JP2001033743A - 光学装置 - Google Patents

光学装置

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JP2001033743A
JP2001033743A JP20403799A JP20403799A JP2001033743A JP 2001033743 A JP2001033743 A JP 2001033743A JP 20403799 A JP20403799 A JP 20403799A JP 20403799 A JP20403799 A JP 20403799A JP 2001033743 A JP2001033743 A JP 2001033743A
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waveguides
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恵理子 松居
Akira Ishibashi
晃 石橋
Yoshifumi Mori
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    • G02B6/2804Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals forming multipart couplers without wavelength selective elements, e.g. "T" couplers, star couplers
    • G02B6/2852Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals forming multipart couplers without wavelength selective elements, e.g. "T" couplers, star couplers using tapping light guides arranged sidewardly, e.g. in a non-parallel relationship with respect to the bus light guides (light extraction or launching through cladding, with or without surface discontinuities, bent structures)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電界、電流を使わずに、光強度だけで励起し
て、光自らを制御し、コントラスト比の高い高品質な表
示機能を有し、大画面化が可能であり、更には集合発光
演算も行える光学装置を提供すること。 【解決手段】 複数の第1の光導波路(又は光ファイバ
ー)1と、これらの第1の光導波路(又は光ファイバ
ー)に直交又は略直交した複数の第2の光導波路(又は
光ファイバー)2とを具備し、第1及び第2の光導波路
(又は光ファイバー)1、2の交差部には各光導波路
(又は光ファイバー)内でそれぞれ導かれる光4と5の
光強度によって励起される被励起素子3が配され、水平
導波路(又は光ファイバー)としての第1の光導波路
(又は光ファイバー)1内の光5の光強度によって被励
起素子3がライン毎に選択されると共に、垂直導波路
(又は光ファイバー)としての第2の光導波路(又は光
ファイバー)2内の強度変調されたデータ信号光4が選
択された被励起素子3を介して外部に取出される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光学装置、例えば少
なくとも画像の光学的表示機能を有するディスプレイデ
バイスあるいは2次元光演算装置などの光学装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年、ディスプレイデバイスは、マン−
マシンインターフェースとして、ますます需要が高まっ
てきており、一般的には、自発光型と受光型とに分類さ
れている。自発光型としては、CRT(cathode ray tub
e)、PDP(プラズマディスプレイ)、ELD(エレクトロル
ミネセッセンスディスプレイ)、VFD(蛍光表示管)、LE
D(発光ダイオード) などが挙げられる。一方、受光型と
してはLCD(液晶ディスプレイ)、ECD(エレクトロクロミ
ックディスプレイ) などが挙げられる。これらのディス
プレイはすべて、エレクトロニクスの発展によって高性
能化してきており、品質、価格ともに既に成熟段階にあ
ったり、或いは、早晩成熟段階に入るものと予想され
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のようなエレクト
ロニクスを駆使したディスプレイにおいては、ディスプ
レイ画面に電界、電流を使用するため、電極を用いる必
