JP2001019686A - Thiadiazole derivative and its use - Google Patents

Thiadiazole derivative and its use

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JP2001019686A
JP2001019686A JP11190369A JP19036999A JP2001019686A JP 2001019686 A JP2001019686 A JP 2001019686A JP 11190369 A JP11190369 A JP 11190369A JP 19036999 A JP19036999 A JP 19036999A JP 2001019686 A JP2001019686 A JP 2001019686A
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JP
Japan
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group
compound
rust
metal
formula
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Pending
Application number
JP11190369A
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Japanese (ja)
Inventor
Tetsuhito Aihara
徹人 相原
Toshiharu Otaka
俊治 尾高
Ryota Tokukura
良太 徳倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seimi Chemical Co Ltd
Original Assignee
Seimi Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
  • Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new compound having extremely excellent rust-preventive effect on various metals, especially on electronic components, and useful as a rust-preventive agent for metals, treatment agent for treating metal surface or the like, water/oil-repelling agent or the like. SOLUTION: This compound is a compound of formula I (R is H, a 1-30C alkyl or 2-30C alkenyl, O may be inserted between the C-C bond in the group, the CH2 in the group may be substituted with OCO or COO, or the H in the group may be substituted with F or OH), e.g. a compound of formula II. A compound of formula I is obtained, for example, by esterifying (dehydrocondensation) 2-thioacetic acid-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole with a compound of the formula R-OH [e.g. F(CF2)8(CH2)3OH], as necessary in the presence of a catalyst (e.g. paratoluene'sulfonic acid).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なチアジアゾ
ール誘導体、およびその用途に関する。
The present invention relates to a novel thiadiazole derivative and its use.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、金属用防錆剤、特に電子部品に用
いられる金属用防錆剤としては、イミダゾール誘導体、
トリアゾール誘導体またはベンゾイミダゾール誘導体な
どの各種含窒素化合物、各種メルカプト基含有化合物、
各種無機化合物またはそれらの2種以上の混合物が使用
されている。しかし、従来の金属用防錆剤では充分満足
できる効果が得られないため、銀メッキ処理後、酸また
はアルカリなどで洗浄し、さらに水洗するなどの前処理
後に防錆処理を行うという多数の工程が必要であった。
2. Description of the Related Art Conventionally, rust inhibitors for metals, particularly rust inhibitors for metals used in electronic parts, include imidazole derivatives,
Various nitrogen-containing compounds such as triazole derivatives or benzimidazole derivatives, various mercapto group-containing compounds,
Various inorganic compounds or mixtures of two or more thereof have been used. However, since conventional metal rust preventives do not provide a sufficiently satisfactory effect, a number of processes of performing rust preventive treatment after pretreatment such as washing with an acid or alkali after silver plating and further washing with water. Was needed.

【0003】また、電子部品のはんだ付け工程ではフラ
ックスが接触してはならない部分をフラックスはい上が
り防止剤で処理する、電子部品の一部を樹脂被覆する工
程では樹脂が被覆されてはならない部分に樹脂付着防止
剤で処理する、などの処理が行われている。これらの場
合、処理剤が接触する電子部品部分が金属からなってい
ると、金属に付着した処理剤の成分が金属の腐蝕や錆発
生の原因となることがある。これを避けるため、処理の
前に電子部品表面を防錆処理することが必要となる。す
なわち、防錆処理後に、さらにフラックスはい上がり防
止剤および樹脂付着防止剤での処理をするという複数の
工程が必要であった。
[0003] In a soldering process of an electronic component, a portion where the flux should not come into contact is treated with a flux rising preventing agent. In a process of coating a part of the electronic component with a resin, a portion where the resin must not be coated is formed. Treatment with a resin adhesion inhibitor is performed. In these cases, if the electronic component contacting the processing agent is made of a metal, the component of the processing agent attached to the metal may cause corrosion or rust of the metal. In order to avoid this, it is necessary to rust-proof the surface of the electronic component before the treatment. That is, after the rust prevention treatment, a plurality of steps of further treating with a flux rising preventing agent and a resin adhesion preventing agent were required.

【0004】フラックスはい上がり防止剤または樹脂付
着防止剤としては、ポリフルオロアルキル基(以下、R
f基とも記す)、特にペルフルオロアルキル基(以下、
F基とも記す)を有する化合物が使用されている。た
とえば、Rf基を1個以上有する化合物(代表的な化合
物は、Rf基を有する(メタ)アクリル酸エステルの重
合体または共重合体)がある。フラックスはい上がり防
止剤については、特開昭60−49859、特開平10
−303536等に記載されている。また、樹脂付着防
止剤としては、特開昭63−7229、特開平3−25
6310等に記載されている。
[0004] As a flux rising preventing agent or a resin adhesion preventing agent, a polyfluoroalkyl group (hereinafter referred to as R) is used.
f group), particularly a perfluoroalkyl group (hereinafter referred to as “ f group”).
R F group) is used. For example, there is a compound having one or more R f groups (a typical compound is a polymer or copolymer of a (meth) acrylate ester having an R f group). The flux rise preventing agent is disclosed in JP-A-60-49859 and
-30,536 and the like. Examples of the resin adhesion preventing agent include JP-A-63-7229 and JP-A-3-25.
6310 and the like.

