JP2001059809A - Method for testing light fastness - Google Patents

Method for testing light fastness

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JP2001059809A
JP2001059809A JP11236490A JP23649099A JP2001059809A JP 2001059809 A JP2001059809 A JP 2001059809A JP 11236490 A JP11236490 A JP 11236490A JP 23649099 A JP23649099 A JP 23649099A JP 2001059809 A JP2001059809 A JP 2001059809A
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JP
Japan
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plasma
test sample
test
light resistance
light
Prior art date
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Application number
JP11236490A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Yamamoto
耕司 山本
Katsumi Watanabe
加津己 渡辺
Wataru Tanaka
田中  渉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the method for testing light fastness capable of evaluating whether a material/product (containing a coating film) such as a resin molding or the like is easy to receive the effect of ultraviolet rays under light environment for a short time. SOLUTION: In a light fastness testing method performed by irradiating a test sample with ultraviolet rays, plasma 5 is formed and the test sample 6 is directly irradiated with ultraviolet rays emitted from the formed plasma 5. The plasma 5 is formed by ionizing gas under reduced pressure by a high frequency electric field. The output of a power supply for forming the plasma is 100-400 W and the ultraviolet irradiation time of the test sample is 60-600 sec.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線を試験サン
プルに照射して行う耐光性試験方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for testing light resistance by irradiating a test sample with ultraviolet rays.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、樹脂成形品等の材料・製品(含む
塗膜)の耐光性を評価する試験方法としては、太陽光を
利用する屋外暴露試験や光源ランプが発生する紫外線を
利用する方法が広く知られている。しかし、屋外暴露試
験では、試験サンプルの耐光性確認までに少なくとも数
十日間という長期間を要し、また試験環境(天候、気
温、試験サンプル設置位置等)の違いにより試験結果に
大きなバラツキが生じる問題がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a test method for evaluating the light resistance of a material or product (including a coating film) such as a resin molded product, an outdoor exposure test using sunlight or a method using ultraviolet light generated by a light source lamp has been known. Is widely known. However, in outdoor exposure tests, it takes at least several tens of days to confirm the light resistance of test samples, and the test results vary widely due to differences in the test environment (weather, temperature, test sample installation position, etc.). There's a problem.

【0003】一方、光源ランプが発生する紫外線を利用
する方法では、耐光性試験機の槽内で水銀灯、ブラック
ライト、キセノンランプ、UV蛍光灯等の光源ランプを
点灯させ、一定の温度域で試験サンプルに紫外線を照射
して耐光性を確認するのが一般的であり、屋外暴露試験
で受ける紫外線量相当分の紫外線量を加速して照射する
ことにより、短期間で評価することが可能である。しか
し、この促進評価方法を用いても、耐光性を評価するに
は少なくとも3〜5日間を要してしまう。何故ならば、
光源ランプはガラスのカバーで覆われた内側から紫外線
を照射するため、ガラスの透過率によって紫外線強度が
制限されてしまい、現状の光源ランプからの紫外線量で
は日レベルの時間経過を要しないと耐光性に変化が現れ
ないからである。また、出力の高いランプを使用した場
合でも、ランプからの発熱量が大きくなるため光束が低
下し、十分な紫外線量を得ることができない。そして、
この発熱量を抑えるために、ランプ周囲に水冷装置もし
くは空冷装置を取付けることも可能であるが、それらの
装置を取付けたとしても、耐光性を評価するにはやはり
数日の試験時間が必要である。
[0003] On the other hand, in a method using ultraviolet light generated by a light source lamp, a light source lamp such as a mercury lamp, a black light, a xenon lamp, and a UV fluorescent lamp is turned on in a tank of a light resistance tester, and the test is performed in a certain temperature range. In general, light resistance is confirmed by irradiating the sample with ultraviolet light, and it is possible to evaluate in a short period of time by accelerating and irradiating the amount of ultraviolet light equivalent to the amount of ultraviolet light received in an outdoor exposure test. . However, even with this accelerated evaluation method, it takes at least 3 to 5 days to evaluate light resistance. because,
Since the light source lamp emits ultraviolet light from the inside covered with a glass cover, the intensity of the ultraviolet light is limited by the transmittance of the glass. This is because there is no change in gender. Further, even when a lamp with a high output is used, the amount of heat generated from the lamp is large, so that the luminous flux is reduced and a sufficient amount of ultraviolet rays cannot be obtained. And
In order to suppress this heat generation, it is possible to install a water cooling device or an air cooling device around the lamp.However, even if such a device is installed, a test time of several days is still required to evaluate light resistance. is there.

