JP2001024131A - Lead frame, manufacture thereof and semiconductor device - Google Patents

Lead frame, manufacture thereof and semiconductor device

Info

Publication number
JP2001024131A
JP2001024131A JP2000230646A JP2000230646A JP2001024131A JP 2001024131 A JP2001024131 A JP 2001024131A JP 2000230646 A JP2000230646 A JP 2000230646A JP 2000230646 A JP2000230646 A JP 2000230646A JP 2001024131 A JP2001024131 A JP 2001024131A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
silver
lead
plating
die pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000230646A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Suzuki
和彦 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2000230646A priority Critical patent/JP2001024131A/en
Publication of JP2001024131A publication Critical patent/JP2001024131A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent plating silver from leaking along the side surfaces of inner leads when silver plating is applied in the manufacturing process of a lead frame from leaking out of a mold area by a method wherein plating silver leaking preventive dam bars are formed between the inner leads and the mold area. SOLUTION: In a lead frame whose inner lead tips are plated 7 with silver, in addition to dam bars 5 which prevent sealing resin from leaking out at the time of resin sealing, additional dam bars 9 made of metallic material are formed in the manufacturing process of the lead frame and cut off after silver plating. Further, dam bars made of UV-curing resin are formed on the middle parts of the inner leads 4. With this constitution, a desilvering process after resin sealing can be eliminated and, further, solder plating swellings of outer leads and short-circuiting between outer leads which are caused by the leaking silver can be avoided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体用リードフレー
ムとその製造方法に係わり、更に詳しくはリードフレー
ムインナーリード部インナーリードに銀メッキを施す際
の銀漏れ防止を行い半導体装置の信頼性向上に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor lead frame and a method of manufacturing the same, and more particularly, to improving the reliability of a semiconductor device by preventing silver leakage when silver plating is applied to an inner lead of a lead frame. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は集積回路チップを搭載する従来の
リードフレームの一例を示す平面図である。フレーム枠
1は略中央に集積回路チップを搭載固着するダイパッド
2を有している。更にダイパッド2はタイバー3によっ
てフレーム枠1に支持されている。又フレーム枠1の内
壁からは多数の細いインナーリード4が前記ダイパッド
2に向かって延在しており、各インナーリード4はモー
ルド工程でモールドエリア6内の樹脂封止時に樹脂の流
出を防止する為のダムバー5で支持されている。このダ
ムバー5はダイパッド2に搭載固着された集積回路チッ
プとインナーリード4のダイパッド側先端部をワイヤで
配線する際の補強部材となっており樹脂封止後各リード
間のダムバー5を切断する。フレーム枠1の内壁からダ
イパッド2に向かって延在しているインナーリード4の
ダイパッド2側の先端には銀メッキ7が施してある。銀
メッキ7を施す理由は、ダイパッド2に搭載固着された
集積回路チップとインナーリード4の先端部をワイヤで
配線した時のインナーリードとワイヤの合金を促進しワ
イヤボンディングの熱圧着の強度を上げるためである。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a plan view showing an example of a conventional lead frame on which an integrated circuit chip is mounted. The frame 1 has a die pad 2 for mounting and fixing an integrated circuit chip substantially at the center. Further, the die pad 2 is supported on the frame 1 by a tie bar 3. A large number of thin inner leads 4 extend from the inner wall of the frame 1 toward the die pad 2, and each inner lead 4 prevents the resin from flowing out when the resin is sealed in the molding area 6 in the molding process. Supported by a dam bar 5 for The dam bar 5 serves as a reinforcing member when wiring the integrated circuit chip mounted and fixed to the die pad 2 and the tip of the inner lead 4 on the die pad side with a wire, and cuts the dam bar 5 between the leads after resin sealing. Silver plating 7 is applied to the tip of the inner lead 4 extending from the inner wall of the frame 1 toward the die pad 2 on the die pad 2 side. The reason for applying the silver plating 7 is to promote the alloy of the inner lead and the wire when the integrated circuit chip mounted on and fixed to the die pad 2 and the tip of the inner lead 4 are wired with a wire, thereby increasing the strength of the thermocompression bonding of the wire bonding. That's why.

