JP2001021584A - Vertical probe card - Google Patents

Vertical probe card

Info

Publication number
JP2001021584A
JP2001021584A JP11191553A JP19155399A JP2001021584A JP 2001021584 A JP2001021584 A JP 2001021584A JP 11191553 A JP11191553 A JP 11191553A JP 19155399 A JP19155399 A JP 19155399A JP 2001021584 A JP2001021584 A JP 2001021584A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
support plate
lower support
probe card
guide hole
reinforcing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11191553A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Takagi
啓行 高木
Tsutomu Hashimoto
力 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd filed Critical Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd
Priority to JP11191553A priority Critical patent/JP2001021584A/en
Publication of JP2001021584A publication Critical patent/JP2001021584A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vertical probe card having excellent thermal stress resistance and high rigidity by reinforcing support plates, while enhancing the reliability of probe testing accuracy by preventing movement of a needle contact end, and suited for application to a multiple pin configuration used at a high temperatures, particularly a DRAM. SOLUTION: In this vertical probe card, a number of probing needles 4 are arranged between both upper and lower support plates 5, 3, and each needle is connected at its connecting end 4a to a lead part 7 via a guide hole 14 provided in the upper support plate 5 and has its contact end 4b passed through and supported against a guide hole 13 in the lower support plate 3. Reinforcing plates 20 made from carbon fiber reinforced plastic(CFRP) are bonded to both the front and back faces of the base 21 of the lower support plate to form the lower support plate 3 integrally, and window hole parts for exposing the guide hole 13 are bored in the reinforcing plates.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は垂直型プローブカー
ド、詳しくは、多数の探針用ニードルを上下支持板の間
に配列し、該ニードルを半導体ウエハ表面の電極パッド
に垂直に接するように構成して前記パッドと電気信号を
授受するようにしたプローブカードに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vertical probe card, more specifically, a structure in which a large number of probe needles are arranged between upper and lower support plates, and the needles are configured to be in vertical contact with electrode pads on the surface of a semiconductor wafer. The present invention relates to a probe card for transmitting and receiving an electric signal to and from the pad.

【0002】[0002]

【従来の技術】垂直型プローブカードは、多数の探針用
ニードルをエポキシ樹脂を用いて底面に水平状に並設し
た片持ち支持タイプに比べて、針の長さを短くでき、か
つ長さや径を統一できるとともに電極パッドに与えるダ
メージが少なく、また、電極パッド配置の自由度が増大
する等の利点があり多用されつつある。この垂直タイプ
は、一般に、多数の探針用ニードルを上下両支持板の間
に配列し、その各ニードルの接続端部を上部支持板に設
けたガイド孔に挿通支持せしめて電気信号入力端子に接
続するとともに、もう一方の接触端部を下部支持板のガ
イド孔に挿通支持せしめた構成が知られている。そし
て、上下両支持板としては、ポリイミド系等のプラスチ
ック薄板が使用されている。また、最近の半導体ウエハ
のチップは電極の数が多くなっているが、それに対応し
てプローブカードも探針用ニードルの数を増大させた多
ピン化が要求され、その多ピン化により前記ニードルの
配列ピッチ、特にニードル接触端部の配列ピッチ、すな
わち、下部支持板のガイド孔間隔が0.1mm程度と小
さくなっている。
2. Description of the Related Art A vertical probe card can reduce the length and length of a probe as compared with a cantilever type in which a large number of probe needles are horizontally arranged on the bottom surface using epoxy resin. It is widely used because of its advantages such as a uniform diameter, less damage to electrode pads, and an increase in the degree of freedom in electrode pad arrangement. In this vertical type, generally, a large number of probe needles are arranged between upper and lower support plates, and connection ends of the needles are inserted into and supported by guide holes provided in an upper support plate, and are connected to electric signal input terminals. In addition, a configuration is known in which the other contact end is inserted and supported in a guide hole of a lower support plate. As the upper and lower support plates, a plastic thin plate of polyimide or the like is used. In addition, recent semiconductor wafer chips have a large number of electrodes, and correspondingly, probe cards are also required to have a large number of pins by increasing the number of probe needles. In particular, the arrangement pitch of the needle contact ends, that is, the interval between the guide holes of the lower support plate is as small as about 0.1 mm.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかるに従来、DRA
Mなどメモリデバイスのプローブ試験のように、上記垂
直型プローブカードを使用して温度85〜150℃下で
高温テストを実施する場合には、前記下部支持板の熱膨
張率により歪(撓み)を生じたり、ガイド孔間のピッチ
が変化してニードル接触端部の位置ズレ現象が発生する
問題がある。このニードル接触端部の位置ズレ現象は、
設定された接触端部と半導体ウエハのチップ電極パッド
との位置合わせにズレを生じて、接触不良などの検査ミ
スの原因となり、特に電極間ピッチが小なる多ピン形態
においては、僅かな位置ズレによっても接触不良の原因
となってプローブテストの信頼性が著しく低下する。
However, conventionally, DRA
When performing a high-temperature test at a temperature of 85 to 150 ° C. using the above-described vertical probe card as in a probe test of a memory device such as M, distortion (bending) is caused by the coefficient of thermal expansion of the lower support plate. In some cases, the pitch between the guide holes changes, and the position of the needle contact end shifts. This misalignment of the needle contact end
A misalignment occurs between the set contact end and the chip electrode pad of the semiconductor wafer, which causes an inspection error such as a contact failure. Particularly in a multi-pin configuration where the electrode pitch is small, a slight misalignment occurs. This also causes a contact failure and significantly reduces the reliability of the probe test.