【0004】この試験時間の問題の他に、光源ランプが
発生する紫外線を利用する方法では、ランプ均整度、製
造ロットによるバラツキ、あるいは槽内のサンプル取付
け位置の違いにより試験結果に大きなバラツキが生じる
問題や、光源ランプにはランプ寿命があり定期的に交換
しなくてはならないが、この用途の光源ランプは一般的
に高価であり、コストがかかるという問題もある。
[0004] In addition to the problem of the test time, in the method using the ultraviolet light generated by the light source lamp, a large variation occurs in the test result due to the lamp uniformity, the variation between production lots, or the difference in the sample mounting position in the bath. Although the light source lamp has a lamp life and must be replaced periodically, there is a problem that the light source lamp for this purpose is generally expensive and costly.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、上記の
従来の技術では、光環境下における樹脂成形品等の材料
・製品(含む塗膜)の耐光性を評価するための試験に長
時間を要するという問題があった。
As described above, in the above-mentioned conventional technique, a long time is required for a test for evaluating the light resistance of a material or a product (including a coating film) such as a resin molded product in an optical environment. There was a problem that required.

【0006】本発明はこの問題に着目してなされたもの
であり、樹脂成形品等の材料・製品(含む塗膜)が光環
境下における紫外線の影響を受けやすいものであるかど
うかを、上記の従来の技術に比べ、短時間で評価できる
耐光性試験方法を提供することを課題としている。
The present invention has been made in view of this problem, and determines whether a material or product (including a coating film) such as a resin molded product is susceptible to ultraviolet rays in an optical environment. It is an object of the present invention to provide a light resistance test method that can be evaluated in a short time as compared with the conventional technology.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の耐
光性試験方法は、紫外線を試験サンプルに照射して行う
耐光性試験方法において、プラズマを生成させ、生成し
たプラズマから発する紫外線を直接試験サンプルに照射
することを特徴とする耐光性試験方法である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a light resistance test method comprising irradiating a test sample with ultraviolet light to generate plasma and directly emit ultraviolet light generated from the generated plasma. This is a light resistance test method characterized by irradiating a test sample.

【0008】この発明の試験方法では、生成したプラズ
マから発する紫外線を直接試験サンプルに照射するの
で、試験サンプル(含む塗膜)が紫外線の影響を受けや
すいものであるかどうかを極めて短時間で評価すること
ができる。
In the test method of the present invention, since the test sample is irradiated directly with the ultraviolet light emitted from the generated plasma, it is possible to evaluate whether the test sample (including the coating film) is susceptible to the ultraviolet light in a very short time. can do.

【0009】請求項2に係る発明の耐光性試験方法は、
プラズマを生成する方法が、減圧下で高周波電界により
ガスをイオン化させる方法であることを特徴とする請求
項1記載の耐光性試験方法である。
According to a second aspect of the invention, there is provided a method for testing light resistance.
2. The light resistance test method according to claim 1, wherein the method of generating plasma is a method of ionizing a gas with a high-frequency electric field under reduced pressure.

【0010】この発明の試験方法では、プラズマを生成
する方法が、減圧下で高周波電界によりガスをイオン化
させる方法であるので、容易にプラズマを生成すること
ができる。
In the test method of the present invention, the method of generating plasma is a method of ionizing gas with a high-frequency electric field under reduced pressure, so that plasma can be easily generated.

【0011】請求項3に係る発明の耐光性試験方法は、
プラズマを生成させるための電源出力が100W〜40
0Wであり、試験サンプルへの紫外線照射時間が60秒
〜600秒であることを特徴とする請求項2記載の耐光
性試験方法である。
According to a third aspect of the invention, there is provided a light resistance test method.
Power output for generating plasma is 100 W to 40 W
The light resistance test method according to claim 2, wherein the test sample has an ultraviolet irradiation time of 60 seconds to 600 seconds.

