JP2001035896A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JP2001035896A
JP2001035896A JP20283599A JP20283599A JP2001035896A JP 2001035896 A JP2001035896 A JP 2001035896A JP 20283599 A JP20283599 A JP 20283599A JP 20283599 A JP20283599 A JP 20283599A JP 2001035896 A JP2001035896 A JP 2001035896A
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Japan
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susceptor
sub
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subsusceptor
wafer
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JP20283599A
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Takeshi Mori
岳史 森
Fumihide Ikeda
文秀 池田
Yasuhiro Inokuchi
泰啓 井ノ口
Satoru Takami
哲 高見
Makoto Sanbe
誠 三部
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板処理の歩留まり向上に寄与できるととも
に、多大なコストがかかるクリーン環境設備の利用効率
を高める。 【構成】 ウェハ1をサセプタ2に間接的に載置するサ
ブサセプタ3を用意する。サブサセプタ移送手段5はサ
ブサセプタ3を支持するロボットハンド5cを有し、ロ
ボットハンド5cでサブサセプタ3を支持して、サセプ
タ2とサセプタ外のウェハ移し換え位置Dとの間でサブ
サセプタ3の移送を行う。ウェハ移し換え位置Dにはサ
ブサセプタ3を支持するサブサセプタステージ6が設け
られる。サブサセプタ3がサブサセプタ移送手段5でサ
ブサセプタステージ6に移送されたとき、サブサセプタ
ステージ6に設けた突上げピンによりサブサセプタ3か
らウェハ1を突き上げて浮上させる。ウェハ移送手段7
は浮上したウェハ1を取り扱い、サブサセプタステージ
6とカセット4との間でウェハの移し換え操作をする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は基板処理装置、特に
サセプタとサセプタ外の基板移し換え位置との間での基
板の移送を自動化するための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】基板、例えば半導体ウェハに成膜等の処
理を行う基板処理技術においては、半導体ウェハをサセ
プタと呼ばれる処理ステージに載せて処理を行う。この
ため、上記基板処理では、カセットに収納されている半
導体ウェハを処理のためにサセプタに移し換える操作
と、サセプタ上の処理済みウェハをカセットに移し換え
る操作とが行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た技術では、サセプタとカセットとの間で半導体ウェハ
を移し換える操作はロボット等による自動化が難しく、
このため従来は、図2に示すように、半導体ウェハ1を
カセット4とサセプタ2間で移し換える操作をオペレー
タ10の手作業に依存していた。
【0004】しかし、上述した移し換え操作は非常に高
度なクリーン環境(無塵環境)下で行う必要があり、こ
の操作にオペレータ10が介在すると、そのオペレータ
の介在による発塵が基板処理の歩留まりを低下させる原
因となる。また、オペレータが作業するためには一定以
上の作業スペースが必要となるが、このことは、莫大な
設備コストがかかるクリーン環境設備の利用効率を考慮
した場合、非常に不経済なことである。
【0005】本発明の課題は、上述した従来の基板処理
技術では、歩留まり向上を妨げる阻害要因となり、設備
利用の効率が悪いという問題を解消して、基板処理の歩
留まり向上に寄与できるとともに、多大なコストがかか
るクリーン環境設備の利用効率を高めることが可能な基
板処理装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】第1の手段は、サセプタ
