JP2001007182A - Substrate carry-in/out device and substrate processor using the same - Google Patents
Substrate carry-in/out device and substrate processor using the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハなど
の基板を多段に収容するカセットに対して基板の搬入・
搬出を行なう基板搬入・搬出装置及びこれを用いた基板
処理装置に係り、特に、基板の搬入・搬出に際してカセ
ット内の基板の有無を検出するための技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for loading / unloading a substrate, such as a semiconductor wafer, into a cassette for storing the substrate in multiple stages.
The present invention relates to a substrate loading / unloading device for unloading and a substrate processing apparatus using the same, and more particularly to a technique for detecting the presence or absence of a substrate in a cassette when loading or unloading a substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、この種の基板搬入・搬出装置とし
て、例えば特開平１０−３２１７０６号公報に開示され
たものがある。以下、図１２および図１３を参照して従
来の基板搬入・搬出装置について説明する。図１２
（ａ）および（ｂ）は、従来装置に備えられたカセット
載置装置にカセットがセットされた状態を示す一部破断
側面図および正面図である。また、図１３（ａ）および
（ｂ）はカセット内の基板の有無を検出している状態を
示す一部破断側面図および正面図である。2. Description of the Related Art Conventionally, as this type of substrate loading / unloading device, there is one disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-321706. Hereinafter, a conventional substrate loading / unloading device will be described with reference to FIGS. FIG.
(A) and (b) are a partially broken side view and a front view showing a state where a cassette is set in a cassette mounting device provided in a conventional device. FIGS. 13A and 13B are a partially cutaway side view and a front view showing a state in which the presence or absence of a substrate in the cassette is detected.
【０００３】半導体ウエハなどの基板Ｗを多段に収容す
るカセットＣは、前側に開口を有する容器Ｃａと、この
容器Ｃａの開口を閉塞する蓋Ｃｂとから構成されてい
る。このようなカセットＣは特に、ＦＯＵＰ（Front Op
en Unified Pod) カセットと呼ばれている。カセット載
置装置は、載置テーブル１上にスライド移動可能なカセ
ットステージ２を備えている。カセットＣは、このカセ
ットステージ２上に位置決め載置される。カセットＣが
載置されるカセット載置部Ａと、基板Ｗに対して種々の
処理を施す処理部Ｂとは、隔壁３によって雰囲気遮断さ
れている。隔壁３には、カセット載置部Ａと処理部Ｂと
の間を基板Ｗが行き来できるように通過口３ａが形成さ
れている。[0003] A cassette C for accommodating substrates W such as semiconductor wafers in multiple stages comprises a container Ca having an opening on the front side and a lid Cb for closing the opening of the container Ca. Such a cassette C is, in particular, a FOUP (Front Op
en Unified Pod) This is called a cassette. The cassette mounting device includes a cassette stage 2 slidable on a mounting table 1. The cassette C is positioned and mounted on the cassette stage 2. The atmosphere of the cassette mounting portion A on which the cassette C is mounted and the processing portion B for performing various processes on the substrate W are shut off by the partition wall 3. The partition 3 is formed with a passage port 3a so that the substrate W can move between the cassette mounting section A and the processing section B.
【０００４】基板Ｗの処理が行なわれていないとき、隔
壁３の通過口３ａは図１２に示すようにシャッター機構
４によって閉塞されている。シャッター機構４は、通過
口３ａを閉塞するシャッター部材５と、シャッター部材
５を支持するアーム６と、アーム６の基端側に設けら
れ、シャッター部材５を揺動および昇降駆動する駆動部
７とから構成されている。When the substrate W is not being processed, the passage 3a of the partition 3 is closed by a shutter mechanism 4 as shown in FIG. The shutter mechanism 4 includes a shutter member 5 that closes the passage opening 3a, an arm 6 that supports the shutter member 5, and a driving unit 7 that is provided on the base end side of the arm 6 and that swings and drives the shutter member 5 up and down. It is composed of
【０００５】処理部Ｂ側にはカセットＣへ基板Ｗを出し
入れするための基板搬送機構８が設けられている。この
基板搬送機構８は、昇降および旋回可能な支持台９と、
この支持台９の上をスライド移動する支持アーム１０と
を備えている。支持アーム１０は基板Ｗを位置決め支持
する支持構造を備えている。[0005] On the processing section B side, a substrate transport mechanism 8 for taking in and out the substrate W into and out of the cassette C is provided. The substrate transfer mechanism 8 includes a support base 9 that can be raised and lowered and pivoted,
A support arm 10 that slides on the support base 9 is provided. The support arm 10 has a support structure for positioning and supporting the substrate W.
【０００６】図１２（ｂ）に示すように、シャッター機
構４の傍らに、カセットＣ内の基板Ｗの有無を検出する
ための検出装置１１が設けられている。この検出装置１
１は、カセットＣ内の基板Ｗの配列ピッチに合わせて保
持部材１２に保持された多数の突起１３を備えている。
各突起１３には、各突起１２間の小間隙を挟んで対向す
るように発光素子と受光素子（図示せず）とが設けられ
ている。保持部材１２はエアーシリンダ１４によって昇
降および旋回駆動される。As shown in FIG. 12B, a detection device 11 for detecting the presence or absence of a substrate W in the cassette C is provided beside the shutter mechanism 4. This detection device 1
1 has a large number of projections 13 held by a holding member 12 in accordance with the arrangement pitch of the substrates W in the cassette C.
Each projection 13 is provided with a light emitting element and a light receiving element (not shown) so as to face each other with a small gap between the projections 12 therebetween. The holding member 12 is moved up and down and turned by an air cylinder 14.
【０００７】以上のように構成された従来のカセット載
置装置によれば、カセットＣ内の各基板Ｗが次のようし
て検出される。まず、隔壁３の通過口３ａを閉塞してい
るシャッター部材５が、カセットＣの蓋Ｃｂを保持す
る。続いて、図１３に示すように、シャッター機構４の
アーム６が後方へ揺動駆動されることにより、シャッタ
ー部材５が蓋Ｃｂと一体に後退する。そして、アーム６
が下降駆動されることにより、シャッター部材５が通過
口３ａの下側の退避位置にまで移動する。次に、検出装
置１１のエアーシリンダ１４が作動して保持部材１２が
上昇するとともに、カセットＣに対向する所定位置で保
持部材１２が旋回することにより、各突起１３がカセッ
トＣ内の基板Ｗ間の隙間に進入する。そして、各突起１
３に設けられた発光素子から光が照射され、各々の発光
素子に対向する受光素子が光を受光したか否かによって
基板Ｗの有無が検出される。According to the conventional cassette mounting apparatus configured as described above, each substrate W in the cassette C is detected as follows. First, the shutter member 5 closing the passage opening 3a of the partition 3 holds the lid Cb of the cassette C. Subsequently, as shown in FIG. 13, the arm 6 of the shutter mechanism 4 is swingably driven rearward, whereby the shutter member 5 is retracted integrally with the lid Cb. And arm 6
Is driven to move the shutter member 5 to the retracted position below the passage opening 3a. Next, the air cylinder 14 of the detecting device 11 is operated to raise the holding member 12, and the holding member 12 is turned at a predetermined position facing the cassette C, so that each projection 13 is moved between the substrates W in the cassette C. Into the gap. And each projection 1
Light is emitted from the light emitting elements provided in 3, and the presence or absence of the substrate W is detected based on whether or not the light receiving element facing each light emitting element has received the light.
【０００８】基板Ｗの検出が終わると、検出装置１１が
上述した動作とは逆に駆動されることにより、保持部材
１２が退避位置（図１２（ｂ）の状態）に戻る。以上の
ような一連の検出動作が終わると、検出記憶された基板
Ｗの有無のデータに基づいて、基板搬送機構８が駆動さ
れることにより、カセットＣからの基板Ｗの搬出や、処
理済の基板ＷのカセットＣへの搬入が行なわれる。When the detection of the substrate W is completed, the detection device 11 is driven in the reverse of the above-described operation, and the holding member 12 returns to the retracted position (the state shown in FIG. 12B). When a series of detection operations as described above is completed, the substrate transport mechanism 8 is driven based on the detected and stored data of the presence / absence of the substrate W, so that the substrate W is unloaded from the cassette C or processed. The substrate W is carried into the cassette C.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。検出装置１１の保持部材１２を昇降および旋回さ
せるための特別のアクチュエータ（エアーシリンダ１
４）を備える必要があるので、それだけ装置構成が複雑
化するという問題がある。However, the prior art having such a structure has the following problems. A special actuator (air cylinder 1) for raising and lowering and turning the holding member 12 of the detection device 11
Since it is necessary to provide 4), there is a problem that the device configuration becomes more complicated.