【0012】この発明の試験方法では、プラズマを生成
させるための電源出力及び試験サンプルへの紫外線照射
時間をそれぞれ特定の範囲内に特定しているため、試験
サンプルが紫外線の影響を受けやすいかものかどうかを
確実に評価することができるようになる。プラズマ生成
のための電源出力及び紫外線照射時間が特定している範
囲以下の場合は、耐光性の評価に必要な紫外線エネルギ
ーが十分には照射されないため、満足する結果が得にく
く、逆に特定している範囲以上の場合は、プラズマ生成
時の発熱等により試験サンプルが変形したり、反り等の
不具合が生じ、正確な評価結果が得にくいという問題が
生じることがある。
In the test method of the present invention, since the power supply output for generating plasma and the time for irradiating the test sample with ultraviolet light are specified within specific ranges, are the test samples susceptible to ultraviolet light? It will be possible to reliably evaluate whether or not. If the power output and the UV irradiation time for plasma generation are below the specified range, the UV energy required for the evaluation of light resistance is not sufficiently irradiated, and it is difficult to obtain satisfactory results. In the case of exceeding the range, the test sample may be deformed due to heat generation at the time of plasma generation, or a defect such as warpage may occur, which may cause a problem that it is difficult to obtain an accurate evaluation result.

【0013】請求項4に係る発明の耐光性試験方法は、
放電式真空蒸着装置、放電式イオンプレーティング装置
又は放電式イオンスパッタリング装置内に試験サンプル
を取付けて、プラズマから発する紫外線を直接試験サン
プルに照射することを特徴とする請求項1から請求項3
までの何れかに記載の耐光性試験方法である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for testing light resistance.
The test sample is mounted in a discharge vacuum deposition apparatus, a discharge ion plating apparatus, or a discharge ion sputtering apparatus, and the test sample is directly irradiated with ultraviolet rays emitted from plasma.
The light resistance test method according to any one of the above.

【0014】この発明の試験方法では、他の用途に使用
することができるプラズマ生成装置を使用するので、市
販の装置で耐光性試験が可能となる。
In the test method of the present invention, since a plasma generation device that can be used for other purposes is used, a light resistance test can be performed with a commercially available device.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】図面を使って、請求項1〜請求項
4の発明に係る実施の形態を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments according to the first to fourth aspects of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0016】図1は請求項1〜請求項4の発明に対応す
る実施形態における耐光性試験装置の概略図を示してい
て、この耐光性試験装置は高周波放電式真空蒸着装置を
利用している。
FIG. 1 is a schematic view of a light fastness test apparatus according to an embodiment corresponding to the first to fourth aspects of the present invention. This light fastness test apparatus utilizes a high-frequency discharge vacuum deposition apparatus. .

【0017】この実施形態におけるプラズマ生成方法
は、図1に示すように高周波放電式真空蒸着装置を利用
していて、排気系2を用いて大気圧以下の真空にしたチ
ヤンバー1内にAr、N2 、O2 等のガスを導入し、高
周波電源3と接続されているアンテナ4によって生じる
高周波電界により導入したガスをイオン化させてプラズ
マ5を生成する。そして、この実施形態では生成したプ
ラズマ5から発する紫外線を試験サンプル6に所定時間
直接照射することによって耐光性試験を行う。この実施
形態では高周波放電式真空蒸着装置を利用しているが、
この装置に代えて放電式イオンプレーティング装置又は
放電式イオンスパッタリング装置を使用することもでき
る。なお、図1中のMVはメインバルブを、DPはディ
フュージョン(拡散)ポンプを、RVはあらびきバルブ
を、RPはロータリーポンプを示していて、大気圧から
の低真空度の段階での排気はRPを用いて行い、高真空
度にするための排気は、バルブを切り替えた後DPを用
いて行う構成になっている。
The plasma generation method in this embodiment utilizes a high-frequency discharge vacuum deposition apparatus as shown in FIG. 1, and Ar and N are placed in a chamber 1 evacuated to a pressure lower than the atmospheric pressure using an exhaust system 2. 2 , a gas such as O 2 is introduced, and the introduced gas is ionized by a high-frequency electric field generated by an antenna 4 connected to a high-frequency power supply 3 to generate a plasma 5. In this embodiment, the light resistance test is performed by directly irradiating the test sample 6 with ultraviolet light emitted from the generated plasma 5 for a predetermined time. In this embodiment, a high-frequency discharge vacuum deposition apparatus is used,
Instead of this apparatus, a discharge type ion plating apparatus or a discharge type ion sputtering apparatus can be used. In FIG. 1, MV denotes a main valve, DP denotes a diffusion (diffusion) pump, RV denotes an opening valve, and RP denotes a rotary pump, and exhaust at a low vacuum level from atmospheric pressure is performed. The exhaust is performed using the RP, and the exhaust to achieve a high degree of vacuum is performed using the DP after switching the valve.

