JP2001006997A - 目合わせ露光装置システム及び目合わせ露光方法 - Google Patents
目合わせ露光装置システム及び目合わせ露光方法Info
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- JP2001006997A JP2001006997A JP11174902A JP17490299A JP2001006997A JP 2001006997 A JP2001006997 A JP 2001006997A JP 11174902 A JP11174902 A JP 11174902A JP 17490299 A JP17490299 A JP 17490299A JP 2001006997 A JP2001006997 A JP 2001006997A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】安定した確度の高いズレ補正条件を常時自動で
設定することが可能となり、目合わせ工程の品質及び生
産性を改善することができる目合わせ露光装置システム
及び目合わせ露光方法を提供する。 【解決手段】フォトリソグラフィー工程に用いる目合わ
せ露光装置システムにおいて、過去のズレデータを、ズ
レ成分、使用号機履歴、同一のマスクを使用するのウェ
ハーロットに分解し、統計処理後、補正データとして使
う記憶・演算・通信手段１２，１４を有する。
設定することが可能となり、目合わせ工程の品質及び生
産性を改善することができる目合わせ露光装置システム
及び目合わせ露光方法を提供する。 【解決手段】フォトリソグラフィー工程に用いる目合わ
せ露光装置システムにおいて、過去のズレデータを、ズ
レ成分、使用号機履歴、同一のマスクを使用するのウェ
ハーロットに分解し、統計処理後、補正データとして使
う記憶・演算・通信手段１２，１４を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は目合わせ露光装置シ
ステム及び目合わせ露光方法に係わり、特に位置ズレの
補正を行う縮小投影露光のシステム及び目合わせ露光方
法に関する。
ステム及び目合わせ露光方法に係わり、特に位置ズレの
補正を行う縮小投影露光のシステム及び目合わせ露光方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フォトリソグラフィー工程における露光
の際の位置ズレの補正方法に関しては種々の技術が提案
されている。
の際の位置ズレの補正方法に関しては種々の技術が提案
されている。
【０００３】例えば特開平９−９２６０９号公報には、
予め記憶されたディストーションデータをデータベース
装置に保存し、ウェハー上の２層に異なる２台の露光装
置を用いて露光を行う場合、それらの２台の露光装置の
ディストーション特性差を、ホストコンピュータを介し
て倍率補正をする技術が開示されている。
予め記憶されたディストーションデータをデータベース
装置に保存し、ウェハー上の２層に異なる２台の露光装
置を用いて露光を行う場合、それらの２台の露光装置の
ディストーション特性差を、ホストコンピュータを介し
て倍率補正をする技術が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ズレ成
分の１つにすぎない倍率を、その変動要因の一つにすぎ
ないディストーションのデータをもとに補正する上記公
開公報の技術には、他のズレ成分や露光装置の作業履歴
及びレチクルマスク使用履歴に分解し統計処理する機能
がなく、ズレ補正の安定性や確度で劣るものである。
分の１つにすぎない倍率を、その変動要因の一つにすぎ
ないディストーションのデータをもとに補正する上記公
開公報の技術には、他のズレ成分や露光装置の作業履歴
及びレチクルマスク使用履歴に分解し統計処理する機能
がなく、ズレ補正の安定性や確度で劣るものである。
【０００５】さらにこの従来技術では、ズレ量や加工デ
ータを統計的に監視する機能がなく、目合わせ特性の管
理手法を有しておらず、不具合設備の条件補正に止まっ
ているから、この点からもズレ補正の安定性や確度で劣
るものである。
ータを統計的に監視する機能がなく、目合わせ特性の管
理手法を有しておらず、不具合設備の条件補正に止まっ
ているから、この点からもズレ補正の安定性や確度で劣
るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、ＩＣや
液晶の製造工程中、フォトリソグラフィー工程に用いる
