【特許請求の範囲】
【請求項１】 荷電粒子線によって基板にパターンを描画する動作を制御するための制御要素を有する荷電粒子線露光装置であって、
複数の圧縮された単位制御データを含む露光制御データを格納する格納部と、
前記格納部に格納された露光制御データから圧縮された単位制御データを抽出して展開するための複数の展開部と、
前記複数の展開部によって展開された複数の単位制御データに従って前記制御要素を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする荷電粒子線露光装置。
【請求項２】 前記複数の展開部は、並行して展開処理を実行することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項３】 前記複数の展開部は、互いに異なる期間に、圧縮された単位制御データを前記格納部からロードすることを特徴とする請求項１又は２に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項４】 前記複数の展開部によって展開される複数の単位制御データを前記制御要素の制御の際に利用される順に選択して前記制御部に提供する選択部を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項５】 前記露光制御データにおいて、前記複数の圧縮された単位制御データは、前記制御要素の制御の際に利用される順に並べられていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項６】 複数の荷電粒子線を発生するための荷電粒子源を更に備え、
前記制御要素は、基板に対する前記複数の荷電粒子線の照射を個別に制御する複数の照射制御部を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項７】 前記の各照射制御部は、荷電粒子線を基板に照射するか否かを制御することを特徴とする請求項６に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項８】 前記の各照射制御部は、荷電粒子線を基板に照射する時間を制御することを特徴とする請求項６に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項９】 前記の各照射制御部は、荷電粒子線を偏向させるか否かを制御するブランカを含むことを特徴とする請求項６に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項１０】 前記の各単位制御データは、前記複数の照射制御部を制御するためのデータを含むことを特徴とする請求項６乃至請求項９のいずれか１項に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項１１】 前記の各単位制御データは、同一期間内に前記複数の照射制御部の全てを制御するためのデータを含むことを特徴とする請求項６乃至請求項９のいずれか１項に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項１２】 前記制御要素は、荷電粒子線により基板を走査するための偏向器を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項１３】 基板に描画すべきパターンに基づいて前記露光制御データを生成する露光制御データ生成部を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項１２のいずれか１項に記載の荷電粒子線露光装置。
【請求項１４】 荷電粒子線によって基板にパターンを描画する動作を制御するための制御要素を有する荷電粒子線露光装置の制御方法であって、
複数の圧縮された単位制御データを含む露光制御データから圧縮された単位制御データを抽出して展開するための複数の展開部に各々展開処理を実行させる展開工程と、
前記展開工程において展開された複数の単位制御データに従って前記制御要素を制御する制御工程と、
を含むことを特徴とする荷電粒子線露光装置の制御方法。
【請求項１５】 荷電粒子線によって基板にパターンを描画する動作を制御するための制御要素を有する荷電粒子線露光装置を工程の一部に利用するデバイスの製造方法であって、前記荷電粒子線露光装置において、
複数の圧縮された単位制御データを含む露光制御データから圧縮された単位制御データを抽出して展開するための複数の展開部に各々展開処理を実行させる展開工程と、
前記展開工程において展開された複数の単位制御データに従って前記制御要素を制御しながら基板にパターンを描画する描画工程と、
を実行することを特徴とするデバイスの製造方法。
[Claims]
1. A charged particle beam exposure apparatus comprising a control element for controlling an operation of drawing a pattern on a substrate by a charged particle beam.
A storage unit that stores exposure control data including multiple compressed unit control data,
A plurality of expansion units for extracting and expanding compressed unit control data from the exposure control data stored in the storage unit, and
A control unit that controls the control element according to a plurality of unit control data developed by the plurality of expansion units, and a control unit that controls the control element.
A charged particle beam exposure apparatus comprising.
2. The charged particle beam exposure apparatus according to claim 1, wherein the plurality of expansion units execute expansion processing in parallel.
3. The charged particle beam exposure apparatus according to claim 1, wherein the plurality of developing units load compressed unit control data from the storage unit in different periods from each other.
4. A feature of the present invention is further comprising a selection unit that selects a plurality of unit control data developed by the plurality of expansion units in the order in which they are used when controlling the control element and provides the control unit. The charged particle beam exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3.
5. Claims 1 to 4, wherein in the exposure control data, the plurality of compressed unit control data are arranged in the order in which they are used when controlling the control element. The charged particle beam exposure apparatus according to any one of the above.
6. A charged particle source for generating a plurality of charged particle beams is further provided.
The charged particle beam according to any one of claims 1 to 5, wherein the control element includes a plurality of irradiation control units that individually control irradiation of the plurality of charged particle beams to the substrate. Exposure device.
7. The charged particle beam exposure apparatus according to claim 6, wherein each irradiation control unit controls whether or not the substrate is irradiated with the charged particle beam.
8. The charged particle beam exposure apparatus according to claim 6, wherein each irradiation control unit controls the time for irradiating the substrate with the charged particle beam.
9. The charged particle beam exposure apparatus according to claim 6, wherein each irradiation control unit includes a blanker for controlling whether or not the charged particle beam is deflected.
10. The charged particle beam according to claim 6, wherein each unit control data includes data for controlling the plurality of irradiation control units. Exposure device.
11. Any one of claims 6 to 9, wherein each unit control data includes data for controlling all of the plurality of irradiation control units within the same period. The charged particle beam exposure apparatus according to the above.
12. The charged particle beam exposure apparatus according to claim 1, wherein the control element includes a deflector for scanning a substrate with a charged particle beam.
13. The charge according to claim 1, further comprising an exposure control data generation unit that generates the exposure control data based on a pattern to be drawn on the substrate. Particle beam exposure device.
14. A method for controlling a charged particle beam exposure apparatus, which comprises a control element for controlling an operation of drawing a pattern on a substrate by a charged particle beam.
A decompression process in which a plurality of decompression units for extracting and decompressing compressed unit control data from exposure control data including a plurality of compressed unit control data execute decompression processing, respectively.
A control step of controlling the control element according to a plurality of unit control data developed in the development step, and a control step of controlling the control element.
A method for controlling a charged particle beam exposure apparatus, which comprises.
15. A method of manufacturing a device utilizing a charged particle beam exposure device having a control element for controlling the operation of drawing a pattern on a substrate by the charged particle beam to a portion of the process, the charged particle beam In the exposure equipment
A decompression process in which a plurality of decompression units for extracting and decompressing compressed unit control data from exposure control data including a plurality of compressed unit control data execute decompression processing, respectively.
A drawing process of drawing a pattern on a substrate while controlling the control elements according to a plurality of unit control data developed in the development process.
A method of manufacturing a device characterized by performing.