【００１０】また、カセットＣ内の基板Ｗの有無の検出
に際して、シャッター部材５の開放動作に続いて、保持
部材１２の上昇・旋回移動と、保持部材１２の退避移動
とを行なうので、基板搬送機構８によってカセットＣへ
基板Ｗを搬入・搬出するまでに相当の時間を要し、この
種の基板搬入・搬出装置が用いられる基板処理装置のス
ループットが低下するという問題がある。When detecting the presence or absence of the substrate W in the cassette C, the holding member 12 is raised and turned and the holding member 12 is retracted following the opening operation of the shutter member 5, so that the substrate is transferred. It takes a considerable amount of time to load and unload substrates W into and out of the cassette C by the mechanism 8, and there is a problem that the throughput of a substrate processing apparatus using this type of substrate loading and unloading device is reduced.
【００１１】別の従来例として、基板搬送機構８の支持
アーム１０に光センサを取り付け、この支持アーム１０
をカセットＣに対向させて昇降させることにより、カセ
ットＣ内の基板Ｗを検出するようにしたものがある。こ
のような従来例によれば、光センサを駆動するための特
別のアクチュエータは不要であるが、上述した特開平１
０−３２１７０６号公報記載の従来装置と同様に、シャ
ッター部材５を開放して退避移動させた後に、支持アー
ム１０を昇降させて基板Ｗを検出する必要があるので、
基板処理装置のスループットの低下は避けられない。As another conventional example, an optical sensor is attached to the support arm 10 of the substrate transfer mechanism 8 and the support arm 10
Is raised and lowered so as to face the cassette C to detect the substrate W in the cassette C. According to such a conventional example, a special actuator for driving the optical sensor is not required.
Similar to the conventional apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 0-321706, it is necessary to open and close the shutter member 5 and move the support member 10 up and down to detect the substrate W.
A decrease in the throughput of the substrate processing apparatus is inevitable.
【００１２】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、比較的簡単な構成でもって、カセット
内の基板の有無を迅速に検出して基板の搬入・搬出を行
なうことができる基板搬入・搬出装置及びこれを用いた
基板処理装置を提供することを目的としている。The present invention has been made in view of such circumstances, and has a relatively simple structure, and can quickly detect the presence or absence of a substrate in a cassette and carry in / out the substrate. It is an object of the present invention to provide a substrate loading / unloading device and a substrate processing apparatus using the same.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板に所要の処理を施す
処理部に並設され、複数枚の基板を多段に収容するカセ
ットに対して基板の搬入・搬出を行なう基板搬入・搬出
装置であって、カセットを位置決め載置する載置部と、
載置部と処理部との間を隔てるとともに、基板を通過さ
せる通過口がカセットに対向するように開けられた隔壁
と、隔壁の通過口を開閉するシャッター部材と、通過口
を閉塞する位置と通過口を開放する退避位置とにわたっ
てシャッター部材を昇降移動させるシャッター駆動機構
と、カセット内の基板を検出する基板検出器と、基板検
出器を保持する保持部材と、基板検出器がカセットに対
向して昇降するように保持部材を案内する案内機構と、
シャッター部材の昇降移動に連動して保持部材が昇降す
るようにシャッター部材と保持部材とを連結する連結機
構と、基板検出器で検出されたカセット内の基板収納情
報に基づいて、隔壁の通過口を通して、カセットに対し
て基板の搬入・搬出を行なう基板搬送機構とを備えたこ
とを特徴とする。The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. In other words, the invention according to claim 1 is a substrate loading / unloading device that is provided in parallel with a processing unit that performs required processing on a substrate, and that loads and unloads a substrate to and from a cassette that stores a plurality of substrates in multiple stages. A mounting portion for positioning and mounting the cassette,
A partition that separates the mounting section and the processing section, and a passage opening through which the substrate passes is opened to face the cassette, a shutter member that opens and closes the passage opening of the partition, and a position that closes the passage opening. A shutter driving mechanism for moving the shutter member up and down to a retreat position for opening the passage opening, a substrate detector for detecting a substrate in the cassette, a holding member for holding the substrate detector, and the substrate detector facing the cassette. A guide mechanism for guiding the holding member so as to move up and down,
A connecting mechanism for connecting the shutter member and the holding member so that the holding member moves up and down in conjunction with the up and down movement of the shutter member, and a passage opening of the partition wall based on the substrate storage information in the cassette detected by the substrate detector. And a substrate transport mechanism for loading and unloading substrates from and into the cassette.
【００１４】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の基板搬入・搬出装置において、案内機構が、保持部材
を案内する作動曲面を備えたカム部材で構成されてお
り、作動曲面が、シャッター部材が通過口を閉塞する位
置の近くにあるときに、基板検出器がカセットの外側に
退避するように保持部材を案内する第１行程と、シャッ
ター部材が通過口を開放してから退避位置へ移動すると
きに、基板検出器がカセットの内側に進入した状態で昇
降するように保持部材を案内する第２行程と、シャッタ
ー部材が退避位置の近くにあるときに、基板検出器がカ
セットの外側に退避するように保持部材を案内する第３
行程とを備えたものである。According to a second aspect of the present invention, in the substrate loading / unloading device according to the first aspect, the guide mechanism is constituted by a cam member having an operation curved surface for guiding the holding member, and the operation curved surface is A first step of guiding the holding member so that the substrate detector retreats to the outside of the cassette when the shutter member is close to the position where the passage port is closed, and retracting after the shutter member opens the passage port. A second step of guiding the holding member so as to move up and down with the substrate detector entering the inside of the cassette when moving to the position, and when the shutter member is near the retreat position, the substrate detector detects the cassette. Guide the holding member to retract to the outside of the
It has a process.
【００１５】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の基板搬入・搬出装置において、基板検出器が、カセッ
ト内の基板の前端部をほぼ水平に挟み込むように対向配
置された光照射手段と光検知手段とを備えたものであ
る。According to a third aspect of the present invention, in the substrate loading / unloading device according to the second aspect, the substrate detector is disposed so as to face the front end of the substrate in the cassette substantially horizontally. Means and light detecting means.
【００１６】請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の
いずれかに記載の基板搬入・搬出装置において、カセッ
トが、基板を出し入れするための開口を閉塞する蓋を備
え、シャッター部材が、カセットの蓋を脱着・保持する
脱着機構を備えたものである。According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate loading / unloading apparatus according to any one of the first to third aspects, the cassette has a lid for closing an opening for loading and unloading the substrate, and the shutter member has a shutter member. And a detaching mechanism for detaching and holding the lid of the cassette.
【００１７】請求項５に記載の発明は、請求項１〜４の
いずれかに記載の基板搬入・搬出装置と、基板搬入・搬
出装置に並設され、基板に所要の処理を施す処理部とを
備えたことを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate loading / unloading device according to any one of the first to fourth aspects, and a processing unit which is provided in parallel with the substrate loading / unloading device and performs required processing on the substrate. It is characterized by having.
【００１８】[0018]
【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。複数枚の基板を多段に収容したカセットが載置部に
位置決め載置されると、シャッター駆動機構が作動し
て、隔壁の通過口を閉塞していたシャッター部材を退避
位置にまで移動させる。シャッター部材は連結機構を介
して保持部材と連結されているので、シャッター部材の
移動に伴って保持部材も移動する。この保持部材が案内
機構によって案内されることにより、保持部材に保持さ
れた基板検出器がカセットに対向して昇降する。基板検
出器が昇降移動することにより、カセット内の基板の有
無が検出される。この基板検出器で検出されたカセット
内の基板収納情報に基づいて、基板搬送機構がカセット
に対して基板の搬入・搬出を行なう。The operation of the first aspect of the invention is as follows. When a cassette containing a plurality of substrates in multiple stages is positioned and mounted on the mounting portion, the shutter drive mechanism operates to move the shutter member closing the passage opening of the partition to the retracted position. Since the shutter member is connected to the holding member via the connection mechanism, the holding member also moves with the movement of the shutter member. When the holding member is guided by the guide mechanism, the substrate detector held by the holding member moves up and down in opposition to the cassette. As the substrate detector moves up and down, the presence or absence of the substrate in the cassette is detected. Based on the substrate storage information in the cassette detected by the substrate detector, the substrate transport mechanism carries the substrate in and out of the cassette.