要があり、ディスプレイパネルの大型化を図る場合に電
極又はその配線による電気抵抗の上昇が不可避的に生
じ、この制約がパネルの大型化を阻む最大の要因であ
り、ディスプレイの画面サイズには制約がある。加え
て、ディスプレイの使用材料が硬質なものが多いため、
ディスプレイ形状に自由度が乏しく、種々の任意形状や
コンパクトなサイズにすることが困難である。
【0004】そこで、本発明の目的は、従来技術とは根
本的に異なって、電界、電流を使わずに、光強度だけで
励起して、光自らを制御し、コントラスト比の高い高品
質な表示機能を有し、大画面化が可能であり、更には集
合発光演算も行える光学装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上述した従
来のエレクトロニクス(electronics)に対抗して、フォ
トニクス(photonics)と称される技術が21世紀に向けて
中心を担ってくるものと考えている。エレクトロニクス
が電子のプロセスを対象とし、電界を用いるのに対し、
フォトニクスは電界を用いずに光のプロセスを取り扱
う。
【0006】電磁波である光は、振動電場が分子内の荷
電粒子と強い相互作用を示す。分子中の荷電粒子は電子
と陽子であるが、陽子と中性子が詰まった核は質量が多
いため、光との相互作用においては静止しているとみな
してよい。つまり、光と物質の相互作用を考える場合
は、光と核との相互作用は考慮しなくてよいことにな
る。一方、電子は陽子と比較してその質量は二千分の1
程度であり、光の如き高い振動数領域でも十分に振動電
場に対して追随できる。従って、光と物質の相互作用は
光と分子中の電子との相互作用とみなせる。分子中には
多くの電子が存在するが、核に弱く束縛されている外殻
の電子の方が光との相互作用を受けやすい。
【0007】光の吸収は、光と分子中の電子との相互作
用におけるSo →Sn 遷移であり、フェムト秒オーダで
完了する。この不安定状態(Frank-Condon状態) は長続
きせず、質量の大きい正電荷を帯びた核が、バランスを
とるために座標を変えて緩和が起きる。この緩和が起こ
る時間スケールは、ピコ秒オーダである。核配置の緩和
と平行して、比較的安定な励起状態であるS1 が生成す
るが、その寿命はナノ秒程度であるため、光の吸収によ
って起きる励起状態に関与する過程はほとんどすべてこ
の時間が支配していると考えてよい。
【0008】本発明は、特に、21世紀に向けて、この
フォトニクスを駆使した新規で有用なディスプレイを提
案するものである。即ち、本発明は、第1の光導波路
(又は光ファイバー)と;この第1の光導波路(又は光
ファイバー)に交差した第2の光導波路(又は光ファイ
バー)と;前記第1及び第2の光導波路(又は光ファイ
バー)の交差部に配され、前記第1及び第2の光導波路
(又は光ファイバー)内でそれぞれ導かれる光(例えば
光の光強度)によって励起される被励起素子と;を具備
し、少なくとも光学的表示機能を有する光学装置に係る
ものである。
【0009】本発明の光学装置によれば、従来のエレク
トロニクスは使わずに、主としてフォトニクスの技術を
用いて、第1及び第2の光導波路(又は光ファイバー)
の交差部においてそれぞれの導波光によって素子を励起
しているので、この素子を介して光の選択的な導出又は
遮断が可能となる。従って、光源である半導体レーザ等
は別として、ディスプレイ画面に電界、電流を一切使用
せず、光励起だけで表示可能であるため、高コントラス
トの高品質表示が可能であり、しかも、この光学的表示
機能と同時に光学的演算機能も実現できる。また、従来
のように電極(これは、パネルの大型化を阻む最大の要
因であった。)を使用しないので、この光導波路(又は
光ファイバー)型のディスプレイの画面サイズには制約
がなく、大画面化など任意のサイズとすることができ
る。加えて、使用材料が柔軟であると、ディスプレイ形
状も任意なものに作成可能である。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の光学装置においては、前
記被励起素子が、光励起によって屈折率変調する素子、
屈折率分布変調する素子、発光強度変調する素子、着色
濃度変調する素子、誘電率変調する素子、液晶配向状態
を変える液晶素子、及び光散乱する素子からなる群より
選ばれた1種、又は2種以上の組み合わせからなるり、
前記光励起によって前記交差部において選択的に光が導
出又は遮断され、これによって光学的表示及び/又は演
算が行われるように構成することができる。
【0011】また、具体的には、前記第1及び第2の光
導波路(又は光ファイバー)がそれぞれ複数個配列さ
れ、これらの複数の光導波路(又は光ファイバー)に光
源が直接又は間接的に光学結合(カップリング)してい
る(但し、直接的に光学結合している場合には、前記光
導波路(又は光ファイバー)と前記光源とが一対一に対
応して設けられ、間接的に光学結合している場合には、