【0005】また、従来、撥水撥油剤としては、Rf
含有化合物、特にRf基を有する重合単位を含む重合体
または共重合体が広く使用されている。しかし、従来の
撥水撥油剤に用いられている化合物には防錆効果はな
く、たとえば、電子部品などの金属に撥水撥油処理をす
る場合には、事前に防錆処理を行ってから撥水撥油処理
を行う必要があった。
Conventionally, as the water and oil repellent, compounds containing R f groups, especially polymers or copolymers containing polymerized units having R f groups, have been widely used. However, compounds used in conventional water and oil repellents do not have a rust-preventive effect. For example, when a metal such as an electronic component is subjected to a water- and oil-repellent treatment, the rust-proof treatment must be performed in advance. It was necessary to perform a water / oil repellent treatment.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記課題を
解決する金属用防錆剤として有用な新規化合物、それを
含む金属表面等を処理するための処理剤および撥水撥油
剤を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a novel compound useful as a metal rust preventive which solves the above-mentioned problems, a treating agent for treating a metal surface or the like containing the compound and a water / oil repellent. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、金属用防
錆剤の有効成分となりうる化合物について鋭意研究を行
った結果、新規化合物である一群のチアジアゾール誘導
体が、各種金属、特に電子部品に対して極めて優れた防
錆効果を有することを見出し、本発明に至った。また、
このチアジアゾール誘導体は、金属表面等を処理するた
めの処理剤や撥水撥油剤として有用である。本発明は、
チアジアゾール誘導体およびその用途にかかわる下記の
発明である。下記式1で表されるチアジアゾール誘導
体。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on compounds which can be effective components of a metal rust preventive agent. As a result, a group of thiadiazole derivatives, which are novel compounds, have been found to be useful for various metals, especially electronic components. Have an extremely excellent rust-preventing effect on the present invention, and have reached the present invention. Also,
This thiadiazole derivative is useful as a treating agent for treating a metal surface or the like or a water / oil repellent. The present invention
The following inventions related to thiadiazole derivatives and uses thereof. A thiadiazole derivative represented by the following formula 1.

【0008】[0008]

【化2】 Embedded image

【0009】式1中のRは、水素原子、炭素数1〜30
のアルキル基または炭素数2〜30のアルケニル基であ
って、基中の炭素−炭素結合間には酸素原子が挿入され
ていてもよく、基中の−CH2−が−OCO−または−
COO−に置換されていてもよく、基中の水素原子がフ
ッ素原子または水酸基に置換されていてもよい。
R in the formula 1 is a hydrogen atom, having 1 to 30 carbon atoms.
An alkyl or alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, the carbon in the group - is between carbon bond may be inserted an oxygen atom, -CH 2 in the radical - is -OCO- or -
COO- may be substituted, and a hydrogen atom in the group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.

【0010】上記チアジアゾール誘導体からなる金属防
錆剤。上記チアジアゾール誘導体を含む、金属製物品ま
たは金属部分を有する物品を処理するための処理剤。上
記チアジアゾール誘導体を含む撥水撥油剤。
A metal rust inhibitor comprising the above thiadiazole derivative. A treating agent for treating a metal article or an article having a metal part, comprising the thiadiazole derivative. A water / oil repellent containing the above thiadiazole derivative.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】式1中のRは、下記に示す基が好
ましい。炭素数8〜30のアルキル基またはアルケニル
基、炭素数2〜30のポリフルオロアルキル基またはポ
リフルオロアルケニル基であって、基中の炭素−炭素結
合間には酸素原子が挿入されていてもよく、基中の−C
2−、−CFH−または−CF2−部分が−OCO−ま
たは−COO−に置換されていてもよく、基中の水素原
子またはフッ原子が水酸基に置換されていてもよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION R in the formula 1 is preferably the following groups. An alkyl or alkenyl group having 8 to 30 carbon atoms, a polyfluoroalkyl group or a polyfluoroalkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, and an oxygen atom may be inserted between carbon-carbon bonds in the group. , -C in the group
The H 2 —, —CFH— or —CF 2 — moiety may be substituted with —OCO— or —COO—, and a hydrogen atom or a fluorine atom in the group may be substituted with a hydroxyl group.

【0012】Rとしては、疎水性の高い炭素数8〜30
のアルキル基が好ましく、特に直鎖状または炭素数の短
い側鎖を有する炭素数8〜30のアルキル基が好まし
く、とりわけ炭素数10〜20の直鎖状アルキル基が好
ましい。
As R, the number of carbon atoms having high hydrophobicity is 8 to 30.
Is particularly preferable, and an alkyl group having 8 to 30 carbon atoms having a linear or short side chain is particularly preferable, and a linear alkyl group having 10 to 20 carbon atoms is particularly preferable.

【0013】特に、Rとしては、アルキル基よりもさら
に疎水性の高いRf基がより好ましい。すなわち、Rと
しては、対応するアルキル基の水素原子の数にして60
%以上、特に80%以上がフッ素原子に置換されたRf
基が好ましい。また残余の水素原子のごく少数は塩素原
子に置換されていてもよい。Rf基の炭素数は4〜20
が好ましい。
In particular, R is more preferably an R f group having a higher hydrophobicity than an alkyl group. That is, R is 60 in terms of the number of hydrogen atoms of the corresponding alkyl group.
% Or more, especially 80% or more of R f
Groups are preferred. Also, very few of the remaining hydrogen atoms may be replaced by chlorine atoms. The Rf group has 4 to 20 carbon atoms.
Is preferred.

