JP2001051278A - Liquid crystal display device and production thereof - Google Patents
Liquid crystal display device and production thereofInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、一対の電極基板間
にスメクチック液晶を介在させてなるマトリクス画素タ
イプの液晶表示素子及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a matrix pixel type liquid crystal display device in which a smectic liquid crystal is interposed between a pair of electrode substrates, and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】図1、図22及び図23を参照して、強
誘電性液晶や反強誘電性液晶等のスメクチック液晶を用
いた、従来の単純マトリクス型の液晶表示素子の一例を
示す。ここで、図1は概略断面図、図22及び図23
は、上記図1に示す液晶表示素子における透明電極1
2、22と隔壁40との配置関係に着目した図を示す。
なお、図23は図22(a)中の丸で囲んだA部拡大図
である。また、これら図22、23において、(a)は
平面図、(b)は(a)中のB矢視図、(c)は(a)
中のC矢視図であり、絶縁膜、配向膜、液晶は省略して
あり、更に、便宜上、隔壁40のみにハッチングを施し
てある。2. Description of the Related Art Referring to FIGS. 1, 22 and 23, an example of a conventional simple matrix type liquid crystal display device using a smectic liquid crystal such as a ferroelectric liquid crystal or an antiferroelectric liquid crystal is shown. Here, FIG. 1 is a schematic sectional view, FIG. 22 and FIG.
Is a transparent electrode 1 in the liquid crystal display element shown in FIG.
The figure which paid attention to the arrangement | positioning relationship between 2 and 22 and the partition 40 is shown.
FIG. 23 is an enlarged view of a portion A surrounded by a circle in FIG. 22 and 23, (a) is a plan view, (b) is a view taken in the direction of arrow B in (a), and (c) is (a).
FIG. 3 is a view taken in the direction of the arrow C in FIG. 1, in which an insulating film, an alignment film, and a liquid crystal are omitted, and only a partition wall 40 is hatched for convenience.
【0003】図1に示す様に、従来の液晶表示素子は、
互いに並行に配置された第1の電極基板10及び第2の
電極基板20を、少なくとも一方の電極基板の周辺に印
刷された帯状のシール樹脂30及び樹脂等よりなるスト
ライプ状隔壁(隔壁部材)40を介して加圧しながら重
ね合わせ、かつ、これら両電極基板10、20のギャッ
プ(例えば1〜2μm)に上記シール樹脂30の液晶注
入口を通しスメクチック液晶50を封入して構成されて
いる。As shown in FIG. 1, a conventional liquid crystal display device is
The first electrode substrate 10 and the second electrode substrate 20 arranged in parallel with each other are combined with a strip-shaped sealing resin 30 printed around at least one of the electrode substrates and a stripe-shaped partition (partition member) 40 made of resin or the like. And a gap between these two electrode substrates 10 and 20 (for example, 1 to 2 μm) is passed through the liquid crystal injection port of the sealing resin 30 and the smectic liquid crystal 50 is sealed.
【0004】ここで、第1の電極基板10は、第1の透
明基板11の内表面に、複数のストライプ状の第1の透
明電極12、絶縁膜13及び第1の配向膜14が順次積
層して形成されている。一方、第2の電極基板20は、
第2の透明基板21の内表面に、複数のストライプ状の
第2の透明電極22、絶縁膜23及び第2の配向膜24
を順次形成して構成されている。ここで、両配向膜1
4、24はポリイミド等により形成されており、例えば
第1の透明電極12のストライプ長手方向(図1中の左
右方向)に平行にラビング処理されることで、一軸配向
処理されている。Here, the first electrode substrate 10 has a plurality of stripe-shaped first transparent electrodes 12, an insulating film 13, and a first alignment film 14 sequentially laminated on the inner surface of a first transparent substrate 11. It is formed. On the other hand, the second electrode substrate 20
On the inner surface of the second transparent substrate 21, a plurality of stripe-shaped second transparent electrodes 22, an insulating film 23, and a second alignment film 24 are formed.
Are sequentially formed. Here, both alignment films 1
Numerals 4 and 24 are made of polyimide or the like, and are rubbed in parallel to the longitudinal direction of the stripe of the first transparent electrode 12 (the left-right direction in FIG. 1), for example, to be uniaxially oriented.
【0005】また、複数の第2の透明電極22は、複数
の第1の透明電極12と直角に位置しており、これら各
両透明電極12、22は、反強誘電性液晶30と共に複
数のマトリクス状(格子状)画素60を形成する(図2
2(a)参照)。そして、液晶表示素子の一方の外表面
にバックライト等の光源(図示せず)を設けることによ
り、これら画素は液晶表示素子の駆動時に表示が行われ
る表示部として作用する。なお、どちらかの透明基板1
1、12の内表面にカラーフィルタ層を設ければ、カラ
ー表示可能な液晶表示素子となる。The plurality of second transparent electrodes 22 are located at right angles to the plurality of first transparent electrodes 12. A matrix-like (lattice-like) pixel 60 is formed (FIG. 2).
2 (a)). By providing a light source (not shown) such as a backlight on one outer surface of the liquid crystal display element, these pixels function as a display unit on which display is performed when the liquid crystal display element is driven. One of the transparent substrates 1
If a color filter layer is provided on the inner surfaces of the elements 1 and 12, a liquid crystal display element capable of color display can be obtained.
【0006】上記従来の液晶表示素子においては、少な
くとも一方の電極基板10、20の内表面に形成された
ストライプ状の隔壁40により両電極基板間のギャップ
(セルギャップ)は均一に保たれる構造となっている。
図22に示す例では、隔壁40は第1の透明電極12の
中央部に位置し、且つ第1の透明電極12に平行なスト
ライプパターンを構成している。In the above-mentioned conventional liquid crystal display element, the gap (cell gap) between the two electrode substrates is kept uniform by the stripe-shaped partition walls 40 formed on the inner surfaces of at least one of the electrode substrates 10 and 20. It has become.
In the example shown in FIG. 22, the partition wall 40 is located at the center of the first transparent electrode 12, and forms a stripe pattern parallel to the first transparent electrode 12.
【0007】そして、図23に示す様に、各画素60に
おいて隔壁40の横切る方向からみたとき、画素60の
両端部のセルギャップP1、P3及び画素60の中央部
のセルギャップP2は等しくなっている。なお、マトリ
クス状に配置された複数の画素60は、実際には、例え
ば対角6インチの表示素子においては320×240個
程度配置されている。As shown in FIG. 23, when viewed from the direction crossing the partition wall 40 in each pixel 60, the cell gaps P1 and P3 at both ends of the pixel 60 and the cell gap P2 at the center of the pixel 60 become equal. I have. It should be noted that the plurality of pixels 60 arranged in a matrix are actually arranged in an amount of about 320 × 240 in a display element having a diagonal size of 6 inches, for example.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで、スメクチッ
ク液晶は、図24に示す様に、液晶分子の配列が層の中
心部で”く”の字型に屈曲したシェブロン構造をとるこ
とを特徴とするのであるが、単なるラビング処理では屈
曲方向を一方に統一することが容易でなく、異なる屈曲
方向を持つ領域が混在する。そして、これら両領域の境
界はジグザグ欠陥となる。このジグザグ欠陥は、上記し
た従来の液晶表示素子においては、特開平7−1597
92号公報に図示されているように面内にてランダムに
存在する。As shown in FIG. 24, the smectic liquid crystal has a chevron structure in which the arrangement of liquid crystal molecules is bent in a "-" shape at the center of the layer. However, it is not easy to unify the bending direction to one by simple rubbing, and regions having different bending directions coexist. The boundary between these two regions becomes a zigzag defect. This zigzag defect is caused by the above-mentioned conventional liquid crystal display device as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-1597.
As shown in JP-A-92-92, they exist randomly in the plane.
【0009】さらに、従来の液晶表示素子においては、
各電極基板10、20が上記のような積層構造であるた
めに、透明電極12、22の電極間のスペースに存在す
る段差や図示しない補助配線のパターン等によって、各
電極基板10、20の内表面には種々の微妙な凹凸がラ
ンダムに存在することが考えられる。つまり、これら凹
凸がランダムに存在すると、セルギャップが面内で微妙
に不均一となり、これが電極基板10、20間の液晶5
0の体積エネルギーを面内で不均一にするため、それを
補うように、異なる屈曲方向を持つ領域が対応してラン
ダムに発生すると考えられる。Further, in a conventional liquid crystal display device,
Since each of the electrode substrates 10 and 20 has the above-mentioned laminated structure, the inside of each of the electrode substrates 10 and 20 is changed by a step existing in a space between the electrodes of the transparent electrodes 12 and 22 and a pattern of an auxiliary wiring (not shown). It is conceivable that various fine irregularities are randomly present on the surface. In other words, if these irregularities are present at random, the cell gap becomes slightly non-uniform in the plane, which is caused by the liquid crystal 5 between the electrode substrates 10 and 20.
In order to make the volume energy of 0 non-uniform in the plane, it is considered that regions having different bending directions are generated correspondingly at random so as to compensate for it.
【0010】このようなシェブロン構造の屈曲方向の配
列乱れは、液晶分子の配向欠陥を意味しており、液晶表
示素子の黒表示においての光漏れを発生させ、コントラ
スト低下の原因となり問題となる。また、このシェブロ
ン構造の屈曲方向がランダムな状態はエネルギー的にも
不安定であるため、熱変化に対して不安定であり、冷熱
衝撃等の熱変化による配向欠陥の増大につながるという
問題もある。[0010] Such misalignment in the bending direction of the chevron structure means an alignment defect of liquid crystal molecules, which causes light leakage in a black display of the liquid crystal display element and causes a problem of causing a decrease in contrast. Further, since the bending state of the chevron structure in which the bending direction is random is unstable in terms of energy, it is unstable with respect to heat change, and there is also a problem that alignment defects increase due to heat change such as thermal shock. .
【0011】ここで、上記問題に対して、上記特開平7
−159792号公報においては、高温液体に浸漬した
液晶セルを該液体から引き上げる際に、気液界面をラビ
ング方向と略平行に移動させる方法によって、スメクチ
ック液晶の液晶分子のシェブロン構造の屈曲方向を同一
方向に整列させ、モノドメイン層を形成することで液晶
分子の配向欠陥をなくす、という技術が報告されてい
る。しかしながら、シェブロン構造の屈曲方向を一方向
に整列することにより、光軸が一方向のみとなるため、
表示の視野角依存性が発生し、製品とする上で好ましく
ない。Here, with respect to the above problem, Japanese Patent Application Laid-Open
In JP-A-159792, when a liquid crystal cell immersed in a high-temperature liquid is pulled up from the liquid, the bending direction of the chevron structure of the liquid crystal molecules of the smectic liquid crystal is made the same by moving the gas-liquid interface substantially parallel to the rubbing direction. A technique has been reported in which alignment defects are eliminated by forming a monodomain layer by aligning the liquid crystal molecules in a direction. However, by aligning the bending direction of the chevron structure in one direction, the optical axis becomes only one direction,
Viewing angle dependence of display occurs, which is not preferable in producing a product.
【0012】そこで、本発明は上記問題に鑑み、一対の
電極基板間にスメクチック液晶を介在させてなるマトリ
クス画素タイプの液晶表示素子において、表示に視野角
依存が少なく、液晶の配向欠陥の少ない液晶表示素子お
よびその製造方法を提供することを目的とする。In view of the above problems, the present invention provides a liquid crystal display device of a matrix pixel type in which a smectic liquid crystal is interposed between a pair of electrode substrates. It is an object to provide a display element and a method for manufacturing the same.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明においては、スメクチック液晶
(50)におけるシェブロン構造の屈曲方向が略同一方
向に整列している第1の整列領域(51)と、該スメク
チック液晶におけるシェブロン構造の屈曲方向が該第1
の整列領域と異なる方向に整列している第2の整列領域
(52)とを、n個(nは1以上の整数)の画素(6
0)内にて交互に周期的に配置したことを特徴としてい
る。In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, the first alignment region in which the bending direction of the chevron structure in the smectic liquid crystal (50) is aligned in substantially the same direction. (51), the bending direction of the chevron structure in the smectic liquid crystal is the first direction.
And the second alignment region (52) aligned in a different direction from the alignment region of n pixels (n is an integer of 1 or more).
0) and are arranged alternately and periodically.
【0014】本発明によれば、第1及び第2の整列領域
をn画素内にて交互に周期的に配置しているから、表示
の視野角依存性を極力低減することができる。また、第
1及び第2の整列領域の各々においてシェブロン構造の
屈曲方向を略同一方向に整列させているから、従来のよ
うに当該屈曲方向がランダムな場合に比べて、各整列領
域における液晶分子の配向の熱的安定性を向上させるこ
とができる。よって、本発明によれば、表示の視野角依
存性が少なく液晶の配向欠陥が少ない液晶表示素子を提
供することができる。According to the present invention, the first and second alignment regions are alternately and periodically arranged in n pixels, so that the viewing angle dependency of display can be reduced as much as possible. In addition, since the bending direction of the chevron structure is aligned in substantially the same direction in each of the first and second alignment regions, the liquid crystal molecules in each alignment region are compared with the conventional case where the bending directions are random. Can be improved in thermal stability. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display element having less viewing angle dependence of display and less alignment defects of liquid crystal.
【0015】ここで、請求項2記載の発明のように、第
1及び第2の整列領域(51、52)を互いに略同一の
面積とすれば、異なる2つの光軸領域が略均等面積に存
在することとなるため、視野角依存をより低減すること
ができ、好ましい。また、スメクチック液晶において
は、例えばしきい値(液晶分子が応答する電圧値)以上
の電圧を印加することにより、シェブロン構造を擬似ブ
ックシェルフ構造にできることが知られている。そのた
め、請求項3記載の発明のように、上記第1及び第2の
整列領域を、シェブロン構造に代えて、スメクチック液
晶(50)に電圧を印加することにより擬似ブックシェ
ルフ構造としたものでもよい。If the first and second alignment regions (51, 52) have substantially the same area as each other, the two different optical axis regions have substantially the same area. Since it is present, viewing angle dependence can be further reduced, which is preferable. It is also known that a smectic liquid crystal can be converted into a pseudo bookshelf structure by applying a voltage equal to or higher than a threshold value (a voltage value to which liquid crystal molecules respond), for example. Therefore, the first and second alignment regions may have a pseudo bookshelf structure by applying a voltage to the smectic liquid crystal (50) instead of the chevron structure. .
【0016】また、本発明者等は、電極基板間のギャッ
プに緩やかな傾斜(ただし、ラビング方向は傾斜方向と
平行とする)を形成することにより、ギャップが狭くな
る方向に向かって液晶のシェブロン構造の屈曲方向が同
一方向に整列するという現象に着目した。これは、この
傾斜したギャップ内のスメクチック液晶が、その体積エ
ネルギーを安定化させるべく最適な層形態を出現させる
ためと考えられる。Further, the present inventors have formed a gentle slope (however, the rubbing direction is parallel to the tilt direction) in the gap between the electrode substrates, so that the liquid crystal chevron moves toward the narrowing direction of the gap. We focused on the phenomenon that the bending directions of the structures are aligned in the same direction. This is presumably because the smectic liquid crystal in the inclined gap appears an optimal layer form to stabilize its volume energy.
