JP2001073089A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001073089A5 JP2001073089A5 JP1999211489A JP21148999A JP2001073089A5 JP 2001073089 A5 JP2001073089 A5 JP 2001073089A5 JP 1999211489 A JP1999211489 A JP 1999211489A JP 21148999 A JP21148999 A JP 21148999A JP 2001073089 A5 JP2001073089 A5 JP 2001073089A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- less
- binding energy
- atomic
- amount
- nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 12
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical class [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- 230000001809 detectable Effects 0.000 description 4
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- KSPMJHKUXSQDSZ-UHFFFAOYSA-N [N].[N] Chemical compound [N].[N] KSPMJHKUXSQDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000003750 conditioning Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】 最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー１８５〜１９６ｅＶのＢ(ホウ素)の最大検出量が７原子％以下、結合エネルギー３９５〜４０３ｅＶのＮ(窒素)の最大検出量が４原子％以下、結合エネルギー１５６〜１６８ｅＶのＳ（硫黄）の最大検出量が２原子％以下であり、且つ、前記Ｂ(ホウ素)とＮ(窒素)とＳ（硫黄）の最大検出量の総和が１３原子％以下のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板であって、該Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板は重量％でＮｉ：２８〜５２％、Ｓｉ：０．０３％以下、Ｍｎ：０．３％以下、Ｓ：０．００６％以下、Ｂ：０．００３％以下、Ｎ：０．００５％以下を含有し、残部は不可避的不純物とＦｅでなることを特徴とする整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板。
【請求項２】 最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー９７〜１０５ｅＶのＳｉの最大検出量が、４原子％以下、結合エネルギー４５〜５０ｅＶのＭｎの最大検出量が、４原子％以下であることを特徴とする請求項１に記載の整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板。
【請求項３】 最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー１８５〜１９６ｅＶのＢ（ホウ素）、結合エネルギー３９５〜４０３ｅＶのＮ（窒素）、結合エネルギー１５６〜１６８ｅＶのＳ（硫黄）、結合エネルギー９７〜１０５ｅＶのＳｉ、結合エネルギー４５〜５０ｅＶのＭｎの最大検出量の総和が、２０原子％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板。
【請求項４】 請求項１乃至３の何れかに記載のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板を用いてなることを特徴とするシャドウマスク。
【請求項５】 請求項１乃至３の何れかに記載のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板に円形のエッチング孔を形成した時、前記エッチング孔の真円度が、
４π×（孔面積）／（孔周囲長の２乗）≧０．６０
の関係を満たすことを特徴とするシャドウマスク。
【請求項１】 最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー１８５〜１９６ｅＶのＢ(ホウ素)の最大検出量が７原子％以下、結合エネルギー３９５〜４０３ｅＶのＮ(窒素)の最大検出量が４原子％以下、結合エネルギー１５６〜１６８ｅＶのＳ（硫黄）の最大検出量が２原子％以下であり、且つ、前記Ｂ(ホウ素)とＮ(窒素)とＳ（硫黄）の最大検出量の総和が１３原子％以下のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板であって、該Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板は重量％でＮｉ：２８〜５２％、Ｓｉ：０．０３％以下、Ｍｎ：０．３％以下、Ｓ：０．００６％以下、Ｂ：０．００３％以下、Ｎ：０．００５％以下を含有し、残部は不可避的不純物とＦｅでなることを特徴とする整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板。
【請求項２】 最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー９７〜１０５ｅＶのＳｉの最大検出量が、４原子％以下、結合エネルギー４５〜５０ｅＶのＭｎの最大検出量が、４原子％以下であることを特徴とする請求項１に記載の整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板。
【請求項３】 最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー１８５〜１９６ｅＶのＢ（ホウ素）、結合エネルギー３９５〜４０３ｅＶのＮ（窒素）、結合エネルギー１５６〜１６８ｅＶのＳ（硫黄）、結合エネルギー９７〜１０５ｅＶのＳｉ、結合エネルギー４５〜５０ｅＶのＭｎの最大検出量の総和が、２０原子％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板。
【請求項４】 請求項１乃至３の何れかに記載のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板を用いてなることを特徴とするシャドウマスク。
【請求項５】 請求項１乃至３の何れかに記載のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板に円形のエッチング孔を形成した時、前記エッチング孔の真円度が、
４π×（孔面積）／（孔周囲長の２乗）≧０．６０
の関係を満たすことを特徴とするシャドウマスク。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した問題に鑑みてなされたもので、本発明の最も重要な特徴は、特定の深さの表層部における、化合物、若しくは化合物＋メタルの結合状態を示す元素の量を調整することにある。
すなわち本発明は、最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー１８５〜１９６ｅＶのＢ(ホウ素)の最大検出量が７原子％以下、結合エネルギー３９５〜４０３ｅＶのＮ(窒素)の最大検出量が４原子％以下、結合エネルギー１５６〜１６８ｅＶのＳ（硫黄）の最大検出量が２原子％以下であり、且つ、前記Ｂ(ホウ素)とＮ(窒素)とＳ（硫黄）の最大検出量の総和が１３原子％以下のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板であって、該Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板は重量％でＮｉ：２８〜５２％、Ｓｉ：０．０３％以下、Ｍｎ：０．３％以下、Ｓ：０．００６％以下、Ｂ：０．００３％以下、Ｎ：０．００５％以下を含有し、残部は不可避的不純物とＦｅでなる整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板である。