【0014】Rはエーテル性酸素原子、水酸基、−OC
O−または−COO−を有していてもよい。エーテル性
酸素原子は、フッ素原子が結合した2個の炭素原子間に
存在することが好ましく、またエーテル性酸素原子の数
は10以下が好ましい。また、水酸基はフッ素原子が結
合していない炭素原子に存在するのが好ましく、特に結
合末端炭素原子または結合末端炭素原子に隣接した炭素
原子(これら炭素原子にはフッ素原子が結合していな
い)に結合していることが好ましい。
R is an etheric oxygen atom, a hydroxyl group, --OC
It may have O- or -COO-. The etheric oxygen atom preferably exists between two carbon atoms to which a fluorine atom is bonded, and the number of etheric oxygen atoms is preferably 10 or less. Further, the hydroxyl group is preferably present at a carbon atom to which a fluorine atom is not bonded. Particularly, a hydroxyl group is present at a bonding terminal carbon atom or a carbon atom adjacent to the bonding terminal carbon atom (there is no fluorine atom bonded to these carbon atoms). It is preferred that they are bonded.

【0015】Rとしては、下記式2で表される基が好ま
しい。 Ra−W−・・・式2 式2中の記号は下記の意味を示す。 Ra:炭素数1〜29のポリフルオロアルキル基または
エーテル性酸素原子を有する炭素数1〜29のポリフル
オロアルキル基。 W:炭素数1〜29のアルキレン基または水酸基を有す
る炭素数1〜29のアルキレン基。
As R, a group represented by the following formula 2 is preferable. R a -W -... Formula 2 The symbols in Formula 2 have the following meanings. Ra : a C1-C29 polyfluoroalkyl group or a C1-C29 polyfluoroalkyl group having an etheric oxygen atom. W: an alkylene group having 1 to 29 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 29 carbon atoms having a hydroxyl group.

【0016】上記式1で表されるチアジアゾール誘導体
(以下、化合物1という)の合成方法としては、たとえ
ば、2−チオ酢酸−5−メルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール(式1においてRが水素原子である化合物)
とR−OHで表される化合物をエステル化反応させる方
法が挙げられる。エステル化反応(脱水縮合)において
は、触媒としてパラトルエンスルホン酸等の酸触媒を存
在させてもよい。
As a method for synthesizing the thiadiazole derivative represented by the above formula 1 (hereinafter referred to as compound 1), for example, 2-thioacetic acid-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole (where R is hydrogen Compounds that are atoms)
And a method of subjecting a compound represented by R-OH to an esterification reaction. In the esterification reaction (dehydration condensation), an acid catalyst such as paratoluenesulfonic acid may be present as a catalyst.

【0017】本発明はまた、化合物1からなる金属用防
錆剤である。金属用防錆剤は金属表面を保護してその腐
蝕を抑制し、錆などの発生を防ぐ効果を有する。化合物
1からなる金属用防錆剤はそのような効果が求められる
種々の用途に単独でまたはその2種以上を併用して使用
できる。また、本発明の金属用防錆剤は他の金属用防錆
剤との併用もできる。
The present invention is also a metal rust inhibitor comprising Compound 1. The metal rust preventive has the effect of protecting the metal surface, suppressing its corrosion, and preventing the occurrence of rust and the like. The metal rust preventive composed of compound 1 can be used alone or in combination of two or more in various applications where such effects are required. The metal rust preventive of the present invention can be used in combination with other metal rust preventives.

【0018】本発明の金属用防錆剤は、金属に接触する
媒体に添加して使用できる。たとえば、金属に接触する
水性媒体や非水性媒体などに添加して使用できる。ま
た、金属被覆塗料などの金属被覆剤に添加して使用でき
る。特に、金属製物品または金属部分を有する物品の処
理剤に添加して使用することにより、処理剤が金属に接
触したことに起因する金属の腐蝕、変質、錆び発生など
のおそれを低減させる。処理対象の金属としては下記の
金属が好ましい。
The rust inhibitor for metals of the present invention can be used by adding it to a medium that comes into contact with metals. For example, it can be used by being added to an aqueous medium or a non-aqueous medium that comes into contact with a metal. Further, it can be used by being added to a metal coating agent such as a metal coating paint. In particular, by adding to a treating agent for a metal article or an article having a metal portion and using the treating agent, the risk of corrosion, alteration, rust, and the like of the metal caused by contact of the treating agent with the metal is reduced. The following metals are preferred as the metal to be treated.

【0019】本発明はまた、化合物1を含む、金属製物
品または金属部分を有する物品を処理するための処理剤
である。特にそのような物品の表面を処理するための処
理剤である。たとえば、水性媒体や非水性媒体からなる
金属洗浄剤に化合物1を添加してなる金属洗浄剤などが
ある。
The present invention is also a treating agent for treating a metal article or an article having a metal part, which comprises Compound 1. In particular, it is a treating agent for treating the surface of such an article. For example, there is a metal detergent obtained by adding Compound 1 to a metal detergent comprising an aqueous medium or a non-aqueous medium.