【0018】使用するAr、N2 、O2 等のガスは単独
で用いても良いし、混合して用いることも可能である。
また、プラズマから発生する紫外線波長域は約60〜2
00nmである。試験サンプル6の大きさと形状は使用
する装置により異なるが、紫外線が直接照射される位置
に設ける試験サンプル取付け板7に収まる大きさと形状
であればよい。試験サンプル6とアンテナ4間の距離の
違いによる照射エネルギー量の差は殆ど生じないため、
試験サンプル6とアンテナ4間の距離は、装置内の取付
け可能な範囲であれば特に制限はない。
The gases such as Ar, N 2 and O 2 used may be used alone or in combination.
The ultraviolet wavelength range generated by the plasma is about 60 to 2
00 nm. The size and shape of the test sample 6 vary depending on the device used, but may be any size and shape that can be accommodated in the test sample mounting plate 7 provided at the position where the ultraviolet rays are directly irradiated. Since there is almost no difference in the amount of irradiation energy due to the difference in the distance between the test sample 6 and the antenna 4,
The distance between the test sample 6 and the antenna 4 is not particularly limited as long as it can be mounted in the apparatus.

【0019】また、試験時間は、プラズマ5から発する
紫外線エネルギー量により左右されるため、紫外線エネ
ルギー量を制御する電源出力値によって異なる。短時間
で確実に評価するためには、プラズマ生成のための高周
波電源3の電源出力を100W〜400Wの範囲内と
し、且つ試験サンプルへの紫外線照射時間を60〜60
0秒の範囲内とすることが望ましい。プラズマ生成のた
めの電源出力及び紫外線照射時間が特定している範囲以
下の場合は、耐光性の評価に必要な紫外線エネルギーが
十分には照射されないため、満足する結果が得にくく、
逆に特定している範囲以上の場合は、プラズマ生成時の
発熱等により試験サンプルが変形したり、反り等の不具
合が生じ、正確な評価結果が得にくいという問題が生じ
ることがある。
Since the test time depends on the amount of ultraviolet energy emitted from the plasma 5, it differs depending on the power output value for controlling the amount of ultraviolet energy. For reliable evaluation in a short time, the power output of the high-frequency power supply 3 for plasma generation is set in the range of 100 W to 400 W, and the irradiation time of the ultraviolet light to the test sample is set to 60 to 60.
It is desirable to set it within the range of 0 seconds. When the power supply output and the ultraviolet irradiation time for the plasma generation are below the specified range, the ultraviolet energy required for the light resistance evaluation is not sufficiently irradiated, so that it is difficult to obtain a satisfactory result,
On the other hand, if it is more than the specified range, the test sample may be deformed or warped due to heat generation at the time of plasma generation or the like, which may cause a problem that it is difficult to obtain an accurate evaluation result.

【0020】この実施形態ではプラズマ5から発する紫
外線を試験サンプル6に所定時間直接照射した後、図1
に示す耐光性試験装置から試験サンプル6を取り出し、
JIS−Z8722に基づき光電色彩計を利用して、J
IS−K7105の5.4色差の欄に記載されているL
* 、a* 、b* 値を求め、色差(ΔEab * )を算出し
て、試験サンプル6が紫外線の影響を受けやすいもので
あるかどうかを評価する。なお、色差(ΔEab * )の算
出はJIS−K7105の5.4色差の欄に記載されて
いる次式で算出する。
In this embodiment, after directly irradiating the test sample 6 with ultraviolet light emitted from the plasma 5 for a predetermined time, FIG.
Take out the test sample 6 from the light resistance test device shown in
Using a photoelectric colorimeter based on JIS-Z8722,
L described in the column of 5.4 color difference of IS-K7105
The * , a * , and b * values are determined, and the color difference (ΔE ab * ) is calculated to evaluate whether the test sample 6 is susceptible to ultraviolet rays. The color difference (ΔE ab * ) is calculated by the following equation described in the column of 5.4 color difference of JIS-K7105.