【００１９】請求項２に記載の発明によれば、保持部材
は案内機構であるカム部材の作動曲面によって案内され
て移動する。具体的には、シャッター部材が通過口を閉
塞する位置の近くにあるときは、保持部材が作動曲面の
第１行程で案内されることにより、基板検出器がカセッ
トの外側に退避移動する。これにより基板検出器とシャ
ッター部材との干渉が避けられる。シャッター部材が通
過口を開放してから退避位置へ移動している過程では、
保持部材が作動曲面の第２行程で案内されることによ
り、基板検出器がカセットの内側に進入して昇降移動す
る。これにより基板検出器が基板に近接した状態で基板
の有無を確実に検出する。シャッター部材が退避位置の
近くにあるときは、保持部材が作動曲面の第３行程で案
内されることにより、基板検出器がカセットの外側に退
避移動する。これにより、カセットの内側に進入して移
動していた基板検出器がカセットの端部に干渉するのが
避けられる。According to the second aspect of the present invention, the holding member is guided and moved by the operation curved surface of the cam member as the guide mechanism. Specifically, when the shutter member is near the position where the passage member is closed, the substrate detector is retracted to the outside of the cassette by guiding the holding member in the first stroke of the operation curved surface. This avoids interference between the substrate detector and the shutter member. In the process of moving the shutter member to the retreat position after opening the passage opening,
When the holding member is guided in the second stroke of the operation curved surface, the substrate detector enters the inside of the cassette and moves up and down. Thus, the presence or absence of the substrate is reliably detected in a state where the substrate detector is close to the substrate. When the shutter member is near the retreat position, the substrate detector retreats to the outside of the cassette by guiding the holding member in the third stroke of the operation curved surface. Thus, it is possible to prevent the substrate detector, which has entered and moved inside the cassette, from interfering with the end of the cassette.
【００２０】請求項３に記載の発明によれば、ほぼ水平
方向に対向配置された光照射手段と光検知手段とがカセ
ット内を昇降移動する際に、カセット内に基板があれば
光照射手段から照射された光が基板に遮られて光検知手
段に入射しないので、光検知手段の検出信号の変化によ
って基板の有無が検出される。According to the third aspect of the present invention, when the light irradiating means and the light detecting means, which are disposed to be substantially opposed to each other in the horizontal direction, move up and down in the cassette, the light irradiating means is provided if there is a substrate in the cassette. Since the light irradiated from the substrate is blocked by the substrate and does not enter the light detecting means, the presence or absence of the substrate is detected by a change in the detection signal of the light detecting means.
【００２１】請求項４に記載の発明によれば、基板を出
し入れする開口を閉塞する蓋を備えたカセット（ＦＯＵ
Ｐカセット）が載置部に載置された場合には、シャッタ
ー部材に備えられた脱着機構がカセットの蓋を取り外し
て保持し、蓋と一体に退避位置にまで移動する。According to the fourth aspect of the present invention, a cassette (FOU) having a lid for closing an opening for taking in and out of a substrate.
When the (P cassette) is placed on the placing portion, the detaching mechanism provided on the shutter member removes and holds the lid of the cassette, and moves to the retracted position integrally with the lid.
【００２２】請求項５に記載の発明によれば、基板搬入
・搬出装置の基板検出器がカセット内の基板の有無を検
出し、その基板収納情報に基づいて基板搬送機構がカセ
ット内の基板を取り出して処理部へ搬送する。処理が終
わった基板は、基板の有無の検出結果に基づいて基板搬
送機構がカセット内へ戻す。According to the fifth aspect of the present invention, the substrate detector of the substrate loading / unloading device detects the presence or absence of the substrate in the cassette, and the substrate transport mechanism determines the substrate in the cassette based on the substrate storage information. Take it out and transport it to the processing section. The processed substrate is returned to the cassette by the substrate transport mechanism based on the detection result of the presence or absence of the substrate.
【００２３】[0023]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。図１は本発明の一実施例に係る基板処
理装置の全体構成を示した正面図、図２はその平面図で
ある。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a front view showing an overall configuration of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view thereof.
【００２４】この基板処理装置は、大きく分けて、半導
体ウエハなどの基板Ｗに所要の処理を施す処理部２０
と、この処理部２０に並設され、複数枚の基板Ｗを収容
するカセットＣに対して基板Ｗの搬入・搬出を行なう基
板搬入・搬出装置３０とから構成されている。処理部２
０は、例えば、基板Ｗにフォトレジスト剤を回転塗布す
る塗布処理部２１、基板Ｗの現像処理を行なう現像処理
部２２、基板Ｗに熱処理を施す熱処理部２３、基板搬入
・搬出装置３０から受け取った基板Ｗを各処理部２１，
２２，２３に搬送するとともに、処理済の基板Ｗを基板
搬入・搬出装置３０へ渡す基板移送ロボット２４などを
備えている。処理部２０には、フォトレジスト剤が塗布
された基板Ｗに回路パターンなどを露光する露光装置２
５が並設される。This substrate processing apparatus is roughly divided into a processing unit 20 for performing required processing on a substrate W such as a semiconductor wafer.
And a substrate loading / unloading device 30 that is provided in parallel with the processing unit 20 and loads and unloads substrates W from and into a cassette C that stores a plurality of substrates W. Processing unit 2
Reference numeral 0 denotes, for example, a coating processing unit 21 that spin-coats a photoresist agent on the substrate W, a development processing unit 22 that performs a development process on the substrate W, a heat treatment unit 23 that performs a heat treatment on the substrate W, and a substrate loading / unloading device 30 Substrate W into each processing unit 21,
A substrate transfer robot 24 for transferring the processed substrate W to the substrate loading / unloading device 30 while transporting the substrate W to the substrates 22 and 23 is provided. The processing unit 20 includes an exposure apparatus 2 for exposing a circuit pattern or the like on a substrate W coated with a photoresist agent.
5 are juxtaposed.
【００２５】基板搬入・搬出装置３０は、複数個のカセ
ットＣを一定間隔で並べて位置決め載置する載置部３１
を備えている。この載置部３１と処理部２０との間は、
隔壁３２によって雰囲気遮断されている。隔壁３２に
は、基板Ｗを通過させる複数個の通過口３２ａが各カセ
ットＣと対向するように開けられている。各通過口３２
ａにはシャッター部材３３がそれぞれ取り付けられてい
る。これらのシャッター部材３３は、各々のシャッター
駆動機構３４で個別に駆動されることにより、通過口３
２ａを閉塞する位置と通過口３２ａを開放する退避位置
とにわたって昇降移動する。隔壁３２を挟んで載置部３
１と対向するように、各カセットＣに対して基板Ｗを搬
入・搬出する基板搬送機構３５が設けられている。この
基板搬送機構３５は、カセットＣから未処理の基板Ｗを
一枚ずつ取り出して処理部２０の基板移送ロボット２４
に渡すとともに、処理済の基板Ｗを基板移送ロボット２
４から受け取ってカセットＣに搬入する。さらに、基板
搬入・搬出装置３０は、後に詳しく説明するように、シ
ャッター部材３３の昇降移動に連動してカセットＣ内の
基板Ｗの有無を検出する基板検出器などを備えている。The substrate loading / unloading device 30 is provided with a mounting portion 31 for positioning and mounting a plurality of cassettes C at regular intervals.
It has. The space between the mounting section 31 and the processing section 20 is
The atmosphere is shut off by the partition wall 32. The partition 32 has a plurality of passage openings 32a through which the substrates W pass so as to face each cassette C. Each passage 32
The shutter members 33 are respectively attached to a. These shutter members 33 are individually driven by the respective shutter driving mechanisms 34, so that the passage ports 3
It moves up and down between a position for closing 2a and a retracted position for opening the passage 32a. Placement section 3 with partition wall 32 interposed
A substrate transport mechanism 35 for loading and unloading substrates W from and to each cassette C is provided so as to face the cassette 1. The substrate transport mechanism 35 takes out the unprocessed substrates W one by one from the cassette C, and
Transfer the processed substrate W to the substrate transfer robot 2
4 and carried into the cassette C. Further, the substrate loading / unloading device 30 includes a substrate detector that detects the presence or absence of the substrate W in the cassette C in conjunction with the vertical movement of the shutter member 33, as described in detail later.
