JP2001060594A - Manufacture of semiconductor device and baking apparatus used therefor - Google Patents

Manufacture of semiconductor device and baking apparatus used therefor

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JP2001060594A
JP2001060594A JP11236384A JP23638499A JP2001060594A JP 2001060594 A JP2001060594 A JP 2001060594A JP 11236384 A JP11236384 A JP 11236384A JP 23638499 A JP23638499 A JP 23638499A JP 2001060594 A JP2001060594 A JP 2001060594A
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JP
Japan
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baking
furnace
magazine
conveyor
resin
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Application number
JP11236384A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Kuroda
明 黒田
Kazunori Higuchi
和範 樋口
Katsuhiko Miyata
克彦 宮田
Tomiji Suda
富司 須田
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress occupancy area and baking time, and at the same time to surely perform baking. SOLUTION: A baking apparatus 30 has first, second, and intermediate ovens 31, 32, and 33 respectively, arranged in series, and first and second shielding doors 35 and 39 are included on the partition wall between the first and middle ovens 31 and 33 and the second oven 32. The first oven 31 is heated to approximately 80 deg.C by a first heater 36, the second oven 32 is heated to approximately 150 deg.C by a second heater 40, and the middle oven 33 is heated to 80 to 150 deg.C. First, second, and middle conveyers 37, 41, and 43 provided in the ovens 31, 32, and 33, respectively, are synchronized with each another. A carrier tool 14, that holds a tape carrier where a resin application part 16 is formed, is accommodated into a magazine 20, and the magazine 20 is made to successively pass through the first, middle, and second ovens 31, 33, and 32 and is baked, thus shortening the entire length of the baking device, and at the same time, securing the desired baking temperature and time.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
技術、特に、加熱処理によって樹脂(以下、レジンとい
う。)を反応させて硬化させる(以下、ベーキングとい
う。)技術に関し、例えば、半導体素子を含む集積回路
が作り込まれた半導体チップ(以下、チップという。)
の電極パッドとインナリードとの接続部に塗布されたレ
ジンをベーキングするのに利用して有効な技術に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a technique for causing a resin (hereinafter, referred to as resin) to react and cure (hereinafter, referred to as baking) by heat treatment. Semiconductor chip (hereinafter referred to as a chip) in which an integrated circuit including
The present invention relates to a technique effective for baking a resin applied to a connection portion between an electrode pad and an inner lead.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路装置(以下、ICとい
う。)を使用する電子機器の小型薄形化に伴って、IC
のパッケージの縮小が要望されている。この要望に応ず
るために、チップのサイズと同等または略同等のサイズ
を有したパッケージであるチップ・サイズ・パッケージ
(以下、CSPという。)が種々に開発されている。そ
の一例として、次のように構成されたマイクロ・ボール
・グリッド・アレイパッケージ(以下、μBGAとい
う。)がある。すなわち、チップの電極パッド側の主面
にはテープキャリアが絶縁膜によって機械的に接続さ
れ、テープキャリアに敷設された各インナリードがチッ
プの各電極パッドにボンディングされ、チップの電極パ
ッドとインナリードとの接続部にはポッティング材とし
てのレジンが塗布される。塗布されたレジンはベーキン
グによって硬化される。レジンの塗布およびベーキング
によって成形された樹脂封止体により、チップの電極パ
ッドとインナリードとの接続部は樹脂封止された状態に
なる。そして、各インナリードに接続されたアウタリー
ドには各外部端子としてのバンプがそれぞれ半田付けさ
れて突設されている。
2. Description of the Related Art As electronic devices using semiconductor integrated circuit devices (hereinafter referred to as ICs) have become smaller and thinner, ICs have been developed.
There is a demand for a smaller package. In order to meet this demand, various chip size packages (hereinafter, referred to as CSPs), which are packages having a size equal to or substantially equal to the size of a chip, have been developed. As an example, there is a micro ball grid array package (hereinafter referred to as μBGA) configured as follows. That is, a tape carrier is mechanically connected to the main surface on the electrode pad side of the chip by an insulating film, each inner lead laid on the tape carrier is bonded to each electrode pad of the chip, and the electrode pad of the chip is connected to the inner lead. A resin as a potting material is applied to the connection portion with the resin. The applied resin is cured by baking. The connection between the electrode pad of the chip and the inner lead is in a resin-sealed state by the resin sealing body formed by applying and baking the resin. The outer leads connected to the respective inner leads are provided with bumps as external terminals by soldering.

【0003】μBGAはテープキャリアを備えているた
め、テープ・キャリア・パッケージ(TCP)の一例で
もあり、搬送形式としてはテープ搬送が使用されること
になる。テープ搬送方式の場合には、塗布されたレジン
をベーキングするベーキング工程はテープがベーキング
炉を通されることにより実行される。ところで、μBG
Aを備えているIC(以下、μBGA・ICという。)
の製造方法においては、テープキャリアをキャリア治具
によって保持することにより、ハンドリングを広く一般
に普及しているクワッド・フラット・パッケージ(QF
P)と同様に実施可能とすることが図られている。キャ
リア治具が使用される場合には、ベーキング工程はキャ
リア治具が一枚ずつベーキング炉を通されるか、あるい
は、複数枚のキャリア治具が収納されたマガジンがベー
キング炉に収容されてバッチ処理される。
Since the μBGA has a tape carrier, it is also an example of a tape carrier package (TCP), and a tape transport is used as a transport format. In the case of the tape transport system, the baking step of baking the applied resin is performed by passing the tape through a baking furnace. By the way, μBG
IC having A (hereinafter referred to as μBGA · IC)
In the manufacturing method of (1), by handling the tape carrier by a carrier jig, a quad flat package (QF) widely used for handling is widely used.
It is intended to be able to be implemented similarly to P). When a carrier jig is used, the baking process is performed by passing the carrier jigs one by one through a baking furnace, or by storing a magazine containing a plurality of carrier jigs in a baking furnace and performing batch processing. It is processed.

【0004】なお、TCPのポッティング技術およびベ
ーキング(キュア)技術を述べている例としては、日経
BP社1993年5月31日発行の「実践講座VLSI
パッケージング技術(下)」P96〜P100、があ
る。
As an example describing the potting technique and the baking (cure) technique of TCP, see “Practical Course VLSI” published by Nikkei BP May 31, 1993.
Packaging technology (bottom) "P96 to P100.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前記したキャリア治具
を使用したベーキング工程においてテープ搬送方式と同
様にキャリア治具を一枚ずつベーキング炉を通してベー
キングを実施する場合には、ベーキング炉が長くなるた
め、占拠床面積が大きくなってしまう。他方、複数枚の
キャリア治具をマガジンに収納してバッチ処理する場合
には、ベーキング温度を一定したり変更するのに長時間
が浪費されてしまう。
In the above-described baking step using a carrier jig, when baking is performed one by one through a baking furnace one by one in the same manner as in the tape transport system, the baking furnace becomes long. However, the occupied floor area becomes large. On the other hand, when a plurality of carrier jigs are stored in a magazine and subjected to batch processing, a long time is wasted in fixing or changing the baking temperature.