【0021】ΔEab * =[(ΔL* 2 +(Δa* 2
+(Δb* 2 1/2
ΔE ab * = [(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2
+ (Δb * ) 2 ] 1/2

【0022】[0022]

【実施例】以下請求項1〜請求項4の発明に係る実施例
について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments according to the first to fourth aspects of the present invention will be described below.

【0023】以下の実施例及び比較例では、2種類の樹
脂材料(ポリカーボネート、アクリル)を用い、射出成
形により作製された樹脂平板成形品を試験サンプルとし
て耐光性試験を実施した。試験サンプルの大きさは70
×50×2mmであり、ポリカーボネートはバイエル社
製の商品名アペックを使用し、アクリルは三菱レーヨン
社製の商品名アクリペットVH001を使用した。
In the following Examples and Comparative Examples, a light resistance test was carried out using two types of resin materials (polycarbonate and acrylic) as test samples and flat resin molded articles produced by injection molding. Test sample size is 70
× 50 × 2 mm, polycarbonate used was Apec (trade name, manufactured by Bayer), and acrylic was Acrypet VH001 (trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.).

【0024】実施例1〜実施例12については、図1に
その概略図を示す高周波放電式真空蒸着装置(シンクロ
ン社製LC−8P)を使用し、プラズマから発する紫外
線を直接試験サンプルに照射して耐光性試験を実施し
た。一方、比較例1、比較例2については、従来の試験
方法である、一定の温度域で試験サンプルに光源ランプ
からの紫外線を照射する方法で耐光性試験を行った。具
体的には恒温槽(楠本化成社製ETAC−HT220)
内を一定の温度(表1、表2に記載)に保持しながら水
銀灯(400W)を点灯し、回転ドラムに試験サンプル
を取り付けて耐光性試験を行った。各実施例及び各比較
例毎の試験サンプルの種類及び試験条件を表1、表2に
示す。
In Examples 1 to 12, a test sample was directly irradiated with ultraviolet rays emitted from plasma using a high-frequency discharge vacuum evaporation apparatus (LC-8P manufactured by Syncron) whose schematic diagram is shown in FIG. A light fastness test was performed. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, a light resistance test was performed by a conventional test method in which a test sample was irradiated with ultraviolet rays from a light source lamp in a certain temperature range. Specifically, a thermostatic bath (ETAC-HT220 manufactured by Kusumoto Chemicals)
While maintaining the inside at a constant temperature (described in Tables 1 and 2), a mercury lamp (400 W) was turned on, and a test sample was mounted on a rotating drum to perform a light resistance test. Tables 1 and 2 show the types of test samples and the test conditions for each example and each comparative example.

【0025】上記の耐光性試験を終えた試験サンプルに
ついて、スガ試験機社製のカラーコンピュータSM−7
を使用して色差測定を行い(前記式でΔEab * を求め
る)、各試験サンプルの耐光性を比較評価した。得られ
た色差(ΔEab * )の値を表3示し、表3の値をグラフ
にしたものを図2〜図7に示す。
For the test sample after the light resistance test, a color computer SM-7 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. was used.
Was used to determine the color difference (ΔE ab * was determined by the above formula), and the light resistance of each test sample was comparatively evaluated. The values of the obtained color difference (ΔE ab * ) are shown in Table 3, and graphs of the values in Table 3 are shown in FIGS.