【0003】銀メッキの種類は、メッキを施す部分の違
いによって主に次の2つがある。
There are two main types of silver plating depending on the difference in the portion to be plated.

【0004】1)ダイパッド2の全体及びリード4の先
端部にメッキを施す部分銀メッキ。
1) Partial silver plating for plating the entire die pad 2 and the tip of the lead 4.

【0005】2)リード4の先端部のみにメッキを施す
リング銀メッキ。
[0005] 2) Ring silver plating in which plating is applied only to the tip of the lead 4.

【0006】上記のようなリードフレームの製作工程で
は、まず、材料となる金属板をエッチング加工またはス
タンピング加工によりダイパッド2、タイバー3、イン
ナーリード4、ダムバー5、アウターリード8等の形状
を作製する。形状作製後インナーリード4の先端に銀メ
ッキ7を施す。前述の部分メッキの場合は、インナーリ
ード4に加えてダイパッド2にもメッキを施す。その
後、必要に応じてポリイミドテープをインナーリード4
の中間部に貼付けし、ダイパッド2をタイバー5の適当
な位置でインナーリード4の面よりも下に折り曲げるデ
プレス加工をしてリードフレーム完成品とする。
In the manufacturing process of the lead frame as described above, first, a metal plate as a material is formed into a shape such as a die pad 2, a tie bar 3, an inner lead 4, a dam bar 5, and an outer lead 8 by etching or stamping. . After the formation of the shape, a silver plating 7 is applied to the tip of the inner lead 4. In the case of the above-mentioned partial plating, plating is applied to the die pad 2 in addition to the inner lead 4. Then, if necessary, apply polyimide tape to inner leads 4
The die pad 2 is depressed at an appropriate position of the tie bar 5 below the surface of the inner lead 4 to obtain a finished lead frame.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記のように半導体用
リードフレームは図4のインナーリード4のダイパッド
側先端に銀メッキ7を施してあり半導体装置の組立時に
集積回路チップとインナーリード4とを結ぶワイヤ熱圧
着力を高める為にはどうしても銀メッキ7の部分が必要
である。しかし銀メッキ7を施す際には、前述の銀メッ
キの種類に関係無く、銀メッキを必要としない部分を完
全にマスキングする事は難しく特にインナーリード側面
への漏れは抑えられない。漏れ出した銀メッキが図3の
モールドエリア6を通過しダムバー5に至ってしまう。
モールドエリア6からダムバー5間に漏れ出した銀メッ
キは、モールドエリア6の内側を樹脂封止後に脱銀剤を
使用し脱銀を行っているが漏れ銀を完全に除去するのは
困難である。銀漏れが極小なりとも含まれている半導体
装置は、後工程である半田メッキでの半田メッキフクレ
や銀漏れ残りによるアウターリード8間のリーク等が発
生し長期間安定的に半導体装置が稼働しなかった。
As described above, the lead frame for a semiconductor is provided with silver plating 7 on the tip of the inner lead 4 shown in FIG. 4 on the die pad side, so that the integrated circuit chip and the inner lead 4 are connected at the time of assembling the semiconductor device. In order to increase the thermocompression bonding force of the wire to be tied, the silver plating 7 is absolutely necessary. However, when silver plating 7 is applied, it is difficult to completely mask portions that do not require silver plating, regardless of the type of silver plating described above, and leakage to the side surfaces of the inner leads cannot be particularly suppressed. The leaked silver plating passes through the mold area 6 in FIG.
The silver plating leaked from the mold area 6 to between the dam bars 5 is subjected to desilvering using a desilvering agent after sealing the inside of the mold area 6 with resin, but it is difficult to completely remove the leaked silver. . In a semiconductor device in which silver leakage is included even if it is extremely small, the semiconductor device does not operate stably for a long period of time due to solder plating blisters in a later step of solder plating and leakage between outer leads 8 due to residual silver leakage. Was.