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した問題に鑑みてなされたもので、本発明の最も重要な特徴は、特定の深さの表層部における、化合物、若しくは化合物＋メタルの結合状態を示す元素の量を調整することにある。
すなわち本発明は、最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー１８５〜１９６ｅＶのＢ(ホウ素)の最大検出量が７原子％以下、結合エネルギー３９５〜４０３ｅＶのＮ(窒素)の最大検出量が４原子％以下、結合エネルギー１５６〜１６８ｅＶのＳ（硫黄）の最大検出量が２原子％以下であり、且つ、前記Ｂ(ホウ素)とＮ(窒素)とＳ（硫黄）の最大検出量の総和が１３原子％以下のＦｅ−Ｎｉ系合金薄板であって、該Ｆｅ−Ｎｉ系合金薄板は重量％でＮｉ：２８〜５２％、Ｓｉ：０．０３％以下、Ｍｎ：０．３％以下、Ｓ：０．００６％以下、Ｂ：０．００３％以下、Ｎ：０．００５％以下を含有し、残部は不可避的不純物とＦｅでなる整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板である。
好ましくは、最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー９７〜１０５ｅＶのＳｉの最大検出量が、４原子％以下、結合エネルギー４５〜５０ｅＶのＭｎの最大検出量が、４原子％以下である整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板である。
更に好ましくは、最表面から１ｎｍまでの深さを光電子分光装置で測定した時、結合エネルギー１８５〜１９６ｅＶのＢ（ホウ素）、結合エネルギー３９５〜４０３ｅＶのＮ（窒素）、結合エネルギー１５６〜１６８ｅＶのＳ（硫黄）、結合エネルギー９７〜１０５ｅＶのＳｉ、結合エネルギー４５〜５０ｅＶのＭｎの量の総和が、１０原子％以下である整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21148999A JP4164782B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-27 | 整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板およびそれを用いたシャドウマスク |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18852999 | 1999-07-02 | ||
| JP11-188529 | 1999-07-02 | ||
| JP21148999A JP4164782B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-27 | 整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板およびそれを用いたシャドウマスク |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001073089A JP2001073089A (ja) | 2001-03-21 |
| JP2001073089A5 true JP2001073089A5 (ja) | 2006-06-29 |
| JP4164782B2 JP4164782B2 (ja) | 2008-10-15 |
Family
ID=26504990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21148999A Expired - Lifetime JP4164782B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-27 | 整面処理性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板およびそれを用いたシャドウマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4164782B2 (ja) |
-
1999
- 1999-07-27 JP JP21148999A patent/JP4164782B2/ja not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2700730A3 (en) | Steel sheet having high Young's modulus, hot-dip galvanized steel sheet using the same, alloyed hot-dip galvanized steel sheet, steel pipe having high Young's modulus, and methods for manufacturing these | |
| CA2312581A1 (en) | Heat resistant nickel base alloy | |
| EP1225600A3 (en) | Black magnetic iron oxide particles and magnetic toner | |
| CA2303732A1 (en) | Multi-layered anti-coking heat resisting metal tube and the method for manufacturing thereof | |
| JP2009018573A (ja) | 電気的絶縁被覆を含む方向性電磁鋼板 | |
| EP1340825A3 (en) | Ni-base alloy, heat-resistant spring made of the alloy, and process for producing the spring | |
| CA2422352A1 (en) | Cold-rolled steel sheet having ultrafine grain structure and method for manufacturing the same | |
| JP2003536231A5 (ja) | ||
| WO2006037093A3 (en) | Low cost amorphous steel | |
| JP2004511651A5 (ja) | ニオブスパッタ要素、ニオブ金属およびそれを含む物品 | |
| JP5379717B2 (ja) | 蒸着用マスク | |
| JP2001073089A5 (ja) | ||
| JP2002322539A5 (ja) | ||
| CA2266825A1 (en) | Non-oriented electromagnetic steel sheet excellent in magnetic characteristics after stress relief annealing and method of manufacturing the same | |
| JP2000179453A5 (ja) | ||
| JP3150831B2 (ja) | 高ヤング率低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ合金 | |
| JP2004232025A (ja) | 蒸着用マスクおよびその製造方法 | |
| ATE404705T1 (de) | Al-legierung für lithographische platte | |
| JPH09275007A (ja) | 低鉄損方向性電磁鋼板 | |
| CN1662669A (zh) | 低热膨胀合金薄板及其制造方法 | |
| ATE91729T1 (de) | Oberflaechenbeschichtung aus einer aluminiumbasislegierung. | |
| KR100468298B1 (ko) | 히트 쉬링크 밴드용 강판 | |
| WO2001059169A1 (fr) | Alliage fe-ni-co pour masque entierement plat du type masque forme a la presse, masque entierement plat correspondant et tube cathodique couleur utilisant un tel masque | |
| JP2003105495A5 (ja) | ||
| TW565622B (en) | Low thermal expansion alloy sheet and method for manufacturing the same |