【0017】請求項4記載の発明は、この着目点に基づ
いてなされたもので、第1の電極基板(10)と第2の
電極基板(20)との間に、該両電極基板のギャップが
一方向へ向かって徐々に狭くなっている第1のギャップ
領域(G1)と、この第1のギャップ領域に隣接し該ギ
ャップが該第1のギャップ領域とは反対の方向へ徐々に
狭くなっている第2のギャップ領域(G2)とを形成す
るとともに、該第1及び第2のギャップ領域を、第1及
び第2の整列領域(51、52)に対応して周期的に配
置するようにし、更に、第1及び第2の配向膜(14、
24)を共に、該第1及び第2のギャップ領域における
該ギャップが狭くなる方向に対して略平行にラビング処
理したことを特徴としている。それにより、請求項1〜
請求項3の発明を実現する具体的手段を提供することが
できる。The invention according to claim 4 is based on this point of interest, and a gap between the first electrode substrate (10) and the second electrode substrate (20) is provided between the first electrode substrate (10) and the second electrode substrate (20). Is gradually narrowed in one direction, and a gap adjacent to the first gap region is gradually narrowed in a direction opposite to the first gap region. And a second gap region (G2), and the first and second gap regions are periodically arranged corresponding to the first and second alignment regions (51, 52). And the first and second alignment films (14,
24) is characterized in that rubbing is performed substantially parallel to the direction in which the gap in the first and second gap regions becomes narrower. Thereby, Claims 1 to
Specific means for realizing the invention of claim 3 can be provided.
【0018】ここで、請求項5記載の発明のように、第
1及び第2の電極基板(10、20)を、該両電極基板
の間にギャップを規定する隔壁部材(40)を介して加
圧しながら重ね合わせることにより、該隔壁部材にて支
持されたものとすれば、該ギャップ方向における該隔壁
部材の高さを第1及び第2のギャップ領域(G1、G
2)に対応するように変化させることにより、該第1及
び第2のギャップ領域を形成することができる。Here, as in the fifth aspect of the present invention, the first and second electrode substrates (10, 20) are interposed via a partition member (40) defining a gap between the two electrode substrates. If the partition member is supported by the partition member by being overlapped while applying pressure, the height of the partition member in the gap direction is set to the first and second gap regions (G1, G2).
The first and second gap regions can be formed by changing them to correspond to 2).
【0019】請求項6〜請求項11記載の発明は、請求
項5の発明のより具体的な手段を提供するものである。
まず、請求項6の発明によれば、第1及び第2の透明電
極(12、22)のどちらか一方において、長手方向に
略同一の幅である隔壁部材(40)を、隣接する電極間
のスペース上を斜めに横断するように延設している。透
明電極の間には段差があり、この段差によって該スペー
スができる。よって、本発明によれば、隔壁部材は、一
方の電極基板において該スペースの両側では透明電極に
接し、該スペース上では透明電極に接しない。The inventions of claims 6 to 11 provide more specific means of the invention of claim 5.
First, according to the invention of claim 6, in either one of the first and second transparent electrodes (12, 22), a partition member (40) having substantially the same width in the longitudinal direction is provided between adjacent electrodes. It extends so as to cross the space diagonally. There is a step between the transparent electrodes, and this step creates the space. Therefore, according to the present invention, the partition member contacts the transparent electrode on both sides of the space on one electrode substrate and does not contact the transparent electrode on the space.
【0020】このような隔壁部材にあっては、重ね合わ
された電極基板を加圧する際、隔壁部材のうち該スペー
スの両側に位置する部位は強い加圧を受けて変形しやす
く(潰れやすく)、それに比較して、該スペースに位置
する部位は加圧度合が弱いため変形しにくい(潰れにく
い)と考えられる。In such a partition member, when the stacked electrode substrates are pressurized, portions of the partition member located on both sides of the space are easily deformed (easily crushed) under strong pressure, On the other hand, it is considered that the portion located in the space is less likely to be deformed (less crushed) because the degree of pressure is weak.
【0021】そのため、最終的に隔壁部材の高さは該ス
ペースの部分で高く、該スペースの部分から離れるに従
って低くなり、隔壁部材のうち該スペース上の部位を境
界として第1及び第2のギャップ領域が形成される。よ
って、該スペースに対応して、第1及び第2のギャップ
領域が周期的に配置される。Therefore, the height of the partition member is finally higher in the space portion, and becomes lower as the distance from the space portion increases, and the first and second gaps are separated from the partition member on the space. An area is formed. Therefore, the first and second gap regions are periodically arranged corresponding to the space.
【0022】また、請求項7記載の発明によれば、隔壁
部材(40)において、その長手方向において幅の広い
部分と狭い部分とを交互に形成するとともに、最大幅で
ある幅広部(41)と最小幅である幅狭部(42)とを
第1及び第2のギャップ領域(G1、G2)に対応して
周期的に形成し、該幅広部と該幅狭部との間を緩やかに
幅が変化するようにしたことを特徴としている。それに
より、重ね合わされた電極基板を加圧する際、該幅狭部
で変形が大きく、該幅広部で変形が小さくなるため、隔
壁部材の幅広部及び幅狭部を境界として第1及び第2の
ギャップ領域が形成できる。According to the seventh aspect of the present invention, in the partition member (40), wide portions and narrow portions are alternately formed in the longitudinal direction, and the wide portion (41) having the maximum width is formed. And the narrow portion (42), which is the minimum width, are formed periodically corresponding to the first and second gap regions (G1, G2), and the gap between the wide portion and the narrow portion is gently formed. It is characterized in that the width is changed. Thereby, when the superposed electrode substrates are pressed, the deformation is large at the narrow portion and the deformation is small at the wide portion. Therefore, the first and second portions are separated by the wide portion and the narrow portion of the partition member. A gap region can be formed.
【0023】また、請求項8記載の発明によれば、第1
及び第2の透明電極(12、22)のどちらか一方にお
いて隣接する電極間のスペース(S)を、その長手方向
において幅の広い部分と狭い部分とを交互に形成すると
ともに、最大幅である幅広部(S1)と最小幅である幅
狭部(S2)とを第1及び第2のギャップ領域(G1、
G2)に対応して周期的に形成したものであって、且
つ、該幅広部と該幅狭部との間にて緩やかに幅が変化し
たものとし、このような構成とした該スペース上に、長
手方向に該幅狭部よりも広く且つ略同一の幅を有する隔
壁部材(40)を延設したことを特徴としている。According to the eighth aspect of the present invention, the first
The space (S) between adjacent electrodes in either one of the second transparent electrodes (12, 22) has a maximum width while alternately forming a wide portion and a narrow portion in the longitudinal direction. The wide portion (S1) and the narrow portion (S2), which is the minimum width, are connected to the first and second gap regions (G1, G2).
G2), the width is changed periodically between the wide portion and the narrow portion, and the width is gradually changed between the wide portion and the narrow portion. And a partition member (40) having a width which is wider than the narrow portion and has substantially the same width in the longitudinal direction.
【0024】それにより、隔壁部材が透明電極に接する
面積は、該スペースの幅狭部では大きく、該スペースの
幅広部にかけて小さくなる。そのため、請求項6の発明
と同様に、電極基板の加圧時において隔壁部材の変形に
差が生じるから、最終的に、該スペースの幅広部及び幅
狭部を境界として第1及び第2のギャップ領域が形成で
きる。As a result, the area of the partition member in contact with the transparent electrode is large in the narrow portion of the space and becomes smaller toward the wide portion of the space. For this reason, similarly to the invention of claim 6, a difference occurs in the deformation of the partition member when the electrode substrate is pressed, and finally the first and second portions are divided by the wide portion and the narrow portion of the space. A gap region can be formed.
【0025】また、請求項9記載の発明によれば、長手
方向に幅の異なる2種類の隔壁部材(43、44)を、
第1及び第2のギャップ領域(G1、G2)に対応して
周期的に形成しているから、幅の狭い隔壁部材(44)
と幅の広い隔壁部材(43)とで、電極基板の加圧時に
おける変形に差が生じ、最終的に、2種類の各隔壁部材
を境界として第1及び第2のギャップ領域が形成でき
る。According to the ninth aspect of the present invention, two kinds of partition members (43, 44) having different widths in the longitudinal direction are provided.
Since it is formed periodically corresponding to the first and second gap regions (G1, G2), the partition member (44) having a small width.
There is a difference in deformation between the electrode member and the wide partition member (43) when the electrode substrate is pressed, and finally, the first and second gap regions can be formed with the two types of partition members as boundaries.
【0026】また、請求項10記載の発明によれば、ギ
ャップ方向における高さの異なる2種類の隔壁部材(4
5、46)を第1及び第2のギャップ領域(G1、G
2)に対応して周期的に形成しているから、隔壁部材の
高さの相違に伴って第1及び第2のギャップ領域が形成
できる。According to the tenth aspect of the present invention, two types of partition members (4) having different heights in the gap direction are provided.
5, 46) to the first and second gap regions (G1, G
Since it is formed periodically corresponding to 2), the first and second gap regions can be formed according to the difference in height of the partition member.
【0027】また、請求項11記載の発明によれば、隔
壁部材(47、48)を、第1及び第2の透明電極(1
2、22)のどちらか一方における電極上に延設したも
のと、隣接する電極間のスペース上に延設したものとか
ら構成し、これら2種類の隔壁部材を第1及び第2のギ
ャップ領域(G1、G2)に対応して周期的に配置して
いるから、請求項6の発明と同様に、電極基板の加圧時
においてこれら2種類の隔壁部材の変形に差が生じ、最
終的に第1及び第2のギャップ領域が形成できる。According to the eleventh aspect of the present invention, the partition member (47, 48) is provided with the first and second transparent electrodes (1).
2, 22) and one extending over the space between adjacent electrodes, and these two types of partition members are provided in the first and second gap regions. (G1, G2), the two types of partition members are differently deformed when the electrode substrate is pressed, as in the case of the sixth aspect of the present invention. First and second gap regions can be formed.
【0028】ここで、上記請求項4の発明における第1
及び第2のギャップ領域(G1、G2)は、請求項12
記載の発明によっても実現できる。即ち、請求項12の
発明のように、第1および第2の電極基板(10、2
0)のどちらか一方の内表面を、緩やかな傾斜構造を有
する周期的な凹凸形状とすれば、この凹凸形状に対応し
て第1の及び第2のギャップ領域(G1、G2)を形成
することができる。Here, the first aspect of the present invention according to claim 4 is as follows.
And the second gap region (G1, G2).
It can also be realized by the described invention. That is, as in the twelfth aspect, the first and second electrode substrates (10, 2
If either one of the inner surfaces of (0) has a periodic uneven shape having a gentle slope structure, the first and second gap regions (G1, G2) are formed corresponding to the uneven shape. be able to.
【0029】また、請求項13〜請求項16記載の発明
は、請求項12記載の液晶表示素子の製造方法を提供す
るものである。まず、請求項13の製造方法によれば、
第1及び第2の電極基板(10、20)の一方におい
て、透明基板(11、21)の内表面のうち上記凹凸形
状の凸部に対応する部位に、当該内表面から突出する突
出部材(101)を形成し、この突出部材を埋めるよう
に当該内表面に樹脂を塗布することにより樹脂膜(10
2)を形成し、この樹脂膜上に透明電極(12、22)
を形成した後、第1及び第2の電極基板を重ね合わせる
ようにしたことを特徴としている。Further, the invention according to claims 13 to 16 provides a method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 12. First, according to the manufacturing method of claim 13,
On one of the first and second electrode substrates (10, 20), a protruding member (protruding from the inner surface) is provided on a portion of the inner surface of the transparent substrate (11, 21) corresponding to the convex portion of the uneven shape. 101), and a resin film (10) is applied to the inner surface so as to fill the projecting member.
2) is formed, and the transparent electrodes (12, 22) are formed on the resin film.
Is formed, and then the first and second electrode substrates are overlapped.
【0030】本製造方法によれば、樹脂を塗布して樹脂
膜を形成すると、突出部材の埋まっている部分及びその
近傍の樹脂は、突出部材の存在により支持されるのに対
し、それ以外の部分の樹脂は支持されない。そのため、
樹脂膜のうち突出部材で支持される部分は、突出部材で
支持されない部分よりも膜厚が厚くなり、結果的に、樹
脂膜は凹凸形状となる。よって、請求項12の液晶表示
素子を適切に製造できる。According to the present manufacturing method, when a resin film is formed by applying a resin, the buried portion of the protruding member and the resin in the vicinity thereof are supported by the presence of the protruding member. Part of the resin is not supported. for that reason,
The portion of the resin film supported by the protruding member is thicker than the portion not supported by the protruding member, and as a result, the resin film has an uneven shape. Therefore, the liquid crystal display device according to claim 12 can be appropriately manufactured.
【0031】また、請求項14の製造方法によれば、第
1及び第2の電極基板(10、20)の一方において、
透明基板(11、21)の内表面のうち上記凹凸形状の
凹部もしくは凸部に対応する部位に、当該内表面から突
出する突出部材(111)を形成し、この突出部材を埋
めるように当該内表面に、該突出部材と異なる硬度を有
する平坦化層(112)を形成し、該平坦化層を研磨し
て該突出部材の先端を露出させ、続いて、該平坦化層及
び該突出部材の露出部の上に透明電極(12、22)を
形成した後、第1及び第2の電極基板を重ね合わせるよ
うにしたことを特徴としている。According to the manufacturing method of the fourteenth aspect, in one of the first and second electrode substrates (10, 20),
A protruding member (111) protruding from the inner surface is formed at a portion of the inner surface of the transparent substrate (11, 21) corresponding to the concave or convex portion of the above-mentioned uneven shape, and the inner member is filled so as to fill the protruding member. A flattening layer (112) having a hardness different from that of the protruding member is formed on the surface, and the flattening layer is polished to expose a tip of the protruding member. After the transparent electrodes (12, 22) are formed on the exposed portions, the first and second electrode substrates are overlapped.
【0032】本製造方法によれば、硬度を違えることに
より研磨における削れ度合が異なるため、平坦化層が突
出部材よりも硬い場合には、平坦化層は、突出部材の露
出部に向かって凹部が形成された凹凸形状となり、平坦
化層が突出部材よりも軟らかい場合には、平坦化層は、
突出部材の露出部に向かって凸部が形成された凹凸形状
となる。よって、請求項12の液晶表示素子を適切に製
造できる。According to the present manufacturing method, since the degree of shaving in polishing is different due to the difference in hardness, when the flattening layer is harder than the protruding member, the flattening layer is recessed toward the exposed portion of the protruding member. Is formed, and when the flattening layer is softer than the protruding member, the flattening layer is
The projection has a concavo-convex shape in which a projection is formed toward the exposed portion of the protruding member. Therefore, the liquid crystal display device according to claim 12 can be appropriately manufactured.
【0033】また、請求項15の製造方法によれば、第
1及び第2の電極基板(10、20)の一方において、
透明基板(11、21)の内表面に対して上記凹凸形状
に対応する形状をなす型部材(120)を押し当てるこ
とにより、当該内表面に上記凹凸形状を形成し、続い
て、この凹凸形状が形成された内表面に透明電極(1
2、22)を形成した後、第1及び第2の電極基板を重
ね合わせるようにしたことを特徴としている。それによ
り、請求項12の液晶表示素子を適切に製造できる。According to the manufacturing method of the present invention, in one of the first and second electrode substrates (10, 20),
By pressing a mold member (120) having a shape corresponding to the above-mentioned uneven shape against the inner surface of the transparent substrate (11, 21), the above-mentioned uneven shape is formed on the inner surface. The transparent electrode (1
After the formation of (2, 22), the first and second electrode substrates are overlapped. Thereby, the liquid crystal display device of claim 12 can be appropriately manufactured.