【0006】本発明の目的は、ベーキング炉の占拠面積
およびベーキング時間を抑制しつつ確実にベーキングす
ることができるベーキング技術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a baking technique capable of reliably performing baking while suppressing the area occupied by a baking furnace and the baking time.

【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
[0007] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application is as follows.

【0009】すなわち、複数の被ベーキング物を収納し
たマガジンが複数段のベーキング炉を順次通されてベー
キングされることを特徴とする。
[0009] That is, a magazine containing a plurality of objects to be baked is sequentially passed through a plurality of baking furnaces and baked.

【0010】例えば、マガジンに複数枚が収納された被
ベーキング物は一段目のベーキング炉において低い温度
領域で長時間をかけてベーキングされ、二段目のベーキ
ング炉において高い温度領域で短時間にベーキングされ
る。ベーキング炉には複数枚の被ベーキング物が収納さ
れたマガジンが通されるため、ベーキング炉に被ベーキ
ング物を一枚ずつ流す場合に比べて、ベーキング炉の全
長を短く抑制することができる。また、一段目のベーキ
ング炉の温度と二段目のベーキング炉の温度は別々に設
定することができるため、温度調整や変更は容易に実行
することができ、ベーキング時間を短縮しつつ確実にベ
ーキングすることができる。
For example, a plurality of objects to be baked in a magazine are baked in a low-temperature region in a first-stage baking furnace for a long time, and baked in a high-temperature region in a second-stage baking furnace in a short time. Is done. Since a magazine containing a plurality of objects to be baked is passed through the baking furnace, the total length of the baking furnace can be reduced as compared with a case where the objects to be baked are flowed one by one into the baking furnace. In addition, since the temperature of the first-stage baking furnace and the temperature of the second-stage baking furnace can be set separately, the temperature adjustment and the change can be easily performed, and the baking can be reliably performed while shortening the baking time. can do.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施形態である
ベーキング装置を示しており、(a)は正面断面図、
(b)は温度分布図である。図2は本発明の一実施形態
であるμBGA・ICの製造方法を示すフローチャート
である。図3はそのポッティング工程に供給されるワー
クを示しており、(a)は一部省略平面図、(b)は一
部省略正面断面図である。図4はポッティング工程後を
示しており、(a)は一部省略平面図、(b)は(a)
のb−b線に沿う断面図である。図5はベーキング工程
に供給されるマガジンを示す斜視図である。図6はμB
GA・ICを示しており、(a)は左半分が平面図で右
半分が底面図、(b)は一部切断正面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a baking apparatus according to an embodiment of the present invention.
(B) is a temperature distribution diagram. FIG. 2 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a μBGA IC according to an embodiment of the present invention. 3A and 3B show a workpiece supplied in the potting step, wherein FIG. 3A is a partially omitted plan view, and FIG. 3B is a partially omitted front sectional view. 4A and 4B show a state after the potting step, in which FIG. 4A is a partially omitted plan view, and FIG.
It is sectional drawing in alignment with the bb line of FIG. FIG. 5 is a perspective view showing a magazine supplied to the baking step. FIG. 6 shows μB
5A shows a GA IC, wherein FIG. 5A is a plan view of a left half, a bottom view of a right half, and FIG.

【0012】本実施形態において、本発明に係る半導体
装置の製造方法は、μBGA・ICの製造方法に使用さ
れており、図2に示されているように構成されている。
すなわち、図2に示されているように、テープキャリア
製造工程で製造されたテープキャリアとチップ製造工程
で製造されたチップとはテープキャリアとチップ組付工
程において組み付けられ、インナリードボンディング工
程においてインナリードボンディングされることによ
り、図3に示されている組立体1を製造される。次い
で、ポッティング工程およびベーキング工程において図
4に示されている樹脂封止体を成形される。その後、切
り離し工程において一単位に切り離されることにより、
図6に示されているBGA・ICが製造されたことにな
る。
In the present embodiment, the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention is used in a method of manufacturing a μBGA IC, and is configured as shown in FIG.
That is, as shown in FIG. 2, the tape carrier manufactured in the tape carrier manufacturing process and the chip manufactured in the chip manufacturing process are assembled in the tape carrier and chip assembling process, and the inner lead bonding process is performed. The assembly 1 shown in FIG. 3 is manufactured by lead bonding. Next, in the potting step and the baking step, the resin sealing body shown in FIG. 4 is formed. Then, by being separated into one unit in the separation process,
The BGA IC shown in FIG. 6 is manufactured.

【0013】図3の組立体1によって示されているよう
に、テープキャリア製造工程で製造されたテープキャリ
ア2は、TCPを備えているIC(TCP・IC)の製
造方法に使用されているTAB(テープ・オートメイテ
ッド・ボンディング)テープに相当するものである。テ
ープキャリア2は同一パターンが長手方向に繰り返され
ているため、その構成の説明および図示は原則として一
単位だけについて行われている。
As shown by an assembly 1 in FIG. 3, a tape carrier 2 manufactured in a tape carrier manufacturing process is a TAB used in a method of manufacturing an IC having TCP (TCP / IC). (Tape automated bonding) It is equivalent to a tape. Since the same pattern is repeated in the tape carrier 2 in the longitudinal direction, the description and illustration of the configuration are basically made for only one unit.

【0014】テープキャリア2はポリイミド等の絶縁性
樹脂が用いられて同一パターンが長手方向に連続するテ
ープ形状に一体成形されたキャリア本体3を備えてお
り、キャリア本体3には正方形のバンプ形成部4が長手
方向に一列横隊に整列されている。バンプ形成部4には
バンプホール5が多数個、正方形の環状線上において整
列されて開設されており、各バンプホール5にはバンプ
がアウタリードに電気的に接続する状態に構成されるよ
うになっている。バンプ形成部4の周囲には凹字形状の
窓孔6が一対、バンプ形成部4を取り囲むように正方形
の枠形状に配置されて開口されている。
The tape carrier 2 has a carrier body 3 integrally formed into a tape shape in which the same pattern is continuous in the longitudinal direction using an insulating resin such as polyimide. The carrier body 3 has a square bump forming portion. 4 are longitudinally aligned in a row. A large number of bump holes 5 are formed in the bump forming section 4 and arranged on a square annular line. Each of the bump holes 5 is configured so that the bumps are electrically connected to the outer leads. I have. Around the bump forming portion 4, a pair of concave window holes 6 are arranged and opened in a square frame shape so as to surround the bump forming portion 4.

