JP4543530B2
(ja)
*
|
2000-09-22 |
2010-09-15 |
ソニー株式会社 |
半透過型液晶表示装置の製造方法
|
KR100453088B1
(ko)
*
|
2001-01-15 |
2004-10-15 |
가부시끼가이샤 도시바 |
액정표시장치
|
KR20030011695A
(ko)
|
2001-08-01 |
2003-02-11 |
삼성전자주식회사 |
액정표시장치 및 이의 제조 방법
|
JP5093709B2
(ja)
*
|
2001-08-22 |
2012-12-12 |
Nltテクノロジー株式会社 |
液晶表示装置
|
JP5028727B2
(ja)
*
|
2001-08-29 |
2012-09-19 |
凸版印刷株式会社 |
反射体およびこの反射体を用いた媒体
|
JP2003075852A
(ja)
*
|
2001-09-04 |
2003-03-12 |
Toshiba Corp |
半透過液晶表示装置
|
JP2003121834A
(ja)
*
|
2001-10-11 |
2003-04-23 |
Koninkl Philips Electronics Nv |
反射及び透過領域を有する画素電極及びこれを用いた液晶表示装置
|
TWI226965B
(en)
|
2001-10-30 |
2005-01-21 |
Nec Lcd Technologies Ltd |
Semi-transmission type liquid crystal display and fabrication method thereof
|
JP3714244B2
(ja)
*
|
2001-12-14 |
2005-11-09 |
セイコーエプソン株式会社 |
半透過・反射型電気光学装置の製造方法、半透過・反射型電気光学装置、および電子機器
|
JP2004199050A
(ja)
*
|
2002-12-06 |
2004-07-15 |
Citizen Watch Co Ltd |
反射性基板とそれを用いた液晶表示パネル
|
TWI250332B
(en)
|
2002-12-12 |
2006-03-01 |
Seiko Epson Corp |
Substrate for optoelectronic device, manufacturing method of substrate for optoelectronic device, optoelectronic device, manufacturing method of optoelectronic device, electronic machine and mask
|
JP3758652B2
(ja)
|
2003-01-24 |
2006-03-22 |
セイコーエプソン株式会社 |
液晶表示装置および電子機器
|
JP4513269B2
(ja)
*
|
2003-03-13 |
2010-07-28 |
セイコーエプソン株式会社 |
半透過・反射型液晶表示装置および電子機器
|
JP2004361633A
(ja)
|
2003-06-04 |
2004-12-24 |
Sony Corp |
液晶表示装置
|
JP2005189429A
(ja)
*
|
2003-12-25 |
2005-07-14 |
Casio Comput Co Ltd |
液晶表示素子
|
KR101005355B1
(ko)
*
|
2003-12-29 |
2011-01-05 |
엘지디스플레이 주식회사 |
반사투과형 액정표시장치와 그 제조방법
|
KR100665871B1
(ko)
*
|
2005-04-21 |
2007-01-10 |
미래나노텍(주) |
액정표시장치의 백라이트 어셈블리
|
JP2007206720A
(ja)
*
|
2007-04-06 |
2007-08-16 |
Seiko Epson Corp |
反射体およびその製造方法
|
JP4912245B2
(ja)
*
|
2007-07-20 |
2012-04-11 |
株式会社 日立ディスプレイズ |
液晶表示装置
|
KR101842865B1
(ko)
*
|
2009-12-28 |
2018-03-28 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
액정 표시 장치 및 전자 기기
|
KR101872678B1
(ko)
*
|
2009-12-28 |
2018-07-02 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
액정 표시 장치 및 전자 기기
|
WO2011081041A1
(en)
|
2009-12-28 |
2011-07-07 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Semiconductor device and method for manufacturing the semiconductor device
|
KR101744906B1
(ko)
*
|
2010-01-20 |
2017-06-20 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
표시 장치 및 표시 장치의 구동 방법
|
US9000438B2
(en)
|
2010-02-26 |
2015-04-07 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Semiconductor device and manufacturing method thereof
|
JP2015087480A
(ja)
*
|
2013-10-29 |
2015-05-07 |
株式会社ジャパンディスプレイ |
表示装置およびその製造方法
|
JP2015129894A
(ja)
|
2014-01-09 |
2015-07-16 |
セイコーエプソン株式会社 |
マイクロレンズアレイ、マイクロレンズアレイの製造方法、電気光学装置、及び電子機器
|