JP2001052852A - High-frequency heating device - Google Patents
High-frequency heating deviceInfo
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- JP2001052852A JP2001052852A JP11220768A JP22076899A JP2001052852A JP 2001052852 A JP2001052852 A JP 2001052852A JP 11220768 A JP11220768 A JP 11220768A JP 22076899 A JP22076899 A JP 22076899A JP 2001052852 A JP2001052852 A JP 2001052852A
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- Electric Ovens (AREA)
- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、被加熱物を加熱す
る高周波加熱装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency heating device for heating an object to be heated.
【0002】[0002]
【従来の技術】高周波加熱装置は、高周波発生手段であ
るマグネトロンから発生したマイクロ波を被加熱物を収
納する加熱室内に給電し、被加熱物を給電したマイクロ
波によって加熱するものである。そしてマイクロ波加熱
は被加熱物の誘電特性によって昇温状態が異なるため、
従来の実用化されている高周波加熱装置では、被加熱物
の加熱むらを防ぐため、加熱室内のマイクロ波を攪拌す
る方法やターンテーブルを用いて被加熱物を回転させる
方法が採られている。さらに、近年は省エネルギーの観
点から、被加熱物を速やかに加熱することに対し、ター
ンテーブルの回転を制御し、たとえばターンテーブルを
一定間隔で停止させながら被加熱物を加熱する方法もあ
る。2. Description of the Related Art A high-frequency heating apparatus supplies microwaves generated from a magnetron, which is high-frequency generating means, to a heating chamber for accommodating an object to be heated, and heats the object to be heated by the supplied microwave. And microwave heating has a different temperature rise state depending on the dielectric properties of the object to be heated,
2. Description of the Related Art In order to prevent uneven heating of an object to be heated, a method of stirring microwaves in a heating chamber or a method of rotating an object to be heated by using a turntable have been adopted in a conventional high frequency heating apparatus. Furthermore, in recent years, from the viewpoint of energy saving, there is a method of controlling the rotation of a turntable, for example, heating the object to be heated while stopping the turntable at regular intervals, in order to quickly heat the object to be heated.
【0003】一方、特開平9−27389号公報は、加
熱室内の電磁場分布を変更する分布可変手段を備え、被
加熱物の温度分布情報に基づいて分布可変手段を制御す
ることを開示している。この分布可変手段は、加熱室へ
のマイクロ波の放射位置が可動できる構成であり、被加
熱物の温度分布における低温領域にマイクロ波の放射位
置を移動してその低温領域を局所的に加熱して被加熱物
全体を均一な温度に加熱させるものである。[0003] On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-27389 discloses that a distribution variable means for changing an electromagnetic field distribution in a heating chamber is provided, and the distribution variable means is controlled based on temperature distribution information of an object to be heated. . This distribution variable means is configured to move the radiation position of the microwave to the heating chamber, moves the radiation position of the microwave to a low-temperature region in the temperature distribution of the object to be heated, and locally heats the low-temperature region. Thus, the whole object to be heated is heated to a uniform temperature.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、マイク
ロ波を攪拌したり、ターンテーブルを回転させる方法
は、被加熱物を均一に温めることを基本思想としている
ため、異なる誘電特性を有する被加熱物を加熱すると、
被加熱物の昇温状態は誘電特性によって異なることか
ら、被加熱物を均一に昇温することは困難であった。However, the method of stirring the microwaves or rotating the turntable is based on the basic idea of uniformly heating the object to be heated, so that the object to be heated having different dielectric characteristics is used. When heated,
Since the temperature of the object to be heated varies depending on the dielectric properties, it has been difficult to uniformly increase the temperature of the object to be heated.
【0005】また、ターンテーブルを一定間隔で停止さ
せながら加熱する方法は、被加熱物を加熱室の所定の位
置に載置しなければ効果が得られないが、どの位置に被
加熱物を載置すればよいかが分からない。また、マイク
ロ波を集中させる場所を変更できないため、加熱部位を
変えるときには被加熱物の載置位置をその都度変更しな
くてはならないという課題があった。しかも、ターンテ
ーブルの回転を停止させなくては加熱部位は特定できな
いが、使用者がターンテーブルの回転を停止させること
は非常に困難であった。In the method of heating while stopping the turntable at regular intervals, the effect cannot be obtained unless the object to be heated is placed at a predetermined position in the heating chamber. I do not know whether to put it. In addition, since the place where the microwaves are concentrated cannot be changed, there is a problem that the position of the object to be heated must be changed each time the heating part is changed. In addition, the heated portion cannot be specified without stopping the rotation of the turntable, but it is very difficult for the user to stop the rotation of the turntable.
【0006】さらにまた、従来の加熱室内の電磁場分布
を変更する分布可変手段を用いると、使用者が指定した
加熱室内の加熱域にマイクロ波の放射位置を移動させる
ことはできるが、その加熱域に載置された被加熱物の誘
電特性の影響を受けるので放射によるマイクロ波によっ
て使用者が指定した領域を内部まで確実に加熱させるこ
とは難しい。例えば、カレー等を調理する場合、放射に
よるマイクロ波ではカレーの周辺部しか加熱されないと
いう実用上の課題を有していた。Furthermore, if a conventional distribution changing means for changing the electromagnetic field distribution in the heating chamber is used, the microwave radiation position can be moved to the heating area in the heating chamber designated by the user. It is difficult to reliably heat the region specified by the user to the inside by microwaves due to radiation because of the influence of the dielectric properties of the object placed on the substrate. For example, when cooking curry or the like, there is a practical problem that microwaves generated by radiation heat only the periphery of the curry.
【0007】本発明はこのような課題を解決するもので
あり、加熱室の定在波に作用して加熱室にマイクロ波の
集中空間領域を形成するとともにその集中領域を使用者
が確認できる手段を備えた高周波加熱装置を提供するこ
とを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and means for forming a concentrated space area of a microwave in a heating chamber by acting on a standing wave in the heating chamber and enabling a user to confirm the concentrated area. It is an object of the present invention to provide a high-frequency heating device provided with:
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加
熱室と、前記加熱室に給電するマイクロ波を発生する高
周波発生手段と、前記加熱室の金属壁面に生じる高周波
電流の流れを分断するように設けた開孔部と、前記開孔
部のインピーダンスを変えるインピーダンス可変手段
と、前記加熱室の加熱域を示す表示手段とを備えるもの
である。In order to solve the above-mentioned problems, a high-frequency heating apparatus according to the present invention comprises a heating chamber for accommodating an object to be heated, and a high-frequency generating means for generating a microwave for supplying power to the heating chamber. An opening provided to cut off the flow of a high-frequency current generated on the metal wall surface of the heating chamber, an impedance variable means for changing the impedance of the opening, and a display means for indicating a heating area of the heating chamber. It is provided.
【0009】そして、インピーダンス可変手段によって
加熱室壁面の高周波電流の流れを変化させて加熱室の定
在波分布を変化させ、加熱室内でのマイクロ波の集中空
間領域を規定するとともにその規定した領域を加熱域と
して表示手段により表示するものである。The distribution of the standing wave in the heating chamber is changed by changing the flow of the high-frequency current on the wall surface of the heating chamber by means of the impedance variable means, thereby defining the concentrated space area of the microwave in the heating chamber and the defined area. Is displayed by the display means as a heating area.
