JP2000511905A - ７―デオキシ―６―置換パクリタクセル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は新規パクリタクセル誘導体、抗腫瘍剤としてのその利用及び製薬調合物に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 ７−デオキシ−６−置換パクリタクセル 〔技術分野〕 本発明は抗腫瘍性化合物に関する。さらに詳しくは、本発明によれば、新規な パクリタクセル（ｐａｃｌｉｔａｘｅｌ）誘導体、その医薬組成物および抗腫瘍 剤としてのその使用が提供される。 〔背景技術〕 タクソール（Ｔａｘｏｌ：登録商標）は太平洋沿岸産いちいの木、Ｔａｘｕｓ ｂｒｅｖｉｆｏｌｉａ 、の樹脂から抽出される天然物である。このものはイン ・ビボ動物モデルですぐれた抗腫瘍活性を有することが示され、また近年の研究 によりその独特の作用機序が解明され、それはチューブリンの異常重合および有 糸分裂の中断に係るものである。このものは難治性重症卵巣ガンおよび乳ガンの 治療に承認されていて、そしてその他のガンに係る研究から有望な結果を示して いる。パクリタクセル臨床研究の結果が多くの研究者によって検討されている。 例えば、「Ｔｈｅ Ｃｌｉｎｉｃａｌ Ｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ｕ ｓｅ ｏｆ Ａｎｔｉｍｉｃｒｏｔｕｂｕｌｅ Ａｇｅｎｔｓ ｉｎ Ｃａｎｃ ｅｒ Ｃｈｅｍｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ」，Ｐｈａｒｍａｃ．Ｔｈｅｒ．５ ２：３５−８４，１９９１，ＳｐｅｎｃｅｒおよびＤｏｎｅｈｏｗｅｒ；「Ｐａ ｃｌｉｔａｘｅｌ，Ａ Ｒｅｖｉｅｗ ｏｆ ｉｔｓ Ｐｈａｒｍａｃｏｄｙｎ ａｍｉｃ ａｎｄ Ｐｈａｒｍａｃｏｋｉｎｅｔｉｃ Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓａ ｎｄ Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ Ｐｏｔｅｎｔｉａリ ｉｎ ｔｈｅ Ｔｒｅａ ｔｍｅｎｔ ｏｆ Ｃａｎｃｅｒ」，Ｄｒｕｇｓ，４８，（５），７９４−８４ ７，１９９４，ＳｐｅｎｃｅｒおよびＦａｕｌｄｓ；「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａ ｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｔａｘｏｌ」，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ． Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．，３３：１５−４４，１９９４，Ｋ．Ｃ．Ｎｉｃｏｌａｏｕ等 ；Ｇｕｎｄａ Ｉ．Ｇｅｏｒｇ，Ｔｈｏｍａｓ Ｔ．Ｃｈｅｎ．Ｉｗａｏ Ｏｊ ｉｍａおよびＤｏｌｏｔｒａｉ Ｍ．Ｖｙａｓ編書「Ｔａｘａｎｅ Ａｎｔｉ ｃａｎｃｅｒ Ａｇｅｎｔｓ Ｂａｓｉｃ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｃｕｒｒ ｅｎｔ Ｓｔａｔｕｓ」中Ｆ．Ａ．Ｈｏｌｍｅｓ，Ａ．Ｋ．Ｋｕｄｅｌｋａ，Ｊ ．Ｊ．Ｋａｖａｎａｕｇｈ，Ｍ．Ｈ．Ｈｕｂｅｒ，Ｊ．Ａ．Ａｊａｎｉ，Ｖ．Ｖ ａｌｅｒｏ，１９９５，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ，Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ，ＤＣ，３１−５７；Ｍａｔｈｅｗ Ｓｕｆｆｎｅｓｓ 編 ９５，ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ Ｉｎｃ．，Ｂｏｃａ Ｒａｔｏｎ，Ｆｌｏｒｉｄａ ，３７６−４１６，Ｓｕｓａｎ Ｇ．ＡｒｂｕｃｋおよびＢａｒｂａｒａ Ｂｌ ａｙｌｏｃｋ；およびこれらの中で引用されている参考文献。 Ｔａｘｏｔｅｒｅ（登録商標）と称されるパクリタクセルの半合成類似体（ド セタクセル）も良好な抗腫瘍活性を有することが見い出されている。パクリタク セルおよびＴａｘｏｔｅｒｅ（登録商標）の構造をそのクラスに属する分子につ いての通常の番号付けシステムによって以下に示し；そしてこの番号付けシステ ムは本発明にも使用する。 〔発明の開示〕 本発明は式（Ｉ）で表わされる新規な抗腫瘍性化合物またはその製造上許容し 得る塩に関する。式中、Ｒは水素、Ｃ_1-6アルキル、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_2-6アルキニル、Ｃ_3-6シ クロアルキル、Ｃ_3-6シクロアルケニル、ヘテロ原子１個または２個を含有する 環状３−７員環、ヘテロアリールまたは−Ｚ¹−Ｒ³であり； Ｚ¹は直接結合、Ｃ_1-6アルキルまたは−Ｏ−Ｃ_1-6アルキルであり； Ｒ³はアリール、置換アリール、Ｃ_3-6シクロアルキル、Ｃ_3-6シクロアルケニル 、ヘテロ原子１個または２個を含有する環状３−７員環またはヘテロアリールで あり； Ｒ^AおよびＲ^Bは独立して水素、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＲ、−ＮＨ Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）₂、−ＮＨＳ（Ｏ）_mＲ、−ＮＨＰ（＝ Ｏ）（ＯＲ）₂、−ＮＨＰ＝Ｓ（ＯＲ）₂、（ここでｍは１または２である）であ り； Ｒ^CおよびＲ^Dは独立して水素、ヒドロキシ、フルオロ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−Ｏ Ｃ（Ｏ）ＯＲ^x、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ ＯＣＨ₂ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇（ここでｎは０−３である）、−Ｏ ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ＨＣＯＯ^-、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（Ｃ Ｈ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G、（ここでｎは０−３である ）、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ（Ｒ”）ＮＨ₂、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ＯＨまたは−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ （Ｏ）−Ｒ’であり； Ｚはエチレン（−ＣＨ₂−ＣＨ₂−）、プロピレン（−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−）、− ＣＨ＝ＣＨ−、１，２−シクロヘキサンまたは１，２−フェニレンであり； Ｒ’は−ＯＨ、−ＯＨ塩基、−ＮＲ’₂Ｒ’₃、−ＯＲ’₃、−ＳＲ’₃、−ＯＣＨ₂ Ｃ（Ｏ）ＮＲ’₄Ｒ’₅であり； Ｒ’₂は−Ｈまたは−ＣＨ₃であり； Ｒ’₃は−（ＣＨ₂）_nＮＲ’₆Ｒ’₇または（ＣＨ₂）_nＮ⁺Ｒ’₆Ｒ’₇Ｒ’₈Ｘ^-であ り（ここでｎは１−３である）； Ｒ’₄は−Ｈまたは−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルであり； Ｒ’₅は−Ｈ、−Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、ベンジル、ヒドロキシエチル、−ＣＨ₂ＣＯ₂ Ｈまたはジメチルアミノエチルであり； Ｒ’₆およびＲ’₇は独立して−Ｈ、−ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ₃、ベンジルであるか 、またはＲ’₆およびＲ’₇はＮＲ’₆Ｒ’₇の窒素と一緒になってピロリジノ、ピ ペリジノ、モルホリノまたはＮ−メチルピペリジノ基を形成し； Ｒ’₈は−ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ₃またはベンジルであり； Ｘ^-はハライドであり； 塩基はＮＨ₃、（ＨＯＣ₂Ｈ₄）₃Ｎ、Ｎ（ＣＨ₃）₃、ＣＨ₃Ｎ（Ｃ₂Ｈ₄）₂ＮＨ、Ｎ Ｈ₂（ＣＨ₂）₆ＮＨ₂、Ｎ−メチルグルカミン、ＮａＯＨまたはＫＯＨであり； Ｒ^FおよびＲ^Gは独立して−Ｈまたは−Ｃ₁−Ｃ₃アルキルであり、またはＲ^Fおよ びＲ^GはＮＲ^FＲ^Gの窒素と一緒になってピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノま たはＮ−メチルピペリジノ基を形成し； Ｒ”は−Ｈ、−ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）₂、−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＣＨ₃、 −ＣＨ（ＣＨ₃）₂、−ＣＨ₂フェニル、−（ＣＨ₂）₃ＮＨ₂、−（ＣＨ₂）₄ＮＨ₂ 、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−（ＣＨ₂）₃ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ₂、アミノ酸プロ リン残基、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ₂ ＣＨ₂ＳＯ₃−Ｙ＋または−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ ＳＯ₃−Ｙ＋であり； Ｙ＋はＮａ＋またはＮ＋（Ｂｕ）₄であり； Ｒ²はＲ^x、Ｒ^yまたはＲ^y’であり； Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_2-6アルキニル、Ｃ_3-6シクロアルキ ル、Ｃ_3-6シクロアルケニル、Ｃ_3-6ヘテロアリール、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、− Ｏ−Ｃ_2-6アルケニル、−Ｏ−Ｃ_2-6アルキニル、−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨＯＣ Ｈ₂（オキシラン）、または−Ｓ−Ｃ_1-6アルキルであり；ＬはＯまたはＳであり ； Ｒ⁶およびＲ⁶'は独立して水素、ヒドロキシ、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣ（Ｏ ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ’₆Ｒ’₇ 、−ＯＣＨ₂ＯＲ、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ＯＲ、−ＯＣＨＲ^xＯＲ、−ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、 −ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂ 、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x 、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ｎは０−３である）、− Ｃ_1-5アルキル、−ＣＨ₂ＯＲ、−ＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−Ｏ Ｃ（Ｒ^x）₂ＳＲ、−ＯＣＨＲ^xＳＲ、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ＨＣＯＯ^-、−Ｏ ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂ ）_nＮＲ^FＲ^G、（ｎは０−３である）、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ’また は−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨであり、但しＲ⁶およびＲ⁶ ’は共に水素ではなく、Ｒ⁶およびＲ⁶'は一緒になってオキソ基またはチオカル ボニル基を形成していてもよく、またはＲ⁶およびＲ⁶'は一緒になって式−Ｃ＝ Ｎ−Ｒ、−Ｃ＝Ｎ−ＯＲまたは−Ｃ＝Ｎ−ＮＨＲまたは−Ｃ＝Ｎ−ＮＲ₆’Ｒ’₇ の炭素−窒素二重結合を形成していてもよく、ここでＲは先の定義のとおりであ り、但し水素ではない； Ｒ⁷'は水素であり；Ｒ⁷は水素またはＲ¹⁹と一緒になってシクロプロパン環を形 成していてもよく； Ｒ⁹およびＲ⁹'は独立して水素、ヒドロキシであるか、または一緒になってオキ ソ（ケト）基を形成し； Ｒ¹⁰およびＲ¹⁰’は独立して水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（ Ｏ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃ 、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ ）ＮＲ’₆Ｒ’₇、Ｃ_1-6アルキル、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）Ｒ^x、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（ Ｏ）ＯＲ^x、−（ＣＨ₂）₃ＣＮ、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ） （ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣ Ｈ₂ＮＨＲ^x、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ｎは０−３で ある）、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ⁺ＨＣＯＯ^-、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、− ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ’、−ＯＣ（Ｏ） （ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G（ｎは０−３である）、または−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（ Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨであり； Ｒ¹⁴は水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6 アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、− ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂Ｏ Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯ （Ｃ＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＨＲ^xまたは−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇ （ｎは０−３である）であり； Ｒ¹⁹はメチル、ヒドロキシメチルであるか、またはＲ¹⁹およびＲ⁷は一緒になっ てシクロプロパン環を形成していてもよく、但しこれらの置換分がシクロプロパ ン環であるときはＲ⁷’は水素であり； Ｒ^xはＣ_1-6アルキル、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_3-6シクロアルキ ルであり、これらの基のいずれは場合によっては同一または異なったハロゲン原 子１〜６個で置換されていてもよく； Ｒ^yは式 （式中、Ｗは結合であり、そしてＲ^m、ＲⁿおよびＲ^oは独立して水素、ニトロ、 シアノ、アジド、アミノ、Ｃ_1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ、ハ ロゲン、Ｃ_1-6アルキル、ヒドロキシまたはＣ_1-6アルコキシである）を有する基 であり；そして Ｒ^y’は式 （式中、ＷはＣ_1-6アルキルまたは−Ｏ−Ｃ_1-6アルキルであり、そしてＲ^m、Ｒⁿ およびＲ^oは独立して水素、ニトロ、シアノ、アジド、アミノ、Ｃ_1-6アルキルア ミノ、ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ、ハロゲン、Ｃ_1-6アルキル、ヒドロキシまたは Ｃ_1-6アルコキシである）を有する基である。 本発明の別の特徴によれば、哺乳動物宿主に式（Ｉ）の化合物の抗腫瘍に有効 な量を投与することを特徴とする哺乳動物での腫瘍を抑制する方法が提供される 。 さらに、本発明の他の特徴によれば、製薬上許容し得る担体、賦形剤、希釈剤 または補助剤の一種または二種以上を組み合わされた式（Ｉ）の化合物の抗腫瘍 に有効な量を包含することを特徴とする医薬組成物が提供される。 本願において、他に明確な定めのない限り、または文脈内において、次の定義 を適用する。記号「Ｃ」の後の下に記載した数字は特別な基が含有し得る炭素原 子の数を定義している。例えば、「Ｃ_1-6アルキル」は１〜６個の炭素原子を有 する直鎖または有枝鎖飽和炭素鎖を意味し；例にはメチル、エチル、ｎ−プロピ ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ −ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、イソペンチルおよびｎ−ヘキシルが包含される 。文脈に基づいて、「Ｃ_1-6アルキル」は二個の基に架橋しているＣ_1-6アルキレ ンにも引用され；例にはプロパン−１，３−ジイル、ブタン−１，４−ジイル、 ２−メチルーブタン−１，４−ジイル等が包含される。「Ｃ_2-6アルキレン」は 少なくとも一個の炭素−炭素二重結合を有し、かつ２〜６個の炭素原子を有する 直鎖または有枝鎖炭素鎖を意味し；例にはエテニル、プロペニル、イソプロペニ ル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニルおよびヘキセニルが包含される。文脈 を基にして、「Ｃ_2-6アルケニル」は二個の基に架橋しているＣ_2-6アルケンジイ ルにも引用され；例にはエチレン−１，２−ジイル（ビニレン）、２−メチル− ２−ブテン−１，４−ジイル、２−ヘキセン−１，６−ジイル等が包含される。 「Ｃ_2-6アルキニル」は少なくとも一個の炭素−炭素二重結合を有し、かつ２〜 ６個の炭素原子を有する直鎖または有枝鎖炭素鎖を意味し；例にはエチニル、プ ロピニル、ブチルおよびヘキシニルが包含される。 「アリール」は６〜１０個の炭素原子を有する芳香族炭化水素を意味し；例に はフェニルおよびナフチルが包含される。「置換アリール」は、Ｃ_1-6アルカノ イルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、Ｃ_1-6アルキル、トリフルオロメチル、Ｃ_{1 -6} アルコキシ、アリール、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_1-6アルカノイル、ニトロ、アミ ノ、シアノ、アジド、Ｃ_1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ、および アミドから選択される基１〜５個（好ましくは、１〜３個）で独立して置換され ているアリールを意味する。「ハロゲン」はフッ素、塩素、臭素およびヨウ素を 意味する。 「ヘテロアリール」は酸素、硫黄および窒素から選択される少なくとも１個で 、４個までの非炭素原子を含有する５−または６員環の芳香族環を意味する。ヘ テロアリールの例には、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリ ル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾ リル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、チアトリアゾリル、 オキサトリアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリ アジニル、テトラジニル、および類似の環が包含される。 「ヒドロキシ保護基」には、限定されるものではないが、エーテル例えばメチ ル、ｔ−ブチル、ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ−ニトロベンジル、アリ ル、トリチル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、エトキシエチル、テ トラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、ジアルキルシリルエーテル例 えばジメチルシリルエーテルおよびトリアルキシシリル例えばトリメチルシリル エーテル、トリエチルシリルエーテルおよびｔ−ブチルジメチルシリル；エステ ル例えばベンゾイル、アセチル、フェニルアセチル、ホルミル、モノ−、ジ−お よびトリハロアセチル例えばクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロア セチル、トリフルオロアセチル；およびカーボネート例えばメチル、エチル、２ ，２，２−トリクロロエチル、アリル、ベンジルおよびｐ−ニトロフェニルが包 含される。