目合わせ露光装置システムにおいて、過去のズレデータ
を、ズレ成分、使用号機履歴、マスク使用履歴、好まし
くはレチクル使用履歴に分解し、統計処理後、補正デー
タとして使う記憶・演算・通信手段を有する目合わせ露
光装置システムにある。
液晶の製造工程中、フォトリソグラフィー工程に用いる
目合わせ露光装置システムにおいて、過去のズレデータ
を、ズレ成分、使用号機履歴、マスク使用履歴、好まし
くはレチクル使用履歴に分解し、統計処理後、補正デー
タとして使う記憶・演算・通信手段を有する目合わせ露
光装置システムにある。
【０００７】この目合わせ露光装置システムにおける前
記ズレ成分は、シフト、スケーリング、ウェハーローテ
ーション、オーソゴナリテイ、ショットローテーション
及びショットリダクションであることが好ましい。
記ズレ成分は、シフト、スケーリング、ウェハーローテ
ーション、オーソゴナリテイ、ショットローテーション
及びショットリダクションであることが好ましい。
【０００８】また前記記憶・演算・通信手段は、データ
ベース演算装置及びホストコンピュータ並びに前記デー
タベース演算装置と前記ホストコンピュータ間及び前記
ホストコンピュータと露光装置間の回線を具備して構成
されていることができる。
ベース演算装置及びホストコンピュータ並びに前記デー
タベース演算装置と前記ホストコンピュータ間及び前記
ホストコンピュータと露光装置間の回線を具備して構成
されていることができる。
【０００９】本発明の他の特徴は、ＩＣや液晶の製造工
程中、フォトリソグラフィー工程に用いる目合わせ露光
方法において、過去のズレデータを、ズレ成分、使用号
機履歴、マスク使用履歴、好ましくはレチクル使用履歴
に分解し、統計処理後、補正データとして使う目合わせ
露光方法にある。
程中、フォトリソグラフィー工程に用いる目合わせ露光
方法において、過去のズレデータを、ズレ成分、使用号
機履歴、マスク使用履歴、好ましくはレチクル使用履歴
に分解し、統計処理後、補正データとして使う目合わせ
露光方法にある。
【００１０】この目合わせ露光装置方法における前記ズ
レ成分は、前記ズレ成分は、シフト、スケーリング、ウ
ェハーローテーション、オーソゴナリテイ、ショットロ
ーテーション及びショットリダクションであることが好
ましい。
レ成分は、前記ズレ成分は、シフト、スケーリング、ウ
ェハーローテーション、オーソゴナリテイ、ショットロ
ーテーション及びショットリダクションであることが好
ましい。
【００１１】またこの目合わせ露光装置方法において、
あるロットに属するウェハーに対する露光処理によるズ
レ補正量が補正限度内の場合、このズレ補正量を過去の
ズレデータとして補正条件を更新し、これによる補正デ
ータをその後に当該装置に送り込まれた他のロットに属
するウェハーに対する露光処理に用いることが好まし
い。
あるロットに属するウェハーに対する露光処理によるズ
レ補正量が補正限度内の場合、このズレ補正量を過去の
ズレデータとして補正条件を更新し、これによる補正デ
ータをその後に当該装置に送り込まれた他のロットに属
するウェハーに対する露光処理に用いることが好まし
い。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明を説明
する。
する。
【００１３】図１は本発明の実施の形態の目合わせ露光
装置システムを示す図である。
装置システムを示す図である。
【００１４】縮小投影露光装置（ステッパー）１０は、
投影マスクであるレチクル１を載置するレチクルステー
ジ７と、レーザによりウェハーとレチクルの相対位置を
計測する位置計測光学系２と、レンズ３と、ウェハー４
を載置するウェハーステージ５と、ウェハーステージの
駆動を制御するステージ制御部６とを具備している。
投影マスクであるレチクル１を載置するレチクルステー
ジ７と、レーザによりウェハーとレチクルの相対位置を
計測する位置計測光学系２と、レンズ３と、ウェハー４
を載置するウェハーステージ５と、ウェハーステージの
駆動を制御するステージ制御部６とを具備している。
【００１５】そして、目合わせ露光装置システムは、こ
の縮小投影露光装置１０と、加工対象のウェハーの加工
パターンの目合わせズレを計測するメズレ計測装置１１
と、ズレデータを記憶・演算するデータベース演算装置
１２と、ステッパーの作業条件を設定するホストコンピ
ュータ１３と、これらの装置間の情報通信手段である回
線１４とを有して構成されている。
の縮小投影露光装置１０と、加工対象のウェハーの加工