【0004】上記問題点を解決するためには、上下支持
板、特に下部支持板として低熱膨張率な材料、例えばセ
ラミックやインバー合金等を使用すればよい。しかしな
がら、その場合には、ニードル接触端部を保護するため
及び絶縁層を確保するために、ニードル接触端部が摺動
する前記ガイド孔の内面に樹脂など絶縁性コーティング
を施さなければならず、そのために下部支持板の素材自
身のガイド孔径がコーティング層の2倍分大きくなり、
強度上、孔ピッチがその分小さくできず多ピン化が達成
されない不具合がある。
In order to solve the above problem, a material having a low coefficient of thermal expansion, for example, a ceramic or an invar alloy may be used as the upper and lower support plates, especially the lower support plate. However, in that case, in order to protect the needle contact end and secure the insulating layer, an insulating coating such as a resin must be applied to the inner surface of the guide hole in which the needle contact end slides, Therefore, the guide hole diameter of the material of the lower support plate itself becomes twice as large as the coating layer,
In view of strength, there is a problem that the pitch of the holes cannot be reduced correspondingly and multi-pinning cannot be achieved.

【0005】而して本発明は上記従来事情に鑑み、上記
支持板を補強することにより、耐熱応力性に優れるとと
もに高剛性であって、ガイド孔のピッチズレ、すなわち
ニードル接触端部の位置ズレを防止してプローブテスト
精度の信頼性を向上させるプローブカード、特にDRA
Mなど高温下で使用する多ピン形態に適用して好適な垂
直型プローブカードを提供することを目的とする。
In view of the above-mentioned circumstances, the present invention reinforces the support plate to provide excellent heat stress resistance and high rigidity, and to reduce the pitch deviation of the guide holes, that is, the position deviation of the needle contact end. Probe card, especially DRA, which prevents and improves the reliability of probe test accuracy
It is an object of the present invention to provide a vertical probe card suitable for application to a multi-pin configuration used at high temperatures such as M.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】斯る本発明は、垂直型プ
ローブカードにおいて、上記下部支持板の表裏両面に炭
素繊維補強プラスチックス(CFRP)製の補強板を接
着し一体的に構成し、該補強板にはガイド孔を露出させ
る窓孔部を開口していることを特徴とする。本発明によ
れば、下部支持板が従来と同様なプラスチック製薄板で
あっても、それがCFRP製の補強板により耐熱応力
性、高剛性が改善されて、高温度下で使用されても、変
形や熱膨張が抑制されガイド孔のピッチズレを防止する
ことができる。上記CFRPは、疑似等方性を有するよ
うに配置された織物であれば、二軸織物、三軸織物、四
軸織物などその製織構造に限定されるものではないが、
コスト面と補強効果を考慮した場合に、製造安価な二軸
織物を用いることが好ましい。
According to the present invention, in a vertical probe card, a reinforcing plate made of carbon fiber reinforced plastics (CFRP) is adhered to both the front and back surfaces of the lower support plate to integrally form the same. The reinforcing plate has a window hole for exposing the guide hole. According to the present invention, even if the lower support plate is a plastic thin plate similar to the conventional one, even if it is used under high temperature, its heat stress resistance and high rigidity are improved by the reinforcing plate made of CFRP, Deformation and thermal expansion are suppressed, and pitch deviation of the guide holes can be prevented. The above-mentioned CFRP is not limited to the weaving structure such as biaxial woven fabric, triaxial woven fabric, and four-axial woven fabric as long as the woven fabric is arranged to have pseudo-isotropy.
In consideration of the cost and the reinforcing effect, it is preferable to use a biaxial woven fabric which is inexpensive to manufacture.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面により
説明すれば、図1はプローブカード1の概要を断面図で
示す。図においてプローブカード1は、プロ−バー(図
示せず)に固定され、チャック(図示せず)上に固定さ
れた被検査ウエハ2に対し相対的に移動できる。このプ
ローブカード1は、下部支持板3と、スペーサー12を介
して下部支持板3に一体化されている上部支持板5と、
ニードル4と、電気的コネクタ6と、配線基板8とによ
り構成される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an outline of a probe card 1 in a sectional view. In the figure, a probe card 1 is fixed to a probe bar (not shown) and can move relative to a wafer 2 to be inspected fixed on a chuck (not shown). The probe card 1 includes a lower support plate 3, an upper support plate 5 integrated with the lower support plate 3 via a spacer 12,
It comprises a needle 4, an electrical connector 6 and a wiring board 8.

