JP2001023862A - Manufacture of multilayer ceramic capacitor - Google Patents

Manufacture of multilayer ceramic capacitor

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JP2001023862A
JP2001023862A JP11189968A JP18996899A JP2001023862A JP 2001023862 A JP2001023862 A JP 2001023862A JP 11189968 A JP11189968 A JP 11189968A JP 18996899 A JP18996899 A JP 18996899A JP 2001023862 A JP2001023862 A JP 2001023862A
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JP
Japan
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atmosphere
chip
nickel
multilayer ceramic
dielectric
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JP11189968A
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Inventor
Minoru Amaya
稔 天谷
Kenichi Harada
賢一 原田
Takashi Hashiguchi
隆志 橋口
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Rohm Co Ltd
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Rohm Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the durability of a multilayer ceramic capacitor when inner electrodes B within a chip C of the capacitor is made of nickel or a nickel alloy. SOLUTION: A plurality of dielectric green sheets A1, each having an inner electrode B formed by applying nickel or nickel alloy paste to the surface thereof, are bonded by compression into a chip C. The chip C is then baked in an atmosphere of a reducing gas, after which it is baked again in an atmosphere of an oxidizing gas. Next, the resulting chip C has its left and right facets C1 and C2 polished to form external electrodes D1 and D2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、積層セラミックコ
ンデンサのうち、内部電極の材料としてニッケル又はそ
の合金を使用した積層セラミックコンデンサの製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor using nickel or an alloy thereof as a material of an internal electrode among multilayer ceramic capacitors.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、この種の積層セラミックコンデ
ンサの製造に際しては、誘電体材料によるグリーンシー
トの表面に、内部電極用の材料ペーストをスクリーン印
刷し、この誘電体グリーンシートの複数枚を積層してチ
ップ片に圧着し、次いで、このチップ片を、約1300
℃の高温で焼成し、次いで、前記チップ片における左右
両端面の各々に、外部電極を形成するという方法が採用
されている。
2. Description of the Related Art Generally, when manufacturing a multilayer ceramic capacitor of this type, a material paste for an internal electrode is screen-printed on the surface of a green sheet made of a dielectric material, and a plurality of dielectric green sheets are laminated. To a chip piece, and then this chip piece is
A method is employed in which firing is performed at a high temperature of ℃ and then external electrodes are formed on each of the left and right end faces of the chip piece.

【0003】この製造方法においては、前記内部電極の
材料として高価なパラジウムを使用するのが一般的であ
ったが、一部では、前記パラジウムに代えて、より廉価
なニッケル又はその合金を使用することが提案されてい
る。
In this manufacturing method, expensive palladium is generally used as a material for the internal electrodes. However, in some cases, less expensive nickel or an alloy thereof is used instead of the palladium. It has been proposed.

【0004】しかし、内部電極を、ニッケル又はその合
金のペーストにて形成すると、高温での焼成に際して、
ペースト中のニッケルが粒状のままで酸化してしまっ
て、内部電極として作用しなくなるので、前記高温での
焼成を、N2 −H2 系ガス等の還元性ガスの雰囲気の中
で行うようにしなければならないが、還元性ガスの雰囲
気の中で高温焼成を行うと、従来の誘電体材料では、絶
縁抵抗が低下することになる。
However, when the internal electrode is formed of a paste of nickel or an alloy thereof, firing at a high temperature causes
Since the nickel in the paste is oxidized in a granular state and no longer functions as an internal electrode, the firing at a high temperature is performed in an atmosphere of a reducing gas such as an N 2 -H 2 gas. However, if high-temperature sintering is performed in a reducing gas atmosphere, the insulation resistance of the conventional dielectric material is reduced.

【0005】そこで、従来は、例えば、特開昭53−2
4600号公報等に記載されているように、誘電体の材
料として、高温焼成に対して耐還元性を有するように特
殊組成にした誘電体をを使用することにより、誘電体の
絶縁抵抗が高温焼成によって低下することを回避するよ
うにしている。
Therefore, conventionally, for example, Japanese Patent Laid-Open No. Sho 53-2
As described in Japanese Patent No. 4600 or the like, the use of a dielectric having a special composition so as to have reduction resistance to high-temperature sintering as a material of the dielectric allows the dielectric insulation resistance of the dielectric to be high. It is intended to avoid a decrease by firing.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、高温焼成に対
して耐還元性を有するように特殊組成にした誘電体は、
極く普通の誘電体とさほどの価格差はないものの、高温
負荷試験において、その絶縁抵抗の劣化がし易いことに
より、寿命が短いという問題があった。
However, a dielectric having a special composition so as to have reduction resistance to high-temperature firing,
Although there is not much price difference from a very ordinary dielectric, there is a problem that the service life is short because the insulation resistance is easily deteriorated in a high temperature load test.