【0008】したがって、インナーリードのダイパッド
側先端への銀メッキを施す際に銀メッキが漏れてもモー
ルドエリア6外への銀漏れを防止ができ、安定した半導
体の稼働を保証することのできるリードフレームを提供
することが強く望まれた。
Therefore, when silver plating is applied to the tip of the inner lead on the die pad side, even if silver plating leaks, it is possible to prevent silver from leaking out of the mold area 6 and to assure a stable operation of the semiconductor. It was highly desirable to provide a frame.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】集積回路チップを搭載す
る略四角形のダイパッドと前記ダイパッドの周縁に配置
され、一端をダイパッドに向けたインナーリードによっ
て構成され、前記インナーリード先端部に銀メッキを施
したリードフレームにおいて、樹脂封止時に樹脂の流出
を防止し、リードフレームの補強部材となっているダム
バーの他に、さらに1つの素材金属性のダムバーをリー
ドフレーム製造工程でエッチング加工またはスタンピン
グ加工により設け銀メッキを施した後に切断したことで
達成される。
A substantially rectangular die pad on which an integrated circuit chip is mounted and an inner lead arranged on the periphery of the die pad and having one end directed toward the die pad are formed. In the lead frame, the resin is prevented from flowing out at the time of resin sealing, and in addition to the dam bar serving as a reinforcing member of the lead frame, one metal dam bar is further etched or stamped in the lead frame manufacturing process. This is achieved by cutting after providing silver plating.

【0010】また、UV硬化型樹脂性のダムバーを前記
インナーリードの中間部に設けたことで達成される。
[0010] It is also achieved by providing a UV-curable resin dam bar at an intermediate portion of the inner lead.

【0011】[0011]

