JP2001066588A - Liquid crystal display panel - Google Patents

Liquid crystal display panel

Info

Publication number
JP2001066588A
JP2001066588A JP24508499A JP24508499A JP2001066588A JP 2001066588 A JP2001066588 A JP 2001066588A JP 24508499 A JP24508499 A JP 24508499A JP 24508499 A JP24508499 A JP 24508499A JP 2001066588 A JP2001066588 A JP 2001066588A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
width
support wall
liquid crystal
display panel
crystal display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24508499A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Fukui
毅 福井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hiroshima Opt Corp
Kyocera Display Corp
Original Assignee
Hiroshima Opt Corp
Kyocera Display Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hiroshima Opt Corp, Kyocera Display Corp filed Critical Hiroshima Opt Corp
Priority to JP24508499A priority Critical patent/JP2001066588A/en
Publication of JP2001066588A publication Critical patent/JP2001066588A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent distortion of a glass substrate causing generation of color unevenness (luminance unevenness) without sacrificing lightness at the time of lightening in an inner surface black mask type liquid crystal display panel. SOLUTION: A liquid crystal display panel provided with a pair of glass substrates 1a and 1b having transparent electrodes and a black mask B for shielding light passing through a part except a display part on a side of an inner surface of the one glass substrate 1a comprises a specified display part Sa wherein at least either of the width or length of the display part is specified to be >=400 μm and a supporting wall 10 having a width Wb disposed in a grid shape on the specified display part Sa with a pitch Wp six times the width Wb or more and fifteen times the width Wb or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示パネルに関
し、さらに詳しく言えば、表示部分以外の部分を遮光す
るためのブラックマスクを内面に備えた液晶表示パネル
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display panel, and more particularly, to a liquid crystal display panel having a black mask on its inner surface for shielding a portion other than a display portion from light.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルをその表示形態で分ける
と、セグメント表示型とドットマトリクス表示型とに大
別されるが、いずれの場合にも表示に関与しない非表示
部分には光の漏洩を防止するためのブラックマスク(遮
光膜)が設けられている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display panel is roughly classified into a segment display type and a dot matrix display type. In any case, a non-display portion which is not involved in the display leaks light. A black mask (light shielding film) for prevention is provided.

【0003】図5は、その内のセグメント表示型液晶表
示パネルの表示画面例で、白抜き部分がセグメント表示
部分であり、黒べた部分がブラックマスクによる非表示
部分(遮光部分)である。図6および図7は、それぞれ
図5のA−A線に沿った第1従来例と第2従来例の縦断
面図であり、まず、これにより各従来例の内部構造を概
略的に説明する。
FIG. 5 shows an example of a display screen of a segment display type liquid crystal display panel, in which a white portion is a segment display portion, and a solid black portion is a non-display portion (light-shielded portion) using a black mask. FIGS. 6 and 7 are longitudinal sectional views of the first conventional example and the second conventional example, respectively, taken along the line AA of FIG. 5. First, the internal structure of each conventional example will be schematically described. .

【0004】各従来例ともに、一対の透明なガラス基板
1a,1bを備えており、それぞれ一方のガラス基板1
aの内面側にはセグメント表示部分Sを除いた非表示部
分にブラックマスクBが設けられており、図示されてい
ないが、他方のガラス基板1bの内面側には透明電極が
形成されている。
[0004] Each of the conventional examples includes a pair of transparent glass substrates 1a and 1b.
A black mask B is provided on the non-display portion except for the segment display portion S on the inner surface side of a, and although not shown, a transparent electrode is formed on the inner surface side of the other glass substrate 1b.

【0005】図6の第1従来例においては、ブラックマ
スクB上に所定の膜厚をもって表面平滑化層2が設けら
れ、その上に透明電極(図示しない)が形成されてい
る。これに対して、図7の第2従来例においては、ブラ
ックマスクBを有するガラス基板1a上に、表面平滑化
層2を設けることなく、直接的に透明電極(図示しな
い)が形成されている。
In the first conventional example shown in FIG. 6, a surface smoothing layer 2 having a predetermined thickness is provided on a black mask B, and a transparent electrode (not shown) is formed thereon. On the other hand, in the second conventional example of FIG. 7, a transparent electrode (not shown) is directly formed on the glass substrate 1a having the black mask B without providing the surface smoothing layer 2. .

【0006】そして、各従来例ともに、例えば一方のガ
ラス基板1a上に面内スペーサ3を散布し、反対側の他
方のガラス基板1bの周囲に周辺シール材(図示しな
い)を塗布した後、両ガラス基板1a,1bを周辺シー
ル材を介して圧着し、そのセルギャップ内に所定の液晶
物質を注入してなる。
In each of the conventional examples, for example, an in-plane spacer 3 is scattered on one glass substrate 1a and a peripheral sealing material (not shown) is applied around the other glass substrate 1b. The glass substrates 1a and 1b are pressure-bonded via a peripheral sealing material, and a predetermined liquid crystal substance is injected into the cell gap.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】面内スペーサ3は平均
直径が例えば6μm程度のビーズ球からなり、セルギャ
ップ幅を均一に保つ目的で用いられているが、上記従来
例のような内面ブラックマスク型では次のような課題が
あった。
The in-plane spacer 3 is formed of a bead sphere having an average diameter of, for example, about 6 μm, and is used for the purpose of keeping the cell gap width uniform. The mold had the following problems.

【0008】すなわち、ブラックマスクBの厚さは通常
1〜2μmであるが、ブラックマスクBがある部分とな
い部分とでは段差が生ずる。なお、第1従来例のよう
に、ブラックマスクB上に表面平滑化層2を形成するに
しても、1回の塗布作業で凹み部分のみを厚く、凸部分
を薄くすることは困難であるため、その表面にブラック
マスクBによる凹凸が現れることになる。
That is, the thickness of the black mask B is usually 1 to 2 μm, but a step is formed between a portion where the black mask B is provided and a portion where the black mask B is not provided. In addition, even if the surface smoothing layer 2 is formed on the black mask B as in the first conventional example, it is difficult to make only the concave portion thick and the convex portion thin in one coating operation. Then, irregularities due to the black mask B appear on the surface.

【0009】したがって、ブラックマスクBがないセグ
メント表示部分Sでは、面内スペーサ3がその低いとこ
ろに落ち込むため、ブラックマスクBの上に乗っている
面内スペーサ3との間で高低差が生ずる。
Therefore, in the segment display portion S where the black mask B is not provided, the in-plane spacer 3 falls to a lower place, and a height difference occurs between the in-plane spacer 3 and the in-plane spacer 3 on the black mask B.