【0008】下部支持板3は、並列状に開口した多数の
結合孔13を有し、上部支持板5も同様に、並列状に開口
した多数の結合孔14を有する。ニードル4は、上部支持
板5と下部支持板3の間にあり、前記上下支持板の結合
孔14,13に摺動可能に挿入され、上部支持板5より上面
側と下部支持板3の下面側のそれぞれに僅かに両端を突
出させている。電気的コネクタ6は、上部支持板5の上
面にあって結合孔14から突出しているニードル4の上側
先端と電気的に接触し、電気信号を伝達するリード7を
有する。配線基板8は、上下支持板5,3と電気的コネ
クタ6を支持すると同時に、プロ−バー(図示せず)に
固定されている。
The lower support plate 3 has a number of connection holes 13 opened in parallel, and the upper support plate 5 also has a number of connection holes 14 opened in parallel. The needle 4 is located between the upper support plate 5 and the lower support plate 3, is slidably inserted into the coupling holes 14, 13 of the upper and lower support plates, and is located above the upper support plate 5 and the lower surface of the lower support plate 3. Both ends protrude slightly on each side. The electrical connector 6 has a lead 7 that is in electrical contact with the upper end of the needle 4 protruding from the coupling hole 14 on the upper surface of the upper support plate 5 and transmits an electric signal. The wiring board 8 supports the upper and lower support plates 5 and 3 and the electrical connector 6 and is fixed to a prober (not shown).