ヒドロキシ保護基のそれ以上の例は、標準的な参考書例えばＧｒｅｅ ｎｅおよびＷｕｔｓ，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎ ｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、第２版、１９９１年、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，ａｎｄ ＭｃＯｍｉｅ；およびＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、１９７５年、Ｐｌｅｎｕｍ Ｐ ｒｅｓｓ．にみられる。 「Ｐｈ」はフェニルを意味し；「ｉｐｒ」はイソプロピルを意味し；「ＤＡＳ Ｔ」はジエチルアミノ硫黄トリフルオライドを意味する。 本文に記載の置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールおよびヘテロ アリール基および部分の置換分はアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール 、ヘテロアリールであってよく、そして（または）窒素、酸素、硫黄、ハロゲン を含有していてもよく、そして例えば低級アルコキシ例えばメトキシ、エトキシ 、ブトキシ、ハロゲン例えばクロロまたはフルオロ、ニトロ、アミノおよびケト を包含している。 用語「タクサン」（ｔａｘａｎｅ）または「タクサンコア」（ｔａｘａｎｅｃ ｏｒｅ）は次の構造骨格を有する部分を言う： 式（Ｉ）のＲ⁷およびＲ¹⁹から構成され得るシクロプロパン基はあるいはまた Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、１９９４、３５巻、４３号、７８９ ３−７８９６のような「７β、８β−メタノ」基または１９９３年１０月１９日 付与の米国特許第５，２５４，５８０号のような「シクロプロパン」基と称して もよい。 好ましい態様は構造式（II）を有する化合物またはその製薬上許容し得る塩で あり、次の基を有している： Ｒ^A＝−水素、Ｒ^C＝−水素、Ｒ⁹＝Ｒ⁹'＝オキソ（ケトン）、Ｌ＝酸素、Ｒ¹⁰ ’＝−Ｈ、Ｒ¹⁴＝−Ｈ、Ｒ⁷＝Ｒ⁷'＝−Ｈ。 Ｒは２−フラニル（２−フリル）、２−チエニル、３−フラニル（３−フリル） 、３−チエニル、フェニル、ナフチル、４−ヒドロキシフェニル、４−メトキシ フェニル、４−フルオロフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、２−プロ ピニル、ベンジル、フェネチル、フェニルエテニル、３，４−ジメトキシフェニ ル、 ２−（２−フラニル）エテニル、２−メチルプロピル、Ｃ_3-6シクロアルキル、 シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル等を包含する。 Ｒはまたｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソプロピル、２−メチ ル−プロピル、イソブチルを包含するＣ_3-6アルキル、１−（１−プロペニル） 、１−（２−プロペニル）、２−プロペニル、２−（１−ブテニル）、１−（２ −ブテニル）、１−（３−ブテニル）、２−（１−ブテニル）、２−（２−ブテ ニル）、２−（３−ブテニル）、および１−（２−メチル−１−プロペニル）（ イソブテニル）、ｔ−ブチルを包含するＣ_3-6アルケニルまたは−Ｚ¹−Ｒ³を包 含し；Ｚ¹は直接結合であり、Ｒ³はフェニルを包含するアリール、ｐ−フルオロ フェニルおよびｐ−メチルフェニルを包含する置換アリール、シクロプロピル、 シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを包含するＣ_3-6シクロア ルキル、Ｃ_3-6シクロアルケニル、ヘテロ原子１または２個を含有する環状３− ７員環、または例えば２−フリル、３−フリル、２−チエニルまたは３−チエニ ルのようなヘテロアリールである。 Ｒ^Bは−ＮＨＣ（Ｏ）Ｐｈ（または置換フェニル）、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ（Ｃ_1-6ア ルキル）、最も好ましくは−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｔＢｕ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｎＢｕ、 −ＮＨＣ（Ｏ）ＯｉＰｒ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｐｈ、ＮＨＣ（Ｏ）−複素環 （−ＮＨＣ（Ｏ）−２−フリル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＲ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ ）₂を包含する）を包含する。 Ｒ^Dはヒドロキシ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_mＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ ＯＣＨ₂）_mＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇（ここでｍは０−３てある）、−Ｏ Ｃ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｃ（Ｃｌ）₃、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ ＨＣＯＯ^-、ＮＨＣ（Ｏ）フェニル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣ（ＣＨ₃）₃、−ＯＣＯ ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ ）−Ｒ’、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G（ここでｎは０−３である）、また は−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨを包含し； Ｒ²は−フェニルまたは置換フェニル（好ましくは一または二置換）を包含し； Ｒ⁴は最も好ましくはメチルを包含するが、Ｃ_1-4アルキル、Ｃ_3-5シクロアルキ ル、−Ｏ−Ｃ_1-4アルキル、−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、ＣＨＯＣＨ₂（オキシラン）、また は−Ｓ−Ｃ_1-4アルキルであってもよく； Ｒ⁶およびＲ⁶'は独立して水素、ヒドロキシ、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣ（Ｏ ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＲ、最も好ましくは−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、または−ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ＯＲ、−ＯＣＨＲ^xＯＲ、−ＯＣＨ₂ＳＲ最も好 ましくは−ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｒ^x）₂Ｓ Ｒ、−ＯＣＨＲ^xＳＲ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂−Ｏ ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、− （ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｎは０−３である）、 −Ｃ_1-6アルキル、−ＣＨ₂ＯＲ、最も好ましくは−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃または −ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、または−ＣＨ₂ＳＲ最も好ましくは−ＣＨ₂ＳＣＨ₃、 −ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、但し、Ｒ⁶およびＲ⁶'は共に水素ではないか、またはＲ⁶ およびＲ⁶'は一緒になってオキソ基を形成するか、またはＲ⁶およびＲ⁶'は一緒 になって式Ｃ＝Ｎ−Ｒまたは−Ｃ＝Ｎ−ＯＲの炭素−窒素二重結合を形成し； Ｒ¹⁰は水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6 アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、− ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ⁸Ｒ⁹、Ｃ_1-6アル キル、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）Ｒ^x、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）ＯＲ^x、または−（ＣＨ₂ ）₃ＣＮ；最も好ましくはＲ¹⁰は水素、ヒドロキシ、または−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃ であり；そして Ｒ¹⁹は−ＣＨ₃であるか、またはＲ¹⁹およびＲ⁷は一緒になってシクロプロパン環 を形成していてもよく、但しこれらの置換分がシクロプロパン環であるときはＲ⁷ 'は水素である。 別の好ましい態様は、式（III）を有する化合物またはその製薬上許容し得る 塩であり、次の基を有する： Ｒ^A＝−水素、Ｒ^C＝−水素、Ｒ²＝−フェニル、Ｒ⁴＝メチル、Ｒ⁷＝Ｒ⁷'＝− Ｈ、Ｒ⁹＝Ｒ⁹'＝オキソ（ケトン）、Ｌ＝酸素、Ｒ¹⁰’＝−Ｈ、Ｒ¹⁴＝−Ｈ、Ｒ^{1 9} ＝−ＣＨ₃。 この記述は本発明の特定の実験操作を記載するのに用いられるが、本発明に包 含されるその他の化合物は本文に詳述する操作に従わないことを意味するもので はない。構造（Ｉ）での若干の変化し得るものを除いて構造（Ｉ）＝（II）＝（ III）は上述の如く構造（III）の製造に充当される。構造は、上述の置換分は実 施例を明瞭にするために充当されている一般構造（Ｉ）の誘導体であることが企 図されている。簡略化された式（III）に包含されない構造（Ｉ）のその他の一 般的化合物を合成するための簡明な方法は本文に記載され、また当該分野で周知 である。 Ｒは２−フラニル（２−フリル）、２−チエニル、３−フラニル（３−フリル） 、３−チエニル、フェニル、ナフチル、４−ヒドロキシフェニル、４−メトキシ フェニル、４−フルオロフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、２−プロ ピニル、ベンジル、フェネチル、フェニルエテニル、３，４−ジメトキシフェニ ル、２−（２−フラニル）エテニル、２−メチルプロピル、Ｃ^3-6シクロアルキ ル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル等を包含する。 Ｒはまたｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソプロピル、２−メチ ル−プロピル、イソブチルを包含するＣ_3-6アルキル、１−（１−プロペニル） 、１−（２−プロペニル）、２−プロペニル、２−（１−ブテニル）、１−（２ −ブテニル）、１−（３−ブテニル）、２−（１−ブテニル）、２−（２−ブテ ニル）、２−（３−ブテニル）、および１−（２−メチル−１−プロペニル）（ イソブテニル）、ｔ−ブチルを包含するＣ_3-6アルケニルまたは−Ｚ¹−Ｒ³を包 含し；Ｚ¹は直接結合であり、Ｒ³はフェニルを包含するアリール、ｐ−フルオロ フェニルおよびｐ−メチルフェニルを包含する置換アリール、シクロプロピル、 シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを包含するＣ_3-6シクロア ルキル、Ｃ_3-6シクロアルケニル、ヘテロ原子１または２個を含有する環状３− ７員環、または例えば２−フリル、３−フリル、２−チエニルまたは３−チエニ ルのようなヘテロアリールである。 Ｒ^Bは−ＮＨＣ（Ｏ）Ｐｈ（または置換フェニル）、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ（Ｃ_1-6ア ルキル）、最も好ましくは−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｔＢｕ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｎＢｕ、 −ＮＨＣ（Ｏ）ＯｉＰｒ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｐｈ、ＮＨＣ（Ｏ）−複素環 （−ＮＨＣ（Ｏ）−２−フリル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＲ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ ）₂を包含する）を包含する。 Ｒ^Dはヒドロキシ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_mＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ ＯＣＨ₂）_mＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｍは０−３である）、− ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｃ（Ｃｌ）₃、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ ＨＣＯＯ^-、ＮＨＣ（Ｏ）フェニル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣ（ＣＨ₃）₃、−ＯＣＯ ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ ）−Ｒ’、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G、（ここでｎは０−３である）、ま たは−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨを包含し； Ｒ⁶およびＲ⁶'は独立して水素、ヒドロキシ、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣ（Ｏ ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＲ、最も好ましくは−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、 または−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ＯＲ、−ＯＣＨＲ^xＯＲ、− ＯＣＨ₂ＳＲ最も好ましくは−ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、 −ＯＣ（Ｒ^x）₂ＳＲ、−ＯＣＨＲ^xＳＲ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（ Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｎ は０−３である）、−Ｃ_1-6アルキル、−ＣＨ₂ＯＲ、最も好ましくは−ＣＨ₂Ｏ ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ＯＣＨ₃または−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、または−ＣＨ₂ＳＲ最も好ましく は−ＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、但し、Ｒ⁶およびＲ⁶'は共に水素で はないか、またはＲ⁶およびＲ⁶'は一緒になってオキソ基を形成するか、または Ｒ⁶およびＲ⁶'は一緒になって式Ｃ＝Ｎ−Ｒまたは−Ｃ＝Ｎ−ＯＲの炭素一窒素 二重結合を形成し；そして Ｒ¹⁰は水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6 アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、− ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ’₆Ｒ’₇で ある。 最も好ましくは、Ｒ¹⁰は水素、ヒドロキシまたは−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃である。ま たは−Ｚ¹−Ｒ³を包含し；Ｚ¹は直接結合であり、Ｒ³はフェニルを包含するアリ ール、ｐ−フルオロフェニルおよびｐ−メチルフェニルを包含する置換アリール 、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを包含 するＣ_3-6シクロアルキル、Ｃ_3-6シクロアルケニル、ヘテロ原子１または２個を 含有する環状３−７員環、または例えば２−フリル、３−フリル、２−チエニル または３−チエニルのようなヘテロアリールである。 Ｒ^Bは−ＮＨＣ（Ｏ）Ｐｈ（または置換フェニル）、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ（Ｃ_1-6ア ルキル）、最も好ましくは−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｔＢｕ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｎＢｕ、 −ＮＨＣ（Ｏ）ＯｉＰｒ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｐｈ、ＮＨＣ（Ｏ）−複素環 （−ＮＨＣ（Ｏ）−２−フリル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＲ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（ Ｒ）₂を包含する）を包含する。 Ｒ^Dはヒドロキシ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_mＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ ＯＣＨ₂）_mＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｍは０−３である）、− ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｃ（Ｃｌ）₃、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ ＨＣＯＯ^-、ＮＨＣ（Ｏ）フェニル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣ（ＣＨ₃）₃、−ＯＣＯ ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ ）−Ｒ’、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G、（ここでｎは０−３である）、ま たは−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨを包含し； Ｒ²は−フェニルまたは置換フェニル（好ましくは一または二置換）を包含し； Ｒ⁴は最も好ましくはメチルを包含するが、Ｃ_1-4アルキル、Ｃ_3-5シクロアルキ ル、−Ｏ−Ｃ_1-4アルキル、−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、ＣＨＯＣＨ₂（オキシラン）、また は−Ｓ−Ｃ_1-4アルキルであってもよく； Ｒ⁶およびＲ⁶'は独立して水素、ヒドロキシ、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣ（Ｏ ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＲ、最も好ましくは−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、または−ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ＯＲ、−ＯＣＨＲ^xＯＲ、−ＯＣＨ₂ＳＲ最も好 ましくは−ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｒ^x）₂Ｓ Ｒ、−ＯＣＨＲ^xＳＲ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、− ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、 −（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｎは０−３である） 、−Ｃ_1-6アルキル、−ＣＨ₂ＯＲ、最も好ましくは−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃また は−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、または−ＣＨ₂ＳＲ最も好ましくは−ＣＨ₂ＳＣＨ₃ 、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃である、但し、Ｒ⁶およびＲ⁶'は共に水素ではく、また Ｒ⁶およびＲ⁶'は一緒になってオキソ基を形成していてもよく、またＲ⁶およびＲ⁶ 'は 一緒になって式Ｃ＝Ｎ−Ｒまたは−Ｃ＝Ｎ−ＯＲの炭素−窒素二重結合を形成し ていてもよい； Ｒ¹⁰は水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、Ｏ−Ｃ_1-6ア ルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣ Ｈ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ3、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−Ｏ ＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ⁸Ｒ⁹、Ｃ_1-6アルキ ル、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）Ｒ^x、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）ＯＲ^x、または−（ＣＨ₂ ）₃ＣＮ；最も好ましくはＲ¹⁰は水素、ヒドロキシ、または−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃で あり；そして Ｒ¹⁹は−ＣＨ₃であるか、またはＲ¹⁹およびＲ⁷は一緒になってシクロプロパン環 を形成していてもよく、但しこれらの置換分がシクロプロパン環であるときはＲ⁷ 'は水素である。 