【作用】インナーリード先端部とモールドエリアの中間
部に素材金属性またはUV硬化型樹脂性のダムバーを設
けることにより、リードフレームの製造工程でインナー
リード先端部に銀メッキを施す際にリード側面を伝いモ
ールドエリア外へ漏れ出すことを防止できる。
[Function] By providing a metal metallic or UV-curable resin dam bar between the inner lead tip and the mold area, the side of the lead can be used when applying silver plating to the tip of the inner lead in the lead frame manufacturing process. It can be prevented from leaking out of the transmission mold area.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の実施例を図1、図2および図
3を用いて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0013】図1は本発明の第1の実施例を示すリード
フレームの全体図である。フレーム枠1は略中央に集積
回路チップを搭載固着するダイパッド2を有している。
更にダイパッド2はタイバー3によってフレーム枠1に
支持されている。又フレーム枠1の内壁からは多数の細
いインナーリード4が前記ダイパッド2に向かって延在
しておりダイパッド側先端には銀メッキ7が施してあ
る。この銀メッキ7を施す際に、銀メッキ7を必要とし
ない部分を完全にマスキングすることは難しく、特にイ
ンナーリード4の側面への銀メッキの漏れは抑えられな
い。インナーリード4の側面を伝わって漏れ出した銀メ
ッキは、インナーリード4の先端からモールドエリア6
間にリードフレームの製造工程でエッチング加工または
スタンピング加工により設けられた素材金属性の銀メッ
キ漏れ止め用ダムバー9により止められる。この銀メッ
キ漏れ止め用ダムバー9のインナーリード4の間隔部分
を銀メッキを施した後に金型により打ち抜く。図2は銀
メッキ漏れ止め用ダムバー9を金型により打ち抜いた後
のリードフレームの部分平面図であるが、金型により打
ち抜かれた銀メッキ漏れ止め用のダムバー9は図2に示
す様にインナーリード4の突起部分10となって残るも
のの、図4に示す従来のリードフレームの形状と同等と
なり、電気的な機能にも支障がなくなる。銀メッキ漏れ
止め用ダムバー9を金型により打ち抜いた後にモールド
工程でモールドエリア6内を樹脂封止する。こうするこ
とによりダムバー5に至る漏れ出る銀メッキは皆無とな
り、樹脂封止後の脱銀工程が不要となるばかりでなく、
アウターリード8の銀メッキ漏れ残りによる半田メッキ
ふくれや銀メッキ漏れ残りによるアウターリード間のリ
ークが押さえられ長期間安定した半導体装置の稼働が可
能となる。さらには、金型により打ち抜かれた銀メッキ
漏れ止め用ダムバーの突起部10はインナーリード4の
一部となり、半導体装置を基板に実装する際のアウター
リード8の抜け防止にもなる。樹脂封止後、アウターリ
ード8間のダムバー5を切断する。
FIG. 1 is an overall view of a lead frame showing a first embodiment of the present invention. The frame 1 has a die pad 2 for mounting and fixing an integrated circuit chip substantially at the center.
Further, the die pad 2 is supported on the frame 1 by a tie bar 3. A large number of thin inner leads 4 extend from the inner wall of the frame 1 toward the die pad 2, and a silver plating 7 is applied to the tip of the die pad side. When the silver plating 7 is applied, it is difficult to completely mask a portion that does not require the silver plating 7, and in particular, the leakage of the silver plating to the side surface of the inner lead 4 cannot be suppressed. The silver plating that has leaked out along the side surface of the inner lead 4 is formed from the tip of the inner lead 4 to the mold area 6.
It is stopped by a damping bar 9 for preventing silver plating made of a metallic material provided by etching or stamping in the lead frame manufacturing process. Silver plating is performed on the space between the inner leads 4 of the damping bar 9 for preventing leakage of silver plating, and then punched out by a mold. FIG. 2 is a partial plan view of the lead frame after punching out the silver-plated leakage-preventing dam bar 9 with a mold. Although it remains as the protruding portion 10 of the lead 4, the shape becomes the same as that of the conventional lead frame shown in FIG. 4, and the electrical function is not affected. After punching out the silver plating leakage preventing dam bar 9 with a mold, the inside of the mold area 6 is sealed with a resin in a molding process. By doing so, there is no silver plating leaking to the dam bar 5, and not only the desilvering step after resin sealing is not required, but also
Solder plating swelling due to the residual silver plating leakage of the outer leads 8 and leakage between the outer leads due to the residual silver plating leakage are suppressed, and the semiconductor device can operate stably for a long period of time. Furthermore, the projections 10 of the silver plating leakage dam bar punched out by the mold become a part of the inner leads 4 and also prevent the outer leads 8 from coming off when the semiconductor device is mounted on the substrate. After resin sealing, the dam bar 5 between the outer leads 8 is cut.

【0014】また、図3は本発明の第2の実施例を示す
リードフレームの部分平面図である。
FIG. 3 is a partial plan view of a lead frame showing a second embodiment of the present invention.