【0015】キャリア本体3の片側主面(以下、下面と
する。)にはインナリード7が複数本、各窓孔6を短手
方向に突出するようにしてそれぞれ配線されており、イ
ンナリード7群は各窓孔6の長手方向に間隔を置かれて
互いに平行に配線されている。各インナリード7のバン
プ形成部4側に位置する一端(以下、内側端とする。)
には各アウタリード8がそれぞれ一連に連設されてお
り、互いに一連になったインナリード7とアウタリード
8とは機械的かつ電気的に一体の状態になっている。イ
ンナリード7群およびアウタリード8群は、銅や金等の
導電性を有する材料が使用されて形成されている。各ア
ウタリード8のバンプホール5に対向する部位はバンプ
形成部4から露出した状態になっている。
A plurality of inner leads 7 are wired on one main surface (hereinafter, referred to as the lower surface) of the carrier body 3 so that each window hole 6 projects in the lateral direction. The groups are wired parallel to one another at intervals in the longitudinal direction of each window hole 6. One end of each inner lead 7 located on the bump forming portion 4 side (hereinafter referred to as an inner end).
The outer leads 8 are connected in series to each other, and the inner leads 7 and the outer leads 8 that are connected to each other are mechanically and electrically integrated. The group of inner leads 7 and the group of outer leads 8 are formed using a conductive material such as copper or gold. The portion of each outer lead 8 facing the bump hole 5 is exposed from the bump forming portion 4.

【0016】キャリア本体3の下面にはエラストマやシ
リコンゴム製の絶縁膜9が接着等の適当な手段によって
被着されており、アウタリード8群は窓孔6の内径と略
等しい四角形形状の絶縁膜9によって被覆されている。
したがって、テープキャリア2はキャリア本体3、イン
ナリード7群、アウタリード8群および絶縁膜9によっ
て構成されている。
An insulating film 9 made of an elastomer or silicon rubber is applied to the lower surface of the carrier body 3 by an appropriate means such as bonding, and the outer leads 8 are formed of a rectangular insulating film substantially equal to the inner diameter of the window hole 6. 9.
Therefore, the tape carrier 2 includes the carrier body 3, the inner lead 7 group, the outer lead 8 group, and the insulating film 9.

【0017】本実施形態においては、テープキャリア2
はキャリア治具14に図3に示されているように接着さ
れている。キャリア治具14はステンレス鋼等の剛性を
有する材料が使用されて矩形の平板形状に形成されてい
る。キャリア治具14にはテープキャリア2の一単位の
大きさに対応した略正方形の窓孔15が複数個、テープ
キャリア2の長さ方向に一列に並べられて開口されてお
り、各窓孔15にはテープキャリア2の各単位がそれぞ
れ配置されている。
In this embodiment, the tape carrier 2
Is adhered to the carrier jig 14 as shown in FIG. The carrier jig 14 is formed of a rigid material such as stainless steel and is formed in a rectangular flat plate shape. The carrier jig 14 has a plurality of substantially square window holes 15 corresponding to the size of one unit of the tape carrier 2, which are opened in a line in the length direction of the tape carrier 2. Each unit of the tape carrier 2 is arranged.

【0018】図3の組立体1によって示されているよう
に、チップ製造工程において製造されたチップ10はテ
ープキャリア2の一単位と略等しい大きさの正方形の平
板形状に形成されており、その一主面側(以下、アクテ
ィブ・エリア側という。)には、半導体素子を含む所望
の半導体集積回路が作り込まれている。すなわち、チッ
プ10は所謂IC製造の前工程において半導体ウエハの
状態でアクティブ・エリア側に半導体集積回路を作り込
まれ、ダイシング工程において正方形の平板形状に分断
されて製造される。チップ10のアクティブ・エリア側
の表面はパッシベーション膜11によって被覆されてお
り、パッシベーション膜11に形成された複数個の開口
部には各電極パッド12が外部に露出した状態にそれぞ
れ形成されている。各電極パッド12にはテープキャリ
ア2における各インナリード7に対応されている。
As shown by the assembly 1 in FIG. 3, the chip 10 manufactured in the chip manufacturing process is formed in a square flat plate having a size substantially equal to one unit of the tape carrier 2. A desired semiconductor integrated circuit including a semiconductor element is formed on one principal surface side (hereinafter, referred to as an active area side). That is, the chip 10 is manufactured by forming a semiconductor integrated circuit on the active area side in a state of a semiconductor wafer in a so-called pre-IC manufacturing process, and dividing the chip into a square plate shape in a dicing process. The surface of the chip 10 on the active area side is covered with a passivation film 11, and a plurality of openings formed in the passivation film 11 are formed such that each electrode pad 12 is exposed to the outside. Each electrode pad 12 corresponds to each inner lead 7 in the tape carrier 2.

【0019】チップ製造工程で製造されたチップ10は
テープキャリア製造工程で製造されたテープキャリア2
に、テープキャリアとチップ組付工程において図3に示
されているように機械的に接続される。すなわち、チッ
プ10はテープキャリア2に各電極パッド12が各イン
ナリード7にそれぞれ整合するように配されて、パッシ
ベーション膜11と絶縁膜9との間で接着されて機械的
に接続される。各アウタリード8はパッシベーション膜
11の上から絶縁膜9の厚さ分だけ上方に離れた状態に
なっている。
The chip 10 manufactured in the chip manufacturing process is the tape carrier 2 manufactured in the tape carrier manufacturing process.
In a chip assembling step, the tape carrier is mechanically connected to the tape carrier as shown in FIG. That is, the chip 10 is arranged on the tape carrier 2 such that each electrode pad 12 is aligned with each inner lead 7, and is bonded and mechanically connected between the passivation film 11 and the insulating film 9. Each outer lead 8 is separated upward from the passivation film 11 by the thickness of the insulating film 9.

【0020】続いて、インナリードボンディング工程に
おいて、各インナリード7は各電極パッド12にボンデ
ィングされて機械的かつ電気的に接続されることによ
り、図3に示されている組立体1が製造される。組立体
1において、インナリード7は略S字形状に屈曲された
状態になって、一端部が電極パッド12に熱圧着された
状態になっている。
Subsequently, in an inner lead bonding step, each inner lead 7 is bonded to each electrode pad 12 and mechanically and electrically connected, whereby the assembly 1 shown in FIG. 3 is manufactured. You. In the assembly 1, the inner lead 7 is bent in a substantially S-shape, and one end is thermocompression-bonded to the electrode pad 12.