【００２６】以下、基板搬入・搬出装置３０の各部の構
成を詳しく説明する。図３を参照する。図３は基板搬入
・搬出装置３０の要部構成を示す一部破断側面図であ
る。載置部３１には、各カセットＣを位置決め載置する
ための載置テーブル３６があり、各載置テーブル３６は
モータ３７で駆動されるネジ送り機構３８に連結されて
いる。後退位置にある載置テーブル３６にカセットＣが
セットされると、載置テーブル３６が前進移動して、カ
セットＣが隔壁３２の通過口３２ａに対向する。Hereinafter, the structure of each part of the substrate loading / unloading device 30 will be described in detail. Please refer to FIG. FIG. 3 is a partially cutaway side view showing a configuration of a main part of the substrate loading / unloading device 30. The mounting section 31 has a mounting table 36 for positioning and mounting each cassette C, and each mounting table 36 is connected to a screw feed mechanism 38 driven by a motor 37. When the cassette C is set on the mounting table 36 at the retracted position, the mounting table 36 moves forward, and the cassette C faces the passage port 32 a of the partition wall 32.
【００２７】カセットＣは、図４に示すように、複数枚
の基板Ｗを一定間隔で多段に収納する容器Ｃａと、この
容器Ｃａの開口Ｃａ1 を閉塞する蓋ＣｂとからなるＦＯ
ＵＰ（Front Open Unified Pod) カセットである。容器
Ｃａの内壁面には基板Ｗの両端部を支持する溝Ｃａ2 が
一定間隔で形成されている。蓋Ｃｂの内部には、内側面
にラックが刻まれた一対のスライド部材Ｃｂ1 が収納さ
れており、各スライド部材Ｃｂ1 の先端には係止ピンＣ
ｂ2 が形成されている。スライド部材Ｃｂ1 は、同じく
蓋Ｃｂに内蔵されたピニオンＣｂ3 にそれぞれ噛み合
い、このピニオンＣｂ3 が正逆に回転することにより、
スライド部材Ｃｂ1 が上下に変位して、係止ピンＣｂ2
が蓋Ｃｂの上下端面で出没するようになっている。容器
Ｃａの開口Ｃａ1 の上下面には、蓋Ｃｂの係止ピンＣｂ
2 に嵌合する小孔Ｃａ3 が形成されている。蓋Ｃｂが容
器Ｃａの開口Ｃａ1 に嵌め込まれた後、係止ピンＣｂ2
が突出して小孔Ｃａ3 に嵌合することにより、容器Ｃａ
が蓋Ｃｂで閉塞された状態になる。As shown in FIG. 4, the cassette C comprises a container Ca for storing a plurality of substrates W in multiple stages at regular intervals and a lid Cb for closing the opening Ca 1 of the container Ca.
This is an UP (Front Open Unified Pod) cassette. The inner wall surface of the container Ca groove Ca 2 for supporting both ends of the substrate W are formed at regular intervals. Inside the lid Cb, and a pair of rack engraved sliding member Cb 1 is accommodated in the inner surface, the locking pin C is at the tip of each slide member Cb 1
b 2 is formed. Slide members Cb 1, like meshing respectively with the pinion Cb 3 built in the lid Cb, by the pinion Cb 3 rotates in forward and reverse,
Slide members Cb 1 is displaced vertically, the locking pin Cb 2
Appear on the upper and lower end surfaces of the lid Cb. The upper and lower surfaces of the opening Ca 1 of the container Ca, the locking pin Cb lid Cb
A small hole Ca 3 fitting into 2 is formed. After the lid Cb is fitted into the opening Ca 1 of the container Ca, the locking pin Cb 2
Projecting and fitting into the small hole Ca 3 , the container Ca
Is closed by the lid Cb.
【００２８】図３および図５を参照して、シャッター部
材３３およびシャッター駆動機構３４の構成を説明す
る。シャッター部材３３は、隔壁３２の通過口３２ａに
嵌まり合うような矩形状に形成されている。このシャッ
ター部材３３は、カセットＣの蓋Ｃｂを脱着する脱着機
構３９を備えている。具体的には、脱着機構３９は、シ
ャッター部材３３の一方面（カセットＣ側の面）に突出
して設けられた回動自在の連結ピン４０と、この連結ピ
ン４０を回動するためにシャッター部材３３に内蔵され
たモータ（図示せず）などで構成されている。The structure of the shutter member 33 and the shutter drive mechanism 34 will be described with reference to FIGS. The shutter member 33 is formed in a rectangular shape so as to fit into the passage port 32 a of the partition wall 32. The shutter member 33 includes a detachment mechanism 39 for detaching and attaching the lid Cb of the cassette C. Specifically, the detachable mechanism 39 includes a rotatable connection pin 40 protruding from one surface (a surface on the cassette C side) of the shutter member 33 and a shutter member for rotating the connection pin 40. The motor 33 includes a motor (not shown) built in the motor 33.
【００２９】シャッター部材３３は、アーム４１を介し
てシャッター駆動機構３４に連結されている。シャッタ
ー駆動機構３４は、支点Ｐ周りに揺動自在のベースプレ
ート４２を備えている。このベースプレート４２にロッ
ドレスシリンダ４３が搭載されており、ロッドレスシリ
ンダ４３の摺動子４３ａがアーム４１の基端部に連結さ
れている。また、ベースプレート４２にはリニアスケー
ル４４が搭載されており、このリニアスケール４４の目
盛りをアーム４１の下端部に取り付けられた反射型の光
センサ４５で検出することにより、シャッター部材３３
と連動して昇降する基板検出器（これについては後述す
る）の位置を把握するようになっている。ベースプレー
ト４２はエアーシリンダ４６によって揺動駆動される。The shutter member 33 is connected to a shutter drive mechanism 34 via an arm 41. The shutter drive mechanism 34 includes a base plate 42 that can swing around a fulcrum P. A rodless cylinder 43 is mounted on the base plate 42, and a slider 43 a of the rodless cylinder 43 is connected to a base end of the arm 41. A linear scale 44 is mounted on the base plate 42, and the scale of the linear scale 44 is detected by a reflective optical sensor 45 attached to the lower end of the arm 41, so that a shutter member 33 is provided.
The position of a substrate detector (which will be described later) that moves up and down in conjunction with the position is grasped. The base plate 42 is driven to swing by an air cylinder 46.
【００３０】図３を参照して、基板搬送機構３５の構成
を説明する。基板搬送機構３５は、基板Ｗを載置支持す
る支持アーム４７と、この支持アーム４７を水平１方向
（Ｘ方向）に前後進させるＸ駆動機構４８と、支持アー
ム４７を水平面内で旋回移動させる旋回駆動機構４９
と、支持アーム４７を昇降させるＺ駆動機構５０と、支
持アーム４７を複数個のカセットＣの配列方向（Ｙ方
向）に移動させるＹ駆動機構５１とを備えている。Referring to FIG. 3, the structure of the substrate transfer mechanism 35 will be described. The substrate transfer mechanism 35 includes a support arm 47 for placing and supporting the substrate W, an X drive mechanism 48 for moving the support arm 47 back and forth in one horizontal direction (X direction), and rotating the support arm 47 in a horizontal plane. Swing drive mechanism 49
And a Z drive mechanism 50 that moves the support arm 47 up and down, and a Y drive mechanism 51 that moves the support arm 47 in the direction in which the plurality of cassettes C are arranged (Y direction).
【００３１】次に、図６〜図８を参照して、本実施例の
特徴部分である、カセットＣ内の基板Ｗの有無を検出す
るための構成について説明する。図６は基板検出器の周
辺機構をカセットＣの開口側からみた正面図、図７はそ
の側面図、図８は基板検出器の斜視図である。Next, a configuration for detecting the presence or absence of the substrate W in the cassette C, which is a characteristic portion of the present embodiment, will be described with reference to FIGS. 6 is a front view of the peripheral mechanism of the substrate detector as viewed from the opening side of the cassette C, FIG. 7 is a side view thereof, and FIG. 8 is a perspective view of the substrate detector.
【００３２】まず、図８を参照して基板検出器の構成を
説明する。本実施例で用いられる基板検出器５２は、カ
セットＣ内の基板Ｗの前端部をほぼ水平に（好ましくは
若干傾斜して）挟み込むように対向配置された光照射手
段５３と光検知手段５４とを備えている。具体的には、
基板検出器５２は、平面視でほぼ「コ」の字形状のホル
ダ５５を備え、このホルダ５５から前方に突出した一対
の凸部５５ａ，５５ｂに光照射手段５３の光出射端５６
と、光検知手段５４の光入射端５７とが対向するように
設けられている。光照射手段５３は、ホルダ５５とは離
れたところに設けられた発光部５８と、この発光部５８
で発生した光を光出射端５６まで導く光ファイバ５９な
どで構成されている。また、光検知手段５４は、ホルダ
５５とは離れたところに設けられた受光部６０と、光入
射端５７に入射した光を受光部６０まで導く光ファイバ
６１などで構成されている。First, the configuration of the substrate detector will be described with reference to FIG. The substrate detector 52 used in the present embodiment is composed of a light irradiation unit 53 and a light detection unit 54 which are disposed to face each other so as to sandwich the front end of the substrate W in the cassette C substantially horizontally (preferably slightly inclined). It has. In particular,
The substrate detector 52 includes a holder 55 having a substantially “U” shape in a plan view, and a pair of projections 55 a and 55 b protruding forward from the holder 55 and a light emission end 56 of the light irradiation unit 53.