前記光源と少なくとも1つの前記光導波路(又は光ファ
イバー)とが光導波部材によって連結されている。)。
【0012】そして、実際のディスプレイ用として、複
数の前記第1の光導波路(又は光ファイバー)と、これ
らの第1の光導波路(又は光ファイバー)に直交又は略
直交した複数の前記第2の光導波路(又は光ファイバ
ー)とを具備し、前記第1及び第2の光導波路(又は光
ファイバー)の交差部は光学結合しておらず、前記第1
及び第2の光導波路(又は光ファイバー)内でそれぞれ
導かれる光の光強度によって励起される前記被励起素子
が前記交差部に配され、水平導波路(又は光ファイバ
ー)としての前記第1の光導波路(又は光ファイバー)
内の光の光強度によって前記被励起素子がライン毎に選
択されると共に、垂直導波路(又は光ファイバー)とし
ての前記第2の光導波路(又は光ファイバー)内の光が
データ信号に応じて強度変調され、この強度変調された
データ信号光が、選択された前記被励起素子を介して外
部に取出されるように構成するのがよい。
【0013】或いは、複数の前記第1の光導波路(又は
光ファイバー)と、これらの第1の光導波路(又は光フ
ァイバー)に直交又は略直交して前記第1の光導波路
(又は光ファイバー)と同一面内に配された複数の前記
第2の光導波路(又は光ファイバー)とを具備し、前記
第1及び第2の光導波路(又は光ファイバー)内でそれ
ぞれ導かれる光の光強度によって励起される前記被励起
素子が前記第1及び第2の光導波路(又は光ファイバ
ー)の交差部に配され、水平導波路(又は光ファイバ
ー)としての前記第1の光導波路(又は光ファイバー)
内の光の光強度によって前記被励起素子がライン毎に選
択されると共に、垂直導波路(又は光ファイバー)とし
ての前記第2の光導波路(又は光ファイバー)内の光が
データ信号に応じて強度変調され、この強度変調された
データ信号光が、選択された前記被励起素子を介して外
部に取出されるように構成するのもよい。
【0014】また、前記被励起素子に、素子温度を制御
可能な素子又は高周波電界を印加可能な素子が設けられ
ていると、特に液晶素子の場合には、温度が高いときや
高周波電界印加時に液晶の分極反転が均一に生じ易くな
る。
【0015】次に、本発明の好ましい実施の形態を説明
する。
【0016】本実施の形態による光導波路(又は光ファ
イバー)型ディスプレイは、構成材料としてプラスチッ
ク等の柔軟な材料を使用し、図10に示す如く、迫力の
ある画面となる120度曲面ディスプレイ(A)や、半
球型ディスプレイ(B)、全球型ディスプレイ(C)、
コクーン型ディスプレイなどが可能な他、使用しないと
きは巻き上げるタイプ(D)などとして、コンパクトな
サイズにすることができる。
【0017】このディスプレイの画素部は、図1に例示
するように構成してよい。即ち、各画素では2本の光導
波路(又は光ファイバー)1と2を直交又は略直交に交
差させる。これらの光導波路(又は光ファイバー)は、
導波効率の良い通信用石英ファイバやプラスチックファ
イバからなっていてよく、或いは、十字型のパターンと
なるように3次元高分子導波路(又は光ファイバー)を
フォトリソ法でフィルム基板上に作製してもよい。光源
には、例えば半導体レーザを使用する。
【0018】光導波路(又は光ファイバー)の交差する
部分は光学結合(カップリング)していないが、その交
差部分には、照射光の光強度に対してしきい値を持ち、
その強度によって励起される素子3を光スイッチとして
配置する。即ち、屈折率を変える素子、発光強度を変え
る素子、着色濃度を変える素子、誘電率を変える素子、
透磁率を変える素子、及び屈折率分布を変える素子から
なる群より選ばれた1種、又は2種以上の組み合わせで
ある有機又は無機或いはその複合材料を光スイッチ(変
調素子)3として配する。例えば、下記に説明するよう
な屈折率変調を生じるフォトクロミック材料などであ
る。
【0019】フォトクロミック分子は、励起状態におい
て化学結合を組替えるチャンネルを持つため、光を受け
取り、電子状態の異なる別の異性体へ変換する。2つの
異性体は、分子量は同じであるが、化学結合様式が異な
っていることから、異なった分子物性を持ち、色のみな
らず、屈折率、誘電率、立体構造などが異なっている。
これらの分子単独の結晶、アモルファス膜、或いはこれ
らの分子を含む高分子膜の光物性及び電気的性質は、外
部から光を照射するだけで、可逆的に変化することにな
る。上述したように、光反応は電子の励起状態の寿命
(ナノ秒)で完了するが、通常のフォトクロミック材料
は吸収した光子数に比例して反応するため、光反応にし
きい値がない。従って、本発明に基づくディスプレイの
ためには、特殊なフォトクロミック材料を使用する必要
がある。
【0020】最も望ましい方法は、2段階2光子反応を
生じる材料を用いることである。例えば、図4に示すよ
うに、ナフトピラン誘導体には、そのような2光子反応
する分子が見出されている(内田学及び入江正浩”ナフ
トピラン誘導体のフォトクロミック反応”,「染料と薬