【0010】これにより、図6および図7に誇張して示
されているように、他方のガラス基板1b側が歪み、色
むら(点灯むら)が発生することがあった。ドットマト
リクス表示型についても同様であり、セグメント表示、
ドットマトリクス表示のいずれの場合においても、特に
その表示部分の幅もしくは長さが400μm以上である
場合に、色むら現象が顕著に現れる。
As a result, as shown exaggeratedly in FIGS. 6 and 7, the other glass substrate 1b may be distorted, causing color unevenness (lighting unevenness). The same applies to the dot matrix display type, with segment display,
In any case of the dot matrix display, the color unevenness phenomenon remarkably appears particularly when the width or the length of the display portion is 400 μm or more.

【0011】なお、ブラックマスクBによる段差を埋め
てセルギャップ面を均一にするには、例えば第1従来例
の表面平滑化層2上に、さらに表面平滑化層を好ましく
は複数回にわたって形成すればよいのであるが、これに
よると、その分製造工程が増えるばかりでなく、パネル
自体の厚さにも影響が出るため、好ましい方法とは言え
ない。
In order to fill the steps formed by the black mask B and make the cell gap surface uniform, for example, a surface smoothing layer is preferably formed a plurality of times on the surface smoothing layer 2 of the first conventional example. However, this method is not a preferable method because not only the number of manufacturing steps increases but also the thickness of the panel itself is affected.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するためになされたもので、その目的は、本来
ブラックマスクが設けられない表示部分に、その表示に
悪影響を与えることのない面内スペーサの支持壁を備
え、ガラス基板に歪みが発生しないようにした液晶表示
パネルを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a display portion on which a black mask is not originally provided with an adverse effect on the display. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display panel having a support wall of an in-plane spacer that does not cause distortion in a glass substrate.

【0013】本発明によれば、この目的は、透明電極を
有する一対のガラス基板を備え、その一方のガラス基板
の内面側には、表示部分以外の部分を遮光するためのブ
ラックマスクが設けられている液晶表示パネルにおい
て、幅もしくは長さの少なくともいずれか一方が400
μm以上の大きさとされている特定表示部分を有する場
合、その特定表示部分に対応する上記一方の透明ガラス
基板の内面側に、上記ブラックマスクの厚さとほぼ同一
の高さを有する支持壁を格子状に形成するにあたって、
上記支持壁の幅をWb、上記支持壁の間隔をWpとし
て、上記支持壁の間隔Wpを6×Wb≦Wp≦15×W
bとすることにより達成される。
According to the present invention, an object of the present invention is to provide a pair of glass substrates having a transparent electrode, and a black mask for shielding light other than the display portion is provided on the inner surface of one of the glass substrates. Liquid crystal display panel, at least one of the width and the length is 400
When a specific display portion having a size of at least μm is provided, a supporting wall having a height substantially equal to the thickness of the black mask is formed on the inner surface of the one transparent glass substrate corresponding to the specific display portion. In forming the shape
Assuming that the width of the support wall is Wb and the interval between the support walls is Wp, the interval Wp of the support wall is 6 × Wb ≦ Wp ≦ 15 × W
b.

【0014】例えば、支持壁の幅が30μmである場
合、その配置ピッチは180〜450μmの範囲内に設
定され、支持壁の幅が10μmのときには、その配置ピ
ッチは60〜150μmの範囲内に設定される。これに
よれば、表示部分の明るさ(輝度)を損なうことなく、
ガラス基板の平坦度を維持することができる。
For example, when the width of the support wall is 30 μm, the arrangement pitch is set within a range of 180 to 450 μm. When the width of the support wall is 10 μm, the arrangement pitch is set within a range of 60 to 150 μm. Is done. According to this, without deteriorating the brightness (brightness) of the display portion,
The flatness of the glass substrate can be maintained.

【0015】支持壁の間隔Wpが6×Wb未満の場合に
は、数多くの面内スペーサをブラックマスクの厚さとほ
ぼ同じ高さに支持することができるが、他方において、
表示部分の明るさが犠牲になってしまうので好ましくな
い。
When the distance Wp between the support walls is less than 6 × Wb, a large number of in-plane spacers can be supported at substantially the same height as the thickness of the black mask.
It is not preferable because the brightness of the display portion is sacrificed.

【0016】また、支持壁の間隔Wpが15×Wbを超
えた場合には、十分な明るさは得られるが、面内スペー
サの大多数が表示部分の凹部内に落ち込むため、ガラス
基板の平坦度を維持することが困難となるので好ましく
ない。
Further, when the distance Wp between the support walls exceeds 15 × Wb, sufficient brightness can be obtained, but the majority of the in-plane spacers fall into the concave portions of the display portion. It is not preferable because it becomes difficult to maintain the degree.

【0017】支持壁の幅が大きすぎると、支持壁の存在
が視認される現象が生ずる。また、支持壁の幅が狭すぎ
ると、強度的に支持壁としての機能に問題が生ずる。そ
のため、本発明においては、支持壁の幅Wbは5〜50
μm、特には10〜30μmの範囲内であることが好ま
しい。
If the width of the support wall is too large, a phenomenon occurs in which the presence of the support wall is visually recognized. On the other hand, if the width of the support wall is too narrow, there is a problem in terms of strength as a support wall. Therefore, in the present invention, the width Wb of the support wall is 5 to 50.
μm, particularly preferably in the range of 10 to 30 μm.

【0018】ちなみに、支持壁の幅Wbを最小の5μ
m、その配置ピッチも最小の6倍とすると、5×6=3
0μm間隔で支持壁が設けられることになる。このよう
にしても、支持壁の幅Wbが狭いため明るさの点では問
題がない。
By the way, the width Wb of the supporting wall is set to a minimum of 5 μm.
m, and the arrangement pitch is also 6 times the minimum, 5 × 6 = 3
Support walls will be provided at 0 μm intervals. Even in this case, there is no problem in terms of brightness because the width Wb of the support wall is narrow.

【0019】これに対して、支持壁の幅Wbを最大の5
0μm、その配置ピッチも最大の15倍としても、50
×15=750μmとなり、表示部分の大きさが400
μm以上の場合に十分に対応することができる。
On the other hand, the width Wb of the support wall is set to a maximum of 5
0 μm, and even if the arrangement pitch is 15 times the maximum, 50 μm
× 15 = 750 μm, and the size of the display part is 400
It is possible to sufficiently cope with the case where the thickness is not less than μm.