【0015】図3の例は、前述した図2の銀メッキ漏れ
止め用ダムバー9の代わりにUV硬化型樹脂性ダムバー
11を用いたものである。このUV硬化型樹脂性ダムバ
ー11は、リードフレームの製造工程で材料となる金属
板をエッチング加工またはスタンピング加工によりダイ
パッド2、タイバー3、インナーリード4、ダムバー
5、アウターリード8等の形状を作製した後、適当な幅
の樹脂をインナーリード4の先端からモールドエリア6
間にインナーリード4の間隔部分に入り込むように塗布
し、紫外線により硬化させてその形状を作製する。その
後、インナーリード4の先端部に銀メッキ7を施す。前
述の部分メッキの場合は、インナーリード4に加えてダ
イパッド2にもメッキを施す。銀メッキ7を施す際に、
インナーリード4の側面を伝わって漏れだした銀メッキ
は、インナーリード4の先端からモールドエリア6間に
設けられたUV硬化型樹脂性ダムバー11により止めら
れる。この後、モールドエリア6内を樹脂封止する。こ
うすることによりダムバー5に至る漏れ出る銀メッキは
皆無となり、樹脂封止後の脱銀工程が不要となるばかり
でなくアウターリード8の銀メッキ漏れ残りによる半田
メッキふくれや銀メッキ漏れ残りによるアウターリード
間のリークが押さえられ長期間安定した半導体装置の稼
働が可能となる。樹脂封止後、アウターリード8間のダ
ムバー5を切断する。
In the example shown in FIG. 3, a UV-curable resin dam bar 11 is used in place of the above-described dam bar 9 for preventing leakage of silver plating shown in FIG. In the UV-curable resin dam bar 11, shapes such as a die pad 2, a tie bar 3, an inner lead 4, a dam bar 5, and an outer lead 8 were produced by etching or stamping a metal plate as a material in a lead frame manufacturing process. Thereafter, a resin having an appropriate width is applied from the tip of the inner lead 4 to the molding area 6.
It is applied so as to enter the space between the inner leads 4 and cured by ultraviolet rays to form the shape. Thereafter, silver plating 7 is applied to the tip of the inner lead 4. In the case of the above-mentioned partial plating, plating is applied to the die pad 2 in addition to the inner lead 4. When applying silver plating 7,
The silver plating that has leaked along the side surface of the inner lead 4 is stopped by a UV-curable resin dam bar 11 provided between the mold area 6 and the tip of the inner lead 4. Thereafter, the inside of the mold area 6 is sealed with resin. By doing so, there is no silver plating leaking to the dam bar 5, so that the desilvering step after resin sealing is not necessary, but also the solder plating blister due to the silver plating leakage of the outer lead 8 and the outer plating due to the silver plating leakage remain. Leakage between leads is suppressed, and stable operation of the semiconductor device for a long period of time becomes possible. After resin sealing, the dam bar 5 between the outer leads 8 is cut.

【0016】以上、本発明に係わる実施例を説明してき
たが、本実施例ではエッチング加工またはスタンピング
加工により設けた素材金属性およびUV硬化型樹脂性の
ダムバーの形状を直線状のものの例にて説明している
が、銀メッキがモールドエリア外に漏れ出すものでなけ
ればどのような形状をしていてもよい。
Although the embodiment according to the present invention has been described above, in this embodiment, the shape of the metallic or UV-curable resin dam bar provided by etching or stamping is linear. Although described, any shape may be used as long as the silver plating does not leak out of the mold area.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明は、リー
ドフレームのインナーリード先端とモールドエリア間に
素材金属性のダムバーまたはUV硬化型樹脂性のダムバ
ーを設けることによって、リードフレームの製造工程で
インナーリード先端に銀メッキを施す際に、銀メッキが
リード側面を伝いモールドエリア外へ漏れ出すことを防
止できるので、樹脂封止後の脱銀工程を省く事が可能と
なり、またアウターリードの漏れ銀による半田メッキふ
くれ、アウターリード間のリークが完全に防止でき、長
期間安定した稼働のできる半導体装置の供給を可能とす
るという優れた効果がある。
As described above, the present invention provides a lead frame manufacturing process by providing a dam bar made of a material metal or a UV curable resin between a tip end of an inner lead of a lead frame and a molding area. When silver plating is applied to the tip of the inner lead, the silver plating can be prevented from leaking out of the mold area along the lead side, so that the desilvering step after resin sealing can be omitted, and the outer lead There is an excellent effect that a solder plating blister due to leaking silver and a leak between outer leads can be completely prevented, and a semiconductor device capable of operating stably for a long period of time can be supplied.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の第1の実施例を示す部分平面図。FIG. 2 is a partial plan view showing the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の第2の実施例を示す部分平面図。FIG. 3 is a partial plan view showing a second embodiment of the present invention.