【0010】これにより、異なる誘電特性を有する被加
熱物を加熱する際に強く加熱したい被加熱物の加熱室内
での最適載置位置を使用者に容易に知らせることができ
る。[0010] This makes it possible to easily inform the user of the optimal placement position in the heating chamber of the object to be heated strongly when heating the object to be heated having different dielectric characteristics.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】本発明の高周波加熱装置は請求項
1記載のように、被加熱物を収納する加熱室と、前記加
熱室に給電するマイクロ波を発生する高周波発生手段
と、前記加熱室の金属壁面に生じる高周波電流の流れを
分断するように設けた開孔部と、前記開孔部のインピー
ダンスを変えるインピーダンス可変手段と、前記加熱室
の加熱域を示す表示手段とを備えるものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A high-frequency heating apparatus according to the present invention has a heating chamber for accommodating an object to be heated, a high-frequency generating means for generating microwaves for supplying power to the heating chamber, and An opening provided to divide the flow of a high-frequency current generated on the metal wall surface of the chamber; impedance variable means for changing the impedance of the opening; and display means for indicating a heating area of the heating chamber. is there.
【0012】そして、インピーダンス可変手段によって
加熱室壁面の高周波電流の流れを変化させて加熱室の定
在波分布を変化させて加熱室内でのマイクロ波の集中空
間領域を規定するとともにその規定した領域を加熱域と
して表示手段により表示するものである。これにより、
被加熱物の加熱したい部位の加熱室内への最適載置位置
を使用者に容易に知らせるとともにその加熱部位を食材
の内部まで確実に加熱することができる。Then, the flow of the high-frequency current on the wall surface of the heating chamber is changed by the impedance variable means to change the standing wave distribution of the heating chamber, thereby defining the concentrated space area of the microwave in the heating chamber and the defined area. Is displayed by the display means as a heating area. This allows
It is possible to easily inform the user of the optimal placement position of the portion of the object to be heated in the heating chamber, and to surely heat the heated portion to the inside of the food.
【0013】また本発明の高周波加熱装置は、請求項2
記載のように、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱
室に給電するマイクロ波を発生する高周波発生手段と、
前記加熱室の金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断
するように設けた開孔部と、前記開孔部のインピーダン
スを変えるインピーダンス可変手段と、前記加熱室の加
熱域を示す表示手段と、加熱情報に基づいて前記インピ
ーダンス可変手段と前記表示手段を制御する制御手段と
を備えるものである。The high-frequency heating apparatus according to the present invention is characterized in that
As described, a heating chamber that stores the object to be heated, and a high-frequency generation unit that generates a microwave to supply power to the heating chamber,
An opening provided to divide the flow of a high-frequency current generated on the metal wall surface of the heating chamber; impedance variable means for changing the impedance of the opening; display means for indicating a heating area of the heating chamber; And a control means for controlling the impedance varying means and the display means based on information.
【0014】そして、加熱情報に基づいてインピーダン
ス可変手段を制御することによって加熱室の定在波分布
を被加熱物の加熱に最適な状態に変化させるとともにそ
れによって形成した加熱室内のマイクロ波の集中領域を
加熱域として表示手段により表示するものである。これ
により、被加熱物の加熱中においても被加熱物の強く加
熱されている領域が確認でき、使用者は被加熱物の加熱
進行状態を判別することができる。The standing wave distribution in the heating chamber is changed to an optimum state for heating the object to be heated by controlling the impedance variable means based on the heating information, and the concentration of microwaves in the heating chamber formed by the distribution is changed. The area is displayed by the display means as a heating area. Thereby, even during the heating of the object to be heated, the strongly heated region of the object to be heated can be confirmed, and the user can determine the heating progress state of the object to be heated.
【0015】また本発明の高周波加熱装置は、請求項3
記載のように、前記インピーダンス可変手段は回転駆動
する構成とし、前記インピーダンス可変手段の回転角度
を判定する角度判定手段を付加し、前記制御手段は前記
インピーダンス可変手段の回転角度に基づき前記表示手
段を制御するものである。The high-frequency heating apparatus according to the present invention is characterized in that:
As described, the impedance variable unit is configured to be driven to rotate, and an angle determination unit that determines a rotation angle of the impedance variable unit is added.The control unit controls the display unit based on the rotation angle of the impedance variable unit. To control.
【0016】そして、加熱室内でのマイクロ波の集中領
域をインピーダンス可変手段の回転角度と対応させ、そ
の回転角度に応じた加熱域を表示手段によって表示する
ものである。これにより、被加熱物のどこが加熱されて
いるかを判別することができ、被加熱物全体が加熱され
ている様子や特定部位を集中的に加熱している様子を容
易に確認でき、利便性を高めることができる。The microwave concentration area in the heating chamber is made to correspond to the rotation angle of the impedance varying means, and the heating area corresponding to the rotation angle is displayed by the display means. As a result, it is possible to determine where the object to be heated is being heated, and it is possible to easily confirm that the entire object to be heated is being heated or that a specific part is being intensively heated. Can be enhanced.
【0017】また本発明の高周波加熱装置は、請求項4
記載のように、前記表示手段は、加熱室の加熱域を照光
する発光手段とすることを特徴とする。The high-frequency heating device according to the present invention is characterized in that:
As described, the display means is a light emitting means for illuminating a heating area of the heating chamber.
【0018】そして、発光手段によって、加熱室の加熱
域を照光させるものである。これにより、被加熱物が載
置された後の加熱中にも被加熱物を照光することで加熱
の進行状態を知らせることができる。The heating area of the heating chamber is illuminated by the light emitting means. Thereby, even during heating after the object to be heated is mounted, the object to be heated can be illuminated to inform the progress of the heating.
【0019】また本発明の高周波加熱装置は、請求項5
記載のように、前記表示手段は、加熱室の加熱域を変色
表示する感温材料とすることを特徴とする。The high-frequency heating device according to the present invention is characterized in that:
As described above, the display means is a temperature-sensitive material for discoloring and displaying the heating area of the heating chamber.
【0020】そして、感温材料によって、加熱室底面の
加熱域を変色表示するものである。これにより、実際の
加熱域を使用者に知らせることができることができる。The heating area on the bottom of the heating chamber is discolored and displayed by the temperature-sensitive material. Thereby, the user can be notified of the actual heating area.
【0021】また本発明の高周波加熱装置は、請求項6
記載のように、前記表示手段は、加熱室の加熱域を画面
にて表示する表示素子とすることを特徴とする。The high-frequency heating apparatus according to the present invention is characterized in that:
As described above, the display means is a display element that displays a heating area of the heating chamber on a screen.
【0022】そして、表示素子により、加熱室の加熱域
を画面にて表示するものである。これにより、高周波加
熱装置の加熱域を開扉する手間なく本体外側から判別す
ることができる。The display device displays the heating area of the heating chamber on a screen. Thereby, it is possible to determine from the outside of the main body without the trouble of opening the heating area of the high-frequency heating device.
【0023】また本発明の高周波加熱装置は、請求項7
記載のように、前記制御手段への加熱情報は、前記加熱
室の加熱域として選択入力される加熱情報とすることを
特徴とする。The high-frequency heating device according to the present invention is characterized by claim 7.
As described above, the heating information to the control means is heating information selectively input as a heating area of the heating chamber.
【0024】そして、マイクロ波の集中領域、すなわち
加熱域、を選択入力する構成としたことにより、使用者
においては被加熱物の加熱室内への載置場所が認識でき
るとともに被加熱物の加熱において被加熱物にマイクロ
波を集中し、より短時間に被加熱物を加熱することがで
きる。[0024] By selecting and inputting the microwave concentrated area, that is, the heating area, the user can recognize the place where the object to be heated is placed in the heating chamber, and at the time of heating the object to be heated. The microwave can be concentrated on the object to be heated, and the object to be heated can be heated in a shorter time.
【0025】また本発明の高周波加熱装置は、請求項8
記載のように、前記制御手段への加熱情報は、前記被加
熱物の種類として選択入力される加熱情報とすることを
特徴とする。The high-frequency heating apparatus according to the present invention is characterized in claim 8.