【0034】また、請求項16の製造方法によれば、第
1及び第2の電極基板(10、20)の一方において、
透明基板(11、21)の内表面に、上記凹凸形状にお
ける凸部に対応した形状の透明感光性材料よりなる突起
パターン(130)を、フォトリソグラフ法を用いて形
成し、この突起パターンの上に透明電極(12、22)
を形成した後、第1及び第2の電極基板を重ね合わせる
ようにしたことを特徴としている。それにより、請求項
12の液晶表示素子を適切に製造できる。According to the manufacturing method of the present invention, in one of the first and second electrode substrates (10, 20),
On the inner surface of the transparent substrate (11, 21), a projection pattern (130) made of a transparent photosensitive material having a shape corresponding to the projection in the above-mentioned uneven shape is formed by using a photolithographic method. Transparent electrodes (12, 22)
Is formed, and then the first and second electrode substrates are overlapped. Thereby, the liquid crystal display device of claim 12 can be appropriately manufactured.
【0035】なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述
する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すも
のである。The reference numerals in parentheses of the above means indicate the correspondence with the specific means described in the embodiments described later.
【0036】[0036]
【発明の実施の形態】以下、各実施形態に係る液晶表示
素子は、上記図1に示すものを基本構造としており、隔
壁40や透明電極12、22の構成を変形したものであ
る。そのため、これら各実施形態の液晶表示素子の概略
断面構成は上記図1と同様であり、補足説明を加えるに
とどめ、以下の各実施形態では、各実施形態独自の構成
を中心に図示しながら説明していくこととする。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the liquid crystal display device according to each embodiment has the basic structure shown in FIG. 1 described above, in which the structures of the partition walls 40 and the transparent electrodes 12 and 22 are modified. Therefore, the schematic cross-sectional configuration of the liquid crystal display element of each of the embodiments is the same as that of FIG. 1 described above, and only a supplementary explanation will be added. I will do it.
【0037】(第1実施形態)本実施形態に係る液晶表
示素子は、上記図1に示す様な基本構造を有している。
即ち、本液晶表示素子は、互いに並行に配置された第1
の電極基板10及び第2の電極基板20と、これら第1
及び第2の電極基板10、20の間に設けられたスメク
チック液晶50とを備える。(First Embodiment) The liquid crystal display element according to the present embodiment has a basic structure as shown in FIG.
That is, the present liquid crystal display element includes the first liquid crystal display elements arranged in parallel with each other.
Electrode substrate 10 and second electrode substrate 20,
And a smectic liquid crystal 50 provided between the second electrode substrates 10 and 20.
【0038】第1の電極基板10は、ガラス等の第1の
透明基板11と、この第1の透明基板11の内表面に形
成された複数のストライプ状の第1の透明電極12と、
スメクチック液晶50に対向する第1の配向膜14とを
備えており、第2の電極基板20は、ガラス等の第2の
透明基板21と、この第2の透明基板21の内表面に形
成され第1の透明電極12に交差するように位置する複
数のストライプ状の第2の透明電極22と、スメクチッ
ク液晶50に対向する第2の配向膜24とを備えてい
る。The first electrode substrate 10 includes a first transparent substrate 11 made of glass or the like, a plurality of stripe-shaped first transparent electrodes 12 formed on the inner surface of the first transparent substrate 11,
A first alignment film facing the smectic liquid crystal; and a second electrode substrate formed on a second transparent substrate made of glass or the like and an inner surface of the second transparent substrate. A plurality of stripe-shaped second transparent electrodes 22 are provided so as to cross the first transparent electrode 12, and a second alignment film 24 facing the smectic liquid crystal 50.
【0039】また、各透明電極12、22は、例えばI
TO(Indium Tin Oxide)やIZO
(Indium Zinc Oxide)の導電性透明
酸化物等により形成されており、各絶縁膜13、23は
例えば酸化タンタル(Ta2O3)やSiO2/TiO2等
の透明絶縁物により形成されている。また、両配向膜1
4、24は、ポリイミド等により形成されており、両配
向膜14、24は、例えば第1の透明電極12のストラ
イプ長手方向(図1中の左右方向)に平行にラビング処
理されることで、一軸配向処理されている。ここで、互
いの配向膜14、24におけるラビング方向は、同一方
向に平行(パラレルラビング)でも、反対方向に平行
(アンチパラレルラビング)でもよい。Each of the transparent electrodes 12 and 22 is, for example, I
TO (Indium Tin Oxide) or IZO
(Indium Zinc Oxide), and each of the insulating films 13 and 23 is formed of a transparent insulator such as tantalum oxide (Ta 2 O 3 ) or SiO 2 / TiO 2 . . In addition, both alignment films 1
The alignment films 4 and 24 are formed of polyimide or the like, and the alignment films 14 and 24 are rubbed in parallel to, for example, the longitudinal direction of the stripe of the first transparent electrode 12 (the horizontal direction in FIG. 1). Uniaxially oriented. Here, the rubbing directions of the alignment films 14 and 24 may be parallel in the same direction (parallel rubbing) or parallel in the opposite direction (anti-parallel rubbing).
【0040】また、限定するわけではないが、各部の具
体的寸法の一例を示しておく。各透明電極12、22
は、ITOを用いて150〜450nm(例えば300
nm)の膜厚で、線幅300μm程度、電極間スペース
(後述のスペースS)15μm程度とできる。各絶縁膜
13、23は、酸化タンタルを用いて150〜300n
m(例えば300nm)の膜厚とでき、配向膜14、2
4はポリイミドを用いて膜厚25nm程度とできる。Although not limited, an example of specific dimensions of each part will be described. Each transparent electrode 12, 22
Is 150 to 450 nm (for example, 300 nm) using ITO.
With a film thickness of (nm), the line width can be about 300 μm, and the space between electrodes (space S described later) can be about 15 μm. Each of the insulating films 13 and 23 is made of tantalum oxide for 150 to 300 n.
m (for example, 300 nm).
4 can be made of polyimide to have a film thickness of about 25 nm.
【0041】また、両電極基板10、20を支持しセル
ギャップを規定する隔壁40は、アクリル等の透明な感
光性樹脂(例えばフジハント社製ネガ型感光性アクリル
樹脂等)等を用いて、スピンコートにより一方の電極基
板に塗布されたものをフォトリソグラフ法を用いて所定
形状にパターニングすることにより形成されている。隔
壁40の幅(図1の左右方向の幅)は、15〜60μm
(例えば25μm程度)とできる。The partition walls 40 supporting both the electrode substrates 10 and 20 and defining the cell gap are formed by spin-transfer using a transparent photosensitive resin such as acrylic (for example, a negative photosensitive acrylic resin manufactured by Fuji Hunt) or the like. It is formed by patterning a material applied to one electrode substrate by a coat into a predetermined shape using a photolithographic method. The width of the partition wall 40 (width in the horizontal direction in FIG. 1) is 15 to 60 μm.
(For example, about 25 μm).
【0042】ここで、本実施形態の特徴部分を図2及び
図3に示す。図2及び図3は、上記図1に示す液晶表示
素子における透明電極12、22と隔壁40との配置関
係に着目した図であり、図3は図2(a)中の丸で囲ん
だA1部拡大図である。また、これら図2及び図3にお
いて、(a)は平面図、(b)は(a)中のB矢視図、
(c)は(a)中のC矢視図であり、絶縁膜、配向膜、
液晶は省略してあり、更に、便宜上、隔壁40のみにハ
ッチングを施してある。Here, the characteristic portions of this embodiment are shown in FIGS. 2 and 3 are diagrams focusing on the arrangement relationship between the transparent electrodes 12 and 22 and the partition wall 40 in the liquid crystal display element shown in FIG. 1, and FIG. 3 shows A1 surrounded by a circle in FIG. It is a part enlarged view. 2 and 3, (a) is a plan view, (b) is a view taken in the direction of arrow B in (a),
(C) is a view taken in the direction of arrow C in (a), and shows an insulating film, an alignment film,
The liquid crystal is omitted, and for convenience, only the partition 40 is hatched.
【0043】図2及び図3に示す様に、第1及び第2の
透明電極12、22が交差する部分によって、表示部と
してのマトリクス状の画素60が構成されている。ここ
で、両電極基板10、20間のギャップ(セルギャッ
プ)を規定する隔壁(隔壁部材)40は、その長手方向
(ラビング方向)に略同一の幅であって、第1の透明電
極12において隣接する電極間のスペース(ストライプ
電極のストライプ間隔)S上を斜めに横断するようにジ
グザグ形状に延設されている。As shown in FIGS. 2 and 3, the intersection of the first and second transparent electrodes 12 and 22 constitutes a matrix-shaped pixel 60 as a display unit. Here, the partition (partition member) 40 that defines the gap (cell gap) between the two electrode substrates 10 and 20 has substantially the same width in the longitudinal direction (rubbing direction). It extends in a zigzag shape so as to obliquely cross the space S between adjacent electrodes (stripe interval of the stripe electrode).
【0044】また、本実施形態のような液晶表示素子
は、第1及び第2の電極基板10、20を、隔壁40を
介して加圧しながら重ね合わせることにより、隔壁40
にてこれら両電極基板を支持するようになっている。具
体的には、図4(a)に示す様に、第1の電極基板10
とフォトリソグラフ法を用いて隔壁40を形成した第2
の電極基板20とを対向配置させる。The liquid crystal display device of this embodiment is constructed such that the first and second electrode substrates 10 and 20 are overlapped with each other while being pressed through the partition wall 40, whereby the partition wall 40 is formed.
Support these two electrode substrates. Specifically, as shown in FIG. 4A, the first electrode substrate 10
And the second in which the partition wall 40 is formed by using a photolithographic method.
And the electrode substrate 20 are arranged to face each other.
【0045】そして、図4(b)に示す様に、例えば互
いに平行配置された板状の治具(図示せず)を用いて、
両電極基板10、20を外側から加圧(例えば1×10
5N/m程度)しながら加熱(例えば200℃)し、隔
壁40の高さ方向の両端を各々電極基板の内表面に接着
させる。この後、出来上がった液晶セルに液晶50を封
入して液晶表示素子が完成する。Then, as shown in FIG. 4B, for example, using plate-like jigs (not shown) arranged in parallel with each other,
The two electrode substrates 10 and 20 are pressurized from outside (for example, 1 × 10
While heating (for example, 200 ° C.) while heating (about 5 N / m), both ends in the height direction of the partition 40 are adhered to the inner surface of the electrode substrate. Thereafter, the liquid crystal 50 is sealed in the completed liquid crystal cell to complete a liquid crystal display device.
【0046】ここで、本実施形態の隔壁40によれば、
重ね合わされた電極基板10、20を加圧する際、図4
(b)に示す様に、隔壁40のうち第1の透明電極12
におけるスペースSの両側に位置する部位は、第1の透
明電極12に接しているため、強い加圧を受けて高さ方
向に潰れやすく、当該スペースSに位置する部位は第1
の透明電極12に接していないため、加圧度合が弱く高
さ方向に潰れにくい。Here, according to the partition 40 of the present embodiment,
When pressing the superposed electrode substrates 10 and 20, FIG.
As shown in (b), the first transparent electrode 12 of the partition wall 40 is formed.
Since the portions located on both sides of the space S are in contact with the first transparent electrode 12, they are easily crushed in the height direction under strong pressure, and the portions located in the space S are the first.
Is not in contact with the transparent electrode 12, so that the degree of pressurization is weak and it is hard to collapse in the height direction.
【0047】そのため、上記加圧の終了後は、隔壁40
の高さは、第1の透明電極12におけるスペースSの部
分で高く、当該スペースSの部分から離れるに従って低
くなり、このような隔壁40の高さの変化に伴って、セ
ルギャップも同様に変化した形となる。つまり、図3
(b)に示す様に、ラビング方向において、第1の透明
電極12のスペースSのうち隔壁40が横断する部分を
境界として、セルギャップがラビング方向における一方
向へ向かって徐々に狭くなっている第1のギャップ領域
G1と、セルギャップが第1のギャップ領域G1とは反
対の方向へ徐々に狭くなっている第2のギャップ領域G
2とが形成される。Therefore, after completion of the pressurization, the partition 40
Is higher at the space S in the first transparent electrode 12 and becomes lower as the distance from the space S increases, and the cell gap also changes with the change in the height of the partition wall 40. It will be a shape. That is, FIG.
As shown in (b), in the rubbing direction, the cell gap gradually narrows in one direction in the rubbing direction, with the boundary of the space S of the first transparent electrode 12 traversed by the partition wall 40 as a boundary. A first gap region G1 and a second gap region G in which the cell gap is gradually narrowed in a direction opposite to the first gap region G1.
2 are formed.
【0048】例えば、図3に示す各セルギャップP1〜
P3の寸法は、画素60の中央部のセルギャップP2が
1.5μm、画素60の両端部のセルギャップP1、P
3が共に1.45〜1.48μmとなるようにする。こ
のとき、セルギャップP2からセルギャップP1、P3
へ向かって電極基板10、20の内表面が傾斜している
が、その傾斜角は0.005〜0.01°程度と緩やか
である。For example, the cell gaps P1 to P1 shown in FIG.
The dimension of P3 is such that the cell gap P2 at the center of the pixel 60 is 1.5 μm, and the cell gaps P1 and P2 at both ends of the pixel 60 are
3 are both 1.45 to 1.48 μm. At this time, from the cell gap P2 to the cell gaps P1, P3
The inner surfaces of the electrode substrates 10 and 20 are inclined toward the center, and the inclination angle is gentle as about 0.005 to 0.01 °.
【0049】このような、セルギャップが緩やかに傾斜
した構造(傾斜ギャップ構造)を有する第1及び第2の
ギャップ領域G1及びG2においては、スメクチック液
晶50が、その体積エネルギーを安定化させるべく最適
な層形態を出現すると考えられ、実際には、セルギャッ
プが狭くなる方向に向かって液晶のシェブロン構造の屈
曲方向が実質的に同一方向に整列する。この様子を模式
的に示したのが図5である。図5に示す様に、各々のギ
ャップ領域G1及びG2の傾斜に対応して、互いに反対
の屈曲方向となってシェブロン構造が形成される。In the first and second gap regions G1 and G2 having such a structure in which the cell gap is gently inclined (inclined gap structure), the smectic liquid crystal 50 is optimally formed to stabilize its volume energy. In actuality, the bending direction of the liquid crystal chevron structure is aligned in substantially the same direction toward the direction in which the cell gap becomes narrower. FIG. 5 schematically shows this state. As shown in FIG. 5, the chevron structure is formed with bending directions opposite to each other corresponding to the inclination of each of the gap regions G1 and G2.
【0050】ここで、スメクチック液晶50のうち、第
1のギャップ領域G1にてシェブロン構造の屈曲方向が
略方向に整列している領域を第1の整列領域51、第2
のギャップ領域G2にてシェブロン構造の屈曲方向が第
1の整列領域51と異なる方向に整列している領域を第
2の整列領域52とする。これらスメクチック液晶50
における両整列領域51、52は、互いに異なる光軸を
持った領域として形成されている。Here, in the smectic liquid crystal 50, the region where the bending direction of the chevron structure is substantially aligned in the first gap region G1 is referred to as the first alignment region 51 and the second alignment region 51.
In the gap region G2, the region where the bending direction of the chevron structure is aligned in a different direction from the first alignment region 51 is referred to as a second alignment region 52. These smectic liquid crystals 50
Are formed as regions having optical axes different from each other.