【0020】処理対象の金属としては、銅、アルミニウ
ム、銀、鉄、ニッケル、亜鉛、スズ、鉛、チタン、その
他の金属またはそれら金属の合金などがある。後述のよ
うに対象物品としては電子部品が代表例であり、それに
使用されている、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニ
ウム合金、はんだ等のスズ−鉛合金などが好ましい。金
属製物品や金属部分を有する物品としては特に限定され
ないが、電子部品、特にプリント配線板、コンデンサ、
抵抗器、IC、トランジスタ、その他の電子・電気素子
などが好ましい。
The metals to be treated include copper, aluminum, silver, iron, nickel, zinc, tin, lead, titanium, other metals or alloys of these metals. As will be described later, electronic parts are typical examples of the target article, and tin, lead alloys such as copper, copper alloy, aluminum, aluminum alloy, and solder used therein are preferable. Although not particularly limited as a metal article or an article having a metal portion, electronic components, especially printed wiring boards, capacitors,
Preferred are resistors, ICs, transistors, and other electronic and electrical elements.

【0021】電子部品の処理剤としては、フラックスは
い上がり防止剤および樹脂付着防止剤が好ましい。すな
わち上記処理剤としては、電子部品等を処理するため
の、化合物1を含有または有効成分とする、フラックス
はい上がり防止剤および樹脂付着防止剤が好ましい。こ
れら処理剤の使用により、前記のような前処理を省略で
き、すなわち前処理なしにフラックスはい上がり防止処
理や樹脂付着防止処理が可能となる。
As a treating agent for an electronic component, a flux rising preventing agent and a resin adhesion preventing agent are preferable. That is, as the above-mentioned treating agent, a flux rising preventing agent and a resin adhesion preventing agent containing Compound 1 or as an active ingredient for treating an electronic component or the like are preferable. By using these treatment agents, the above pretreatment can be omitted, that is, the flux rising prevention treatment and the resin adhesion prevention treatment can be performed without the pretreatment.

【0022】フラックスはい上がり防止剤は、プリント
配線板に素子等をはんだ付けするためにフラックスを塗
布する際、はんだ付けが不必要な部分に、フラックスが
浸透したり付着したりすることを防ぐ目的などに用いら
れる。たとえば、プリント配線板の素子実装面の所定部
分、特にリード線挿入穴周辺にフラックスはい上がり防
止剤を塗布し、非実装面(リード線のはんだ付けが行わ
れる面)に塗布するフラックスが挿入穴から浸透して実
装面側にはい上がってくることを防止する。
The purpose of the flux rising preventing agent is to prevent the flux from penetrating or adhering to portions where soldering is unnecessary when applying flux for soldering elements or the like to a printed wiring board. Used for etc. For example, a flux rising prevention agent is applied to a predetermined portion of the element mounting surface of the printed wiring board, particularly around the lead wire insertion hole, and the flux applied to the non-mounting surface (the surface where the lead wire is soldered) is inserted into the insertion hole. To prevent it from penetrating from the surface and rising to the mounting surface side.

【0023】一方、樹脂付着防止剤は、電子部品の樹脂
封止等において樹脂が付着してはならない部分にあらか
じめ塗布してその部分に樹脂の付着を防止する目的に使
用される。たとえば、コンデンサ素子をエポキシ樹脂等
で封止する際、そのリード線部分に樹脂付着防止剤をあ
らかじめ塗布し、リード線部分にエポキシ樹脂が付着す
ることを防止するために使用される。
On the other hand, the resin adhesion preventing agent is used for the purpose of preventing the resin from adhering to a portion where the resin is not to be adhered in a resin sealing or the like of an electronic component in advance. For example, when a capacitor element is sealed with an epoxy resin or the like, a resin adhesion preventing agent is applied to the lead wire portion in advance to prevent the epoxy resin from adhering to the lead wire portion.

【0024】フラックスはい上がり防止剤や樹脂付着防
止剤としては、上記のようにRf基、特にRF基を有する
化合物を含むことが好ましい。特に化合物1においてR
が前記式2で表される基である場合の化合物1が好まし
い。式2で表される基は疎水性が極めて高く、フラック
スや樹脂などの比較的疎水性である物質に対しても馴染
みが少なくそれをはじく性質を有し、フラックスはい上
がり防止や樹脂付着防止の効果が発揮される。
As the flux rising preventing agent and the resin adhesion preventing agent, it is preferable to include a compound having an R f group, particularly an R F group, as described above. In particular, in compound 1, R
Is preferably a compound represented by the formula (2). The group represented by the formula 2 has a very high hydrophobicity, is less familiar with relatively hydrophobic substances such as flux and resin, and has a property of repelling it. The effect is exhibited.

【0025】化合物1のうち、疎水性が極めて高い化合
物は、それ単独でフラックスはい上がり防止剤や樹脂付
着防止剤として使用しうる。化合物1のうちRがRf
等の疎水性の高い1価の有機基である化合物がこのよう
な特性を有する。
Among the compounds 1, the compound having extremely high hydrophobicity can be used alone as a flux rising preventing agent or a resin adhesion preventing agent. Among the compounds 1, compounds in which R is a highly hydrophobic monovalent organic group such as an R f group have such properties.

【0026】このフラックスはい上がり防止剤や樹脂付
着防止剤はそれらが有する本来の効果に加えて金属に対
する防錆効果も有する。そのため防錆のための前処理を
行うことなく、電子部品に対してフラックスはい上がり
防止効果や樹脂付着防止効果と防錆効果を付与できる。
The flux rising preventing agent and the resin adhesion preventing agent have a rust-preventing effect on metals in addition to the inherent effects of the agents. Therefore, without performing pretreatment for rust prevention, it is possible to impart a flux rising prevention effect, a resin adhesion prevention effect, and a rust prevention effect to the electronic component.