And the light incident end 57 of the light detecting means 54 are provided so as to face each other. The light irradiating unit 53 includes a light emitting unit 58 provided at a position away from the holder 55, and a light emitting unit 58.
And an optical fiber 59 that guides the light generated at the point to the light emitting end 56. The light detecting means 54 includes a light receiving unit 60 provided at a position distant from the holder 55, an optical fiber 61 for guiding light incident on the light incident end 57 to the light receiving unit 60, and the like.
【００３３】本実施例による基板検出器５２によれば、
ホルダ５５の凸部５５ａ，５５ｂに発光部５８や受光部
６０を直接に取り付けないので、カセットＣ内に進入す
る凸部５５ａ，５５ｂの大きさをコンパクトに構成する
ことができる。ただし、スペース的な余裕があれば、発
光部５８や受光部６０を直接に取り付けるようにしても
よい。According to the substrate detector 52 of this embodiment,
Since the light emitting portion 58 and the light receiving portion 60 are not directly attached to the convex portions 55a and 55b of the holder 55, the size of the convex portions 55a and 55b that enter the cassette C can be made compact. However, if there is room in space, the light emitting unit 58 and the light receiving unit 60 may be directly attached.
【００３４】基板検出器５２のホルダ５５は、ほぼ鉛直
に延びる細長い保持部材６２の先端部に片持ち支持され
ている。この保持部材６２は、基板検出器５２がカセッ
トＣに対向して昇降するように案内機構６３によって案
内されているとともに、連結機構６４を介してシャッタ
ー部材３３に連結されることにより、シャッター部材３
３と連動して昇降するように構成されている。The holder 55 of the substrate detector 52 is cantilevered at the distal end of an elongated holding member 62 extending substantially vertically. The holding member 62 is guided by a guide mechanism 63 so that the substrate detector 52 moves up and down in opposition to the cassette C, and is connected to the shutter member 33 via a connection mechanism 64, so that the shutter member 3
3 to move up and down.
【００３５】具体的には案内機構６３は次のように構成
されている。載置部３１の前側壁面に細長いにベース部
材６５が鉛直方向に取り付けられており、このベース部
材６５にレール６６とカム部材６７とが並べて配設され
ている。レール６６にはスライド部材６８が摺動自在に
嵌め付けられており、このスライド部材６８に保持部材
６２の基端部分が支点Ｑ周りに揺動自在に支持されてい
る。保持部材６２の基端部分は「Ｌ」の字状に屈曲して
おり、この屈曲部６２ａの先端にカムホロア６９が取り
付けられている。このカムホロア６９はカム部材６７の
カム溝７０に嵌め入れられている。ベース部材６５の下
端にはスライド部材６８を受け止めるストッパ７５が設
けられている。Specifically, the guide mechanism 63 is configured as follows. An elongated base member 65 is vertically attached to the front wall surface of the mounting portion 31, and a rail 66 and a cam member 67 are arranged on the base member 65 side by side. A slide member 68 is slidably fitted on the rail 66, and the base end portion of the holding member 62 is swingably supported around the fulcrum Q on the slide member 68. A base end portion of the holding member 62 is bent in an “L” shape, and a cam follower 69 is attached to a distal end of the bent portion 62a. The cam follower 69 is fitted into the cam groove 70 of the cam member 67. At the lower end of the base member 65, a stopper 75 for receiving the slide member 68 is provided.
【００３６】連結機構６４は次のように構成されてい
る。スライド部材６８の上面に細長い「コ」の字状のガ
イド片７１が少し浮かせた状態で固定されている。一
方、正面から見てシャッター部材３３の右下隅（図６参
照）に、Ｌ形ブラケット７２を介してローラ７３が取り
付けられている。このローラ７３がガイド片７１の案内
溝７１ａに嵌め入れられて水平方向に摺動自在になって
いる。また、保持部材６２の中間部位とガイド片７１の
先端部位との間に引っ張りコイルバネ７４が架け渡され
て、保持部材６２は常に時計周りに付勢されている。The connecting mechanism 64 is configured as follows. An elongated “U” -shaped guide piece 71 is fixed on the upper surface of the slide member 68 in a slightly floating state. On the other hand, a roller 73 is attached via a L-shaped bracket 72 to the lower right corner (see FIG. 6) of the shutter member 33 when viewed from the front. The roller 73 is fitted in the guide groove 71a of the guide piece 71 and is slidable in the horizontal direction. Further, a tension coil spring 74 is bridged between the intermediate portion of the holding member 62 and the tip end portion of the guide piece 71, and the holding member 62 is constantly urged clockwise.
【００３７】次に、上述した基板搬入・搬出装置３０を
備えた基板処理装置の動作を説明する。未処理の基板Ｗ
が収容されたカセットＣが載置部３１の載置テーブル３
６上にセットされる。このとき隔壁３２の通過口３２ａ
はシャッター部材３３によって閉塞されている。カセッ
トＣがセットされると載置テーブル３６が作動して、カ
セットＣの蓋Ｃｂがシャッター部材３３に当接する位置
にまで、載置テーブル３６が前進移動する（図３参
照）。Next, the operation of the substrate processing apparatus provided with the above-described substrate loading / unloading device 30 will be described. Unprocessed substrate W
Is placed on the placing table 3 of the placing portion 31.
6 is set. At this time, the passage 32a of the partition 32
Is closed by the shutter member 33. When the cassette C is set, the mounting table 36 is operated, and the mounting table 36 moves forward to a position where the lid Cb of the cassette C contacts the shutter member 33 (see FIG. 3).
【００３８】カセットＣがシャッター部材３３に当接す
ると、図５に示したシャッター部材３３の連結ピン４０
が、蓋Ｃｂに設けられたピニオンＣｂ3 の小孔Ｃｂ4 に
嵌合する。続いて、シャッター部材３３の脱着機構３９
のモータ（図示せず）が作動して連結ピン４０が回転す
ることにより、蓋Ｃｂの係止ピンＣｂ2 が蓋内部に没入
して蓋Ｃｂが開放可能な状態になる。When the cassette C comes into contact with the shutter member 33, the connecting pin 40 of the shutter member 33 shown in FIG.
But fits into the small hole Cb 4 pinion Cb 3 provided in the lid Cb. Subsequently, the attaching / detaching mechanism 39 of the shutter member 33
By connecting pin 40 rotates the motor (not shown) of operating, the lid Cb is ready opening locking pin Cb 2 lid Cb is retracted inside the cover.
【００３９】蓋Ｃｂが開放可能な状態になると、図３に
示すように、シャッター駆動機構３４のエアーシリンダ
４６が収縮作動して、ベースプレート４２が後方に傾斜
する。これによりシャッター部材３３が蓋Ｃｂを保持し
た状態で後退し、隔壁３２の通過口３２ａが開放され
る。続いて、シャッター駆動機構３４のロッドレスシリ
ンダ４３が作動して、摺動子４３ａが下限位置にまで移
動する。これによりシャッター部材３３が下降し、シャ
ッター部材３３は退避位置へ移動する。When the cover Cb can be opened, the air cylinder 46 of the shutter drive mechanism 34 contracts and the base plate 42 is tilted rearward as shown in FIG. As a result, the shutter member 33 retreats while holding the lid Cb, and the passage port 32a of the partition 32 is opened. Subsequently, the rodless cylinder 43 of the shutter drive mechanism 34 operates to move the slider 43a to the lower limit position. As a result, the shutter member 33 moves down, and the shutter member 33 moves to the retracted position.
【００４０】シャッター部材３３が後退して通過口３２
ａを開放し、続いて退避位置へ下降移動する動きに連動
して、基板検出器５２がカセットＣ内に進入し、続いて
下降することにより、カセットＣ内の基板Ｗの有無を検
出する。以下、基板検出器５２の動きを図９を参照して
説明する。図９において、Ｑ1 〜Ｑ5 は保持部材６２の
揺動支点Ｑの変位位置、Ｒ1 〜Ｒ5 は揺動支点Ｑの各変
位位置Ｑ1 〜Ｑ5 に対応するカムホロア６９の位置をそ
れぞれ示している。The shutter member 33 retreats and the passage port 32
The substrate detector 52 enters the cassette C and then descends in conjunction with the movement of releasing the “a” and subsequently descending to the retreat position, thereby detecting the presence or absence of the substrate W in the cassette C. Hereinafter, the operation of the substrate detector 52 will be described with reference to FIG. In FIG. 9, Q 1 to Q 5 denote the displacement positions of the swing fulcrum Q of the holding member 62, and R 1 to R 5 denote the positions of the cam followers 69 corresponding to the displacement positions Q 1 to Q 5 of the swing fulcrum Q, respectively. Is shown.