【0051】そして、図2に示す様に、ジグザグ形状に
延設された隔壁40は、第1の透明電極12における隣
接する電極間のスペースS上を、ラビング方向において
1画素ピッチの間隔で周期的に横断している。それによ
り、上記両ギャップ領域G1及びG2の境界も、ラビン
グ方向において1画素ピッチの間隔で周期的に存在す
る。よって、スメクチック液晶50における両整列領域
51、52は、図6(a)に示す様に、第1の透明電極
12の長手方向(ラビング方向)において1画素ピッチ
にて交互に周期的に平面配置された形となる。As shown in FIG. 2, the partition walls 40 extending in a zigzag shape form a periodic pattern on the space S between adjacent electrodes in the first transparent electrode 12 at intervals of one pixel pitch in the rubbing direction. Traversing. Thereby, the boundaries between the gap regions G1 and G2 also periodically exist at intervals of one pixel pitch in the rubbing direction. Accordingly, both alignment regions 51 and 52 in the smectic liquid crystal 50 are alternately and periodically arranged in a plane at one pixel pitch in the longitudinal direction (rubbing direction) of the first transparent electrode 12 as shown in FIG. It becomes the shape that was done.
【0052】ところで、本実施形態によれば、第1及び
第2の整列領域51、52を1画素ピッチにて交互に周
期的に配置しているから、表示の視野角依存性を極力低
減することができる。また、第1及び第2の整列領域5
1、52の各々においてシェブロン構造の屈曲方向を実
質的に同一方向に整列させているから、従来のように当
該屈曲方向がランダムな場合に比べて、配向欠陥が少な
くコントラストが良好であり、且つ、各整列領域51、
52における液晶分子の配向の熱的安定性を向上させる
ことができる。According to the present embodiment, the first and second alignment regions 51 and 52 are alternately and periodically arranged at one pixel pitch, so that the viewing angle dependency of the display is reduced as much as possible. be able to. In addition, the first and second alignment regions 5
Since the bending directions of the chevron structure are aligned in substantially the same direction in each of the first and second embodiments, the alignment defects are less and the contrast is better as compared with the conventional case where the bending directions are random, and , Each alignment region 51,
52, the thermal stability of the alignment of the liquid crystal molecules can be improved.
【0053】ここで、上記の図示例では、第1及び第2
の整列領域51、52を1画素ピッチにて交互に周期的
に配置している。この周期は特に限定されないが、画素
60を単位としてn画素ピッチ(n=1、2、3、…、
つまりnは正の整数)の周期とすることができる。図6
(b)にn=2即ち2画素ピッチの場合の両整列領域5
1、52の平面配置構成を示す。これは、隔壁40にお
いて、第1の透明電極12における隣接する電極間のス
ペースS上を、ラビング方向においてn画素ピッチの間
隔で隔壁40が周期的に横断するように、形状を決めれ
ばよい。Here, in the illustrated example, the first and second
Are periodically and alternately arranged at one pixel pitch. Although this period is not particularly limited, the n pixel pitch (n = 1, 2, 3,...,
That is, n can be a period of a positive integer. FIG.
(B) shows both alignment regions 5 in the case of n = 2, that is, two pixel pitches.
1 shows a plan arrangement configuration of 52. The shape of the partition 40 may be determined so that the partition 40 periodically crosses the space S between adjacent electrodes in the first transparent electrode 12 at intervals of n pixel pitches in the rubbing direction.
【0054】なお、nが大きいほど隔壁40の位置合わ
せがしやすいが、あまり大きいと視野角依存性による縞
模様が発生するため、例えば、対角6〜17インチ程度
のモニター用の液晶表示素子として用いる場合には、n
=1〜3程度が好ましい。また、第1及び第2の整列領
域51、52を互いに略同一の面積とすれば、異なる2
つの光軸領域が略均等面積に存在することとなるため、
視野角依存をより低減することができ、好ましい。It should be noted that the larger the value of n, the easier the alignment of the partition wall 40 is. However, if the value of n is too large, a stripe pattern due to the viewing angle dependence is generated. When used as
= About 1-3 is preferable. Further, if the first and second alignment regions 51 and 52 have substantially the same area as each other, a different 2
Since two optical axis regions exist in a substantially uniform area,
Viewing angle dependence can be further reduced, which is preferable.
【0055】このように、本実施形態によれば、表示の
視野角依存性が少なく液晶の配向欠陥が少ない液晶表示
素子を提供することができる。なお、図示例とは反対
に、隔壁40が第2の透明電極22において隣接する電
極間のスペースS上を斜めに横断するようにジグザグ形
状に延設されていても良い。この場合、隔壁40の形成
は、第1の電極基板10側に行い、また、ラビング方向
は第2の透明電極22の長手方向と略平行にする。As described above, according to the present embodiment, it is possible to provide a liquid crystal display element having a small viewing angle dependence of display and a small number of liquid crystal alignment defects. Note that, contrary to the illustrated example, the partition wall 40 may extend in a zigzag shape so as to obliquely cross the space S between the adjacent electrodes in the second transparent electrode 22. In this case, the partition 40 is formed on the first electrode substrate 10 side, and the rubbing direction is made substantially parallel to the longitudinal direction of the second transparent electrode 22.
【0056】また、図7に本実施形態の変形例として、
隔壁40の種々の形状を示す。図7(a)及び(c)
は、第1及び第2の整列領域51、52を2画素ピッチ
にて交互に周期的に配置した場合、図7(b)は、第1
及び第2の整列領域51、52を1画素ピッチにて交互
に周期的に配置した場合を示す。これら変形例の場合
も、上記図2に示すような隔壁40形状の場合と同様の
効果を得ることができる。FIG. 7 shows a modification of this embodiment.
Various shapes of the partition wall 40 are shown. FIG. 7 (a) and (c)
FIG. 7B shows a case where the first and second alignment regions 51 and 52 are alternately and periodically arranged at a two-pixel pitch.
And a case where second alignment regions 51 and 52 are alternately and periodically arranged at a pixel pitch. Also in these modified examples, the same effect as in the case of the shape of the partition wall 40 as shown in FIG. 2 can be obtained.
【0057】(第2実施形態)本第2実施形態は、上記
第1実施形態と同様に、セルギャップ方向における隔壁
40の高さを周期的に変化させることにより、第1及び
第2のギャップ領域G1、G2を形成するものである
が、隔壁40の幅を部分的に変えることで、隔壁40の
高さを変化させるようにしたことが上記第1実施形態と
は異なる。以下、主として異なるところについて説明す
る。(Second Embodiment) In the second embodiment, as in the first embodiment, the height of the partition wall 40 in the cell gap direction is periodically changed so that the first and second gaps are formed. Although the regions G1 and G2 are formed, the difference from the first embodiment is that the height of the partition 40 is changed by partially changing the width of the partition 40. Hereinafter, different points will be mainly described.
【0058】本実施形態の特徴部分を図8及び図9に示
す。図8及び図9は、上記図1に示す液晶表示素子にお
ける透明電極12、22と隔壁40との配置関係に着目
した図であり、図9は図8(a)中の丸で囲んだA2部
拡大図である。また、これら図8及び図9において、
(a)は平面図、(b)は(a)中のB矢視図、(c)
は(a)中のC矢視図であり、絶縁膜、配向膜、液晶は
省略してあり、更に、便宜上、隔壁40のみにハッチン
グを施してある。FIGS. 8 and 9 show the features of this embodiment. 8 and 9 are diagrams focusing on the arrangement relationship between the transparent electrodes 12 and 22 and the partition wall 40 in the liquid crystal display element shown in FIG. 1, and FIG. 9 shows A2 surrounded by a circle in FIG. It is a part enlarged view. 8 and 9,
(A) is a plan view, (b) is a view on arrow B in (a), (c)
FIG. 3 is a view taken in the direction of arrow C in FIG. 3A, in which an insulating film, an alignment film, and a liquid crystal are omitted, and only the partition wall 40 is hatched for convenience.
【0059】図8及び図9に示す様に、本実施形態の隔
壁40においては、その長手方向(ラビング方向)にお
いて線幅の広い部分と狭い部分とが交互に周期的に形成
されており、最大線幅の幅広部41と最小線幅の幅狭部
42との間の線幅は緩やかに連続的に変化している。こ
のような幅を変えた隔壁40も、上記第1実施形態と同
様のフォトリソグラフ法を用いて製造できる。As shown in FIG. 8 and FIG. 9, in the partition wall 40 of the present embodiment, wide portions and narrow portions are alternately and periodically formed in the longitudinal direction (rubbing direction). The line width between the wide portion 41 having the maximum line width and the narrow portion 42 having the minimum line width changes gradually and continuously. The partition wall 40 having such a changed width can also be manufactured by using the same photolithographic method as in the first embodiment.
【0060】そして、重ね合わされた電極基板10、2
0を加圧する際、高さ方向(セルギャップ方向)におい
て、幅狭部42で潰れやすく、幅広部41で潰れにくく
なるため、これら幅広部41及び幅狭部42を境界とし
て第1及び第2のギャップ領域G1、G2が形成でき
る。なお、図9に示す例では、幅狭部42を境界として
画素60の中央部のセルギャップP2が狭く、画素60
の両端部のセルギャップP1、P3が広くなっている。
限定しないが、隔壁40における幅広部41は例えば2
5μm程度、幅狭部42は例えば10μm程度の幅とで
きる。Then, the superposed electrode substrates 10, 2
When 0 is pressed, in the height direction (cell gap direction), it is easy to be crushed in the narrow portion 42 and hard to be crushed in the wide portion 41. Therefore, the first and second portions are bounded by the wide portion 41 and the narrow portion 42. Gap regions G1 and G2 can be formed. In the example shown in FIG. 9, the cell gap P2 at the center of the pixel 60 is narrow with the narrow portion 42 as a boundary, and the pixel 60
Are widened at both ends.
Although not limited, the wide portion 41 of the partition 40 is, for example, 2
The width of the narrow portion 42 can be, for example, about 10 μm.
【0061】そして、隔壁40において、幅広部41及
び幅狭部42をn画素ピッチで形成すれば、上記第1実
施形態と同様に、両ギャップ領域G1、G2即ちスメク
チック液晶50の両整列領域51、52をn画素ピッチ
にて交互に周期的に配置することができ、上記第1実施
形態と同様、表示の視野角依存性が少なく液晶の配向欠
陥が少ない液晶表示素子を提供することができる。な
お、図8及び図9に示す例では、1画素ピッチの場合を
示している。If the wide portions 41 and the narrow portions 42 are formed at the n pixel pitch in the partition 40, both the gap regions G1 and G2, that is, both the alignment regions 51 of the smectic liquid crystal 50, as in the first embodiment. , 52 can be alternately and periodically arranged at an n-pixel pitch, and a liquid crystal display element having a small viewing angle dependence of display and few alignment defects in liquid crystal can be provided as in the first embodiment. . 8 and 9 show a case of one pixel pitch.
【0062】また、本実施形態によれば、隔壁40の形
成位置は、図10に示す変形例の様に、第1の透明電極
12における電極間のスペースS上でなくとも電極上で
あっても良く、どちらでも良い。図10(a)は本実施
形態の隔壁40を第1の透明電極12における電極上に
配置し両整列領域51、52の周期を1画素ピッチとし
たもの、図10(b)及び(c)は両整列領域51、5
2の周期を2画素ピッチとしたもので、(b)は隔壁4
0をスペースS上に配置したもの、(c)は隔壁40を
電極上に配置したものである。また、隔壁40の長手方
向とラビング方向とが略平行であれば、本実施形態の隔
壁40はどちらの電極基板10、20に形成しても良
い。Further, according to the present embodiment, the partition 40 is formed not on the space S between the electrodes in the first transparent electrode 12 but on the electrode as in the modification shown in FIG. Or both. FIG. 10A shows a case where the partition 40 of the present embodiment is arranged on the electrode of the first transparent electrode 12 and the period of both alignment regions 51 and 52 is one pixel pitch, and FIGS. 10B and 10C. Are both alignment areas 51, 5
2 is a two-pixel pitch, and FIG.
0 is arranged on the space S, and (c) is an arrangement of the partition 40 on the electrode. If the longitudinal direction of the partition wall 40 is substantially parallel to the rubbing direction, the partition wall 40 of the present embodiment may be formed on either of the electrode substrates 10 and 20.
【0063】(第3実施形態)本第3実施形態は、上記
第1及び第2実施形態と同様に、セルギャップ方向にお
ける隔壁40の高さを周期的に変化させることにより、
第1及び第2のギャップ領域G1、G2を形成するもの
であるが、透明電極12、22及び隔壁40の形状を変
えることで、隔壁40の高さを変化させるようにしたと
ころが上記第1及び第2実施形態とは異なる。以下、主
として異なるところについて説明する。(Third Embodiment) In the third embodiment, as in the first and second embodiments, the height of the partition 40 in the cell gap direction is periodically changed,
The first and second gap regions G1 and G2 are formed. The first and second gap regions G1 and G2 are formed by changing the shapes of the transparent electrodes 12 and 22 and the partition 40 to change the height of the partition 40. This is different from the second embodiment. Hereinafter, different points will be mainly described.
【0064】本実施形態の特徴部分を図11及び図12
に示す。図11及び図12は、上記図1に示す液晶表示
素子における透明電極12、22と隔壁40との配置関
係に着目した図であり、図12は図11(a)中の丸で
囲んだA3部拡大図である。また、これら図11及び図
12において、(a)は平面図、(b)は(a)中のB
矢視図、(c)は(a)中のC矢視図であり、絶縁膜、
配向膜、液晶は省略してあり、更に、便宜上、隔壁40
のみにハッチングを施してある。FIGS. 11 and 12 show the features of this embodiment.
Shown in FIGS. 11 and 12 are diagrams focusing on the arrangement relationship between the transparent electrodes 12, 22 and the partition wall 40 in the liquid crystal display element shown in FIG. 1, and FIG. 12 shows A3 surrounded by a circle in FIG. It is a part enlarged view. 11 and 12, (a) is a plan view, and (b) is B in (a).
FIG. 3C is a view taken in the direction of the arrow C in FIG.
The alignment film and the liquid crystal are omitted, and for convenience, the partition 40
Only the hatching is applied.
【0065】図11及び図12に示す様に、本実施形態
の第1の透明電極12における隣接電極間のスペースS
においては、その長手方向(ラビング方向)において幅
の広い部分と狭い部分とが交互に形成されており、最大
幅の幅広部S1と最小幅の幅狭部S2の間の幅は緩やか
に連続的に変化している。このようなスペースの幅を変
えた第1の透明電極12は、ITO等をパターニングす
るフォトリソグラフ工程にてマスク形状を対応させるこ
とで形成可能である。As shown in FIGS. 11 and 12, the space S between adjacent electrodes in the first transparent electrode 12 of the present embodiment is shown.
In this case, wide portions and narrow portions are alternately formed in the longitudinal direction (rubbing direction), and the width between the widest portion S1 having the maximum width and the narrow portion S2 having the minimum width is gradually continuous. Has changed. The first transparent electrode 12 in which the width of such a space is changed can be formed by matching a mask shape in a photolithographic process for patterning ITO or the like.