【0026】実施例1〜実施例6及び比較例1は、樹脂
材料をポリカーボネートにした場合の耐光性を比較して
いる。実施例1〜実施例3はO2 ガスを使用し、電源出
力を100W、300W、400Wにした場合の各照射
時間における色差の値を比較例1の色差の値と比較する
ための例である。実施例4は実施例2の条件で、Arガ
スを使用した例で、比較例1及び実施例2の色差の値と
比較するための例である。実施例5、実施例6は実施例
2の条件で、試験サンプルとアンテナ間の距離を変えた
例であり(照射時間は10分のみ)、比較例1及び実施
例2の色差の値と比較するための例である。
Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 compare light resistance when the resin material is polycarbonate. Example 1 to Example 3 are examples for comparing the color difference value at each irradiation time with the color difference value of Comparative Example 1 when the power output is 100 W, 300 W, and 400 W using O 2 gas. . Example 4 is an example in which Ar gas is used under the conditions of Example 2, and is an example for comparison with the color difference values of Comparative Example 1 and Example 2. Example 5 and Example 6 are examples in which the distance between the test sample and the antenna was changed under the conditions of Example 2 (irradiation time was only 10 minutes) and compared with the color difference values of Comparative Example 1 and Example 2. It is an example for doing.

【0027】実施例7〜実施例12及び比較例2は、樹
脂材料をアクリルにした場合の耐光性を比較している。
実施例7〜実施例9はO2 ガスを使用し、電源出力を1
00W、300W、400Wにした場合の各照射時間に
おける色差の値を比較例2の色差の値と比較するための
例である。実施例10は実施例8の条件で、Arガスを
使用した例で、比較例2及び実施例8の色差の値と比較
するための例である。実施例11、実施例12は実施例
8の条件で、試験サンプルとアンテナ間の距離を変えた
例であり(照射時間は10分のみ)、比較例2及び実施
例8の色差の値と比較するための例である。
Examples 7 to 12 and Comparative Example 2 compare light resistance when the resin material is acrylic.
The seventh to ninth embodiments use O 2 gas and have a power output of 1
This is an example for comparing the value of the color difference at each irradiation time in the case of 00W, 300W, and 400W with the value of the color difference of Comparative Example 2. Example 10 is an example in which Ar gas is used under the conditions of Example 8, and is an example for comparison with the color difference values of Comparative Example 2 and Example 8. Example 11 and Example 12 are examples in which the distance between the test sample and the antenna was changed under the conditions of Example 8 (irradiation time was only 10 minutes), and were compared with the color difference values of Comparative Example 2 and Example 8. It is an example for doing.

【0028】表3、図2〜図7に示した評価結果から、
比較例における耐光性試験日数を変えたときの色差の変
化と、実施例におけるプラズマからの紫外線照射時間を
変えたときの色差の変化の間には、定性的な相関関係が
あると認められる。すなわち、従来、光源ランプを用い
て数日間の耐光性試験を行って得られていた、紫外線に
よる影響で変色しやすいかどうかの評価結果と同様の評
価結果が、数分間〜数十分間のプラズマからの紫外線照
射による耐光性試験で得られることが確認された。
From the evaluation results shown in Table 3 and FIGS.
It is recognized that there is a qualitative correlation between the change in color difference when the number of days of the light resistance test in the comparative example is changed and the change in color difference when the irradiation time of ultraviolet light from the plasma in the example is changed. That is, conventionally, evaluation results similar to the evaluation results of whether or not easily discolored by the influence of ultraviolet light, which was obtained by performing a light resistance test for several days using a light source lamp, are several minutes to several tens of minutes It was confirmed that it was obtained in a light resistance test by irradiation of ultraviolet light from plasma.

【0029】また、実施例2と実施例4の比較(図3)
及び実施例8と実施例10の比較(図6)から、ガスの
種類の差による色差変化量の差は殆ど生じていないこと
から、使用ガスは何れか1種類を用いれば良いことが確
認された。もちろん、複数種類のガスを使用することも
可能である。さらに、実施例2、実施例5、実施例6の
データ(表3)及び実施例8、実施例11、実施例12
のデータ(表3)から、試験サンプルとアンテナ間の距
離を変え場合の色差値には殆ど差がないことから、一定
出力であればアンテナからの距離には影響を受けないこ
とが解る。従って、プラズマから生じる紫外線が直接照
射される位置に試験サンプルが取付けてあれば、試験サ
ンプルとアンテナ間の距離には特に制限を設ける必要が
ないことが確認された。また、図4及び図7で明らかな
ように、電源出力を高くすると、より短時間で色差値が
大きくなることが解る。従って、より短時間で耐光性を
定性的に評価するには、電源出力を悪影響が生じない範
囲で高く設定するとよい。
Comparison between Example 2 and Example 4 (FIG. 3)
From the comparison between Example 8 and Example 10 (FIG. 6), it was confirmed that there was almost no difference in the amount of change in color difference due to the difference in the type of gas, so that any one of the gases could be used. Was. Of course, a plurality of types of gases can be used. Further, the data of Example 2, Example 5, and Example 6 (Table 3) and Example 8, Example 11, and Example 12
(Table 3) shows that there is almost no difference in the color difference values when the distance between the test sample and the antenna is changed, so that if the output is constant, the distance from the antenna is not affected. Therefore, it was confirmed that there is no need to particularly limit the distance between the test sample and the antenna as long as the test sample is attached to a position where the ultraviolet rays generated from the plasma are directly irradiated. Also, as is clear from FIG. 4 and FIG. 7, when the power output is increased, the color difference value increases in a shorter time. Therefore, in order to qualitatively evaluate the light fastness in a shorter time, it is preferable to set the power supply output high as long as no adverse effect occurs.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】[0031]