別の好ましい態様は、式（III）を有する化合物またはその製薬上許容し得る 塩であり、次の基を有する： Ｒ^A＝−水素、Ｒ^C＝−水素、Ｒ²＝−フェニル、Ｒ⁴＝メチル、Ｒ⁷＝Ｒ⁷'＝− Ｈ、Ｒ⁹＝Ｒ⁹'＝オキソ（ケトン）、Ｌ＝酸素、Ｒ¹⁰’＝−Ｈ、Ｒ¹⁴＝−Ｈ、Ｒ^{1 9} ＝−ＣＨ₃。 この記述は本発明の特定の実験操作を記載するのに用いられるが、本発明に包 含されるその他の化合物は本文に詳述する操作に従わないことを意味するもので はない。構造（Ｉ）での若干の変化し得るものを除いて構造（Ｉ）＝（II）＝（ III）は上述の如く構造（III）の製造に充当される。構造は、上述の置換分は実 施例を明瞭にするために充当されている一般構造（Ｉ）の誘導体であることが企 図されている。簡略化された式（III）に包含されない構造（Ｉ）のその他の一 般的化合物を合成するための簡明な方法は本文に記載され、また当該分野で周知 である。 Ｒは２−フラニル（２−フリル）、２−チエニル、３−フラニル（３−フリル） 、３−チエニル、フェニル、ナフチル、４−ヒドロキシフェニル、４−メトキシ フェニル、４−フルオロフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、２−プロ ピニル、ベンジル、フェネチル、フェニルエテニル、３，４−ジメトキシフェニ ル、２−（２−フラニル）エテニル、２−メチルプロピル、Ｃ_3-6シクロアルキ ル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル等を包含する。 Ｒはまたｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソプロピル、２−メチ ループロピル、イソブチルを包含するＣ_3-6アルキル、１−（１−プロペニル） 、１−（２−プロペニル）、２−プロペニル、２−（１−ブテニル）、１−（２ −ブテニル）、１−（３−ブテニル）、２−（１−ブテニル）、２−（２−ブテ ニル）、２−（３−ブテニル）、および１−（２−メチル−１−プロペニル）（ イソブテニル）、ｔ−ブチルを包含するＣ_3-6アルケニルまたは−Ｚ¹−Ｒ³を包 含し；Ｚ¹は直接結合であり、Ｒ³はフェニルを包含するアリール、ｐ−フルオロ フェニルおよびｐ−メチルフェニルを包含する置換アリール、シクロプロピル、 シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを包含するＣ_3-6シクロア ルキル、Ｃ_3-6シクロアルケニル、ヘテロ原子１または２個を含有する環状３− ７員環、または例えば２−フリル、３−フリル、２−チエニルまたは３−チエニ ルのようなヘテロアリールである。 Ｒ^Bは−ＮＨＣ（Ｏ）Ｐｈ（または置換フェニル）、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ（Ｃ_1-6 アルキル）、最も好ましくは−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｔＢｕ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｎＢｕ 、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｉＰｒ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｐｈ、ＮＨＣ（Ｏ）−複素 環（−ＮＨＣ（Ｏ）−２−フリル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨＲ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（ Ｒ）₂を包含する）を包含する。 Ｒ^Dはヒドロキシ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_mＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ ＯＣＨ₂）_mＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｍは０−３である）、− ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｃ（Ｃｌ）₃、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ ＨＣＯＯ^-、ＮＨＣ（Ｏ）フェニル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣ（ＣＨ₃）₃、−ＯＣＯ ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ ）−Ｒ’、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G、（ここでｎは０−３である）、ま たは−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨを包含し； Ｒ₆およびＲ⁶'は独立して水素、ヒドロキシ、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣ（Ｏ ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＲ、最も好ましくは−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、または−ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ＯＲ、−ＯＣＨＲ^xＯＲ、−ＯＣＨ₂ＳＲ最も好 ましくは−ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｒ^x）₃Ｓ Ｒ、−ＯＣＨＲ^xＳＲ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、− ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、 −（ＯＣＨ２）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｎは０−３である） 、−Ｃ_1-6アルキル、−ＣＨ₂ＯＲ、最も好ましくは−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃また は−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、または−ＣＨ₂ＳＲ最も好ましくは−ＣＨ₂ＳＣＨ₃ 、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ³、但し、Ｒ⁶およびＲ⁶'は共に水素ではないか、または Ｒ⁶およびＲ⁶'は一緒になってオキソ基を形成するか、またはＲ⁶およびＲ⁶'は一 緒になって式Ｃ＝Ｎ−Ｒまたは−Ｃ＝Ｎ−ＯＲの炭素−窒素二重結合を形成し； そし て Ｒ¹⁰は水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6 アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、− ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ’₆Ｒ’₇で ある。 最も好ましくは、Ｒ¹⁰は水素、ヒドロキシまたは−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃である。 一般式（Ｉ）、（II）および（III）を有する新規生成物は異常な細胞増殖に ついて顕著な阻害効果を奏し、そして異常な細胞増殖に関連する病的状態を有す る患者の治療を可能とする治療特性を有している。病的状態には、限定的ではな く、筋肉、骨および（または）結合組織；皮膚、脳、肺および性器；リンパおよ び腎系；乳房細胞および（または）血液細胞；肝臓、消化系および膵臓；および 甲状腺および（または）副腎を包含する種々の組織および（または）器官での悪 性または非悪性細胞での異常細胞増殖が包含される。これらの病的状態には、乾 癬；固形がん；卵巣、胸部、脳、前立腺、結腸、胃、腎臓および睾丸のがん、カ ポジ肉腫；肝管がん；繊毛がん；神経芽腫；ヴィルムス腫；ホジキン病；メラノ ーマ；多発性骨髄腫；慢性白血病；および急性または慢性顆粒球リンパ腫が包含 される。本発明による新規な生成物は非ホジキンリンパ腫、多発性骨髄腫、メラ ノーマおよび卵巣、尿路系、食道、肺および乳房がんの治療に特に有用である。 本発明の生成物は発症または再発を予防または遅延させるか、またはこれらの病 的状態を治療するのに使用することができる。さらに、式（Ｉ）の化合物は腎多 のう胞病（ＰＫＤ）および関節リウマチの治療および（または）予防にも有用て ある。 本発明の化合物は通常の有機化学レパートリからの技術により製造することが できる。式（Ｉ）の範囲内の化合物を製造し得る方法を説明している反応式Ｉ〜 XIIは例示のためにのみ掲げるものであり、いずれの他の方法により化合物を製 造する方法を限定しているものと解すべきではない。 以下の操作では、Ｃ−６に置換分を含有し、Ｃ−７で脱酸素化され、そして意 外にも予期されない制がん作用を有するタクサン類似体の製造に利用し得る方法 を説明する。これらは、パクリタクセルの６−α−ヒドロキシ類似体（Ｃ−７で ヒドロキシ基を有する）がパクリタクセルの既知のヒトの代謝物であり、親化合 物よりも細胞毒性が一層低いことが見い出され、それ故有効性がより一層低い可 能性がある事実に照らしたものである。Ｊ．Ｗ．Ｈａｒｒｉｓ等、Ｊ．Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ．，１９９４，３７，７０６−７０９；Ａ．Ｒａｈｍａｎ等、Ｃａｎｃ ｅｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ １９９４，５４，５５４３−５５４６；Ｇ．Ｋｕｍａ ｒ等、Ｃａｎｃｅｒ．Ｃｈｅｍｏｔｈｅｒ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．１９９５，３ ６，１２９−１３５。 β−配位でＣ−６にアルコールを有するタクサン類似体の合成および意外に増 強された特性はこれまでは開示されていなかった。 本発明の化合物（Ｉ）は７−デオキシ−６−酸素化または６−置換タクサン類 似体である。企図されている類似体はいずれも先に報告した６α，７α−ジオー ル中間体（４）（反応式Ｉ）または適宜置換された類似体から製造することがで きる。このジオール中間体の製造は反応式Ｉに示す。 反応式Ｉに示されているように、出発物質はＣ−７の最も反応性のヒドロキシ 基の脱離を適当に保護したタクサン類似体である。反応式Ｉの化合物（１）は側 鎖の２’ヒドロキシ基で保護されている。実際に記載されている化合物（１）の 二種の例は２’−位でシリル保護基を用いているが、その他の保護基も使用し得 る。中間体（１）の製造は現在当該分野で周知である。ジオール（４）の合成は 現在当該分野で周知の前駆物質６，７−オレフィン類似体（３）を使用する。化 合物（３）は米国特許第５，３８０，７５１号に記載の如く試薬例えばＤＡＳＴ を用いる処理によって中間体（１）から直接製造することができる。反応式Ｉに 記載のオレフィン（３）の合成は工程Ａに示す如く製造する７−トリフルオロメ タンスルホネート（トリフレート）中間体（２）を経由して進行する。トリフレ ートの除去（工程Ｂ）により、所望のオレフィン（３）が得られる。７−Ｏトリ フレートの製造およびそのシクロプロパンおよびオレフィンへの変換はＪｏｈｎ ｓｏｎ，Ｒ．Ａ．等、Ｔａｘｏｌ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．７−Ｏ−ｔｒｉｆｌａ ｔｅｓ ａｓ ｐｒｅｃｕｒｓｏｒｓ ｔｏ ｏｌｅｆｉｎｓ ａｎｄ ｃｙｃ ｌｏｐｒｏｐａｎｅｓ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９４， ３５（４）：ｐ．７８９３−７８９６および同じ筆者等のＷＯ４／２９２８８に 開示されている。 次に、オレフィン（３）を、例えばＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド（Ｎ ＭＯ）のような助酸化剤の存在下に化学量論量または触媒として使用される四酸 化オスミウムによりヒドロキシ化する（工程Ｃ）。その若干の製造方法を包含す るこのようなジオール中間体についての特許出願が公開されている：Ｒｏｔｈ等 ６，７ ＥＰ０６００５１７Ａ１。保護されたタクサンジオール中間体もＬｉａ ｎｇ等により文献、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ １９９５，３６ （１７）２９０１−２９０４および同誌、１９９５，３６（４３）７７９５−７ ７９８に記載されている。オスミウム試薬は、この文献にタクサンコアが説明さ れているように下方またはαである二重結合の表面から反応するのみである。そ れ故、この反応では一種の立体異性体のみが提供される。 当初の７−デオキシ−置換タクンへの好適なアプローチは反応式IIに示されて いる。このアプローチの利点は出発６，７−ジオール（４）の選択的保護の必要 が避けられることである。アミン塩基および場合によっては不活性溶媒の標準的 な条件下にチオカルボニルジイミダゾール（あるいはまたチオホスゲンを使用す ることもできる）との反応により新規な環状チオカーボネート（５）が形成され る（工程Ｄ）。その他の標準的な有機化学の基礎技術も使用し得る。最も好まし くはトリアルキルゲルマン例えばトリ−ｎ−ブチルゲルマンによるチオカーボネ ート（５）の還元（工程Ｅ）により、もし形式されたとしてもほとんど競合しな いＣ−６デオキシ体の形成を伴ってＣ−７デオキシ化合物（６）が得られる。あ るいはまた、トリアルキルスズ水素化物をゲルマニウム試薬の代りに使用するこ とができる。スズ水素化物の使用でもＣ−１０に競合脱酸素化を生じ、これによ り分離しなければならない混合物を生成する。スズ試薬はＣ７および１０デオキ シ−６−置換類似体を、所望の標的であるときは、生成するための選択の方法で ある。必要としない副反応を抑制するためのトリアルキルゲルマンの使用は先例 がない。この試薬はその他の反応で物理化学者によって研究されている。Ｊ．Ｗ ．Ｗｉｌｆ等、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９８８，１１０，２８１−２ ８７。工程Ｅの生成物は側鎖で保護されている７−デオキシ−６α−ヒドロキシ 中 間体（６）である。反応式いいされているように、現在まで当該分野で周知であ る標準的な方法による側鎖の脱保護（工程Ｆ）により化合物（III）（Ｒ^D＝−Ｏ Ｈ、Ｒ⁶＝−Ｈ、Ｒ⁶'＝−ＯＨ）が得られ、この化合物は有用な抗腫瘍特性を有 し、そして本願で特許請求されている化合物である。上記の反応は実施例１で説 明する。 これらの同一の化合物を合成するための代替的な合成ルートは反応式IIIに示 す。Ｃ−７を脱酸素するためのこの方法は通常のシリル、エステルまたはカーボ ネート保護基を用いてＧｒｅｅｎｅ等に記載の如くジオール（４）のＣ−６ヒド ロキシ基（下方またはαにある）の選択的保護を包含する。最も好ましい保護基 はトリアルキルシリルエステル、アセテート、フェノキシアセテート、トリクロ ロエチルクロロホルメートまたはベンゾエートである。選択的に保護された化合 物の例は文献、Ｘ．Ｌｉａｎｇ，Ｄ．Ｇ．Ｋｉｎｇｓｔｏｎ，Ｔｅｔｒａｈｅｄ ｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９５，３６，２９０１−２９０４にみられる。こ の特許での工程Ｇの例では、化合物（７）を提供するためのトリアルキルシリル 保護基の使用が記載されている。標準的な条件下でのＣ−７でのメチルキサンテ ートの形成により化合物（８）が提供される。反応に十分な上昇した温度（通常 ７０°〜１１０℃）で不活性溶媒中化合物（８）とトリアルキルまたはアリール スタネート例えばトリ−ｎ−ブチルスズ水素化物との反応により、化合物（９） と（１０）との混合物が得られる。場合によっては、反応を例えばＡＩＢＮのよ うなラジカル開始剤の存在下に実施する。生成物の比はある程度は反応条件に左 右される。その理由は、過剰のスズ試薬および高い方の反応温度はＣ−１０脱酸 素化反応、ひいては化合物（１０）の形成に有利に働くからである。トリ−ｎ− ブチルゲルマンの使用はＣ−１０脱酸素反応を抑制することになる。化合物（９ ）および（１０）は脱保護（工程Ｊ）後に水性酸またはフッ化物源を用いてクロ マトグラフィーにより分離することができる。上述した反応を例１で説明する。 Ｃ−７およびＣ−１０両方でのタクサンの脱酸素化は同じような方法論を用い て以前に報告されている。Ｃ−７脱酸素化タクサンの製造およびそれらの活性の 合成方法論は次の文献に記載されている：Ｃｈｅｎ，Ｓ．−Ｈ．およびＶ．Ｆａ ｒｉｎａ，Ｐａｃｌｉｔａｘｅｌ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ−ａｃｔｉｖｉｔｙ ｒ ｅｌａｔｉｏｎｓｈｉｐｓ ａｎｄ ｃｏｒｅ ｓｋｅｌｅｔａｌ ｒｅａｒｒ ａｎｇｅｍｅｎｔｓ．ＡＣＳ Ｓｙｍｐ．Ｓｅｒ．，１９９５．５８３（Ｔａｘ ａｎｅ Ａｎｔｉｃａｎｃｅｒ Ａｇｅｎｔｓ）：ｐ．２４７−６１；Ｃｈｅｎ ，Ｓ．−Ｈ．，等，Ａ Ｆａｃｉｌｅ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ７，１０− Ｄｉｄｅｏｘｙ Ｔａｘｏｌ ａｎｄ ７−Ｅｐｉ−１０−Ｄｅｏｘｙ Ｔａｘ ｏｌ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９３．３４（４３）：ｐ ．６８４５−６８４８；Ｃｈｅｎ，Ｓ．−Ｈ．，等，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ７−Ｄｅｏｘｙ− ａｎｄ ７，１０−Ｄｉｄｅｏｘｙｔａｘｏｌ ｖｉａ Ｒａｄｉｃａｌ Ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅｓ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９ ９３．５８：ｐ．５０２８−５０２９；Ｃｈｅｎ，Ｓ．Ｈ．，等，Ｔａｘｏｌ（ Ｒ）Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ−Ａｃｔｉｖｉｔｙ−Ｒｅ１ａｔｉｏｎｓｈｉｐｓ−Ｓ ｙｎｔｈｅｓｉｓ Ａｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ Ｏ ｆ Ｔａｘｏｌ Ａｎａｌｏｇｓ Ｍｏｄｉｆｉｅｄ Ａｔ Ｃ−７．Ｂｉｏｏ ｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ ，１９９４．４：ｐ．２２２３−２２２８；Ｋｉｎｇｓｔｏｎ，Ｄ．Ｇ．Ｉ．， Ａ．Ｇ．Ｃｈａｕｄｈａｒｙ，およびＪ．Ｍ．Ｒｉｍｏｌｄｉ，Ｍｏｄｉｆｉｅ ｄ Ｔａｘｏｌｓ．１０．Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ ７−Ｄｅｏｘｙｔａ ｘｏｌ，ａ Ｈｉｇｈｌｙ Ｂｉｏａｃｔｉｖｅ Ｔａｘｏｌ Ｄｅｒｉｖａｔ ｉｖｅ，ａｎｄ Ｉｎｔｅｒｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ ｏｆ Ｔａｘｏｌ ａｎｄ ７−ｅｐｉ−Ｔａｘｏｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９３．５８（１５） ：ｐ．３７９８−３７９９．Ｃｈａｕｄｈａｒｙ，Ａ．Ｇ．，Ｋｉｎｇｓｔｏｎ ，Ｄ．Ｇ．Ｉ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ １０−ｄｅａｃｅｔｏｘｙ ｔａ ｘｏｌ ａｎｄ １０−ｄｅｏｘｙｔａｘｏｔｅｒｅ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９３，３４（３１），４９２１−４９２４。 これらの化合物はいずれもがＣ−６で水素置換分を有している。 特許文献では、１９９５年１２月２６日に付与されたＵ．Ｓ．５，４８，８５ ４、Ｕｐｊｏｈｎ（ＷＯ９４／１３６５５）、およびＨｏｌｔｏｎ等（ＷＯ９４ ／１７５０、１９９４年８月４日公開）にはＣ−７脱酸素化された化合物が開示 されている。特許出願ＷＯ９４／１７０５０において、Ｈｏｌｔｏｎはヒドロキ シおよびアルコキシを包含するタクサンＣ−６位（および分子全体の数多くの他 の位置）の多くの置換分をクレームしているが、これらの化合物を製造するため の可能な方法論を有してはいない。その他のＣ−７デオキシ特許出願は双方共に タクサンＣ−６位に水素のみが開示されている。 反応式IVに示すように、Ｃ−６アルコール（６）は当該分野で通常の標準的な 酸化剤を用いてケトン（１１）に酸化することができる。好ましい試薬はＡｌｄ ｒｉｃｈｉｍｉｃａ Ａｃｔａ ２１（１）．１６（１９８８）および同誌、２ ２（２），５３（１９８９）およびＪ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍ ｍｕｎ．，１６２５（１９８７）にＬｅｙが記載しているようにＴＰＡＰ（テト ラプロピルアンモニウムペルルテネート）である。次に、このケトンを様々な標 準的条件下で脱シリル化して化合物（III）（Ｒ^D＝−ＯＨ、Ｒ⁶＝Ｒ⁶'＝オキソ （＝Ｏ））を得る。上述した反応を実施例２、８、１０、１１で説明する。 エステル（またはさらに立体障害Ｃ−９ケトン）の存在下に選択的ケトン還元 が生じる条件下エタノール中で標準的な還元剤例えばホウ水素化ナトリウムによ るケトン（１１）の還元により、保護された６β−ヒドロキシ−７−デオキシパ クリタクセル（１２）が生成する（反応式Ｖ）。水素化物送達は底部から、立体 障害のより少ないα表面から生じる。化合物（１２）の脱シリル化により、６β −ヒドロキシ化合物（III）（Ｒ^D＝−ＯＨ、Ｒ⁶＝−ＯＨ、Ｒ⁶'＝−Ｈ）が得ら れる。上述した反応を実施例３、９、１０、１１に説明する。 反応式VIに示すように、ケトン（１１）に有機金属試薬の付加により、β−配 位（上方）にアルコールをＣ−６に有する第三アルコールが主として、または独 占的に提供される。これは底面からのさらに容易なアタックの結果である。例え ば、トリメチルアンモニウムの使用により化合物（１３）（Ｒ⁶＝−ＯＨ、Ｒ⁶' ＝−ＣＨ₃）が得られ、この化合物はケトンに対するメチル付加の生成物である 。当該分野で周知のその他の有機金属試薬例えばアルミニウムリチウム試薬、グ リニャール試薬またはセリウムベースの試薬によっても、所望の生成物のいくつ かが得られる。脱シリル化により、化合物（III）（Ｒ^D＝−ＯＨ、Ｒ⁶＝−ＯＨ 、Ｒ⁶'＝−ＣＨ₃）が得られる。上述した反応を実施例４に説明する。 実験の部の反応式VIIに示すように、ジオール（III）（Ｒ^D＝−ＯＨ、Ｒ⁶＝− Ｈ、Ｒ⁶'＝−ＯＨ）から標準的なタキソール方法（Ｎ．Ｆ．Ｍａｇｒｉ，Ｄ．Ｇ ．Ｉ．Ｋｉｎｇｓｔｏｎ，Ｃ．Ｊｉｔｒａｎｇｓｒｉ，Ｔ．Ｐｉｃｃａｒｉｅｌ ｌｏ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８６，５１，３２３９−３２４２）により 水素化ホウ素テトラブチルアンモニウムを用いてＣ−１３側鎖の還元除去により 、α−ヒドロキシバカチンが得られ、このものは６−ヒドロキシ基で標準的な保 護基を用いて選択的に保護して（１５）を得ることができる。実施例では、トリ アルキルシリルエーテルを保護基として使用しているが、その他のものも適して いる。保護されたバカチン（１５）はここで当該分野で周知のいずれの方法を用 いてその他の側鎖とカップリングさせることができる。これらの実施例では、Ｈ ｏｌｔｏｎに付与された米国特許第５，２２９，５２６号および同第５，１７５ ，３１５号に記載されている標準的なカップリングを用いることによりラクタム を使用する。脱シリル化（または適当な脱保護条件）により、化合物（９）を製 造するための代替側鎖を有する類似体（III）（Ｒ^D＝−ＯＨ、Ｒ⁶＝−Ｈ、Ｒ⁶' ＝−ＯＨ）が得られる。上述した反応を実施例５、６および７に説明する。 反応式VIIIに示すように、類似体（III）の６α−アルコール（Ｒ^D＝−ＯＨ、 Ｒ⁶＝−Ｈ、Ｒ⁶'＝−ＯＨ）の直接酸化次いで反応式Ｖで上述した還元により、 修飾側鎖を有する６β−ヒドロキシ類似体が得られる。あるいはまた、反応式IX に示すように、ビスシリル化合物（９）は例えばメタノールに懸濁した酸性Ｄｏ ｗｅｘ樹脂を用いてＣ−６で選択的に脱保護して（工程Ｗ）中間体（６）を得て 、このものは反応式IVおよびＶに記載の如く酸化し、還元することができる。こ れにより６β−ヒドロキシ置換分および修飾側鎖を有する化合物（III）（Ｒ^D＝ −ＯＨ、Ｒ⁶＝−ＯＨ、Ｒ⁶'＝−Ｈ）が生成される。上述した反応を実施例１０ および１１に説明する。 反応式Ｘ、工程Ｘに示すように、アルコール（１７）のリチウムアミド塩基（ リチウムビストリメチルシリルアミド）による脱プロトン化次いでブロモメチル メチルエーテルによるＯ−アルキル化により６α−メトキシメチルエーテル類似 体（１７）が得られる。この反応はＣ−６でのヒドロキシ誘導体の製造を例示す るものであり、通常のアルコール誘導体化技術をＣ−６アルコールで使用し得る ことを示している。本発明のその他の誘導体も同様な方法を用いて製造できる。 標準的な条件下で２’−ヒドロキシ保護基の脱保護により、６−メトキシメチル エーテル（III）（Ｒ^D＝−ＯＨ、Ｒ⁶＝−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、Ｒ⁶'＝−ＯＨ）が得 られる。反応式XIに示すように、類似の反応順序を用いて６β−アルコールを誘 導体化することができ、この場合６β−メトキシメチルエーテル類似体（III） が生成される。上述した反応を実施例１２および１３に説明する。 ケトン（１１）をヒドロキシアミンとの縮合（反応式XII、工程ＡＢ）により 、幾何異性体Ｅ−１９およびＺ−２０として二種のオキシムが得られ、これらを クロマトグラフィーにより分離し、次に脱シリル化すると純粋な（III）（Ｒ^D＝ −ＯＨ、Ｒ⁶＝Ｒ⁶'＝−（＝Ｎ−ＯＨ（Ｅ））、および（III）（Ｒ^D＝−ＯＨ、 Ｒ⁶＝Ｒ⁶'＝−（＝Ｎ−ＯＨ（Ｚ））が得られる。Ｏ−アルキルまたは置換ヒド ロキシルアミンまたはヒドラジンもまた同様にケトン（１１）と縮合させること ができる。 ７，１９シクロプロパン誘導体は当該分野で既知の条件を用いて製造すること ができる。反応II、工程Ｇに示すように、化合物（４）のＣ−６アルコールを選 択的に保護して化合物（７）とし、次いでＤＡＳＴで処理すると、１９９３年１ ０月１９日付けで付与された米国特許第５，２５４，５８０号および１９９４年 ６月８日付けで公開された欧州特許出願６００，５１７Ａ１に記載の如くシクロ プロパンが得られる。あるいはまた、化合物（７）をピリジン中メタンスルホニ ルクロリドまたはその他のスルホニル化試薬または触媒としてＤＭＡＰを伴うそ の他のアミン塩基で処理するとＣ−７αスルホネートが得られる。Ｒ．Ａ．Ｊｏ ｈｎｓｏｎがＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、３５巻、４３号、７８ ９３−７８９６頁（１９９４年）に記載しているように、シリカゲルでスルホネ ートを加熱するとＣ−７，１９シクロプロパンが得られることが他の研究者によ って認められた。Ｃ−６ヒドロキシ基を脱保護するとＣ−６αアルコールが得ら れ、このものから上述の如くして誘導体を製造することができる。次に、このア ルコールを上述の如く酸化し、そして還元するとＣ−６βアルコールおよびその 誘導体が得られる。 反応式Ｉ反応式Ｉ（続き）反応式II反応式II（続き）反応式III反応式III（続き）反応式IV反応式Ｖ反応式VI反応式VII反応式VII（続き）反応式VIII反応式IX反応式Ｘ反応式XI反応式XII反応式Ｉ−XIIを用いる式IVの化合物の製造：表１に次の実施例１−１６の各々を示す： 反応式Ｉ〜XIIに基く、次の表２に示す出発物質および中間体、1ａ−２０ａの 製造を実施例とその直前の項に記す。 反応式のいくつかではヒドロキシ保護基、好ましくはトリアルキルシリル基を 示している。このヒドロキシ保護基は炭酸塩でもエステル基−Ｃ（Ｏ）ＯＲ^xま たは−Ｃ（Ｏ）Ｒ^xでもよい。これらの基をヒドロキシ保護基として用いたとき 、それらは除去されて遊離のヒドロキシ保護基を生ずるか又は最終生成物の１部 として残る。 タクサンのコアに広範な種々の基を導入する方法が多くの刊行物に開示されて いる。これらの既に確立している方法又はその自明の類似方法を用いて式VIIの 出発物質のタクサン又はそのヒドロキシ保護同族化合物を容易に製造できる。た とえばＣ４−アセトキシの他の官能基への変換はＳ．Ｈ．Ｃｈｅｎ等のＪ．Ｏｒ ｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，５９，６１５６−６１５８お８よび１９９４ 年７月７日公開のＰＣＴ出願ＷＯ９４／１４７８７に、Ｃ２−ベンゾイルオキシ の他の基への変換はＳ．Ｈ．Ｃｈｅｎ等のＢｉｏｏｒｇａｎｉｃ ａｎｄ Ｍｅ ｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，４巻，Ｎｏ．３，４７ ９−４８２（１９９４）；Ｋ．Ｃ．Ｎｉｃｏｌａｏｕ等のＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．，１９９５，１１７，２４０９および１９９４年９月２８日公開のヨー ロッパ特許出願６１７，６３４Ａ１に、Ｃ１０−アセチルオキシの変性はＫ．Ｖ ．ＲａＯ等のＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．３８，３４１１−３４１４（１９９５）， Ｊ．Ｋａｎｔ等のＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３５巻，Ｎｏ．３ １，５５４３−５５４６（１９９４）および１９９４年３月１５日発行の米国特 許５，２９４，６３７号に、Ｃ１０および／またはＣ７非置換（デオキシ）誘導 体の製造は１９９４年４月６日公開のヨ一ロッパ特許出願５９０，２６７Ａ２お よび１９９３年４月１日公開のＰＣＴ出願ＷＯ９３／０６０９３に、Ｃ−１０エ ピヒドロキシまたはアセトキシ化合物の製造はＰＣＴ出願ＷＯ９６／０３３９４ に、Ｃ−１０デオキシ−Ｃ−１０アルキル同族化合物の製造はＰＣＴ出願ＷＯ９ ５／３３７４０に、７β，８β−メタノ、６α，７α−ジヒドロキシおよび６， ７−オレフィン性基の製造はＲ．Ａ．ＪｏｈｎｓｏｎのＴｈｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３５巻，Ｎｏ．４３，７８９３−７８９６（１９９４）、１ ９９３年１０月１９日発行の米国特許５，２５４，５８０および１９９４年６月 ８日公開のヨーロッパ特許出願６００，５１７Ａ１に、Ｃ７／Ｃ６オキシランの 製造は Ｘ．ＬｉａｎｇおよびＤ．Ｇ．Ｉ．ＫｉｎｇｓｔｏｎのＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３６巻，Ｎｏ．１７，２９０１−２９０４（１９９５）に、 Ｃ７−エピ−フルオロの製造はＧ．Ｒｏｔｈ等のＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ ｔｔｅｒｓ，３６巻，１６０９−１６１２（１９９５）に、Ｃ７エステル及びカ ーボネートの製造は１９９３年１２月２１日発行の米国特許５，２７２，１７１ およびＳ．Ｈ．Ｃｈｅｍ等のＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４９巻、Ｎｏ．１４，２ ８０５−２８２８（１９９３）に、９αおよび９β−ヒドロキシタクサンの製造 はＬ．Ｌ．ＫｌｅｉｎのＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３４巻，Ｎ ｏ．１３，２０４７−２０５０（１９９３）、１９９４年４月２８日公開のＰＣ Ｔ出願ＷＯ９４／０８９８４、１９９４年１０月４日発行の米国特許５，３５２ ，８０６、１９９４年９月１５日公開のＰＣＴ出願ＷＯ９４／２０４８５およひ Ｇ．Ｉ．Ｇｅｏｒｇ等のＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３６巻，Ｎ ｏ．１１，１７８３−１７８６（１９９５）にそれぞれ開示されている。 〔実施例〕 本発明の化合物の製造を例証する実施例を示すがこれらは発明の範囲を制限す るものではない。本発明の化合物の製造はここに記載した方法に限られず変更し うる。この幾分異なる方法による同じ化合物の製造は当業者が適宜理解しうるも のである。 次の実験方法ではすべての温度は、断りのない限り摂氏（Ｃ）で示す。核磁気 共鳴（ＮＭＲ）スペクトル特性は対象標準品としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ ）に対するパートパーミリオン（ｐｐｍ）で示した化学シフト（δ）による。プ ロトンＮＭＲスペクトルデータでの種々のシフトについて報告した相対面積はそ の分子中の特定の官能タイプの水素原子の数に対応する。多重度に関するシフト の特性は広いシングレット（ｂｓまたはｂｒｓ）、広いダブレット（ｂｄまたは ｂｒｄ）、広いトリプレット（ｂｔまたはｂｒｔ）、広いクオーテット（ｂｑま たはｂｒｑ）、シングレット（ｓ）、マルチプレット（ｍ）、ダブレット（ｄ） 、クオーテット（ｑ）、トリプレット（ｔ）、ダブレットのダブレット（ｄｄ） 、トリプレットのダブレット（ｄｔ）およびクオーテットのダブレット（ｄｑ） として示す。ＮＭＲスペクトルをとる際に用いた溶媒はアセトン−ｄ₆（重 水素化したアセトン）、ＤＭＳＯ−ｄ₆（過重水素化したジメチルスルホキシド ）、Ｄ₂Ｏ（重水素化した水）、ＣＤＣｌ₃（重水素化したクロロホルム）および 他の一般的な重水素化した溶媒である。赤外（ＩＲ）スペクトルの記載には官能 基同定値をもつ吸収波数（ｃｍ^-1）だけを含む。 セライトはジョンソン−メンビルプロダクツコーポレーションのケイソウ土の 商標である。 ここで用いる略号は当該分野で広く用いられている略号である。それらのいく つかを示す：ＤＡＢ（デアセチルバクカチンIII）；ＭＳ（質量分光測定）；Ｈ ＲＭＳ（高解像度質量分光測定）；Ａｃ（アセチル）；Ｐｈ（フェニル）；ｖ／ ｖ（容積／容積）；ＦＡＢ（高速原子衝突）；ＮＯＢＡ（ｍ−ニトロベンジルア ルコール）；ｍｉｎ（分）；ｈまたはｈｒ（ｓ）（時間）；ＤＣＣ（１，３−ジ シクロヘキシルカルボジイミド）：ＢＯＣ（ｔ−ブトキシカルボニル）；ＣＢＺ またはＣｂｚ（ベンジルオキシカルボニル）；Ｂｎ（ベンジル）；Ｂｚ（ベンゾ イル）；Ｔｒｏｃ（２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル）；ＤＭＣ （ジメチルシリル）、ＴＢＡＦ（テトラブチルアンモニウムフルオライド）；Ｄ ＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）；ＴＥＳ（トリエチルシリル）；ＤＭＳ Ｏ（ジメチルスルホキシド）；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）；ＨＭＤＳ（ヘキ サメチルジシラザン）；ＭｅＯＴｆ（メチルトリフレート）；ＮＭＤ（モルフェ ナリン−Ｎ−オキシド）；（ＤＨＱ）₂ＰＨＡＬ（ヒドロキニン１，４−フタラ ジンジイルジエーテル）；Ｔｆ＝トリフレート＝トリフルオロメタンスルホネー ト；ＬＲＭＳ（低解像度質量分光測定）；ＥＳＩ（電子スプレーイオン化）。 出発物質の製造（反応式Ｉ）： ２’−Ｏ−（トリエチルシリル）−パクリタクセル〔１ａ〕 パクリタクセル（１５ｇ、１７．５７ミリモル）をピリジン６０ｍＬとジクロ ロメタン６０ｍＬの溶液にとかし、この混合物を０℃に冷却した。トリエチルシ リルクロリド（１１．８ｍＬ、７０．３ミリモル）と上記反応物を９０分０℃で 攪拌した。反応物を酢酸エチルで稀釈し、水とブラインとで連続的に洗い、無水 硫酸マグネシウムを用いて乾燥し濾過し、真空下に濃縮した。流離液として２： １のヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルでのフラッシュクロマトグラフィ ーで粗生成物を精製し表記化合物１７．０ｇ（９９％）を得た。 ２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−パクリタクセル〔１ｂ〕 パクリタクセル（１４６．０ｍｇ、０．１７ミリモル）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチ ルホルムアミド（１ｍＬ）にとかした。この溶液にイミダゾール（１１６．１ｍ ｇ、１．７ミリモル）とｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（１２８．８ｍｇ、 ０．８５ミリモル）を連続して加え、この混合物を６０℃で１時間攪拌した。次 いで反応混合物を酢酸エチル（２ｍＬ）で稀釈し、さらに水で稀釈した。合体し た有機層を水およびブラインで順次洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発させて 粗生成物を得た。予備ＴＬＣ（シリカゲル、７：３のヘキサン：酢酸エチル）を 用いて粗生成物を精製し、２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−パクリタ クセル（１５７ｍｇ、収率９５％）を得た。 ２’−Ｏ−（トリエチルシリル）−７β−Ｏ−トリフルオロメタンスルホニル パクリタクセル〔２ａ〕 アルコール化合物１ａ（１７ｇ、１７．５ミリモル）とＤＭＡＰ（８．５５ｇ 、７０ミリモル）をジクロロメタンにとかし、この混合物を０℃に冷却した。ト リフルオロメタンスルホン酸無水物（３．３９ｍＬ、２０．１ミリモル）をシリ ンジを介して加え次いで室温まであたためた。反応混合物を２時間攪拌し、酢酸 エチルで洗い、水とブラインで順次洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過 し、真空下に濃縮した。２：１のヘキサン／酢酸エチルを用いるシリカゲルのフ ラッシュクロマトグラフィーで表記化合物１７．６ｇ（９１％）を得た。 ２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−７β−Ｏ−トリフルオロメタンス ルホニルパクリタクセル〔２ｂ〕 ２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−パクリタクセル〔１ｂ〕（１８０ ．０ｍｇ、０．１９ミリモル）を無水ＣＨ₂Ｃｌ₂（２ｍＬ）にとかした。この溶 液に４−ジメチルアミノピリジン（６１．０ｍｇ、０．５ミリモル）とトリフル オロメチルスルホニルクロリド（５０ｍＬ、０．５ミリモル）を０℃で順次加え 、この混合物を室温で１時間攪拌した。次いでこの溶液に４−ジメチルアミノピ リジン（６１．０ｍｇ、０．５ミリモル）とトリフルオロメタンスルホニルクロ リド（５０ｍＬ、０．５ミリモル）を順次加え、この混合物を室温でさらに１． ５ 時間攪拌した。次いでこの反応混合物をＥｔＯＡｃ（４．０ｍＬ）で稀釈し、沈 澱物をセライトで濾過除去した。溶媒を蒸発し、残渣を予備ＴＬＣ（シリカゲル 、６：４のヘキサン：ＥｔＯＡｃ）で精製して２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチル シリル）−７β−Ｏ−トリフルオロメタンスルホニルパクリタクセル（１８７． ０ｍｇ、収率９２％）を得た。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，４００ ＭＨｚ）δ ８．１２（ｄ，２Ｈ） ，７．７３（ｄ，２Ｈ），７．６０（ｔ，１Ｈ），７．５３−７．３０（ｍ，１ ０Ｈ），７．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９，Ｈ_NH），６．６２（ｓ，１Ｈ，Ｈ₁₀ ），６．２５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝９．２，Ｈ₁₃），５．７６（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝８． ９，２．６，Ｈ_3'），５．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０，Ｈ₂），５．４９（ｄ ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５，１０．