As described above, the heating information to the control means is heating information selectively input as a type of the object to be heated.
【0026】そして、被加熱物の種類を選択入力するこ
とにより、被加熱物の種類に応じてインピーダンス可変
手段を制御し、加熱室の定在波分布を決定する。これに
より、さまざまな被加熱物をそれぞれの誘電特性に応じ
て最適な定在波分布にて加熱することができる。また、
たとえば異なる誘電特性を有する被加熱物を同時に温め
ることができる。Then, by selectively inputting the type of the object to be heated, the impedance varying means is controlled according to the type of the object to be heated, and the standing wave distribution of the heating chamber is determined. Thereby, various objects to be heated can be heated with an optimum standing wave distribution according to their dielectric properties. Also,
For example, objects to be heated having different dielectric properties can be heated simultaneously.
【0027】また本発明の高周波加熱装置は、請求項9
記載のように、前記制御手段への加熱情報は、前記被加
熱物の加熱方法として選択入力される加熱情報とするこ
とを特徴とする。The high-frequency heating apparatus according to the present invention is characterized in that
As described above, the heating information to the control means is heating information selectively input as a heating method of the object to be heated.
【0028】そして、被加熱物の加熱方法を選択入力す
ることにより、被加熱物の加熱方法に応じてインピーダ
ンス可変手段を制御して加熱室の定在波分布を変化させ
る。これにより、解凍、温め、再加熱などのそれぞれの
加熱方法に応じた定在波分布で被加熱物を加熱すること
ができる。Then, by selectively inputting the heating method of the object to be heated, the impedance varying means is controlled in accordance with the heating method of the object to be heated to change the standing wave distribution of the heating chamber. Thus, the object to be heated can be heated with a standing wave distribution according to each heating method such as thawing, warming, and reheating.
【0029】また本発明の高周波加熱装置は、請求項1
0記載のように、前記制御手段は前記表示手段の加熱域
の情報に基づいてインピーダンス可変手段を制御するこ
とを特徴とする。The high-frequency heating apparatus according to the present invention is characterized in that:
0, the control means controls the impedance variable means based on information on the heating area of the display means.
【0030】そして、表示手段で指定した加熱域の情報
に基づいてインピーダンス可変手段を制御して加熱室の
定在波分布を変化させる。これにより、加熱域指定の自
由度が増すので、たとえば弁当などの混載食材において
加熱したい領域の分散指定が容易にできる。また加熱進
行状態に応じて加熱域を設定することで被加熱物の状態
に適した定在波分布で加熱することができる。The impedance varying means is controlled based on the information on the heating area specified by the display means to change the standing wave distribution in the heating chamber. As a result, the degree of freedom in specifying the heating area is increased, so that it is possible to easily specify the distribution of the area to be heated in the mixed food such as a lunch box. Further, by setting the heating area according to the heating progress state, heating can be performed with a standing wave distribution suitable for the state of the object to be heated.
【0031】[0031]
【実施例】以下、本発明の実施例について添付図面を用
いて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【0032】(実施例1)図1は、本発明の第1の実施
例を示す高周波加熱装置の概略構成図、図2は高周波加
熱装置の外観を示す図である。(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating device showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing an appearance of the high-frequency heating device.
【0033】図1と図2において、10は被加熱物を収
納する加熱室で、加熱室10の壁面は金属で構成されて
いる。11はマイクロ波を発生するマグネトロン(高周
波発生手段)、12はマグネトロン11からのマイクロ
波を加熱室10へ伝送する導波管、13は導波管12か
らのマイクロ波を加熱室10へ放射する給電口である。
14は加熱室10の壁面15に設けた開孔部で、16は
開孔部14を一端とする金属によって構成された溝部で
ある。17は開孔部14のインピーダンスを可変するイ
ンピーダンス可変手段であり、誘電体板17aにて構成
されている。誘電体板17aは、好ましくは比誘電率が
5以上の低誘電損失材料(例えばガラス系、セラミック
ス系、樹脂系)で構成され、それぞれの両端に突起を設
け、溝部17に設けた孔に突起をはめ込んで回転支持さ
れている。18は誘電体板17aを駆動させるモータ
(誘電体板回転駆動手段)である。モータ18には誘電
体板17aの回転角度や回転速度を検出する検出手段1
9が配設されている。20は加熱室10のマイクロ波の
集中領域、すなわち加熱域を照射するスポットライト
(表示手段)、21はスポットライト20の照射角度を
変化させるモータである。22はマグネトロン11、モ
ータ18およびモータ21を制御する制御手段である。
23は加熱に際して制御手段に加熱情報を入力するため
の操作部で、24は加熱室の加熱域をその画面に表示す
る表示素子である。1 and 2, reference numeral 10 denotes a heating chamber for storing an object to be heated, and the wall surface of the heating chamber 10 is made of metal. Numeral 11 denotes a magnetron (high-frequency generating means) for generating a microwave, 12 denotes a waveguide for transmitting the microwave from the magnetron 11 to the heating chamber 10, and 13 radiates the microwave from the waveguide 12 to the heating chamber 10. Power supply port.
Reference numeral 14 denotes an opening provided on the wall surface 15 of the heating chamber 10, and reference numeral 16 denotes a groove formed of metal having the opening 14 as one end. Numeral 17 denotes an impedance varying means for varying the impedance of the opening 14 and is constituted by a dielectric plate 17a. The dielectric plate 17a is preferably made of a low dielectric loss material having a relative dielectric constant of 5 or more (for example, glass, ceramic, or resin), and has projections at both ends thereof. And is supported by rotation. Reference numeral 18 denotes a motor (dielectric plate rotation driving means) for driving the dielectric plate 17a. Detecting means 1 for detecting the rotation angle and rotation speed of the dielectric plate 17a
9 are provided. Reference numeral 20 denotes a spotlight (display means) for irradiating the microwave concentration area of the heating chamber 10, that is, the heating area, and reference numeral 21 denotes a motor for changing the irradiation angle of the spotlight 20. Reference numeral 22 denotes control means for controlling the magnetron 11, the motor 18, and the motor 21.
Reference numeral 23 denotes an operation unit for inputting heating information to the control means at the time of heating, and reference numeral 24 denotes a display element for displaying a heating area of the heating chamber on its screen.
【0034】次に、上記構成において動作を説明する。
溝部16の溝深さ、溝の高さおよび誘電体板の配設位置
は、誘電体板17aが加熱室10底面に対して垂直(こ
の時の回転角度を0゜とする。)のときに、開孔部14
に生じるインピーダンスが極めて小さい値(理想的には
ゼロ)になるように決めている。一方、誘電体板17a
が加熱室10底面に対して水平(この時の回転角度を9
0゜とする。)のときに開孔部14に生じるインピーダ
ンスは、極めて大きい値(理想的には無限大)としてい
る。図1では誘電体板17aの回転角度は0゜を示して
いる。Next, the operation of the above configuration will be described.
The groove depth, the groove height, and the arrangement position of the dielectric plate of the groove portion 16 are determined when the dielectric plate 17a is perpendicular to the bottom surface of the heating chamber 10 (the rotation angle at this time is 0 °). , Aperture 14
Is determined to have an extremely small value (ideally, zero). On the other hand, the dielectric plate 17a
Is horizontal to the bottom of the heating chamber 10 (the rotation angle at this time is 9
0 °. ), The impedance generated in the opening 14 is an extremely large value (ideally infinite). In FIG. 1, the rotation angle of the dielectric plate 17a is 0 °.
