JP2001026880A - Formation of conductor pattern - Google Patents

Formation of conductor pattern

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JP2001026880A
JP2001026880A JP11200050A JP20005099A JP2001026880A JP 2001026880 A JP2001026880 A JP 2001026880A JP 11200050 A JP11200050 A JP 11200050A JP 20005099 A JP20005099 A JP 20005099A JP 2001026880 A JP2001026880 A JP 2001026880A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a conductor pattern capable of easily and securely forming a fine-pitched pattern to a prescribed object. SOLUTION: In a method for forming a conductor pattern including a stage in which metallic ions (M+) are held to the surface of an object 1 composed of an organic compd. as the main raw material and a stage in which the held metallic ions (M+) are reduced and precipitated onto the surface of the object 1 and are made to act as a catalyst, the stage in which the metallic ions (M+) are held is executed, after the introduction of a carboxyl group (-COOH) of an organic compd. composing the object 1, by bonding the metallic ions (M+) to carboxylate ions (-COO-) obtd. by making hydrogen ions (H+) free from the carboxyl group (-COOH). Preferably, the introduction of the carboxyl group (-COOH) into the organic compd. is executed by oxidizing the side chains or terminal groups thereof. Furthermore, the oxidation of the side chains or terminal groups or the conversion of the metallic ions (M+) to a catalyst is executed by irradiating the object 1 with laser light using a laser 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、所望の対象物、た
とえば絶縁基板やシリコンウエハの表面に導体層をパタ
ーン形成する方法に関し、とくにプリント配線基板の製
造に適用しうる技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a conductive layer on a surface of a desired object, for example, an insulating substrate or a silicon wafer, and more particularly to a technique applicable to the manufacture of a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子部品の小型化に伴う基板への高密度
実装化を実現すべく、プリント配線板に形成される導体
パターンのファインピッチ化が進んでいる。その一方
で、安価な材料や簡易なプロセスを採用し、コスト的に
有利で、しかも信頼性の高い導体パターンを形成する技
術を確立することが要求されている。
2. Description of the Related Art In order to realize high-density mounting on a substrate in accordance with miniaturization of electronic components, finer pitches of conductor patterns formed on a printed wiring board have been developed. On the other hand, it is required to establish a technique for forming a highly reliable conductor pattern by adopting inexpensive materials and simple processes, thereby being advantageous in cost.

【0003】基板上に導体パターンを形成する方法とし
ては、たとえば特開昭61−104083号公報、特開
昭63−304693号公報、あるいは特許第2740
764号掲載公報などに無電解メッキを利用する方法が
開示されている。
As a method of forming a conductor pattern on a substrate, for example, JP-A-61-104083, JP-A-63-304693, or Patent No. 2740
No. 764 discloses a method using electroless plating.

【0004】特開昭61−104083号公報に記載さ
れた発明は、レーザービームなどの放射エネルギビーム
を、たとえば液中において所定の対象物の表面に照射す
ることにより局所的に温度上昇させて対象物の所望部位
のみを選択的に活性化した後、活性部位のみに無電解メ
ッキを施す方法である。
[0004] The invention described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-104083 discloses a method of irradiating a radiant energy beam such as a laser beam to a surface of a predetermined object in a liquid, for example, to locally raise the temperature of the object. After selectively activating only a desired portion of the product, electroless plating is performed only on the active portion.

【0005】特開昭63−304693号公報に記載さ
れた発明は、銀や銅の金属塩(金属イオン)やカチオン
重合性化合物を含む感光液を塗布した基板上に高エネル
ギ線を照射し、カチオンを重合させるとともに金属イオ
ンの還元により金属触媒核(活性部位)を形成した後、
活性部位のみに無電解メッキを施す方法である。
The invention described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-304693 discloses a method of irradiating a substrate coated with a photosensitive solution containing a metal salt (metal ion) of silver or copper or a cationically polymerizable compound with high energy rays, After polymerizing cations and forming metal catalyst nuclei (active sites) by reducing metal ions,
This is a method of performing electroless plating only on the active site.

【0006】特許第2740764号掲載公報に記載さ
れた方法は、高分子成形品に紫外レーザ光を照射して成
形品に表面電位を生じさせ、この表面電位とは反対の電
位を有するパラジウムコロイド液中において、紫外レー
ザ光を照射した部位のみにパラジウムコロイドを付着さ
せて活性化した後、活性部位のみに無電解メッキを施す
方法である。
[0006] The method described in Japanese Patent No. 2,740,764 discloses a method in which a polymer molded article is irradiated with an ultraviolet laser beam to generate a surface potential on the molded article, and a palladium colloid solution having a potential opposite to the surface potential is generated. In this method, palladium colloid is adhered only to a portion irradiated with an ultraviolet laser beam, activated, and then electroless plating is performed only on the active portion.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
61−104083号公報に記載された発明は、放射エ
ネルギビーム照射による局所的な温度上昇によって活性
化する方法である。このため、無電解メッキの際にメッ
キ液の金属イオンを還元析出させるときに、活性部位を
金属触媒核として形成する場合のように、金属触媒核の
触媒活性を利用することができない。したがって、放射
エネルギビームが照射された所望部位に対して、選択性
高く、しかも確実に、メッキ液の金属イオンを還元析出
させるのが困難である。
However, the invention described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-104083 is a method of activating by a local temperature rise by irradiation of a radiant energy beam. Therefore, when the metal ions of the plating solution are reduced and precipitated in the electroless plating, the catalytic activity of the metal catalyst nucleus cannot be utilized as in the case where the active site is formed as the metal catalyst nucleus. Therefore, it is difficult to reduce and deposit the metal ions of the plating solution with high selectivity and reliably at a desired portion irradiated with the radiant energy beam.