【表2】 [Table 2]

【0032】[0032]

【表3】 [Table 3]

【0033】[0033]

【発明の効果】上述の如く、請求項1の発明に係る耐光
性試験方法では、生成したプラズマから発する紫外線を
直接試験サンプルに照射するので、樹脂成形品等の材料
・製品(含む塗膜)が光環境下における紫外線の影響を
受けやすいかものかどうかを極めて短時間で評価するこ
とができる。
As described above, in the light resistance test method according to the first aspect of the present invention, since the test sample is directly irradiated with the ultraviolet rays generated from the generated plasma, the material and product (including the coating film) such as a resin molded product are obtained. It can be evaluated in a very short time whether or not is likely to be affected by ultraviolet light in a light environment.

【0034】請求項2の発明に係る耐光性試験方法で
は、プラズマを生成する方法が、減圧下で高周波電界に
よりガスをイオン化させる方法であるので、容易にプラ
ズマを生成することができ、実用性が増すという効果を
奏する。
In the light resistance test method according to the second aspect of the present invention, the method of generating plasma is a method of ionizing gas by a high-frequency electric field under reduced pressure. This has the effect of increasing.

【0035】請求項3の発明に係る耐光性試験方法で
は、プラズマを生成させるための電源出力及び試験サン
プルへの紫外線照射時間をそれぞれ特定の範囲内に特定
しているため、試験サンプルが紫外線の影響を受けやす
いかものかどうかを、より確実に評価することができる
ようになる。
In the light resistance test method according to the third aspect of the present invention, the power supply output for generating plasma and the time for irradiating the test sample with ultraviolet light are specified within specific ranges, respectively. You will be able to more reliably assess whether you may be susceptible.

【0036】請求項4の発明に係る耐光性試験方法で
は、他の用途に使用することができるプラズマ生成装置
を使用するので、市販の装置で耐光性試験が可能とな
り、低コストで試験が可能となる。
In the light resistance test method according to the fourth aspect of the present invention, since a plasma generation device that can be used for other purposes is used, the light resistance test can be performed with a commercially available device, and the test can be performed at low cost. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】請求項1〜請求項4の発明に対応する実施形態
における耐光性試験装置の概略図である。
FIG. 1 is a schematic view of a light resistance test apparatus according to an embodiment corresponding to the first to fourth aspects of the present invention.

【図2】比較例1についての耐光性試験を終えた試験サ
ンプルの評価結果を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing evaluation results of test samples that have undergone a light resistance test for Comparative Example 1.

【図3】実施例2及び実施例4についての耐光性試験を
終えた試験サンプルの評価結果を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing evaluation results of test samples that have been subjected to light resistance tests for Examples 2 and 4.

【図4】実施例1、実施例2及び実施例3についての耐
光性試験を終えた試験サンプルの評価結果を示すグラフ
である。
FIG. 4 is a graph showing evaluation results of test samples that have been subjected to the light resistance test for Examples 1, 2 and 3.

【図5】比較例2についての耐光性試験を終えた試験サ
ンプルの評価結果を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing evaluation results of test samples that have undergone a light resistance test for Comparative Example 2.

【図6】実施例8及び実施例10についての耐光性試験
を終えた試験サンプルの評価結果を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing evaluation results of test samples which have been subjected to the light resistance test for Examples 8 and 10.