パターンの目合わせズレを計測するメズレ計測装置１１
と、ズレデータを記憶・演算するデータベース演算装置
１２と、ステッパーの作業条件を設定するホストコンピ
ュータ１３と、これらの装置間の情報通信手段である回
線１４とを有して構成されている。
【００１６】次ぎに、図２に示す目合わせ作業の処理フ
ローチャートを用い、また図１を援用して、本発明の実
施の形態の動作について説明する。
ローチャートを用い、また図１を援用して、本発明の実
施の形態の動作について説明する。
【００１７】先ずステップ２１（Ｓ２１）においてレチ
クル位置合わせを行い、ステップ２２（Ｓ２２）におい
てベースライン計測を行い、ステップ２３（Ｓ２３）に
おいて下地位置ズレ計測を行う。
クル位置合わせを行い、ステップ２２（Ｓ２２）におい
てベースライン計測を行い、ステップ２３（Ｓ２３）に
おいて下地位置ズレ計測を行う。
【００１８】次ぎに、ホストコンピュータ１３から回線
１４を通してズレ補正値の加算を行い、これによるステ
ージ制御部６の制御により、ステップ（ｓ２５）でウェ
ーハステージ５が駆動し、ステップ２６において露光を
行う。
１４を通してズレ補正値の加算を行い、これによるステ
ージ制御部６の制御により、ステップ（ｓ２５）でウェ
ーハステージ５が駆動し、ステップ２６において露光を
行う。
【００１９】以上のステップ２１（Ｓ２１）〜ステップ
２６（Ｓ２６）の動作がステッパー（投影縮小露光装
置）１０内で行われる。
２６（Ｓ２６）の動作がステッパー（投影縮小露光装
置）１０内で行われる。
【００２０】次ぎに、ウェハー１をステッパー１０から
取りだし、ステップ２７（Ｓ２７）においてウェハー上
のレジスト膜を現像し、ステップ２８（Ｓ２８）におい
てメズレ計測装置１１によりレジストパターンのズレの
検査を行いステップ２９（Ｓ２９）において規格内かど
うかの判定を行い、規格内の場合は次工程に送られ、規
格外の場合はステップ３２（Ｓ３２）の再工事でレジス
トを全部除去し再塗布を行ってステップ２１（Ｓ２１）
に戻す。
取りだし、ステップ２７（Ｓ２７）においてウェハー上
のレジスト膜を現像し、ステップ２８（Ｓ２８）におい
てメズレ計測装置１１によりレジストパターンのズレの
検査を行いステップ２９（Ｓ２９）において規格内かど
うかの判定を行い、規格内の場合は次工程に送られ、規
格外の場合はステップ３２（Ｓ３２）の再工事でレジス
トを全部除去し再塗布を行ってステップ２１（Ｓ２１）
に戻す。
【００２１】本発明ではステップ３０（Ｓ３０）によ
り、レチクル使用履歴におけるズレデータをズレ補正記
憶・演算装置、すなわちデータベース演算装置１２に送
り、それによるズレ補正量が補正限度内の場合、このズ
レ補正量を過去のズレデータとして補正条件を更新し、
これによる補正データをステップ３１（Ｓ３１）におい
てホストコンピュータ１３により回線１４を通してステ
ッパー１０のステージ制御部６に、次ぎに露光処理され
るウェハーに対するズレ補正加算値として送られる。
り、レチクル使用履歴におけるズレデータをズレ補正記
憶・演算装置、すなわちデータベース演算装置１２に送
り、それによるズレ補正量が補正限度内の場合、このズ
レ補正量を過去のズレデータとして補正条件を更新し、
これによる補正データをステップ３１（Ｓ３１）におい
てホストコンピュータ１３により回線１４を通してステ
ッパー１０のステージ制御部６に、次ぎに露光処理され
るウェハーに対するズレ補正加算値として送られる。
【００２２】このように本発明では、露光装置にて加工
されたウェハーを、現像し、メズレ測定装置にてズレ検
査され規格判定する。このとき得られるレチクルの使用
履歴毎のズレデータを自動ズレ補正記憶・演算装置によ
り統計処理し、コンピュータを介して、後続の他のロッ
トに属するウェハーであり同じレチクルを用いた露光に
対する作業条件を更新する。
されたウェハーを、現像し、メズレ測定装置にてズレ検
査され規格判定する。このとき得られるレチクルの使用
履歴毎のズレデータを自動ズレ補正記憶・演算装置によ
り統計処理し、コンピュータを介して、後続の他のロッ
トに属するウェハーであり同じレチクルを用いた露光に
対する作業条件を更新する。
【００２３】尚、図１ではメズレ計測装置１１、データ
ベース演算装置１２及びホストコンピュータ１３に対し
て一台の露光装置１０が接続しているように図示してい
るが、実際は複数台の露光装置１０が共通に接続されて
おり、上記レチクルの使用履歴におけるズレデータはそ
れぞれの露光装置に対して分類して行われる。すなわち