【0008】また、特開昭63−304693号公報に
記載された発明は、金属イオンを含有した感光性液を塗
布した基板に、高エネルギ線を照射して活性化する方法
であるため、高エネルギ線を照射後に不要な感光液を除
去する必要があるが、この除去作業が煩雑である。
The invention described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-304693 is a method of irradiating a substrate coated with a photosensitive solution containing metal ions by irradiating a high energy ray to activate the substrate. It is necessary to remove unnecessary photosensitive liquid after irradiation with energy rays, but this removal operation is complicated.

【0009】さらに、特許第2740764号掲載公報
に記載された方法では、活性化する際のパラジウムコロ
イド(金属イオン)の付着が、パラジウムコロイドと対
象物との間の静電気的な力により達成されているため、
対象物に対するパラジウムコロイドの付着力が小さい。
このため、不必要なパラジウムコロイドなどを除去すべ
く活性化された対象物を水洗したり、あるいはメッキ液
中に浸漬した際などに、対象物からパラジウムコロイド
が遊離してしまうことが懸念され、所望の部位において
適切に金属が還元析出されないといった事態が生じかね
ない。
Furthermore, in the method described in Japanese Patent No. 2,740,764, the adhesion of the palladium colloid (metal ion) at the time of activation is achieved by the electrostatic force between the palladium colloid and the object. Because
The adhesion of the palladium colloid to the object is small.
For this reason, there is a concern that the activated palladium colloid may be released from the object when the activated object is washed with water or immersed in a plating solution to remove unnecessary palladium colloid, A situation may occur in which the metal is not properly reduced and precipitated at a desired portion.

【0010】本発明は、上記した事情のもとで考え出さ
れたものであって、所定の対象物に対して、ファインピ
ッチ化されたパターンを容易かつ確実に形成できる導体
パターン形成方法を提供することをその課題としてい
る。
The present invention has been devised in view of the above circumstances, and provides a conductor pattern forming method capable of easily and reliably forming a fine-pitch pattern on a predetermined object. Is the task.

【0011】[0011]

【発明の開示】上記の課題を解決するため、本発明で
は、次の技術的手段を講じている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention takes the following technical means.

【0012】すなわち、本発明の第1の側面により提供
される導体パターン形成方法は、有機化合物を主原料と
する対象物の表面に、金属イオンを保持させる工程と、
保持された金属イオンを、上記対象物の表面に還元析出
させて触媒化する工程と、を含む導体パターン形成方法
であって、上記金属イオンを保持させる工程は、上記有
機化合物にカルボキシル基を導入した後に、当該カルボ
キシル基から水素イオンを遊離させたカルボキシラート
イオンに、金属イオンを結合させることにより行われる
ことを特徴としている。
That is, the method for forming a conductor pattern provided by the first aspect of the present invention comprises the steps of: holding a metal ion on the surface of an object mainly composed of an organic compound;
Holding the metal ions, reducing and precipitating on the surface of the object, and catalyzing the same, wherein the step of holding the metal ions comprises introducing a carboxyl group into the organic compound. Then, a metal ion is bonded to a carboxylate ion from which a hydrogen ion is released from the carboxyl group.

【0013】この方法では、対象物に金属イオンを保持
させる方法として、カルボキシラートイオンを利用して
いる。すなわち、イオン交換反応などを利用して、カル
ボキシラートイオンに、金属イオンをイオン結合または
配位結合させて、対象物に金属イオンを保持させてい
る。このような方法で保持された金属イオンは、静電気
的な力により、パラジムコロイドなどを対象物に付着さ
せ、コロイド状態で金属イオンを対象物に保持させる場
合と比較して、より強固に保持される。
In this method, a carboxylate ion is used as a method for retaining a metal ion in an object. That is, a metal ion is bound or coordinated to a carboxylate ion by utilizing an ion exchange reaction or the like, so that the object holds the metal ion. The metal ions held by such a method are more strongly retained than the case where the paraffin colloid or the like is adhered to the object by electrostatic force and the metal ions are held on the object in a colloidal state. Is done.

【0014】つまり、高分子を構成している側鎖ないし
末端基を酸化することによりカルボキシル基が導入され
ているから、カルボキシル基と対象物との結びつきが強
いのはいうまでもなく、金属イオンの保持力は、実質的
には、カルボキシラートイオンと金属イオンとの結合力
に依存する。この結合力は、通常、イオン結合または配
位結合であり、粒径の大きなコロイドの静電気的な結合
力よりも大きいのは明らかである。このように、カルボ
キシル基を導入し、これのカルボキシラートイオンに金
属イオンを結合させる保持方法では、基板の所望の部位
に対して、より強固に金属イオンを導入することができ
る。
That is, since a carboxyl group is introduced by oxidizing a side chain or a terminal group constituting a polymer, it is needless to say that the carboxyl group is strongly linked to an object. Substantially depends on the binding force between the carboxylate ion and the metal ion. This binding force is usually an ionic bond or a coordination bond, and is obviously larger than the electrostatic binding force of a large particle size colloid. As described above, in the holding method in which a carboxyl group is introduced and a metal ion is bonded to the carboxylate ion, the metal ion can be more firmly introduced into a desired portion of the substrate.