【0007】本発明は、この問題を解消した製造方法を
提供することを技術的課題とするものである。
An object of the present invention is to provide a manufacturing method which solves this problem.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、「誘電体材料によるグリーンシートの
表面にニッケル又はその合金のペーストの塗布による内
部電極を形成し、この誘電体グリーンシートの複数枚を
積層してチップ片に圧着し、次いで、このチップ片を還
元性ガスの雰囲気の中で焼成したのち、酸化性ガスの雰
囲気の中で再焼成し、次いで、前記チップ片の左右両端
面に、研磨加工したのち、外部電極を形成することを特
徴とする。」ものである。
In order to achieve this technical object, the present invention relates to a method of forming an internal electrode by applying a paste of nickel or an alloy thereof on the surface of a green sheet made of a dielectric material. A plurality of sheets are stacked and pressed on a chip piece, and then fired in an atmosphere of a reducing gas, and then fired again in an atmosphere of an oxidizing gas. After polishing the left and right end surfaces, external electrodes are formed. "

【0009】[0009]

【発明の作用・効果】誘電体が還元性ガスの雰囲気の中
での焼成によって還元されその絶縁抵抗が低くなって
も、この低絶縁抵抗の誘電体を、その後における酸化性
ガスの雰囲気の中で再焼成により、高い絶縁抵抗を有す
る誘電体に戻すことができる。
According to the present invention, even if the dielectric is reduced by firing in an atmosphere of a reducing gas and its insulation resistance is reduced, the dielectric having a low insulation resistance is kept in an atmosphere of an oxidizing gas thereafter. By re-firing, a dielectric having high insulation resistance can be returned.

【0010】また、前記誘電体材料によるグリーンシー
トに塗布されたニッケル又はその合金のペーストは、最
初の還元性ガスの雰囲気の中での焼成によって、板状に
焼結され一枚の電極になるから、このニッケル又はニッ
ケル合金製の内部電極は、その後における酸化性ガスの
雰囲気の中で再焼成において、当該内部電極における表
面の極く一部が酸化されるのみである。
Further, the paste of nickel or its alloy applied to the green sheet made of the dielectric material is sintered into a plate shape by firing in an atmosphere of a reducing gas at first to form one electrode. Therefore, in the internal electrode made of nickel or nickel alloy, only a part of the surface of the internal electrode is oxidized by re-firing in an atmosphere of an oxidizing gas thereafter.

【0011】そこで、前記内部電極のうちチップ片の両
端面に露出している部分における酸化膜を、チップ片の
両端面に対する研磨加工に取り除いたのち、チップ片の
左右両端面に、外部電極を形成することにより、この外
部電極に対して前記内部電極を電気的に確実に導通する
ことができるのである。
Therefore, after removing the oxide film in the portions of the internal electrodes exposed at both end faces of the chip piece by polishing the both end faces of the chip piece, external electrodes are provided on both right and left end faces of the chip piece. By forming, the internal electrode can be electrically connected to the external electrode without fail.

【0012】従って、本発明によると、還元性ガスの雰
囲気の中での焼成に次いで酸化性ガスの雰囲気の中で再
焼成を行うことにより、誘電体の材料として、従来のよ
うに、殊更、耐還元性の高い誘電体の材料を使用するこ
とを、及び、高温負荷試験において絶縁抵抗の劣化を少
なくするような誘電体の材料を使用することを必要とし
ないから、寿命が長くて信頼性の高い積層セラミックコ
ンデンサを製造できる効果を有する。
Therefore, according to the present invention, by performing firing in an atmosphere of a reducing gas and then re- firing in an atmosphere of an oxidizing gas, the dielectric material can be used as a conventional material. Long life and high reliability because it is not necessary to use a dielectric material with high reduction resistance and to use a dielectric material that reduces the deterioration of insulation resistance in high-temperature load tests. The effect is that a multilayer ceramic capacitor having a high density can be manufactured.