レチクル使用履歴と同様に使用号機履歴も行っている。
ベース演算装置１２及びホストコンピュータ１３に対し
て一台の露光装置１０が接続しているように図示してい
るが、実際は複数台の露光装置１０が共通に接続されて
おり、上記レチクルの使用履歴におけるズレデータはそ
れぞれの露光装置に対して分類して行われる。すなわち
レチクル使用履歴と同様に使用号機履歴も行っている。
【００２４】次ぎに、図３に示す計算フローチャートを
用い、また図１を援用して、本発明の実施の形態のズレ
補正値の算出方法を示す。
用い、また図１を援用して、本発明の実施の形態のズレ
補正値の算出方法を示す。
【００２５】先ずステップ４１（Ｓ４１）においてメズ
レ測定装置１１でズレ量をズレ成分ベクトルに分解す
る。
レ測定装置１１でズレ量をズレ成分ベクトルに分解す
る。
【００２６】その後、ズレデータの記憶・演算装置１２
において以下のステップを行う。
において以下のステップを行う。
【００２７】すなわちステップ４２（Ｓ４２）において
ズレデータの記憶・演算装置１２でメズレ測定、作業報
告を受信し、ステップ４３（Ｓ４３）において報告ロッ
トと同一の要因の組み合わせで設定算出ロット数・期間
のズレ推移を抽出し、ステップ４４（Ｓ４４）において
測定の異常点を除外し、ステップ４５（Ｓ４５）におい
て抽出ロット毎の新ズレ量計算を、新ズレ量＝（成分ベ
クトル値−設計値）×変換係数＋現ズレ補正条件、の計
算式で行い、ステップ４６（Ｓ４６）において新ズレ補
正量の移動平均値＝次ロット作業条件とし、ステップ４
７（Ｓ４７）において新ズレ補正量が補正限界内かを検
証する。
ズレデータの記憶・演算装置１２でメズレ測定、作業報
告を受信し、ステップ４３（Ｓ４３）において報告ロッ
トと同一の要因の組み合わせで設定算出ロット数・期間
のズレ推移を抽出し、ステップ４４（Ｓ４４）において
測定の異常点を除外し、ステップ４５（Ｓ４５）におい
て抽出ロット毎の新ズレ量計算を、新ズレ量＝（成分ベ
クトル値−設計値）×変換係数＋現ズレ補正条件、の計
算式で行い、ステップ４６（Ｓ４６）において新ズレ補
正量の移動平均値＝次ロット作業条件とし、ステップ４
７（Ｓ４７）において新ズレ補正量が補正限界内かを検
証する。
【００２８】そして、ステップ４８（Ｓ４８）の判定に
おいてこの判定が補正限界内（ＯＫ）の場合は、ステッ
プ４９（Ｓ４９）において最新ズレ補正条件を更新し、
補正限界外（ＮＧ）の場合は、ステップ５０（Ｓ５０）
において条件の更新をせずにアラームを発生する。
おいてこの判定が補正限界内（ＯＫ）の場合は、ステッ
プ４９（Ｓ４９）において最新ズレ補正条件を更新し、
補正限界外（ＮＧ）の場合は、ステップ５０（Ｓ５０）
において条件の更新をせずにアラームを発生する。
【００２９】このように自動ズレ補正記憶・演算装置に
送られたデータは、ズレ要因の組み合わせ毎に変動推移
を抽出し、異常点を除外した後、適切な算出ロット数に
て、分解可能なズレ成分ベクトル毎に移動平均を取り補
正値を算出する。
送られたデータは、ズレ要因の組み合わせ毎に変動推移
を抽出し、異常点を除外した後、適切な算出ロット数に
て、分解可能なズレ成分ベクトル毎に移動平均を取り補
正値を算出する。
【００３０】ズレ要因の組み合わせの層別単位として、
露光装置作業履歴、使用レチクル履歴を有し、分解する
ズレ成分として図４に示す線形６成分に代表される種々
のズレ成分を用意し、さらにズレ量及び加工データを統
計的管理図手法にて監視する。
露光装置作業履歴、使用レチクル履歴を有し、分解する
ズレ成分として図４に示す線形６成分に代表される種々
のズレ成分を用意し、さらにズレ量及び加工データを統
計的管理図手法にて監視する。
【００３１】また、再工事となったロットに対しては、
該当ロットのズレ検査データで反映し、固有のズレ補正
値を算出して再工事を行う。
該当ロットのズレ検査データで反映し、固有のズレ補正
値を算出して再工事を行う。
【００３２】図４はズレの６成分を示す図である。同図
において、（Ａ）はシフトであり、ウェハー全体のシフ
ト量に関するズレ成分で、原点のズレ量を示す。
において、（Ａ）はシフトであり、ウェハー全体のシフ
ト量に関するズレ成分で、原点のズレ量を示す。
【００３３】（Ｂ）はスケーリングであり、ウェハーの
伸縮量に関するに関するズレ成分で、このズレ量はウェ
ハーの中心からの距離に応じた値となる。
伸縮量に関するに関するズレ成分で、このズレ量はウェ
ハーの中心からの距離に応じた値となる。
【００３４】（Ｃ）はウェハーローテーションであり、