品」、第42巻第6号、P11〜17(1997),M. Uch
ida and M. lrie; J. Am. Chem. Soc., 115, 6442 (199
3))。
【0021】この分子系では、図4の左側のピラン構造
が着色しており、右のビシクロ構造になると色は消え
る。ピラン構造は例えば波長405nmの紫外光の1光
子を受けると、ケト中間体へ変換し、この中間体は基底
状態にあるが、比較的不安定であって、熱戻り反応で直
ちにもとのピラン体に戻る。光照射強度が弱い時は、こ
れらの2状態でのフォトクロミック反応が起こるのみで
あり、光を切るとすべての分子が元のピラン構造に戻
る。即ち、弱い光強度の時は、恒常的な変化は起こらな
い。光照射強度を上げると、ケト中間体が更に1光子吸
収して、右側の無色のビシクロ構造に変換する。この構
造は安定であり、光強度に関して、しきい値を持つ変換
が起きることになる。そして、このビシクロ構造は、例
えば波長334nmの紫外光の照射によってケト中間体
へ戻り、その後、ケト中間体は熱的にピラン構造へ戻
る。
【0022】この2段階2光子反応によって、ナフトピ
ラン誘導体はピラン構造からビシクロ構造へと変換する
(即ち、図5に示すように、光強度に応じて屈折率がn
1 からn1 +Δnへと変化する)ことになる。
【0023】このような変調現象を光スイッチとして利
用し、例えば、図1において、画素部の上方に位置する
視認者からみて反対側にある光導波路(又は光ファイバ
ー)2(屈折率n1 )には、可視光のレーザ光4を例え
ばデータ信号で変調されたデータ信号光として常時導波
しておく一方、視認者からみて近い方の光導波路(又は
光ファイバー)1(屈折率n1 )には、紫外光5をオン
オフさせながら導波させておく。この紫外光5は、図中
の(A)のように、例えば16.7msecのインター
バルで60Hzの周波数のパルスとしてよい。或いは
(B)のように、図3に示した波長405nm(2光子
分に対応)及び334nm(1光子分に対応)の紫外光
を交互にパルス照射してもよく、この場合は上記のピラ
ン構造→ビシクロ構造への変化(屈折率上昇)とビシク
ロ構造→ケト中間体→ピラン構造への戻り反応が繰り返
されることになる。
【0024】こうして、光導波路(又は光ファイバー)
1の紫外光の照射によって、その波長に吸収を持つ交差
部の変調素子3(光スイッチ部分)の例えば屈折率をn
1 からn1 +Δnに変調させて、可視光の光導波路(又
は光ファイバー)2の全反射角を変調させることによ
り、図2に破線で示すように視認者側に可視光を取り出
すことができる。
【0025】こうして、光導波路(又は光ファイバー)
1の紫外光5をセレクト信号としてライン選択し、光導
波路(又は光ファイバー)2の可視光を両光導波路(又
は光ファイバー)の交差部(画素部)から外部へ取り出
すことにより、データ信号に応じた信号光を表示画像と
して識別することができるようになる。また、この画像
表示機能はデータ信号光を光導波路(又は光ファイバ
ー)のセレクトによって選択的に取出すものであるた
め、光信号を出力する演算機能も併せ持つこと(或い
は、いずれか一方の機能を有すること)になり、集合発
光表示素子としてのみならず、集合発光演算素子又は2
次元光演算装置としても有用である。
【0026】また、上記の光導波路に代えて、図3
(A)で示す2種の光ファイバー1、2を使用して、図
3(B)のような画素部、或いは図3(C)のような画
素部を構成しても、上記と同様の光スイッチ機能を発揮
することができる。
【0027】上記においては、光照射によって屈折率が
上昇する例を述べたが、逆に屈折率が低下する変調素子
を設けることもできる。
【0028】例えば、図6に示すように、十字型の3次
元光導波路(又は光ファイバー)として構成し、交差部
が光学結合した両方の導波路(又は光ファイバー)1
1、12に同じ波長のレーザ光14、15をそれぞれ導
波させておき、その光強度の足し合わせで、しきい値以
上になった場合には、同図(B)の状態から(A)のよ
うに例えば屈折率を低下させるように変調させ、その可
視光を視認者側に取り出すことができる。
【0029】この屈折率変調を生じさせるためには、例
えばnw =1.490、nw −Δn=1.485、nw
+Δn’=1.495とすると、θ0 =42.155
°、θ1 =47.845°、θ2 =48.058°、θ
3 =41.942°、θ4 =82.995°、θ’1
47.845°、θ’2 =47.634°となる。これ
によって、図7(B)のように、交差部13に一方のレ
ーザ光15が入射しないときには本来の屈折率(nW
Δn’)によって導波光14はそのまま通過するが、レ
ーザ光15が入射したときにはその光強度がレーザ光1
4の光強度に足し合され、図7(A)のように、交差部
13の屈折率がnW −Δnと低下して入射レーザ光14
が外部へ導出されることになる。なお、ここではレーザ
光15をセレクト用、レーザ光14をデータ信号光とし