【0066】ここで、第1の透明電極12におけるスペ
ースSの幅広部S1と幅狭部S2とは、当該スペースS
の長手方向(ラビング方向)において、第1及び第2の
ギャップ領域G1、G2に対応するn画素ピッチ(図示
例では1画素ピッチ)にて、交互に周期的に形成されて
いる。そして、隔壁40は長手方向に、当該スペースS
における幅狭部S2よりも広く且つ略同一の幅を有して
おり、隔壁40は当該スペースS上に延設されている。Here, the wide portion S1 and the narrow portion S2 of the space S in the first transparent electrode 12 are defined by the space S
In the longitudinal direction (rubbing direction), the pixel gaps are alternately and periodically formed at an n pixel pitch (one pixel pitch in the illustrated example) corresponding to the first and second gap regions G1 and G2. Then, the partition wall 40 extends in the longitudinal direction in the space S
Is wider than the narrow portion S2 and has substantially the same width, and the partition wall 40 extends over the space S.
【0067】本実施形態によれば、隔壁40が第1の透
明電極12に接する面積は、当該スペースSの幅狭部S
2では大きく、当該スペースSの幅広部S1にかけて小
さくなる。そのため、上記第1実施形態と同様の理由か
ら、電極基板10、20の加圧時に、高さ方向における
隔壁40の潰れ度合に差が生じるから、最終的に、当該
スペースSの幅広部S1及び幅狭部S2を境界として第
1及び第2のギャップ領域G1、G2が、周期的に形成
できる。According to this embodiment, the area where the partition wall 40 is in contact with the first transparent electrode 12 is the narrow portion S of the space S.
2 is large and becomes small toward the wide portion S1 of the space S. For this reason, for the same reason as in the first embodiment, when the electrode substrates 10 and 20 are pressurized, a difference occurs in the degree of crushing of the partition wall 40 in the height direction. The first and second gap regions G1 and G2 can be periodically formed with the narrow portion S2 as a boundary.
【0068】なお、図12に示す例では、幅狭部S2を
境界として画素60の中央部のセルギャップP2が狭
く、画素60の両端部のセルギャップP1、P3が広く
なっている。限定しないが、スペースSにおける幅広部
S1は例えば25μm程度、幅狭部S2は例えば10μ
m程度の幅とできる。In the example shown in FIG. 12, the cell gap P2 at the center of the pixel 60 is narrow with the narrow portion S2 as a boundary, and the cell gaps P1 and P3 at both ends of the pixel 60 are wide. Although not limited, the wide portion S1 in the space S is, for example, about 25 μm, and the narrow portion S2 is, for example, 10 μm.
m width.
【0069】そして、本実施形態においても、上記実施
形態と同様、スメクチック液晶50の両整列領域51、
52をn画素ピッチにて交互に周期的に配置することが
でき、表示の視野角依存性が少なく液晶の配向欠陥が少
ない液晶表示素子を提供することができる。なお、隔壁
40の長手方向とラビング方向とが略平行であれば、第
2の電極基板20において、第2の透明電極22におけ
るスペースSに、上記同様の幅広部S1及び幅狭部S2
を形成し、そのスペースS上に隔壁40を配置するよう
にしても良い。In the present embodiment, as in the above embodiment, both alignment regions 51 of the smectic liquid crystal 50,
52 can be alternately and periodically arranged at an n pixel pitch, so that a liquid crystal display element having less viewing angle dependence of display and less liquid crystal alignment defects can be provided. If the longitudinal direction of the partition wall 40 and the rubbing direction are substantially parallel, the wide area S1 and the narrow area S2 in the space S of the second transparent electrode 22 on the second electrode substrate 20 are similar to the above.
May be formed, and the partition wall 40 may be arranged on the space S.
【0070】(第4実施形態)本第4実施形態は、上記
第1〜第3実施形態と同様に、セルギャップ方向におけ
る隔壁40の高さを周期的に変化させることにより、第
1及び第2のギャップ領域G1、G2を形成するもので
あるが、隔壁40をその長手方向に幅(線幅)の異なる
2種類のものから構成し、これら2種類の隔壁40を第
1及び第2のギャップ領域G1、G2に対応して周期的
に配置することにより、隔壁40の高さを変化させるよ
うにしたところが上記第1〜第3実施形態とは異なる。
以下、主として異なるところについて説明する。(Fourth Embodiment) In the fourth embodiment, as in the first to third embodiments, the height of the partition wall 40 in the cell gap direction is periodically changed so that the first and the fourth embodiments are changed. In this case, the partition walls 40 are formed of two types having different widths (line widths) in the longitudinal direction, and these two types of partition walls 40 are formed of the first and second gap regions G1 and G2. The difference from the first to third embodiments is that the height of the partition wall 40 is changed by periodically arranging the gap regions G1 and G2.
Hereinafter, different points will be mainly described.
【0071】本実施形態の特徴部分を図13に示す。図
13は、上記図1に示す液晶表示素子における透明電極
12、22と隔壁40との配置関係に着目した概略断面
図である。これら図13において、絶縁膜、配向膜、液
晶は省略してあり、便宜上、隔壁40のみにハッチング
を施してある。本実施形態の隔壁40は、線幅の太い隔
壁43とそれよりも線幅の細い隔壁44とから構成され
ている。FIG. 13 shows a characteristic portion of this embodiment. FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display device shown in FIG. In FIG. 13, the insulating film, the alignment film, and the liquid crystal are omitted, and only the partition wall 40 is hatched for convenience. The partition wall 40 of the present embodiment includes a partition wall 43 having a large line width and a partition wall 44 having a smaller line width.
【0072】そして、本実施形態では、どちらか一方の
電極基板10、20の内表面において、透明電極12、
22上もしくは透明電極のスペースS上に、線幅の異な
る隔壁43、44をn画素ピッチ(nは正の整数、好ま
しくはnは1〜3)にて交互に周期的に形成する。図1
3(a)に示す例では、第2の電極基板20側に隔壁4
3、44を形成している。これら隔壁43、44もフォ
トマスクを用いたフォトリソグラフ法により形成でき
る。In the present embodiment, the transparent electrode 12 and the transparent electrode 12 are provided on the inner surface of one of the electrode substrates 10 and 20.
Partitions 43 and 44 having different line widths are alternately and periodically formed at a pixel pitch (n is a positive integer, preferably n is 1 to 3) on the space 22 or the space S of the transparent electrode. FIG.
In the example shown in FIG. 3A, the partition wall 4 is provided on the second electrode substrate 20 side.
3, 44 are formed. These partition walls 43 and 44 can also be formed by a photolithographic method using a photomask.
【0073】それにより、幅の広い隔壁43と幅の狭い
隔壁44とで、基板10、20の加圧時における変形に
差が生じ(幅の狭い方が潰れが大)、図13(b)に示
す様に、2種類の各隔壁43、44を境界として第1及
び第2のギャップ領域G1、G2が形成できる。よっ
て、表示の視野角依存性が少なく液晶の配向欠陥が少な
い液晶表示素子を提供することができる。ここで、例え
ば、線幅の広い隔壁43としては例えば線幅25μm、
線幅の狭い隔壁44としては例えば線幅10μmとでき
る。なお、これら隔壁43、44は第1の電極基板10
側に形成してもよいが、ラビング処理の方向は隔壁40
(43、44)の長手方向に垂直とすることが必要であ
る。As a result, there is a difference in deformation between the wide partition 43 and the narrow partition 44 when the substrates 10 and 20 are pressurized (the narrower the flatter, the larger the collapse), and FIG. As shown in (1), the first and second gap regions G1 and G2 can be formed with the two types of partitions 43 and 44 as boundaries. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display element in which the viewing angle dependence of display is small and the alignment defect of liquid crystal is small. Here, for example, as the partition 43 having a large line width, for example, a line width of 25 μm,
The partition 44 having a small line width can be, for example, 10 μm in line width. The partition walls 43 and 44 are provided on the first electrode substrate 10.
Side, but the rubbing direction is
It is necessary to make it perpendicular to the longitudinal direction of (43, 44).
【0074】(第5実施形態)本第5実施形態は、上記
第1〜第4実施形態と同様に、セルギャップ方向におけ
る隔壁40の高さを周期的に変化させることにより、第
1及び第2のギャップ領域G1、G2を形成するもので
あるが、隔壁40をセルギャップ方向における高さ(膜
厚)の異なる2種類のものから構成し、これら2種類の
隔壁40を第1及び第2のギャップ領域G1、G2に対
応して周期的に配置することにより、隔壁40の高さを
変化させるようにしたところが上記第1〜第4実施形態
とは異なる。以下、主として異なるところについて説明
する。(Fifth Embodiment) In the fifth embodiment, as in the first to fourth embodiments, the height of the partition wall 40 in the cell gap direction is periodically changed so that the first and the fourth embodiments are changed. In this case, two gap regions G1 and G2 are formed. The partition walls 40 are formed of two types having different heights (film thicknesses) in the cell gap direction, and these two types of partition walls 40 are formed of the first and second partitions. This is different from the above-described first to fourth embodiments in that the height of the partition wall 40 is changed by periodically arranging the gap regions G1 and G2. Hereinafter, different points will be mainly described.
【0075】本実施形態の特徴部分を図14に示す。図
14は、上記図1に示す液晶表示素子における透明電極
12、22と隔壁40との配置関係に着目した概略断面
図である。これら図14において、絶縁膜、配向膜、液
晶は省略してあり、便宜上、隔壁40のみにハッチング
を施してある。本実施形態の隔壁40は、膜厚の厚い隔
壁45とそれよりも膜厚の薄い隔壁46とから構成され
ている。FIG. 14 shows a characteristic portion of this embodiment. FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display element shown in FIG. In FIG. 14, the insulating film, the alignment film, and the liquid crystal are omitted, and only the partition wall 40 is hatched for convenience. The partition wall 40 of the present embodiment includes a partition wall 45 having a large thickness and a partition wall 46 having a smaller thickness.
【0076】そして、本実施形態では、どちらか一方若
しくは双方の電極基板10、20の内表面において、透
明電極12、22上もしくは透明電極のスペースS上
に、膜厚の異なる隔壁45、46をn画素ピッチ(nは
正の整数、好ましくはnは1〜3)にて交互に周期的に
形成する。これら両隔壁もフォトリソグラフ法、即ち、
スピンコート等にて均一に塗布し、プリベーク、露光、
現像という通常のフォトリソ工程により形成できる。In the present embodiment, the partition walls 45 and 46 having different thicknesses are formed on the transparent electrodes 12 and 22 or the space S of the transparent electrodes on the inner surface of one or both of the electrode substrates 10 and 20. They are alternately and periodically formed at an n pixel pitch (n is a positive integer, preferably n is 1 to 3). Both of these partitions are also photolithographic, ie,
Apply uniformly by spin coating, etc., pre-bake, expose,
It can be formed by a normal photolithography process called development.
【0077】図14(a)に示す例では、第2の電極基
板20側に両隔壁45、46を形成している。この場
合、まず、第2の電極基板20の内表面に膜厚の薄い隔
壁46を形成後、再度、第2の電極基板20の内表面上
に膜厚の厚い隔壁45を形成する。一方、図14(b)
に示す例では、第1の電極基板10側に膜厚の薄い隔壁
46形成し、第2の電極基板2側に膜厚の厚い隔壁45
を形成する。なお、ラビング処理の方向は隔壁40(4
5、46)の長手方向に垂直とすることが必要である。In the example shown in FIG. 14A, both partition walls 45 and 46 are formed on the second electrode substrate 20 side. In this case, first, a thin partition wall 46 is formed on the inner surface of the second electrode substrate 20, and then a thick partition wall 45 is formed on the inner surface of the second electrode substrate 20 again. On the other hand, FIG.
In the example shown in FIG. 5, a thin partition wall 46 is formed on the first electrode substrate 10 side, and a thick partition wall 45 is formed on the second electrode substrate 2 side.
To form The direction of the rubbing treatment is the same as that of the partition 40 (4
5, 46) must be perpendicular to the longitudinal direction.
【0078】それにより、図14(c)に示す様に、隔
壁45、46の高さ(膜厚)の相違に伴って、各々の隔
壁45、46を境界として第1及び第2のギャップ領域
G1、G2が形成できる。よって、表示の視野角依存性
が少なく液晶の配向欠陥が少ない液晶表示素子を提供す
ることができる。ここで、例えば、膜厚の厚い隔壁45
としては例えば膜厚1、5μm程度、膜厚の薄い隔壁4
6としては例えば膜厚1.48μm以下程度とできる。As a result, as shown in FIG. 14C, the first and second gap regions are separated by the partition walls 45 and 46 in accordance with the difference in height (film thickness) of the partition walls 45 and 46. G1 and G2 can be formed. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display element in which the viewing angle dependence of display is small and the alignment defect of liquid crystal is small. Here, for example, a thick partition wall 45 is used.
For example, the partition wall 4 having a film thickness of about 1,5 μm and a thin film thickness
The thickness 6 can be, for example, about 1.48 μm or less.
【0079】(第6実施形態)本第6実施形態は、上記
第1〜第5実施形態と同様に、セルギャップ方向におけ
る隔壁40の高さを周期的に変化させることにより、第
1及び第2のギャップ領域G1、G2を形成するもので
あるが、隔壁40を、透明電極12、22に対して配置
位置が異なる2種類のものより構成し、これら2種類の
隔壁40を第1及び第2のギャップ領域G1、G2に対
応して周期的に配置することにより、隔壁40の高さを
変化させるようにしたところが上記第1〜第5実施形態
とは異なる。以下、主として異なるところについて説明
する。(Sixth Embodiment) In the sixth embodiment, as in the first to fifth embodiments, the height of the partition wall 40 in the cell gap direction is periodically changed to thereby provide the first and second embodiments. The two gap regions G1 and G2 are formed. The partition 40 is formed of two types having different arrangement positions with respect to the transparent electrodes 12 and 22, and the two types of the partition 40 are formed by the first and second partitions. The second embodiment is different from the first to fifth embodiments in that the height of the partition 40 is changed by periodically arranging the gap regions corresponding to the two gap regions G1 and G2. Hereinafter, different points will be mainly described.
【0080】本実施形態の特徴部分を図15に示す。図
15は、上記図1に示す液晶表示素子における透明電極
12、22と隔壁40との配置関係に着目した概略断面
図である。これら図15において、絶縁膜、配向膜、液
晶は省略してあり、便宜上、隔壁40のみにハッチング
を施してある。FIG. 15 shows a characteristic portion of this embodiment. FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display device shown in FIG. In FIG. 15, the insulating film, the alignment film, and the liquid crystal are omitted, and only the partition wall 40 is hatched for convenience.
【0081】本実施形態では、隔壁40を、第1及び第
2の透明電極12、22のどちらか一方における電極上
に延設したものと、隣接する電極間のスペースS上に延
設したものとから構成し、これら2種類の隔壁を(n−
1/2)画素ピッチ(nは性の整数)にて周期的に配置
したことを特徴としている。図15に示す例では、第2
の電極基板20の内表面に形成された隔壁40は、対向
する第1の透明電極12に沿って配置された隔壁47
と、対向する第1の透明電極12のスペースSに対応す
るように配置された隔壁48とから構成されており、両
隔壁47、48は3/2画素ピッチ(n=2)にて交互
に周期的に配置されている。In the present embodiment, the partition wall 40 extends on one of the first and second transparent electrodes 12 and 22 and the partition wall 40 extends on the space S between adjacent electrodes. And these two types of partition walls are (n-
(1/2) pixel pitch (n is an integer of sex). In the example shown in FIG.
The partition wall 40 formed on the inner surface of the electrode substrate 20 of the first embodiment has a partition wall 47 arranged along the opposing first transparent electrode 12.
And the partition walls 48 arranged so as to correspond to the space S of the opposing first transparent electrode 12, and the partition walls 47 and 48 are alternately arranged at a 3/2 pixel pitch (n = 2). They are arranged periodically.