【００４１】カム部材６７のカム溝７０は、次のような
第１〜第３行程からなる作動曲面を備えている。すなわ
ち、第１行程Ｌ１は、シャッター部材３３が通過口３２
ａを閉塞する位置の近くにあるときに、基板検出器５２
がカセットＣの外側に退避するように保持部材６２を案
内する作動曲面である。第２行程Ｌ２は、シャッター部
材３３が通過口３２ａを開放してから退避位置へ下降移
動するときに、基板検出器５２がカセットＣの内側に進
入した状態で下降するように保持部材６２を案内する作
動曲面である。第３行程Ｌ３は、シャッター部材３３が
退避位置の近くにあるときに、基板検出器５２がカセッ
トＣの外側に退避するように保持部材６２を案内する作
動曲面である。The cam groove 70 of the cam member 67 has an operation curved surface including the following first to third strokes. That is, in the first stroke L1, the shutter member 33 is
When the substrate detector 52 is located near the position where
Is an operation curved surface for guiding the holding member 62 so as to retract to the outside of the cassette C. The second step L2 guides the holding member 62 so that when the shutter member 33 moves down to the retreat position after opening the passage opening 32a, the substrate detector 52 descends while entering the inside of the cassette C. It is a working curved surface. The third step L3 is an operation curved surface that guides the holding member 62 so that the substrate detector 52 retreats outside the cassette C when the shutter member 33 is near the retreat position.
【００４２】すなわち、シャッター部材３３が上昇して
通過口３２ａを閉塞する位置にあるときは、連結機構６
４を介してシャッター部材３３と連結している保持部材
６２も上限位置にある（図１０（ａ）参照）。このとき
保持部材６２の揺動支点Ｑはレール６６の延長線上の上
限位置である位置Ｑ1 にあり、カムホロア６９は第１行
程Ｌ１内の位置Ｒ1 にある。その結果、保持部材６２は
後方に傾斜し、基板検出器５２はカセットＣから離れた
退避位置にある。このようにシャッター部材３３が通過
口３２ａを閉塞しているときに、基板検出器５２は退避
位置にあるので、シャッター部材３３と基板検出器５２
とが干渉することがない。That is, when the shutter member 33 is at the position where it rises to close the passage opening 32a, the connecting mechanism 6
The holding member 62 connected to the shutter member 33 via 4 is also at the upper limit position (see FIG. 10A). Swing fulcrum Q of the holding member 62 at this time is in the position Q 1 is an upper limit position on an extension line of the rail 66, cam follower 69 is in the position R 1 in the first stroke L1. As a result, the holding member 62 is inclined rearward, and the substrate detector 52 is at the retracted position away from the cassette C. As described above, when the shutter member 33 closes the passage port 32a, the substrate detector 52 is in the retracted position, and therefore, the shutter member 33 and the substrate detector 52 are closed.
And do not interfere.
【００４３】通過口３２ａを開放するためにシャッター
部材３３が後退したときは、連結機構６４のローラ７３
がガイド片７１の案内溝７１ａを水平方向にスライド移
動するので、基板検出器５２はほぼ退避位置の状態を維
持する。続いて、シャッター部材３３が下降し始める
と、これに伴って保持部材６２の揺動支点も位置Ｑ1 か
ら位置Ｑ2 へ下降移動する。そうすると、カムホロア６
９が第１行程Ｌ１の位置Ｒ1 からＲ2 へ移動することに
より、保持部材６２が揺動支点Ｑ周りに反時計方向に揺
動変位して、基板検出器５２がカセットＣの内側へ進入
する。When the shutter member 33 is retracted to open the passage port 32a, the roller 73 of the connecting mechanism 64
Slides in the guide groove 71a of the guide piece 71 in the horizontal direction, so that the substrate detector 52 substantially maintains the retracted position. Subsequently, the shutter member 33 starts to descend, the swing fulcrum of the retaining member 62 is also moved downward from the position Q 1 to the position Q 2 accordingly. Then, cam follower 6
9 moves from the position R 1 of the first stroke L 1 to the position R 2 , the holding member 62 swings counterclockwise around the swing fulcrum Q, and the substrate detector 52 enters the inside of the cassette C. I do.
【００４４】シャッター部材３３がさらに下降すると、
これに伴って保持部材６２の揺動支点も位置Ｑ2 から位
置Ｑ4 へ向かって下降移動する。このときカムホロア６
９は鉛直方向に延びる第２行程（位置Ｒ2 〜Ｒ4 ）にあ
るので、保持部材６２の姿勢が維持される。すなわち、
基板検出器５２はカセットＣの内側に進入した状態で下
降する。下降状態にある基板検出器５２と基板Ｗとの位
置関係を示したのが図８である。基板検出器５２は、下
降移動しながらカセットＣ内の基板Ｗの有無を検出す
る。検出動作は後に説明する。When the shutter member 33 is further lowered,
Rocking fulcrum of the retaining member 62 along with this also descends moves from the position Q 2 to the position Q 4. At this time, cam follower 6
Since 9 is in the second stroke (positions R 2 to R 4 ) extending in the vertical direction, the posture of the holding member 62 is maintained. That is,
The substrate detector 52 descends while entering the inside of the cassette C. FIG. 8 shows the positional relationship between the substrate detector 52 and the substrate W in the lowered state. The substrate detector 52 detects the presence or absence of the substrate W in the cassette C while moving downward. The detection operation will be described later.
【００４５】保持部材６２の揺動支点Ｑが位置Ｑ4 まで
下降したとき、基板検出器５２はカセットＣ内の下限位
置にまで移動し、基板Ｗの検出動作が完了する。シャッ
ター部材３３がさらに下降すると、保持部材６２の揺動
支点Ｑは位置Ｑ4 からＱ5 へ下降移動する。そうする
と、カムホロア６９が第３行程の位置Ｒ4 からＲ5 へ移
動することにより、保持部材６２が揺動支点Ｑ周りに時
計方向に揺動変位して、基板検出器５２がカセットＣの
内側から外側に向かって退避移動する。これにより、シ
ャッター部材３３が退避位置の近くにまで下降したとき
に、基板検出器５２がカセットＣに干渉しないようにし
ている。シャッター部材３３が退避位置にある状態を図
１０（ｂ）示す。[0045] When the swing fulcrum Q of the holding member 62 is lowered to a position Q 4, substrate detector 52 is moved to the lower limit position in the cassette C, the detection operation of the substrate W is completed. When the shutter member 33 is further lowered, the swing fulcrum Q of the holding member 62 is moved downward from the position Q 4 to Q 5. Then, when the cam follower 69 moves from the position R 4 of the third stroke to the position R 5 , the holding member 62 swings clockwise around the swing fulcrum Q, and the substrate detector 52 moves from the inside of the cassette C to the inside. Retreat outward. This prevents the substrate detector 52 from interfering with the cassette C when the shutter member 33 is lowered close to the retreat position. FIG. 10B shows a state where the shutter member 33 is at the retracted position.