と基板との間に介在して、上記基板を上記サセプタに間
接的に載置するサブサセプタを備え、上記サブサセプタ
は、その外周に上記サブサセプタを周方向に位置決めす
る位置決め用被係止部を有し、上記サブサセプタを支持
するロボットハンドを有し、上記ロボットハンドで上記
サブサセプタを支持して、上記サセプタと上記サセプタ
外の基板移し換え位置との間で上記サブサセプタの移送
を行うサブサセプタ移送手段と、上記基板移し換え位置
に設けられ、上記サセプタ移送手段で上記基板移し換え
位置に移送されたとき、上記サブサセプタの位置決め用
被係止部と係止して上記サブサセプタを位置決めする位
置決め用係止部とを備えたことを特徴とする基板処理装
置である。
【0007】サブサセプタの外周には位置決め用被係止
部の他に、ロボットハンドがサブサセプタを容易に支持
できるようにロボットハンド把持用の被把持部を設ける
ことが好ましい。この点は次の第2の手段でも同様であ
る。
【0008】基板を処理するためにサセプタ外の基板移
し換え位置からサセプタに基板を移し換えるとき、予め
サブサセプタ上に基板を載置しておく。サセプタ移送手
段を駆動し、ロボットハンドで基板の載置されたサブサ
セプタを支持する。支持したサブサセプタを基板移し換
え位置からサセプタ上に移送し、サブサセプタを介して
基板を間接的にサセプタ上に載置する。
【0009】サセプタ上の処理済み基板をサセプタ外の
基板移し換え位置に移し換えるとき、サセプタ移送手段
を駆動し、処理基板の載置されたサブサセプタをロボッ
トハンドで支持する。支持したサブサセプタをサセプタ
から基板移し換え位置上に移送したとき、基板移し換え
位置に設けた位置決め用係止部がサブサセプタの位置決
め用被係止部と係止してサブサセプタを周方向に位置決
めする。
【0010】このように基板の移し換え操作はサセプタ
移送手段を使って自動的に行い、オペレータが介在しな
いので、オペレータの介在による発塵がなくなる。ま
た、オペレータが作業するための作業スペースも不要と
なる。その結果、基板処理の歩留まり向上に寄与できる
とともに、多大なコストがかかるクリーン環境設備の利
用効率を高める、という課題が達成される。特に、基板
移し換え位置で位置決め用係止部にサブサセプタを係止
するだけでサブサセプタの位置決めが容易に行えるとい
う利点もある。
【0011】第2の手段は、サセプタと基板との間に介
在して、上記基板を上記サセプタに間接的に載置するサ
ブサセプタを備え、上記サブサセプタは基板突上げ用の
貫通孔を有し、上記サブサセプタを支持するロボットハ
ンドを有し、上記ロボットハンドで上記サブサセプタを
支持して、上記サセプタと上記サセプタ外の基板移し換
え位置との間で上記サブサセプタの移送を行うサブサセ
プタ移送手段と、上記基板移し換え位置に設けられ、上
記サセプタ移送手段で上記基板移し換え位置に移送され
たとき、上記サブサセプタに設けた基板突上げ用の貫通
孔から挿入されて上記サブサセプタから基板を突き上げ
て浮上させる突上げピンとを備えたことを特徴とする基
板処理装置である。
【0012】基板を処理するためにサセプタ外の基板移
し換え位置からサセプタに基板を移し換えるとき、予め
サブサセプタ上に基板を載置しておく。サセプタ移送手
段を駆動し、ロボットハンドで基板の載置されたサブサ
セプタを支持する。支持したサブサセプタを基板移し換
え位置からサセプタ上に移送し、サブサセプタを介して
基板を間接的にサセプタ上に載置する。
【0013】サセプタ上の処理済み基板をサセプタ外の
基板移し換え位置に移し換えるとき、サセプタ移送手段
を駆動し、処理基板の載置されたサブサセプタをロボッ
トハンドで支持する。支持したサブサセプタをサセプタ
から基板移し換え位置上に移送したとき、基板移し換え
位置に設けた基板突上げピンがサブサセプタの基板突上
げ用の貫通孔を通って基板を突き上げ、サブサセプタか
ら基板を浮上させる。
【0014】このように基板の移し換え操作はサセプタ
移送手段を使って自動的に行い、オペレータが介在しな
いので、オペレータの介在による発塵がなくなる。ま
た、オペレータが作業するための作業スペースも不要と
なる。その結果、基板処理の歩留まり向上に寄与できる
とともに、多大なコストがかかるクリーン環境設備の利
用効率を高める、という課題が達成される。特に、基板
が浮上するので、次工程で不要となるサブサセプタを残
して基板のみを移送することが容易になるという利点も
ある。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態を
図面を参照しながら説明する。なお、図1において、図
2と同一符号は同一あるいは相当部分を示すものとす
る。