【0082】これら隔壁47、48は、図15(a)に
示す様に、第2の電極基板20の内表面の所定位置に、
フォトリソグラフ法にて形成され、両基板10、20の
重ね合わせ、加圧加熱により、図15(b)に示す状態
となる。つまり、電極基板10、20の加圧時において
これら2種類の隔壁47、48の変形に差が生じ、最終
的に、各隔壁47、48を境界として第1及び第2のギ
ャップ領域G1、G2が形成できる。よって、表示の視
野角依存性が少なく液晶の配向欠陥が少ない液晶表示素
子を提供することができる。なお、ラビング処理の方向
は隔壁40(47、48)の長手方向に垂直である。As shown in FIG. 15A, these partition walls 47 and 48 are located at predetermined positions on the inner surface of the second electrode substrate 20.
It is formed by a photolithographic method, and the two substrates 10 and 20 are superposed and heated under pressure to obtain a state shown in FIG. That is, when the electrode substrates 10 and 20 are pressurized, there is a difference between the deformations of the two types of partitions 47 and 48, and finally, the first and second gap regions G1 and G2 are separated by the partitions 47 and 48 as boundaries. Can be formed. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display element in which the viewing angle dependence of display is small and the alignment defect of liquid crystal is small. The direction of the rubbing process is perpendicular to the longitudinal direction of the partition 40 (47, 48).
【0083】(第7実施形態)本実施形態は上記第1〜
第6実施形態とは異なり、第1および第2の電極基板1
0、20のどちらか一方の内表面を、緩やかな傾斜構造
を有する周期的な凹凸形状とすることにより、この凹凸
形状に対応して第1の及び第2のギャップ領域G1、G
2を形成するようにしたものである。即ち、セルギャッ
プは、当該凹凸形状の凸部相当部位にて狭く、凹部相当
部位にて広く、両部の間は緩やかな傾斜構造となるか
ら、上記第1の及び第2のギャップ領域G1、G2が形
成できる。(Seventh Embodiment) This embodiment relates to the first to seventh embodiments.
Unlike the sixth embodiment, the first and second electrode substrates 1
By forming one of the inner surfaces 0 and 20 into a periodic uneven shape having a gentle slope structure, the first and second gap regions G1 and G corresponding to the uneven shape are formed.
2 is formed. In other words, the cell gap is narrow at the portion corresponding to the convex portion of the uneven shape, wide at the portion corresponding to the concave portion, and has a gentle slope structure between the two portions, so that the first and second gap regions G1, G2, G2 can be formed.
【0084】本実施形態に係る液晶表示素子の製造方法
を図16の概略断面図にて工程順に示す。まず、図16
(a)に示す様に、第1及び第2の透明基板11、21
の一方(図示例では第2の透明基板21)において、そ
の内表面上に感光性レジスト100を塗布する。次に、
図16(b)に示す様に、フォトリソ工程により、上記
凹凸形状の凸部に対応する部位に、透明基板21の内表
面から突出するn画素ピッチのストライプパターン(突
出部材)101を形成する。A method for manufacturing a liquid crystal display device according to this embodiment is shown in the schematic sectional view of FIG. 16 in the order of steps. First, FIG.
As shown in (a), the first and second transparent substrates 11, 21
On one side (the second transparent substrate 21 in the illustrated example), a photosensitive resist 100 is applied on the inner surface thereof. next,
As shown in FIG. 16B, a stripe pattern (protruding member) 101 having an n-pixel pitch protruding from the inner surface of the transparent substrate 21 is formed in a portion corresponding to the convex portion of the concave-convex shape by a photolithography process.
【0085】次に、図16(c)及び(d)に示す様
に、このストライプパターン101を埋めるように、ス
トライプパターン101上に流動性の熱硬化型透明樹脂
(透明アクリル材等)をスピンコート等によって塗布
し、硬化させて樹脂膜(平坦化層)102を形成する。Next, as shown in FIGS. 16C and 16D, a fluid thermosetting transparent resin (a transparent acrylic material or the like) is spun on the stripe pattern 101 so as to fill the stripe pattern 101. A resin film (flattening layer) 102 is formed by coating with a coat or the like and curing.
【0086】このとき、パターン101の埋まっている
部分及びその近傍の樹脂は、パターン101の存在によ
り支持されるのに対し、それ以外の部分の樹脂は支持さ
れない。そのため、樹脂膜102を構成する樹脂の粘性
により、樹脂膜102のうちパターン101で支持され
る部分は、パターン101で支持されない部分よりも膜
厚が厚くなり、結果的に、樹脂膜102は緩やかな傾斜
を持った凹凸形状となる。At this time, the resin buried in the pattern 101 and the resin in the vicinity thereof are supported by the presence of the pattern 101, but the resin in other portions is not supported. Therefore, due to the viscosity of the resin forming the resin film 102, the portion of the resin film 102 supported by the pattern 101 is thicker than the portion not supported by the pattern 101, and as a result, the resin film 102 becomes gentler. The shape becomes uneven with a gentle slope.
【0087】続いて、図16(e)及び(f)に示す様
に、この樹脂膜102上に透明電極12を構成するIT
O膜103を、蒸着やスパッタあるいは印刷等により成
膜する。このITO膜103をフォトリソグラフ法を用
いてパターニングし、ストライプ状の第2の透明電極2
2を形成する。そして、図16(g)及び(h)に示す
様に、この透明電極22の上に絶縁膜23を成膜した
後、第2の配向膜24を成膜し、この配向膜24をラビ
ング処理する。こうして、第2の電極基板20が出来上
がる。Subsequently, as shown in FIGS. 16E and 16F, the IT forming the transparent electrode 12 on the resin film 102 is formed.
The O film 103 is formed by vapor deposition, sputtering, printing, or the like. This ITO film 103 is patterned by using a photolithographic method to form a stripe-shaped second transparent electrode 2.
Form 2 Then, as shown in FIGS. 16G and 16H, after an insulating film 23 is formed on the transparent electrode 22, a second alignment film 24 is formed, and the alignment film 24 is subjected to a rubbing process. I do. Thus, the second electrode substrate 20 is completed.
【0088】その後、第2の電極基板20の内表面にお
ける凸部上に隔壁40が位置するように、シール樹脂3
0を介して第1及び第2の電極基板10、20を重ね合
わせ、加圧、加熱し、最後に液晶50を封入することに
より、図17に示す様な液晶表示素子が出来上がる。な
お、ラビング方向は隔壁40の長手方向と垂直な方向
(図17の左右方向)とする。この液晶表示素子におい
ては、第2の電極基板20の内表面に形成された緩やか
な傾斜構造を有する周期的な凹凸形状に対応して、第1
の及び第2のギャップ領域G1、G2がn画素ピッチに
て形成されている。Thereafter, the sealing resin 3 is placed so that the partition wall 40 is located on the projection on the inner surface of the second electrode substrate 20.
The liquid crystal display device as shown in FIG. 17 is completed by superposing the first and second electrode substrates 10 and 20 through the contact hole 0, pressurizing and heating, and finally sealing the liquid crystal 50. The rubbing direction is a direction perpendicular to the longitudinal direction of the partition wall 40 (the left-right direction in FIG. 17). In this liquid crystal display element, the first liquid crystal display element has a first unevenness formed on the inner surface of the second electrode substrate 20 and having a gentle slope structure.
And second gap regions G1 and G2 are formed at an n pixel pitch.
【0089】そのため、これら各ギャップ領域に対応し
て、上記実施形態と同様、スメクチック液晶50の両整
列領域51、52をn画素ピッチにて交互に周期的に配
置することができ、表示の視野角依存性が少なく液晶の
配向欠陥が少ない液晶表示素子を提供することができ
る。そして、上記製造方法によれば、そのような液晶表
示素子を適切に製造できる。また、上記製造方法は、第
1の電極基板10の内表面に凹凸形状を形成する場合も
同様に適用できる。Therefore, both alignment regions 51 and 52 of the smectic liquid crystal 50 can be alternately and periodically arranged at an n-pixel pitch corresponding to each of these gap regions as in the above-described embodiment. It is possible to provide a liquid crystal display element having a small angle dependency and a small number of liquid crystal alignment defects. And according to the said manufacturing method, such a liquid crystal display element can be manufactured appropriately. In addition, the above-described manufacturing method can be similarly applied to a case where an uneven shape is formed on the inner surface of the first electrode substrate 10.
【0090】なお、ストライプパターン(突出部材)1
01をCu等の導電性材料により形成し、樹脂膜102
に感光性透明樹脂を用い、フォトリソ工程により上記導
電性材料の露出部を形成し、透明電極12、22と電気
的な接続可能としても良い。このようにすることで、上
記導電性材料よりなるパターン101が透明電極12、
22の補助電極として作用し、透明電極の低抵抗化がな
される。また、樹脂膜102にカラー材(カラーフィル
タ用途のRGB光感光性材料)を使用してもよい。この
場合、カラー表示可能な液晶表示素子が実現できる。The stripe pattern (projecting member) 1
01 made of a conductive material such as Cu
A photosensitive transparent resin may be used, and an exposed portion of the conductive material may be formed by a photolithography process so as to be electrically connectable to the transparent electrodes 12 and 22. By doing so, the pattern 101 made of the conductive material becomes the transparent electrode 12,
The transparent electrode acts as an auxiliary electrode 22 and the resistance of the transparent electrode is reduced. Further, a color material (RGB photo-sensitive material for a color filter) may be used for the resin film 102. In this case, a liquid crystal display device capable of color display can be realized.
【0091】(第8実施形態)本第8実施形態は、上記
第7実施形態と同様に、第1および第2の電極基板1
0、20のどちらか一方の内表面を、緩やかな傾斜構造
を有する周期的な凹凸形状とすることにより、この凹凸
形状に対応して第1の及び第2のギャップ領域G1、G
2を形成するようにしたものであるが、本実施形態では
上記第7実施形態と異なる製造方法を採用している。(Eighth Embodiment) An eighth embodiment is similar to the seventh embodiment, except that the first and second electrode substrates 1
By forming one of the inner surfaces 0 and 20 into a periodic uneven shape having a gentle slope structure, the first and second gap regions G1 and G corresponding to the uneven shape are formed.
Although the second embodiment is formed, the present embodiment employs a manufacturing method different from that of the seventh embodiment.
【0092】本実施形態に係る液晶表示素子の製造方法
を図18の概略断面図にて工程順に示す。まず、図18
(a)に示す様に、第1及び第2の透明基板11、21
の一方(図示例では第2の透明基板21)において、そ
の内表面上に感光性銀ペースト110を印刷、仮乾燥す
る。次に、図18(b)に示す様に、フォトリソ工程に
より、上記凹凸形状の凹部に対応する部位に、透明基板
21の内表面から突出するn画素ピッチのストライプパ
ターン(突出部材)111を形成する。A method for manufacturing a liquid crystal display device according to this embodiment is shown in the schematic sectional view of FIG. 18 in the order of steps. First, FIG.
As shown in (a), the first and second transparent substrates 11, 21
On one of the two (in the illustrated example, the second transparent substrate 21), a photosensitive silver paste 110 is printed on the inner surface thereof and temporarily dried. Next, as shown in FIG. 18B, a stripe pattern (protruding member) 111 having an n-pixel pitch protruding from the inner surface of the transparent substrate 21 is formed in a portion corresponding to the concave portion of the above-mentioned uneven shape by a photolithography process. I do.
【0093】次に、図18(c)に示す様に、このスト
ライプパターン111を埋めるように、ストライプパタ
ーン111上に、該パターン111よりも硬度の高い材
料(本例では鉛ガラス)を印刷、焼成硬化させて平坦化
層112を形成する。次に、この平坦化層112を、ガ
ラス基板の表面研磨に用いられているラップ研磨等によ
り、パターン111の先端が露出するように研磨する。Next, as shown in FIG. 18C, a material having a higher hardness (lead glass in this example) than the pattern 111 is printed on the stripe pattern 111 so as to fill the stripe pattern 111. The flattening layer 112 is formed by firing and hardening. Next, the flattening layer 112 is polished by lap polishing or the like used for polishing the surface of the glass substrate so that the tip of the pattern 111 is exposed.
【0094】このとき、平坦化層112よりも硬度の低
いパターン111にて選択的に研磨が進み、図18
(d)に示す様に、平坦化層112は、パターン111
の露出部に向かって凹部が形成された凹凸形状となる。
なお、鉛ガラスに対するラップ研磨においては、研磨材
(スラリー)に弱アルカリ性のものを用いることで、鉛
ガラスがケミカルエッチング作用により選択的に研磨さ
れる。そのため、研磨材のPH(アルカリ度)をコント
ロールすることで平坦化層112の微妙な傾斜量を制御
することが可能となる。At this time, polishing selectively proceeds with the pattern 111 having a hardness lower than that of the flattening layer 112.
As shown in (d), the planarizing layer 112 has a pattern 111
The concave / convex shape has a concave portion formed toward the exposed portion.
In the lap polishing of lead glass, the use of a weakly alkaline abrasive (slurry) allows lead glass to be selectively polished by a chemical etching action. Therefore, by controlling the PH (alkalineness) of the abrasive, it is possible to control the delicate inclination amount of the planarization layer 112.
【0095】続いて、図18(e)〜(h)に示す様
に、上記第7実施形態と同様の要領にて、この平坦化層
112上に、順次、ストライプ状の第2の透明電極2
2、絶縁膜23、第2の配向膜24を形成し、この配向
膜24をラビング処理する。こうして、第2の電極基板
20が出来上がる。なお、パターン111は第2の透明
電極22と導通し、補助電極として機能する。Subsequently, as shown in FIGS. 18 (e) to 18 (h), a stripe-shaped second transparent electrode is sequentially formed on the planarizing layer 112 in the same manner as in the seventh embodiment. 2
2. An insulating film 23 and a second alignment film 24 are formed, and the alignment film 24 is rubbed. Thus, the second electrode substrate 20 is completed. Note that the pattern 111 is electrically connected to the second transparent electrode 22 and functions as an auxiliary electrode.
【0096】その後、第2の電極基板20の内表面にお
ける凹部上に隔壁40が位置するように、シール樹脂3
0を介して第1及び第2の電極基板10、20を重ね合
わせ、加圧、加熱し、最後に液晶50を封入することに
より、図19に示す様な液晶表示素子が出来上がる。な
お、ラビング方向は隔壁40の長手方向と垂直な方向
(図19の左右方向)とする。この液晶表示素子におい
ては、第2の電極基板20の内表面に形成された緩やか
な傾斜構造を有する周期的な凹凸形状に対応して、第1
の及び第2のギャップ領域G1、G2がn画素ピッチに
て形成されている。Then, the sealing resin 3 is placed so that the partition wall 40 is located on the concave portion on the inner surface of the second electrode substrate 20.
The first and second electrode substrates 10 and 20 are overlapped with each other via a wire 0, pressurized and heated, and finally the liquid crystal 50 is sealed, whereby a liquid crystal display device as shown in FIG. 19 is completed. The rubbing direction is a direction perpendicular to the longitudinal direction of the partition wall 40 (the left-right direction in FIG. 19). In this liquid crystal display element, the first liquid crystal display element has a first unevenness formed on the inner surface of the second electrode substrate 20 and having a gentle slope structure.
And second gap regions G1 and G2 are formed at an n pixel pitch.