【0009】下部支持板3の前記結合孔13は、被検査ウ
エハ2上の電極(パッド)15の配列に合わせて配置さ
れ、検査時にウエハ2上の電極15に結合孔13に挿入され
ている各ニードル4の下側先端が、それぞれ個別に各電
極と電気的導通を得ることができる。上記ニードル4
は、検査時に、電極15に接触しさらに近づくことにより
押し上げられえると変形し、適度なバネ性を発揮し、上
部支持板5の結合孔14を介して互いに位置合わせされた
リード7の端面に接触し電気的導通をする。上記電気的
コネクタ6は、プラスチック等の絶縁物からなり、上部
支持板5の結合孔14の位置に合わせて細孔が穿孔されて
おり、この細孔にリード7を挿入し固定することにより
ニードル4と接触し導通を得るための電極が形成され
る。上記配線基板8は、一般的なガラス繊維入りエポキ
シ樹脂を基材とする多層配線基板であり、外周側に電極
11(一般には、パフォーマンスボードのスプリングプロ
ーブと接触するための座)が配置され、パフォーマンス
ボードを介してテスタに接続される。また、配線基板8
には、前記リード7との接続用電極9が配設され、該電
極9と電極11は、スルーホール又はビアホール及び内部
配線パターン10を介して互いに接続されている。
The coupling holes 13 of the lower support plate 3 are arranged in accordance with the arrangement of the electrodes (pads) 15 on the wafer 2 to be inspected, and are inserted into the coupling holes 13 in the electrodes 15 on the wafer 2 at the time of inspection. The lower tip of each needle 4 can individually obtain electrical continuity with each electrode. Needle 4 above
Is deformed when it comes into contact with the electrode 15 and can be pushed up by approaching the electrode 15 at the time of inspection, exerts an appropriate spring property, and is connected to the end faces of the leads 7 aligned with each other through the coupling hole 14 of the upper support plate 5. Contact and electrical conduction. The electrical connector 6 is made of an insulating material such as plastic, and has a hole drilled at a position corresponding to the coupling hole 14 of the upper support plate 5. An electrode is formed for contact with the substrate 4 to obtain conduction. The wiring board 8 is a multi-layer wiring board based on a general epoxy resin containing glass fiber.
11 (generally a seat for contacting a spring probe of the performance board) is arranged and connected to the tester via the performance board. Also, the wiring board 8
Is provided with an electrode 9 for connection to the lead 7, and the electrode 9 and the electrode 11 are connected to each other through a through hole or a via hole and an internal wiring pattern 10.

【0010】上記下部支持板3は、プラスチック等の絶
縁性の薄板からなる基材21の表裏両面にそれぞれ補強板
20を接着し一体的に構成するが、その詳細を図2及び図
3を補足して説明する。下部支持板の基材21は、半導体
ウエハ2に形成されたチップ31の複数個(図では符号31
a,31b,31c,31dの4個)を同時にテストする大き
さの矩形状部と前記スペーサー12により固定される周辺
部とからなり、厚さ0.5mmからなるポリイミド系の
プラスチック製薄板を用いた場合を例示する。一例とし
て、半導体ウエハ2は、DRAM用のチップ31を形成し
たものであり、今、同時にテストする隣接した4個のチ
ップ(図3中、ウエハ2内の桝目一つが1個のチップを
示す)を31a〜31dとする。その各チップ31a〜31dの
電極パッドの配置例として、中央に一列に多数の電極パ
ッド32aを所定ピッチで形成するとともに各隅部にも電
極パッド32bを形成した形態を図示している。
The lower support plate 3 is provided with reinforcing plates on both the front and back surfaces of a base material 21 made of an insulating thin plate such as plastic.
20 are integrally formed by bonding, the details of which will be described with reference to FIGS. The base material 21 of the lower support plate includes a plurality of chips 31 formed on the semiconductor wafer 2 (in FIG.
a, 31b, 31c, 31d), a rectangular plastic part of a size to be tested at the same time and a peripheral part fixed by the spacer 12, and a 0.5 mm thick polyimide plastic thin plate is used. An example is shown. As an example, the semiconductor wafer 2 is one on which chips 31 for a DRAM are formed, and four adjacent chips to be tested at the same time (one cell in the wafer 2 in FIG. 3 indicates one chip). Are 31a to 31d. As an example of the arrangement of the electrode pads of each of the chips 31a to 31d, a form is shown in which a large number of electrode pads 32a are formed at a predetermined pitch in the center and electrode pads 32b are formed at each corner.

【0011】下部支持板の基材21には、前記チップ31a
〜31dの各電極パッド32a,32bに対応するガイド孔1
3、具体的にはガイド孔列13a,13bを穿孔する。その
ガイド孔列13aは並列する電極パッド32aの所定ピッチ
対応して多数穿孔してなる。因みに、ガイド孔13a,13
bの孔径は0.07mmとし、ガイド孔列13aのピッチ
は0.1mmとしている。図3においては、基材21のガ
イド孔13a,13bの近傍に座グリ加工してあるが、これ
は摺動部長さとなる孔長を制限するためで、座グリはな
くともよい。
The chip 31a is provided on the base material 21 of the lower support plate.
Guide holes 1 corresponding to the respective electrode pads 32a, 32b
3. Specifically, the guide hole rows 13a and 13b are pierced. The guide hole array 13a is formed by drilling a large number of electrode pads 32a arranged in parallel at a predetermined pitch. By the way, the guide holes 13a, 13
The hole diameter of b is 0.07 mm, and the pitch of the guide hole array 13a is 0.1 mm. In FIG. 3, counterboring is performed near the guide holes 13 a and 13 b of the base member 21, but this is to limit the length of the hole serving as the sliding portion, and the counterbore need not be provided.