【0020】また、支持壁を形成するにあたって、その
材料は特に限定されないが、製造工程の重複を避けるこ
とからすれば、支持壁はブラックマスクと同じ材料から
形成されることが好ましく、これによれば、ブラックマ
スクを形成する際に、同時に支持壁を形成することがで
きる。
In forming the support wall, the material is not particularly limited. However, in order to avoid duplication of the manufacturing process, the support wall is preferably formed from the same material as the black mask. For example, the support wall can be formed at the same time when the black mask is formed.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】次に、本発明を図面に示されてい
る実施例に基づいてより詳しく説明する。なお、この実
施例の液晶表示パネルは、先に説明した図5と同じ表示
パターンを有するセグメント表示型であり、上記各従来
例との比較を容易にするため、図1の第1実施例および
図2の第2実施例ともに、図5のA−A線に沿った断面
図として示されている。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will now be described in more detail with reference to an embodiment shown in the drawings. Note that the liquid crystal display panel of this embodiment is a segment display type having the same display pattern as that of FIG. 5 described above, and in order to facilitate comparison with each of the above-described conventional examples, FIG. Both of the second embodiment in FIG. 2 are shown as cross-sectional views along the line AA in FIG.

【0022】図1の第1実施例は上記第1従来例に対応
し、図2の第2実施例は上記第2従来例にしており、こ
れらの各実施例においても、その一方のガラス基板1a
の内面側にセグメント表示部分を除いた非表示部分にブ
ラックマスクBが設けられている。
The first embodiment of FIG. 1 corresponds to the first conventional example, and the second embodiment of FIG. 2 corresponds to the second conventional example. In each of these embodiments, one of the glass substrates is used. 1a
The black mask B is provided on the non-display portion except the segment display portion on the inner surface side of the.

【0023】ここで、図1および図2(図5の表示パタ
ーンのA−A線断面図)において、セグメント表示部分
中の幅が400μm以上のセグメント表示部分をSaと
すると、このセグメント表示部分Sa内には支持壁10
が格子状に形成されている。この支持壁10の高さはブ
ラックマスクBの厚さとほぼ同じである。
Here, in FIGS. 1 and 2 (sectional views taken along the line AA of the display pattern in FIG. 5), if the segment display portion having a width of 400 μm or more in the segment display portion is Sa, the segment display portion Sa Inside the support wall 10
Are formed in a lattice shape. The height of the support wall 10 is substantially the same as the thickness of the black mask B.

【0024】図1の第1実施例においては、ブラックマ
スクBおよび支持壁10上に所定の膜厚をもって表面平
滑化層2が設けられ、その上に透明電極(図示しない)
が形成されている。これに対して、図2の第2実施例に
おいては、ブラックマスクBおよび支持壁10を有する
ガラス基板1a上に、表面平滑化層2を設けることな
く、直接的に透明電極(図示しない)が形成されてい
る。
In the first embodiment shown in FIG. 1, a surface smoothing layer 2 having a predetermined thickness is provided on the black mask B and the support wall 10, and a transparent electrode (not shown) is provided thereon.
Are formed. On the other hand, in the second embodiment shown in FIG. 2, a transparent electrode (not shown) is directly provided on the glass substrate 1a having the black mask B and the support wall 10 without providing the surface smoothing layer 2. Is formed.

【0025】そして上記従来例と同様に、各実施例とも
に、例えば一方のガラス基板1a上に面内スペーサ3を
散布し、反対側の他方のガラス基板1bの周囲に周辺シ
ール材(図示しない)を塗布した後、両ガラス基板1
a,1bを周辺シール材を介して圧着し、そのセルギャ
ップ内に所定の液晶物質を注入してなる。
In the same manner as in the above-mentioned conventional example, in each embodiment, for example, an in-plane spacer 3 is scattered on one glass substrate 1a, and a peripheral sealing material (not shown) is provided around the other glass substrate 1b on the opposite side. After coating, both glass substrates 1
The cells a and 1b are pressure-bonded via a peripheral sealing material, and a predetermined liquid crystal substance is injected into the cell gap.

【0026】図3には、セグメント表示部分Sa内に設
けられる支持壁10の典型例が平面図として示されてい
る。この場合、セグメント表示部分Saが縦・横ともに
400μmであるとすると、支持壁10はその中央に十
文字状に配置される。なお、図3の鎖線で示されている
ように、支持壁10をセグメント表示部分Saの対角線
に沿って形成してもよい。
FIG. 3 is a plan view showing a typical example of the support wall 10 provided in the segment display portion Sa. In this case, assuming that the segment display portion Sa is 400 μm both vertically and horizontally, the support wall 10 is arranged in a cross shape at the center thereof. The support wall 10 may be formed along a diagonal line of the segment display portion Sa as shown by a chain line in FIG.

【0027】支持壁10は好ましくはブラックマスクB
と同じ材料からなり、その幅Wbは5〜50μmの範囲
内から選択される。また、支持壁10の配置ピッチWp
は6×Wb≦Wp≦15×Wbの範囲、すなわち、支持
壁10の幅Wbの6倍以上、15倍以下の範囲内で適宜
設定される。
The support wall 10 is preferably a black mask B
The width Wb is selected from the range of 5 to 50 μm. Also, the arrangement pitch Wp of the support wall 10
Is appropriately set in a range of 6 × Wb ≦ Wp ≦ 15 × Wb, that is, in a range of 6 times or more and 15 times or less of the width Wb of the support wall 10.

【0028】このような支持壁10の幅Wbおよび配置
ピッチWpによれば、支持壁10の耐荷重強度およびセ
グメント表示部分Saの点灯時の明るさ(輝度)のとを
両立させることができる。なお、ブラックマスクBも支
持壁の一種として見なしてよく、図3の例においては、
支持壁10の配置ピッチは200μmである。
According to the width Wb and the arrangement pitch Wp of the support wall 10, the load-bearing strength of the support wall 10 and the brightness (luminance) when the segment display portion Sa is lit can be made compatible. In addition, the black mask B may be regarded as a kind of the support wall, and in the example of FIG.
The arrangement pitch of the support walls 10 is 200 μm.

【0029】次に、図4(a)〜(d)に示されている
支持壁10の変形例について説明する。なお、これらの
図はいずれも平面図である。本発明において、支持壁1
0は格子状に配置されるが、「格子状」の定義は厳密に
解釈されるべきでない。
Next, a modification of the support wall 10 shown in FIGS. 4A to 4D will be described. These figures are all plan views. In the present invention, the support wall 1
The zeros are arranged in a grid, but the definition of "grid" should not be interpreted strictly.