【0016】図1は本発明による基板処理装置の一実施
形態を示す全体概略図であって、1は半導体ウェハ、2
はサセプタ(主サセプタ)、3はサブサセプタ、4はウ
ェハ収納カセット、5はサブサセプタ移送手段、6はサ
ブサセプタステージ、7はウェハ移送手段である。ここ
で、サブサセプタ3は半導体ウェハ1を載置した状態で
主サセプタ2に載置されるように形成されている。
【0017】主サセプタ2には、サブサセプタ3を載置
させるための嵌合受け部21が設けられている。この嵌
合受け部21にサブサセプタ3が収容されることで、サ
ブサセプタ3が主サセプタ2に安定に載置されるように
なっている。半導体ウェハ1は、サブサセプタ3に載置
されたまま主サセプタ2上に間接的に載置されて成膜等
の処理にかけられる。
【0018】サブサセプタ移送手段5は水平多関節ロボ
ットにより構成される。2本の水平アーム5a、5b、
及び水平アーム5bの先端に取り付けられた3本のロボ
ットハンド5c等を備える。3本のロボットハンド5c
によりサブサセプタ3を支持して、主サセプタ2とサブ
サセプタステージ6との間で、半導体ウェハ1が載置さ
れたサブサセプタ3の移送を行う。
【0019】サブサセプタステージ6は、主サセプタ2
の外であって、主サセプタ2とカセット4の中間のウェ
ハ移し換え位置Dに設置されている。ウェハ移送手段7
は水平移動アームとツィーザを有するウェハ搬送ロボッ
トであって、上記サブサセプタステージ6に移送された
サブサセプタ3と上記カセット4との間で、半導体ウェ
ハの移送を行う。
【0020】図3は、主サセプタ2にサブサセプタ3を
載置した状態を示す。サブサセプタ3はウェハ1を載置
する側の面が凹面に形成されて、ウェハ1を線接触支持
している。サブサセプタ3が載置される嵌合受け部21
は、サブサセプタ3のウェハ載置面ないしは載置線が主
サセプタ2の上面に対して同一面ないしは同一線となる
ように形成されている。これにより、サブサセプタ3に
載置された半導体ウェハ1を、あたかも主サセプタ2の
上に直接載置したのと同じ位置条件で成膜等の処理にか
けることができる。
【0021】さらに、上記嵌合受け部21は、サブサセ
プタ3の外側面と嵌合受け部21の内側面との間に所定
の間隙が生じるように形成されている。これにより、そ
の間隙からロボットハンド5cの把持爪(後述する)を
差し入れて、サブサセプタ3の装着および取り出しを簡
単かつ確実に行うことができるようになっている。
【0022】図4は、サブサセプタ3の構成例を上面図
(図4(a))、側面図(図4(b))、部分拡大図
(図4(c)、(d))によって示す。
【0023】図4(a)、(b)に示すように、サブサ
セプタ3は、円形底部31と環状縁部32を有する薄皿
状に形成され、その外側面には被把持部としての凹状の
把持用係止部33と、位置決め用被係止部としての位置
決め溝部34とが形成されている。把持用係止部33
は、図4(c)のA部拡大図で示すように、外側面の下
半分にて半円形に切り込んだすくい上げ用ザグリによっ
て形成されている。このザグリすなわち半円形の係止部
33は等角間隔で複数箇所(3箇所)設けられ、これに
ロボットハンド5cの把持爪を引っかけることによって
サブサセプタ3の把持および移送が行えるようになって
いる。
【0024】位置決め溝部34は、図4(d)のB部拡
大図で示すように、外側面を上下に抜ける垂直溝によっ
て形成される。この位置決め溝部34は、後述する位置
決めピンと共にサブサセプタ3の周方向の位置決め機構
をなす。さらに、図4(a)に示すように、サブサセプ
タ3の底部には小さな貫通孔35が等角間隔で複数箇所
(3箇所)設けられているが、この貫通孔35はウェハ
突き上げ孔であって、後述するウェハ突き上げピンと共
にウェハ突き上げ機構をなす。
【0025】図5は、サブサセプタステージ6の構成例
を上面図(図5(a))、側面図(図5(b))、部分
拡大図(図5(c))によって示す。
【0026】図5(a)、(b)に示すように、サブサ
セプタステージ6は水平に設置された円盤状基台61を
用いて構成されている。図5(b)に示すように、その
基台61の上面部には細い石英のウェハ突き上げピン6
2が等角間隔で複数本(3本)垂直に立設されている。
このウェハ突き上げピン62は、上記サブサセプタ3の
貫通孔35に対応して設けられ、貫通孔35と共にウェ
ハ突き上げ機構をなすものであって、その貫通孔35を
通してサブサセプタ3上のウェハ1を突き上げてサブサ
セプタ3から浮上させる。
【0027】これとともに、その基台61の周囲には複
数(3個)のセンター合わせ用テーパガイド63が等角
間隔で配置されている。このテーパガイド63は、図5