【0013】特に、外部電極を、請求項2に記載したよ
うに、金属のスパッタリング又は真空蒸着或いはイオン
プレーティングにて形成するか、或いは、請求項3に記
載したように、300℃以下の温度で硬化する導電性ペ
ーストの塗布にて形成することにより、外部電極の形成
に際して、誘電体が還元して絶縁抵抗が低下すること、
及び内部電極の酸化にて外部電極との接続不良が発生す
ることを確実に低減できる利点がある。
In particular, the external electrode is formed by sputtering, vacuum deposition or ion plating of a metal as described in claim 2, or a temperature of 300 ° C. or less as described in claim 3. By forming by applying a conductive paste that cures in, the dielectric is reduced and the insulation resistance is reduced when forming the external electrodes,
In addition, there is an advantage that occurrence of connection failure with the external electrode due to oxidation of the internal electrode can be reliably reduced.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
1〜図 の図面について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0015】誘電体材料によるグリーンシートA1の表
面に、内部電極Bを形成する材料であるニッケル又はニ
ッケル合金のペーストをスクリーン印刷にして塗布し、
このグリーンシートの複数枚を、その各々における内部
電極Bが交互に逆向きになるように積層し、更に、その
上面と下面とにカバー用の誘電体材料によるグリーンシ
ートA2,A3を積層したのち、その積層方向にプレス
することにより、図2に示すようなチップ片Cにする。
A paste of nickel or a nickel alloy, which is a material for forming the internal electrode B, is applied by screen printing to the surface of the green sheet A1 made of a dielectric material,
After stacking a plurality of the green sheets so that the internal electrodes B in each of them are alternately turned in the opposite direction, green sheets A2 and A3 made of a dielectric material for a cover are further stacked on the upper and lower surfaces thereof. By pressing in the stacking direction, a chip piece C as shown in FIG. 2 is obtained.

【0016】なお、前記各グリーンシートA1,A2,
A3は、 BaTiO3 ・・・・・99.7wt% SiO2 ・・・・・・・・0.1wt% MnCO3 ・・・・・・・0.2wt% を含むチタン酸バリウム系のセラミックによる誘電体で
あり、且つ、その厚さは約20ミクロンである。また、
この誘電体の組成は一般的なものであり、例えば、F特
性用にするのであれば、Ca,Zr,Sr及び希土類元
素等を、B特性用にするのであれば、Mg,Co,Z
r,Nb及び希土類元素等のように一般的に知られてい
る添加剤を加えても良い。
Each of the green sheets A1, A2,
A3 is made of a barium titanate-based ceramic containing BaTiO 3 ... 99.7 wt% SiO 2 ... 0.1 wt% MnCO 3 . It is a dielectric and has a thickness of about 20 microns. Also,
The composition of this dielectric is general. For example, Ca, Zr, Sr and rare earth elements are used for the F characteristic, and Mg, Co, Z are used for the B characteristic.
Generally known additives such as r, Nb and rare earth elements may be added.

【0017】そして、前記チップ片Cを、内部を3wt
%のH2 ガスと97wt%のN2 ガスとによる還元性ガ
スの雰囲気にした加熱炉内において約1250℃の温度
で焼成したのち、更に、内部を空気等の酸化性ガスの雰
囲気にした加熱炉内において約900℃の温度で再焼成
する。
Then, the chip piece C is filled with 3 wt.
% Of H 2 gas and 97 wt% of N 2 gas in a heating furnace with a reducing gas atmosphere at a temperature of about 1250 ° C., and further heating the inside with an oxidizing gas atmosphere such as air. Refire at a temperature of about 900 ° C. in a furnace.

【0018】前記還元性ガスの雰囲気の中での焼成によ
り、チップ片Cを焼結することができると同時に、この
チップ片Cの内部にニッケル又はその合金製の内部電極
Bを形成することができるのであるが、この還元性ガス
の雰囲気での焼成にて誘電体が還元されることにより、
その絶縁抵抗が低下することになる。
By firing in the atmosphere of the reducing gas, the chip C can be sintered, and at the same time, the internal electrode B made of nickel or its alloy is formed inside the chip C. Although it is possible, the dielectric is reduced by firing in the atmosphere of this reducing gas,
The insulation resistance will be reduced.