【0015】また、上記方法では、カルボキシラートイ
オンを利用したイオン交換反応などにより金属イオンを
導入するから、種々の金属イオンを保持させることがで
きる。たとえば、イオン交換反応を利用する場合、カル
ボキシル基の水素イオンとの交換が可能な金属イオンで
あれば、それを保持させることができる。たとえば、銅
イオン、ニッケルイオン、パラジウムイオン、銀イオ
ン、あるいは金イオンなどといった標準電極電位の高い
金属のイオンを保持させることができる。これらの金属
イオンは、遷移金属のイオンであるから、それを還元し
て金属として析出させれば、還元触媒として利用するこ
とができる。したがって、カルボキシラートイオンを利
用したイオン交換反応などにより金属イオンを導入する
方法では、導入できる金属イオンの種類が多いことか
ら、後において行われる無電解メッキの際に還元析出さ
せることができる金属の種類も多くなる。
In the above method, since metal ions are introduced by an ion exchange reaction utilizing carboxylate ions, various metal ions can be retained. For example, when an ion exchange reaction is used, a metal ion that can be exchanged with a hydrogen ion of a carboxyl group can be retained. For example, metal ions having a high standard electrode potential such as copper ions, nickel ions, palladium ions, silver ions, and gold ions can be held. Since these metal ions are transition metal ions, they can be used as a reduction catalyst if they are reduced and precipitated as metals. Therefore, in the method of introducing metal ions by an ion exchange reaction using carboxylate ions, etc., since there are many types of metal ions that can be introduced, a metal that can be reduced and precipitated during electroless plating performed later is used. There are many types.

【0016】上記方法ではさらに、保持された金属イオ
ンが還元されて、対象物の表面に金属として析出(触媒
化)される。このようにして金属イオンを触媒化してお
けば、後において無電解メッキを施す際に、その触媒活
性を利用することができる。このため、レーザ照射によ
る局所的な温度上昇により活性化する方法と比較すれ
ば、金属イオンを触媒化する工程を含む導体パターン形
成方法では、より確実に無電解メッキにより導体層を形
成することができる。
In the above method, the retained metal ions are further reduced and precipitated (catalyzed) as a metal on the surface of the object. If the metal ions are catalyzed in this way, the catalytic activity can be used when performing electroless plating later. Therefore, compared to the method of activating by local temperature rise by laser irradiation, the conductor pattern forming method including the step of catalyzing metal ions can more reliably form a conductor layer by electroless plating. it can.

【0017】ここで、有機化合物へのカルボキシル基の
導入方法としては、たとえば酸化されてカルボキシル基
となる側鎖ないし末端基を有する有機化合物を含む材料
から対象物を使用するともに、当該有機化合物の側鎖な
いし末端基を酸化する方法が挙げられる。酸化されてカ
ルボキシル基となる側鎖ないし末端基としては、第一級
アルコール系のもの、アルデヒド基、メチル基などのア
ルキル基が挙げられ、有機化合物の多く、とくに高分子
は、このような側鎖ないし末端基を有している。また、
本発明は、プリント配線基板を製造する際に利用できる
方法でもあるが、当該基板には、一般的に耐熱性が要求
される。このため、有機化合物を含む材料としては、た
とえばエポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、あ
るいはポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂が有用である
が、これらの樹脂を構成する有機化合物も、酸化されて
カルボキシル基となる側鎖ないし末端基を有しているた
め、本発明において好適に採用される。
Here, as a method for introducing a carboxyl group into an organic compound, for example, an object is used from a material containing an organic compound having a side chain or a terminal group which is oxidized to a carboxyl group, and the organic compound is A method of oxidizing a side chain or a terminal group is exemplified. Examples of the side chain or terminal group that is oxidized to a carboxyl group include primary alcohol-based groups, aldehyde groups, and alkyl groups such as methyl groups, and many organic compounds, particularly polymers, have such side chains. It has a chain or a terminal group. Also,
Although the present invention is a method that can be used when manufacturing a printed wiring board, the board generally requires heat resistance. For this reason, as a material containing an organic compound, for example, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a polyphenylene ether resin, or a polyimide resin is useful, but the organic compound constituting these resins is also oxidized to form a carboxyl group. Since it has a side chain or a terminal group, it is suitably employed in the present invention.

【0018】そして、有機化合物の側鎖ないし末端基の
酸化は、たとえば酸化剤を含んだ溶液を対象物に塗布
し、あるいは当該溶液中に対象物を浸漬させることによ
り行われる。酸化剤としては、マンガン化合物、クロム
化合物、鉛化合物、あるいは過酸化物などが挙げられ
る。また、対象物に対してレーザ光を照射し、そのエネ
ルギを利用して有機化合物の側鎖ないし末端基の酸化を
行ってもよい。
The side chain or terminal group of the organic compound is oxidized by, for example, applying a solution containing an oxidizing agent to the object or immersing the object in the solution. Examples of the oxidizing agent include a manganese compound, a chromium compound, a lead compound, and a peroxide. Alternatively, the object may be irradiated with laser light, and the energy may be used to oxidize the side chains or terminal groups of the organic compound.

【0019】対象物に保持された金属イオンの触媒化
(還元)は、たとえば還元剤を含んだ溶液を対象物に塗
布し、あるいは当該溶液中に対象物を浸漬させることに
より行われる。還元剤としては、非金属イオン、酸、低
級酸化物、低級酸素酸塩、あるいは上記金属イオンの金
属よりもイオン化傾向の大きな金属などが挙げられる。
また、対象物に対してレーザ光を照射し、そのエネルギ
を利用して金属イオンの触媒化を行ってもよい。
The catalysis (reduction) of the metal ions held in the object is performed, for example, by applying a solution containing a reducing agent to the object or immersing the object in the solution. Examples of the reducing agent include a nonmetal ion, an acid, a lower oxide, a lower oxyacid salt, and a metal having a higher ionization tendency than the metal of the above metal ion.
Alternatively, the object may be irradiated with laser light, and the energy may be used to catalyze metal ions.