【0030】例えば図4(a)に示されているように、
基本的には図面上垂直方向に延在する幹的な第1支持壁
メンバー110と、それに対して図面上水平方向に延在
する枝的な第2支持壁メンバー120とを備えていれば
よく、第1および第2支持壁メンバー120ともにその
本数に制限はない。第1支持壁メンバー110と第2支
持壁メンバー120の交差角は必ずしも直角である必要
はなく、任意の角度で交差していてもよい。
For example, as shown in FIG.
Basically, it suffices to include a trunk first support wall member 110 extending vertically in the drawing and a branch second support wall member 120 extending horizontally in the drawing. There is no limitation on the number of the first and second support wall members 120. The intersection angle between the first support wall member 110 and the second support wall member 120 does not necessarily have to be a right angle, and may intersect at any angle.

【0031】図4(a)のように、同一形状の複数の支
持壁10を平行的に並べて配置してもよい。この場合、
配置ピッチWpは第1支持壁メンバー110,110間
のピッチWp1と、第2支持壁メンバー120,120
間のピッチWp2とのいずれか狭い方のピッチが6×W
b≦Wp≦15×Wbの範囲を満足していればよい。
As shown in FIG. 4A, a plurality of support walls 10 having the same shape may be arranged in parallel. in this case,
The arrangement pitch Wp is the pitch Wp1 between the first support wall members 110, 110 and the second support wall members 120, 120.
The smaller of the two pitches is 6 × W
It is sufficient that the range of b ≦ Wp ≦ 15 × Wb is satisfied.

【0032】また、図4(a)を変形して図4(b)の
ように、同一形状の複数の支持壁10をその位相をずら
して並置することもできる。さらには、図4(c)のよ
うに、幹的な第1支持壁メンバー110に対して、枝的
な第2支持壁メンバー120をその左右に長さを変えて
交差させるようにしてもよい。図4(c)の例は、特に
セグメント表示部分Saが例えば図5に示されている星
形などの複雑な形状である場合に多く採用されるであろ
う。図5の星形表示例では、その星形の輪郭に平行に同
心的に支持壁を配置してもよい。
Further, as shown in FIG. 4B, by modifying FIG. 4A, a plurality of support walls 10 having the same shape can be juxtaposed with their phases shifted. Further, as shown in FIG. 4C, the branch second support wall member 120 may be crossed with the trunk first support wall member 110 by changing the length to the left and right. . The example of FIG. 4C will be often adopted particularly when the segment display portion Sa has a complicated shape such as the star shape shown in FIG. In the example of the star shape display in FIG. 5, the support wall may be arranged concentrically in parallel with the outline of the star shape.

【0033】また、支持壁10は図4(d)に示されて
いるように、個々の格子単位が菱形であってもよい。さ
らには、支持壁は円弧状のように曲率をもつものであっ
てもよい。このように、本発明の支持壁10には、上記
の各例およびこれに類する形状のものが含まれる。
Further, as shown in FIG. 4 (d), the support wall 10 may have a diamond-shaped lattice unit. Further, the support wall may have a curvature like an arc. As described above, the support wall 10 of the present invention includes each of the above-described examples and those having a similar shape.

【0034】[0034]

【実施例】次に、本発明の具体的な実施例およびその比
較例を説明する。なお、各例について、面内均一性(基
板の平坦度)および点灯時の明るさを評価したが、きわ
めて良好の場合を「◎」、やや良好の場合を「○」、や
や悪い場合を「△」そしてきわめて悪い場合を「×」と
した。また、これらを総合して5段階による総合評価を
行なった。評価は「1」がきめめて良好で、「2」がや
や良好、「3」が普通、「4」がやや悪い、「5」がき
めめて悪いである。
Next, specific examples of the present invention and comparative examples will be described. For each example, the in-plane uniformity (substrate flatness) and the brightness at the time of lighting were evaluated. "Excellent" was evaluated as "very good", "" as "good", and "" as poor. Δ ”and extremely bad cases were rated“ x ”. These were combined and a comprehensive evaluation was performed in five stages. The evaluation was “1”, which was fairly good, “2”, which was fairly good, “3”, which was normal, “4”, which was slightly bad, and “5”, which was fairly poor.