【0027】また、化合物1は、従来のフラックスはい
上がり防止剤や樹脂付着防止剤との併用もできる。この
場合、化合物1としては上記の特に高い疎水性基を有す
る化合物ばかりでなく、それよりも疎水性の低い化合物
を用いてもよい。たとえば、Rがアルキル基である化合
物1を使用しうる。このような化合物1はフラックスは
い上がり防止剤や樹脂付着防止剤の溶解に使用される溶
媒への溶解性が高く、フラックスはい上がり防止剤や樹
脂付着防止剤との馴染みがよい。
Compound 1 can also be used in combination with a conventional flux rising inhibitor or resin adhesion inhibitor. In this case, as the compound 1, not only the above-mentioned compound having a particularly high hydrophobic group but also a compound having a lower hydrophobicity may be used. For example, compound 1 where R is an alkyl group may be used. Such a compound 1 has high solubility in a solvent used for dissolving the flux rising preventing agent and the resin adhesion preventing agent, and has good compatibility with the flux rising preventing agent and the resin adhesion preventing agent.

【0028】本発明の処理剤、特にフラックスはい上が
り防止剤や樹脂付着防止剤は通常溶媒に溶解して使用さ
れる。溶剤としては、炭化水素系溶剤または含フッ素系
溶剤などが好ましい。化合物1の溶媒に対する濃度は特
に限定されないが、1ppm〜10重量%が好ましく、
特に10ppm〜1重量%が好ましい。本発明における
化合物1を単独の成分とする処理剤の場合は、この範囲
のうち比較的高濃度の部分が採用され、100ppm〜
10重量%が好ましい。従来の処理剤と併用する場合
は、従来の処理剤の濃度にもよるが、10ppm〜1重
量%が好ましい。
The treating agent of the present invention, particularly the flux rising preventing agent and the resin adhesion preventing agent, are usually used after being dissolved in a solvent. As the solvent, a hydrocarbon solvent or a fluorinated solvent is preferred. The concentration of the compound 1 in the solvent is not particularly limited, but is preferably 1 ppm to 10% by weight,
Particularly, 10 ppm to 1% by weight is preferable. In the case of the treating agent having Compound 1 of the present invention as a sole component, a portion having a relatively high concentration in this range is employed, and 100 ppm to 100 ppm
10% by weight is preferred. When used in combination with a conventional treating agent, the concentration is preferably 10 ppm to 1% by weight, depending on the concentration of the conventional treating agent.

【0029】本発明はまた、化合物1を含む撥水撥油剤
である。化合物1のうち、疎水性が極めて高い化合物は
撥水撥油性を有しそれ自身で撥水撥油剤として使用しう
る。また、化合物1は従来の撥水撥油剤との併用もでき
る。
The present invention is also a water / oil repellent comprising Compound 1. Among the compounds 1, compounds having extremely high hydrophobicity have water / oil repellency and can be used as a water / oil repellent by themselves. Compound 1 can be used in combination with a conventional water / oil repellent.

【0030】本発明の撥水撥油剤は、金属、樹脂、プラ
スチックなど様々な材料に対して撥水撥油効果を付与で
きる。また、従来の防錆処理と撥水撥油処理の複数工程
が1工程でできるため、金属表面処理用の撥水撥油剤と
して有用である。本発明の撥水撥油剤で金属表面を処理
して金属表面に薄膜を形成することによって、金属表面
に撥水撥油効果と防錆効果をあわせて付与できる。
The water / oil repellent of the present invention can impart water / oil repellency to various materials such as metals, resins and plastics. Further, since a plurality of steps of conventional rust prevention treatment and water / oil repellency treatment can be performed in one step, it is useful as a water / oil repellent for metal surface treatment. By treating the metal surface with the water and oil repellent of the present invention to form a thin film on the metal surface, it is possible to impart both a water and oil repellency effect and a rust prevention effect to the metal surface.

【0031】本発明の撥水撥油剤は、任意の方法で被処
理物に適用できる。たとえば、化合物1を有機溶剤また
は水に、溶解または分散して処理液とし、被処理物に対
してこの処理液を浸漬塗布、スプレー塗布、泡塗布、ハ
ケによる塗布などの方法により塗布し、常温または加熱
して乾燥する方法が挙げられる。特に簡便な方法として
は、化合物1を炭化水素系溶剤または含フッ素系溶剤に
溶解させた処理液を被処理物に塗布する、または処理液
に被処理物を浸漬させ、その後に常温乾燥する方法が挙
げられる。この方法により、被処理物の表面上に化合物
1を含む薄膜が形成される。
The water / oil repellent of the present invention can be applied to an object by any method. For example, the compound 1 is dissolved or dispersed in an organic solvent or water to form a treatment liquid, and the treatment liquid is applied to an object to be treated by a method such as dip coating, spray coating, foam coating, brush coating, and the like. Alternatively, a method of drying by heating. As a particularly simple method, a treatment solution in which Compound 1 is dissolved in a hydrocarbon-based solvent or a fluorinated solvent is applied to the treatment object, or the treatment object is immersed in the treatment solution, and then dried at room temperature. Is mentioned. By this method, a thin film containing Compound 1 is formed on the surface of the object.

【0032】本発明の撥水撥油剤は、用途に応じて、界
面活性剤等の起泡剤、安定剤、分散剤等と併用できる。
処理液中の化合物1の濃度は1ppm〜10重量%が好
ましく、特に10ppm〜1重量%が好ましい。
The water / oil repellent of the present invention can be used in combination with a foaming agent such as a surfactant, a stabilizer, a dispersant and the like, depending on the use.
The concentration of Compound 1 in the treatment liquid is preferably 1 ppm to 10% by weight, particularly preferably 10 ppm to 1% by weight.