【図7】実施例7、実施例8及び実施例9についての耐
光性試験を終えた試験サンプルの評価結果を示すグラフ
である。
FIG. 7 is a graph showing evaluation results of test samples which have been subjected to the light resistance test for Examples 7, 8 and 9.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チヤンバー 2 排気系 3 高周波電源 4 アンテナ 5 プラズマ 6 試験サンプル 7 試験サンプル取付け板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Chamber 2 Exhaust system 3 High frequency power supply 4 Antenna 5 Plasma 6 Test sample 7 Test sample mounting plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 渉 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 2G050 AA02 AA04 BA09 CA01 EA03 EB07 EC01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Wataru Tanaka 1048 Kazuma Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture F-term in Matsushita Electric Works Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 紫外線を試験サンプルに照射して行う耐
光性試験方法において、プラズマを生成させ、生成した
プラズマから発する紫外線を直接試験サンプルに照射す
ることを特徴とする耐光性試験方法。
1. A light resistance test method for irradiating a test sample with ultraviolet light, comprising generating plasma and irradiating the test sample directly with ultraviolet light emitted from the generated plasma.
【請求項2】 プラズマを生成する方法が、減圧下で高
周波電界によりガスをイオン化させる方法であることを
特徴とする請求項1記載の耐光性試験方法。
2. The light resistance test method according to claim 1, wherein the method of generating plasma is a method of ionizing a gas with a high-frequency electric field under reduced pressure.
【請求項3】 プラズマを生成させるための電源出力が
100W〜400Wであり、試験サンプルへの紫外線照
射時間が60秒〜600秒であることを特徴とする請求
項2記載の耐光性試験方法。
3. The light resistance test method according to claim 2, wherein the power output for generating the plasma is 100 W to 400 W, and the irradiation time of the ultraviolet light to the test sample is 60 seconds to 600 seconds.
【請求項4】 放電式真空蒸着装置、放電式イオンプレ
ーティング装置又は放電式イオンスパッタリング装置内
に試験サンプルを取付けて、プラズマから発する紫外線
を直接試験サンプルに照射することを特徴とする請求項
1から請求項3までの何れかに記載の耐光性試験方法。
4. The test sample is mounted in a discharge type vacuum evaporation apparatus, a discharge type ion plating apparatus or a discharge type ion sputtering apparatus, and the test sample is directly irradiated with ultraviolet rays emitted from plasma. The light resistance test method according to any one of claims 1 to 3.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003073074A1 (en) * 2002-02-27 2003-09-04 Nippon Paint Co., Ltd. Accelerated weathering test method
CN103424352A (en) * 2012-05-22 2013-12-04 莱茵豪森等离子有限公司 Method and apparatus for the weatherability testing of a material
KR20180076035A (en) * 2016-12-27 2018-07-05 코오롱글로텍주식회사 Method of ultra accelaerated weathering test
CN113466119A (en) * 2021-07-02 2021-10-01 兰州空间技术物理研究所 Method for measuring and evaluating ion sputtering corrosion resistance of material

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003073074A1 (en) * 2002-02-27 2003-09-04 Nippon Paint Co., Ltd. Accelerated weathering test method
US7141755B2 (en) 2002-02-27 2006-11-28 Nippon Paint Co., Ltd. Accelerated weathering test method
CN103424352A (en) * 2012-05-22 2013-12-04 莱茵豪森等离子有限公司 Method and apparatus for the weatherability testing of a material
US9234832B2 (en) 2012-05-22 2016-01-12 Maschinenfabrik Reinhausen Gmbh Method and apparatus for the weatherability testing of a material
KR20180076035A (en) * 2016-12-27 2018-07-05 코오롱글로텍주식회사 Method of ultra accelaerated weathering test
KR101883490B1 (en) * 2016-12-27 2018-08-30 코오롱글로텍주식회사 Method of ultra accelaerated weathering test
CN113466119A (en) * 2021-07-02 2021-10-01 兰州空间技术物理研究所 Method for measuring and evaluating ion sputtering corrosion resistance of material
CN113466119B (en) * 2021-07-02 2023-06-23 兰州空间技术物理研究所 Method for measuring and evaluating ion sputtering corrosion resistance of material

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