【0035】《実施例1;Wb30μm,Wp300μ
m(図1参照)》厚さ0.7mmのガラス基板の内面側
となる一方の面に、シリカのアルカリ防止膜をスパッタ
法により約200Åの厚さに成膜したマザー基板を用意
し、このマザー基板上に、90×40mmの図5に示さ
れているセグメント表示パターンを複数個レイアウトし
て、図1に示されている第1実施例の構造を有する液晶
表示パネルを以下の手順にしたがって製作した。まず、
上記マザー基板上に、ネガ型感光性ブラックマスク材料
をスピンコート法により約1.5μmの厚さに成膜し、
セグメント表示部分および液晶セルに設けられる周辺シ
ール材より外側の部分を遮光するフォトマスクを介して
300〜500mJの露光を行ない、現像、乾燥、ベー
キングしてブラックマスクを形成した(図5の黒べた部
分参照)。その際、セグメント表示部分の内の長さもし
くは幅の少なくともいずれか一方が400μm以上の大
きさである特定セグメント表示部分に、ブラックマスク
材料と同じ材料により幅30μmの支持壁を300μm
のピッチで格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置
ピッチWpを支持壁の幅Wbの10倍とした。なお参考
までに、これと並行して、ブラックマスクおよび支持壁
を印刷法により形成したところ、同様の見栄えもものが
得られた。次に、このマザー基板上に、表面平滑材とし
てJSR社製の透明樹脂をスピナーにて約2μmの厚さ
に塗布し乾燥させて表面平滑化層を形成した。しかるの
ち、その表面平滑化層上に230℃の温度雰囲気下でス
パッタ法により約1500Åの透明導電膜(ITO)を
成膜した。そして、その上にフォトレジストを塗布し、
セグメント表示部分およびその配線部分を遮光するフォ
トマスクを介して露光し現像した後、エッチングにより
不要な透明導電膜を除去するとともに、フォトレジスト
を剥離して一方のマザー電極基板を得た。対向するマザ
ー基板については、アルカリ防止膜および透明導電膜を
順次形成して、これを他方のマザー電極基板とした。こ
れらの両マザー電極基板に約500Åの配向膜を形成し
た。なお、他方のマザー電極基板については、配向膜を
形成する前にシリカと酸化チタンからなる透明絶縁膜を
形成した。各基板ともにその配向膜にラビング処理を施
した後、一方のマザー電極基板上に平均粒径が6μmの
面内スペーサを1cm当たり約15000個散布し
た。他方のマザー電極基板には、エポキシ樹脂よりなる
周辺シール材を印刷により塗布した。そして、両マザー
電極基板同士を対向させて熱圧着し、注入口出しを行な
った後、セルギャップ内に真空注入法によりネマティッ
ク液晶を注入し、その注入口を紫外線硬化樹脂にて封止
した。このようにして作製した液晶表示パネルについ
て、面内均一性(基板の平坦度)および点灯時の明るさ
を評価したところ、面内均一性はきわめて良好であった
ので、最高の◎とした。点灯時の明るさは、やや良好で
あり○とした。総合評価は最高の「1」とした。
<< Example 1; Wb 30 μm, Wp 300 μ
m (see FIG. 1) >> A mother substrate is prepared by sputtering an alkali prevention film of silica to a thickness of about 200 ° on one surface on the inner surface side of a glass substrate having a thickness of 0.7 mm by sputtering. A plurality of 90 × 40 mm segment display patterns shown in FIG. 5 are laid out on a mother substrate, and a liquid crystal display panel having the structure of the first embodiment shown in FIG. Made. First,
On the mother substrate, a negative photosensitive black mask material is formed into a film having a thickness of about 1.5 μm by spin coating,
Exposure of 300 to 500 mJ was performed through a photomask that shields the segment display portion and a portion outside the peripheral seal material provided in the liquid crystal cell, and was developed, dried, and baked to form a black mask (black solid in FIG. 5). Section). At this time, a support wall having a width of 30 μm and a thickness of 300 μm made of the same material as the black mask material is provided on a specific segment display portion in which at least one of the length and the width of the segment display portion is 400 μm or more.
At a pitch of. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls was set to 10 times the width Wb of the support walls. For reference, when the black mask and the support wall were formed by a printing method in parallel, the same appearance was obtained. Next, on this mother substrate, a transparent resin manufactured by JSR Co. as a surface smoothing material was applied to a thickness of about 2 μm using a spinner and dried to form a surface smoothing layer. Thereafter, a transparent conductive film (ITO) of about 1500 ° was formed on the surface smoothing layer by a sputtering method at a temperature of 230 ° C. in an atmosphere. And apply photoresist on it,
After exposing and developing the segment display portion and its wiring portion through a photomask that shields light, unnecessary transparent conductive films were removed by etching, and the photoresist was peeled off to obtain one mother electrode substrate. As for the opposing mother substrate, an alkali prevention film and a transparent conductive film were sequentially formed, and this was used as the other mother electrode substrate. An alignment film of about 500 ° was formed on both mother electrode substrates. For the other mother electrode substrate, a transparent insulating film made of silica and titanium oxide was formed before forming the alignment film. After rubbing the alignment film of each substrate, about 15,000 in-plane spacers having an average particle diameter of 6 μm per cm 2 were sprayed on one mother electrode substrate. A peripheral sealing material made of epoxy resin was applied to the other mother electrode substrate by printing. Then, both mother electrode substrates were thermocompression-bonded to each other, and an injection port was formed. Then, a nematic liquid crystal was injected into the cell gap by a vacuum injection method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. When the in-plane uniformity (flatness of the substrate) and the brightness at the time of lighting were evaluated for the liquid crystal display panel manufactured as described above, the in-plane uniformity was extremely good. The brightness at the time of lighting was somewhat good and was evaluated as ○. The overall evaluation was “1”, which is the highest.

【0036】《実施例2;Wb30μm,Wp200μ
m(図1参照)》長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅30μmの支持壁を200μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの約6.7倍とした以外は、上記実施
例1と同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを
作製した。面内均一性はきわめて良好であったので、最
高の◎とした。点灯時の明るさは、上記実施例1よりも
やや悪かったので、△〜○の範囲とした。総合評価はや
や良好の「2」とした。
<< Example 2; Wb 30 μm, Wp 200 μ
m (see FIG. 1) >> A support wall having a width of 30 μm was formed in a lattice pattern at a pitch of 200 μm on a specific segment display portion in which at least one of the length and the width was 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
The segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the width was set to about 6.7 times the width Wb of the support wall. Since the in-plane uniformity was very good, it was evaluated as the highest ◎. Since the brightness at the time of lighting was slightly worse than that of the first embodiment, the brightness was set in the range of Δ to ○. The overall evaluation was set at "2", which was slightly better.

【0037】〈比較例1;支持壁なし(図1参照)〉長
さもしくは幅の少なくともいずれか一方が400μm以
上の大きさである特定セグメント表示部分に支持壁を設
けることなくそのままの状態として、上記実施例1と同
様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製し
た。点灯時の明るさはきわめて良好でその評価は最高の
◎であったが、面内均一性はきわめて悪く×の評価であ
った。したがって、総合評価はきわめて悪いの「5」と
した。
<Comparative Example 1: No Support Wall (See FIG. 1)> A specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more is left as it is without providing a support wall. A segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1. The brightness at the time of lighting was extremely good and the evaluation was the highest ◎, but the in-plane uniformity was extremely poor and was evaluated as x. Therefore, the overall evaluation was set to "5", which is extremely poor.

【0038】〈比較例2;Wb30μm,Wp120μ
m(図1参照)〉長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅30μmの支持壁を120μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの4倍とした以外は、上記実施例1と
同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製し
た。面内均一性はきわめて良好で最高の◎であったが、
点灯時の明るさは悪くその評価は×であった。総合評価
は普通の「3」とした。
Comparative Example 2 Wb 30 μm, Wp 120 μ
m (see FIG. 1)> A support wall having a width of 30 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 120 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
The segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the width was set to four times the width Wb of the support wall. The in-plane uniformity was extremely good and the highest ◎,
The brightness at the time of lighting was bad and the evaluation was x. The overall evaluation was normal "3".

【0039】〈比較例3;Wb30μm,Wp500μ
m(図1参照)〉長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅30μmの支持壁を500μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの約16.7倍とした以外は、上記実
施例1と同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネル
を作製した。点灯時の明るさはやや良好でその評価は○
であったが、面内均一性は悪く×の評価であった。総合
評価は普通の「3」とした。
Comparative Example 3 Wb 30 μm, Wp 500 μ
m (see FIG. 1)> A support wall having a width of 30 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 500 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
The segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the width was set to about 16.7 times the width Wb of the support wall. The brightness at the time of lighting is somewhat good and its evaluation is ○
However, the in-plane uniformity was poor and was evaluated as x. The overall evaluation was normal "3".

【0040】〈比較例4;Wb30μm,Wp1000
μm(図1参照)〉長さもしくは幅の少なくともいずれ
か一方が400μm以上の大きさである特定セグメント
表示部分に、幅30μmの支持壁を1000μmのピッ
チで格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチ
Wpを支持壁の幅Wbの約33.3倍とした以外は、上
記実施例1と同様にしてセグメント表示型の液晶表示パ
ネルを作製した。点灯時の明るさはきわめて良好でその
評価は最高の◎であったが、面内均一性は極めて悪く×
の評価であった。総合評価はやや悪いの「4」とした。
Comparative Example 4 Wb 30 μm, Wp 1000
μm (see FIG. 1)> A support wall having a width of 30 μm was formed in a lattice shape at a pitch of 1000 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, a segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the arrangement pitch Wp of the support walls was set to about 33.3 times the width Wb of the support walls. The brightness at the time of lighting was extremely good, and the evaluation was the highest ◎, but the in-plane uniformity was extremely poor.
Was evaluated. The overall evaluation was somewhat poor, "4".