【0033】[0033]

【実施例】合成例(例1〜3)、実施例(例4〜7、9
〜12、14、15)、比較例(例8、13、16)を
挙げて本発明を具体的に説明する。
EXAMPLES Synthesis Examples (Examples 1 to 3) and Examples (Examples 4 to 7, 9)
The present invention will be specifically described with reference to Comparative Examples (Examples 8, 13, and 16).

【0034】[例1]化合物Aの合成 500mLガラス製反応フラスコに、F(CF28(C
23OHを30.0g、2−チオ酢酸−5−メルカプ
ト−1,3,4−チアジアゾール(東洋化成工業社製)
15.9g、トルエン150g、および、パラトルエン
スルホン酸一水和物0.66gを仕込み、還流下で共沸
脱水しながら7時間反応させた。反応終了後、室温まで
冷却した後、ジクロロメタン650gを加え、水400
gで3回水洗した。ジクロロメタンを減圧留去した後、
トルエン100gで再結晶を行い、減圧乾燥し下記式で
表される化合物Aを39.2g(収率94%)得た。
Example 1 Synthesis of Compound A F (CF 2 ) 8 (C
H 2) 3 OH and 30.0 g, 2-thioacetic acid-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole (manufactured by Toyo Kasei Kogyo Co., Ltd.)
15.9 g, 150 g of toluene, and 0.66 g of paratoluenesulfonic acid monohydrate were charged and reacted for 7 hours while azeotropically dehydrating under reflux. After the completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 650 g of dichloromethane was added, and 400 ml of water was added.
g for 3 times. After distilling off dichloromethane under reduced pressure,
The crystals were recrystallized from 100 g of toluene and dried under reduced pressure to obtain 39.2 g (yield 94%) of a compound A represented by the following formula.

【0035】[0035]

【化3】 Embedded image

【0036】1H-NMR(CDCl3,TMS)σ(p
pm):4.21(t,J=6.2Hz,2H),3.
89(s,2H),2.03(m,4H)、19 F-NMR(CDCl3,CFCl3)σ(ppm):
−80.55(t,J=9.5Hz,3F),−113.
63(t,2F),−121.28(s,6F),−1
22.13(s,2F),−122.79(s,2
F),−125.60 (d,J=13.4,2F)、 IR:1750cm-1(C=O)。
1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) σ (p
pm): 4.21 (t, J = 6.2 Hz, 2H);
89 (s, 2H), 2.03 (m, 4H), 19 F-NMR (CDCl 3 , CFCl 3 ) σ (ppm):
−80.55 (t, J = 9.5 Hz, 3F), −113.
63 (t, 2F), -121.28 (s, 6F), -1
22.13 (s, 2F), -122.79 (s, 2
F), -125.60 (d, J = 13.4, 2F), IR: 1750 cm -1 (C = O).

【0037】[例2]化合物Bの合成 例1におけるF(CF28(CH23OHの30.0g
をF(CF24(CH 22OHの16.3gに変えた以
外は例1と同様にして下記式で表される化合物Bを2
2.3g(収率80%)得た。
Example 2 Synthesis of Compound B F (CFTwo)8(CHTwo)Three30.0 g of OH
To F (CFTwo)Four(CH Two)TwoAfter changing to 16.3g of OH
Except that the compound B represented by the following formula
2.3 g (80% yield) were obtained.

【0038】[0038]

【化4】 Embedded image

【0039】1H−NMR(CD3COCD3,TMS)
σ(ppm):4.46(t,J=6.1Hz,2
H),4.08(s,2H),2.64(t,t,J=
6.2,19Hz,2H)、19 F−NMR(CD3COCD3,CFCl3)σ(pp
m):−80.82(m,3F),−113.18(m
,2F),−124.00(m,2F),−125.
55(m,2F)、 IR:1750cm-1(C=O)。
1 H-NMR (CD 3 COCD 3 , TMS)
σ (ppm): 4.46 (t, J = 6.1 Hz, 2
H), 4.08 (s, 2H), 2.64 (t, t, J =
6.2, 19 Hz, 2H), 19 F-NMR (CD 3 COCD 3 , CFCl 3 ) σ (pp
m): -80.82 (m, 3F), -113.18 (m
, 2F), -124.00 (m, 2F), -125.
55 (m, 2F), IR: 1750 cm -1 (C = O).

【0040】[例3]化合物Cの合成 例1におけるF(CF28(CH23OHの30.0g
をH(CH212OHの11.5gに変えた以外は例1
と同様にして下記式で表される化合物Cを17.4g
(収率75%)得た。
Example 3 Synthesis of Compound C 30.0 g of F (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 3 OH in Example 1
Example 1 except that was changed to 11.5 g of H (CH 2 ) 12 OH
17.4 g of compound C represented by the following formula
(75% yield).

【0041】[0041]

【化5】 Embedded image

【0042】1H−NMR(CD3COCD3,TMS)
σ(ppm):4.08(d,t,J=1.2,6.
5,2H),4.02(d,J=1.5Hz,2H),
1.22(s,20H),0.81(d,d,J=5.
5,6.5Hz,3H)、 IR:1730cm-1(C=O)。
1 H-NMR (CD 3 COCD 3 , TMS)
σ (ppm): 4.08 (d, t, J = 1.2, 6.
5,2H), 4.02 (d, J = 1.5 Hz, 2H),
1.22 (s, 20H), 0.81 (d, d, J = 5.
5,6.5 Hz, 3H), IR: 1730 cm -1 (C = O).