【0021】次いで、ポッティング工程においてレジン
塗布装置が使用されて、図4に示されているように、テ
ープキャリア2の窓孔6にポッティング材としてのレジ
ンが塗布されてインナリード7と電極パッド12との接
続部群を被覆したレジン塗布部16が形成される。ポッ
ティング材としてのレジンは熱可塑性のエポキシ樹脂に
硬化剤等が添加されたレジンであり、塗布作業に際して
は液状になっており、塗布後に加熱処理によって硬化剤
が反応されることにより硬化されるように組成されてい
る。
Next, in the potting step, a resin coating device is used to apply a resin as a potting material to the window 6 of the tape carrier 2 as shown in FIG. A resin application section 16 covering the connection section group with the above is formed. The resin as the potting material is a resin in which a curing agent or the like is added to a thermoplastic epoxy resin, and is in a liquid state at the time of application work, and is cured by a reaction of the curing agent by heat treatment after application. It is composed.

【0022】レジンがテープキャリア2の窓孔6に塗布
される際において、テープキャリア2はキャリア治具1
4に保持された状態になっているため、キャリア治具1
4がピッチ送りされることより、レジン塗布作業が順次
実施されて行く。窓孔6にポッティング材としてのレジ
ンを塗布されてレジン塗布部16を形成された組立体1
を保持したキャリア治具14は、図5に示されているよ
うにマガジン20に順次収納されて行く。
When the resin is applied to the window 6 of the tape carrier 2, the tape carrier 2 is attached to the carrier jig 1.
4, the carrier jig 1
The resin application work is sequentially performed by the pitch feed of 4. An assembly 1 in which a resin as a potting material is applied to the window 6 to form a resin application portion 16
Are sequentially stored in the magazine 20 as shown in FIG.

【0023】図5に示されているように、マガジン20
は耐熱性の材料が使用されて直方体の箱形状に形成され
た本体21を備えており、本体21は平面視がキャリア
治具14の長方形と略等しく前面が開口した直方体の箱
形状に形成されている。本体21の左右の側壁22、2
2には前後方向に延在した保持溝23が複数条、上下方
向に等間隔に整列されて没設されており、各段の左右の
保持溝23、23同士は互いに対向されている。そし
て、キャリア治具14は左右の保持溝23、23内に左
右の両端部を挿入されることにより、マガジン20に収
納されることになる。
As shown in FIG. 5, the magazine 20
Comprises a main body 21 formed of a rectangular parallelepiped box using a heat-resistant material. The main body 21 is formed in a rectangular parallelepiped box shape having a front surface opened substantially in a plan view substantially equal to the rectangular shape of the carrier jig 14. ing. Left and right side walls 22, 2 of main body 21
2, a plurality of holding grooves 23 extending in the front-rear direction are laid down and arranged at equal intervals in the vertical direction, and the left and right holding grooves 23 of each stage are opposed to each other. The carrier jig 14 is housed in the magazine 20 by inserting the left and right ends into the left and right holding grooves 23.

【0024】キャリア治具14がマガジン20に所定の
枚数だけ収納(アンローディング)されると、マガジン
20は図1に示されているベーキング装置30に直ちに
送り込まれ、図2に示されているベーキング工程を実施
される。
When a predetermined number of the carrier jigs 14 are stored (unloaded) in the magazine 20, the magazine 20 is immediately sent to the baking device 30 shown in FIG. 1 and is baked as shown in FIG. The process is performed.

【0025】ここで、図1に示されている本発明の一実
施形態であるベーキング装置の構成を説明する。
Here, the configuration of the baking apparatus according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 1 will be described.

【0026】図1に示されているように、ベーキング装
置30は第一段目のベーキング炉(以下、第一炉とい
う。)31と、第二段目のベーキング炉(以下、第二炉
という。)32と、第一炉31と第二炉32との間に配
設された中間炉33とを備えており、第一炉31、第二
炉32および中間炉33は一列縦隊に並べて(直列に)
配置されている。第一炉31の長さは第二炉32および
中間炉33の長さの三倍に設定されている。
As shown in FIG. 1, the baking apparatus 30 includes a first-stage baking furnace (hereinafter, referred to as a first furnace) 31 and a second-stage baking furnace (hereinafter, referred to as a second furnace). )), And an intermediate furnace 33 disposed between the first furnace 31 and the second furnace 32. The first furnace 31, the second furnace 32, and the intermediate furnace 33 are arranged in a single file. In series)
Are located. The length of the first furnace 31 is set to be three times the length of the second furnace 32 and the intermediate furnace 33.

【0027】第一炉31の入口側の炉壁には入口扉34
が設置されており、第一炉31の出口側の炉壁である中
間炉33との隔壁には第一炉31と中間炉33との温度
差を遮蔽するための遮蔽扉(以下、第一遮蔽扉とい
う。)35が設置されている。第一炉31の天井にはヒ
ータ(以下、第一ヒータという。)36が略全長にわた
って敷設されており、第一ヒータ36は第一炉31の内
部を約80℃に均一に加熱することができるように構成
されている。第一炉31の床上にはベルトコンベア(以
下、第一コンベアという。)37が略全長にわたって敷
設されており、第一コンベア37は複数台(図示例では
六台)のマガジン20を横に並べて間欠送りするように
構成されている。
An inlet door 34 is provided on the furnace wall on the inlet side of the first furnace 31.
Is installed on the partition wall of the intermediate furnace 33, which is the furnace wall on the exit side of the first furnace 31, with a shielding door (hereinafter, referred to as the first furnace 31) for shielding the temperature difference between the first furnace 31 and the intermediate furnace 33. A door 35 is provided. A heater (hereinafter, referred to as a first heater) 36 is laid on the ceiling of the first furnace 31 over substantially the entire length, and the first heater 36 can uniformly heat the inside of the first furnace 31 to about 80 ° C. It is configured to be able to. A belt conveyor (hereinafter, referred to as a first conveyor) 37 is laid over substantially the entire length of the floor of the first furnace 31, and the first conveyor 37 has a plurality of (six in the illustrated example) magazines 20 arranged side by side. It is configured to intermittently feed.

【0028】第二炉32の出口側の炉壁には出口扉38
が設置されており、第二炉32の入口側の炉壁である中
間炉33との隔壁には第二炉32と中間炉33との温度
差を遮蔽するための遮蔽扉(以下、第二遮蔽扉とい
う。)39が設置されている。第二炉32の天井にはヒ
ータ(以下、第二ヒータという。)40が略全長にわた
って敷設されており、第二ヒータ40は第二炉32の内
部を約150℃に均一に加熱することができるように構
成されている。第二炉32の床上にはベルトコンベア
(以下、第二コンベアという。)41が略全長にわたっ
て敷設されており、第二コンベア41は複数台(図示例
では二台)のマガジン20を横に並べて間欠送りするよ
うに構成されている。
An exit door 38 is provided on the furnace wall on the exit side of the second furnace 32.
Is installed on the partition wall of the intermediate furnace 33, which is the furnace wall on the inlet side of the second furnace 32, and a shielding door (hereinafter, referred to as a second door) for shielding the temperature difference between the second furnace 32 and the intermediate furnace 33. A door 39 is provided. A heater (hereinafter, referred to as a second heater) 40 is laid on the ceiling of the second furnace 32 over substantially the entire length, and the second heater 40 can uniformly heat the inside of the second furnace 32 to about 150 ° C. It is configured to be able to. On the floor of the second furnace 32, a belt conveyor (hereinafter, referred to as a second conveyor) 41 is laid substantially over the entire length, and the second conveyor 41 has a plurality (two in the illustrated example) of magazines 20 arranged side by side. It is configured to intermittently feed.