１，Ｈ₇），４．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６， Ｈ₅），４．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０，Ｈ_2'），４．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝ ８．５，Ｈ₂₀），４．２２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，Ｈ₂₀），３．９７（ｄ，１ Ｈ，Ｊ＝７．０，Ｈ₃），２．８５（ｍ，１Ｈ，Ｈ₆），２．６０（ｓ，３Ｈ，− ＣＨ₃），２．３９（ｍ，１Ｈ，Ｈ₁₄），２．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２． １８（ｍ，２Ｈ，Ｈ₆，Ｈ₁₄），２．０８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．８９（ｓ ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．２２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．１８（ｓ，３Ｈ，− ＣＨ₃），０．８（ｓ，９Ｈ），−０．０２（ｓ，３Ｈ），−０．２９（ｓ，３ Ｈ）．¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣＬ₃，ＴＭＳ，１００ ＭＨｚ）ｄ ２００．９７ ，１７１．８９，１７１．１６，１６９，３４，１６７．７１，１６７．４２， １４１．７５，１３８．７７，１３４．６６，１３４．４５，１３３．４８，１ ３２．４６，１３０．８４，１２９．５２，１２９．４７，１２９．４０，１２ ９．３８，１２８．６５，１２７．５９，１２７．００，８６．３９，８３．６ ８，８０．６４，７９．２５，７６．９４，７５．７７，７５．７４，７４．９ ２，７１．６９，５７．９７，５６．２３，４７．５５，４３．７５，３６．３ ２，３４．６７，２６．７６，２６．２３，２６．１３，２３．４７，２２．０ １，２１．２９，１８．７５，１４．８７，１４．８０，１１．５３８，９Ｈ） ，−０．０５（ｓ，３Ｈ），−０．３２（ｓ，３Ｈ）．¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，ＴＭＳ，１００ ＭＨｚ）δ ２０５．４４，１７１．３２，１６９． ５６，１６９，３９，１６６．９１，１６６．８７，１４１．６０，１４０．０ ３，１３８．２７，１３４．０６，１３３．６７，１３３．６１，１３１．７６ ，１３０．１９，１２９．１６，１２８．８０，１２８．７３，１２８．７１， １２８．６９，１２７．９２，１２６．９６，１２６．３６，１２６．１２６， ８１．２２，８１．１２，７６．３１，７５．８２，７５．６４，８５．１２， ７１．２３，６０．３６，５５．６５，５５．４０，３５．９８，２６．２９， ２５．４９，２３．１４，２２．１２，２２．０２，２０．７４４，２０．４６ ，１８．０９，１４．６２，１４．１７．−５．２８，−５．８９．ＬＲＦＡＢ ＭＳ ｍ／ｚ Ｃ₅₃Ｈ₆₄ＮＯ₁₃Ｓｉ［ＭＨ］⁺の計算値９５０、実測値９５０。 ２’−Ｏ−（トリエチルシリル）−６α−ヒドロキシ−７−エピ−パクリタク セル〔４ａ〕 オレフィン化合物３ａをアセトン１８０ｍＬと水２２．５ｍＬにとかした。Ｎ ＭＯ（４．０６ｇ、３４．７４ミリモル）を加え、さらにＯｓＯ₄ １０モル％ を加え、反応混合物を１２日間攪拌した。シリカゲルを加え、反応混合物を真空 下に濃縮してほぼ自由流動性の粉末を得た。この粉末をフラッシュクロマトグラ フィーシリカゲルカラムの上部に置いた。１：１のヘキサン／酢酸エチルで溶離 して所望のジオール１３．３５ｇ（８６％）を得た。 ２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−６α−ヒドロキシ−７−エピ−パ クリタクセル〔４ｂ〕 ２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−６，７−ジヒドロパクリタクセル 〔３ｂ〕（６０．０ｍｇ、０．０６３ミリモル）のＴＨＦ（５００ｍＬ、水１０ 滴）溶液に４酸化オスミウム（２−メチル−２−プロパノール、１５０ｍＬの２ ５ｗｔ％溶液、０．０１５ミリモル）と４−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド（ ＮＭＯ、５０ｍｇ、０．４２ミリモル）を加えた。この混合物を室温で４時間攪 拌した。次いで追加の４酸化オスミウム溶液（１５０ｍＬ、１０．０１５ミリモ ル）を反応混合物に加えて反応を促進させた。反応混合物をさらに５時間室温で 攪拌し続けた。この反応溶液に重亜硫酸ナトリウム（２５ｍｇ）を加え、１０分 間攪拌し、次いでＥｔＯＡｃ（１ｍＬ）で稀釈し、セライトを用いて濾過し、Ｈ₂ Ｏおよびブラインで洗った。水性層を追加のＥｔＯＡｃ（２×２ｍＬ）で抽 出した。合体した有機層をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥し、蒸発させた。残渣を予備ＴＬＣ 板（シリカゲル、１：１のヘキサン：ＥｔＯＡｃ）上で分離して出発物質（７． ２ミリグラム、１２％）とより極性のある化合物２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチ ルシリル）−６α−ヒドロキシ−７−エピ−パクリタクセル〔４ｂ〕（４８．０ ｍｇ、収率７８％）を得た。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，４００ ＭＨｚ）δ ８．１５（ｄ，２Ｈ） ，７．７０（ｄ，２Ｈ），７．６４−７．２６（ｍ，６Ｈ），７．０７（ｄ，１ Ｈ，Ｊ＝８．８，Ｈ_NH），６．８３（ｓ，１Ｈ，Ｈ₁₀），６．２９（ｔ，１Ｈ， Ｊ＝８．８，Ｈ₁₃），５．７９（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝８．８，２．４，Ｈ_3'），５． ７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，Ｈ₂），４．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２．０，Ｈ_{7 -OH} ），４．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０，Ｈ₅），４．６６（ｂｓ，２Ｈ，Ｈ₂₀ ），４．３６（ｓ，１Ｈ，Ｈ₂），４．１８（ｍ，１Ｈ，Ｈ₆），３．８７（ｄ， １Ｈ，Ｊ＝７．６，Ｈ₃），３．７０（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝５．２，１２．０，Ｈ₇） ，２．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２，Ｈ_6-OH），２．６２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃ ），２．４２−２．１０（ｍ，２Ｈ，Ｈ₁₄），２．１８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃） ，１．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．６２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．１８ （ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．１２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），０．７８（ｓ，９Ｈ ），−０．０３（ｓ，３Ｈ），−０．３（ｓ，３Ｈ）．ＨＲＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ Ｃ₄₇Ｈ₅₂ＮＯ₁₅［ＭＨ］⁺の計算値８７０．３３３７、実測値８７０．３３３ ６。例 １ ７−デオキシ−６α−ヒドロキシパクリタクセル〔IIIａ〕の製造−反応式（II ） ジオール４ａ（１．７７３ｇ、１．８０９ミリモル）、チオカーボニルジイミ ダゾール（０．９９６ｇ、５．４２７ミリモル）、ＤＭＡＰ（０．６１８ｇ、５ ．０６５ミリモル）を５０ｍｌのＴＨＦにとかし一夜攪拌した。反応をＥｔＯＡ ｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃および塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾 過しそして濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：１／ヘキ サン／エチルアセテート）して１．６４６ｇの生成物５ａ（８９％）をえた。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋ＮＨ₄ ⁺；Ｃ₅₄Ｈ₆₃Ｏ₁₅Ｎ₂Ｓ Ｓｉの計算値：１０４３ ．実測値：１０４３． Ｃ₅₄Ｈ₆₃Ｏ1₁₅ＮＳ Ｓｉの計算値：Ｃ，６３．２０；Ｈ，６．１９；Ｎ，１ ．３６．実測値：Ｃ，６３．０４；Ｈ，６．２２；Ｎ，１．３３． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３８（ｂｒ．），２９５８，１７４６，１７１７，１２８ ２，１２３６ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６３−７．３２（ｍ， １１Ｈ），７．１２（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｓ，１Ｈ），６ ．２５（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．８３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７ ０（ｄ，Ｊ＝９．０，１Ｈ），４．９７（ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ，１Ｈ），４． ８７（ｓ，１Ｈ），４．７２（ｍ，２Ｈ），４．３９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１ Ｈ），４．２２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），４．００（Ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ ，１Ｈ），２．５７（ｓ，３Ｈ），２．４３−２．３５（ｍ，１Ｈ），２．２１ （ｓ，３Ｈ），２．１６−２．０８（ｍ，１Ｈ），２．０３（ｍ，４Ｈ），１． ８７（ｓ，３Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１７（ｓ，３Ｈ），０．７９（ ｍ，９Ｈ），０．４４（ｍ，６Ｈ）． チオカーボネート５ａ（０．２００ｇ、０．１９６ミリモル）、ＡＩＢＮ（触 媒）、（アザイソブチリルニトリル（触媒）及びＢｕ₃ＧｅＨ（０．４７９ｇ、 １．９６ミリモル）をアルゴン下の３ｍｌのトルエンにとかした。反応混合物を 真空凍結乾燥し、３回解凍してＯ₂を除いた。反応を８５℃で１時間加熱した。 反応混合物をシリカゲル上で濃縮しクロマトグラフ処理（１．５：１ ヘキサン ／エチルアセテート）して０．１３７ｇの生成物６αをえた（７２％）。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ；Ｃ₅₃Ｈ₆₅Ｏ₁₄ＮＳｉの計算値：９６８．実測値：９ ６８． Ｃ₅₃Ｈ₆₅Ｏ₁₄ＮＳｉ−Ｈ₂Ｏ計算値：Ｃ，６４．５５；Ｈ，６．８５；Ｎ，１ ．４２．実測値：Ｃ，６４．４９；Ｈ，６．８２；Ｎ，１．４１． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４２（ｂｒ．），２９５６，１７３４，１４８６，１３７ ２，１２４４，７１０ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ ，２Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．６２−７．３３（ｍ， １１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．４５（ｓ，１Ｈ），６ ．２４（ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），５．７１−５．６４（ｍ，２Ｈ），４． ８０（ｓ，１Ｈ），４．６６（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），４．３１（ｄ，Ｊ ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．１８−４．１４（ｍ，２Ｈ），３．７８（ｄ，Ｊ＝ ７．５Ｈｚ，１Ｈ），２．５４（ｓ，３Ｈ），２．４８−２．３９（ｍ，１Ｈ） ，２．２０（ｓ，３Ｈ），２．１７−２．０８（ｍ，１Ｈ），２．０２（ｄ，Ｊ ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），１．９０（ｓ，４Ｈ），１．７７（ｓ，１Ｈ），１．７ １（ｓ，３Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），０．７９（ｍ ，９Ｈ），０．４１（ｍ，６Ｈ）． アセトニトリル中の６−ａアルコール６α（７．６３ｇ、７．８９ミリモル） の溶液に０℃で１ＮのＨＣｌ（１５．７８ｍｌ、１５．７８ミリモル）を加え、 溶液を１時間攪拌した。溶液をエチルアセテートで希釈し、飽和重炭酸塩と塩水 で洗い、ＭｇＳＯ₄上で乾燥し、そして濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマ トグラフ処理（２：１ ヘキサン／エチルアセテート）して６．０７ｇのジオー ルIII ａ（９０％）をえた。 ＥＳＩＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ；Ｃ₄₇Ｈ₅₂ＮＯ₁₄Ｎ₁₄計算値：８５４．３３８８．実 測値：８５４．３３７７． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３６（ｂｒ．），２９８５，１７３２，１６４８，１２４ ４ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ ，２Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６０−７．２６（ｍ， １１Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝９．０，１Ｈ），６．４１ （ｓ，ＩＨ），６． ２０（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．７７（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），５．６４ （ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），４．７７（ｓ，２Ｈ），４．２８（ｄ，Ｊ＝８ ．４Ｈｚ，１Ｈ），４．１６−４．０８（ｍ，２Ｈ），３．７６（ｄ，Ｊ＝７． ２Ｈｚ，１Ｈ），３．４８（ｓ，１Ｈ），２．４０−２．３６（ｍ，４Ｈ），２ ．２８−２．１９（ｍ，４Ｈ），２．０１−１．８０（ｍ，４Ｈ），１．８０（ ｓ，３Ｈ），１．７０（ｓ，３Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１０（ｓ，３ Ｈ）． ¹³Ｃ ＮＭＲ（アセトン，３００ＭＨｚ）δ１７３．５，１７０．９，１６９ ．７，１６６．５，１４１．６，１４０．３，１３５．５，１３４．５，１３４ ．０，１３２．１，１３１．２，１３０．８，１２９．４，１２９．２，１２９ ．１，１２８．３，１２８．１９，１２８．１５，９３．７，８５．１，７８． ８，７７．３，７６．４，７４．７，７４．６，７１．６，７１．５，５６．８ ，５３．７，４５．０，４４．３，４３．７，３７．１，３０．５，２８．９， ２８．８，２６．６，２３．０，２２．２，２０．６，１６．３，１４．５． 別の脱酸素法 トルエン（６．４ｍｌ）中のチオカーボネート５ａ（０．２０１ｇ、０．１９ ７ミリモル）の溶液にＢｕ₃ＳｎＨ（０．５３０ｍｌ、１．９７ミリモル）およ びＡＩＢＮ（触媒）を加えた。反応混合物を１５分間還流し、冷却し濃縮した。 残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：１ ヘキサン／エチルアセテー ト）して１２０ｍｇの２生成物混合物（６３％）をえた。ＣＨ₃ＣＮ（５ｍｌ） 中の０℃の脱酸素生成物（０．３７３ｇ、０．３８６ミリモル）の溶液に１Ｎの ＨＣｌ（０．７７１ｍｌ、０．７７１ミリモル）を加えた。反応を０℃で５０分 間攪拌し、ＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃と塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄ 上で乾燥し、濃縮し、そして残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：₂ ヘキサン／エチルアセテート）して所望のジオールIIIａ 1７６ｍｇを５４ｍ ｇのＣ−１０デスアセチル誘導体IIIｂと共に得た。 Ｃ−１０ デスアセチルジオール〔IIIｂ〕： ＥＳＩＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ；Ｃ₄₅Ｈ₅₀ＮＯ₁₂計算値：７９６．３３３３．実測値 ：７９６．３３６１． ＩＲ（ＫＢｒ）３３４６（ｂｒ．），１７２８，１６４８，１２７２，１１０ ８ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．６３−７．３０（ｍ，１ １Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．１１（ｔ，Ｊ＝９．０， １Ｈ），５．７８（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），５．６５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈ ｚ，１Ｈ），４．７７−４．７３（ｍ，２Ｈ），４．２８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ ，１Ｈ），４．１６−４．０６（ｍ，２Ｈ），３．９６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ， １Ｈ），３．８０（ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ，２Ｈ），３．４７−３．３１（ｍ， ３Ｈ），２．４４−２．３６（ｍ，４Ｈ），２．２７−2．２０（ｍ，１Ｈ）， １．９５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６６（ｓ ，３Ｈ），１．１５（ｓ，３Ｈ），１．０８（ｓ，３Ｈ）．例１の表題化合物の別の製法（反応式III） ２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−６α−ヒドロキシ−７−エピ−パ クリタクセル〔４ｂ〕（７．２ｍｇ）を乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ ００ｍｌ）にとかした。この溶液にイミダゾール（２２ｍｇ、４４ｅｑ）とｔ− ブチルジメチルシリルクロリド（２８ｍｇ、２５ｅｑ）を順次加え、混合物を７ ０℃で１４時間攪拌した。反応混合物を次いでエチルアセテート（２ｍｌ）で希 釈し、希ＨＣｌで洗い、ＮａＨＣＯ₃で次いで塩水で希釈した。集めた有機層を 硫酸ナトリウム上で乾燥し蒸発して粗生成物をえた。予備ＴＬＣ（シリカゲル、 ７：３ヘキサン：エチルアセテート）による粗生成物の精製により２’，６α− −Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）パクリタクセル〔７ａ〕（７．５ｍｇ、 ８３％収率）をえた。 ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，４００ＭＨｚ）δ８．１５（ｄ，２Ｈ）， ７．７０（ｄ，２Ｈ），７．６４−７．２６（ｍ，６Ｈ），７．０８（ｄ，１Ｈ ，Ｊ＝８．８，Ｈ_NH），６．８７（Ｓ，１Ｈ，Ｈ₁₀），６．２９（ｔ，１Ｈ，Ｊ ＝８．８，Ｈ₁₃），５．７８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝８．８，２．４，Ｈ_3'），５．７ ３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，Ｈ₂），４．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０，Ｈ₅）， ４．６６（ｓ，１Ｈ，Ｈ_2'），４．３４（２ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０，Ｈ₂₀），４ ．１８（ｍ，１Ｈ，Ｈ₆），３．