【0041】《実施例3;Wb10μm,Wp100μ
m(図1参照)》長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅10μmの支持壁を100μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの10倍とした以外は、上記実施例1
と同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製
した。面内均一性はきわめて良好であったので、最高の
◎とした。また、点灯時の明るさもやや良好の○であ
り、したがって、総合評価は最高の「1」とした。
Example 3 Wb 10 μm, Wp 100 μ
m (see FIG. 1) >> A support wall having a width of 10 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 100 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
Example 1 except that was set to 10 times the width Wb of the support wall.
In the same manner as in the above, a segment display type liquid crystal display panel was manufactured. Since the in-plane uniformity was very good, it was evaluated as the highest ◎. Further, the brightness at the time of lighting was slightly good, and therefore, the overall evaluation was set to the highest “1”.

【0042】《実施例4;Wb10μm,Wp60μm
(図1参照)》長さもしくは幅の少なくともいずれか一
方が400μm以上の大きさである特定セグメント表示
部分に、幅10μmの支持壁を60μmのピッチで格子
状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWpを支
持壁の幅Wbの6倍とした以外は、上記実施例1と同様
にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製した。
面内均一性はきわめて良好であったので、最高の◎とし
た。また、点灯時の明るさも△〜○の範囲内であり、総
合評価はやや良好の「2」とした。
Example 4 Wb 10 μm, Wp 60 μm
(See FIG. 1) >> A support wall having a width of 10 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 60 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, a segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the arrangement pitch Wp of the support walls was set to be six times the width Wb of the support walls.
Since the in-plane uniformity was very good, it was evaluated as the highest ◎. The brightness at the time of lighting was also in the range of Δ to △, and the overall evaluation was set to “2”, which was slightly better.

【0043】《実施例5;Wb10μm,Wp150μ
m(図1参照)》長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅10μmの支持壁を150μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの15倍とした以外は、上記実施例1
と同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製
した。面内均一性は△〜○の範囲内であった。点灯時の
明るさはきわめて良好の◎であり、総合評価はやや良好
の「2」とした。
Example 5; Wb 10 μm, Wp 150 μ
m (see FIG. 1) >> A support wall having a width of 10 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 150 μm on a specific segment display portion in which at least one of the length and the width was 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
Example 1 except that the width was set to 15 times the width Wb of the support wall.
In the same manner as in the above, a segment display type liquid crystal display panel was manufactured. The in-plane uniformity was in the range of Δ to ○. The brightness at the time of lighting was very good ◎, and the overall evaluation was slightly good “2”.

【0044】〈比較例5;Wb10μm,Wp40μm
(図1参照)〉長さもしくは幅の少なくともいずれか一
方が400μm以上の大きさである特定セグメント表示
部分に、幅10μmの支持壁を40μmのピッチで格子
状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWpを支
持壁の幅Wbの4倍とした以外は、上記実施例1と同様
にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製した。
面内均一性はきわめて良好で最高の◎であったが、点灯
時の明るさは悪くその評価は×であった。総合評価は
「4」とした。
<Comparative Example 5: Wb 10 μm, Wp 40 μm
(See FIG. 1)> A support wall having a width of 10 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 40 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, a segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the arrangement pitch Wp of the support walls was set to four times the width Wb of the support walls.
The in-plane uniformity was extremely good and the highest ◎, but the brightness at the time of lighting was poor and the evaluation was ×. The overall evaluation was “4”.

【0045】〈比較例6;Wb10μm,Wp300μ
m(図1参照)〉長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅10μmの支持壁を300μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの30倍とした以外は、上記実施例1
と同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製
した。点灯時の明るさはきわめて良好でその評価は最高
の◎であったが、面内均一性は極めて悪く×の評価であ
った。総合評価はやや悪いの「4」とした。
Comparative Example 6: Wb 10 μm, Wp 300 μ
m (see FIG. 1)> A support wall having a width of 10 μm was formed in a lattice shape at a pitch of 300 μm on a specific segment display portion in which at least one of the length and the width was 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
Example 1 except that was set to 30 times the width Wb of the support wall.
In the same manner as in the above, a segment display type liquid crystal display panel was manufactured. The brightness at the time of lighting was extremely good and the evaluation was the highest ◎, but the in-plane uniformity was extremely poor and was evaluated as x. The overall evaluation was somewhat poor, "4".

【0046】《実施例6;Wb30μm,Wp300μ
m(図2参照)》上記実施例1では、ブラックマスクお
よび支持壁が設けられた一方のマザー基板上に表面平滑
層を形成したが、この実施例6においては、表面平滑層
を形成することなく上記マザー基板上に透明導電膜を形
成し、その他は上記実施例1と同様にして、図2に示さ
れている第2実施例の構造を有する液晶表示パネルを作
製した。すなわち、この実施例6においても、長さもし
くは幅の少なくともいずれか一方が400μm以上の大
きさである特定セグメント表示部分に、幅30μmの支
持壁を300μmのピッチで格子状に形成した。すなわ
ち、支持壁の配置ピッチWpを支持壁の幅Wbの10倍
とした。評価は上記実施例1と同じく、面内均一性はき
わめて良好の◎であり、また、点灯時の明るさもやや良
好の○であった。総合評価は最高の「1」とした。
Example 6: Wb 30 μm, Wp 300 μ
m (see FIG. 2) >> In the first embodiment, the surface smooth layer is formed on one mother substrate provided with the black mask and the support wall. In the sixth embodiment, the surface smooth layer is formed. A transparent conductive film was formed on the mother substrate, and a liquid crystal display panel having the structure of the second embodiment shown in FIG. That is, also in Example 6, a support wall having a width of 30 μm was formed in a lattice shape at a pitch of 300 μm in a specific segment display portion in which at least one of the length and the width was 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls was set to 10 times the width Wb of the support walls. In the evaluation, as in Example 1, the in-plane uniformity was very good き わ め て, and the brightness at the time of lighting was also slightly good ○. The overall evaluation was the highest “1”.