ウェハーの回転量に関するズレ成分である。
ウェハーの回転量に関するズレ成分である。
【００３５】（Ｄ）はオーソゴナリテイであり、ウェハ
ー座標軸の直交度に関するズレ成分で、一方の座標軸に
対する他方軸のズレ角度を示す。
ー座標軸の直交度に関するズレ成分で、一方の座標軸に
対する他方軸のズレ角度を示す。
【００３６】（Ｅ）はショットローテーションであり、
ショット単位の、回転量に関するズレ成分である。
ショット単位の、回転量に関するズレ成分である。
【００３７】（Ｆ）はショットリダクションであり、シ
ョット単位の伸縮量に関するズレ成分である。
ョット単位の伸縮量に関するズレ成分である。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、安
定した確度の高いズレ補正条件を常時自動で設定するこ
とが可能となり、目合わせ工程の品質及び生産性を改善
することができる。
定した確度の高いズレ補正条件を常時自動で設定するこ
とが可能となり、目合わせ工程の品質及び生産性を改善
することができる。
【００３９】すなわち従来技術ではディストーションを
倍率（ショットリダクショウン）でしか補正することが
できないのに対して、本発明では倍率成分に止まらず実
施の形態に示した他のズレ成分をも補正することが可能
であり、さらに過去のズレデータから単純に補正量を算
出するのではなく、露光装置の作業履歴や使用するレチ
クルの使用履歴に応じた補正値を層別して統計処理をす
ることで、より安定した確度の高い補正値を得ることが
できる。
倍率（ショットリダクショウン）でしか補正することが
できないのに対して、本発明では倍率成分に止まらず実
施の形態に示した他のズレ成分をも補正することが可能
であり、さらに過去のズレデータから単純に補正量を算
出するのではなく、露光装置の作業履歴や使用するレチ
クルの使用履歴に応じた補正値を層別して統計処理をす
ることで、より安定した確度の高い補正値を得ることが
できる。
【００４０】また、ズレ量や加工データは統計的管理図
手法を用いて監視することで、製造ライン全体の目合わ
せ特性の管理・設備の予防保全をも可能にする。
手法を用いて監視することで、製造ライン全体の目合わ
せ特性の管理・設備の予防保全をも可能にする。
【００４１】さらに、何らかのロット固有の突発的変動
に対しても、メズレ再工事時にロット固有の補正値を設
定することで対応を可能にしている。
に対しても、メズレ再工事時にロット固有の補正値を設
定することで対応を可能にしている。
【図１】本発明の実施の形態の目合わせ露光装置システ
ムを示す図である。
ムを示す図である。
【図２】本発明の実施の形態における目合わせ作業の処
理を示すフローチャートである。
理を示すフローチャートである。
【図３】本発明の実施の形態におけるズレ補正値の算出
方法を示すフローチャートである。
方法を示すフローチャートである。
【図４】本発明の実施の形態におけるズレの６成分を示
す図である。
す図である。
１ レチクル ２ 位置計測光学系 ３ レンズ ４ ウェハー ５ ウェハーステージ ６ ステージ制御部 ７ レチクルステージ １０ 露光装置 １１ メズレ計測装置 １２ データベース／演算装置 １３ ホストコンピュータ １４ 回線（情報通信手段） Ｓ２１〜Ｓ３２ 目合わせ作業の処理を示すフローチ
ャートにおける各ステップ Ｓ４１〜Ｓ５０ ズレ補正値の算出方法を示すフロー
チャートにおける各ステップ
ャートにおける各ステップ Ｓ４１〜Ｓ５０ ズレ補正値の算出方法を示すフロー
チャートにおける各ステップ
Claims (8)
- 【請求項１】 ＩＣや液晶の製造工程中、フォトリソグ
ラフィー工程に用いる目合わせ露光装置システムにおい
て、過去のズレデータを、ズレ成分、使用号機履歴、マ
スク使用履歴に分解し、統計処理後、補正データとして
使う記憶・演算・通信手段を有することを特徴とする目
合わせ露光装置システム。 - 【請求項２】 前記マスクはレチクルであり、前記目合
わせ露光装置システムは縮小投影露光装置のシステムで
あることを特徴とする請求項１記載の目合わせ露光装置
システム。 - 【請求項３】 前記ズレ成分は、シフト、スケーリン
グ、ウェハーローテーション、オーソゴナリテイ、ショ
ットローテーション及びショットリダクションであるこ
とを特徴とする請求項１記載の目合わせ露光装置システ
ム。 - 【請求項４】 前記記憶・演算・通信手段は、データベ
ース演算装置及びホストコンピュータ並びに前記データ
ベース演算装置と前記ホストコンピュータ間及び前記ホ