(c)のC部拡大図で示すように、それぞれが基台61
の中心方向に対してやや上方へ向くテーパ面を有するこ
とにより、サブサセプタ3と基台61間の中心位置決め
を行う。
【0028】さらに、各テーパガイド63の内側面には
それぞれ、図5(c)のC部拡大図で示すように、サブ
サセプタ3の位置決め溝部34を定位置に案内するテー
パ状の位置決めピン64が設けられている。この位置決
めピン64は、上記位置決め溝部34と共に、サブサセ
プタ3の回転方向の位置決め機構をなす。この位置決め
により、上記突き上げピン62と上記貫通孔35との間
の位置合わせが行われる。
【0029】図6は、サブサセプタ3をサブサセプタス
テージ6に移送するときの状態を段階別に示す。
【0030】図6(a)に示すように、3つのロボット
ハンド5cは等角間隔で3方向に水平に延びており、中
央連結部5eを中心に回動自在に設けられ、この回動に
より各ロボットハンド5cに垂設された把持爪5dが取
付部を中心に旋回するようになっている。
【0031】処理済みの半導体ウェハ1を載置した状態
のサブサセプタ3を主サセプタ2から移送するために、
水平多関節ロボットによるサブサセプタ移送手段5によ
ってサブサセプタ3を支持する。サブサセプタ3を支持
するために、サブサセプタ移送手段5の水平アーム5
a、5bを降下して、サブサセプタ3の外側面と主サセ
プタ2の嵌合受け部21の内側面との間に形成された間
隙からロボットハンド5cの把持爪5dを差し入れる。
差し入れ後、3本のロボットハンド5cを同一方向に一
斉に回動して3本の把持爪5dを旋回させて、サブサセ
プタ3の各半円形把持用係止部33内に各把持爪5dを
侵入させて停止する。水平アーム5a、5bを上昇し
て、把持爪5dを係止部33に引っ掛けてサブサセプタ
3をすくい上げる。このようにして処理済み半導体ウェ
ハ1を載置した状態のサブサセプタ3をサブサセプタ移
送手段5によって支持してサブサセプタステージ6の設
置してあるウェハ移し換え位置Dに移送する。
【0032】図6(b)に示すように、サブサセプタ3
がサブサセプタステージ6上に載置されるとき、サブサ
セプタステージ6側の突き上げピン62の先端がサブサ
セプタ3の貫通孔35を抜けてウェハ1を突き上げる。
このようにして突き上げられた半導体ウェハ1は、ウェ
ハ移送手段7によって簡単かつ確実に捕捉することがで
きる。これにより、サブサセプタ3とカセット4間での
ウェハ1の移し換え操作を円滑に行わせることができ
る。
【0033】上述した実施の形態は、半導体ウェハが処
理のために載置されるサセプタと、半導体ウェハが収納
されるカセットとの間で、半導体ウェハの移し換えを行
う基板処理装置であって、半導体ウェハを載置した状態
で上記サセプタに載置されるサブサセプタと、上記サセ
プタと上記サセプタ外のウェハ移し換え位置Dとの間で
上記サブサセプタの移送を行うサブサセプタ移送手段
と、上記移し換え位置Dに移送されたサブサセプタと上
記カセットとの間で半導体ウェハの移送を行うウェハ移
送手段とを備えたものであり、これにより、サセプタと
カセット間での半導体ウェハの移し換え操作を容易に自
動化することができるとともに、次のような効果が得ら
れる。
【0034】すなわち、オペレータの介在による発塵の
問題を解消して基板処理の歩留まりを向上させること
と、オペレータの作業空間を確保する必要がなくなって
クリーン環境設備の利用効率を高めることができる。こ
の結果、基板処理の歩留まり向上に寄与できるととも
に、多大なコストがかかるクリーン環境設備の利用効率
を高めるという課題を達成することができる。
【0035】またサブサセプタの外側面に凹状の把持用
係止部を設けたことにより、ロボットハンドなどによる
サブサセプタの把持を簡単かつ確実にすることができる
ため、サセプタとウェハ移し換え位置Dとの間でのサブ
サセプタの移送操作を一層円滑に行わせることができ
る。
【0036】またウェハ移し換え位置Dにウェハ突き上
げピンを設けるとともに、この突き上げピンが貫通する
孔をサブサセプタに設け、さらに上記移し換え位置Dに
てサブサセプタを回転方向で位置決めする位置決め機構
を設けて、サブサセプタ上のウェハを上記移し換え位置
Dにてサブサセプタから浮上させるようにしたことによ
り、サブサセプタ3とカセット4間でのウェハ1の移し
換え操作をさらに円滑に行わせることができる。
【0037】またサセプタにサブサセプタを載置させる
ための嵌合受け部を設けるとともに、サブサセプタのウ
ェハ載置面がサセプタの上面に対してほぼ同一面となる
ように上記嵌合受け部を形成したことにより、サブサセ
プタに載置された半導体ウェハ1を、あたかもサセプタ