【0020】なお、本発明をプリント配線基板のパター
ン形成技術として適用する場合には、パターンのファイ
ンピッチ化が要求されるから、有機化合物の側鎖ないし
末端基の酸化または金属イオンの触媒化(還元)の一方
の反応は、レーザ光照射により行うのが好ましい。すな
わち、レーザでは、その特性である収束性の高さから、
レーザ光の照射スポットを絞り込むことができるため、
レーザを利用すれば、対象物におけるカルボキシル基が
形成される領域または触媒化される領域の幅を細くする
ことができるため、導体パターンのファインピッチを達
成できる。
When the present invention is applied as a technique for forming a pattern on a printed wiring board, a fine pitch of the pattern is required. Therefore, oxidation of side chains or terminal groups of an organic compound or catalysis of metal ions ( One of the reactions (reduction) is preferably performed by laser light irradiation. That is, in the laser, because of its high convergence property,
Because the irradiation spot of the laser beam can be narrowed down,
By using a laser, the width of the region where the carboxyl group is formed or the region where the carboxyl group is catalyzed in the object can be reduced, so that a fine pitch of the conductor pattern can be achieved.

【0021】ここで、レーザとしては、エキシマレーザ
やアルゴンレーザなどの公知の種々のレーザを使用する
ことができる。そして、公知のレーザから、酸化や還元
といった反応の種類により、また酸化または還元される
金属イオンの種類により、所望とする波長のレーザ光を
発振できるレーザを選択して使用すればよい。
Here, various known lasers such as an excimer laser and an argon laser can be used as the laser. A laser capable of oscillating laser light of a desired wavelength may be selected from known lasers according to the type of reaction such as oxidation or reduction and the type of metal ions to be oxidized or reduced.

【0022】また、本発明の第2の側面においては、所
定の対象物の表面に金属イオンを保持させる工程と、保
持された金属イオンを上記対象物の表面に還元析出させ
て触媒化する工程と、を含む導体パターン形成方法であ
って、上記対象物の表面への金属イオンの保持は、金属
錯体を上記対象物の表面に付着することにより行われ、
上記金属イオンの触媒化は、上記対象物に対してレーザ
光を照射することにより行われることを特徴とする、導
体パターン形成方法が提供される。
Further, according to a second aspect of the present invention, a step of holding metal ions on the surface of a predetermined object, and a step of reducing and depositing the held metal ions on the surface of the object to catalyze the metal ions And, a conductive pattern forming method comprising: holding the metal ions on the surface of the object is performed by attaching a metal complex to the surface of the object,
A method for forming a conductor pattern is provided, wherein the metal ion is catalyzed by irradiating the object with laser light.

【0023】この方法においても、金属イオンの触媒化
にレーザが利用されるから、導体パターンのファインピ
ッチ化を達成できるのはいうまでもない。
Also in this method, since a laser is used for catalyzing metal ions, it is needless to say that fine pitch of the conductor pattern can be achieved.

【0024】そして、対象物に結合した金属錯体にレー
ザを照射し、金属イオンを還元して触媒化しているの
で、触媒核の対象物に対する結合力が、表面電位を利用
した電気的力によりコロイドを結合させて活性化させた
場合に比べて強くなる。したがって、確実に、しかも高
い付着力をもって導体層を形成することができるように
なる。また、対象物の表面への金属イオンの保持を金属
錯体を結合させることにより行えば、対象物にカルボキ
シル基を導入する必要がなくなるため、有機化合物を主
原料とする対象物に限定されず、無機化合物を主原料と
する対象物に対しても、本発明の第2の側面の方法を適
用できる。
Since the metal complex bonded to the object is irradiated with a laser to reduce the metal ions and catalyze the metal complex, the bonding force of the catalyst nucleus to the object is changed by the electric force using the surface potential to the colloid. Becomes stronger than when activated by binding. Therefore, the conductor layer can be formed reliably and with a high adhesive force. In addition, if the retention of metal ions on the surface of the target object is performed by binding a metal complex, it is not necessary to introduce a carboxyl group into the target object. The method according to the second aspect of the present invention can be applied to an object mainly composed of an inorganic compound.

【0025】対象物として無機化合物からなるものを使
用する場合には、当該対象物への金属イオンの保持を、
当該対象物の表面をカップリング処理した後に、金属錯
体を含む金属コロイドを付着させることにより行うのが
好ましい。このようにすれば、金属錯体が付着しにくい
無機化合物に対しても、確実に金属イオンを保持させ、
導体パターンを形成することができるようになる。
When an object composed of an inorganic compound is used, the retention of metal ions on the object is
After the surface of the object is subjected to the coupling treatment, it is preferable to perform the treatment by attaching a metal colloid containing a metal complex. In this way, even for an inorganic compound to which a metal complex is unlikely to adhere, metal ions are reliably held,
A conductor pattern can be formed.

【0026】なお、金属コロイドは、溶液状で対象物に
付着させてもよいし、ゲル状で対象物に付着させてもよ
い。また、カップリング剤としては、シラン系のもの好
ましく用いられ、金属錯体としては、遷移金属のイオン
に対して、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、あるいはグル
コン酸などのカルボン酸を錯化剤として使用したものが
好ましく用いられる。
The metal colloid may be attached to the object in a solution state, or may be attached to the object in a gel state. As the coupling agent, a silane-based one is preferably used, and as the metal complex, a carboxylic acid such as malic acid, tartaric acid, citric acid, or gluconic acid is used as a complexing agent for transition metal ions. Those that have been used are preferably used.

【0027】本発明のその他の特徴および利点は、添付
図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明
らかとなろう。
[0027] Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を、図面を参照して具体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【0029】図1(a)〜(d)は、本発明に係る導体
パターン形成方法の第1の実施形態の各工程を表す模式
図である。本実施形態では、酸化されてカルボキシル基
となる側鎖ないし末端基を有する有機化合物を主原料と
する基板の表面に、導体パターンを形成する場合につい
て説明する。
FIGS. 1A to 1D are schematic views showing each step of the first embodiment of the conductor pattern forming method according to the present invention. In the present embodiment, a case where a conductor pattern is formed on the surface of a substrate mainly composed of an organic compound having a side chain or a terminal group which is oxidized to a carboxyl group will be described.