てよい。
【0030】なお、図6に示したような十字型光導波路
において、その交差部13に光励起で屈折率が上昇する
材料を用いると、図7とは逆の現象により、光励起され
ないときには光を導出し、光励起されたときには屈折率
上昇により光を遮断することができる。
【0031】また、上記の十字型光導波路に代えて、図
8に示すように、光ファイバー11、12によって十字
型スイッチ素子を構成してもよい。これも、上記と同様
の光スイッチ機能を示すものである。
【0032】次に、上記した表示素子を画素部に用いた
本発明に基づくディスプレイを図9について説明する。
【0033】例えば、図6及び図7、図8に示した十字
型光導波路(又は光ファイバー)を同一面内にてディス
プレイの1画素として配し、垂直方向に光導波路(又は
光ファイバー)12を1600本、水平方向に光導波路
(又は光ファイバー)11を1200本並べると、その
交点は192万個になり、つまり192万画素のディス
プレイを作製できる。その際、図9に例示するように、
光強度を制御する信号としては、例えば、垂直方向から
は、個々の光導波路(又は光ファイバー)12へ各光源
16から各画素の表示に合った光強度を持つデータ信号
光14を送り、また水平方向からは、個々の光導波路
(又は光ファイバー)11へ各光源17からのセレクト
信号光15によって単に各光導波路(又は光ファイバ
ー)全体を選択する(このセレクト信号光は光強度しき
い値と同値又はゼロ強度でオンオフ)。なお、光源1
6、17はそれぞれ、図示のように各光導波路(又は光
ファイバー)に一対一に対応して直接的に光学結合して
配される以外に、例えば光ファイバーの如き光導波部材
を介して光導波路(又は光ファイバー)に接続(間接的
に光学結合)してもよく、共通の光源から光導波部材を
介して個々の光導波路(又は光ファイバー)に接続して
もよく、更には直接、間接の光学結合方式を併用しても
よい。
【0034】具体的には、垂直方向の光導波路(又は光
ファイバー)12を可視光である赤、緑、青の順に合計
4800本並べれば、192万画素のフルカラーディス
プレイとなる。水平方向の光導波路(又は光ファイバ
ー)11は、そのライン全体を選択するため、光スイッ
チとしては、例えば現行のUXGAプログレッシブ表示
方式の場合、約14μ秒(1/60/1200秒)の駆
動時間が与えられる。この場合、ナノ秒でスイッチする
フォトニクスを使用しているので、スイッチングは十二
分に可能であり、フォトニクスならではの駆動方法であ
ることは明らかである。また、上記した材料とは異なっ
て電子密度分布を変調させるような、メモリ性のない材
料(例えばポリジアセチレン)を光スイッチに使用した
場合でも、約14μ秒間光を取り出すことができれば、
主にナノ秒間しか発光していない現在のCRTディスプ
レイから考えて、人間の眼には十分な表示時間である。
また、1フレーム時間(1/60秒間)点灯しつづける
ために問題となっている、液晶ディスプレイにおけるよ
うな動画ぼけも発生しない。
【0035】要は、本発明に基づくディスプレイは、電
界、電流を使わずに、光強度だけで、光自らを制御で
き、コントラスト比の高い高品質な表示装置(更には集
合発光演算装置)として新規かつ有用である。なお、図
9に示した如きレイアウトは、図1に示した構成の画素
部についても同様に適用してよい。
【0036】ここで、交差部(画素)において使用可能
な変調素子としては、光励起によって屈折率変調する素
子、屈折率分布変調する素子、発光強度変調する素子、
着色濃度変調する素子、誘電率変調する素子、透磁率変
調する素子、液晶配向状態を変える液晶素子、及び光散
乱する素子からなる群より選ばれた1種、又は2種以上
の組み合わせが適用可能である。これらのうち、いくつ
かの変調について更に詳述する。
【0037】(1)屈折率変調について 有機化合物の屈折率(n)は、次式で表される。
【数1】 (ここで、M:分子量、d:密度、R:分子屈折、N:
アボガドロ数、α:分極率である。) (*)化学大辞典8、昭和37年発行、共立出版株式会
社、p186による。
【0038】この式から示されるように、分極率を上げ
ることにより屈折率を大きくし、また分極率を下げるこ
とにより屈折率を小さくすることができる。有機化合物
の分極率を上げるためには、新たな原子や原子団と新た
に結合させるなどで可能であり、上述したようなナフト
ピラン誘導体がその一例である。また、分極率を下げる
ためには、逆に、共役部位などの結合を切断することが
容易に考えられる。特に光エネルギーによって屈折率を
変化させるには、例えば図11に示すように、環状ケト
ンの開裂、オレフィンの付加反応、芳香族置換ケトンの
エノール化など、多数種類が存在する。
【0039】一方、無機化合物の場合は、Δn<0とな
るためには、光で励起された自由電子により、屈折率は
文献("Heterostructure Lasers",H.C.Casey,Jr.and M.
