JP2001066276A - One-chip ion concentration-measuring device - Google Patents

One-chip ion concentration-measuring device

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JP2001066276A
JP2001066276A JP24223899A JP24223899A JP2001066276A JP 2001066276 A JP2001066276 A JP 2001066276A JP 24223899 A JP24223899 A JP 24223899A JP 24223899 A JP24223899 A JP 24223899A JP 2001066276 A JP2001066276 A JP 2001066276A
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chip type
sensor
liquid
ion concentration
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Katsuhiko Tomita
勝彦 冨田
Makoto Ishida
誠 石田
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Horiba Ltd
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Horiba Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve a compact, high-performance concentration-measuring device that fully utilizes the features of an SOI(silicon on insulator) substrate by using the micromachining technique for forming a liquid channel and a comparison electrode functional part in the silicon substrate of the SOI substrate. SOLUTION: In a comparison electrode functional part 15 being provided in a silicon substrate 3 that is the substrate of an SOI substrate 2 and a lower substrate 11, a liquid well 17 of inner liquid 16 such as KCI solution is formed across both the substrates 3 and 11. Then, an inner electrode 18 that is made of Ag/AgCI is provided in the liquid well 17. The liquid channel 18 being connected to the liquid well 17 is formed at the junction of both the substrates 3 and 12, and a thick-diameter 19a is formed in the middle. A field-control micro pump 20 is provided at the thick-diameter 19a. Then, the upper end of the liquid channel 19 is connected to a pH sensor 7, thus forming a liquid channel part 21. Also, the comparison electrode functional part 15, the liquid channel 19, or the like is formed by the micromachining technique.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、SOI基板にイ
オンセンサ部を形成したワンチップ型イオン濃度測定装
置に関する。ここで、SOIとは、Silicon o
n Insulatorのことであり、このような基板
としては、例えば、エピタキシャル成長SOI基板や市
販の貼り合わせSOI基板がある。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a one-chip type ion concentration measuring device having an ion sensor section formed on an SOI substrate. Here, SOI means Silicon O
n Insulator, examples of such a substrate include an epitaxially grown SOI substrate and a commercially available bonded SOI substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】前記SOI基板にイオンセンサ部を形成
したワンチップ型イオン濃度測定装置として、例えば、
特開平9−203721号公報に示されるワンチップp
Hセンサがある。図6は、前記ワンチップpHセンサの
要部を概略的に示す図で、この図において、61はモノ
リシックなSOI基板で、シリコン単結晶基板62と、
このシリコン基板62の上面にエピタキシャル成長によ
って形成されたAl2 3 薄膜63と、このAl2 3
薄膜63の上面にエピタキシャル成長によって形成され
たシリコン層64とからなる。そして、シリコン層64
の上面には、SiO2 膜65を介してSi3 4 膜から
なるpHセンサ部66が形成され、シリコン層64に形
成されたn+ 層67,68にそれぞれソース69、ドレ
イン70を形成し、ISFET71が形成されている。
2. Description of the Related Art An ion sensor section is formed on the SOI substrate.
As a one-chip type ion concentration measurement device, for example,
One-chip p disclosed in JP-A-9-203721
There is an H sensor. FIG. 6 shows the one-chip pH sensor.
This is a diagram schematically showing a main part, and in this figure, reference numeral 61 denotes a product.
A lithic SOI substrate, a silicon single crystal substrate 62;
The upper surface of the silicon substrate 62 is formed by epitaxial growth.
Al formed byTwoO ThreeThe thin film 63 and this AlTwoOThree
It is formed on the upper surface of the thin film 63 by epitaxial growth.
And a silicon layer 64. Then, the silicon layer 64
SiO 2TwoSi through the film 65ThreeNFourFrom the membrane
Is formed on the silicon layer 64.
N+Sources 69 and drains are placed on layers 67 and 68, respectively.
The in 70 is formed, and the ISFET 71 is formed.