【0029】中間炉33の天井にはヒータ(以下、中間
ヒータという。)42が略全長にわたって敷設されてお
り、中間ヒータ42は中間炉33内における上流側から
下流側への温度分布を80℃から150℃に次第に増加
させて行くように構成されている。中間炉33の床上に
はベルトコンベア(以下、中間コンベアという。)43
が略全長にわたって敷設されており、中間コンベア43
は複数台(図示例では二台)のマガジン20を横に並べ
て間欠送りするように構成されている。そして、第一コ
ンベア37と第二コンベア41と中間コンベア43とは
互いに同期されている。
A heater (hereinafter, referred to as an intermediate heater) 42 is laid on the ceiling of the intermediate furnace 33 over substantially the entire length. The intermediate heater 42 has a temperature distribution of 80 ° C. from the upstream side to the downstream side in the intermediate furnace 33. From 150 ° C. to 150 ° C. A belt conveyor (hereinafter, referred to as an intermediate conveyor) 43 is provided on the floor of the intermediate furnace 33.
Are laid almost over the entire length, and the intermediate conveyor 43
Is configured to intermittently feed a plurality of (two in the illustrated example) magazines 20 side by side. The first conveyor 37, the second conveyor 41, and the intermediate conveyor 43 are synchronized with each other.

【0030】次に、本発明の一実施形態であるμBGA
・ICの製造方法におけるベーキング工程を前記したベ
ーキング装置が使用される場合について図1に沿って説
明する。
Next, the μBGA according to one embodiment of the present invention
A case where the above-described baking apparatus is used for the baking step in the IC manufacturing method will be described with reference to FIG.

【0031】ポッティング工程においてキャリア治具1
4を所定の枚数だけ収納されたマガジン20は、ベーキ
ング装置30の第一炉31に入口扉34から搬入され、
第一コンベア37の前端部に載せられる。第一コンベア
37の前端部に載せられたマガジン20は第一コンベア
37のピッチ送りによって第一炉31内を一ピッチ前進
する。一ピッチ前進すると、次のマガジン20が第一コ
ンベア37の前端部に載せられる。以降、このローディ
ング作業が繰り返されて行く。
In the potting step, the carrier jig 1
The magazine 20 in which a predetermined number of the magazines 4 are stored is carried into the first furnace 31 of the baking device 30 from the entrance door 34,
It is placed on the front end of the first conveyor 37. The magazine 20 placed on the front end of the first conveyor 37 advances one pitch inside the first furnace 31 by the pitch feed of the first conveyor 37. After one pitch advance, the next magazine 20 is placed on the front end of the first conveyor 37. Thereafter, this loading operation is repeated.

【0032】図1(b)に示されているように、第一炉
31は第一ヒータ36によって80℃に加熱され、その
温度が入口扉34および第一遮蔽扉35によって維持さ
れているため、第一炉31に搬入されたマガジン20は
80℃に加熱されることになる。この際の加熱時間は、
第一炉31の長さすなわち第一コンベア37の搬送時間
に比例する。例えば、図1において、第一コンベア37
の一ピッチの時間が五分間の場合には、5×6=30、
によって三十分間になる。この加熱により、マガジン2
0に収納されたキャリア治具14における被ベーキング
部としてのレジン塗布部16は硬化剤の反応によって硬
化して行く。
As shown in FIG. 1B, the first furnace 31 is heated to 80 ° C. by the first heater 36, and the temperature is maintained by the entrance door 34 and the first shielding door 35. The magazine 20 carried into the first furnace 31 is heated to 80 ° C. The heating time at this time is
It is proportional to the length of the first furnace 31, that is, the transport time of the first conveyor 37. For example, in FIG.
If one pitch time is 5 minutes, 5 × 6 = 30,
30 minutes. By this heating, Magazine 2
The resin application section 16 as the part to be baked in the carrier jig 14 housed in the storage unit 0 is hardened by the reaction of the hardener.

【0033】ところで、レジン塗布後のレジン塗布部1
6は液状であることにより、損傷し易く異物が混入し易
い状態になっているため、レジン塗布後はベーキング工
程の待ち時間を可及的に短くしてベーキング装置に送る
ことが望ましい。そこで、本実施形態においては、ポッ
ティング工程においてレジン塗布された被ベーキング物
としてのキャリア治具14をマガジン20に順次アンロ
ーディングして行き、所定枚数のキャリア治具14がマ
ガジンに収納された時点で、速やかにベーキング装置3
0に送り込むことにより、レジン塗布部16の損傷や異
物混入を防止している。
By the way, the resin coating section 1 after the resin coating
Since 6 is in a liquid state, it is in a state of being easily damaged and foreign matter is likely to be mixed in. Therefore, it is desirable that the waiting time of the baking step be as short as possible after the application of the resin and sent to the baking apparatus. Therefore, in the present embodiment, the carrier jig 14 as the object to be baked, which has been coated with the resin in the potting step, is sequentially unloaded into the magazine 20, and when a predetermined number of the carrier jigs 14 are stored in the magazine. , Quickly baking equipment 3
By sending it to 0, damage to the resin application section 16 and entry of foreign matter are prevented.

【0034】第一コンベア37の後端部に達したマガジ
ン20は第一炉31から中間炉33に第一遮蔽扉35を
通して搬入され、中間コンベア43の前端部に載せられ
る。中間コンベア43に載せられたマガジン20は中間
コンベア43のピッチ送りよって中間炉33内を一ピッ
チ前進する。この際、中間コンベア43のピッチ送りと
第一コンベア37のピッチ送りとは同期されているた
め、受け渡し作業は円滑に実行することができる。一ピ
ッチ前進すると、次のマガジン20が中間コンベア43
の前端部に第一炉31から受け渡される。以降、この受
け渡し作業が繰り返されて行く。
The magazine 20 reaching the rear end of the first conveyor 37 is carried from the first furnace 31 to the intermediate furnace 33 through the first shielding door 35, and is placed on the front end of the intermediate conveyor 43. The magazine 20 placed on the intermediate conveyor 43 advances one pitch in the intermediate furnace 33 by the pitch feed of the intermediate conveyor 43. At this time, since the pitch feed of the intermediate conveyor 43 and the pitch feed of the first conveyor 37 are synchronized, the delivery operation can be smoothly performed. When moving forward by one pitch, the next magazine 20 is moved to the intermediate conveyor 43.
From the first furnace 31. Thereafter, the delivery work is repeated.