【0012】二枚の補強板20は、下部支持板3の基材21
の表裏に同一構造のものを接着するので、説明の便宜
上、同一符号を用いて両者を説明する。補強板20は、厚
さを前記基材21より薄い0.3mm程度とし、形状が前
記基材21と同形のカーボン繊維の織物に熱硬化性樹脂
(例えば、エポキシ樹脂)を含浸させたCFRP製のシ
ートである。この補強板20には、前記基材21の前記ガイ
ド孔列13a,13bに対応するように長尺状の窓孔部34a
と、矩形状の窓孔部34b〜34dを予め開口しておく。具
体的には、窓孔部34aは、隣接する二つのチップ31aと
31b及び31cと31dの電極パッド32a,32aに対向する
ガイド孔列13a,31aに亘りそれらを露出させる長尺状
に開口し、窓孔部34bは、各チップ31a〜31d隅部の電
極パッド32bに対向するガイド孔13bを露出させるよう
に開口する。また窓孔部34cは、隣接する二つのチップ
の近接する電極パッド32b,32bに対向するガイド孔13
b,13bを露出させるように開口し、窓孔部34dは、隣
接する四つのチップの近接す電極パッド32b,32b,32
b,32bに対向するガイド孔13b,13b,13b,13bを
露出させるように開口する。上記窓孔部34a及び34b〜
34dは、基材21のガイド孔13a,13bの上下を閉塞しな
いようにするものであり、また、補強板20の炭素繊維が
導電性を有することからガイド孔に挿通するニードル4
のガイド孔壁との摺動部4bとの電気的導通を回避する
ものである。
The two reinforcing plates 20 are provided on the base material 21 of the lower support plate 3.
Are bonded to each other with the same structure on the front and back sides, and for convenience of description, both will be described using the same reference numerals. The reinforcing plate 20 is made of CFRP made by impregnating a thermosetting resin (for example, an epoxy resin) into a carbon fiber woven fabric having a thickness of about 0.3 mm thinner than the base material 21 and having the same shape as the base material 21. Sheet. The reinforcing plate 20 has an elongated window hole portion 34a corresponding to the guide hole rows 13a and 13b of the base material 21.
Then, the rectangular window holes 34b to 34d are opened in advance. Specifically, the window hole portion 34a is connected to two adjacent chips 31a.
The openings 31b and 31c and 31d are formed in a long shape to expose the guide holes 13a and 31a facing the electrode pads 32a and 32a, and the window holes 34b are formed in the electrode pads 32b at the corners of the chips 31a to 31d. Is opened so as to expose the guide hole 13b opposed to. The window hole 34c is formed in the guide hole 13 facing the adjacent electrode pads 32b of the two adjacent chips.
The openings are opened so as to expose the b and 13b, and the window holes 34d are formed in the adjacent electrode pads 32b, 32b and 32 of the four adjacent chips.
Opening is made so as to expose the guide holes 13b, 13b, 13b, 13b opposed to b, 32b. The window holes 34a and 34b
34d is for preventing the upper and lower portions of the guide holes 13a and 13b of the base material 21 from being closed, and since the carbon fibers of the reinforcing plate 20 are conductive, the needle 4 inserted into the guide holes is used.
This prevents electrical conduction between the guide hole wall and the sliding portion 4b.