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，Ｈ₃），３．９２ （ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２．０，Ｈ，_7-OH），３．５８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝５．２，１ ２．０，Ｈ₇），２．６４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．５（ｍ，１Ｈ，Ｈ₁₄）， ２．２０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．１（ｍ，１Ｈ，Ｈ₁₄），１．９２（ｓ， ３Ｈ，−ＣＨ₃），１．６３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．１９（ｓ，３Ｈ，−Ｃ Ｈ₃），１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），０．９０（ｓ，９Ｈ），０．７８（ｓ ， ９Ｈ），０．０９（ｓ，３Ｈ），０．０７（ｓ，３Ｈ），−０．０３（ｓ，３Ｈ ），−０．３（ｓ，３Ｈ）．ＬＲＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：Ｃ₅₉Ｈ₇₉Ｏ₁₅ＮＳｉ₂［ ＭＨ］⁺計算値１０９８，実測値１０９８． 無水ＴＨＦ中の２’，６α−Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）パクリタク セル〔７ａ〕（４３．５ｍｇ）の溶液に、水素化ナトリウム（４．０ｍｇ、４ｅ ｑ）を加えた。反応混合物を黄色に変わるまで１５分間攪拌した。この黄色混合 物に２硫化炭素（１４８ｍｌ、６０ｅｑ）と沃化メチル（１４４ｍｌ、６０ｅｑ ）を加えた。反応を室温で３０分間進行させた。この時点で反応混合物をエチル アセテートで次いで水で希釈した。水性層を追加のエチルアセテート（２×４ｍ ｌ）で洗った。集めた有機層を次いで水と塩水で洗い、そして硫酸ナトリウム上 で乾燥した後、溶液を濾過し蒸発させて粗混合物をえた。これを予備ＴＬＣに３ 回かけて（シリカゲル、４：１ ヘキサン：エチルアセテート）、２’，６α− Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）−７−エピ−Ｏ−（Ｓ−メチルチオカルボ キシ）パクリタクセル〔８ａ〕（２８．４ｍｇ、６０％収率）、２’，６α−Ｏ −ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２，７−エピ−Ｏ−ジ（Ｓ−メチルチオカ ルボキシ）−１−ベンゾイル−２−デベンゾイルパクリタクセル（７．６ｍｇ、 １４％）、及び２’，６α−Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２，７−ジ （Ｓ−メチルチオカルボキシ）−１−ベンゾイル−２−デベンゾイルパクリタク セル（８．０ｍｇ、１５％収率）をえた。 ¹Ｈ−ＮＭＲ：２’，６α−Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）−７−エピ −Ｏ−（Ｓ−メチルチオカルボキシ）−パクリタクセル〔８ａ〕（ＣＤＣｌ₃， ＴＭＳ，４００ＭＨｚ）δ８．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２６），７．７５（ｄ ，２Ｈ，Ｊ＝７．０），７．６０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７．５），７．５５−７．３ ２ （ｍ，５Ｈ），７．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０，Ｈ_NH），６．２９（ｔ，１Ｈ ，Ｊ＝８．３９，Ｈ₁₃），６．２６（ｓ，１Ｈ，Ｈ₁₀），６．１７（ｄ，１Ｈ， Ｊ＝３．５１，Ｈ₇），５．８０（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝９．０，２．０，Ｈ_3'），５ ．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０２，Ｈ₂），４．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４２ ，Ｈ₅），４．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０，Ｈ_2'），４．５９（ｄ，１Ｈ，Ｊ ＝８．３９，Ｈ₂₀），４．３５（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝４．５８，３．６６，Ｈ₆）， ４．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２６，Ｈ₂₀），４．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０ ２，Ｈ₃），２．６７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．６０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃） ，２．５８（ｍ，１Ｈ，Ｈ₁₄），２．１３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．１２（ ｍ，Ｈ₁₄），２．０４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．８１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃） ，１．１９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．１４（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），０．８０ （ｓ，９Ｈ），０．７８（ｓ，９Ｈ），−０．００３（ｓ，３Ｈ），−０．００ ８（ｓ，３Ｈ），−０．０４（ｓ，３Ｈ），−０．３２（ｓ，３Ｈ）．¹³ Ｃ ＮＭＲ：２’，６α−Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）−７−エピ− Ｏ−（Ｓ−メチルチオカルボキシ）パクリタクセル（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，１０ ０ＭＨｚ）δ２１６．４（Ｃ キサンチル），２０５．３（Ｃ９），１７１．３ （Ｃ１’），１６９．１（Ｃ４カルボニル），１６８．７（Ｃ１０カルボニル） ，１６６．９（Ｃ２カルボニル），１６６．８（Ｃアミド），１４１．３（Ｃ１ ２），１３８．３，１３４．１，１３３．７（Ｃ１１），１３２．８，１３１． ７，１３０．２，１２９．１，１２８．８，１２８．７，１２８．７，１２７． ９，１２７．０，１２６．４，９０．１（Ｃ５），８６．８（Ｃ７），８５．４ （Ｃ４），７９．２（Ｃ２０），７８．６（Ｃ１），７７．０（Ｃ１０），７５ ．８（Ｃ２），７５．１（Ｃ２’），７４．１（Ｃ６），７１．１（Ｃ１３）， ５６．３（Ｃ８），５５．６（Ｃ３’），４２．４（Ｃ３），４０．６（Ｃ１５ ），３６．３（Ｃ１４），２６．０（Ｃ１７），２５．５，２５．５，２３．５ （ＳＣＨ₃），２１．７（Ｃ１６），２０．７（Ｃ１０ ＯＡｃ），１９．８（ Ｃ１９），１９．８（Ｃ４ ＯＡｃ），１８．１，１７．８，１５．５（Ｃ１８ ），−５．１，−５．２，−５．２，−５．９．ＨＲＦＡＢＭＳ：２’６α−Ｏ −ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）−７−エピ−Ｏ−（Ｓ−メチルチオカルボキ シ） パクリタクセル：［ＭＮａ］⁺， 分子式：Ｃ₆₁Ｈ₈₁Ｏ₁₅ＮＳ₂Ｓｉ₂Ｎａ，誤差：０．５ｐｐｍ． ¹Ｈ ＮＭＲ：２’，６α−Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２，７− エピ−Ｏ−ジ（Ｓ−メチルチオカルボキシ）−１−ベンゾイル−２−デベンゾイ ルパクリタクセル：（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，４００ＭＨｚ）δ７．７９（ｓ，２ Ｈ，Ｊ＝７．０），７．７４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．０），７．５５−７．４４（ ｍ，４Ｈ），７．３８−７．２６（ｍ，７Ｈ），７．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９． １６，Ｈ_NH），６．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７２，Ｈ₂），６．６５（ｔ，１ Ｈ，Ｊ＝７．９４，Ｈ₁₃），６．２６（ｓ，１Ｈ，Ｈ₁₀），６．１７（ｄ，１Ｈ ，Ｊ＝３．３６，Ｈ₇），５．８６（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝８．７０，２．４，Ｈ_3'） ，４．９３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．６５，Ｈ₂₀），４．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５． ０３，Ｈ₅），４．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．１４，Ｈ_2'），４．４３（ｄ，１ Ｈ，Ｊ＝８．７５，Ｈ₂₀），４．４１（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝４．７８，３．１５，Ｈ₆ ），４．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．３５，Ｈ₃），３．５７（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝１ ５．７２，７．０３，Ｈ₁₄），２．６５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．６２（ｓ ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．５１（ｓ，１Ｈ，−ＣＨ₃），２．４０（ｑ，１Ｈ，Ｊ ＝１５．７２，７．０３，Ｈ₁₄），２．１２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．０７ （ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．２４（ｓ，３Ｈ ，−ＣＨ₃），１．２２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），０．８１（ｓ，９Ｈ），０．７ ７（ｓ，９Ｈ），０．０６（ｓ，３Ｈ），０．０３（ｓ，３Ｈ），−０．０３（ ｓ，３Ｈ），−０．３２（ｓ，３Ｈ）．¹³ Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，１００ＭＨｚ）δ２１６．２（２Ｃキサン チル），２０５．０（Ｃ９），１７１．０（Ｃ１’），１６９．５（Ｃ４カルボ ニル），１６８．６（Ｃ１０カルボニル），１６６．９（Ｃアミド），１６４． ８（Ｃ１カルボニル），１４３．０（Ｃ１２），１３８．３，１３４．４，１３ ２．９（Ｃ１１），１３１．５，１３０．６，１３０．３，１２９．６，１２８ ．６，１２８．６，１２８．０，１２７．７，１２７．２，１２６．４，９０． １（Ｃ５），８８．９（Ｃ１），８６．８（Ｃ７），８５．４（Ｃ４），８４． ９（Ｃ２），７９．４（Ｃ２０），７７．０（Ｃ１０），７５．４（Ｃ２’）， ７ ３．９（Ｃ６），７０．９（Ｃ１３），５６．６（Ｃ８），５５．５（Ｃ３’） ，４４．２（Ｃ１５），４０．５（Ｃ３），３１．４（Ｃ１４），２９．６（Ｃ １７），２５．５，２５．５，２３．５（ＳＣＨ₃），２２．８（Ｃ１６），２ １．３（Ｃ１９），２０．７（Ｃ１０ ＯＡｃ），１９．８（ＳＣＨ₃），１８ ．４（Ｃ４ ＯＡｃ），１８．１，１７．９，１５．６（Ｃ１８），−５．０， −５．２，−５．２，−６．０．ＨＲＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：Ｃ₆₃Ｈ₈₃Ｏ₁₅ＮＳ₄ Ｓｉ₂Ｌｉ［ＭＬｉ］⁺計算値１２８４．４３４４，実測値１２８４．４３１９， 誤差２．０ｐｐｍ． ¹Ｈ ＮＭＲ：２’，６α−Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル）−２，７− ジ（Ｓ−メチルチオカルボキシ）−１−ベンゾイル−２−デベンゾイルパクリタ クセル：（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，４００ＭＨｚ）δ７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７ ．０），７．７５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．０），７．５５−７．４４（ｍ，４Ｈ） ，７．３８−７．２６（ｍ，７Ｈ），７．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．００，Ｈ_NH ），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．１８，Ｈ₂），６．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９ ．３１，Ｈ₇），６．６１（ｓ，１Ｈ，Ｈ₁₀），６．５９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝８． ０９，Ｈ₁₃），５．６８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝８．７０，２．６，Ｈ_3'），４．８３ （ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４７，Ｈ₅），４．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２４，Ｈ₂₀ ），４．６８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２８，Ｈ_2'），４．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８ ．２４，Ｈ₂₀），４．３７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２４，Ｈ₃），４．２６（ｑ， １Ｈ，Ｊ＝９．３１，１．９８，Ｈ₆），３．６５（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝１６．１７ ，８．２４，Ｈ₁₄），２．６３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．５４（ｓ，３Ｈ， −ＣＨ₃），２．４５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．２８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝１６． １７，８．２４，Ｈ₁₄），２．１２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．０８（ｓ，３ Ｈ，−ＣＨ₃），１．８９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．２５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃ ），１．２２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），０．８３（ｓ，９Ｈ），０．７６（ｓ， ９Ｈ），０．０４（ｓ，３Ｈ），０．０２（ｓ，３Ｈ），−０．０５（ｓ，３Ｈ ），−０．３３（ｓ，３Ｈ）．ＨＲＦＡＢＭＳ ｍ／ｚ：Ｃ₆₃Ｈ₈₃Ｏ₁₅ＮＳ₄Ｓ ｉ₂Ｌｉ［ＭＬｉ］⁺計算値１２８４．４３４４，実測値１２８４．４３１６，誤 差２．２ｐｐｍ． トルエン（７５０ｍｌ）中の２’，６α−ジ−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリ ル）−７α−Ｏ−（Ｓ−メチルキサンチル）パクリタクセル〔８ａ〕（１２．０ ｍｇ）の溶液に、トリブチル錫ヒドリド（４０ｍｌ）、アゾビス（イソブチルニ トリル）（ＡＩＢＮ）（９ｍｇ）、及びＨ₂Ｏ（１滴）を加えた。反応を８５℃ で６時間進行させた。反応を標準法で操作して、粗混合物をえた。これを予備Ｔ ＬＣ（シリカゲル、７：３ヘキサン：ＥｔＯＡｃ）にかけて、２’，６α−ジ− Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−１０−デアセトキシ−７−デオキシパクリ タクセル〔１０ｂ〕（８．２ｍｇ、７６％収率）を得た。 ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，４００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ ＝８．４），７．７５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４），７．５９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝７ ．５），７．５４−７．３０（ｍ，５Ｈ），７．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７， Ｈ_NH），６．２０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝８．０，Ｈ₁₃），５．７４（ｂｄ，１Ｈ，Ｊ ＝８．９，Ｈ_3'），５．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３，Ｈ₂），４．７２（ｄ， １Ｈ，Ｊ＝２．３，Ｈ₅），４．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０，Ｈ_2'），４．３ １（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９，Ｈ₂₀），４．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９，Ｈ₂₀） ，４．１５（ｍ，１Ｈ，Ｈ６），４．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３，Ｈ₃），３ ．８５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．８，Ｈ₁₀），３．３５（ｂｄ，１Ｈ，Ｊ＝１５． ０，Ｈ₁₀），２．４７（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝１５．３，９．８，Ｈ₁₄），２．０８（ ｑ，１Ｈ，Ｊ＝１５．１，８．１，Ｈ₁₄），２．１８（ｔ，Ｊ＝１２．２，Ｈ₇ ），１．６１（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝１２．５，６．４，Ｈ₇），２．５９（ｓ，３Ｈ ，−ＣＨ₃），１．８１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．６６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃ ），１．１７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．０８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），０．８ ５（ｓ，９Ｈ），０．８０（ｓ，９Ｈ），０．０２（ｓ，３Ｈ），０．００２（ ｓ， ３Ｈ），−０．０５（ｓ，３Ｈ），−０．３２（ｓ，３Ｈ）．¹³Ｃ ＮＭＲ（Ｃ ＤＣｌ₃，ＴＭＳ，１００ＭＨｚ）δ２１１．２（Ｃ９），１７１．４（Ｃ１’ ），１６９．５（Ｃ４カルボニル），１６７．０（Ｃアミド），１６６．８（Ｃ ２カルボニル），１３８．５（Ｃ１２），１３４．１，１３３．６（Ｃ１１）， １３３．３，１３３．０，１３１．７，１３０．２，１２９．３，１２８．７， １２８．７，１２８．６，１２７．８，１２７．０，１２６．４，９２．５（Ｃ ５），８５．０（Ｃ４），７９．１（Ｃ１），７７．４（Ｃ２０），７６．０（ Ｃ２），７５．２（Ｃ２’），７２．７（Ｃ６），７１．５（Ｃ１３），５５． ８（Ｃ３’），５５．０（Ｃ８），４４．４（Ｃ１０），４４．０（Ｃ３），４ ３．５（Ｃ１５），４３．５（Ｃ７），３６．４（Ｃ１４），２５．８（Ｃ１７ ），２５．５，２５．２，２３．９（Ｃ１６），２３．２（Ｃ４ ＯＡｃ），１ ８．１，１８．１，１６．９（Ｃ１８），１４．２（Ｃ１９），−４．８，−４ ．９，−５．３，−５．９． トルエン（７５０ｍｌ）中の２’，６α−Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリル ）−７α−（Ｓ−メチルチオカルボキシ）パクリタクセル〔８ａ〕（１２．０ｍ ｇ）の溶液に、トリブチル錫ヒドリド（４０ｍｌ）、アゾイソブチルニトリル（ ＡＩＢＮ）（９ｍｇ）、及び水（１滴）を加えた。反応を７５℃で３時間進行さ せた。