【0035】制御手段22は、操作部23等からの加熱
情報と検出手段19からの誘電体板17aの回転角度や
回転速度などの情報に基づいてマグネトロン11、モー
タ18を制御する。誘電体板17aを駆動させる方法
は、一定の角度分づつステップ状に回転するようにして
もよいし、連続的に回転するようにしても構わない。The control unit 22 controls the magnetron 11 and the motor 18 based on the heating information from the operation unit 23 and the like and the information such as the rotation angle and the rotation speed of the dielectric plate 17a from the detection unit 19. As a method of driving the dielectric plate 17a, the dielectric plate 17a may be rotated stepwise at a certain angle or continuously.
【0036】制御手段22は、被加熱物の加熱情報に基
づいて誘電体板17aの回転角度を変化させると同時に
スポットライト20を点灯させ、モータ21を動作させ
る。スポットライト20は誘電体板17aの回転角度に
基づいてマイクロ波を集中させる場所を照射する。The control means 22 changes the rotation angle of the dielectric plate 17a based on the heating information of the object to be heated, and simultaneously turns on the spotlight 20 to operate the motor 21. The spotlight 20 irradiates a place where microwaves are concentrated based on the rotation angle of the dielectric plate 17a.
【0037】被加熱物の特定領域を加熱するときにはス
ポットライト20で照射された位置が被加熱物の特定領
域を照射する状態にて被加熱物を加熱室内に載置する。
その後、操作部23の加熱開始情報に基づいて制御手段
22はマグネトロン11を動作させ、マグネトロン11
から加熱室内に給電されたマイクロ波を被加熱物の特定
領域に集中させて加熱する。これにより、被加熱物の特
定領域を確実に加熱することができる。When heating a specific area of the object to be heated, the object to be heated is placed in the heating chamber with the position irradiated by the spotlight 20 irradiating the specific area of the object to be heated.
Thereafter, the control means 22 operates the magnetron 11 based on the heating start information of the operation unit 23, and
And heats the microwaves supplied to the heating chamber in a specific region of the object to be heated. Thereby, the specific region of the object to be heated can be reliably heated.
【0038】操作部23と加熱域を示す表示素子24は
高周波加熱装置本体外側に設け、スポットライトと同時
に高周波加熱装置の外側からも加熱域が判別できるよう
にしている。図2では加熱室左側を加熱域として固定し
た場合を示している。The operation section 23 and the display element 24 indicating the heating area are provided outside the main body of the high-frequency heating apparatus so that the heating area can be distinguished from the outside of the high-frequency heating apparatus simultaneously with the spotlight. FIG. 2 shows a case where the left side of the heating chamber is fixed as a heating area.
【0039】図3はアドヘアのり200gを被加熱物と
して加熱した場合の、誘電体板17aの回転角度と被加
熱物の高温部の関係を示した図である。図3(a)から
図3(c)はそれぞれ回転角度を0゜、45゜、90゜
とし、色が薄い部分ほど高温部であることを示してい
る。誘電体板17aの回転角度を変化させることによ
り、高温部と低温部の位置は変化する。よって定在波分
布は誘電体板17aの回転角度によって変化させること
ができる。例えば、誘電体板17aの回転角度が0゜の
ときは加熱室の左側が加熱され、回転角度が90゜のと
きは加熱室の右側が加熱される。したがって、誘電体板
17aの回転角度が0゜のときはスポットライト20は
加熱室の左部分を照射し、回転角度が90゜のときはス
ポットライト20は加熱室の右部分を照射する。FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the rotation angle of the dielectric plate 17a and the high-temperature portion of the object to be heated when 200 g of the ad hair paste is heated as the object to be heated. FIGS. 3A to 3C show rotation angles of 0 °, 45 °, and 90 °, respectively, and indicate that the lighter the color, the higher the temperature. By changing the rotation angle of the dielectric plate 17a, the positions of the high temperature part and the low temperature part change. Therefore, the standing wave distribution can be changed by the rotation angle of the dielectric plate 17a. For example, when the rotation angle of the dielectric plate 17a is 0 °, the left side of the heating chamber is heated, and when the rotation angle is 90 °, the right side of the heating chamber is heated. Therefore, when the rotation angle of the dielectric plate 17a is 0 °, the spotlight 20 illuminates the left part of the heating chamber, and when the rotation angle is 90 °, the spotlight 20 illuminates the right part of the heating chamber.
【0040】また、このような定在波分布による被加熱
物の加熱は、厚みがある被加熱物に対してもその内部ま
で加熱を促進させることができる。Further, the heating of the object to be heated by such a standing wave distribution can promote the heating of the inside of the object to be heated having a large thickness.
【0041】次に加熱域を固定しない場合、つまり被加
熱物全体を均一に加熱する場合について説明する。この
加熱は、均一キーを押すことで実行する。均一キーは誘
電体板17aを連続的に回転駆動する情報を制御手段2
2に送信する。このときスポットライト20は誘電体板
17aの回転と連動して加熱室10全域を移動しながら
照射してもよいし、移動せずに加熱室10全域を照射す
るようにしても構わない。Next, a case where the heating zone is not fixed, that is, a case where the whole object to be heated is uniformly heated will be described. This heating is performed by pressing the uniform key. The uniform key is used to control information for continuously rotating the dielectric plate 17a.
Send to 2. At this time, the spotlight 20 may irradiate the entire heating chamber 10 without moving while irradiating the entire heating chamber 10 in conjunction with the rotation of the dielectric plate 17a.
【0042】また、被加熱物によっては加熱中に誘電体
板17aの回転角度を可変制御する場合がある。この場
合には、加熱中の誘電体板17aの回転の変化に連動し
てスポットライト20の照射位置を変化させ、被加熱物
のどの部分を加熱しているか判別することができる。Depending on the object to be heated, the rotation angle of the dielectric plate 17a may be variably controlled during heating. In this case, the irradiation position of the spotlight 20 is changed in conjunction with the change in the rotation of the dielectric plate 17a during heating, and it is possible to determine which part of the object to be heated is being heated.
【0043】以上のように表示手段を設けることで、加
熱室の加熱域を示すことができるので、使用者は被加熱
物の加熱進行状態を判別することができる。By providing the display means as described above, the heating area of the heating chamber can be indicated, so that the user can determine the heating progress state of the object to be heated.
【0044】次に操作部23からの加熱情報に基づく動
作について説明する。Next, the operation based on the heating information from the operation unit 23 will be described.
【0045】操作部23により加熱室内の加熱域を加熱
情報として入力する場合について説明する。被加熱物の
誘電特性が特に異なる場合、例えばカレーライス等の食
品は、米飯は発熱しやすいが、カレーのように塩分量の
多い食品は中まで加熱されにくいので、米飯は十分に温
まっていてもカレーは加熱不足の状態となることがあ
る。そこで、マイクロ波で加熱されにくい食品にはマイ
クロ波を集中させて加熱する必要がある。加熱前に予め
加熱域を操作部23から選択入力することで、その加熱
域をスポットライト20により照光する。使用者は、照
光された領域にカレーを載置する。その後、加熱開始情
報入力により、誘電体板17aの回転角度を変化させ、
照光領域にマイクロ波を集中させて加熱を行う。図4は
カレーと米飯を同時に加熱する際に、図4(a)は加熱
室10の右側にマイクロ波を集中させるように加熱域を
選択入力した場合、そして図4(b)は加熱域を選択入
力せずに加熱した場合のカレーと米飯の温度を測定した
結果である。グラフの高さが高いほど高温域を示し、斜
線部が多いほど適温であることを示している。加熱域を
選択入力せずに加熱した場合では、米飯は加熱されすぎ
ているがカレーの温度は上がっていない。一方、加熱域
を選択入力して加熱することでカレーを適温まで加熱す
ることができた。A case where the heating area in the heating chamber is input as heating information by the operation unit 23 will be described. If the dielectric properties of the object to be heated are particularly different, for example, food such as curry and rice is easy to generate heat, but food with a high salt content such as curry is difficult to be heated to the inside, so the cooked rice is sufficiently warmed. Curry may be underheated. Therefore, it is necessary to concentrate microwaves on food that is not easily heated by microwaves. The heating area is illuminated by the spotlight 20 by previously selecting and inputting the heating area from the operation unit 23 before heating. The user places the curry in the illuminated area. After that, by inputting the heating start information, the rotation angle of the dielectric plate 17a is changed,
Heating is performed by concentrating microwaves in the illuminated area. FIG. 4 shows the case where the curry and the cooked rice are heated at the same time, FIG. 4 (a) shows the case where the heating area is selected and inputted so as to concentrate the microwave on the right side of the heating chamber 10, and FIG. It is the result of measuring the temperature of curry and cooked rice when heated without selecting input. The higher the height of the graph, the higher the temperature range, and the greater the shaded area, the more appropriate the temperature. When heating without selecting the heating zone, the cooked rice is overheated but the curry temperature has not risen. On the other hand, curry could be heated to an appropriate temperature by selecting and heating the heating area.