【0013】上記補強板20はその素材をCFRPのプリ
プレグとし、プリプレグの状態にあるCFRPシートか
ら所定形状に打ち抜き又は切断加工により成形したもの
であり、そのプリプレグの状態で前記窓孔部34a,34b
〜34dを開口する。この窓孔部34a,34b〜34dをCF
RPプリプレグから開口することにより、それら窓孔部
等を容易に加工することができ、また、前記窓孔部34
a,34b〜34dの開口は、CFRPシートから補強板20
13を打ち抜き又は切断加工により成形する際に同時に加
工することでもよい。また、補強板20のCFRPの炭素
繊維には、経糸と緯糸とからなる二軸織物に製織した場
合を例示している。
The reinforcing plate 20 is made of a prepreg made of CFRP, and is formed by punching or cutting into a predetermined shape from a CFRP sheet in a prepreg state.
Open ~ 34d. These window holes 34a, 34b to 34d are CF
By opening from the RP prepreg, the window holes and the like can be easily processed.
a, 34b-34d, the opening of the reinforcing plate 20 from the CFRP sheet.
It may be processed at the same time when the 13 is formed by punching or cutting. Further, the carbon fiber of CFRP of the reinforcing plate 20 is illustrated as a case where the carbon fiber is woven into a biaxial woven fabric composed of warps and wefts.

【0014】上記補強板20は、下部支持板の基材21の表
裏両面にそれぞれプリプレグ状態で、前記ガイド孔13
a,13bが前記窓孔部34a,34b〜34dから露出するよ
うに重合させ、その後に、加熱、加圧して基材21に接着
させ一体構造の下部支持板3として製作する。而して、
上記下部支持板3は、補強板の接着によって耐熱応力性
に優れ高剛性が確保され、ガイド孔13のピッチが高温下
においても安定するとともに歪の発生が防止される。ま
た、カーボンファイバーの低熱膨張率により下部支持板
3の上下面に温度差があるときでも、下部支持板3は反
り等の歪がなくガイド孔13の位置安定性が保たれる。ま
た、カーボンファイバーの熱伝導性によりニードル4の
導通電流による発熱及びニードル4の被検査ウエハから
の熱伝導等による温度上昇を抑えることができる。
The reinforcing plate 20 is provided in a prepreg state on each of the front and back surfaces of the base material 21 of the lower support plate.
Polymerization is performed so that a and 13b are exposed from the window holes 34a and 34b to 34d. Thereafter, the substrate is heated and pressed to adhere to the base material 21 to produce a lower support plate 3 having an integral structure. Thus,
The lower support plate 3 is excellent in heat stress resistance and high rigidity is secured by bonding the reinforcing plate, and the pitch of the guide holes 13 is stabilized even at a high temperature, and the generation of distortion is prevented. Further, even when there is a temperature difference between the upper and lower surfaces of the lower support plate 3 due to the low coefficient of thermal expansion of the carbon fiber, the lower support plate 3 has no distortion such as warpage and the positional stability of the guide holes 13 is maintained. Further, heat generation due to conduction current of the needle 4 and temperature rise due to heat conduction of the needle 4 from the wafer to be inspected can be suppressed by the thermal conductivity of the carbon fiber.

【0015】なお、上記実施の形態においては、下部支
持板3についてのみ補強板20を設けた場合を説明した
が、それに限らず、上部支持板5の表裏にも同様にCF
RP製の補強板20’を接着することもよく、それによ
り、ニードル4の支持構造を一層安定させることができ
る。また、実施の形態においては、補強板20は炭素繊維
織物で補強された薄板を用いているが、補強用炭素繊維
はケプラー等の高剛性と低熱膨張性の繊維なら使用可能
であり、炭素繊維に限るものではない。
In the above embodiment, the case where the reinforcing plate 20 is provided only for the lower support plate 3 has been described. However, the present invention is not limited to this.
The reinforcing plate 20 'made of RP may be bonded, so that the support structure of the needle 4 can be further stabilized. Further, in the embodiment, the reinforcing plate 20 is a thin plate reinforced with a carbon fiber woven fabric, but the reinforcing carbon fiber may be any high-rigidity and low-thermal-expansion fiber such as Kepler. It is not limited to.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明によれば、CFRP製補強板の接
着により下部支持板には高剛性が付与されるとともに耐
熱応力性を改善するので、高温下における歪等の変形
や、熱膨張によるガイド孔のピッチズレの発生を防止す
ることができる。したがって、この下部支持板に配列さ
れたプローブ接触端部の位置ズレがなくなり、半導体ウ
エハに形成された電極パッドとの位置合わせ精度を確保
して、高温下で多ピン形態に使用してもテスト精度を向
上させて信頼性を担保することができる。しかも、下部
支持板の素材をセラミックやインバー等を使用すること
なく、従来と同様なプラスチック製とすることができる
ので、コスト安価にして高信頼性のプローブカードを提
供することができる。
According to the present invention, the lower support plate is provided with high rigidity and the heat stress resistance is improved by bonding the CFRP reinforcing plate. The occurrence of pitch deviation of the guide holes can be prevented. Therefore, the displacement of the probe contact ends arranged on the lower support plate is eliminated, and the alignment accuracy with the electrode pads formed on the semiconductor wafer is ensured. Accuracy can be improved and reliability can be secured. Moreover, since the lower support plate can be made of the same plastic material as before without using ceramic or invar, a highly reliable probe card can be provided at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明垂直型プローブカードの概要を示す断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an outline of a vertical probe card of the present invention.