【0043】[例4]化合物Aを、m−キシレンヘキサ
フルオリドと1,1,1,2,2,3,4,5,5,5
−デカフルオロペンタンの容量比7:3の混合溶媒(以
下、溶媒Eと記す)中に200ppm溶解させ、その溶
液を40℃に保ち、そこに黄銅に銀メッキを施した1c
m×2cm×1mmのテストピースを1分間浸漬した
後、80℃で3分間乾燥し、防錆処理した。
Example 4 Compound A was prepared by mixing m-xylene hexafluoride with 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5
-200 ppm of a solution of decafluoropentane dissolved in a mixed solvent having a volume ratio of 7: 3 (hereinafter referred to as solvent E) at 200 ppm, the solution was maintained at 40 ° C, and brass was silver-plated there.
A test piece of mx 2 cm x 1 mm was immersed for 1 minute, dried at 80 ° C for 3 minutes, and subjected to rustproofing.

【0044】腐食ガス試験機(KS部品研究所製)中
で、温度40℃、湿度90%RH、硫化水素濃度3pp
mの雰囲気中に、前記の処理をしたテストピースを一定
時間(3時間または6時間)暴露した後、1時間放置
し、はんだの濡れ時間、外観を測定した。結果を表1に
示す。
In a corrosion gas tester (manufactured by KS Parts Laboratory), the temperature was 40 ° C., the humidity was 90% RH, and the hydrogen sulfide concentration was 3 pp.
The test piece treated as described above was exposed for a certain period of time (3 hours or 6 hours) in an atmosphere of m, left for 1 hour, and the solder wetting time and appearance were measured. Table 1 shows the results.

【0045】[はんだの濡れ時間] JIS:C0053(環境試験方法−電気・電子−はん
だ付け試験方法(平衡法))により、はんだ温度235
℃、浸漬速度2mm/秒、浸漬時間10秒間、浸漬深さ
2mmで測定した。はんだの濡れ時間が短いほど、表面
の錆の発生が少なく、金属部品の取付け工程等の次工程
が容易になることを示す。
[Solder Wetting Time] According to JIS: C0053 (Environmental test method-Electrical / Electronic-Soldering test method (equilibrium method)), the solder temperature is 235.
C., immersion speed 2 mm / sec, immersion time 10 seconds, immersion depth 2 mm. This indicates that the shorter the solder wetting time, the less rust is generated on the surface, and the easier the next step such as the step of attaching metal parts.

【0046】[外観評価基準] 1:全面錆発生、 2:ほとんど全面に錆発生、 3:一部錆発生、 4:わずかに錆発生、 5:全く腐食せず。[Appearance Evaluation Criteria] 1: Rust is generated on the entire surface, 2: Rust is generated on almost the entire surface, 3: Rust is generated partially, 4: Rust is generated slightly, 5: No corrosion occurs.

【0047】[例5〜8]化合物Aの代わりに、化合物
B、化合物C、ベンゾトリアゾール(以下化合物Dとい
う)を用いたものまたは未添加のものについて、同様の
試験を行った。結果を表1に示す。この結果から、本発
明の化合物は高い防錆性能を有することが確認された。
[Examples 5 to 8] The same test was carried out using Compound B, Compound C, and benzotriazole (hereinafter, referred to as Compound D) instead of Compound A or those not added. Table 1 shows the results. From these results, it was confirmed that the compound of the present invention has high rust prevention performance.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】[例9]溶媒E中に、[F(CF28CH
2CH2OCOCH=CH2]:[シクロヘキシルメタク
リレート]のモル比8:2の単量体混合物を重合して得
られた共重合体(以下、共重合体Xと記す)を0.2重
量%、および化合物Aを200ppm溶解させ、例4と
同様な防錆処理、暴露試験を行い、はんだ濡れ時間、外
観を測定した。結果を表2に示す。
[Example 9] [F (CF 2 ) 8 CH
0.2% by weight of a copolymer (hereinafter referred to as copolymer X) obtained by polymerizing a monomer mixture of 2 CH 2 OCOCH : CH 2 ]: [cyclohexyl methacrylate] at a molar ratio of 8: 2. , And Compound A were dissolved in 200 ppm, and the same rust prevention treatment and exposure test as in Example 4 were performed, and the solder wetting time and appearance were measured. Table 2 shows the results.

【0050】[例10〜13]化合物Aの代わりに、化
合物B、化合物C、化合物Dまたは未添加のものについ
て、例9と同様の試験を行った。結果を表2に示す。
[Examples 10 to 13] The same test as in Example 9 was carried out on compound B, compound C, compound D or those without addition of compound A. Table 2 shows the results.

【0051】[0051]

【表2】 [Table 2]

【0052】化合物1を添加することによるフラックス
はい上がり防止剤、および、樹脂付着防止剤としての性
能低下は認められなかった。化合物1は高い防食性能を
有することが確認された。また、化合物1を共重合体X
に添加しても、その防錆性能は高く保たれ、フラックス
はい上がり性能および樹脂付着防止性能にも影響がない
ことが確認された。
The addition of Compound 1 did not show any decrease in the performance as a flux rising inhibitor or a resin adhesion inhibitor. Compound 1 was confirmed to have high anticorrosion performance. In addition, compound 1 is used as copolymer X
It was confirmed that even when added, the rust prevention performance was kept high, and there was no effect on the flux rising performance and the resin adhesion prevention performance.