【0035】図1(b)に示されているように、中間炉
33の温度領域は中間ヒータ42によって80℃から1
50℃に漸増して行くように制御されているため、中間
炉33において中間コンベア43によってピッチ送りさ
れて行くマガジン20の温度はピッチ送りに追従して次
第に上昇して行く。ちなみに、この際の加熱時間も、中
間炉33の長さすなわち中間コンベア43のピッチ送り
時間に比例する。例えば、図1において、中間コンベア
43の一ピッチの時間が五分間の場合には、5×2=1
0、によって十分間になる。この加熱により、マガジン
20に収納されたキャリア治具14におけるレジン塗布
部16は硬化剤の反応によって硬化を進行して行く。
As shown in FIG. 1B, the temperature range of the intermediate furnace 33 is set to 80 ° C.
Since the temperature is controlled so as to gradually increase to 50 ° C., the temperature of the magazine 20 that is pitch-fed by the intermediate conveyor 43 in the intermediate furnace 33 gradually rises following the pitch feeding. Incidentally, the heating time at this time is also proportional to the length of the intermediate furnace 33, that is, the pitch feed time of the intermediate conveyor 43. For example, in FIG. 1, when the time of one pitch of the intermediate conveyor 43 is 5 minutes, 5 × 2 = 1
0 gives enough time. By this heating, the resin coating section 16 of the carrier jig 14 housed in the magazine 20 progresses the curing by the reaction of the curing agent.

【0036】中間コンベア43の後端部に達したマガジ
ン20は中間炉33から第二炉32に第二遮蔽扉39を
通して搬入され、第二コンベア41の前端部に載せられ
る。第二コンベア41に載せられたマガジン20は第二
コンベア41のピッチ送りよって第二炉32内を一ピッ
チ前進する。この際も、第二コンベア41のピッチ送り
と中間コンベア43および第一コンベア37のピッチ送
りとは同期されているため、受け渡し作業は円滑に実行
することができる。一ピッチ前進すると、次のマガジン
20が第二コンベア41の前端部に中間炉33から受け
渡される。以降、この受け渡し作業が繰り返されて行
く。
The magazine 20 that has reached the rear end of the intermediate conveyor 43 is carried from the intermediate furnace 33 to the second furnace 32 through the second shielding door 39, and is placed on the front end of the second conveyor 41. The magazine 20 placed on the second conveyor 41 advances one pitch in the second furnace 32 by the pitch feed of the second conveyor 41. Also at this time, since the pitch feed of the second conveyor 41 and the pitch feed of the intermediate conveyor 43 and the first conveyor 37 are synchronized, the delivery operation can be performed smoothly. After one pitch advance, the next magazine 20 is delivered to the front end of the second conveyor 41 from the intermediate furnace 33. Thereafter, the delivery work is repeated.

【0037】図1(b)に示されているように、第二炉
32は第二ヒータ40により150℃に加熱され、その
温度が出口扉38および第二遮蔽扉39によって維持さ
れているため、第二炉32に搬入されたマガジン20は
150℃に加熱されることになる。この際の加熱時間
は、第二炉32の長さすなわち第二コンベア41の搬送
時間に比例する。例えば、図1において、第二コンベア
41の一ピッチの時間が五分間の場合には、5×2=1
0、によって十分間になる。この加熱により、マガジン
20に収納されたキャリア治具14における被ベーキン
グ部としてのレジン塗布部16は硬化剤の反応によって
より一層硬化して行く。第二コンベア41の後端部に達
したマガジン20は第二炉32から出口扉38を通して
搬出されてアンローディングされ、ベーキング処理を完
了する。
As shown in FIG. 1B, the second furnace 32 is heated to 150 ° C. by the second heater 40, and the temperature is maintained by the outlet door 38 and the second shielding door 39. The magazine 20 carried into the second furnace 32 is heated to 150 ° C. The heating time at this time is proportional to the length of the second furnace 32, that is, the transport time of the second conveyor 41. For example, in FIG. 1, when one pitch time of the second conveyor 41 is 5 minutes, 5 × 2 = 1
0 gives enough time. By this heating, the resin application section 16 as the baking target in the carrier jig 14 housed in the magazine 20 is further hardened by the reaction of the hardener. The magazine 20 that has reached the rear end of the second conveyor 41 is carried out of the second furnace 32 through the exit door 38 and is unloaded, completing the baking process.

【0038】図1に示されているように、第一炉31に
搬入されて第二炉32から搬出される迄の間に、マガジ
ン20に収納されたキャリア治具14のレジン塗布部1
6は予め設定された時間(例えば、30+10+10=
50、により、五十分間)、加熱処理されるため、充分
に硬化した図6に示されている樹脂封止体16Aを成形
することになる。
As shown in FIG. 1, the resin coating unit 1 of the carrier jig 14 housed in the magazine 20 is carried into the first furnace 31 and carried out of the second furnace 32.
6 is a preset time (for example, 30 + 10 + 10 =
50, the heat treatment is performed, so that the sufficiently cured resin sealing body 16A shown in FIG. 6 is formed.

【0039】その後、図2に示されているバンプ形成工
程において、テープキャリア2の各アウタリード8にお
ける各バンプホール5の底で露出した部位に半田ボール
が半田付けされることにより、バンプ形成部4の上面か
ら突出したバンプ17がテープキャリア2に図6に示さ
れているように形成される。
Thereafter, in a bump forming step shown in FIG. 2, a solder ball is soldered to a portion of each outer lead 8 of the tape carrier 2 exposed at the bottom of each bump hole 5, so that the bump forming section 4 is formed. Are formed on the tape carrier 2 as shown in FIG.

【0040】次いで、図2に示されている切り離し工程
において、テープキャリア2が一単位毎に切り離される
と、図6に示されているμBGA・IC18が製造され
たことになる。この状態において、最終ベーキングした
樹脂封止体16Aはインナリード7と電極パッド12と
の接続部を良好に樹脂封止した状態になっている。
Next, in the separating step shown in FIG. 2, when the tape carrier 2 is separated for each unit, the μBGA IC 18 shown in FIG. 6 is manufactured. In this state, the final baked resin sealing body 16A is in a state in which the connection portion between the inner lead 7 and the electrode pad 12 is well sealed with resin.

【0041】前記実施形態によれば、次の効果が得られ
る。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained.