B.Panish,Academic Press,New York,1978)にあるよう
に、
【数2】 (ここで、nは自由電子濃度、qは電荷、mn は電子の
有効質量である。)に従って減少する。これは、ホール
についても同様である。p型材料の場合には、ホール濃
度をp、ホールの有効質量をmp で表す。
【0040】一例として、赤外光に透明なGaAsを例
にとると、
【数3】
【0041】また、Δn>0となるためには、公知のよ
うに、バンドギャップEgに等しい光を入射することに
より、屈折率を5〜10%程度上昇させることができ
る。
【0042】(2)各種の画素形成材料について 本発明に使用可能な上記した材料を含めた各種の画素形
成材料(光導波路(又は光ファイバー)の交差部に用い
る材料)のうち、いくつかを構造式と共に図12に示
す。
【0043】ナフトピラン誘導体については上述した通
りであるが、その他に、光強度に応じて屈折率変化を生
じる三次非線形光学材料として知られるポリジアセチレ
ン系の有機高分子は、主鎖方向のπ電子共役系により導
電性、非線形光学特性といった機能を発現するので、異
方性が大きく、主鎖方向には大きな機能を示すが、主鎖
と直交する方向にはほとんど機能を示さないという特徴
がある。
【0044】その他、光強度に応じて変色するスピロベ
ンゾピラン(無色⇔青色)、アゾベンゼン(淡黄色⇔橙
色)、フルギド(淡黄色⇔橙色)、ジアリールエテン
(無色⇔赤色)などが使用可能である。また、液晶配向
膜材料であるベンゾフェノン系ポリイミドは、光照射に
よって構造が変化し、液晶配向状態を変化させる。
【0045】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。実施例1 図13(A)に示すように、ポリシロキサン(東レ株式
会社製:屈折率1.49)を用いて、ガラス基板上に十
字型の光導波路(又は光ファイバー)11、12をその
交差部を除いて印刷法で作製した。そして、図13
(B)に示すように、十字の中央部分(交差部となる凹
所)にポリビニルアルコール(屈折率1.51)の20
%水溶液にジアゾ系色素(図12に示したアゾベンゼ
ン)を10%分散させたものを滴下し、90℃で数時間
乾燥させた。このジアゾ系色素含有層13の膜厚が、ポ
リシロキサン層11、12と同程度となるまで積層を繰
り返した。
【0046】こうして作製したサンプルにおいて、図1
3(C)に示すように、半導体レーザ(波長510n
m)14、15をプリズムを用いて光導波路(又は光フ
ァイバー)11と12へ導き、交差部13にてカップリ
ングさせた。レーザは1μ秒ずつのパルスで照射した。
中央の光スイッチ部分13からは緑色の導波光がオン、
オフされるのが観測された。
【0047】実施例2 図14に示すように、光照射によってその構造を変える
(液晶の配向状態を変える)図12に示したベンゾフェ
ノン系ポリイミドを配向膜18としてガラス基板19に
スピンコートし、ラビングはせずに2枚合わせ、ギャッ
プ1.7μmのセル13を作製し、このセルを実施例1
のように図13に示した光導波路(又は光ファイバー)
11、12の交差部に配した。セル中には、チッソ社製
の強誘電性液晶材料(CS−1025)23を等方相で
注入して、室温まで徐冷した。また、セルには、熱電対
などの液晶温度検出素子20(但し、この検出素子は必
ずしも必要ではない。)を接続し、この検出温度に基づ
いて液晶温度を制御するヒーター素子21が接続されて
いる。
【0048】このようなセルを4種用意し、10℃、2
0℃、30℃、40℃の各温度に設定し、それぞれに図
13と同様に光導波路(又は光ファイバー)を通して高
圧水銀ランプ光(波長366nm)22を照射した。こ
の結果、光照射によって図14に示すように配向膜18
が構造変化して液晶配向状態を変え、光22が選択的に
外部に導出されると共に、セル温度が高いほど、光の導
出が十分となり、液晶の分極反転が均一に起きているこ
とが判明した。
【0049】実施例3 図15に示すように、実施例2と同様に、ベンゾフェノ
ン系ポリイミドからなる配向膜18をITO(Indium t
in oxide) からなる透明電極24付きのガラス基板19
にスピンコートし、ラビングはせずに2枚合わせ、ギャ
ップ1.7μmのセルを2種作製した。セル中には、チ