【0030】本発明の第1の実施形態の導体パターン形
成方法は、基板の前処理、基板の酸化処理、イオン交換
処理、触媒化処理、洗浄処理、および無電解メッキ処理
からなる。
The method for forming a conductor pattern according to the first embodiment of the present invention comprises a pretreatment of a substrate, an oxidation treatment of a substrate, an ion exchange treatment, a catalyzing treatment, a cleaning treatment, and an electroless plating treatment.

【0031】基板の前処理においては、たとえば水洗、
表面粗化、および表面洗浄などが行われる。表面粗化
は、後に行われる触媒化処理や無電解メッキ処理におい
て析出される金属の、基板に対する密着性を高めるため
の処理であり、たとえばウエットエッチングなどの化学
的手法やブラストなどを利用した機械的手法により行わ
れる。表面洗浄は、基板の表面に付着しているホコリや
油脂性の汚れを除去するための処理であり、たとえば有
機溶媒、酸性あるいはアルカリ性の脱脂剤を利用して行
われる。
In the pretreatment of the substrate, for example, washing with water,
Surface roughening and surface cleaning are performed. Surface roughening is a process for increasing the adhesion of a metal deposited in a catalyzing process or an electroless plating process performed later to a substrate, for example, a machine using a chemical method such as wet etching or blasting. This is done by a technical method. The surface cleaning is a process for removing dust and oily dirt adhering to the surface of the substrate, and is performed using, for example, an organic solvent, an acidic or alkaline degreasing agent.

【0032】次いで、基板を水洗した後に酸化処理を行
って、図1(a)に示すように基板1を構成する有機化
合物にカルボキシル基(−COOH)を導入する。この
酸化処理は、過マンガン酸塩やクロム酸塩などの酸化剤
を含む溶液を調整し、この溶液を基板1の表面に塗布す
ることにより、あるいは当該溶液中に基板1を浸漬する
ことにより行われる。そうすると、基板1を構成する有
機化合物の側鎖ないし末端基のうち、メチル基、アルデ
ヒド基、あるいは第一級アルコールなどといった部分が
酸化されてカルボキシル基(−COOH)となる。
Next, the substrate is washed with water and then subjected to an oxidation treatment to introduce a carboxyl group (—COOH) into the organic compound constituting the substrate 1 as shown in FIG. This oxidation treatment is performed by preparing a solution containing an oxidizing agent such as permanganate or chromate, and applying the solution to the surface of the substrate 1 or immersing the substrate 1 in the solution. Will be Then, a part of the side chain or the terminal group of the organic compound constituting the substrate 1 such as a methyl group, an aldehyde group or a primary alcohol is oxidized to a carboxyl group (—COOH).

【0033】さらに、基板1を水洗した後にイオン交換
処理を行って、図1(b)に示すように基板1に金属イ
オン(M+ )を保持させる。なお、図1(b)では、一
価の金属イオンを例にして示している。このイオン交換
処理は、たとえば水素よりも標準電極電位の大きな遷移
金属のイオンを含む溶液を調整し、この溶液を基板1に
塗布することにより、あるいは当該溶液中に基板1を浸
漬することにより行われる。そうすると、カルボキシル
基(−COOH)から水素イオン(H+ )が遊離したカ
ルボキシラートイオン(−COO- )に金属イオン(M
+ )が結合し、有機化合物の側鎖ないし末端基の一部と
して、基板1の表面に金属イオン(M+)が保持され
る。
Further, after the substrate 1 is washed with water, an ion exchange process is performed to hold the metal ions (M + ) on the substrate 1 as shown in FIG. 1B. Note that FIG. 1B shows a monovalent metal ion as an example. This ion exchange treatment is performed, for example, by preparing a solution containing ions of a transition metal having a standard electrode potential higher than that of hydrogen and applying the solution to the substrate 1, or by immersing the substrate 1 in the solution. Will be Then, the metal ion (M) is added to the carboxylate ion (—COO ) in which the hydrogen ion (H + ) is released from the carboxyl group (—COOH).
+ ) Is bonded, and a metal ion (M + ) is held on the surface of the substrate 1 as a part of a side chain or a terminal group of the organic compound.

【0034】次いで、基板1を水洗した後に触媒化処理
を行って、カルボキシラートイオン(−COO- )に結
合した金属イオン(M+ )を触媒化する。この触媒化処
理は、形成すべきパターンに応じて、エキシマレーザ2
などのレーザ光を走査させつつ基板1に照射することに
より行われる。そうすると、図1(c)に示すように基
板1におけるレーザ光が照射された部分の金属イオン
(M+ )のみが選択的に還元されて析出し、後に行われ
る無電解メッキ処理において成長の核となる触媒核3が
パターン形成される。
Next, after the substrate 1 is washed with water, a catalytic treatment is performed to catalyze the metal ion (M + ) bonded to the carboxylate ion (—COO ). This catalyzing treatment is performed according to the pattern to be formed.
The irradiation is performed by irradiating the substrate 1 with a laser beam such as a laser beam. Then, as shown in FIG. 1C, only the metal ions (M + ) in the portion of the substrate 1 irradiated with the laser beam are selectively reduced and deposited, and the growth nuclei are formed later in the electroless plating. The catalyst nucleus 3 to be formed is patterned.

【0035】さらに、基板1を水洗した後に洗浄処理を
行って、レーザ光が照射されずに還元されなかった金属
イオン(M+ )を除去し、また残存するカルボキシル基
(−COOH)を還元除去する。この洗浄処理では、硝
酸水溶液により金属イオン(M+ )の除去が行われ、過
酸化水素水によりカルボキシル基(−COOH)の還元
が行われる。
Further, after the substrate 1 is washed with water, a cleaning treatment is performed to remove metal ions (M + ) which have not been reduced by being irradiated with laser light, and to reduce and remove remaining carboxyl groups (-COOH). I do. In this cleaning treatment, metal ions (M + ) are removed by an aqueous nitric acid solution, and carboxyl groups (—COOH) are reduced by a hydrogen peroxide solution.