の上に直接載置したのと同じ位置条件で成膜等の処理に
かけることができる。
【0038】さらにサブサセプタに形成した把持用係止
部を半円形とし、この半円形把持用係止部にロボットハ
ンドの把持爪を旋回して挿入するようにしたので、サブ
サセプタの外側面と主サセプタの嵌合受け部の内側面と
の間に形成する間隙を小さくでき、装置の大型化を有効
に阻止できる。
【0039】
【発明の効果】本発明によれば、サブサセプタを導入し
て、基板をサブサセプタ単位で移送できるようにしたの
で、基板処理の歩留まり向上に寄与できるとともに、多
大なコストがかかるクリーン環境設備の利用効率を高め
る、という効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による基板処理装置の一実施形態を示す
全体概略図である。
【図2】従来の基板処理装置の概要を示す全体概略図で
ある。
【図3】サセプタにサブサセプタを載置した状態を示す
断面図である。
【図4】サブサセプタの構成例を上面図、側面図、部分
拡大図により示す図である。
【図5】サブサセプタステージ6の構成例を上面図、側
面図、部分拡大図により示す図である。
【図6】サブサセプタをサブサセプタステージに移送し
たときの状態を段階別に示す断面図である。
【符号の説明】
1 半導体ウェハ 2 サセプタ(主サセプタ) 21 嵌合受け部 3 サブサセプタ 33 把持用係止部 34 位置決め溝部 35 ウェハ突き上げ用貫通孔 5 サブサセプタ移送手段 6 サブサセプタステージ 62 ウェハ突き上げピン 64 位置決めピン D ウェハ移し換え位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井ノ口 泰啓 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 高見 哲 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 三部 誠 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA13 FA01 FA12 FA15 GA43 GA45 HA33

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】サセプタと基板との間に介在して、上記基
    板を上記サセプタに間接的に載置するサブサセプタを備
    え、上記サブサセプタは、その外周に上記サブサセプタ
    を周方向に位置決めする位置決め用被係止部を有し、 上記サブサセプタを支持するロボットハンドを有し、上
    記ロボットハンドで上記サブサセプタを支持して、上記
    サセプタと上記サセプタ外の基板移し換え位置との間で
    上記サブサセプタの移送を行うサブサセプタ移送手段
    と、 上記基板移し換え位置に設けられ、上記サセプタ移送手
    段で上記基板移し換え位置に移送されたとき、上記サブ
    サセプタの位置決め用被係止部と係止して上記サブサセ
    プタを位置決めする位置決め用係止部とを備えたことを
    特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】サセプタと基板との間に介在して、上記基
    板を上記サセプタに間接的に載置するサブサセプタを備
    え、上記サブサセプタは基板突上げ用の貫通孔を有し、 上記サブサセプタを支持するロボットハンドを有し、上
    記ロボットハンドで上記サブサセプタを支持して、上記
    サセプタと上記サセプタ外の基板移し換え位置との間で
    上記サブサセプタの移送を行うサブサセプタ移送手段
    と、 上記基板移し換え位置に設けられ、上記サセプタ移送手
    段で上記基板移し換え位置に移送されたとき、上記サブ
    サセプタに設けた基板突上げ用の貫通孔から挿入されて
    上記サブサセプタから基板を突き上げて浮上させる突上
    げピンとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101374740A (zh) * 2006-03-14 2009-02-25 平田机工株式会社 搬运机器人

Cited By (1)

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CN101374740A (zh) * 2006-03-14 2009-02-25 平田机工株式会社 搬运机器人

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