【0097】そのため、本実施形態によれば、上記第7
実施形態と同様、表示の視野角依存性が少なく液晶の配
向欠陥が少ない液晶表示素子を提供することができる。
そして、本製造方法によれば、そのような液晶表示素子
を適切に製造できる。また、本製造方法は、第1の電極
基板10の内表面に凹凸形状を形成する場合も同様に適
用できる。Therefore, according to the present embodiment, the seventh
As in the embodiment, it is possible to provide a liquid crystal display element having less viewing angle dependence of display and less liquid crystal alignment defects.
And according to this manufacturing method, such a liquid crystal display element can be manufactured appropriately. In addition, the present manufacturing method can be similarly applied to a case where an uneven shape is formed on the inner surface of the first electrode substrate 10.
【0098】また、平坦化層112の硬度がストライプ
パターン111よりも軟らかい場合には、平坦化層11
2は、パターン111の露出部に向かって凸部が形成さ
れた凹凸形状となる。この場合にも、第1及び第2のギ
ャップ領域G1、G2を形成でき、スメクチック液晶5
0の両整列領域51、52をn画素ピッチにて交互に周
期的に配置することができ、表示の視野角依存性が少な
く液晶の配向欠陥が少ない液晶表示素子を提供すること
ができる。When the hardness of the flattening layer 112 is softer than that of the stripe pattern 111,
2 has an uneven shape in which a convex portion is formed toward the exposed portion of the pattern 111. Also in this case, the first and second gap regions G1 and G2 can be formed, and the smectic liquid crystal 5 can be formed.
The two alignment regions 51 and 52 of 0 can be alternately and periodically arranged at an n pixel pitch, and a liquid crystal display element having little viewing angle dependence of display and few alignment defects of liquid crystal can be provided.
【0099】(第9実施形態)本第9実施形態は、上記
第7及び第8実施形態と同様に、第1および第2の電極
基板10、20のどちらか一方の内表面を、緩やかな傾
斜構造を有する周期的な凹凸形状とすることにより、こ
の凹凸形状に対応して第1の及び第2のギャップ領域G
1、G2を形成するようにしたものであるが、本実施形
態では上記第7及び第8実施形態と異なる製造方法を採
用している。(Ninth Embodiment) In the ninth embodiment, as in the seventh and eighth embodiments, the inner surface of one of the first and second electrode substrates 10 and 20 is made gently. The first and second gap regions G corresponding to the uneven shape are formed by forming the periodic uneven shape having an inclined structure.
1, G2 is formed, but this embodiment employs a manufacturing method different from those of the seventh and eighth embodiments.
【0100】本実施形態に係る液晶表示素子の製造方法
を図20の概略断面図にて工程順に示す。まず、図20
(a)及び(b)に示す様に、第1及び第2の透明基板
11、21の一方(図示例では第2の透明基板21)に
おいて、その内表面に対して上記凹凸形状に対応する形
状をなす金型(型部材)120を押し当てる。それによ
り、当該内表面に、凹部と凸部がn画素ピッチで周期的
に配置され且つ凹凸間が緩やかな傾斜形状となった凹凸
形状が形成される。金型120の押し当ては、例えば透
明基板21をその変形温度以上とした状態にて加熱プレ
スすることで行われる。A method for manufacturing a liquid crystal display device according to this embodiment is shown in the order of steps in a schematic sectional view of FIG. First, FIG.
As shown in (a) and (b), one of the first and second transparent substrates 11 and 21 (the second transparent substrate 21 in the illustrated example) corresponds to the above uneven shape with respect to the inner surface thereof. A mold (mold member) 120 having a shape is pressed. As a result, on the inner surface, a concave / convex shape in which concave portions and convex portions are periodically arranged at an n-pixel pitch, and the gap between the concave and convex portions is a gentle slope is formed. The pressing of the mold 120 is performed, for example, by heating and pressing the transparent substrate 21 at a temperature equal to or higher than its deformation temperature.
【0101】続いて、第2の透明基板21の内表面に、
順次、第2の透明電極22、絶縁膜23、第2の配向膜
24を形成することにより、第2の電極基板20が出来
上がる。その後、第2の電極基板20の内表面における
凹部上に隔壁40が位置するように、シール樹脂30を
介して第1及び第2の電極基板10、20を重ね合わ
せ、加圧、加熱し、最後に液晶50を封入することによ
り、図20(c)に示す様な液晶セルが出来上がる。な
お、ラビング方向は隔壁40の長手方向と垂直な方向
(図20の左右方向)とする。Subsequently, on the inner surface of the second transparent substrate 21,
The second electrode substrate 20 is completed by sequentially forming the second transparent electrode 22, the insulating film 23, and the second alignment film 24. After that, the first and second electrode substrates 10 and 20 are overlapped via the sealing resin 30 so that the partition wall 40 is located on the concave portion on the inner surface of the second electrode substrate 20, and pressurized and heated. Finally, by enclosing the liquid crystal 50, a liquid crystal cell as shown in FIG. The rubbing direction is a direction perpendicular to the longitudinal direction of the partition wall 40 (the left-right direction in FIG. 20).
【0102】図20(c)においては、各透明基板1
1、21、各透明電極12、22、及び隔壁40のみ示
し、他は省略してある。この液晶表示素子においては、
第2の電極基板20の内表面に形成された緩やかな傾斜
構造を有する周期的な凹凸形状に対応して、第1の及び
第2のギャップ領域G1、G2がn画素ピッチにて形成
されている。In FIG. 20C, each transparent substrate 1
1 and 21, only the transparent electrodes 12 and 22, and the partition 40 are shown, and the others are omitted. In this liquid crystal display element,
The first and second gap regions G1 and G2 are formed at an n pixel pitch corresponding to the periodic uneven shape having a gentle slope structure formed on the inner surface of the second electrode substrate 20. I have.
【0103】そのため、本実施形態によれば、上記第7
及び第8実施形態と同様、表示の視野角依存性が少なく
液晶の配向欠陥が少ない液晶表示素子を提供することが
できる。そして、本製造方法によれば、そのような液晶
表示素子を適切に製造できる。また、本製造方法は、第
1の電極基板10の内表面に凹凸形状を形成する場合も
同様に適用できる。Therefore, according to the present embodiment, the seventh
Similarly to the eighth embodiment, it is possible to provide a liquid crystal display element having a small viewing angle dependence of display and a small number of liquid crystal alignment defects. And according to this manufacturing method, such a liquid crystal display element can be manufactured appropriately. In addition, the present manufacturing method can be similarly applied to a case where an uneven shape is formed on the inner surface of the first electrode substrate 10.
【0104】(第10実施形態)本第10実施形態は、
上記第7〜第9実施形態と同様に、第1および第2の電
極基板10、20のどちらか一方の内表面を、緩やかな
傾斜構造を有する周期的な凹凸形状とすることにより、
この凹凸形状に対応して第1の及び第2のギャップ領域
G1、G2を形成するようにしたものであるが、本実施
形態では上記第7〜第9実施形態と異なる製造方法を採
用している。(Tenth Embodiment) The tenth embodiment is directed to
As in the above-described seventh to ninth embodiments, by forming one of the inner surfaces of the first and second electrode substrates 10 and 20 into a periodic uneven shape having a gentle slope structure,
Although the first and second gap regions G1 and G2 are formed corresponding to the uneven shape, the present embodiment employs a manufacturing method different from the seventh to ninth embodiments. I have.
【0105】本実施形態に係る液晶表示素子の製造方法
を図21の概略断面図にて工程順に示す。なお、図21
においては、透明基板、透明電極、及び隔壁のみ示し、
他は省略してある。まず、図21(a)に示す様に、第
1及び第2の透明基板11、21の一方(図示例では第
2の透明基板21)において、その内表面に対して上記
凹凸形状における凸部に対応した形状の透明感光性材料
よりなる突起パターン130を、フォトリソグラフ法を
用いてn画素ピッチにて形成する。A method for manufacturing a liquid crystal display device according to this embodiment is shown in the schematic sectional view of FIG. 21 in the order of steps. Note that FIG.
In, only the transparent substrate, the transparent electrode, and the partition are shown,
Others are omitted. First, as shown in FIG. 21A, one of the first and second transparent substrates 11 and 21 (the second transparent substrate 21 in the illustrated example) has a convex portion in the above-mentioned uneven shape with respect to the inner surface thereof. Are formed at a pitch of n pixels using a photolithographic method.
【0106】この突起パターン130は、図に示す様
に、その頂部から透明基板21の内表面にかけて緩やか
に傾斜している(傾斜突起形状)。このような傾斜突起
形状は、透明基板21の内表面に形成した透明感光性材
料の膜を、フォトリソグラフ法を用いてパターニングす
ることで形成できるが、例えば、フォトマスクをずらし
て部分的に露光量を変えて、現像の際にエッチング量に
差を設けることにより、膜厚を部分的に変えることで、
形成可能である。As shown in the figure, the projection pattern 130 is gently inclined from the top to the inner surface of the transparent substrate 21 (inclined projection shape). Such an inclined protrusion shape can be formed by patterning a film of a transparent photosensitive material formed on the inner surface of the transparent substrate 21 by using a photolithographic method. By changing the amount and providing a difference in the amount of etching during development, by partially changing the film thickness,
It can be formed.
【0107】突起パターン130が形成された透明基板
21に対して、順次、第2の透明電極22、絶縁膜2
3、第2の配向膜24を形成することにより、第2の電
極基板20が出来上がる。その後、図21(b)及び
(c)に示す様に、第2の電極基板20の内表面におけ
る凹部上に隔壁40が位置するように、シール樹脂30
を介して第1及び第2の電極基板10、20を重ね合わ
せ、加圧、加熱し、最後に液晶50を封入することによ
り、液晶セルが出来上がる。なお、ラビング方向は隔壁
40の長手方向と垂直な方向(図21の左右方向)とす
る。On the transparent substrate 21 on which the projection pattern 130 is formed, the second transparent electrode 22 and the insulating film 2 are sequentially formed.
3. By forming the second alignment film 24, the second electrode substrate 20 is completed. Thereafter, as shown in FIGS. 21B and 21C, the sealing resin 30 is positioned so that the partition wall 40 is located on the concave portion on the inner surface of the second electrode substrate 20.
Then, the first and second electrode substrates 10 and 20 are overlapped with each other, pressurized and heated, and finally the liquid crystal 50 is sealed, whereby a liquid crystal cell is completed. The rubbing direction is a direction perpendicular to the longitudinal direction of the partition wall 40 (the left-right direction in FIG. 21).
【0108】この液晶表示素子においては、第2の電極
基板20の内表面に形成された緩やかな傾斜構造を有す
る周期的な凹凸形状に対応して、第1の及び第2のギャ
ップ領域G1、G2がn画素ピッチにて形成されてい
る。そのため、本実施形態によれば、上記第7〜第9実
施形態と同様、表示の視野角依存性が少なく液晶の配向
欠陥が少ない液晶表示素子を提供することができる。そ
して、本製造方法によれば、そのような液晶表示素子を
適切に製造できる。また、本製造方法は、第1の電極基
板10の内表面に凹凸形状を形成する場合も同様に適用
できる。In this liquid crystal display device, the first and second gap regions G 1, G 2, G 3, G 2, G 3, G 2, G 3, G 2, G2 is formed at an n pixel pitch. Therefore, according to the present embodiment, as in the seventh to ninth embodiments, it is possible to provide a liquid crystal display element having little viewing angle dependence of display and having few alignment defects of liquid crystal. And according to this manufacturing method, such a liquid crystal display element can be manufactured appropriately. In addition, the present manufacturing method can be similarly applied to a case where an uneven shape is formed on the inner surface of the first electrode substrate 10.
【図1】スメクチック液晶を用いた単純マトリクス型の
液晶表示素子を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a simple matrix type liquid crystal display device using a smectic liquid crystal.
【図2】本発明の第1実施形態における透明電極と隔壁
との配置関係を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an arrangement relationship between a transparent electrode and a partition in the first embodiment of the present invention.
【図3】図2中のA1部拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a part A1 in FIG. 2;
【図4】本発明に係る液晶表示素子の電極基板の重合せ
方法を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing a method of superposing electrode substrates of a liquid crystal display element according to the present invention.
【図5】本発明に係るスメクチック液晶のシェブロン構
造を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory view showing a chevron structure of a smectic liquid crystal according to the present invention.
【図6】本発明に係るスメクチック液晶の整列領域の配
列を示す概略平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view showing an arrangement of alignment regions of a smectic liquid crystal according to the present invention.
【図7】上記第1実施形態の変形例を示す液晶表示素子
の概略平面図である。FIG. 7 is a schematic plan view of a liquid crystal display device showing a modification of the first embodiment.
【図8】本発明の第2実施形態における透明電極と隔壁
との配置関係を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating an arrangement relationship between a transparent electrode and a partition wall according to a second embodiment of the present invention.
【図9】図8中のA2部拡大図である。FIG. 9 is an enlarged view of a portion A2 in FIG. 8;
【図10】上記第2実施形態の変形例を示す液晶表示素
子の概略平面図である。FIG. 10 is a schematic plan view of a liquid crystal display device showing a modification of the second embodiment.
【図11】本発明の第3実施形態における透明電極と隔
壁との配置関係を示す図である。FIG. 11 is a view showing an arrangement relationship between a transparent electrode and a partition in a third embodiment of the present invention.
【図12】図11中のA3部拡大図である。FIG. 12 is an enlarged view of a part A3 in FIG. 11;
【図13】本発明の第4実施形態における透明電極と隔
壁との配置関係を示す概略断面図である。FIG. 13 is a schematic sectional view showing an arrangement relationship between a transparent electrode and a partition wall according to a fourth embodiment of the present invention.
【図14】本発明の第5実施形態における透明電極と隔
壁との配置関係を示す概略断面図である。FIG. 14 is a schematic sectional view showing an arrangement relationship between a transparent electrode and a partition wall according to a fifth embodiment of the present invention.
【図15】本発明の第6実施形態における透明電極と隔
壁との配置関係を示す概略断面図である。FIG. 15 is a schematic sectional view showing an arrangement relationship between a transparent electrode and a partition wall according to a sixth embodiment of the present invention.
【図16】本発明の第7実施形態に係る液晶表示素子の
製造方法を示す工程図である。FIG. 16 is a process chart illustrating a method for manufacturing a liquid crystal display element according to a seventh embodiment of the present invention.
【図17】上記第7実施形態に係る液晶表示素子の概略
断面図である。FIG. 17 is a schematic sectional view of a liquid crystal display device according to the seventh embodiment.
【図18】本発明の第8実施形態に係る液晶表示素子の
製造方法を示す工程図である。FIG. 18 is a process chart illustrating a method for manufacturing a liquid crystal display element according to an eighth embodiment of the present invention.
【図19】上記第8実施形態に係る液晶表示素子の概略
断面図である。FIG. 19 is a schematic sectional view of a liquid crystal display device according to the eighth embodiment.
【図20】本発明の第9実施形態に係る液晶表示素子の
製造方法を示す工程図である。FIG. 20 is a process chart illustrating a method for manufacturing a liquid crystal display element according to a ninth embodiment of the present invention.
【図21】本発明の第10実施形態に係る液晶表示素子
の製造方法を示す工程図である。FIG. 21 is a process chart illustrating a method for manufacturing a liquid crystal display element according to a tenth embodiment of the present invention.
【図22】従来の液晶表示素子における透明電極と隔壁
との配置関係を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing an arrangement relationship between a transparent electrode and a partition in a conventional liquid crystal display element.
【図23】図22中の丸で囲んだA部拡大図である。FIG. 23 is an enlarged view of a portion A surrounded by a circle in FIG. 22;
【図24】スメクチック液晶のシェブロン構造を示す説
明図である。FIG. 24 is an explanatory diagram showing a chevron structure of a smectic liquid crystal.