【0019】そこで、前記の焼成に次いで、空気等の酸
化性ガスの雰囲気の中で再焼成することにより、誘電体
を、高い絶縁抵抗を有するものに戻すことができる一
方、前記還元性ガスの雰囲気の中での焼成によって形成
されたニッケル又はその合金製の内部電極Bは、その後
における酸化性ガスの雰囲気の中での再焼成において、
その表面の極く一部が酸化されるのである。
Then, after the above-mentioned sintering, by re-sintering in an atmosphere of an oxidizing gas such as air, the dielectric can be returned to a material having a high insulation resistance, while the dielectric material has a high insulation resistance. The internal electrode B made of nickel or an alloy thereof formed by firing in an atmosphere is re-fired in an atmosphere of an oxidizing gas thereafter.
Only a small part of the surface is oxidized.

【0020】次いで、前記チップ片Cの左右両端面C
1,C2に対して、サンドブラスト又はバレル研磨等の
研磨加工を施すことにより、前記内部電極Bのうちチッ
プ片Cの両端面C1,C2に露出する部分の表面におけ
る酸化膜を取り除いたのち、前記左右両端面C1,C
に、クロム、ニッケル、銀又は銅のスパッタリングを施
すことにより、外部電極D1,D2を形成するのであ
り、これにより、両外部電極D1,D2を、内部電極B
に対して確実に電気的に接続することができるのであ
る。
Next, the left and right end faces C of the chip piece C
1 and C2 are subjected to a polishing process such as sand blasting or barrel polishing to remove an oxide film on a surface of a portion of the internal electrode B exposed to both end surfaces C1 and C2 of the chip piece C. Left and right end faces C1, C
The external electrodes D1 and D2 are formed by sputtering chromium, nickel, silver or copper on the inner electrode B.
It can be reliably electrically connected to the.

【0021】前記両外部電極D1,D2は、クロム、ニ
ッケル、銀又は銅の真空蒸着、或いは、イオンプレーテ
ィングにても形成することができるのであり、これらス
パッタリング、真空蒸着又はイオンプレーティング等に
よる方法は、チップ片Cに熱負荷をかけることが少ない
ので、その誘電体を高い絶縁抵抗の状態に維持すること
ができると共に、内部電極Bの酸化を防止し外部電極D
1,D2との接続不良が発生することを低減できる。
The external electrodes D1 and D2 can be formed by vacuum deposition of chromium, nickel, silver or copper, or also by ion plating. In the method, since a thermal load is less applied to the chip C, the dielectric can be maintained in a state of high insulation resistance, and at the same time, the oxidation of the internal electrode B can be prevented and the external electrode D
1 and D2 can be reduced.

【0022】また、前記チップ片Cの両端面C1,C2
に対する研磨加工後における外部電極D1,D2は、両
端面C1,C2に導電性ペーストを塗布したのち硬化す
ることによって形成するようにしても良いが、この場合
には、200〜300℃で硬化する導電性ペーストを使
用することにより、チップ片Cに熱負荷をかけることが
少ないので、その誘電体を高い絶縁抵抗の状態に維持す
ることができると共に、内部電極Bの酸化を防止し外部
電極D1,D2との接続不良が発生することを低減でき
る。
Further, both end faces C1 and C2 of the chip piece C are provided.
The external electrodes D1 and D2 after the polishing process may be formed by applying a conductive paste to both end surfaces C1 and C2 and then hardening, but in this case, the hardening is performed at 200 to 300 ° C. By using the conductive paste, a thermal load is not applied to the chip piece C, so that the dielectric can be maintained in a state of high insulation resistance, the oxidation of the internal electrode B can be prevented, and the external electrode D1 can be prevented. , D2 can be reduced.

【0023】なお、前記両外部電極D1,D2の表面に
は、プリント回路基板等への半田付けに際しての半田付
けの容易性を確保し、且つ、半田くわれを防止すること
等のために、ニッケル、錫又は半田等のコーティング層
を形成することも可能である。
The surfaces of the external electrodes D1 and D2 are provided on the surfaces of the external electrodes D1 and D2 in order to secure the ease of soldering when soldering to a printed circuit board and the like and to prevent solder cracking. It is also possible to form a coating layer of nickel, tin or solder.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】誘電体によるグリーンシートを積層している状
態を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a state in which green sheets made of a dielectric material are stacked.

【図2】積層したチップ片を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing stacked chip pieces.