【0042】1) レジン塗布部が形成されたテープキャ
リアを保持した複数枚のキャリア治具をマガジンに収納
し、このマガジンを第一炉、中間炉および第二炉を順次
通してベーキングすることにより、ベーキング装置の全
長を短く抑制しつつ所望のベーキング温度および時間を
確保することができるため、占拠床面積を抑制しつつレ
ジン塗布部を確実にベーキングすることができる。
1) A plurality of carrier jigs holding a tape carrier on which a resin coating section is formed are housed in a magazine, and the magazine is baked by sequentially passing through a first furnace, an intermediate furnace, and a second furnace. Since the desired baking temperature and time can be ensured while suppressing the overall length of the baking apparatus to be short, the resin application section can be reliably baked while suppressing the occupied floor area.

【0043】2) 第一炉の加熱温度を低く第二炉の加熱
温度を高く設定することにより、第一炉によって仮ベー
キングし第二炉によって最終ベーキングすることができ
るため、硬化剤の反応を適正に制御することができ、樹
脂封止体の品質および信頼性を高めることができる。
2) By setting the heating temperature of the first furnace to be low and the heating temperature of the second furnace to be high, it is possible to perform temporary baking by the first furnace and final baking by the second furnace. Appropriate control can be performed, and the quality and reliability of the resin sealing body can be improved.

【0044】3) 第一炉と第二炉との境に炉相互間の熱
を遮蔽する遮蔽扉を介設することにより、第一炉と第二
炉との温度差を維持することができるため、仮ベーキン
グと最終ベーキングとを区分することができる。
3) The temperature difference between the first furnace and the second furnace can be maintained by providing a shielding door at the boundary between the first furnace and the second furnace to shield heat between the furnaces. Therefore, temporary baking and final baking can be distinguished.

【0045】4) 第一炉と第二炉との間に両者の温度差
分を変化させる中間炉を介設することにより、第一炉と
第二炉との温度差を緩衝させることができるため、仮ベ
ーキングから最終ベーキングへの移行を適切に実行する
ことができる。
4) The temperature difference between the first furnace and the second furnace can be buffered by providing an intermediate furnace between the first furnace and the second furnace that changes the temperature difference between the two furnaces. The transition from the temporary baking to the final baking can be appropriately performed.

【0046】5) 第一炉と第二炉との長さの調整によっ
て被ベーキング物の炉の通過時間を制御することによ
り、仮ベーキング時間と最終ベーキング時間との配分や
増減を簡単に制御することができるため、ベーキング装
置のコストを低減することができる。
5) The distribution and increase / decrease of the temporary baking time and the final baking time are easily controlled by controlling the length of the first furnace and the second furnace to control the passage time of the object to be baked through the furnace. Therefore, the cost of the baking device can be reduced.

【0047】6) マガジンをコンベアによって搬送する
ように構成することにより、マガジンのハンドリング装
置の構造や制御を簡単に構成することができるため、ベ
ーキング装置のコストを低減することができる。
6) By configuring the magazine to be conveyed by a conveyor, the structure and control of the magazine handling device can be simplified, so that the cost of the baking device can be reduced.

【0048】7) レジン塗布後の被ベーキング物をマガ
ジンに収納してベーキング装置に直ちに送り込んで速や
かにベーキング処理することにより、レジン塗布部への
異物の混入や損傷の機会を減少させることができるた
め、樹脂封止体の品質および信頼性を高めることができ
る。
7) The object to be baked after application of the resin is stored in a magazine, immediately sent to a baking device, and quickly baked, thereby reducing the chances of foreign matter entering into the resin application portion and damage. Therefore, the quality and reliability of the resin sealing body can be improved.

【0049】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say.

【0050】ベーキング炉は二段設けるに限らず、三段
以上設けてもよい。
The baking furnace is not limited to two stages, but may be three or more stages.

【0051】仮ベーキング温度および最終ベーキング温
度は、80℃および150℃に限らず、ポッティング材
としてのレジンの材質や量等の諸条件に対応して適宜に
設定することが望ましい。
The temporary baking temperature and the final baking temperature are not limited to 80 ° C. and 150 ° C., but are desirably set appropriately according to various conditions such as the material and amount of the resin as the potting material.

【0052】ベーキングの対象であるレジン塗布部は、
インナリードと電極パッドとの接続部に塗布されたレジ
ン塗布部に限らず、BGAのキャビティー内やチップと
ベースとの間のアンダーフィル、さらには、他のパッケ
ージの樹脂封止体を成形するのにレジンを塗布されたレ
ジン塗布部であってもよい。
The resin coating portion to be baked is
It is not limited to the resin application part applied to the connection part between the inner lead and the electrode pad, but also forms the underfill between the cavity of the BGA and the chip and the base, and the resin sealing body of another package. Alternatively, a resin application section may be applied with a resin.

【0053】また、本発明に係るベーキング技術は、樹
脂封止体を成形するのにレジンを塗布されたレジン塗布
部をベーキングする技術に限らず、半田ペーストや銀ペ
ースト等の接着材がタブやボンディング床に塗布された
塗布部をベーキングするベーキング技術全般に適用する
ことができる。
Further, the baking technique according to the present invention is not limited to the technique of baking a resin-coated portion to which a resin is applied to form a resin sealing body. The present invention can be applied to all baking techniques for baking an application portion applied to a bonding floor.

【0054】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるμBG
A・ICの製造方法に適用した場合について説明した
が、それに限定されるものではなく、その他のCSP・
ICの製造方法やTCP・IC等に使用されるベーキン
グ技術全般に適用することができる。
In the above description, the invention made mainly by the present inventor has been applied to the μBG
A case where the present invention is applied to a method for manufacturing an A / IC has been described, but the present invention is not limited to this.
The present invention can be applied to all IC manufacturing methods and baking techniques used for TCP / IC and the like.

【0055】[0055]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
The effects obtained by typical aspects of the invention disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0056】被ベーキング物を収納したマガジンを複数
段のベーキング炉を順次通してベーキングすることによ
り、ベーキング装置の全長を短く抑制しつつ所望のベー
キング温度および時間を確保することができるため、占
拠床面積を抑制しつつ被ベーキング物を確実にベーキン
グすることができる。
By baking the magazine containing the objects to be baked sequentially through a plurality of baking ovens, it is possible to secure a desired baking temperature and time while keeping the overall length of the baking apparatus short, so that the occupied floor can be secured. The object to be baked can be reliably baked while suppressing the area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態であるベーキング装置を示
しており、(a)は正面断面図、(b)はその温度分布
図である。
FIG. 1 shows a baking apparatus according to an embodiment of the present invention, in which (a) is a front sectional view, and (b) is a temperature distribution chart.

【図2】本発明の一実施形態であるμBGA・ICの製
造方法を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a μBGA IC according to an embodiment of the present invention.

【図3】そのポッティング工程に供給される組立体を示
しており、(a)は一部省略平面図、(b)は一部省略
正面断面図である。
3A and 3B show an assembly supplied to the potting step, wherein FIG. 3A is a partially omitted plan view, and FIG. 3B is a partially omitted front sectional view.