【００４６】次に、図１１を参照して基板検出動作を説
明する。基板検出器５２の光入射端５７との間を光ファ
イバ６１で結ばれた受光部６０は、カセットＣ内の有無
に応じた検出信号を出力する。すなわち、受光部６０が
入射光を検出しなければ「基板有り」、入射光を検出す
れば「基板無し」の検出信号を出力する。この検出信号
はデータ収集部７６に集められる。一方、基板検出器５
２がカセットＣ内を下降している間、シャッター部材３
３のアーム４１の下端に取り付けられた光センサ４５が
リニアスケール４４の目盛りを検出する。カセットＣ内
の基板Ｗの配列ピッチは既知であるので、光センサ４５
の検出信号に基づき、基板検出器５２がカセットＣ内の
どの位置にあるかを知ることができる。位置検出部７７
は光センサ４５の検出信号を取り込んで基板検出器５２
の位置を検出する。処理部７８は、データ収集部７６で
「基板有り」の検出信号が収集されると、その旨の信号
をデータ収集部７６から受けて、位置検出部７７で検出
されている、基板検出器５２の位置を取り込み、その位
置をメモリ７９に書き込む。このようにしてデータ収集
部７６で「基板有り」の検出信号が収集される毎に同様
の動作が行なわれ、カセットＣ内の位置情報に対応付け
られた基板有無の情報（基板収納情報）がメモリ７９に
格納される。Next, the substrate detecting operation will be described with reference to FIG. The light receiving section 60 connected to the light incident end 57 of the substrate detector 52 by the optical fiber 61 outputs a detection signal according to the presence or absence of the cassette C. That is, if the light receiving unit 60 does not detect the incident light, it outputs a detection signal of “substrate is present”, and if it detects the incident light, it outputs a detection signal of “substrate is not present”. This detection signal is collected by the data collection unit 76. On the other hand, the substrate detector 5
While the shutter 2 is descending in the cassette C, the shutter member 3
An optical sensor 45 attached to the lower end of the third arm 41 detects the scale of the linear scale 44. Since the arrangement pitch of the substrates W in the cassette C is known, the optical sensor 45
, The position of the substrate detector 52 in the cassette C can be known. Position detector 77
Captures the detection signal from the optical sensor 45 and
Detect the position of. When the detection signal indicating that “substrate is present” is collected by the data collection unit 76, the processing unit 78 receives a signal to that effect from the data collection unit 76, and detects the signal of the substrate detector 52 detected by the position detection unit 77. And writes the position into the memory 79. In this manner, the same operation is performed each time the detection signal of “substrate presence” is collected by the data collection unit 76, and the information on the presence or absence of the substrate (substrate storage information) associated with the position information in the cassette C is obtained. It is stored in the memory 79.
【００４７】基板搬送機構３５を制御する基板搬送機構
制御部８０は、メモリ７９に格納された基板収納情報に
基づいて、開放された通過口３２ａを介してカセットＣ
内に進入し、カセットＣ内の基板Ｗを一枚ずつ取り出
す。基板搬送機構３５の支持アーム４７に支持された基
板Ｗは、処理部２０の基板移送ロボット２４に受け渡さ
れ、各処理部２１，２２，２３に移送されて所要の基板
処理が施される。処理された基板Ｗは、基板移送ロボッ
ト２４から基板搬送機構３５へ受け渡される。基板搬送
機構３５は、メモリ７９の基板収納情報を参照して、そ
の基板ＷをカセットＣ内の元の位置に搬入する。The board transfer mechanism control section 80 for controlling the board transfer mechanism 35 transmits the cassette C through the opened passage 32a based on the board storage information stored in the memory 79.
And the substrates W in the cassette C are taken out one by one. The substrate W supported by the support arm 47 of the substrate transfer mechanism 35 is transferred to the substrate transfer robot 24 of the processing unit 20, and is transferred to each of the processing units 21, 22, and 23 to perform required substrate processing. The processed substrate W is transferred from the substrate transfer robot 24 to the substrate transfer mechanism 35. The substrate transport mechanism 35 transports the substrate W to the original position in the cassette C with reference to the substrate storage information in the memory 79.
【００４８】カセットＣ内の全ての基板Ｗの処理が終わ
ると、上述したシャッター部材３３の開放動作とは逆の
動作により、隔壁３２の通過口３２ａがシャッター部材
３３で閉じられるととに、カセットＣに蓋Ｃｂが取り付
けられる。以上のような処理が載置部３１にセットされ
た各カセットＣについて順に実行される。When the processing of all the substrates W in the cassette C is completed, the opening 32 a of the partition 32 is closed by the shutter member 33 by the operation opposite to the above-described opening operation of the shutter member 33. A cover Cb is attached to C. The above-described processing is sequentially executed for each cassette C set in the mounting unit 31.
【００４９】上述した説明から明らかなように、本実施
例装置によれば、シャッター部材３３が開放されて退避
位置へ下降移動する過程で、カセットＣ内の基板Ｗの有
無が検出されるので、シャッター部材３３が退避位置に
移動すると、即座に基板搬送機構３５によるカセットＣ
からの基板Ｗの取り出しを行なうことができる。つま
り、基板検出のための待ち時間がないので、この種の基
板処理装置のスループットを向上させることができる。As is clear from the above description, according to the present embodiment, the presence or absence of the substrate W in the cassette C is detected in the process of opening the shutter member 33 and moving down to the retracted position. When the shutter member 33 moves to the retreat position, the cassette C
Can be taken out of the substrate W. That is, since there is no waiting time for substrate detection, the throughput of this type of substrate processing apparatus can be improved.
【００５０】また、基板検出器５２の保持部材６２とシ
ャッター部材３３とを機械的に連動連結させているの
で、基板検出器５２を駆動する特別のアクチュエータが
不要であり、それだけ装置構成を簡単にすることができ
る。また、保持部材６２の動きをカム部材６７で規制し
ているので、シャッター部材３３の動きに同期させた電
気的な制御も不要であり、制御系の構成も簡単になる。Further, since the holding member 62 of the substrate detector 52 and the shutter member 33 are mechanically linked to each other, a special actuator for driving the substrate detector 52 is not required, and the apparatus configuration can be simplified accordingly. can do. Further, since the movement of the holding member 62 is regulated by the cam member 67, electrical control synchronized with the movement of the shutter member 33 is not required, and the configuration of the control system is simplified.
【００５１】本発明は上述した実施例のものに限らず、
次のように変形実施することができる。 （１）実施例では、光の遮光／非遮光によってカセット
内の基板の有無を検出する、いわゆる透過型の基板検出
器を用いたが、これに代えてカセット内の基板に照射し
た光の反射の有無によって基板の有無を検出する、いわ
ゆる反射型の光センサを用いるようにしてもよい。The present invention is not limited to the embodiment described above,
Modifications can be made as follows. (1) In the embodiment, a so-called transmission type substrate detector which detects the presence / absence of a substrate in a cassette by shading / non-shading light is used. Instead of this, the reflection of light applied to the substrate in the cassette is reflected. A so-called reflection-type optical sensor that detects the presence or absence of a substrate based on the presence or absence of a substrate may be used.
【００５２】（２）実施例では、開口部が蓋で閉塞され
るＦＯＵＰカセットを用いた場合を例示したが、本発明
は開口部に蓋を設けない、いわゆるオープンタイプのカ
セット内の基板検出にも適用することができる。(2) In the embodiment, the case where the FOUP cassette whose opening is closed by the lid is used is exemplified. However, the present invention is applicable to the detection of a substrate in a so-called open type cassette having no lid at the opening. Can also be applied.
【００５３】[0053]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次の効果を奏する。請求項１に記載の発明によ
れば、シャッター部材の昇降移動に連動させて基板検出
器を移動させているので、基板検出器を移動させるため
の特別のアクチュエータが不要であり、それだけ装置構
成を簡素化することができる。また、シャッター部材が
昇降移動、すなわち通過口の閉塞位置から退避位置へ移
動している間に、これと並行して基板検出器がカセット
内の基板の有無を検出するので、カセット内の基板の有
無を効率よく検出することができる。As apparent from the above description, the present invention has the following effects. According to the first aspect of the present invention, since the substrate detector is moved in conjunction with the vertical movement of the shutter member, a special actuator for moving the substrate detector is not required, and the apparatus configuration is reduced accordingly. It can be simplified. In addition, while the shutter member is moving up and down, that is, moving from the closed position of the passage opening to the retracted position, the substrate detector detects the presence or absence of the substrate in the cassette in parallel with this, so that the substrate in the cassette is Presence or absence can be efficiently detected.
【００５４】請求項２に記載の発明によれば、基板の有
無を検出するときに、基板検出器がカセット内に進入す
るように、基板検出器を保持する保持部材がカム部材で
案内されるので、カセット内の基板を確実に検出するこ
とができる。また、シャッター部材が隔壁の通過口を閉
塞する位置や退避位置の近傍にあるときは、基板検出器
がカセットの外側に退避するように保持部材が案内され
るので、基板検出器がシャッター部材やカセットに干渉
することもない。According to the second aspect of the present invention, when detecting the presence / absence of a substrate, the holding member for holding the substrate detector is guided by the cam member so that the substrate detector enters the cassette. Therefore, the substrate in the cassette can be reliably detected. Further, when the shutter member is located near the position for closing the passage opening of the partition wall or the retreat position, the holding member is guided so that the substrate detector retreats to the outside of the cassette. There is no interference with the cassette.
【００５５】請求項３に記載の発明によれば、基板検出
器の光照射手段と光検知手段とがカセット内の基板の前
端部をほぼ水平方向に挟み込むように昇降移動するの
で、カセット内の基板の有無を確実に検出することがで
きる。According to the third aspect of the present invention, the light irradiation means and the light detection means of the substrate detector move up and down so as to sandwich the front end of the substrate in the cassette in a substantially horizontal direction. The presence or absence of the substrate can be reliably detected.