【0046】以上のように、加熱域を選択入力すること
で誘電特性の異なる食品でも同時に加熱することができ
るものである。As described above, by selectively inputting the heating area, foods having different dielectric properties can be heated simultaneously.
【0047】次に、被加熱物の種類を加熱情報として入
力する場合について説明する。牛乳や酒等のような食品
を温める場合は、上下の温度差なく温めるために容器全
体にマイクロ波を照射する必要がある。よってマイクロ
波を分散させるために誘電体板17aの回転速度を上げ
る制御をする。Next, a case where the type of the object to be heated is input as heating information will be described. When warming foods such as milk and alcohol, it is necessary to irradiate the entire container with microwaves in order to warm it up and down without a temperature difference. Therefore, control is performed to increase the rotation speed of the dielectric plate 17a in order to disperse the microwave.
【0048】操作部23から制御手段22へ飲み物の加
熱情報を入力すると、制御手段22はモータ18の回転
速度をあげて被加熱物を加熱する。牛乳200gを被加
熱物として加熱した場合、回転数が15rpmの時の上
下温度差は12℃であったが、回転数を100rpmに
することで上下温度差は10℃となった。When the heating information of the drink is input from the operation unit 23 to the control means 22, the control means 22 heats the object to be heated by increasing the rotation speed of the motor 18. When 200 g of milk was heated as an object to be heated, the vertical temperature difference was 12 ° C. when the rotation speed was 15 rpm, but the vertical temperature difference was 10 ° C. when the rotation speed was 100 rpm.
【0049】以上のように被加熱物の種類とインピーダ
ンス可変手段の制御方法とを対応させることで、被加熱
物の種類に応じた最適な定在波分布を加熱室内に形成
し、その被加熱物を最適に加熱することができる。As described above, by making the type of the object to be heated correspond to the control method of the impedance variable means, an optimum standing wave distribution corresponding to the type of the object to be heated is formed in the heating chamber, and The object can be optimally heated.
【0050】さらに被加熱物の加熱方法を加熱情報とし
て入力する場合について説明する。操作部23から制御
手段22へ再加熱、解凍あるいは温めなどの加熱情報を
入力する。制御手段22は操作部23からのこのような
加熱情報に基づきインピーダンス可変手段の回転角度や
回転速度、マイクロ波強度の制御パターンなどを変化さ
せる。例えば、冷凍食品の解凍では中央が加熱できる定
在波分布を選択して中央にマイクロ波を集中させた後で
全体にマイクロ波が照射されるように誘電体板17aの
回転角度を常に変化させるように制御をする。The case where the heating method of the object to be heated is input as heating information will be described. Heating information such as reheating, thawing or warming is input from the operation unit 23 to the control unit 22. The control unit 22 changes the rotation angle and rotation speed of the impedance variable unit, the control pattern of the microwave intensity, and the like based on such heating information from the operation unit 23. For example, in the thawing of frozen food, the rotation angle of the dielectric plate 17a is constantly changed so that the microwave can be radiated to the whole after selecting the standing wave distribution in which the center can be heated and concentrating the microwave at the center. Control.
【0051】具体的な制御方法の一例として、図5に冷
凍牛ミンチ300gを解凍する時の回転角度およびマイ
クロ波強度の制御パターンを示す。0°、90°はそれ
ぞれ誘電体板17aを0°と90°で停止して加熱する
ことを示す。回転角度やマイクロ波強度の制御パターン
などを変化させずに解凍すると過加熱により変色する部
分と未解凍の部分が混在するが、回転角度やマイクロ波
強度を制御することで過加熱の部分なく解凍することが
できた。As an example of a specific control method, FIG. 5 shows a control pattern of a rotation angle and a microwave intensity when 300 g of frozen minced beef is thawed. 0 ° and 90 ° indicate that the dielectric plate 17a is stopped and heated at 0 ° and 90 °, respectively. If thawing is performed without changing the rotation angle or the control pattern of the microwave intensity, the part that changes color due to overheating and the part that has not been thawed will coexist, but thawing without controlling overheating by controlling the rotation angle and microwave intensity. We were able to.
【0052】以上のように加熱方法を入力することで被
加熱物を最適な定在波分布およびマイクロ波強度で加熱
することができる。By inputting the heating method as described above, the object to be heated can be heated with the optimum standing wave distribution and microwave intensity.
【0053】なお、本実施例では加熱域を示す表示手段
としてスポットライト20を用い、マイクロ波の集中し
ている場所を照射するためにスポットライト20自体を
動かしているが、反射板を設け、反射板の角度を変化さ
せて照射位置を変化させる方法でも構わない。また、ス
ポットライト20は底面部に設ける構成でも構わない。In this embodiment, the spotlight 20 is used as the display means for indicating the heating area, and the spotlight 20 itself is moved to irradiate the place where the microwaves are concentrated. A method of changing the irradiation position by changing the angle of the reflector may be used. The spotlight 20 may be provided on the bottom surface.
【0054】また、加熱情報には、そのほかに図示して
いないが加熱室内の蒸気センサの信号、あるいは誘電体
板17aの回転角度などを含んでいてもかまわない。Although not shown, the heating information may include a signal from a steam sensor in the heating chamber or the rotation angle of the dielectric plate 17a.
【0055】(実施例2)次に、本発明の第2の実施例
について説明する。(Embodiment 2) Next, a second embodiment of the present invention will be described.
【0056】図6は、本発明の第2の実施例を示す高周
波加熱装置の概略構成図である。本発明の実施例2が実
施例1と相違する点を説明する。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating apparatus according to a second embodiment of the present invention. The difference between the second embodiment of the present invention and the first embodiment will be described.
【0057】図6において、25はシート状のマイクロ
波吸収発熱体であり、加熱室10底面に貼付してある。
マイクロ波吸収発熱体25上には同様にシート状の感温
材料26が貼付してあり、感温材料26はある一定温度
以上になると変色する。マイクロ波が集中する場所では
マイクロ波吸収発熱体25が発熱し、その熱により感温
材料26が変色するので加熱室10底面上のマイクロ波
の集中する場所を判別できる。In FIG. 6, reference numeral 25 denotes a sheet-like microwave absorbing and heating element, which is affixed to the bottom of the heating chamber 10.
A sheet-like temperature-sensitive material 26 is similarly affixed on the microwave-absorbing heating element 25, and the temperature-sensitive material 26 changes color when it reaches a certain temperature or higher. In a place where microwaves are concentrated, the microwave absorbing and heating element 25 generates heat, and the heat discolors the temperature-sensitive material 26, so that the place where the microwaves are concentrated on the bottom surface of the heating chamber 10 can be determined.