ストコンピュータと露光装置間の回線を具備して構成さ
れていることを特徴とする請求項１記載の目合わせ露光
装置システム。 - 【請求項５】 ＩＣや液晶の製造工程中、フォトリソグ
ラフィー工程に用いる目合わせ露光方法において、過去
のズレデータを、ズレ成分、使用号機履歴、同一のマス
クを使用するウェハーロットに分解し、統計処理後、補
正データとして使うことを特徴とする目合わせ露光方
法。目合わせ露光装置システム。 - 【請求項６】 前記マスクはレチクルであり、前記目合
わせ露光方法は縮小投影露光方法であることを特徴とす
る請求項５記載の目合わせ露光方法。 - 【請求項７】 前記ズレ成分は、シフト、スケーリン
グ、ウェハーローテーション、オーソゴナリテイ、ショ
ットローテーション及びショットリダクションであるこ
とを特徴とする請求項５記載の目合わせ露光方法。 - 【請求項８】 あるロットに属するウェハーに対する露
光処理によるズレ補正量が補正限度内の場合、このズレ
補正量を過去のズレデータとして補正条件を更新し、こ
れによる補正データをその後に当該装置に送り込まれた
他のロットに属するウェハーに対する露光処理に用いる
ことを特徴とする請求項５記載の目合わせ露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11174902A JP2001006997A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 目合わせ露光装置システム及び目合わせ露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11174902A JP2001006997A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 目合わせ露光装置システム及び目合わせ露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001006997A true JP2001006997A (ja) | 2001-01-12 |
Family
ID=15986701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11174902A Pending JP2001006997A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 目合わせ露光装置システム及び目合わせ露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001006997A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003037049A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Canon Inc | 露光装置の精度分析方法 |
| JP2003124110A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-04-25 | Samsung Electronics Co Ltd | 工程装置の制御方法 |
| US7194328B1 (en) * | 2006-04-04 | 2007-03-20 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for tracking reticle history |
| CN100390667C (zh) * | 2003-12-09 | 2008-05-28 | 茂德科技股份有限公司 | 多样化产品的照相制作过程误差校正方法 |
| KR100911910B1 (ko) * | 2006-05-22 | 2009-08-13 | 쟈오 카이하오 | 삼원모형을 기초로 하는 정보 검색 처리방법 |
| US8050793B1 (en) | 2006-04-04 | 2011-11-01 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for linking reticle manufacturing data |
-
1999
- 1999-06-22 JP JP11174902A patent/JP2001006997A/ja active Pending
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