【0003】そして、上記ワンチップpHセンサを用い
て、溶液のpHを測定するには、pHセンサ部66の上
面に適宜材料よりなるセル72を形成し、このセル72
内に溶液73を収容するとともに、溶液73に比較電極
74を浸漬することにより行われる。
In order to measure the pH of a solution using the one-chip pH sensor, a cell 72 made of an appropriate material is formed on the upper surface of the pH sensor section 66, and the cell 72 is measured.
This is performed by housing the solution 73 therein and immersing the comparison electrode 74 in the solution 73.

【0004】上記ワンチップpHセンサにおいては、S
OI基板61にISFET71を形成しているので、電
気絶縁性が良好であり、安定に動作するので高性能であ
るといった優れた特長があり、溶液73のpHを精度よ
く測定することができる。
In the above one-chip pH sensor, S
Since the ISFET 71 is formed on the OI substrate 61, it has excellent features such as good electrical insulation, high stability and high performance, and the pH of the solution 73 can be accurately measured.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来ワンチップpHセンサにおいては、溶液73の測定に
際して比較電極74を用意し、これをpHセンサ部66
上に設ける必要があり、それだけ、嵩張るとともに、S
OI基板61側のスペースを有効に活用していたとは必
ずしもいえないものであった。
However, in the above-mentioned conventional one-chip pH sensor, a reference electrode 74 is prepared when the solution 73 is measured, and the reference electrode 74 is provided in the pH sensor section 66.
It is necessary to provide it on the
It cannot be said that the space on the OI substrate 61 side was effectively utilized.

【0006】上述の課題は、pH以外のイオン濃度を測
定する装置においても生じているところである。
[0006] The above-mentioned problem is also occurring in an apparatus for measuring an ion concentration other than pH.

【0007】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、SOI基板の特長を最大限に活
用した、より小型で高性能なワンチップ型イオン濃度測
定装置を提供することである。
The present invention has been made in consideration of the above-mentioned matters, and an object of the present invention is to provide a more compact and high-performance one-chip type ion concentration measuring apparatus which makes full use of the features of an SOI substrate. That is.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明では、SOI基板にイオンセンサ部を形成
したワンチップ型イオン濃度測定装置において、前記S
OI基板のシリコン基板部内に、マイクロマシン加工技
術を用いて、液流路および比較電極機能部を形成してい
る(請求項1)。
According to the present invention, there is provided a one-chip type ion concentration measuring apparatus in which an ion sensor is formed on an SOI substrate.
The liquid flow path and the reference electrode function part are formed in the silicon substrate part of the OI substrate by using a micromachining technique (claim 1).

【0009】上記構成のワンチップ型イオン濃度測定装
置においては、SOI基板の比較的分厚いシリコン基板
部の内部を有効に利用でき、全体として小型化が図れ
る。
In the one-chip type ion concentration measuring apparatus having the above structure, the inside of the relatively thick silicon substrate portion of the SOI substrate can be effectively used, and the overall size can be reduced.

【0010】そして、上記ワンチップ型イオン濃度測定
装置において、比較電極機能部が内部液と比較電極内部
電極と液絡部とから構成されていてもよく(請求項
2)、また、液絡部が電界制御型マイクロポンプを備え
ていてもよい(請求項3)。さらに、イオンセンサ部が
ISFETまたは化学CCDによって形成されていても
よい(請求項4)。
In the one-chip type ion concentration measuring apparatus, the reference electrode function section may include an internal liquid, a reference electrode internal electrode, and a liquid junction. May have an electric field control type micropump (claim 3). Furthermore, the ion sensor section may be formed by an ISFET or a chemical CCD (claim 4).