【００５６】請求項４に記載の発明によれば、基板を出
し入れするための開口を閉塞した蓋を備えたカセット
（ＦＯＵＰカセット）であっても、カセット内の基板の
有無を確実に検出することができる。According to the fourth aspect of the present invention, even if the cassette (FOUP cassette) has a lid with a closed opening for taking in and out the substrate, the presence or absence of the substrate in the cassette can be reliably detected. Can be.
【００５７】請求項５に記載の発明によれば、カセット
内の基板の有無を迅速に検出して、基板の処理に移るこ
とができるので、基板処理装置のスループットを向上す
ることができる。According to the fifth aspect of the present invention, the presence or absence of a substrate in the cassette can be quickly detected and processing can be started on the substrate, so that the throughput of the substrate processing apparatus can be improved.
【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施例の概略構
成を示した正面図である。FIG. 1 is a front view showing a schematic configuration of an embodiment of a substrate processing apparatus according to the present invention.
【図２】本発明に係る基板処理装置の一実施例の概略構
成を示した平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of an embodiment of the substrate processing apparatus according to the present invention.
【図３】実施例に係る基板搬入・搬出装置の一部破断側
面図である。FIG. 3 is a partially cutaway side view of the substrate loading / unloading device according to the embodiment.
【図４】ＦＯＵＰカセットの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of the FOUP cassette.
【図５】シャッター部材の斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of a shutter member.
【図６】基板検出器とその周辺機構の正面図である。FIG. 6 is a front view of a substrate detector and its peripheral mechanism.
【図７】基板検出器とその周辺機構の側面図である。FIG. 7 is a side view of the substrate detector and its peripheral mechanism.
【図８】基板検出器の斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of a substrate detector.
【図９】基板検出器の動作説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of the operation of the substrate detector.
【図１０】（ａ）はシャッター部材が閉塞状態にある状
態を示す正面図、（ｂ）はシャッター部材が退避位置に
ある状態を示す正面図である。10A is a front view illustrating a state in which a shutter member is in a closed state, and FIG. 10B is a front view illustrating a state in which the shutter member is at a retracted position.
【図１１】実施例装置における基板検出用の制御ブロッ
ク図である。FIG. 11 is a control block diagram for detecting a substrate in the apparatus of the embodiment.
【図１２】従来装置の説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram of a conventional device.
【図１３】従来装置の説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram of a conventional device.
Ｃ …カセット Ｃｂ…蓋 Ｗ …基板 ２０…処理部 ３０…基板搬入・搬出装置 ３１…載置部 ３２…隔壁 ３２ａ…通過口 ３３…シャッター部材 ３４…シャッター駆動機構 ３５…基板搬送機構 ３９…脱着機構 ５２…基板検出器 ５３…光照射手段 ５４…光検知手段 ６２…保持部材 ６３…案内機構 ６４…連結機構 ６７…カム部材 Ｌ１…第１行程 Ｌ２…第２行程 Ｌ３…第３行程 C: cassette Cb: lid W: substrate 20: processing unit 30: substrate loading / unloading device 31: mounting unit 32: partition wall 32a: passage opening 33: shutter member 34: shutter driving mechanism 35: substrate transport mechanism 39: detaching mechanism 52 substrate detector 53 light irradiating means 54 light detecting means 62 holding member 63 guide mechanism 64 connecting mechanism 67 cam member L1 first stroke L2 second stroke L3 third stroke
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今西 保夫 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 5F031 CA02 DA08 DA17 EA12 FA01 FA11 GA47 GA48 GA49 JA22 LA12 NA10 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yasuo Imanishi 4-chome Tenjin Kitamachi 1-chome, Horikawa-dori-Terauchi, Kamigyo-ku, Kyoto F-term (reference) in Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. 5F031 CA02 DA08 DA17 DA17 EA12 FA01 FA11 GA47 GA48 GA49 JA22 LA12 NA10
Claims (5)
れ、複数枚の基板を多段に収容するカセットに対して基
板の搬入・搬出を行なう基板搬入・搬出装置であって、 カセットを位置決め載置する載置部と、 載置部と処理部との間を隔てるとともに、基板を通過さ
せる通過口がカセットに対向するように開けられた隔壁
と、 隔壁の通過口を開閉するシャッター部材と、 通過口を閉塞する位置と通過口を開放する退避位置とに
わたってシャッター部材を昇降移動させるシャッター駆
動機構と、 カセット内の基板を検出する基板検出器と、 基板検出器を保持する保持部材と、 基板検出器がカセットに対向して昇降するように保持部
材を案内する案内機構と、 シャッター部材の昇降移動に連動して保持部材が昇降す
るようにシャッター部材と保持部材とを連結する連結機
構と、 基板検出器で検出されたカセット内の基板収納情報に基
づいて、隔壁の通過口を通して、カセットに対して基板
の搬入・搬出を行なう基板搬送機構とを備えたことを特
徴とする基板搬入・搬出装置。1. A substrate loading / unloading device which is provided in parallel with a processing unit for performing a required processing on a substrate and carries in / out a substrate to / from a cassette accommodating a plurality of substrates in multiple stages. A mounting portion for positioning and mounting, a partition wall for separating the mounting portion and the processing portion, and a passage opening through which the substrate is passed to face the cassette; a shutter member for opening and closing the passage opening of the partition wall A shutter drive mechanism for moving the shutter member up and down between a position for closing the passage opening and a retreat position for opening the passage opening, a substrate detector for detecting a substrate in the cassette, and a holding member for holding the substrate detector. A guide mechanism for guiding the holding member so that the substrate detector moves up and down in opposition to the cassette; and holds the shutter member so that the holding member moves up and down in conjunction with the up and down movement of the shutter member. A connection mechanism for connecting the members to each other; and a board transfer mechanism for loading / unloading the board to / from the cassette through the passage opening of the partition based on the board storage information in the cassette detected by the board detector. A substrate loading / unloading device characterized by the above-mentioned.
おいて、 案内機構は、保持部材を案内する作動曲面を備えたカム
部材で構成されており、 作動曲面は、シャッター部材が通過口を閉塞する位置の
近くにあるときに、基板検出器がカセットの外側に退避
するように保持部材を案内する第１行程と、 シャッター部材が通過口を開放してから退避位置へ移動
するときに、基板検出器がカセットの内側に進入した状
態で昇降するように保持部材を案内する第２行程と、 シャッター部材が退避位置の近くにあるときに、基板検
出器がカセットの外側に退避するように保持部材を案内
する第３行程とを備えている基板搬入・搬出装置。2. The substrate loading / unloading device according to claim 1, wherein the guide mechanism comprises a cam member having an operation curved surface for guiding the holding member, wherein the operation member has a shutter member having a passage opening. A first step of guiding the holding member so that the substrate detector is retracted to the outside of the cassette when the shutter member is located near the closing position; and when the shutter member moves to the retracted position after opening the passage opening, A second step of guiding the holding member so as to move up and down with the substrate detector entering the inside of the cassette; and a step of retracting the substrate detector to the outside of the cassette when the shutter member is near the retreat position. A substrate loading / unloading device having a third step of guiding the holding member.
おいて、 基板検出器は、カセット内の基板の前端部をほぼ水平に
挟み込むように対向配置された光照射手段と光検知手段
とを備える基板搬入・搬出装置。3. The substrate loading / unloading device according to claim 2, wherein the substrate detector comprises: a light irradiating unit and a light detecting unit which are opposed to each other so as to substantially horizontally sandwich a front end of the substrate in the cassette. Substrate loading / unloading device.
入・搬出装置において、 カセットは、基板を出し入れするための開口を閉塞する
蓋を備え、 シャッター部材は、カセットの蓋を脱着・保持する脱着
機構を備えている基板搬入・搬出装置。4. The substrate loading / unloading device according to claim 1, wherein the cassette has a lid for closing an opening for loading and unloading the substrate, and the shutter member attaches and detaches the lid of the cassette. A substrate loading / unloading device equipped with a detachable mechanism for holding.
入・搬出装置と、 基板搬入・搬出装置に並設され、基板に所要の処理を施
す処理部とを備えたことを特徴とする基板処理装置。5. A substrate loading / unloading device according to any one of claims 1 to 4, and a processing unit which is provided in parallel with the substrate loading / unloading device and performs required processing on the substrate. Substrate processing equipment.
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|---|---|---|---|
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-
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