ッソ社製の強誘電性液晶材料(CS−1025)を等方
相で注入して、室温まで徐冷した。
【0050】一方のセルには、高周波電源25を接続
し、このセルには±0.5Vの電圧を周波数10kHz
の矩形波として印加しながら、また他方のセルには電圧
を印加せずに、それぞれのセルに光導波路(又は光ファ
イバー)からの高圧水銀ランプ光(波長366nm)2
2を照射した。その結果、光励起により配向膜18の液
晶配向状態を変えて光を導出する際、高周波の電界を印
加したセルの方が、電界を印加しなかったセルよりも、
光の導出が十分となり、強誘電性液晶の分極反転が均一
に(セルギャップムラ等に依存せず)起きていることが
判明した。
【0051】以上に説明した本発明の実施の形態及び実
施例は、本発明の技術的思想に基づいて更に変形が可能
である。
【0052】例えば、無機材料の屈折率変調や、無機・
有機ハイブリッド材を用いるなどして光スイッチ機能を
生ぜしめることができる。また、入射光の強度以外に
も、偏光や位相などを利用して光スイッチ動作を行わせ
ることができる。
【0053】
【発明の作用効果】本発明の光学装置によれば、主とし
てフォトニクスの技術を用いて、第1及び第2の光導波
路(又は光ファイバー)の交差部においてそれぞれの導
波光によって素子を励起しているので、この素子を介し
て光の選択的な導出又は遮断が可能となる。従って、デ
ィスプレイ画面に電界、電流を一切使用せず、光励起だ
けで表示可能であるため、高コントラストの高品質表示
が可能であり、しかも、この光学的表示機能と同時に光
学的演算機能も実現できる。また、電極を使用しないの
で、この光導波路(又は光ファイバー)型のディスプレ
イの画面サイズには制約がなく、大画面化など任意のサ
イズとすることができる。加えて、使用材料が柔軟であ
ると、ディスプレイ形状も任意なものに作成可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態によるディスプレイ
画素部の拡大一部破断斜視図とその駆動例を示す概略図
である。
【図2】同、光導波路(又は光ファイバー)から光が導
出される原理を説明する概略断面図である。
【図3】同、光ファイバー(A)を用いたディスプレイ
画素部(B)又は(C)を示す概略断面図である。
【図4】同、ディスプレイ画素部の変調素子に使用可能
な有機化合物の2段階2光子反応例を示すスキームであ
る。
【図5】同、変調素子の光強度に対する屈折率変化を示
すグラフである。
【図6】本発明の第2の実施の形態によるディスプレイ
画素部の拡大斜視図とその駆動例を示す概略図である。
【図7】同、光導波路(又は光ファイバー)から光が導
出される原理を説明する概略断面図である。
【図8】同、光ファイバーを使用したディスプレイ画素
部の拡大斜視図である。
【図9】本発明の第2の実施の形態によるディスプレイ
の概略レイアウトである。
【図10】本発明に基づく各種ディスプレイの概略図で
ある。
【図11】本発明に使用可能な変調素子用の有機化合物
の光による構造変化を示す化学式である。
【図12】本発明に使用可能な変調素子用の有機化合物
の構造式である。
【図13】本発明の実施例による光導波路(又は光ファ
イバー)の作成例とその駆動例を示す斜視図である。
【図14】本発明の他の実施例による光導波路(又は光
ファイバー)から光が導出される原理を説明する概略断
面図である。
【図15】本発明の更に他の実施例による光導波路(又
は光ファイバー)から光が導出される原理を説明する概
略断面図である。
【符号の説明】
1、2、11、12…光導波路(又は光ファイバー)、
3、13…交差部(変調素子)、4、5、14、15…
光、16、17…光源、18…配向膜、19…ガラス基
板、21…ヒータ、23…液晶、24…透明電極、25
…高周波電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 芳文 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 2H079 AA08 AA12 BA01 CA02 CA21 DA07 DA08 EA03 EA09 GA05 HA06 HA13 KA11 2H088 EA46 EA68 GA04 HA13 HA21 JA25 KA02 KA05 MA03 5C094 AA06 AA14 AA60 BA21 CA19 ED01 FB02 FB16 FB20