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、図面を
参照しながら説明する。まず、図1は、この発明のワン
チップ型イオン濃度測定装置としてのワンチップ型pH
センサ1を概略的に示すもので、この図において、2は
モノリシックなSOI基板で、シリコン基板部としての
シリコン単結晶基板(厚さ例えば0.5mm)3と、こ
のシリコン基板3の上面にエピタキシャル成長によって
形成されたAl2 3 薄膜4と、このAl2 3 薄膜4
の上面にエピタキシャル成長によって形成されたシリコ
ン層5とからなる。そして、シリコン層5の上面には、
SiO2 膜6を介してSi3 4 膜からなるpHセンサ
部7が形成され、さらに、シリコン層5にそれぞれソー
ス8、ドレイン9およびゲート10よりなるISFET
部(イオンセンサ部の一例)11が形成されている。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. First, FIG. 1 shows a one-chip type pH as a one-chip type ion concentration measuring apparatus of the present invention.
In this figure, a sensor 1 is schematically shown. In this figure, reference numeral 2 denotes a monolithic SOI substrate, a silicon single crystal substrate (thickness, for example, 0.5 mm) 3 as a silicon substrate portion, and epitaxial growth on the upper surface of the silicon substrate 3. and Al 2 O 3 thin film 4 formed by the Al 2 O 3 thin film 4
And a silicon layer 5 formed by epitaxial growth on the upper surface of the substrate. Then, on the upper surface of the silicon layer 5,
A pH sensor portion 7 made of a Si 3 N 4 film is formed via an SiO 2 film 6, and an ISFET comprising a source 8, a drain 9 and a gate 10 is formed on the silicon layer 5.
A section (an example of an ion sensor section) 11 is formed.

【0012】そして、図1において、12はシリコン単
結晶基板3の下面側に陽極接合などの手法で貼り合わさ
れる下部基板で、前記シリコン基板2と同程度の厚みの
シリコン基板よりなる。また、13はSOI基板2、下
部基板12およびpHセンサ部7の上面の周辺を覆うよ
うにして設けられるケースで、適宜の樹脂よりなる。こ
のケース13の上部13aは、pHセンサ部7に臨むセ
ルを形成し、試料としての溶液14を収容できるように
形成されている。
In FIG. 1, reference numeral 12 denotes a lower substrate which is bonded to the lower surface of the silicon single crystal substrate 3 by anodic bonding or the like, and is made of a silicon substrate having a thickness similar to that of the silicon substrate 2. Reference numeral 13 denotes a case provided so as to cover the periphery of the upper surface of the SOI substrate 2, the lower substrate 12, and the pH sensor unit 7, and is made of an appropriate resin. The upper portion 13a of the case 13 forms a cell facing the pH sensor section 7 and is formed so as to be able to store a solution 14 as a sample.

【0013】15は前記SOI基板2の基板部であるシ
リコン基板3および下部基板11内に設けられる比較電
極機能部で、KCl溶液などの内部液16の液溜め部1
7が両基板3,11にまたがって形成されている。そし
て、この液溜め部17内には、Ag/AgClからなる
内部電極18が設けられている。
Reference numeral 15 denotes a comparison electrode function unit provided in the silicon substrate 3 and the lower substrate 11, which are substrate portions of the SOI substrate 2, and a liquid reservoir 1 for an internal solution 16 such as a KCl solution.
7 is formed over both substrates 3 and 11. In the liquid reservoir 17, an internal electrode 18 made of Ag / AgCl is provided.

【0014】18は前記液溜め部17に連なる液流路
で、前記両基板3,12の接合部分に形成されており、
その途中に太径部19aが形成されており、この太径部
19aには電界制御型マイクロポンプ20が設けられて
いる。そして、この液流路19は、前記太径部19aで
ほぼ直角に上方に曲がり、その上端部はpHセンサ部7
に連なり、液絡部21を形成している。
Numeral 18 denotes a liquid flow path connected to the liquid reservoir 17, which is formed at a joint portion between the two substrates 3, 12.
A large diameter portion 19a is formed in the middle thereof, and an electric field control type micropump 20 is provided in the large diameter portion 19a. The liquid flow path 19 is bent upward substantially at a right angle at the large-diameter portion 19a, and the upper end thereof is connected to the pH sensor section 7.
To form a liquid junction 21.