【0047】《実施例7;Wb30μm,Wp200μ
m(図2参照)》長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅30μmの支持壁を200μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの約6.7倍とした以外は、上記実施
例6と同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを
作製した。面内均一性はきわめて良好であったので、最
高の◎とした。点灯時の明るさは、上記実施例1よりも
やや悪かったので、△〜○の範囲とした。総合評価はや
や良好の「2」とした。
Example 7: Wb 30 μm, Wp 200 μ
m (see FIG. 2) >> A support wall having a width of 30 μm was formed in a lattice shape at a pitch of 200 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
The segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 6 except that the width was set to about 6.7 times the width Wb of the support wall. Since the in-plane uniformity was very good, it was evaluated as the highest ◎. Since the brightness at the time of lighting was slightly worse than that of the first embodiment, the brightness was set in the range of Δ to ○. The overall evaluation was set at "2", which was slightly better.

【0048】〈比較例7;支持壁なし(図2参照)〉長
さもしくは幅の少なくともいずれか一方が400μm以
上の大きさである特定セグメント表示部分に支持壁を設
けることなくそのままの状態として、上記実施例6と同
様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製し
た。点灯時の明るさはきわめて良好でその評価は最高の
◎であったが、面内均一性はきわめて悪く×の評価であ
った。したがって、総合評価はきわめて悪いの「5」と
した。
<Comparative Example 7: No support wall (see FIG. 2)> At least one of the length and the width is 400 μm or more, and the specific segment display portion is left as it is without providing a support wall. In the same manner as in Example 6, a segment display type liquid crystal display panel was manufactured. The brightness at the time of lighting was extremely good and the evaluation was the highest ◎, but the in-plane uniformity was extremely poor and was evaluated as x. Therefore, the overall evaluation was set to "5", which is extremely poor.

【0049】〈比較例8;Wb30μm,Wp120μ
m(図2参照)〉長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅30μmの支持壁を120μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの4倍とした以外は、上記実施例6と
同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネルを作製し
た。面内均一性はきわめて良好で最高の◎であったが、
点灯時の明るさは悪くその評価は×であった。総合評価
は普通の「3」とした。
Comparative Example 8: Wb 30 μm, Wp 120 μ
m (see FIG. 2)> A support wall having a width of 30 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 120 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
The segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 6 except that the width was set to four times the width Wb of the support wall. The in-plane uniformity was extremely good and the highest ◎,
The brightness at the time of lighting was bad and the evaluation was x. The overall evaluation was normal "3".

【0050】〈比較例9;Wb30μm,Wp500μ
m(図2参照)〉長さもしくは幅の少なくともいずれか
一方が400μm以上の大きさである特定セグメント表
示部分に、幅30μmの支持壁を500μmのピッチで
格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッチWp
を支持壁の幅Wbの約16.7倍とした以外は、上記実
施例6と同様にしてセグメント表示型の液晶表示パネル
を作製した。点灯時の明るさはやや良好でその評価は○
であったが、面内均一性は悪く×の評価であった。総合
評価は普通の「3」とした。
<Comparative Example 9: Wb 30 μm, Wp 500 μ
m (see FIG. 2)> A support wall having a width of 30 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 500 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, the arrangement pitch Wp of the support walls
The segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 6 except that the width was set to about 16.7 times the width Wb of the support wall. The brightness at the time of lighting is somewhat good and its evaluation is ○
However, the in-plane uniformity was poor and was evaluated as x. The overall evaluation was normal "3".

【0051】〈比較例10;Wb30μm,Wp100
0μm(図2参照)〉長さもしくは幅の少なくともいず
れか一方が400μm以上の大きさである特定セグメン
ト表示部分に、幅30μmの支持壁を1000μmのピ
ッチで格子状に形成した。すなわち、支持壁の配置ピッ
チWpを支持壁の幅Wbの約33.3倍とした以外は、
上記実施例1と同様にしてセグメント表示型の液晶表示
パネルを作製した。点灯時の明るさはきわめて良好でそ
の評価は最高の◎であったが、面内均一性は極めて悪く
×の評価であった。総合評価はやや悪いの「4」とし
た。
<Comparative Example 10: Wb 30 μm, Wp 100
0 μm (see FIG. 2)> A support wall having a width of 30 μm was formed in a grid pattern at a pitch of 1000 μm on a specific segment display portion having at least one of a length and a width of 400 μm or more. That is, except that the arrangement pitch Wp of the support walls is set to about 33.3 times the width Wb of the support walls,
A segment display type liquid crystal display panel was manufactured in the same manner as in Example 1. The brightness at the time of lighting was extremely good and the evaluation was the highest ◎, but the in-plane uniformity was extremely poor and was evaluated as x. The overall evaluation was somewhat poor, "4".

【0052】《実施例8;Wb30μm,Wp250μ
m(図3参照)》上記実施例1と同様な手順で、1表示
画素サイズが500×500μmのドットマトリクス表
示型液晶表示パネルを作製するにあたって、この実施例
8では、図3に示されているように、その画素内の中央
の幅Wbが30μmの支持壁を十文字状に形成した。こ
の例において、配置ピッチWpは250μmで、幅Wb
の約8.3倍である。面内ギャップ精度が均一で、しか
も良好な表示状態が得られた。
Example 8: Wb 30 μm, Wp 250 μ
m (see FIG. 3) >> In manufacturing a dot matrix display type liquid crystal display panel having one display pixel size of 500 × 500 μm in the same procedure as in the first embodiment, the eighth embodiment is shown in FIG. Thus, a support wall having a central width Wb of 30 μm in the pixel was formed in a cross shape. In this example, the arrangement pitch Wp is 250 μm and the width Wb
It is about 8.3 times. The in-plane gap accuracy was uniform and a good display state was obtained.

【0053】〈比較例11;支持壁なし(図3参照)〉
画素内に支持壁を形成することなく、実施例8と同様
に、1表示画素サイズが500×500μmのドットマ
トリクス表示型液晶表示パネルを作製したところ、その
画素中央に色むら(点灯むら)が生じた。
<Comparative Example 11: No support wall (see FIG. 3)>
When a dot matrix display type liquid crystal display panel having a display pixel size of 500 × 500 μm was produced in the same manner as in Example 8 without forming a support wall in the pixel, color unevenness (lighting unevenness) was observed at the pixel center. occured.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
内面ブラックマスク型の液晶表示パネルにおいて、幅も
しくは長さの少なくともいずれか一方が400μm以上
の大きさとされている特定表示部分に、Wbなる幅の支
持壁を、その幅Wbの6倍以上で、かつ、15倍以下の
Wpなるピッチをもって格子状に配置したことにより、
点灯時の明るさを犠牲にすることなく、色むら(点灯む
ら)の発生原因となるガラス基板の歪みを防止すること
ができる。
As described above, according to the present invention,
In a liquid crystal display panel of an inner surface black mask type, a support wall having a width of Wb is provided on a specific display portion having at least one of a width and a length of 400 μm or more, at a width of at least 6 times the width Wb. And by arranging it in a grid with a pitch of 15 times or less Wp,
Distortion of the glass substrate which causes color unevenness (lighting unevenness) can be prevented without sacrificing brightness at the time of lighting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例を示した模式的断面図。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例を示した模式的断面図。FIG. 2 is a schematic sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【図3】上記各実施例において、そのセグメント表示部
分内に設けられる支持壁の典型例を示した平面図。
FIG. 3 is a plan view showing a typical example of a support wall provided in a segment display portion in each of the above embodiments.