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の光導波路(又は光ファイバー)
    と;この第1の光導波路(又は光ファイバー)に交差し
    た第2の光導波路(又は光ファイバー)と;前記第1及
    び第2の光導波路(又は光ファイバー)の交差部に配さ
    れ、前記第1及び第2の光導波路(又は光ファイバー)
    内でそれぞれ導かれる光によって励起される被励起素子
    と;を具備し、少なくとも光学的表示機能を有する光学
    装置。
  2. 【請求項2】 前記被励起素子が、光励起によって屈折
    率変調する素子、屈折率分布変調する素子、発光強度変
    調する素子、着色濃度変調する素子、誘電率変調する素
    子、透磁率変調する素子、液晶配向状態を変える液晶素
    子、及び光散乱する素子からなる群より選ばれた1種、
    又は2種以上の組み合わせからなり、前記光励起によっ
    て前記交差部において選択的に光が導出又は遮断され、
    これによって光学的表示及び/又は演算が行われるよう
    に構成した、請求項1に記載した光学装置。
  3. 【請求項3】 前記第1及び第2の光導波路(又は光フ
    ァイバー)がそれぞれ複数個配列され、これら複数の光
    導波路(又は光ファイバー)に光源が直接又は間接的に
    光学結合している(但し、直接的に光学結合している場
    合には、前記光導波路(又は光ファイバー)と前記光源
    とが一対一に対応して設けられ、また、間接的に光学結
    合している場合には、前記光源と少なくとも1つの前記
    光導波路(又は光ファイバー)とが光導波部材によって
    連結されている。)、請求項1に記載した光学装置。
  4. 【請求項4】 複数の前記第1の光導波路(又は光ファ
    イバー)と、これらの第1の光導波路(又は光ファイバ
    ー)に直交又は略直交した複数の前記第2の光導波路
    (又は光ファイバー)とを具備し、前記第1及び第2の
    光導波路(又は光ファイバー)の交差部は光学結合して
    おらず、前記第1及び第2の光導波路(又は光ファイバ
    ー)内でそれぞれ導かれる光によって励起される前記被
    励起素子が前記交差部に配され、水平導波路(又は光フ
    ァイバー)としての前記第1の光導波路(又は光ファイ
    バー)内の光の光強度によって前記被励起素子がライン
    毎に選択されると共に、垂直導波路(又は光ファイバ
    ー)としての前記第2の光導波路(又は光ファイバー)
    内の光がデータ信号に応じて強度変調され、この強度変
    調されたデータ信号光が、選択された前記被励起素子を
    介して外部に取出される、請求項1に記載した光学装
    置。
  5. 【請求項5】 複数の前記第1の光導波路(又は光ファ
    イバー)と、これらの第1の光導波路(又は光ファイバ
    ー)に直交又は略直交して前記第1の光導波路(又は光
    ファイバー)と同一面内に配された複数の前記第2の光
    導波路(又は光ファイバー)とを具備し、前記第1及び
    第2の光導波路(又は光ファイバー)内でそれぞれ導か
    れる光の光強度によって励起される前記被励起素子が前
    記第1及び第2の光導波路(又は光ファイバー)の交差
    部に配され、水平導波路(又は光ファイバー)としての
    前記第1の光導波路(又は光ファイバー)内の光の光強
    度によって前記被励起素子がライン毎に選択されると共
    に、垂直導波路(又は光ファイバー)としての前記第2
    の光導波路(又は光ファイバー)内の光がデータ信号に
    応じて強度変調され、この強度変調されたデータ信号光
    が選択された前記被励起素子を介して外部に取出され
    る、請求項1に記載した光学装置。
  6. 【請求項6】 前記被励起素子に、素子温度を制御可能
    な素子又は高周波電界を印加可能な素子が設けられてい
    る、請求項1に記載した光学装置。
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