【図4】 従来の方法を示す平面図。FIG. 4 is a plan view showing a conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…フレーム枠 2…ダイパッド 3…タイバー 4…インナーリード 5…ダムバー 6…モールドエリア 7…銀メッキ 8…アウターリード 9…銀メッキ漏れ止め用ダムバー 10…銀メッキ漏れ止め用の素材金属性ダムバーの切断
後の突起部 11…銀メッキ漏れ止め用のUV硬化型樹脂性ダムバー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Frame frame 2 ... Die pad 3 ... Tie bar 4 ... Inner lead 5 ... Dam bar 6 ... Mold area 7 ... Silver plating 8 ... Outer lead 9 ... Silver plating leak prevention dam bar 10 ... Silver plating leakage prevention material metal dam bar Projection after cutting 11 UV curable resin dam bar for preventing silver plating leakage

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年8月30日(2000.8.3
0)
[Submission date] August 30, 2000 (2008.3.
0)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】発明の名称[Correction target item name] Name of invention

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【発明の名称】 リードフレーム、リードフレームの製
造方法および半導体装置
Patent application title: LEAD FRAME, METHOD OF MANUFACTURING LEAD FRAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 集積回路チップを搭載する略四角形のダ
イパッドと前記ダイパッドの周縁に配置され、一端をダ
イパッドに向けたインナーリードによって構成され、前
記インナーリード先端部に銀メッキを施したリードフレ
ームにおいて、樹脂封止時に樹脂の流出を防止し、リー
ドフレームの補強部材となっているダムバーの他に、さ
らに1つの素材金属性のダムバーをリードフレームの製
造工程でエッチング加工またはスタンピング加工により
設け、銀メッキを施した後に切断したことを特徴とする
リードフレーム。
1. A lead frame comprising: a substantially square die pad on which an integrated circuit chip is mounted; and inner leads arranged on the periphery of the die pad, one end of which is directed to the die pad, and the tip of the inner lead is silver-plated. In addition to the dam bar serving as a reinforcing member for the lead frame, which prevents leakage of the resin during resin sealing, another metal dam bar is provided by etching or stamping in the lead frame manufacturing process. A lead frame characterized by being cut after plating.
【請求項2】 集積回路チップを搭載する略四角形のダ
イパッドと前記ダイパッドの周縁に配置され、一端をダ
イパッドに向けたインナーリードによって構成され、前
記インナーリード先端部に銀メッキを施したリードフレ
ームにおいて、前記インナーリードの中間部にUV硬化
型樹脂性のダムバーを設けた事を特徴とするリードフレ
ーム。
2. A lead frame, comprising: a substantially square die pad on which an integrated circuit chip is mounted; and inner leads arranged on the periphery of the die pad, one end of which is directed toward the die pad, and the tip of the inner lead is silver-plated. A lead frame, wherein a dam bar made of UV-curable resin is provided at an intermediate portion of the inner lead.
【請求項3】 請求項1記載の前記インナーリードの中
間部にエッチング加工またはスタンピング加工により設
けた素材金属性のダムバーを銀メッキを施した後に切断
したことを特徴とするリードフレームの製造方法。
3. A method for manufacturing a lead frame, wherein a dam bar made of a material metal provided on an intermediate portion of the inner lead according to claim 1 by etching or stamping is silver-plated and then cut.
【請求項4】 請求項2記載の前記インナーリードの中
間部にUV硬化型樹脂性のダムバーを銀メッキを施す前
に設けたことを特徴とするリードフレームの製造方法。
4. A method of manufacturing a lead frame, wherein a UV-curable resin dam bar is provided at an intermediate portion of the inner lead before silver plating is performed.
【請求項5】 前記インナーリードの中間部にエッチン
グ加工またはスタンピング加工により素材金属性のダム
バーを設け、銀メッキを施した後に切断したことを特徴
とする請求項1記載のリードフレームを用いた半導体装
置。
5. A semiconductor using a lead frame according to claim 1, wherein a dam bar made of a metallic material is provided at an intermediate portion of said inner lead by etching or stamping, and is subjected to silver plating and then cut. apparatus.
【請求項6】 前記インナーリードの中間部にUV硬化
型樹脂性のダムバーを設けたことを特徴とする請求項2
記載のリードフレームを用いた半導体装置。
6. A dam bar made of a UV-curable resin is provided at an intermediate portion of the inner lead.
A semiconductor device using the lead frame described in the above.
JP2000230646A 2000-01-01 2000-07-31 Lead frame, manufacture thereof and semiconductor device Withdrawn JP2001024131A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000230646A JP2001024131A (en) 2000-01-01 2000-07-31 Lead frame, manufacture thereof and semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000230646A JP2001024131A (en) 2000-01-01 2000-07-31 Lead frame, manufacture thereof and semiconductor device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17323493A Division JP3111759B2 (en) 1993-07-13 1993-07-13 Lead frame and method of manufacturing lead frame