この時点で反応混合物をエチルアセテートで、次いで水で希釈した。水性 層を追加のエチルアセテート（２×４ｍｌ）で洗った。集めた有機層を次いで水 と塩水で洗い、そして硫酸ナトリウム上で乾燥後に、溶液を濾過し蒸発させて粗 混合物を得た。これを予備ＴＬＣ（シリカゲル、７：３ヘキサン：エチルアセテ ート）にかけ、２’，６α−ジ−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−７−デオ キシパクリタクセル〔９ｂ〕と２’，６α−ジ−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリ ル）−１０−デアセトキシ−７−デオキシパクリタクセル〔１０ｂ〕との混合物 （合計８．２ｍｇ）を得た。 無水ＴＨＦ（６００ｍｌ）中の２’，６α−Ｏ−ジ（ｔ−ブチルジメチルシリ ル）−７−デオキシパクリタクセル〔９ｂ〕と２’，６α−ジ−Ｏ−（ｔ−ブチ ルジメチルシリル）−１０−デアセトキシ−７−デオキシパクリタクセル〔１０ ｂ〕との混合物（合計７．０ｍｇ）の溶液に、ＨＦとピリジン溶液（１５０ｍｌ ）を加えた。反応を室温で４時間進行させた。この時点で反応混合物をエチルア セテートで、次いで水で希釈した。水性層を追加のエチルアセテート（２×４ｍ ｌ）で洗った。集めた有機層を次いで重炭酸ナトリウム溶液、水及び塩水で洗い 、硫酸ナトリウム上で乾燥した後、溶液を濾過し蒸発させて粗生成物をえた。こ れをくりかえしの予備ＴＬＣ（シリカゲル、３：２ヘキサン：エチルアセテート ）にかけ、７−デオキシ−６α−ヒドロキシパクリタクセル〔IIIａ〕（３．２ ｍｇ）及び１０−デアセトキシ−７−デオキシ−６α−ヒドロキシパクリタクセ ル〔IIIｂ〕（２．５ｍｇ）を得た。 ¹Ｈ ＮＭＲ：７−デオキシ−６α−ヒドロキシパクリタクセル［IIIａ］：（ ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，４００ＭＨｚ）δ８．１６（ｄ，２Ｈ），７．７２（ｄ， ２Ｈ），７．６２（ｔ，１Ｈ），７．５４−７．３０（ｍ，５Ｈ），６．９６（ ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．９，ＮＨ），６．４４（Ｓ，１Ｈ，Ｈ₁₀），６．２２（ｔ， １Ｈ，Ｊ＝９．９，Ｈ₁₃），５．８０（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝８．９，２．３，Ｈ_3'） ，５．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４，Ｈ₂），４．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．７ ， Ｈ₅），４．７８（ｍ，１Ｈ，Ｈ_2'），４．３１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４，Ｈ₂₀ ），４．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４，Ｈ₂₀），４．１２（ｍ，１Ｈ，Ｈ₆）， ３．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２，Ｈ₃），３．５１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．７， Ｈ_2'-OH），２．４４−２．２３（ｍ，２Ｈ，Ｈ₆，Ｈ₁₄），２．４２（ｓ，３Ｈ ，−ＣＨ₃），２．２２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），２．０５−１．９５（ｍ，２Ｈ ，Ｈ₇），ｌ．８３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．７３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）， １．２２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．１３（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）．¹³Ｃ ＮＭ Ｒ：７−デオキシ−６α−ヒドロキシパクリタクセル（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，１ ００ＭＨｚ）δ２０４．８（Ｃ９），１７２．８（Ｃ１’），１７０．７（Ｃ４ カルボニル），１６９．５（Ｃ１０），１６７．１（Ｃアミド），１６７．１（ Ｃ２カルボニル），１４０．３（Ｃ１２），１３７．９，１３３．７，１３３． ５（Ｃ１１），１３２．０，１３０．２，１２９．１，１２８．８，１２８．７ ，１２８．４，１２７．０，１２６．９，９２．７（Ｃ５），８３．７（Ｃ４） ，７９．０（Ｃ１），７６．３（Ｃ２０），７５．３（Ｃ２），７３．９（Ｃ１ ０），７３．１（Ｃ２’），７２．３（Ｃ１３），７０．８（Ｃ６），５５．０ （Ｃ３’），５３．３（Ｃ８），４５．０（Ｃ３），４４．１（Ｃ７），４２． ９（Ｃ１５），３５．９（Ｃ１４），２６．２（Ｃ１７），２２．６（Ｃ４ Ｏ Ａｃ），２１．４（Ｃ１６），２０．７（Ｃ１０ ＯＡｃ），１５．１（Ｃ１８ ），１４．４（Ｃ１９）．ＨＲＦＡＢＭＳ：７−デオキシ−６α−ヒドロキシパ クリタクセル：ｍ／ｚ［ＭＮａ］⁺８７６．３２０４，分子式：Ｃ₄₇Ｈ₅₁Ｏ₁₄Ｈ ＮＮａ，計算値：８７６．３２０７，誤差：０．３ｐｐｍ． ¹Ｈ ＮＭＲ：１０−デアセトキシ−７−デオキシ−６α−ヒドロキシパクリ タクセル〔IIIｂ〕：（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，４００ＭＨｚ）δ８．１５（ｄ，２ Ｈ），７．７４（ｄ，２Ｈ），７．６２（ｔ，１Ｈ），７．５４−７．３０（ｍ ，５Ｈ），７．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４，Ｈ_NH），６．１３（ｔ，１Ｈ，Ｊ ＝８．８，Ｈ₁₃），５．７９（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝８．９，２．７，Ｈ_3'），５．６ ８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０，Ｈ₂），４．７９（ｂｓ，１Ｈ，Ｈ₅），４．７７（ ｑ，１Ｈ，Ｊ＝２．４，５．２，Ｈ_2'），４．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４，Ｈ₂₀ ），４．１７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．４，Ｈ₂₀），４．１２（ｍ，１Ｈ，Ｈ₆ ），３．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９，Ｈ₃），３．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６ ．６，Ｈ₁₀），３．４９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，Ｈ_2'-OH），３．３６（ｂｄ ，１Ｈ，Ｊ＝１５．６，Ｈ₁₀），２．４１−２．２６（ｍ，２Ｈ，Ｈ₁₄），２． ００−１．９６（ｍ，２Ｈ，Ｈ₇），２．４１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．７０ （ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．６８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃），１．１７（ｓ，３Ｈ ，−ＣＨ₃），１．１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）．¹³Ｃ ＮＭＲ：１０−デアセトキ シ−７−デオキシ−６α−ヒドロキシパクリタクセル（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ，１ ００ＭＨｚ）δ２１０．１（Ｃ９），１７２．８（Ｃ１’），１７０．７（Ｃ４ カルボニル），１６７．０（Ｃアミド），１６７．０（Ｃ２カルボニル），１３ ８．０（Ｃ１２），１３３．７，１３３．６（Ｃ１１），１３２．３，１３１． ９，１３０．２，１２９．２，１２９．０，１２８．７，１２８．７，１２８． ６，１２８．３，１２７．０，１２６．９，９２．６（Ｃ５），８３．７（Ｃ４ ），７８．９（Ｃ１），７６．４（Ｃ２０），７５．５（Ｃ２），７３．１（Ｃ ２’），７２．６（Ｃ１３），７０．８（Ｃ６），５５．４（Ｃ８），５５．０ （Ｃ３’），４４．８（Ｃ３），４４．２（Ｃ１０），４４．１（Ｃ７），４２ ．７（Ｃ１５），３６．１（Ｃ１４），２５．２（Ｃ１７），２３．４（Ｃ１６ ），２２．７（Ｃ４ ＯＡｃ），１５．５（Ｃ１８），１４．０（Ｃ１９）．Ｈ ＲＦＡＢＭＳ：１０−デアセトキシ−７−デオキシ−６α−ヒドロキシパクリタ クセル：ｍ／ｚ［ＮＮａ］⁺８１８．３１３１，分子式：Ｃ₄₅Ｈ₄₉Ｏ₁₂ＮＮａ， 計算値：８１８．３１５２，誤差：２．７ｐｐｍ．例 ２ ７−デオキシ−６−ケトパクリタクセル〔IIIｃ〕の製造−（反応式IV） ＣＨ₂Ｃｌ₂（３ｍｌ）中のアルコール６ａ（０．１９３ｇ、０．２ミリモ ル）とＮＭＯ（０．０４９ｇ、０．４１９ミリモル）の溶液を、ＴＰＡＰ（１０ モル％）を固体として加える前に、４Åモレキュラーシーブ上で１０分間攪拌し た。反応を１５分間攪拌した。溶液をセライトに通し、濃縮し、ＥｔＯＡｃで希 釈し、Ｎａ₂ＳＯ₃および塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、 濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理して０．１４５ｇのケトン １１ａ（７５％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₃Ｈ₆₄Ｏ₁₄ＮＳｉ計算値：９６６．実測値：９６ ６． Ｃ₅₃Ｈ₁₄Ｏ₁₄ＮＳｉ−Ｈ₂Ｏ計算値：Ｃ，６４．４８：Ｈ，６．６５；Ｎ，１ ．４２．実測値：Ｃ，６４．７３；Ｈ，６．５４；Ｎ，1．３６． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４２（ｂｒ．），２９５６，１７３０，１６６６，１４８ ４，１３７２，１２４２ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ， ２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），７．６０−７．３１（ｍ，１ １Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４２（ｓ，１Ｈ），６． ２７（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．７４−５．６９（ｍ，２Ｈ），４．８２（ｓ， １Ｈ），４．６８（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），４．３９（ｄｄ，Ｊ＝１９． ５，８．７Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），３．１５（ ｄ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ，１Ｈ），２．５９（ｓ，３Ｈ），２．５１−２．４２（ ｍ，１Ｈ），２．３１（ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ，１Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ） ，２．１９−２．１０（ｍ，１Ｈ），１．９１（ｓ，３Ｈ），１．７２（ｓ，１ Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ），１．１１（ｓ，３Ｈ）， ０．７９（ｍ，９Ｈ），０．４２（ｍ，６Ｈ）． ＣＨ₃ＣＮ中のシリルケトン１１ａ（０．０５１ｇ、０．０５３ミリモル）の 溶液を０℃に希釈し、ＨＣｌ（１Ｎ、０．１０６ｍｌ、０．１０６ミリモル）を 加えた。反応を℃で１時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃ と塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。残渣 をシリカゲル上でクロマトグラフ処理し（１：１ ヘキサン／エチルアセテート ）そしてエチル／アセテート／ヘキサンから再結晶して０．０４１ｇの表記化合 物ケトンIIIｃ（８０％）を得た。 ＥＳＩＨＲＭＳ（Ｍ＋Ｎａ計算値Ｃ₄₇Ｈ₄₉Ｏ₁₄Ｎ Ｎａ：８７４．３０５１． 実測値：８７４．３０１４． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４８（ｂｒ．），２９５５，１７３２，１６５４，１３７ ４，１２４２ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１５（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ， ２Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６４−７．３４（ｍ，１ １Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），６． ２５（ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），５．８０（ｄ，Ｊ＝９．０，１Ｈ），５． ７０（ｄ，Ｊ＝７．５，１Ｈ），４．７９（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｄ，Ｊ＝８ ．４Ｈｚ，１Ｈ），４．３５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．１１（ｄ，Ｊ ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），３．４７（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），３．１１（ｄ ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ，１Ｈ），２．５０−２．４２（ｍ，４Ｈ），２．３３−２ ．２５（ｍ，３Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），１．８４（ｓ，４Ｈ），１．６６ （ｓ，３Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ），１．１２（ｓ，３Ｈ）． ¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，７５．５ＭＨｚ）δ２０２．４，２０２．１，１ ７２．９，１７０．９，１６９．６，１６７．３，１６６．８，１４１．０，１ ３７．９，１３３．９，１３３．６，１３３．３，１３２．０，１３０．３，１ ２９．１，１２９．０，１２８．９，１２８．７，１２８．４，１２７．１，１ ２７．０．８５．０，８４．４，７８．７，７８．２，７６．６，７５．２，７ ３．７，７３．１，７２．２，５５．０，５３．０，５１．０，４５．２，４３ ．０，３６．１，２６．２，２２．６，２１．６，２０．７，１６．３，１４． ５．例 ３ ７−デオキシ−６−β−ヒドロキシパクリタクセル〔IIIｄ〕の製造−（反応式 Ｖ） ケトン１１ａ（０．０８４ｇ、０．０８７ミリモル）を３ｍｌのＥｔＯＨにと かし、０℃に冷却した。ＮａＢＨ₄（０．００３ｇ、０．０８７ミリモル）を固 体として加え、反応を０℃で１時間攪拌した。反応をＨ₂Ｏで急冷（停止し）、 エチルアセテートで希釈し、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濃縮 した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：１ ヘキサン／エチルア セテート）して、０．０６９３ｇの６β−アルコール１２ａ（８２％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₅₃Ｈ₆₄Ｏ₁₄ＮＳｉ；計算値９６６．実測値：９６ ６． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４２（ｂｒ．），２９５６，１７３２，１６６４，１４８ ５，１３７２，１２４２ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ， ２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７６．９Ｈｚ，Ｈ），７．５４−７．２９（ｍ，１ １Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），６．４４（ｓ，１Ｈ），６． ２４（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．６９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），４．９７ （ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｓ，１Ｈ），４．４６（ｄ，Ｊ＝８ ． １Ｈｚ，１Ｈ），４．２４（ｍ，２Ｈ），３．６５（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ ），２．７５（ｂｒ．ｄ．，１Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），２．４５−２．３ ５（ｍ，１Ｈ），２．２２−２．１０（ｍ，５Ｈ），１．８６（ｓ，３Ｈ），１ ．７７（ｓ，３Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），０．７８ （ｍ，９Ｈ），０．４１（ｍ，６Ｈ）． シリルエーテル１２ａ（０．０６３ｍｇ、０．０６５ミリモル）を５ｍｌのＣ Ｈ₃ＣＮにとかし、０℃に冷却し、ＨＣｌ（１Ｎ、０．１３０ｍｌ、０．１３０ ミリモル）を加え、反応を１時間攪拌した。溶液をエチルアセテートで希釈し、 ＮａＨＣＯ₃、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、そして濃縮 した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：２ ヘキサン／エチルア セテート）して、０．０５３ｇの表記化合物、ジオールIIIｄ（９５％）を得た 。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₄₇Ｈ₅₀Ｏ₁₄Ｎ：計算値８５２．実測値：８５２． Ｃ₄₇Ｈ₅₁Ｏ₁₄Ｎ：計算値Ｃ，６６．１１；Ｈ，６．０２；Ｎ，１．６４．実測 値：Ｃ，６５．９２；Ｈ，６．１４；Ｎ，１．５４． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４２（ｂｒ．），２９４５，１７３２，１６４８，１３７ ２，１２４２ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ， ２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６１−７．２５（ｍ，１ １Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４１（ｓ，１Ｈ），６． １９（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．７８（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），５．６８ （ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），４．９５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４． ７８（ｍ，１Ｈ），４．４６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２２（ｍ，２ Ｈ），３．６６（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．４７（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ ，１Ｈ），２．７２（ｂｒ．ｄ．，１Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），２．３５− ２．２４（ｍ，２Ｈ），２．１９（ｓ，３Ｈ），２．１８−２．１１（ｍ，１Ｈ ），１．８５−１．７６（ｍ，２Ｈ），１．７８（ｓ，３Ｈ），１．５６（ｓ， ３Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ）．例 ４ ７−デオキシ−６β−ヒドロキシ−６α−メチルパクリタクセル〔IIIｅ〕の製 造 （反応式VI） シリルケトン11ａ（０．１００ｇ、０．１０４ミリモル）をＣＨ₂Ｃｌ₂にとか し、−２０℃に冷却し、Ｍｅ₃Ａｌ（ヘキサン中２．０Ｍ、０．４１５ｍｌ、０ ．８３０ミリモル）を注射針から加えた。反応を−１５〜−２０℃で３０分間攪 拌した。反応をＨ₂Ｏで急冷し、ＥｔＯＡｃで希釈し、塩水で洗った。