10…第1の電極基板、11…第1の透明基板、12…
第1の透明電極、14…第1の配向膜、20…第2の電
極基板、21…第2の透明基板、22…第2の透明電
極、24…第2の配向膜、40…隔壁、41…隔壁の幅
広部、42…隔壁の幅狭部、43…線幅の広い隔壁、4
4…線幅の狭い隔壁、45…膜厚の厚い隔壁、46…膜
厚の薄い隔壁、47…電極上に配置された隔壁、48…
スペース上に配置された隔壁、50…スメクチック液
晶、51…第1の整列領域、52…第2の整列領域、6
0…画素、101、111…ストライプパターン、10
2…樹脂膜、112…平坦化層、120…金型、130
…突起パターン、G1…第1のギャップ領域、G2…第
2のギャップ領域、S…隣接する透明電極間のスペー
ス、S1…スペースの幅広部、S2…スペースの幅狭
部。10 ... first electrode substrate, 11 ... first transparent substrate, 12 ...
1st transparent electrode, 14 ... 1st orientation film, 20 ... 2nd electrode substrate, 21 ... 2nd transparent substrate, 22 ... 2nd transparent electrode, 24 ... 2nd orientation film, 40 ... partition, 41 ... wide part of partition, 42 ... narrow part of partition, 43 ... partition with wide line width, 4
4 Partition walls having a small line width, 45 Partition walls having a large thickness, 46 Partition walls having a small thickness, 47 Partition walls disposed on electrodes, 48
Partition walls arranged on the space, 50: smectic liquid crystal, 51: first alignment region, 52: second alignment region, 6
0: pixel, 101, 111: stripe pattern, 10
2: resin film, 112: flattening layer, 120: mold, 130
... projection pattern, G1 ... first gap area, G2 ... second gap area, S ... space between adjacent transparent electrodes, S1 ... space wide part, S2 ... space narrow part.
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Claims (16)
(10)及び第2の電極基板(20)と、 これら第1及び第2の電極基板の間に設けられたスメク
チック液晶(50)とを備え、 前記第1の電極基板は、第1の透明基板(11)と、こ
の第1の透明基板の内表面に形成された複数のストライ
プ状の第1の透明電極(12)と、前記スメクチック液
晶に対向する第1の配向膜(14)とを備えており、 前記第2の電極基板は、第2の透明基板(21)と、こ
の第2の透明基板の内表面に形成され前記第1の透明電
極に交差するように位置する複数のストライプ状の第2
の透明電極(22)と、前記スメクチック液晶に対向す
る第2の配向膜(24)とを備えており、 前記第1及び第2の透明電極が交差する部分によって、
表示部としてのマトリクス状の画素(60)を構成して
いる液晶表示素子において、 n個(nは1以上の整数)の前記画素内にて、前記スメ
クチック液晶におけるシェブロン構造の屈曲方向が略同
一方向に整列している第1の整列領域(51)と、前記
スメクチック液晶におけるシェブロン構造の屈曲方向が
前記第1の整列領域と異なる方向に整列している第2の
整列領域(52)とが、交互に周期的に配置されている
ことを特徴とする液晶表示素子。1. A first electrode substrate (10) and a second electrode substrate (20) arranged in parallel with each other, and a smectic liquid crystal (50) provided between the first and second electrode substrates. The first electrode substrate comprises: a first transparent substrate (11); a plurality of stripe-shaped first transparent electrodes (12) formed on an inner surface of the first transparent substrate; A first alignment film (14) facing the smectic liquid crystal; and the second electrode substrate is formed on a second transparent substrate (21) and an inner surface of the second transparent substrate. A plurality of second stripe-shaped second electrodes positioned to intersect the first transparent electrode
A transparent electrode (22) and a second alignment film (24) facing the smectic liquid crystal, and a portion where the first and second transparent electrodes cross
In a liquid crystal display element constituting a matrix-shaped pixel (60) as a display unit, the bending direction of the chevron structure in the smectic liquid crystal is substantially the same in n (n is an integer of 1 or more) pixels. A first alignment region (51) aligned in a direction, and a second alignment region (52) in which the bending direction of the chevron structure in the smectic liquid crystal is aligned in a direction different from the first alignment region. And a liquid crystal display element which is arranged alternately and periodically.
2)は互いに略同一の面積であることを特徴とする請求
項1に記載の液晶表示素子。2. The first and second alignment regions (51, 5).
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein 2) have substantially the same area.
2)は、前記シェブロン構造に代えて、前記シェブロン
構造を前記スメクチック液晶(50)に電圧を印加する
ことにより擬似ブックシェルフ構造とされていることを
特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示素子。3. The first and second alignment regions (51, 5).
The liquid crystal according to claim 1 or 2, wherein the 2) is a pseudo bookshelf structure by applying a voltage to the smectic liquid crystal (50) instead of the chevron structure. Display element.
の電極基板(20)との間には、これら両電極基板のギ
ャップが一方向へ向かって徐々に狭くなっている第1の
ギャップ領域(G1)と、この第1のギャップ領域に隣
接し前記ギャップが前記第1のギャップ領域とは反対の
方向へ徐々に狭くなっている第2のギャップ領域(G
2)とが形成され、 前記第1のギャップ領域及び前記第2のギャップ領域
は、前記第1の整列領域(51)及び前記第2の整列領
域(52)に対応して周期的に配置されており、 前記第1及び第2の配向膜(14、24)は共に、前記
第1及び第2のギャップ領域における前記ギャップが狭
くなる方向に対して略平行にラビング処理されたもので
あることを特徴とする請求項1〜3の液晶表示素子。4. The first electrode substrate (10) and the second electrode substrate (10).
A first gap region (G1) in which the gap between the two electrode substrates is gradually narrowed in one direction, and a first gap region (G1) adjacent to the first gap region. The second gap region (G) in which the gap gradually narrows in a direction opposite to the first gap region.
2) are formed, and the first gap region and the second gap region are periodically arranged corresponding to the first alignment region (51) and the second alignment region (52). Wherein both the first and second alignment films (14, 24) have been rubbed substantially parallel to the direction in which the gap in the first and second gap regions becomes narrower. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
の電極基板(20)とは、これら両電極基板の間に前記
ギャップを規定する隔壁部材(40)を介して加圧しな
がら重ね合わせることにより、前記隔壁部材にて支持さ
れており、 前記ギャップ方向における前記隔壁部材の高さを前記第
1のギャップ領域(G1)及び前記第2のギャップ領域
(G2)に対応するように変化させることにより、前記
第1及び第2のギャップ領域が形成されていることを特
徴とする請求項4に記載の液晶表示素子。5. The first electrode substrate (10) and the second electrode substrate (10).
The electrode substrate (20) is supported by the partition member by being overlapped between the two electrode substrates while being pressed through a partition member (40) defining the gap, and supported by the partition member. The first and second gap regions are formed by changing the height of the partition member in the above to correspond to the first gap region (G1) and the second gap region (G2). The liquid crystal display device according to claim 4, wherein
略同一の幅であって、前記第1及び第2の透明電極(1
2、22)のどちらか一方において隣接する電極間のス
ペース(S)上を斜めに横断するように延設されたもの
であり、 前記隔壁部材が横断する前記スペースに対応して、前記
第1及び第2のギャップ領域(G1、G2)が周期的に
配置されていることを特徴とする請求項5に記載の液晶
表示素子。6. The partition member (40) has substantially the same width in its longitudinal direction, and has a width substantially equal to that of the first and second transparent electrodes (1).
2, 22) so as to extend obliquely across the space (S) between adjacent electrodes, and correspond to the space traversed by the partition member. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the second gap regions (G1, G2) are periodically arranged.
において幅の広い部分と狭い部分とを交互に形成すると
ともに、最大幅である幅広部(41)と最小幅である幅
狭部(42)とを前記第1及び第2のギャップ領域(G
1、G2)に対応して周期的に形成したものであり、前
記幅広部と前記幅狭部との間は緩やかに幅が変化したも
のであることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示素
子。7. The partition member (40) alternately forms a wide portion and a narrow portion in the longitudinal direction thereof, and has a wide portion (41) having a maximum width and a narrow portion (41) having a minimum width. 42) and the first and second gap regions (G
6. The liquid crystal according to claim 5, wherein the liquid crystal is formed periodically corresponding to (1, G2), and the width between the wide portion and the narrow portion changes gradually. Display element.
2)のどちらか一方において隣接する電極間のスペース
(S)は、その長手方向において幅の広い部分と狭い部
分とを交互に形成するとともに、最大幅である幅広部
(S1)と最小幅である幅狭部(S2)とを前記第1及
び第2のギャップ領域(G1、G2)に対応して周期的
に形成されたものであって、且つ、前記幅広部と前記幅
狭部との間にて緩やかに幅が変化したものであり、 前記隔壁部材(40)はその長手方向に前記幅狭部より
も広く且つ略同一の幅であって、前記幅広部及び前記幅
狭部が形成された前記スペース上に延設されていること
を特徴とする請求項5に記載の液晶表示素子。8. The first and second transparent electrodes (11, 1).
In either one of 2), the space (S) between the adjacent electrodes is formed by alternately forming a wide portion and a narrow portion in the longitudinal direction, and has a wide portion (S1) which is the maximum width and a minimum width. A certain narrow portion (S2) is formed periodically corresponding to the first and second gap regions (G1, G2), and the narrow portion (S2) is formed between the wide portion and the narrow portion. The width of the partition member (40) is wider than the narrow portion and has substantially the same width in the longitudinal direction thereof, and the wide portion and the narrow portion are formed. 6. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the liquid crystal display device extends over the space formed.
手方向に幅の異なる2種類のものを前記第1及び第2の
ギャップ領域(G1、G2)に対応して周期的に形成し
たものとして構成されていることを特徴とする請求項5
に記載の液晶表示素子。9. The partition members (43, 44) are formed of two types having different widths in the longitudinal direction periodically corresponding to the first and second gap regions (G1, G2). 6. The device according to claim 5, wherein
3. The liquid crystal display device according to item 1.
ギャップ方向における高さの異なる2種類のものを前記
第1及び第2のギャップ領域(G1、G2)に対応して
周期的に形成したものとして構成されていることを特徴
とする請求項5に記載の液晶表示素子。10. The partition members (45, 46) are formed periodically with two types having different heights in the gap direction corresponding to the first and second gap regions (G1, G2). The liquid crystal display element according to claim 5, wherein the liquid crystal display element is configured as a liquid crystal display.
第1及び第2の透明電極(12、22)のどちらか一方
において電極上に延設されたものと、隣接する電極間の
スペース上に延設されたものとを、前記第1及び第2の
ギャップ領域(G1、G2)に対応して周期的に配置し
たものであることを特徴とする請求項5に記載の液晶表
示素子。11. The partition member (47, 48) has a space between one of the first and second transparent electrodes (12, 22) extended on an electrode and a space between adjacent electrodes. 6. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the one extending upward is periodically arranged corresponding to the first and second gap regions (G1, G2). .
記第2の電極基板(20)のどちらか一方の内表面は緩
やかな傾斜構造を有する周期的な凹凸形状をなしてお
り、この凹凸形状に対応して前記第1の及び第2のギャ
ップ領域(G1、G2)が形成されるようになっている
ことを特徴とする請求項4に記載の液晶表示素子。12. An inner surface of one of the first electrode substrate (10) and the second electrode substrate (20) has a periodic uneven shape having a gentle slope structure. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the first and second gap regions (G1, G2) are formed corresponding to the shape.
造する方法であって、 前記第1及び第2の電極基板(10、20)の一方にお
ける前記透明基板(11、21)の内表面のうち前記凹
凸形状の凸部に対応する部位に、当該内表面から突出す
る突出部材(101)を形成する工程と、 この突出部材を埋めるように前記透明基板の内表面に樹
脂を塗布することにより樹脂膜(102)を形成する工
程と、 前記樹脂膜上に前記透明電極(12、22)を形成する
工程と、 しかる後、前記第1及び第2の電極基板を重ね合わせる
工程とを備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。13. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 12, wherein the inner surface of the transparent substrate (11, 21) on one of the first and second electrode substrates (10, 20). Forming a protruding member (101) protruding from the inner surface at a portion corresponding to the convex portion of the concavo-convex shape; and applying a resin to the inner surface of the transparent substrate so as to fill the protruding member. Forming the transparent electrodes (12, 22) on the resin film, and thereafter, laminating the first and second electrode substrates. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
造する方法であって、 前記第1及び第2の電極基板(10、20)の一方にお
ける前記透明基板(11、21)の内表面のうち前記凹
凸形状の凹部もしくは凸部に対応する部位に、当該内表
面から突出する突出部材(111)を形成する工程と、 この突出部材を埋めるように前記透明基板の内表面に、
前記突出部材と異なる硬度を有する平坦化層(112)
を形成する工程と、 前記平坦化層を研磨して前記突出部材の先端を露出させ
る工程と、 続いて、前記平坦化層及び前記突出部材の露出部の上に
前記透明電極(12、22)を形成する工程と、 しかる後、前記第1及び第2の電極基板を重ね合わせる
工程とを備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。14. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 12, wherein the inner surface of the transparent substrate (11, 21) on one of the first and second electrode substrates (10, 20). Forming a protruding member (111) protruding from the inner surface at a portion corresponding to the concave or convex portion of the concavo-convex shape; and forming the protruding member on the inner surface of the transparent substrate so as to fill the protruding member.
A planarizing layer having a hardness different from that of the protruding member;
A step of polishing the flattening layer to expose a tip of the protruding member. Subsequently, the transparent electrode (12, 22) is formed on the flattening layer and the exposed portion of the protruding member. Forming a liquid crystal display element, and thereafter, laminating the first and second electrode substrates.
造する方法であって、 前記第1及び第2の電極基板(10、20)の一方にお
ける前記透明基板(11、21)の内表面に対して、前
記凹凸形状に対応する形状をなす型部材(120)を押
し当てることにより、当該内表面に前記凹凸形状を形成
する工程と、 続いて、前記凹凸形状が形成された前記内表面に前記透
明電極(12、22)を形成する工程と、 しかる後、前記第1及び第2の電極基板を重ね合わせる
工程とを備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。15. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 12, wherein the inner surface of the transparent substrate (11, 21) on one of the first and second electrode substrates (10, 20). Pressing the mold member (120) having a shape corresponding to the uneven shape to form the uneven shape on the inner surface; and subsequently, the inner surface on which the uneven shape is formed. Forming the transparent electrodes (12, 22), and thereafter, laminating the first and second electrode substrates.
造する方法であって、 前記第1及び第2の電極基板(10、20)の一方にお
ける前記透明基板(11、21)の内表面に、前記凹凸
形状における凸部に対応した形状の透明感光性材料より
なる突起パターン(130)を、フォトリソグラフ法を
用いて形成する工程と、 この突起パターンの上に前記透明電極(12、22)を
形成する工程と、 しかる後、前記第1及び第2の電極基板を重ね合わせる
工程とを備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。16. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 12, wherein the inner surface of the transparent substrate (11, 21) on one of the first and second electrode substrates (10, 20). Forming a projection pattern (130) made of a transparent photosensitive material having a shape corresponding to the projection in the uneven shape by using a photolithography method; and forming the transparent electrodes (12, 22) on the projection pattern. ), And thereafter, a step of superimposing the first and second electrode substrates on each other.
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Cited By (3)
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061107 |