【0058】操作部23から制御手段22へ加熱域を選
択入力すると、制御手段22は誘電体板17aの回転角
度を変化させた後、弱いマイクロ波を加熱室10へ放射
し、マイクロ波吸収発熱体25を予め発熱させて感温材
料26を変色させる。このとき、マイクロ波が加熱室1
0から外へもれないように、これら一連の動作は扉を閉
じた状態で操作する。被加熱物を加熱する際には、扉を
開けて感温材料の変色領域上に被加熱物の加熱したい部
分を載置して加熱する。When the heating area is selectively inputted from the operating section 23 to the control means 22, the control means 22 changes the rotation angle of the dielectric plate 17a, and then emits a weak microwave to the heating chamber 10 to generate microwave absorption heat. The body 25 is heated in advance to change the color of the temperature-sensitive material 26. At this time, the microwave
These series of operations are performed with the door closed so that they cannot escape from zero. When heating an object to be heated, a door is opened and a portion to be heated of the object to be heated is placed on the discolored area of the temperature-sensitive material and heated.
【0059】市販総菜のように、可食温度帯が高温と低
温が混在する食品は、加熱域を正確に判別して加熱する
必要がある。For foods such as commercially available delicatessen in which the edible temperature zone is a mixture of high and low temperatures, it is necessary to accurately determine the heating zone and heat the food.
【0060】以上のようにマイクロ波吸収発熱体と感温
材料を加熱室底面に貼付することにより、底面の加熱域
を正確に判別できるものである。As described above, by attaching the microwave absorbing heating element and the temperature-sensitive material to the bottom surface of the heating chamber, the heating area on the bottom surface can be accurately determined.
【0061】なお、マイクロ波吸収発熱体25は被加熱
物の加熱を妨げるほどマイクロ波を吸収しない材料とす
る。The microwave-absorbing heating element 25 is made of a material that does not absorb microwaves enough to hinder heating of the object to be heated.
【0062】また、感温材料26の変色温度は、高温す
ぎると被加熱物に与える温度の影響が大きくなるので低
温側に設定するのが望ましい。Further, the discoloration temperature of the temperature-sensitive material 26 is desirably set to a lower temperature because if the temperature is too high, the influence on the object to be heated becomes large.
【0063】(実施例3)次に、本発明の第3の実施例
について説明する。(Embodiment 3) Next, a third embodiment of the present invention will be described.
【0064】図7は、本発明の第3の実施例を示す高周
波加熱装置の外観図である。本発明の実施例3が実施例
1と相違する点を説明する。図7において、表示素子2
4は、その表示画面に表示した加熱域の範囲を制御手段
22に情報伝達させる構成としている。27は表示素子
24に加熱域を指定入力する操作部である。FIG. 7 is an external view of a high-frequency heating device according to a third embodiment of the present invention. The point that the third embodiment of the present invention is different from the first embodiment will be described. In FIG. 7, the display element 2
Reference numeral 4 denotes a configuration in which the control unit 22 transmits information on the range of the heating area displayed on the display screen. Reference numeral 27 denotes an operation unit for designating and inputting a heating area on the display element 24.
【0065】被加熱物を加熱する場合は、操作部27か
ら加熱室10のどの場所を加熱するかの加熱域情報を表
示素子24の表示内容を見ながら入力する。たとえば図
7の表示素子24は左側が強くなる場合を示している
が、被加熱物の加熱したい部分をやや右側に移動したい
ときには、操作部27の矢印で表示素子24の着色部分
をやや右に移動させる。制御手段22は表示素子24に
指定された加熱域に対応して誘電体板17aの回転角度
を変化させ、加熱域を変化させる。When the object to be heated is to be heated, the user inputs the heating area information on which part of the heating chamber 10 is to be heated from the operating section 27 while looking at the display contents of the display element 24. For example, the display element 24 shown in FIG. 7 shows a case where the left side is strong. However, when it is desired to move the portion to be heated of the object to be heated slightly to the right side, the colored portion of the display element 24 is slightly shifted to the right by the arrow of the operation unit 27. Move. The control means 22 changes the rotation angle of the dielectric plate 17a corresponding to the heating area designated by the display element 24, and changes the heating area.
【0066】一方、加熱したい領域の面積を広げたい場
合は表示素子24の加熱域を広げるように操作部27の
矢印で表示素子24の着色部分の面積を広げる。この操
作例としては、左矢印を押した状態で右矢印を押して加
熱域を拡大させる。制御手段22は表示素子24の幅広
い加熱域を加熱するために誘電体板17aの回転角度と
して二つの角度を選択する。そして選択した二つの回転
角度の間で往復動作するように誘電体板17aを駆動制
御し、幅広い加熱域を加熱する。On the other hand, when it is desired to increase the area of the region to be heated, the area of the colored portion of the display element 24 is increased by the arrow of the operation unit 27 so as to increase the heating area of the display element 24. In this operation example, the heating area is expanded by pressing the right arrow while pressing the left arrow. The control unit 22 selects two angles as the rotation angle of the dielectric plate 17a in order to heat a wide heating area of the display element 24. The driving of the dielectric plate 17a is controlled so as to reciprocate between the two selected rotation angles, thereby heating a wide heating area.
【0067】また、市販の弁当のように形状や大きさや
容器の仕切りがそれぞれ異なり、多種類の食品によって
構成されている被加熱物は、加熱したい領域がそれぞれ
に異なるため、加熱域を分散選択する必要がある。この
ような食材の加熱に対して、複数の分散した加熱域を表
示素子24内に指定する。制御手段22は指定できる個
々の加熱域に対応したインピーダンス可変手段の回転角
度を記憶している。従って加熱域が分散した被加熱物の
加熱に対して、制御手段22はインピーダンス可変手段
を連続的に回転させながら指定の回転角度において回転
を一時停止するように制御して被加熱物を加熱する。Further, the shape, size, and partition of the container are different from each other as in the case of a commercially available bento, and the object to be heated composed of various kinds of foods has different regions to be heated. There is a need to. A plurality of dispersed heating areas are designated in the display element 24 for such heating of the foodstuff. The control means 22 stores the rotation angles of the impedance variable means corresponding to the individual heating zones that can be designated. Therefore, for heating the object to be heated in which the heating area is dispersed, the control means 22 controls the impedance variable means to rotate the impedance variable means so as to temporarily stop the rotation at a specified rotation angle to heat the object to be heated. .
【0068】以上のように、表示素子24を見ながら操
作部27によって加熱域を選択することにより、複雑な
加熱域の指定が可能となり混載食材でも所望した加熱を
することができる。As described above, by selecting a heating area using the operation unit 27 while looking at the display element 24, a complicated heating area can be designated, and desired heating can be performed even with mixed foods.
【0069】なお、使用者が加熱域指定の識別をよりわ
かりやすくするために表示素子24の着色部分を発光表
示にしても構わない。また、タッチパネルの表示素子を
利用しても構わない。また、被加熱物の加熱進行中に加
熱域を追加指定することで被加熱物の加熱進行状態に応
じた加熱を実行することもできる。The colored portion of the display element 24 may be displayed by light emission in order to make it easier for the user to identify the heating area. Further, a display element of a touch panel may be used. Further, by additionally designating the heating area during the heating of the object to be heated, the heating according to the heating state of the object to be heated can be executed.
【0070】また、以上の本実施例では開孔部14は長
軸方向が奥行き方向と平行になっているが、高周波電流
の流れを乱す方向であればどのような方向で配設しても
構わない。In the above embodiment, the long axis direction of the opening portion 14 is parallel to the depth direction. However, the opening portion 14 may be disposed in any direction as long as it disturbs the flow of the high-frequency current. I do not care.