【図4】上記支持壁の変形例を示した平面図。FIG. 4 is a plan view showing a modification of the support wall.

【図5】セグメント表示型液晶表示パネルの表示パター
ン例を示した平面図。
FIG. 5 is a plan view showing a display pattern example of a segment display type liquid crystal display panel.

【図6】第1従来例で、図5のA−A線に沿った模式的
断面図。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the first conventional example taken along line AA of FIG. 5;

【図7】第2従来例で、図5のA−A線に沿った模式的
断面図。
FIG. 7 is a schematic sectional view of the second conventional example, taken along line AA of FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b ガラス基板 2 表面平滑化層 3 面内スペーサ 10 支持壁 110,120 支持壁メンバー Sa セグメント表示部分 B ブラックマスク 1a, 1b Glass substrate 2 Surface smoothing layer 3 In-plane spacer 10 Support wall 110, 120 Support wall member Sa Segment display portion B Black mask

フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 LA10 LA11 LA20 MA07Z NA14 NA25 NA40 NA45 NA48 QA04 TA05 2H091 FA34Y FD04 GA08 LA18 LA20 5C094 AA03 AA43 AA55 BA43 CA14 CA19 EB02 ED15 FA02 JA08Continued on the front page F term (reference) 2H089 LA10 LA11 LA20 MA07Z NA14 NA25 NA40 NA45 NA48 QA04 TA05 2H091 FA34Y FD04 GA08 LA18 LA20 5C094 AA03 AA43 AA55 BA43 CA14 CA19 EB02 ED15 FA02 JA08

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明電極を有する一対のガラス基板を備
え、その一方のガラス基板の内面側には、表示部分以外
の部分を遮光するためのブラックマスクが設けられてい
る液晶表示パネルにおいて、 幅もしくは長さの少なくともいずれか一方が400μm
以上の大きさとされている特定表示部分を有する場合、
その特定表示部分に対応する上記一方の透明ガラス基板
の内面側には、上記ブラックマスクの厚さとほぼ同一の
高さを有する支持壁が格子状に形成されており、上記支
持壁の幅をWb、上記支持壁の間隔をWpとして、上記
支持壁の間隔Wpが6×Wb≦Wp≦15×Wbとされ
ていることを特徴とする液晶表示パネル。
1. A liquid crystal display panel comprising a pair of glass substrates each having a transparent electrode, wherein a black mask for shielding a portion other than a display portion from light is provided on an inner surface side of one of the glass substrates. Or at least one of the lengths is 400 μm
If you have a specific display part that is sized above,
On the inner surface side of the one transparent glass substrate corresponding to the specific display portion, a support wall having a height substantially equal to the thickness of the black mask is formed in a lattice shape, and the width of the support wall is set to Wb. A liquid crystal display panel, wherein the distance between the support walls is Wp, and the distance Wp between the support walls is 6 × Wb ≦ Wp ≦ 15 × Wb.
【請求項2】 上記支持壁の幅Wbが5〜50μmの範
囲内である請求項1に記載の液晶表示パネル。
2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the width Wb of the support wall is in a range of 5 to 50 μm.
【請求項3】 上記支持壁が上記ブラックマスクと同じ
材料からなる請求項1または2に記載の液晶表示パネ
ル。
3. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the support wall is made of the same material as the black mask.
JP24508499A 1999-08-31 1999-08-31 Liquid crystal display panel Pending JP2001066588A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24508499A JP2001066588A (en) 1999-08-31 1999-08-31 Liquid crystal display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24508499A JP2001066588A (en) 1999-08-31 1999-08-31 Liquid crystal display panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001066588A true JP2001066588A (en) 2001-03-16

Family

ID=17128378

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24508499A Pending JP2001066588A (en) 1999-08-31 1999-08-31 Liquid crystal display panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001066588A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104252062A (en) * 2014-07-04 2014-12-31 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate, manufacturing method for same and display device
CN107632466A (en) * 2016-07-18 2018-01-26 京东方科技集团股份有限公司 Liquid crystal grating and its control method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104252062A (en) * 2014-07-04 2014-12-31 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate, manufacturing method for same and display device
CN107632466A (en) * 2016-07-18 2018-01-26 京东方科技集团股份有限公司 Liquid crystal grating and its control method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104656293B (en) Liquid crystal display panel and preparation method thereof, display device
US8724058B2 (en) Color filter substrate with black matrix on undercut groove and fabricating method thereof
EP1069462A1 (en) Liquid-crystal display and process for producing the same
JP2003207788A (en) Method for forming post spacer in liquid crystal display
JP2000029014A (en) Color filter substrate for liquid crystal display element and liquid crystal display element
WO2019214108A1 (en) Method for manufacturing display panel and display panel
WO2020237903A1 (en) Colour film substrate and manufacturing method therefor
WO2020047979A1 (en) Flexible liquid crystal display panel and manufacturing method therefor
US20070178797A1 (en) Method of manufacturing liquid crystal display device
JP4011668B2 (en) Manufacturing method of color filter with gap control function
JP2001066588A (en) Liquid crystal display panel
JP4851651B2 (en) Liquid crystal display element
JP5655426B2 (en) Color filter manufacturing method and color filter
JP2900948B2 (en) Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same
JP2001100221A (en) Liquid crystal display device and its production
JP2021002033A (en) Color filter substrate, liquid crystal display device, and method of manufacturing color filter substrate
JP5029192B2 (en) Method for manufacturing color filter for liquid crystal display device, and color filter for liquid crystal display device
KR100453363B1 (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
WO2020124705A1 (en) Preparation method for display panel, display panel, and display device
JP2000089233A (en) Liquid crystal display element and its manufacture
TWI759984B (en) Display panel
CN110068952B (en) Liquid crystal display panel
JP2005031563A (en) Color filter for liquid crystal display device, and method for manufacturing the same
JP2001183637A (en) Liquid crystal display device and its manufacturing method
JPH10172441A (en) Plasma display panel and manufacture thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060829

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090903

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100106