【0015】前記比較電極機能部15や液流路19など
はマイクロマシン加工技術を用いて形成される。
The reference electrode function section 15 and the liquid flow path 19 are formed by using a micromachining technique.

【0016】上記構成のワンチップ型pHセンサ1にお
いては、セル13a内に溶液14を収容することによ
り、従来のワンチップ型pHセンサと同様に溶液14の
pH測定を行うことができる。そして、このワンチップ
型pHセンサ1は、比較電極機能部15がpHセンサ部
7を上面に形成したSOI基板2の基板部3および下部
基板12内に設けられているので、全体として小型コン
パクトな装置となる。また、溶液14が少量である場合
におけるpH測定に好適である。
In the one-chip type pH sensor 1 having the above-described structure, by storing the solution 14 in the cell 13a, the pH of the solution 14 can be measured similarly to the conventional one-chip type pH sensor. The one-chip type pH sensor 1 is provided in the substrate portion 3 of the SOI substrate 2 having the pH sensor portion 7 formed on the upper surface and in the lower substrate 12 of the one-chip type pH sensor 1. Device. It is also suitable for pH measurement when the amount of the solution 14 is small.

【0017】図2は、上記図1に示したワンチップ型p
Hセンサの変形例を示すもので、この実施の形態におい
ては、pHセンサ部7を除くSOI基板2および下部基
板12全部を耐溶液性の樹脂22で覆ったもので、この
ワンチップ型pHセンサ1Aは、溶液14が大量にある
場合や、溶液14が流通している場合におけるpH測定
に好適に用いることができる。
FIG. 2 shows the one-chip type p shown in FIG.
This embodiment shows a modification of the H sensor. In this embodiment, the SOI substrate 2 and the lower substrate 12 except for the pH sensor section 7 are entirely covered with a solution-resistant resin 22. 1A can be suitably used for pH measurement when the solution 14 is in a large amount or when the solution 14 is flowing.

【0018】図1および図2に示したワンチップ型pH
センサにおいては、溶液14がワンチップ型pHセンサ
1,1Aの外部に位置していたが、これに代えて、溶液
14がワンチップ型pHセンサの内部に形成された流路
内を流れる所謂フロースルータイプに構成してもよい。
以下、これについて、図3〜図5を参照しながら説明す
る。
One-chip pH shown in FIGS. 1 and 2
In the sensor, the solution 14 is located outside the one-chip type pH sensor 1 or 1A. Instead, a so-called flow in which the solution 14 flows through a flow path formed inside the one-chip type pH sensor is described. You may comprise a through type.
Hereinafter, this will be described with reference to FIGS.

【0019】まず、図3(A)に示すワンチップ型pH
センサ1Bにおいては、SOI基板2の内部に溶液14
の流路23が形成されている。そして、ワンチップ型p
Hセンサ1Bにおいては、比較電極機能部15がSOI
基板2および下部基板12にまたがって形成されてい
る。なお、図3(A)において、24はAl2 3 より
なるpH感応部、25はSi単結晶薄膜、26は液絡部
である。
First, the one-chip type pH shown in FIG.
In the sensor 1B, the solution 14 is placed inside the SOI substrate 2.
Are formed. And one chip type p
In the H sensor 1B, the comparison electrode function unit 15
It is formed over the substrate 2 and the lower substrate 12. In FIG. 3A, reference numeral 24 denotes a pH sensitive portion made of Al 2 O 3 , 25 denotes a Si single crystal thin film, and 26 denotes a liquid junction.