【0053】[例14]化合物Aを溶媒E中に500p
pm溶解させ、そこに黄銅に銀メッキを施したテストピ
ースをメタノールで洗浄したものを、20℃で1分間浸
し、その後室温で3時間乾燥させた。そのテストピース
のイオン交換水、および、n−ヘキサデカンによる接触
角を測定した。イオン交換水による接触角が大きいほど
撥水性能が高く、n−ヘキサデカンによる接触角が大き
いほど撥油性能が高いことを示す。結果を表3に示し
た。
Example 14 Compound A was placed in solvent E at 500 p.
pm was dissolved therein, and a test piece obtained by applying silver plating to brass was washed with methanol, soaked at 20 ° C. for 1 minute, and then dried at room temperature for 3 hours. The contact angle of the test piece with ion-exchanged water and n-hexadecane was measured. The larger the contact angle with ion-exchanged water, the higher the water repellency, and the larger the contact angle with n-hexadecane, the higher the oil repellency. The results are shown in Table 3.

【0054】[例15〜16]化合物Aの代わりに、化
合物Bを用いたもの、または未処理のものについて、例
14と同様の試験を行った。結果を表3に示す。
[Examples 15 and 16] The same test as in Example 14 was carried out using Compound B in place of Compound A or untreated. Table 3 shows the results.

【0055】[0055]

【表3】 [Table 3]

【0056】化合物Aおよび化合物Bを含有する撥水撥
油剤は、高い防錆効果と撥水撥油効果を有することが確
認された。
It was confirmed that the water / oil repellent containing the compound A and the compound B had a high rust preventive effect and a high water / oil repellent effect.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明の新規なチアジアゾール誘導体
は、単独で高い防錆効果を有することより、特に金属用
防錆剤として極めて優れた化合物である。この金属用防
錆剤は、フラックスはい上がり防止剤や樹脂付着防止剤
などの処理剤として優れた性能を発揮する。また、防錆
効果とともに撥水撥油効果を有し、金属を処理するため
の撥水撥油剤として使用できる。
The novel thiadiazole derivative of the present invention has a high rust-inhibiting effect by itself and is therefore a very excellent compound particularly as a rust inhibitor for metals. This metal rust inhibitor exhibits excellent performance as a treating agent such as a flux rising inhibitor or a resin adhesion inhibitor. In addition, it has a water repellent and oil repellent effect as well as a rust preventive effect, and can be used as a water repellent and oil repellent for treating metals.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳倉 良太 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号 セイミケミカル株式会社内 Fターム(参考) 4C036 AD08 AD20 AD26 AD27 4H020 BA07 BA26  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Ryota Tokukura Inventor F-term (reference) in 3-2-10 Chigasaki, Chigasaki-shi, Kanagawa Prefecture 4C036 AD08 AD20 AD26 AD27 4H020 BA07 BA26

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記式1で表されるチアジアゾール誘導
体。 【化1】 式1中のRは、水素原子、炭素数1〜30のアルキル基
または炭素数2〜30のアルケニル基であって、基中の
炭素−炭素結合間には酸素原子が挿入されていてもよ
く、基中の−CH2−が−OCO−または−COO−に
置換されていてもよく、基中の水素原子がフッ素原子ま
たは水酸基に置換されていてもよい。
1. A thiadiazole derivative represented by the following formula 1. Embedded image R in Formula 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, and an oxygen atom may be inserted between carbon-carbon bonds in the group. And -CH 2- in the group may be substituted with -OCO- or -COO-, and a hydrogen atom in the group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
【請求項2】式1中のRが下記に示す基である請求項1
に記載のチアジアゾール誘導体。 R:炭素数8〜30のアルキル基またはアルケニル基、
炭素数2〜30のポリフルオロアルキル基またはポリフ
ルオロアルケニル基であって、基中の炭素−炭素結合間
には酸素原子が挿入されていてもよく、基中の−CH2
−、−CFH−または−CF2−部分が−OCO−また
は−COO−に置換されていてもよく、基中の水素原子
またはフッ原子が水酸基に置換されていてもよい。
2. The compound according to claim 1, wherein R in the formula 1 is a group shown below.
2. The thiadiazole derivative according to item 1. R: an alkyl group or an alkenyl group having 8 to 30 carbon atoms,
A polyfluoroalkyl group or polyfluoroalkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, the carbon in the group - may be the carbon-carbon bond has been inserted an oxygen atom, -CH in group 2
The —, —CFH— or —CF 2 — moiety may be substituted with —OCO— or —COO—, and a hydrogen atom or a fluorine atom in the group may be substituted with a hydroxyl group.
【請求項3】請求項1または2に記載のチアジアゾール
誘導体からなる金属用防錆剤。
3. A rust inhibitor for metals comprising the thiadiazole derivative according to claim 1 or 2.
【請求項4】請求項1または2に記載のチアジアゾール
誘導体を含む、金属製物品または金属部分を有する物品
を処理するための処理剤。
4. A treating agent for treating a metal article or an article having a metal portion, comprising the thiadiazole derivative according to claim 1 or 2.
【請求項5】請求項1または2に記載のチアジアゾール
誘導体を含む撥水撥油剤。
5. A water / oil repellent comprising the thiadiazole derivative according to claim 1 or 2.
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