【図3】図2のIII −III 視断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III of FIG. 2;

【図4】積層セラミックコンデンサの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of the multilayer ceramic capacitor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A1,A2,A3 グリーンシート B 内部電極 C チップ片 C1,C2 チップ片の端面 D1,D2 外部電極 A1, A2, A3 Green sheet B Internal electrode C Chip piece C1, C2 End face of chip piece D1, D2 External electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋口 隆志 京都市右京区西院溝崎町21番地 ローム株 式会社内 Fターム(参考) 5E001 AB03 AC09 AF06 AH01 AH03 AH06 AH08 AH09 AJ03 5E082 AA01 AB03 BC40 EE04 EE23 EE35 FG06 FG26 FG54 GG10 GG21 GG28 JJ03 JJ15 JJ21 JJ23 JJ26 LL01 MM23 MM24 PP06  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takashi Hashiguchi 21-Family, Rohm Co., Ltd., 21 Ryozaki-cho, Ukyo-ku, Kyoto City F-term (reference) 5E001 AB03 AC09 AF06 AH01 AH03 AH06 AH08 AH09 AJ03 5E082 AA01 AB03 BC40 EE04 EE23 EE35 FG06 FG26 FG54 GG10 GG21 GG28 JJ03 JJ15 JJ21 JJ23 JJ26 LL01 MM23 MM24 PP06

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】誘電体材料によるグリーンシートの表面に
ニッケル又はその合金のペーストの塗布による内部電極
を形成し、この誘電体グリーンシートの複数枚を積層し
てチップ片に圧着し、次いで、このチップ片を還元性ガ
スの雰囲気の中で焼成したのち、酸化性ガスの雰囲気の
中で再焼成し、次いで、前記チップ片の左右両端面に、
研磨加工したのち、外部電極を形成することを特徴とす
る積層セラミックコンデンサの製造方法。
An internal electrode is formed by applying a paste of nickel or an alloy thereof on a surface of a green sheet made of a dielectric material, a plurality of dielectric green sheets are laminated and pressed on a chip piece, After firing the chip pieces in an atmosphere of a reducing gas, re-fired in an atmosphere of an oxidizing gas, and then on the left and right end faces of the chip pieces,
A method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor, comprising forming an external electrode after polishing.
【請求項2】前記請求項1において、前記外部電極を、
金属のスパッタリング又は真空蒸着或いはイオンプレー
ティングにて形成することを特徴とする積層セラミック
コンデンサの製造方法。
2. The external electrode according to claim 1,
A method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor, characterized by being formed by metal sputtering, vacuum deposition or ion plating.
【請求項3】前記請求項1において、前記外部電極を、
300℃以下の温度で硬化する導電性ペーストの塗布に
て形成することを特徴とする積層セラミックコンデンサ
の製造方法。
3. The external electrode according to claim 1, wherein:
A method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor, wherein the method is formed by applying a conductive paste that is cured at a temperature of 300 ° C. or less.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7067172B2 (en) 2002-04-15 2006-06-27 Avx Corporation Component formation via plating technology
US7152291B2 (en) 2002-04-15 2006-12-26 Avx Corporation Method for forming plated terminations
US7309397B2 (en) * 2001-02-21 2007-12-18 Ceramtec Ag Innovative Ceramic Engineering Process for the manufacture of piezoceramic multilayer actuators
WO2007148484A1 (en) * 2006-06-19 2007-12-27 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method for manufacturing laminated ceramic electronic component
US7344981B2 (en) 2002-04-15 2008-03-18 Avx Corporation Plated terminations
US7463474B2 (en) 2002-04-15 2008-12-09 Avx Corporation System and method of plating ball grid array and isolation features for electronic components

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7309397B2 (en) * 2001-02-21 2007-12-18 Ceramtec Ag Innovative Ceramic Engineering Process for the manufacture of piezoceramic multilayer actuators
US7067172B2 (en) 2002-04-15 2006-06-27 Avx Corporation Component formation via plating technology
US7152291B2 (en) 2002-04-15 2006-12-26 Avx Corporation Method for forming plated terminations
US7161794B2 (en) * 2002-04-15 2007-01-09 Avx Corporation Component formation via plating technology
US7344981B2 (en) 2002-04-15 2008-03-18 Avx Corporation Plated terminations
US7463474B2 (en) 2002-04-15 2008-12-09 Avx Corporation System and method of plating ball grid array and isolation features for electronic components
US10020116B2 (en) 2002-04-15 2018-07-10 Avx Corporation Plated terminations
US10366835B2 (en) 2002-04-15 2019-07-30 Avx Corporation Plated terminations
US11195659B2 (en) 2002-04-15 2021-12-07 Avx Corporation Plated terminations
WO2007148484A1 (en) * 2006-06-19 2007-12-27 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method for manufacturing laminated ceramic electronic component

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