【0036】次いで、基板1を水洗した後に無電解メッ
キ処理を行って、図1(d)に示すように触媒核3の部
分に導体層4を形成させる。この無電解メッキ処理は、
金属イオンおよび還元剤を少なくとも含み、必要に応じ
て錯化剤、pH調整剤その他の添加剤を含んだメッキ液
を調整し、このメッキ液を基板1の表面に塗布すること
により、あるいはメッキ液中に基板1を浸漬することに
より行われる。そうすると、メッキ液中の還元剤および
基板1の表面の触媒核3の作用により、金属イオンが還
元されて触媒核3の部分に対して選択的に導体層4が形
成される。このようにして、基板1における所望の部位
のみに選択的に無電解メッキが施され、導体パターンが
形成される。
Next, after washing the substrate 1 with water, an electroless plating process is performed to form a conductor layer 4 on the catalyst core 3 as shown in FIG. This electroless plating process
A plating solution containing at least a metal ion and a reducing agent and, if necessary, a complexing agent, a pH adjuster and other additives is prepared, and the plating solution is applied to the surface of the substrate 1, or This is performed by immersing the substrate 1 therein. Then, the metal ions are reduced by the action of the reducing agent in the plating solution and the catalyst nuclei 3 on the surface of the substrate 1, and the conductor layer 4 is selectively formed with respect to the portion of the catalyst nuclei 3. In this manner, electroless plating is selectively performed only on desired portions of the substrate 1 to form conductor patterns.

【0037】次に、図2(a)〜(d)を参照して本発
明に係る導体パターン形成方法の第2の実施形態を説明
する。なお、本実施形態においても、酸化されてカルボ
キシル基となる側鎖ないし末端基を有する有機化合物を
主原料とする基板に対して、導体パターンを形成する方
法について説明する。
Next, a second embodiment of the conductor pattern forming method according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 (a) to 2 (d). In the present embodiment, a method of forming a conductor pattern on a substrate whose main material is an organic compound having a side chain or a terminal group that is oxidized to a carboxyl group will be described.

【0038】本実施形態に係る方法は、第1の実施形態
と同様に、前処理、酸化処理、イオン交換処理、触媒化
処理、洗浄処理、および無電解メッキ処理からなる。前
処理、イオン交換処理、洗浄処理、および無電解メッキ
処理は、第1の実施形態に係る方法と同様にして行わ
れ、酸化処理および触媒化処理が異なった方法により行
われる。
As in the first embodiment, the method according to the present embodiment includes a pretreatment, an oxidation treatment, an ion exchange treatment, a catalyzing treatment, a cleaning treatment, and an electroless plating treatment. The pretreatment, the ion exchange treatment, the cleaning treatment, and the electroless plating treatment are performed in the same manner as the method according to the first embodiment, and the oxidation treatment and the catalysis treatment are performed by different methods.

【0039】具体的には、まず、第1の実施形態と同様
にして前処理を行った後に基板を水洗し、所定の酸化処
理が行われる。この酸化処理は、図2(a)に示すよう
にエキシマレーザ2などにより、基板1の表面における
導体パターンを形成すべき部位にレーザ光を照射するこ
とにより行われる。そうすると、基板1を構成する有機
化合物の側鎖ないし末端基のうち、レーザ光が照射さ
れ、しかも酸化されてカルボキシル基(−COOH)と
なるもののみが選択的にカルボキシル基(−COOH)
となる。すなわち、レーザ光を走査させた軌跡に対応し
て、基板1の表面においてカルボキシル基(−COO
H)が並び、パターニングされた状態となる。
Specifically, first, after performing the pretreatment in the same manner as in the first embodiment, the substrate is washed with water, and a predetermined oxidation treatment is performed. This oxidation treatment is performed by irradiating a portion of the surface of the substrate 1 where a conductor pattern is to be formed with a laser beam using an excimer laser 2 or the like as shown in FIG. Then, among the side chains or terminal groups of the organic compound constituting the substrate 1, only those which are irradiated with laser light and oxidized to a carboxyl group (-COOH) are selectively carboxyl groups (-COOH).
Becomes That is, a carboxyl group (—COO) is formed on the surface of the substrate 1 in accordance with the trajectory scanned by the laser beam.
H) are lined up to be in a patterned state.

【0040】次いで、基板1を水洗してから第1の実施
形態と同様にしてイオン交換処理を行って、図2(b)
に示したようにカルボキシレートイオン(−COO-
に金属イオン(M+ )を結合させた後に、所定の触媒化
処理が行われる。なお、図2(b)では一価の金属イオ
ンを例にして示している。この触媒化処理は、水素化ホ
ウ素ナトリウムなどの還元剤を含む溶液を調整し、この
溶液を基板1の表面に塗布することにより、あるいは当
該溶液中に基板1を浸漬することにより行われる。そう
すると、カルボキシレートイオン(−COO- )に結合
された金属イオン(M+ )が還元されて基板1の表面に
析出し、図2(c)に示したように触媒核3が形成され
る。カルボキシル基(−COOH)は、レーザ一光の照
射により基板1の表面にパターニングされた状態で導入
されているから、触媒核3もパターニングされた状態で
形成される。
Next, after the substrate 1 is washed with water, an ion exchange treatment is performed in the same manner as in the first embodiment.
As shown in carboxylate ion (-COO -)
After a metal ion (M + ) is bound to the metal, a predetermined catalytic treatment is performed. FIG. 2B shows a monovalent metal ion as an example. This catalyzing treatment is performed by preparing a solution containing a reducing agent such as sodium borohydride and applying the solution to the surface of the substrate 1 or by immersing the substrate 1 in the solution. Then, the metal ion (M + ) bonded to the carboxylate ion (—COO ) is reduced and deposited on the surface of the substrate 1 to form the catalyst core 3 as shown in FIG. 2C. Since the carboxyl group (—COOH) is introduced in a patterned state on the surface of the substrate 1 by irradiation with one laser beam, the catalyst nucleus 3 is also formed in a patterned state.