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001024131A true JP2001024131A (en) 2001-01-26

Family

ID=18723577

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000230646A Withdrawn JP2001024131A (en) 2000-01-01 2000-07-31 Lead frame, manufacture thereof and semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001024131A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100559551B1 (en) * 2003-10-11 2006-03-15 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 Lead frame for semiconductor device and encapsulation mold for it as well as encapsulation method
JP2006108666A (en) * 2004-10-05 2006-04-20 Samsung Techwin Co Ltd Semiconductor lead frame, semiconductor package having it, and method of plating it

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100559551B1 (en) * 2003-10-11 2006-03-15 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 Lead frame for semiconductor device and encapsulation mold for it as well as encapsulation method
JP2006108666A (en) * 2004-10-05 2006-04-20 Samsung Techwin Co Ltd Semiconductor lead frame, semiconductor package having it, and method of plating it

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7102210B2 (en) Lead frame, manufacturing method of the same, and semiconductor device using the same
US5559364A (en) Leadframe
JP2006108306A (en) Lead frame and semiconductor package employing it
JP2001024131A (en) Lead frame, manufacture thereof and semiconductor device
JP3111759B2 (en) Lead frame and method of manufacturing lead frame
KR20020091797A (en) Lead Frame, Semiconductor Device Using the Same and Method of Producing the Semiconductor Device
JPH04134852A (en) Lead frame
JP2004031516A (en) Connector type semiconductor device
JP5170122B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
US6605864B2 (en) Support matrix for integrated semiconductors, and method for producing it
JPH08130267A (en) Resin sealed semiconductor package, resin sealed semiconductor device and manufacture thereof
JPH0766350A (en) Lead frame for semiconductor device
JPH11317484A (en) Lead frame and packaging method using the same
JP3082518B2 (en) Semiconductor lead frame and semiconductor device
JP2004127962A (en) Resin sealing method of semiconductor device
KR200331876Y1 (en) Tie wine and inner lead fixing structure of semiconductor lead frame
JP2704128B2 (en) Lead frame for semiconductor device and method of manufacturing the same
JP4225312B2 (en) Semiconductor device
JPH1154686A (en) Lead frame and semiconductor package using the same
JP2017152496A (en) Lead frame and manufacturing method of semiconductor package
JPH08236687A (en) Dam barless lead frame
JPH04164344A (en) Film carrier tape
KR20020001151A (en) Method for manufacturing Chip Scale Package using lead
JP2005158778A (en) Manufacturing method for lead frame and for semiconductor device
JPH04316359A (en) Lead frame and manufacture of semiconductor device using same

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040302

A761 Written withdrawal of application

Effective date: 20040430

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761