【図2】 下部支持板と半導体ウエハとの対応を示す平
面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a correspondence between a lower support plate and a semiconductor wafer.

【図3】 下部支持板の分離斜視図を半導体ウエハと共
に示す。
FIG. 3 shows an exploded perspective view of a lower support plate together with a semiconductor wafer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:プローブカード 3:下部支持板
4:ニードル 5:上部支持板 8:配線基板 13,13a,13b:ガイド孔 20:下部支持板の表裏
の補強板 21:下部支持板の基材 34a,34b〜34d:窓孔部
1: Probe card 3: Lower support plate
4: Needle 5: Upper support plate 8: Wiring board 13, 13a, 13b: Guide hole 20: Reinforcement plate on front and back of lower support plate 21: Base material of lower support plate 34a, 34b to 34d: Window hole

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年6月20日(2000.6.2
0)
[Submission date] June 20, 2000 (2006.2.
0)

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0006[Correction target item name] 0006

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】斯る本発明は、垂直型プ
ローブカードにおいて、上記下部支持板の表裏両面に炭
素繊維補強プラスチックス(CFRP)製の補強板を接
着し一体的に構成し、該補強板にはガイド孔を露出させ
る窓孔部を開口していることを特徴とする。本発明によ
れば、下部支持板が従来と同様なプラスチック製薄板で
あっても、それがCFRP製の補強板により耐熱応力
性、高剛性が改善されて、高温度下で使用されても、変
形や熱膨張が抑制されガイド孔のピッチズレを防止する
ことができる。上記CFRPは、疑似等方性を有するよ
うに配置された織物であれば、二軸織物、三軸織物、四
軸織物などその製織構造に限定されるものではないが、
コスト面と補強効果及び組立工数を考慮した場合に、製
造安価な二軸織物を用いることが好ましい。
According to the present invention, in a vertical probe card, a reinforcing plate made of carbon fiber reinforced plastics (CFRP) is adhered to both the front and back surfaces of the lower support plate to integrally form the same. The reinforcing plate has a window hole for exposing the guide hole. According to the present invention, even if the lower support plate is a plastic thin plate similar to the conventional one, even if it is used under high temperature, its heat stress resistance and high rigidity are improved by the reinforcing plate made of CFRP, Deformation and thermal expansion are suppressed, and pitch deviation of the guide holes can be prevented. The above-mentioned CFRP is not limited to the weaving structure such as biaxial woven fabric, triaxial woven fabric, and four-axial woven fabric as long as the woven fabric is arranged to have pseudo-isotropy.
In consideration of the cost, the reinforcing effect, and the number of assembling steps , it is preferable to use an inexpensive biaxial woven fabric.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G011 AA17 AA21 AB06 AB07 AC14 AE03 AF07 4M106 AA01 AA02 BA01 BA14 CA60 DD10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2G011 AA17 AA21 AB06 AB07 AC14 AE03 AF07 4M106 AA01 AA02 BA01 BA14 CA60 DD10