【0020】そして、図3(B)は、前記図3(A)の
ワンチップ型pHセンサ1Bの変形例で、この図におい
ては、比較電極機能部15がSOI基板2側にのみ形成
されている。
FIG. 3B is a modification of the one-chip type pH sensor 1B shown in FIG. 3A. In FIG. 3B, the comparison electrode function part 15 is formed only on the SOI substrate 2 side. I have.

【0021】また、図4および図5は、化学CCDを組
み込んだワンチップ型pHセンサ1Cを示すもので、ま
ず、図4は前記ワンチップ型pHセンサ1Cの外観を示
す斜視図で、この図において、27は溶液14が流通す
る流路で、図5(A)に示すような化学CCD28およ
びCCD電荷転送部29が形成されたシリコン基板30
内に形成されている。この図5(A)は、化学CCD2
8の測定部を示すもので、この図において、31は化学
現象としてのpHに感応するpH感応部、32〜34は
電極である。また、図5(B)は、前記CCD電荷転送
部29の構成の一例を概略的に示すもので、この図にお
いて、35は垂直走査回路、36は水平走査回路、3
7,38は前記走査回路35,36によってオンオフ制
御されるスイッチング素子、39はスイッチングゲート
電圧電源、40は電流を電圧として出力端子41に取り
出すための抵抗である。
FIGS. 4 and 5 show a one-chip type pH sensor 1C incorporating a chemical CCD. FIG. 4 is a perspective view showing the appearance of the one-chip type pH sensor 1C. In FIG. 5, reference numeral 27 denotes a flow path through which the solution 14 flows, and a silicon substrate 30 on which a chemical CCD 28 and a CCD charge transfer section 29 are formed as shown in FIG.
Is formed within. FIG. 5A shows a chemical CCD2.
8 shows a measuring unit, in which 31 is a pH-sensitive unit which is sensitive to pH as a chemical phenomenon, and 32 to 34 are electrodes. FIG. 5B schematically shows an example of the configuration of the CCD charge transfer section 29. In this figure, 35 is a vertical scanning circuit, 36 is a horizontal scanning circuit, and 3 is a horizontal scanning circuit.
Reference numerals 7 and 38 denote switching elements that are turned on and off by the scanning circuits 35 and 36, 39 denotes a switching gate voltage power supply, and 40 denotes a resistor for extracting a current as a voltage to an output terminal 41.

【0022】上記構成のワンチップ型pHセンサ1B,
1Cにおいては、測定対象の溶液14が測定中、外部に
露出しないので、これに異物が混入することがなく、よ
り正確な測定を行うことができる。
The one-chip type pH sensor 1B having the above configuration,
In 1C, since the solution 14 to be measured is not exposed to the outside during the measurement, it is possible to perform more accurate measurement without foreign substances entering the solution.

【0023】上述の実施の形態におけるワンチップ型イ
オン濃度測定装置は、溶液のpHを測定するものであっ
たが、この発明はこれに限られるものではなく、pHセ
ンサ部に代えて、水素イオン(pH)以外のイオンに感
応するイオンセンサ部を形成することにより、種々のイ
オン濃度を測定することもできる。
Although the one-chip type ion concentration measuring apparatus in the above embodiment measures the pH of a solution, the present invention is not limited to this. By forming an ion sensor portion that is sensitive to ions other than (pH), various ion concentrations can be measured.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、この発明のワンチ
ップ型イオン濃度測定装置は、SOI基板のシリコン基
板部内に、マイクロマシン加工技術を用いて、液流路お
よび比較電極機能部を形成しているので、電気絶縁性が
良好であるといったSOI基板の特長を最大限に活用す
ることができ、安定に動作し、高性能となるとともに、
より小型でコンパクトに構成される。
As described above, according to the one-chip type ion concentration measuring apparatus of the present invention, a liquid flow path and a comparative electrode function section are formed in a silicon substrate section of an SOI substrate by using micromachining technology. As a result, the features of the SOI substrate such as good electrical insulation can be fully utilized, and it can operate stably and have high performance.
It is smaller and more compact.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明のワンチップ型イオン濃度測定装置と
してのワンチップ型pHセンサの一例を概略的に示す縦
断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing an example of a one-chip type pH sensor as a one-chip type ion concentration measuring device of the present invention.