【0071】さらに、本実施例の図では操作部には加熱
域を選択する左、中央、右、均一のキーを使用している
が、再加熱、解凍などの加熱方法を入力するキーに置き
換えたりそれらを併用配設しても構わない。Further, in the figure of the present embodiment, the left, center, right and uniform keys for selecting a heating area are used in the operation section, but replaced with keys for inputting a heating method such as reheating and thawing. Or they may be arranged in combination.
【0072】[0072]
【発明の効果】以上のように本発明によれば以下の効果
を奏する。As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained.
【0073】本発明の請求項1記載の高周波加熱装置に
よれば、インピーダンス可変手段によって加熱室壁面の
高周波電流の流れを変化させて加熱室の定在波分布を変
化させて加熱室内でのマイクロ波の集中領域を空間的に
規定するとともにその集中領域を表示手段によって表示
する構成により、被加熱物の加熱したい部位の加熱室内
への最適載置位置を使用者に容易に知らせるとともにそ
の加熱部位を食材の内部まで確実に加熱することができ
る。According to the high-frequency heating apparatus of the first aspect of the present invention, the flow of the high-frequency current on the wall surface of the heating chamber is changed by the impedance variable means to change the standing wave distribution in the heating chamber, and the micro-wave in the heating chamber is changed. The configuration in which the wave concentration area is spatially defined and the wave concentration area is displayed by the display means makes it easy for the user to know the optimal placement position of the part to be heated in the heating chamber of the part to be heated, and also displays the heating part. Can be reliably heated to the inside of the food.
【0074】また、本発明の請求項2記載の高周波加熱
装置によれば、加熱情報に基づいてインピーダンス可変
手段を制御することによって、加熱室の定在波分布を被
加熱物の加熱に最適な状態に変化させるとともにそれに
よって形成した加熱室内のマイクロ波の集中領域を表示
手段によって表示することにより、被加熱物の加熱中に
おいても被加熱物の強く加熱されている領域を確認で
き、使用者は被加熱物の加熱進行状態を判別することが
できる。According to the high-frequency heating device of the second aspect of the present invention, by controlling the impedance variable means based on the heating information, the standing wave distribution in the heating chamber is optimized for heating the object to be heated. By changing the state and displaying the concentrated region of the microwave in the heating chamber formed by the display means, it is possible to confirm the strongly heated region of the heated object even during the heating of the heated object. Can determine the heating state of the object to be heated.
【0075】また、本発明の請求項3記載の高周波加熱
装置によれば、加熱室内でのマイクロ波の集中領域をイ
ンピーダンス可変手段の回転角度と対応させ、その回転
角度に応じた加熱域を表示することにより、被加熱物の
どこが加熱されているかを判別することができ、被加熱
物全体が加熱されている様子や特定部位を集中的に加熱
している様子などの加熱状態を容易に確認でき、利便性
を高めることができる。According to the high-frequency heating device of the third aspect of the present invention, the concentration region of the microwaves in the heating chamber is made to correspond to the rotation angle of the impedance varying means, and the heating region corresponding to the rotation angle is displayed. By doing so, it is possible to determine where the heated object is being heated, and easily check the heating state such as the state where the entire heated object is heated or the state where a specific part is intensively heated. And convenience can be improved.
【0076】また、本発明の請求項4記載の高周波加熱
装置によれば、表示手段は加熱室の加熱域を照光する発
光手段としたことにより、被加熱物の加熱中にも加熱進
行状態を知らせることができる。According to the high frequency heating apparatus of the fourth aspect of the present invention, the display means is a light emitting means for illuminating the heating area of the heating chamber, so that the heating progress state can be maintained even during the heating of the object to be heated. I can let you know.
【0077】また、本発明の請求項5記載の高周波加熱
装置によれば、表示手段は加熱室の加熱域を変色表示す
る感温材料としたことにより、実際の加熱域を使用者に
知らせることができる。According to the high-frequency heating device of the fifth aspect of the present invention, the display means is made of a temperature-sensitive material for discoloring and displaying the heating area of the heating chamber, thereby notifying the user of the actual heating area. Can be.
【0078】また、本発明の請求項6記載の高周波加熱
装置によれば、表示手段は加熱室の加熱域を表示する表
示素子とたことにより、加熱室の加熱域を開扉する手間
なく判別することができる。Further, according to the high frequency heating apparatus of the present invention, the display means is a display element for displaying the heating area of the heating chamber, so that there is no need to open the heating area of the heating chamber. can do.
【0079】また、本発明の請求項7記載の高周波加熱
装置によれば、制御手段への加熱情報は、前記加熱室の
加熱域として選択入力される加熱情報としたことによ
り、使用者においては被加熱物の加熱室内への載置場所
が認識できるとともに被加熱物の加熱においては被加熱
物にマイクロ波を集中し、より短時間に被加熱物を加熱
することができる。Further, according to the high frequency heating apparatus of the present invention, the heating information to the control means is the heating information selectively input as the heating area of the heating chamber, so that the user can use the heating information. The place where the object to be heated is placed in the heating chamber can be recognized, and in heating the object to be heated, microwaves can be concentrated on the object to be heated, and the object to be heated can be heated in a shorter time.
【0080】また、本発明の請求項8記載の高周波加熱
装置によれば、制御手段への加熱情報は、前記被加熱物
の種類として選択入力される加熱情報としたことによ
り、被加熱物の種類に応じてインピーダンス可変手段を
制御してさまざまな被加熱物をそれぞれの誘電特性に応
じて最適な定在波分布にて加熱することができる。Further, according to the high frequency heating apparatus of the eighth aspect of the present invention, the heating information to the control means is the heating information which is selectively inputted as the type of the object to be heated. By controlling the impedance variable means according to the type, it is possible to heat various objects to be heated with an optimum standing wave distribution according to their dielectric properties.
【0081】また、本発明の請求項9記載の高周波加熱
装置によれば、制御手段への加熱情報は、前記被加熱物
の加熱方法として選択入力される加熱情報としたことに
より、被加熱物の加熱方法に応じてインピーダンス可変
手段を制御して解凍、温め、再加熱のそれぞれの加熱方
法に応じた定在波分布で被加熱物を加熱することができ
る。Further, according to the high frequency heating apparatus of the ninth aspect of the present invention, the heating information to the control means is the heating information which is selectively inputted as the heating method of the object to be heated. The object to be heated can be heated with a standing wave distribution according to each of the heating methods of thawing, warming, and reheating by controlling the impedance variable means according to the heating method.
【0082】また、本発明の請求項10記載の高周波加
熱装置によれば、制御手段は前記表示手段の加熱域の情
報に基づいてインピーダンス可変手段を制御することに
より、加熱域指定の自由度が増すので、たとえば弁当な
どの混載食材に対して加熱域の分散指定が容易にでき
る。また加熱進行状態に応じて加熱域を設定して被加熱
物の状態に適した定在波分布で加熱することができる。According to the high-frequency heating apparatus of the tenth aspect of the present invention, the control means controls the impedance variable means based on the information on the heating area of the display means, so that the degree of freedom in specifying the heating area is increased. Because of this, it is possible to easily specify the distribution of the heating area for mixed foods such as a lunch box. Further, the heating area can be set according to the heating progress state, and heating can be performed with a standing wave distribution suitable for the state of the object to be heated.
【図1】本発明の第1の実施例の高周波加熱装置の概略
構成を示す図FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a high-frequency heating device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1の実施例の高周波加熱装置の外観
を示す図FIG. 2 is a diagram showing the appearance of the high-frequency heating device according to the first embodiment of the present invention.