【0041】さらに、基板1を水洗した後に、第1の実
施形態と同様にして、洗浄処理および無電解メッキ処理
を行う。本実施形態では、触媒核3がパターン形成され
ているから、無電解メッキを施せば、図2(d)に示し
たように触媒核3のパターンに応じて導体層4がパター
ン形成される。
Further, after the substrate 1 is washed with water, a washing process and an electroless plating process are performed in the same manner as in the first embodiment. In the present embodiment, since the catalyst nucleus 3 is patterned, if electroless plating is performed, the conductor layer 4 is patterned according to the pattern of the catalyst nucleus 3 as shown in FIG.

【0042】図3(a)〜(c)に、本発明に係る導体
パターン形成方法の第3の実施形態の各工程を模式的に
示すが、本実施形態では、無機化合物を主原料とする基
板に導体パターンを形成する場合について説明する。
FIGS. 3A to 3C schematically show the steps of the third embodiment of the conductor pattern forming method according to the present invention. In the present embodiment, an inorganic compound is used as a main raw material. A case where a conductor pattern is formed on a substrate will be described.

【0043】本実施形態の導体パターン形成方法は、基
板の前処理、コロイド処理、触媒化処理、洗浄処理、お
よび無電解メッキ処理からなる。
The method of forming a conductor pattern according to the present embodiment includes a pretreatment of a substrate, a colloid treatment, a catalyzing treatment, a cleaning treatment, and an electroless plating treatment.

【0044】基板の前処理では、水洗、表面粗化、およ
び表面洗浄などが行われ、必要に応じて表面処理が行わ
れる。表面粗化および表面洗浄は、上述した第1の実施
形態と同様にして行われる。表面処理は、金属コロイド
が基板に付着しやすくなるように行う処理であり、たと
えばシラン系のカップリング剤を使用したカップリング
処理により行われる。もちろん、紫外線を照射して、基
板の表面に電位を発生させることにより行ってもよい。
In the pretreatment of the substrate, water washing, surface roughening, surface cleaning, and the like are performed, and the surface treatment is performed as necessary. Surface roughening and surface cleaning are performed in the same manner as in the first embodiment. The surface treatment is a treatment performed so that the metal colloid easily adheres to the substrate, for example, by a coupling treatment using a silane coupling agent. Of course, the irradiation may be performed by irradiating ultraviolet rays to generate a potential on the surface of the substrate.

【0045】次いで、基板を水洗した後にコロイド処理
を行って、図3(a)に示したように基板1の表面に金
属イオン(Mn+:nは正の整数)を保持させる。このコ
ロイド処理は、所望の金属イオン(Mn+)を含む溶液
に、錯化剤を混合してコロイド溶液を調整し、このコロ
イド溶液を基板1に塗布することにより、あるいは当該
コロイド溶液中に基板1を浸漬することにより行われ
る。そうすると、金属コロイド(金属錯体)が基板1の
表面に付着するから、金属コロイドの状態で金属イオン
(Mn+)が保持される。なお、コロイド溶液をゲル化し
て、基板1の表面に金属コロイドを付着させてもよい。
また、金属イオン(Mn+)としては、遷移金属のイオ
ン、たとえば銅イオン、銀イオンあるいはパラジウムイ
オンが好ましく使用され、錯化剤としては、たとえばリ
ンゴ酸、酒石酸あるいはクエン酸などのカルボン酸が好
ましく使用される。
Next, the substrate is washed with water and then subjected to a colloid treatment to hold metal ions (M n + : n is a positive integer) on the surface of the substrate 1 as shown in FIG. This colloid treatment is performed by mixing a solution containing a desired metal ion (M n + ) with a complexing agent to prepare a colloid solution, and applying the colloid solution to the substrate 1 or by adding the substrate to the colloid solution. 1 is immersed. Then, since the metal colloid (metal complex) adheres to the surface of the substrate 1, the metal ions ( Mn + ) are held in the state of the metal colloid. Note that the colloid solution may be gelled, and the metal colloid may be attached to the surface of the substrate 1.
As the metal ion (M n + ), a transition metal ion such as a copper ion, a silver ion or a palladium ion is preferably used, and as the complexing agent, a carboxylic acid such as malic acid, tartaric acid or citric acid is preferable. used.

【0046】さらに、基板1を水洗した後に触媒化処理
を行って、金属コロイド中の金属イオン(Mn+)を触媒
化する。この触媒化処理は、図3(b)に示したように
エキシマレーザ2などにより、基板1の表面における導
体パターンを形成すべき部位に応じて、レーザ光を走査
させつつ照射することにより行われる。そうすると、レ
ーザ光は照射された部位において、コロイド中の金属イ
オン(Mn+)が還元されて基板1の表面に析出し、触媒
核3がパターン形成される。
Further, after the substrate 1 is washed with water, a catalytic treatment is performed to catalyze metal ions (M n + ) in the metal colloid. This catalyzing treatment is performed by irradiating a laser beam while scanning the surface of the substrate 1 with a laser beam by an excimer laser 2 or the like, as shown in FIG. 3B. . Then, the metal ions (M n + ) in the colloid are reduced and deposited on the surface of the substrate 1 at the portion irradiated with the laser light, and the catalyst nuclei 3 are patterned.