【図4】ポッティング工程後を示しており、(a)は一
部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面図
である。
4A and 4B show a state after the potting step, in which FIG. 4A is a partially omitted plan view, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line bb of FIG.

【図5】ベーキング工程に供給されるマガジンを示す斜
視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a magazine supplied to a baking step.

【図6】μBGA・ICを示しており、(a)は左半分
が平面図で右半分が底面図、(b)は一部切断正面図で
ある。
6A and 6B show a μBGA IC, wherein FIG. 6A is a plan view of the left half, a bottom view of the right half, and FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…組立体、2…テープキャリア、3…キャリア本体、
4…バンプ形成部、5…バンプホール、6…窓孔、7…
インナリード、8…アウタリード、9…絶縁膜、10…
チップ(半導体チップ)、11…パッシベーション膜、
12…電極パッド、14…キャリア治具(被ベーキング
物)、15…窓孔、16…レジン塗布部、16A…樹脂
封止体、17…バンプ、18…μBGA・IC(半導体
装置)、20…マガジン、21…本体、22…側壁、2
3…保持溝、30…ベーキング装置、31…第一段目の
ベーキング炉(第一炉)、32…第二段目のベーキング
炉(第二炉)、33…中間炉、34…入口扉、35…遮
蔽扉(第一遮蔽扉)、36…ヒータ(第一ヒータ)、3
7…ベルトコンベア(第一コンベア)、38…出口扉、
39…遮蔽扉(第二遮蔽扉)、40…ヒータ(第二ヒー
タ)、41…ベルトコンベア(第二コンベア)、42…
ヒータ(中間ヒータ)、43…ベルトコンベア(中間コ
ンベア)。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Assembly, 2 ... Tape carrier, 3 ... Carrier main body,
4 ... Bump forming part, 5 ... Bump hole, 6 ... Window hole, 7 ...
Inner lead, 8 ... Outer lead, 9 ... Insulating film, 10 ...
Chip (semiconductor chip), 11 ... passivation film,
Reference numeral 12: electrode pad, 14: carrier jig (baked object), 15: window hole, 16: resin coating portion, 16A: resin sealing body, 17: bump, 18: μBGA / IC (semiconductor device), 20: Magazine, 21: Main body, 22: Side wall, 2
Reference numeral 3: holding groove, 30: baking apparatus, 31: first-stage baking furnace (first furnace), 32: second-stage baking furnace (second furnace), 33: intermediate furnace, 34: entrance door, 35: shielding door (first shielding door), 36: heater (first heater), 3
7 ... belt conveyor (first conveyor), 38 ... exit door,
39: shielding door (second shielding door), 40: heater (second heater), 41: belt conveyor (second conveyor), 42 ...
Heater (intermediate heater), 43 ... Belt conveyor (intermediate conveyor).

フロントページの続き (72)発明者 樋口 和範 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 宮田 克彦 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 須田 富司 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内 Fターム(参考) 4F203 AA39 AH33 DA12 DB01 DC13 DK02 DL01 DN02 5F061 AA01 BA03 CA04 CB13 Continuing on the front page (72) Inventor Kazunori Higuchi 3-3-2 Fujibashi, Ome-shi, Tokyo Within Hitachi Tokyo Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Katsuhiko Miya3-3-2-2 Fujibashi, Ome-shi, Tokyo Hitachi Tokyo Electronics Co., Ltd. In-house (72) Inventor Tomoji Suda 3-3-2 Fujihashi, Ome-shi, Tokyo F-term in Hitachi Tokyo Electronics Co., Ltd. (reference) 4F203 AA39 AH33 DA12 DB01 DC13 DK02 DL01 DN02 5F061 AA01 BA03 CA04 CB13

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の被ベーキング物を収納したマガジ
ンが、複数段のベーキング炉を順次通されてベーキング
されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
1. A method of manufacturing a semiconductor device, wherein a magazine containing a plurality of objects to be baked is sequentially passed through a plurality of baking furnaces and baked.
【請求項2】 前記マガジンが複数段のベーキング炉を
連続的に通されることを特徴とする請求項1に記載の半
導体装置の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the magazine is continuously passed through a plurality of baking furnaces.
【請求項3】 前記マガジンの加熱温度が各段のベーキ
ング炉に移行毎に変更されることを特徴とする請求項1
または2に記載の半導体装置の製造方法。
3. The heating temperature of the magazine is changed every time the baking furnace is moved to each stage.
Or a method for manufacturing a semiconductor device according to item 2.
【請求項4】 被ベーキング物を収納したマガジンを通
されるベーキング炉が複数段、直列に並べられているこ
とを特徴とするベーキング装置。
4. A baking apparatus characterized in that a plurality of baking furnaces through which a magazine containing objects to be baked is passed are arranged in series.
【請求項5】 前記各段のベーキング炉のベーキング温
度が異なっていることを特徴とする請求項4に記載のベ
ーキング装置。
5. The baking apparatus according to claim 4, wherein the baking temperature of each of the baking furnaces is different.
【請求項6】 前記隣合うベーキング炉同士の境に熱を
遮蔽する遮蔽扉が介設されている請求項4または5に記
載のベーキング装置。
6. The baking apparatus according to claim 4, wherein a shielding door for shielding heat is interposed at a boundary between the adjacent baking furnaces.
【請求項7】 前記各段のベーキング炉の間に両者の温
度差分を変化させる中間炉が介設されていることを特徴
とする請求項4、5または6に記載のベーキング装置。
7. The baking apparatus according to claim 4, wherein an intermediate furnace for changing a temperature difference between the respective baking furnaces is provided between the respective baking furnaces.
【請求項8】 前記各段のベーキング炉の前記マガジン
の通過時間の割合が制御されていることを特徴とする請
求項4、5、6または7に記載のベーキング装置。
8. The baking apparatus according to claim 4, wherein a ratio of a passage time of the magazine in each of the baking furnaces is controlled.
【請求項9】 前記各段のベーキング炉の長さの調整に
より、前記各段のベーキング炉の前記マガジンの通過時
間の割合が制御されていることを特徴とする請求項8に
記載のベーキング装置。
9. The baking apparatus according to claim 8, wherein the ratio of the passage time of the magazine in each of the baking ovens is controlled by adjusting the length of the baking oven in each of the stages. .
【請求項10】 前記ベーキング炉に前記マガジンを搬
送するコンベアが敷設されていることを特徴とする請求
項4、5、6、7または8に記載のベーキング装置。
10. The baking apparatus according to claim 4, wherein a conveyor that conveys the magazine is laid in the baking furnace.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101012433B1 (en) * 2010-06-11 2011-02-08 주식회사 베셀 Multi-compartment structure cure oven
JP2013232638A (en) * 2012-04-30 2013-11-14 Samsung Electronics Co Ltd Multi-stack cure system and operation method of the same

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