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数の探針用ニードルを上下両支持板の
間に配列し、その各ニードルの接続端部を上部支持板に
設けたガイド孔に挿通支持せしめて電気信号入力端子に
接続するとともに、もう一方の接触端部を下部支持板の
ガイド孔に挿通支持せしめた垂直型プローブカードにお
いて、上記下部支持板の表裏両面に炭素繊維補強プラス
チックス(CFRP)製の補強板を接着し一体的に構成
し、該補強板には前記ガイド孔を露出させる窓孔部を開
口していることを特徴とするプローブカード。
1. A large number of probe needles are arranged between upper and lower support plates, and connection ends of the needles are inserted into and supported by guide holes provided in an upper support plate, and are connected to electric signal input terminals. In a vertical probe card in which the other contact end is inserted into and supported by a guide hole of a lower support plate, a reinforcing plate made of carbon fiber reinforced plastics (CFRP) is adhered to both the front and back surfaces of the lower support plate. A probe card, wherein the reinforcing plate has a window hole for exposing the guide hole.
JP11191553A 1999-07-06 1999-07-06 Vertical probe card Pending JP2001021584A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11191553A JP2001021584A (en) 1999-07-06 1999-07-06 Vertical probe card

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11191553A JP2001021584A (en) 1999-07-06 1999-07-06 Vertical probe card

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001021584A true JP2001021584A (en) 2001-01-26

Family

ID=16276598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11191553A Pending JP2001021584A (en) 1999-07-06 1999-07-06 Vertical probe card

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001021584A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004036232A1 (en) * 2002-10-18 2004-04-29 Kabushiki Kaisha Nihon Micronics Electric connector
JP2008032533A (en) * 2006-07-28 2008-02-14 Mjc Probe Inc High-frequency probe card
US7683645B2 (en) 2006-07-06 2010-03-23 Mpi Corporation High-frequency probe card and transmission line for high-frequency probe card
JP2013096699A (en) * 2011-10-27 2013-05-20 Japan Electronic Materials Corp Electric contactor structure
KR20180079934A (en) * 2017-01-03 2018-07-11 주식회사 텝스 Vertical ultra-low leakage current probe card for dc parameter test

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004036232A1 (en) * 2002-10-18 2004-04-29 Kabushiki Kaisha Nihon Micronics Electric connector
US7683645B2 (en) 2006-07-06 2010-03-23 Mpi Corporation High-frequency probe card and transmission line for high-frequency probe card
JP2008032533A (en) * 2006-07-28 2008-02-14 Mjc Probe Inc High-frequency probe card
JP4709707B2 (en) * 2006-07-28 2011-06-22 旺▲夕▼科技股▲分▼有限公司 High frequency probe card
JP2013096699A (en) * 2011-10-27 2013-05-20 Japan Electronic Materials Corp Electric contactor structure
KR20180079934A (en) * 2017-01-03 2018-07-11 주식회사 텝스 Vertical ultra-low leakage current probe card for dc parameter test
WO2018128361A1 (en) * 2017-01-03 2018-07-12 주식회사 텝스 Vertical ultra low leakage probe card for dc parameter test
KR101962529B1 (en) * 2017-01-03 2019-03-26 주식회사 텝스 Vertical ultra-low leakage current probe card for dc parameter test
CN110114683A (en) * 2017-01-03 2019-08-09 Teps有限公司 Rectilinear ultralow leakage current probe card for DC parameter testing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI394953B (en) Probe card
US7750655B2 (en) Multilayer substrate and probe card
KR100502119B1 (en) Contact structure and assembly mechanism thereof
EP0708338B1 (en) Probe card for high temperature application
US7372286B2 (en) Modular probe card
JP3500105B2 (en) Support for conductive contact and contact probe unit
US20080174326A1 (en) Probe, probe assembly and probe card for electrical testing
KR101674135B1 (en) Probe card
WO1994023451A1 (en) Semiconductor chip assemblies and components with pressure contact
TWI400451B (en) Probe card
JP2000241454A (en) Probe card for high temperature test and test equipment
JP2010540908A (en) Stiffener assembly for use with inspection equipment
KR100715459B1 (en) Carrier module of test handler for semiconductor package
TWI400448B (en) Electrical signal connection device
WO2005083773A1 (en) Probe card, and method of producing the same
US7501838B2 (en) Contact assembly and LSI chip inspecting device using the same
JP3878449B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2001021584A (en) Vertical probe card
JP4999398B2 (en) Wiring board
JP2009076257A (en) Electric connecting member and ic checking socket
JPH07321168A (en) Probe card
JP2004020209A (en) Probe card
JP7471778B2 (en) Probe Card
JP2000338134A (en) Probe card and manufacture of the same
JP3737886B2 (en) Probe device