【図3】(a) 誘電体板の回転角度が0°のときの被
加熱物の加熱域を示す図 (b) 誘電体板の回転角度が45°のときの被加熱物
の加熱域を示す図 (c) 誘電体板の回転角度が90°のときの被加熱物
の加熱域を示す図FIG. 3 (a) is a diagram showing a heating range of the object to be heated when the rotation angle of the dielectric plate is 0 °. FIG. 3 (b) is a diagram showing a heating range of the object to be heated when the rotation angle of the dielectric plate is 45 °. (C) Diagram showing the heating area of the object to be heated when the rotation angle of the dielectric plate is 90 °
【図4】(a) 加熱域を選択入力してカレーと米飯を
同時に加熱した時の温度を示す図 (b) 加熱域を選択入力せずカレーと米飯を同時に加
熱した時の温度を示す図FIG. 4 (a) A diagram showing the temperature when curry and cooked rice are heated simultaneously by selecting and inputting a heating region. (B) A diagram showing the temperature when curry and cooked rice are heated simultaneously without selecting and inputting a heating region.
【図5】本発明の第1の実施例の冷凍牛ミンチ300g
の解凍制御パターンを示す図FIG. 5: 300 g of frozen minced beef of the first embodiment of the present invention.
Diagram showing thawing control pattern of
【図6】本発明の第2の実施例の高周波加熱装置の概略
構成を示す図FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of a high-frequency heating device according to a second embodiment of the present invention.
【図7】本発明の第3の実施例の高周波加熱装置の外観
を示す図FIG. 7 is a diagram showing the appearance of a high-frequency heating device according to a third embodiment of the present invention.
10 加熱室 11 マグネトロン(高周波発生手段) 12 導波管 14 開孔部 17 インピーダンス可変手段 17a 誘電体板 18 モータ(誘電体板回転駆動手段) 19 検出手段(角度判定手段) 20 スポットライト(表示手段) 22 制御手段 23 操作部 24 表示素子(表示手段) 25 マイクロ波吸収発熱体 26 感温材料(表示手段) 27 加熱域指定入力操作部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Heating chamber 11 Magnetron (high frequency generation means) 12 Waveguide 14 Opening part 17 Impedance variable means 17a Dielectric plate 18 Motor (Dielectric plate rotation drive means) 19 Detecting means (Angle determining means) 20 Spotlight (Display means) 22 control means 23 operation part 24 display element (display means) 25 microwave absorption heating element 26 temperature sensitive material (display means) 27 heating area designation input operation part
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 6/68 310 H05B 6/68 310Z 6/70 6/70 C (72)発明者 中島 昭彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 吉野 浩二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 今井 博久 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 3K086 AA01 AA03 BA08 BB05 BB08 CA02 CB03 CB05 CB12 CC01 CC13 CD11 CD23 CD27 FA03 FA10 3K090 AA01 AA02 AB02 AB03 BA01 BB01 BB16 CA02 CA21 DA15 DA18 EB10 EB36 3L086 AA01 BB08 BB15 CA04 CA16 CB09 CC03 CC05 CC06 CC13 CC14 DA24 DA29 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05B 6/68 310 H05B 6/68 310Z 6/70 6/70 C (72) Inventor Akihiko Nakajima Kadoma, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Koji Yoshino 1006 Ojimon Kadoma, Osaka Pref.Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. In-house F term (reference) 3K086 AA01 AA03 BA08 BB05 BB08 CA02 CB03 CB05 CB12 CC01 CC13 CD11 CD23 CD27 FA03 FA10 3K090 AA01 AA02 AB02 AB03 BA01 BB01 BB16 CA02 CA21 DA15 DA18 EB10 EB36 3L086 AA01 CC03 CB08 CC08 CC14 DA24 DA29
Claims (10)
室に給電するマイクロ波を発生する高周波発生手段と、
前記加熱室の金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断
するように設けた開孔部と、前記開孔部のインピーダン
スを変えるインピーダンス可変手段と、前記加熱室の加
熱域を示す表示手段を備えた高周波加熱装置。1. A heating chamber for storing an object to be heated, a high-frequency generating means for generating a microwave for supplying power to the heating chamber,
An opening provided to divide the flow of the high-frequency current generated on the metal wall surface of the heating chamber; impedance variable means for changing the impedance of the opening; and display means for indicating a heating area of the heating chamber. High frequency heating device.
室に給電するマイクロ波を発生する高周波発生手段と、
前記加熱室の金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断
するように設けた開孔部と、前記開孔部のインピーダン
スを変えるインピーダンス可変手段と、前記加熱室の加
熱域を示す表示手段と、加熱情報に基づいて前記インピ
ーダンス可変手段と前記表示手段とを制御する制御手段
を備えた高周波加熱装置。2. A heating chamber for accommodating an object to be heated, a high-frequency generating means for generating a microwave for supplying power to the heating chamber,
An opening provided to divide the flow of a high-frequency current generated on the metal wall surface of the heating chamber; impedance variable means for changing the impedance of the opening; display means for indicating a heating area of the heating chamber; A high-frequency heating device including a control unit that controls the impedance variable unit and the display unit based on information.
構成とし、前記インピーダンス可変手段の回転角度を判
定する角度判定手段を付加し、制御手段は前記インピー
ダンス可変手段の回転角度に基づいて表示手段を制御す
る構成とした請求項2記載の高周波加熱装置。3. The variable impedance means is configured to be driven to rotate, and an angle determining means for determining a rotation angle of the variable impedance means is added. The control means controls the display means based on the rotation angle of the variable impedance means. 3. The high-frequency heating device according to claim 2, wherein
発光手段とする請求項1または2記載の高周波加熱装
置。4. The high frequency heating apparatus according to claim 1, wherein the display means is a light emitting means for illuminating a heating area of the heating chamber.
する感温材料とする請求項1または2記載の高周波加熱
装置。5. The high-frequency heating apparatus according to claim 1, wherein the display means is a temperature-sensitive material for discoloring and displaying the heating area of the heating chamber.
表示する表示素子とする請求項1または2記載の高周波
加熱装置。6. The high-frequency heating apparatus according to claim 1, wherein the display means is a display element for displaying a heating area of the heating chamber on a screen.
域として選択入力される加熱情報とした請求項2記載の
高周波加熱装置。7. The high-frequency heating apparatus according to claim 2, wherein the heating information to the control means is heating information selectively input as a heating area of the heating chamber.
類として選択入力される加熱情報とした請求項2記載の
高周波加熱装置。8. The high-frequency heating apparatus according to claim 2, wherein the heating information to the control means is heating information selectively input as a type of the object to be heated.
熱方法として選択入力される加熱情報とした請求項2記
載の高周波加熱装置。9. The high-frequency heating apparatus according to claim 2, wherein the heating information to the control means is heating information selected and input as a heating method of the object to be heated.
基づいてインピーダンス可変手段を制御する請求項2記
載の高周波加熱装置。10. The high-frequency heating apparatus according to claim 2, wherein the control means controls the impedance variable means based on information on a heating area of the display means.
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JP11220768A JP2001052852A (en) | 1999-08-04 | 1999-08-04 | High-frequency heating device |
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JP11220768A JP2001052852A (en) | 1999-08-04 | 1999-08-04 | High-frequency heating device |
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JP11220768A Pending JP2001052852A (en) | 1999-08-04 | 1999-08-04 | High-frequency heating device |
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Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013531862A (en) * | 2010-05-03 | 2013-08-08 | ゴジ リミテッド | Modal analysis |
JP2021072221A (en) * | 2019-10-31 | 2021-05-06 | 日本無線株式会社 | Microwave heating device |
-
1999
- 1999-08-04 JP JP11220768A patent/JP2001052852A/en active Pending
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US10912163B2 (en) | 2010-05-03 | 2021-02-02 | Goji Limited | Spatially controlled energy delivery |
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