【0047】次いで、基板1を水洗した後に洗浄処理を
行う。この洗浄処理では、金属イオンが還元されなかっ
た金コロイドが、たとえば硝酸水溶液により除去され
る。
Next, after the substrate 1 is washed with water, a cleaning process is performed. In this cleaning treatment, the gold colloid in which the metal ions have not been reduced is removed by, for example, an aqueous nitric acid solution.

【0048】さらに、基板1を水洗した後に、第1の実
施形態と同様にして無電解メッキ処理を行うことによ
り、図3(c)に示したように基板1の表面に所望の導
体層4がパターン形成される。
Further, after the substrate 1 is washed with water, an electroless plating process is performed in the same manner as in the first embodiment, so that a desired conductive layer 4 is formed on the surface of the substrate 1 as shown in FIG. Is patterned.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明では、所
定の対象物に対して、ファインピッチ化されたパターン
を容易かつ確実に形成できる。
As described above, according to the present invention, a fine-pitch pattern can be easily and reliably formed on a predetermined object.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る導体パターン形成方法の第1の実
施形態の各工程を表す模式図である。
FIG. 1 is a schematic view illustrating each step of a first embodiment of a conductor pattern forming method according to the present invention.

【図2】本発明に係る導体パターン形成方法の第2の実
施形態の各工程を表す模式図である。
FIG. 2 is a schematic view illustrating each step of a second embodiment of the method for forming a conductor pattern according to the present invention.

【図3】本発明に係る導体パターン形成方法の第3の実
施形態の各工程を表す模式図である。
FIG. 3 is a schematic view illustrating each step of a third embodiment of the conductive pattern forming method according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 レーザ 3 触媒核 4 導体層 M+ , Mn+ 金属イオンDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Laser 3 Catalyst core 4 Conductive layer M + , Mn + metal ion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4K022 AA42 BA35 CA03 CA06 CA07 CA12 CA15 CA19 CA20 CA21 CA23 DA01 5F033 HH07 HH11 HH13 HH14 PP28 PP31 QQ53 QQ54 QQ89 RR21 RR22  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4K022 AA42 BA35 CA03 CA06 CA07 CA12 CA15 CA19 CA20 CA21 CA23 DA01 5F033 HH07 HH11 HH13 HH14 PP28 PP31 QQ53 QQ54 QQ89 RR21 RR22

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機化合物を主原料とする対象物の表面
に、金属イオンを保持させる工程と、保持された金属イ
オンを、上記対象物の表面に還元析出させて触媒化する
工程と、を含む導体パターン形成方法であって、 上記金属イオンを保持させる工程は、上記有機化合物に
カルボキシル基を導入した後に、当該カルボキシル基か
ら水素イオンを遊離したカルボキシラートイオンに、金
属イオンを結合させることにより行われることを特徴と
する、導体パターン形成方法。
1. A step of holding a metal ion on the surface of an object using an organic compound as a main raw material, and a step of reducing and depositing the held metal ion on the surface of the object to catalyze the metal ion. In the method for forming a conductor pattern, the step of retaining the metal ion comprises: introducing a carboxyl group into the organic compound, and then bonding the metal ion to a carboxylate ion from which a hydrogen ion has been released from the carboxyl group. A conductive pattern forming method, which is performed.
【請求項2】 上記有機化合物は、酸化されてカルボキ
シル基となる側鎖ないし末端基を有しているとともに、
当該有機化合物へのカルボキシル基の導入は、その側鎖
ないし末端基を酸化することにより行われる、請求項1
に記載の導体パターン形成方法。
2. The organic compound has a side chain or a terminal group which is oxidized to a carboxyl group, and
The carboxyl group is introduced into the organic compound by oxidizing a side chain or a terminal group thereof.
3. The method for forming a conductor pattern according to item 1.
【請求項3】 上記有機化合物の側鎖ないし末端基の酸
化は、上記対象物に対するレーザ光の照射により行われ
る、請求項2に記載の導体パターン形成方法。
3. The conductive pattern forming method according to claim 2, wherein the oxidation of the side chain or the terminal group of the organic compound is performed by irradiating the object with laser light.
【請求項4】 上記対象物に保持された金属イオンの触
媒化は、上記対象物に対するレーザ光の照射により行わ
れる、請求項1ないし3のいずれか1つに記載の導体パ
ターン形成方法。
4. The method according to claim 1, wherein the catalysis of the metal ions held by the object is performed by irradiating the object with laser light.
【請求項5】 所定の対象物の表面に金属イオンを保持
させる工程と、保持された金属イオンを上記対象物の表
面に還元析出させて触媒化する工程と、を含む導体パタ
ーン形成方法であって、 上記対象物の表面への金属イオンの保持は、金属錯体を
上記対象物の表面に付着させることにより行われ、 上記金属イオンの触媒化は、上記対象物に対してレーザ
光を照射することにより行われることを特徴とする、導
体パターン形成方法。
5. A conductive pattern forming method comprising: a step of retaining metal ions on a surface of a predetermined object; and a step of reducing and depositing the retained metal ions on the surface of the object to catalyze the metal ions. The retention of metal ions on the surface of the object is performed by attaching a metal complex to the surface of the object, and the catalysis of the metal ions is performed by irradiating the object with laser light. A conductive pattern forming method.
【請求項6】 上記対象物は、無機化合物を主原料とし
ているとともに、当該対象物への金属イオンの保持は、
当該対象物の表面をカップリング処理した後に、上記金
属錯体を含む金属コロイドを付着させることにより行わ
れる、請求項5に記載の導体パターン形成方法。
6. The object has an inorganic compound as a main raw material, and retains metal ions on the object.
The conductor pattern forming method according to claim 5, wherein the method is performed by attaching a metal colloid containing the metal complex after the surface of the object is subjected to a coupling treatment.
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