳴部とを有する超音波装
置であって、 前記共鳴部には、平面状の加工対象物に対して当接可能
な複数の突起が設けられたことを特徴とする超音波装
置。
1. An ultrasonic apparatus comprising: an ultrasonic generator for generating ultrasonic vibration; and a resonance unit to which the ultrasonic vibration is transmitted, wherein the resonance unit includes a flat object to be processed. An ultrasonic device comprising a plurality of projections which can be brought into contact with each other.
【請求項2】金属膜上に配置された樹脂フィルムを掘削
し、前記樹脂フィルムに、底面に前記金属膜が露出し、
所定位置に配置された複数の開口部を形成する請求項1
記載の超音波振動装置であって、 前記各突起は、前記共鳴部上で、形成すべき前記各開口
部に対応する位置に配置されたことを特徴とする超音波
装置。
2. Excavating a resin film disposed on a metal film, exposing the metal film on a bottom surface of the resin film,
A plurality of openings arranged at predetermined positions are formed.
The ultrasonic vibration device according to claim 1, wherein each of the protrusions is disposed on the resonance portion at a position corresponding to each of the openings to be formed.
【請求項3】前記突起の高さは、掘削すべき前記樹脂フ
ィルムの厚さよりも大きくされたことを特徴とする請求
項2記載の超音波装置。
3. The ultrasonic apparatus according to claim 2, wherein the height of the projection is larger than the thickness of the resin film to be excavated.
【請求項4】前記突起に前記平面状の加工対象物を押し
当てたときに、 前記共鳴部が伝達された前記超音波発生部からの超音波
振動は、前記突起を、前記加工対象物の表面に沿った方
向に超音波振動させるように構成された請求項1乃至請
求項3のいずれか1項記載の超音波装置。
4. When the planar processing object is pressed against the projection, the ultrasonic vibration from the ultrasonic generation unit to which the resonance unit is transmitted causes the projection to move the projection to the processing object. The ultrasonic device according to any one of claims 1 to 3, wherein the ultrasonic device is configured to perform ultrasonic vibration in a direction along a surface.
【請求項5】前記超音波発生部は、前記加工対象物に対
し、斜め姿勢に配置されたことを特徴とする請求項1乃
至請求項4のいずれか1項記載の超音波装置。
5. The ultrasonic apparatus according to claim 1, wherein the ultrasonic generator is disposed at an oblique posture with respect to the object to be processed.
【請求項6】金属膜と、 前記金属膜上に配置された樹脂フィルムと、 前記樹脂フィルムの所定位置に配置され、底面に前記金
属膜が露出する複数の開口部とを有するフレキシブル基
板の製造方法であって、 前記樹脂フィルムの前記各開口部を形成すべき位置に突
起をそれぞれ当接させ、 前記各突起を押圧しながら超音波振動させ、前記金属膜
が露出するまで前記樹脂フィルムを掘削し、前記開口部
を形成することを特徴とするフレキシブル基板の製造方
法。
6. A flexible substrate, comprising: a metal film; a resin film disposed on the metal film; and a plurality of openings disposed at predetermined positions of the resin film and exposing the metal film on a bottom surface. A method, wherein projections are respectively brought into contact with positions where the respective openings of the resin film are to be formed, and ultrasonic vibration is performed while pressing the respective projections, and the resin film is excavated until the metal film is exposed. And forming the opening.
【請求項7】前記突起を、前記樹脂フィルムの表面に沿
った方向に超音波振動させることを特徴とする請求項6
記載のフレキシブル基板の製造方法。
7. The ultrasonic vibration of the projection in a direction along a surface of the resin film.
The manufacturing method of the flexible substrate as described in the above.
【請求項8】前記突起の高さを、前記樹脂フィルムの厚
さよりも大きくしておくことを特徴とする請求項6又は
請求項7のいずれか1項記載のフレキシブル基板の製造
方法。
8. The method according to claim 6, wherein the height of the projection is larger than the thickness of the resin film.
【請求項9】前記樹脂フィルムを硬化させた後、前記開
口部を形成することを特徴とする請求項6乃至請求項8
のいずれか1項記載のフレキシブル基板の製造方法。
9. The method according to claim 6, wherein the opening is formed after the resin film is cured.
The method for manufacturing a flexible substrate according to any one of the above items.
【請求項10】金属膜と、前記金属膜上に配置された樹
脂フィルムとを有するフレキシブル基板であって、 前記樹脂フィルムには、超音波振動によって掘削され、
底面に前記金属膜が露出する開口部が形成されたことを
特徴とするフレキシブル基板。
10. A flexible substrate having a metal film and a resin film disposed on the metal film, wherein the resin film is excavated by ultrasonic vibration,
A flexible substrate, wherein an opening for exposing the metal film is formed on a bottom surface.
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