【図2】前記ワンチップ型pHセンサの変形例を概略的
に示す縦断面図である。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view schematically showing a modification of the one-chip type pH sensor.

【図3】(A),(B)はいずれも溶液の流路を内部に
形成したワンチップ型pHセンサの例を示す縦断面図で
ある。
FIGS. 3A and 3B are longitudinal sectional views each showing an example of a one-chip type pH sensor in which a solution flow path is formed.

【図4】化学CCDを組み込んだワンチップ型pHセン
サの外形を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an external shape of a one-chip type pH sensor incorporating a chemical CCD.

【図5】(A)は前記ワンチップ型pHセンサにおける
測定部の構成を概略的に示す縦断面図、(B)はCCD
電荷転送部29の構成の一例を概略的に示す図である。
FIG. 5A is a longitudinal sectional view schematically showing a configuration of a measuring unit in the one-chip type pH sensor, and FIG.
FIG. 3 is a diagram schematically illustrating an example of a configuration of a charge transfer unit 29.

【図6】従来技術を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…SOI基板、3…シリコン基板部、11,31…イ
オンセンサ部、15…比較電極機能部、16…内部液、
18…比較電極内部電極、19…液流路、21,21
A,26…液絡部、28…化学CCD。
2 SOI substrate, 3 silicon substrate, 11, 31 ion sensor, 15 reference electrode function, 16 internal liquid,
18 internal electrode for comparison electrode 19 liquid channel 21, 21
A, 26: liquid junction, 28: chemical CCD.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 SOI基板にイオンセンサ部を形成した
ワンチップ型イオン濃度測定装置において、前記SOI
基板のシリコン基板部内に、マイクロマシン加工技術を
用いて、液流路および比較電極機能部を形成したことを
特徴とするワンチップ型イオン濃度測定装置。
1. A one-chip type ion concentration measuring apparatus in which an ion sensor section is formed on an SOI substrate.
A one-chip type ion concentration measurement device, wherein a liquid flow path and a reference electrode function part are formed in a silicon substrate part of a substrate by using micromachining technology.
【請求項2】 比較電極機能部が内部液と比較電極内部
電極と液絡部とからなる請求項1に記載のワンチップ型
イオン濃度測定装置。
2. The one-chip type ion concentration measuring apparatus according to claim 1, wherein the reference electrode function section comprises an internal liquid, a reference electrode internal electrode, and a liquid junction.
【請求項3】 液絡部が電界制御型マイクロポンプを備
えてなる請求項2に記載のワンチップ型イオン濃度測定
装置。
3. The one-chip type ion concentration measuring apparatus according to claim 2, wherein the liquid junction comprises an electric field control type micropump.
【請求項4】 イオンセンサ部がISFETまたは化学
CCDからなる請求項1〜3のいずれかに記載のワンチ
ップ型イオン濃度測定装置。
4. The one-chip type ion concentration measuring apparatus according to claim 1, wherein the ion sensor section comprises an ISFET or a chemical CCD.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004333185A (en) * 2003-05-01 2004-11-25 Enplas Corp Sample handling device
KR100477448B1 (en) * 2002-08-30 2005-03-22 재단법인 포항산업과학연구원 the micro valve for nano fluid using SMA film and the reference electrode for pH sensor using the micro valve structure

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100477448B1 (en) * 2002-08-30 2005-03-22 재단법인 포항산업과학연구원 the micro valve for nano fluid using SMA film and the reference electrode for pH sensor using the micro valve structure
JP2004333185A (en) * 2003-05-01 2004-11-25 Enplas Corp Sample handling device
JP4526109B2 (en) * 2003-05-01 2010-08-18 株式会社エンプラス Sample handling equipment

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