溶液をＭ ｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ 処理（１：１ ヘキサン／エチルアセテート）して、０．０９０ｇの３級アルコ ール１３ａ（８８％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋ＮＨ₄ ⁺：Ｃ₅₄Ｈ₇₁Ｏ₁₄Ｎ₂Ｓｉ：計算値９９９．実測値 ：９９９． Ｃ₅₄Ｈ₆₇Ｏ₁₄ＮＳｉ−Ｈ₂Ｏ計算値：Ｃ，６４．８４；Ｈ，６．９５；Ｎ，１ ．４０．実測値：Ｃ，６４．５６；Ｈ，６．８６；Ｎ，１．２１． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４４（ｂｒ．），２９５６，１７３４，１２４４，７１０ ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ， ２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６０−７．３１（ｍ，１ １Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４２（ｓ，１Ｈ），６． ２４（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．７３−５．６４（ｍ，２Ｈ），４．６７（ｄ， Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），４．５７（ｓ，１Ｈ），４．４３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ ｚ，１Ｈ），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），３．７３（ｄ，Ｊ＝６． ９Ｈｚ，１Ｈ），３．２２（ｓ，１Ｈ），２．５５（ｓ，３Ｈ），２．４３−２ ．３５（ｍ，１Ｈ），２．１９（ｓ，３Ｈ），２．１４−２．０６（ｍ，１Ｈ） ，１．９８−１．８１（ｍ，２Ｈ），１．８８（ｓ，３Ｈ），１．７５（ｓ，３ Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ）， ０．７８（ｍ，９Ｈ），０．４４（ｍ，６Ｈ）． ２’保護３級アルコール１３ａ（０．０７７ｇ、０．０７８ミリモル）を３ｍ ｌのＴＨＦにとかし、エチルアセテートで希釈したＢｕ₄ＮＦ（０．０８６ｍｌ 、ＴＨＦ中１．０Ｍ、０．０８６ミリモル）と共に振とうし、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗 った。溶液をＭｇＳＯ。上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上で クロマトグラフ処理（１：１ ヘキサン／エチルアセテート）して、０．０５７ ２ｇの３級アルコールIIIｅ（８５％）を得た。 ＥＳＩＨＲＭＳ Ｍ＋Ｎａ：Ｃ₄₈Ｈ₅₃Ｏ₁₄Ｎ Ｎａ：計算値８９０．３３６４ ．実測値：８９０．３３８９． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４２（ｂｒ．），１７３６，１６４８，１３７２，１２４ ２ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ， ２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６１−７．３３（ｍ，１ １Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），６． １９（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．７８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），５．６８ （ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），４．７７（ｍ，１Ｈ），４．５５（ｓ，１Ｈ） ，４．４２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１ Ｈ），３．７１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），３．４４（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ ，Ｈ），３．１９（ｓ，１Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ），２．３５−２．２５（ ｍ，２Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），１．８１−１．７４（ｍ，２Ｈ），１．７ ７（ｓ，３Ｈ），１．７４（ｓ，３Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．１８（ｓ ，３Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ）．¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，７５．５Ｈｚ）δ２０５．０，１７２．６，１７ ０．１，１６６．９，１４０．０，１３７．８，１３３．６，１３１．９，１３ ０．１，１２９．１，１２８．９，１２８．７，１２８．６，１２８．２，１２ ６．９，１２６．８，８９．９，８１．７，７８．８，７５．４，７３．７，７ ３．０，７２．１，６８．２，５４．８，５３．５，４８．６，４４．５，４２ ．７，３５．８，３１．３，２６．１，２２．５，２１．３，２０．７，１６． ２，１４．３．例 ５ ３’デスフェニル−３’−（２−フリール）−３’Ｎ−デベンゾイル−３’Ｎ− ｔ−ブトキシカルボニル−６α−ヒドロキシ−７−デオキシ−パクリタクセル 〔IIIｆ〕の製造−（反応式VII） メチレンクロリド中のジオール６ａ（６．０７ｇ、７．１０ミリモル）の溶液 を室温で６０時間テトラブチルアンモニウムボロヒドリド（３．０２ｇ、１１． ７３ミリモル）で処理した。酢酸（２５．６６ｍｌ）を反応混合物に徐々に加え 、溶液を濃縮した。残渣をシリカ上でクロマトグラフ処理（４：１ ヘキサン／ エチルアセテート）して３．２７ｇのバカチン誘導体１４ａを得た。 バカチン誘導体１４ａ（３．２７ｇ、５．５８ミリモル）をイミダゾール（１ ． １８ｇ、１７．３０ミリモル）と共にＤＭＦにとかした。ＴＥＳＣｌ（２．８１ ｍｌ、１６．７４ミリモル）を加え、反応を１時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃ で希釈し、Ｈ₂Ｏで、次いで塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し 、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（２：１ ヘキサン／エ チルアセテート）して２．５９２ｇ（５２％）のモノシリル化バカチンｌ５ａを 得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₃₇Ｈ₅₁Ｏ₁₁Ｓｉ：計算値６９９．実測値：６９９ ． ＩＲ（ＫＢｒ）３５２８（ｂｒ．），２９５６，１７１４，１４５４，１３７ ２，１２３０ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．０７（ｄ，Ｊ＝８．５７Ｈｚ ，２Ｈ）；７．６１−７．４３（ｍ，３Ｈ）：６．４４（ｓ，１Ｈ）；５．５７ （ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）；４．８４（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；４．７０（ｄ， Ｊ＝１．８４Ｈｚ，１Ｈ）；４．２３（ａｂ ｑ，Ｊ＝１６．９，８．３６Ｈｚ ，２Ｈ）；４．１６−４．１０（ｍ，１Ｈ）；３．９５（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ， １Ｈ）；２．３６−２．１４（ｍ，９Ｈ）；２．０５（ｓ，４Ｈ）；１．７１− １．５６（ｍ，５Ｈ）；１．０６（ｓ，６Ｈ）；０．８８（ｍ，９Ｈ）；０．５ ２（ｍ，６Ｈ）． モノシリルバカチン誘導体１５ａ（１．００ｇ、１．４３ミリモル）をＴＨＦ にとかし、−７８℃に冷却した。ｎ−ＢｕＬｉ（０．７２ｍｌ、ヘキサン中２． ５Ｍ、１．７９ミリモル）を加え、反応を−７８℃で1０分間攪拌した。ラクタ ム１６ａ（±）シス−３，４−（２−フリール）−３−トリエチルシリルオキシ −Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアゼチジン−２−オン（２．１０ｇ、５．７１ミ リモル）をＴＨＦ中の溶液として加えた。反応を０℃に加温し、０℃で５０分間 攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮＨ₄Ｃｌで洗い、次いで塩水で洗った 。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロ マトグラフ処理（２０％ エチルアセテート／ヘキサン）して、１．３１９ｇの 生成物９ｃ（８６％）を得た。 ビスシリルエーテル９ｃ（１．３２ｇ、１．１４９ミリモル）をＣＨ₃ＣＮに とかし、０℃に冷却した。水性ＨＣｌ（４．６ｍｌ、１Ｎ、４．６ミリモル）を 加え、反応を０℃で４５分間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃ で、次いで塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、真空濃縮した 。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理した（１：１ ヘキサン／ＥｔＯＡ ｃ）。反応は完了しなかった。出発物質を再び反応条件にかけた。反応をＥｔＯ Ａｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃で次いで塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し 、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：１ＥｔＯ Ａｃ／ヘキサン）して９４５ｍｇのジオールIIIｆ（９１％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₄₃Ｈ₅₄Ｏ₁₆Ｎ：計算値８４０．実測値：８４０． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４６（ｂｒ．），２９８０，１７１６，１４９６，１４５ ２，１３７０，１２４２ｃｍ^-1． Ｃ₄₃Ｈ₅₅Ｏ₁₇Ｎ−Ｈ₂Ｏ：計算値Ｃ，６０．２０；Ｈ，６．２３；Ｎ，１．６ ３．実測値：Ｃ，６０．４３；Ｈ，６．２８；Ｎ，１．５５． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ， ２Ｈ）；７．６３−７．４１（ｍ，４Ｈ）；６．４６（ｓ，１Ｈ）；６．３８（ ｍ，１Ｈ）；６．３１（ｍ，１Ｈ）；６．２２（ｔ，Ｊ＝９．２，１Ｈ），５． ６６（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ）；５．３４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）； ５．２０（ｄ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，１Ｈ）；４．７９（ｓ，１Ｈ）；４．７０ （ｓ，１Ｈ）；４．３０（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）；４．１４−４．０８（ ｍ，２Ｈ）；３．８０（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ）；３．２４（ｂｒ．ｓ，１ Ｈ）；２．４２−２．３８（ｍ，４Ｈ）；２．３３−２．２２（ｍ，４Ｈ）；２ ．１０−１．９６（ｍ，２Ｈ）；１．８９（ｓ，３Ｈ）；１．７１（ｓ，４Ｈ） ；１．３３（ｓ，９Ｈ）；１．２２（ｓ，３Ｈ）；１．１３（ｓ，３Ｈ）．例 ６ 〔IIIｇ〕の製造 モノシリルバカチン誘導体１５ａ（１．４００ｇ、２．００ミリモル）をＴＨ Ｆにとかし、−７８℃に冷却した。ｎ−ＢｕＬｉ（１．０ｍｌ、ヘキサン中２． ５Ｍ、２．５ミリモル）を加え、反応を−７８℃で１５分間攪拌した。ラクタム １６ｂ（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−ヘキサノイル−４−フェニル−３−トリエチルシリ ロキシアゼチジン−２−オン（３．００ｇ、８．００ミリモル）をＴＨＦ中の溶 液として加えた。反応を０℃に加温し、０℃で５０分間攪拌し、ＥｔＯＡｃで希 釈し、ＮＨ₄Ｃｌで、次いで塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し 、真空濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（２０％エチルアセ テート／ヘキサン）して１．６１５ｇのビスシリルエーテル９ｄ（７５％）を得 た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₅₈Ｈ₈₄Ｏ₁₄ＮＳｉ₂：計算値１０７４．実測値： １０７４． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４０（ｂｒ．），２９５８，１７３６，１６８２，１４９ ６，１３７２，１２４４ｃｍ^-1． Ｃ₅₈Ｈ₈₅Ｏ₁₄ＮＳｉ₂：計算値Ｃ，６４．７１；Ｈ，７．９６；Ｎ，１．３０ ．実測値：Ｃ，６４．４８；Ｈ，7．９７；Ｎ，１．３０．¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１１（ｄ，Ｊ＝７．０３Ｈｚ ，２Ｈ）；７．６０−７．４６（ｍ，３Ｈ）；７．３７−２．２２（ｍ，５Ｈ） ；６．４４（ｓ，１Ｈ）；６．３４（ｄ，Ｊ＝９．１３Ｈｚ，１Ｈ）；６．２３ （ｔ，Ｊ＝９．０１Ｈｚ，１Ｈ）；５．６３（ｄ，Ｊ＝７．４１ＨＺ，１Ｈ）， ５．５４（ｄ，Ｊ＝７．７６Ｈｚ，１Ｈ）；４．６８（ｄ，Ｊ＝２．０８Ｈｚ， １Ｈ）；４．５５（ｄ，Ｊ＝１．９７Ｈｚ，１Ｈ）；４．２５（ｓ，２Ｈ）；４ ．１４（ｍ，１Ｈ）；３．８７（ｄ，Ｊ＝７．３５Ｈｚ，１Ｈ）；２．５０（ｓ ，３Ｈ）；２．４５−２．３７（ｍ，１Ｈ）；２．２２−２．０９（ｍ，７Ｈ） ；１．９１（ｓ，３Ｈ）；１．７５（ｓ，１Ｈ）；１．７１−１．６４（ｍ，４ Ｈ）；１．６１（ｓ，２Ｈ）；１．５３（ｂｒ．ｔ，２Ｈ）；１．２４−１．１ ８（ｍ，８Ｈ）；１．１１（ｓ，３Ｈ）；０．９１−０．８６（ｍ，９Ｈ）；０ ．８１−０．７３（ｍ，９Ｈ）；０．５７−０．４９（ｍ，６Ｈ）；０．４７− ０．２５（ｍ，６Ｈ）． ビスシリルエーテル９ｄ（１．６５２ｇ、１．５４ミリモル）をＣＨ₃ＣＮに とかし、０℃に冷却した。ＨＣｌ（３．１８ｍｌ、１．０Ｎ、３．１８ミリモル ）を加え、反応を０℃で７５分間攪拌し、ＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₂で 、次いで塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣 をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（６０％エチルアセテート／ヘキサン）し て１．１４４ｇ（８７％）のジオールIIIｇを得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₄₆Ｈ₅₈Ｏ₁₄Ｎ：計算値８４８．実測値：８４８． ＩＲ（ＫＢｒ）３４２０（ｂｒ．），２９５６，１７２６，１６３６，１４５ ２，１３７２，１２４６ｃｍ^-1． Ｃ₄₆Ｈ₅₇Ｏ₁₄Ｎ：計算値Ｃ，６５．１６；Ｈ，６．７８；Ｎ，１．６５．実測 値：Ｃ，６４．８２：Ｈ，６．７１；Ｎ，１．５４． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１１（ｄ，Ｊ＝７．３６Ｈ ｚ，２Ｈ）；７．６３−７．５８（ｍ，１Ｈ）；７．５２−７．４７（ｍ，２Ｈ ）；７．３９−７．３１（ｍ，５Ｈ）；６．４３（ｓ，１Ｈ）；６．１９−６． １３（ｍ，２Ｈ）；５．６４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）；５．５６（ｄ，Ｊ ＝６．６６Ｈｚ，１Ｈ）；４．７６（ｓ，１Ｈ）；４．６４（ｍ，１Ｈ）；４． ２８（ｄ，Ｊ＝８．４２Ｈｚ，１Ｈ）；４．１３（ｄ，Ｊ＝８．２７Ｈｚ，１Ｈ ）；４．０８（ｍ，１Ｈ）；３．７５（ｄ，Ｊ＝７．３５Ｈｚ，１Ｈ）；３．３ ８（ｄ，Ｊ＝５．３７Ｈｚ，１Ｈ）；２．４１−２．２７（ｍ，４Ｈ）；２．２ ４−２．１４（ｍ，６Ｈ）；２．０４−１．９７（ｍ，２Ｈ）；１．８８−１． ８２（ｍ，４Ｈ）；１．７３−１．７０（ｍ，４Ｈ）；１．５５（ｓ，４Ｈ）； １．２２−１．２０（ｍ，６Ｈ）；１．１２（ｓ，２Ｈ）；０．８３−０．７８ （ｍ，３Ｈ）．例 ７ 〔IIIｈ〕の製造−（反応式VII） モノシリルバカチン誘導体１５ａ（０．８００ｇ、１．１４ミリモル）をＴＨ Ｆにとかし、−７８℃に冷却した。ｎ−ＢｕＬｉ（０．５７１ｍｌ、ヘキサン中 ２．Ｍ、１．４２８ミリモル）を加え、反応を−７８℃で１５分間攪拌した。ラ クタム１６ｃ（±）−シス−Ｎ−ベンゾイル−４−（４−フルオロフェニル）− ３−トリエチルシリオキシアセチジン−２−オン（２．４２ｇ、６．０６５ミリ モル）をＴＨＦ中の溶液として加えた。反応を−７８℃で３０分間、そして０℃ で３０分間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮＨ₄Ｃｌで、次いで塩水で 洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上 でクロマトグラフ処理（２０％ エチルアセテート／ヘキサン）して１．０９４ ｇのビスシリルエーテル９ｅ（７５％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₉Ｈ₇₉Ｏ₁₄ＮＳｉ₂Ｆ：計算値１１００．実測値 ：１１００． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４４（ｂｒ．），２９５６，１７３６，１６７１，１４８ ２，１３７０，１２３２ｃｍ^-1． Ｃ₅₉Ｈ₇₈Ｏ₁₄ＮＳｉ₂Ｆ：計算値Ｃ，６４．４０；Ｈ，７．１４；Ｎ，１．２ ７．実測値：Ｃ，６４．１４；Ｈ，６．９５；Ｎ，１．３１． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１１（ｄ，Ｊ＝６．９９Ｈ ｚ，２Ｈ）；７．７２−７．７０（ｍ，２Ｈ）；７．６１−７．３０（ｍ，９Ｈ ）；７．０８（ｔ，Ｊ＝８．８５Ｈｚ，２Ｈ）；６．４３（ｓ，１Ｈ）；６．２ ５（ｔ，＝８．８３Ｈｚ，１Ｈ）；５．６７−５．６１（ｍ，２Ｈ）；４．６８ （ｄ，Ｊ＝２．０９Ｈｚ，１Ｈ）；４．６１（ｄ，Ｊ＝１．９７Ｈｚ，１Ｈ）； ４．２６−４．２４（ｍ，２Ｈ）；４．１４（ｍ，１Ｈ）；３．８８（ｄ，Ｊ＝ ７．３３Ｈｚ，１Ｈ）；２．５２（ｓ，３Ｈ）；２．４６−２．３７（ｍ，１Ｈ ）；２．２３−２．１１（ｍ，４Ｈ）；１．９１（ｓ，３Ｈ）；１．７１−１． ６５（ｍ，６Ｈ）；１．２５−１．１７（ｍ，３Ｈ）；１．０９（ｓ，３Ｈ）； ０．９３−０．７７（ｍ，１８Ｈ）；０．５９−０．３２（ｍ，１２Ｈ）． ビスシリルエーテル９ｅ（０．４１９ｇ、０．３８１ミリモル）をＣＨ₃ＣＮ にとかし、０℃に冷却した。ＨＣｌ（０．１５２ｍｌ、１．０Ｎ、０．１５２ミ リモル）を加え、反応を０℃で１時間攪拌した。ＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＨＣ Ｏ₃、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。残 渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（２：１ エチルアセテート／ヘキサ ン）して、０．２８９ｇ（７２％）のジオールIIIｈと約１５％の他の側鎖ジア ステレオマーを得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₄₇Ｈ₄₉Ｏ₁₄ＮＦ：計算値８７０．実測値：８７０ ． ＩＲ（ＫＢｒ）３４２７（ｂｒ．），２９４８，１７２９，１６５２，１５１ １，１３７１，１２３７ｃｍ^-1． Ｃ₄₇Ｈ₅₀Ｏ₁₄ＮＦ：計算値Ｃ，６４．７４：Ｈ，５．７８；Ｎ，１．６１．実 測値：Ｃ，６４．５２；Ｈ，５．９５；Ｎ，１．５３． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１３（ｄ，Ｊ＝８．２２Ｈ ｚ，２Ｈ）；７．６９（ｄ，Ｊ＝８．１４Ｈｚ，２Ｈ）；７．６０−７．３４（ ｍ，９Ｈ）；７．０９（ｔ，Ｊ＝８．５１Ｈｚ，２Ｈ）；６．９０（ｄ，Ｊ＝９ ＨＺ，１Ｈ）；６．４２（ｓ，１Ｈ）；６．２１（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ）；５ ．７６（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ）；５．６４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ） ；４．７７−４．７４（ｍ，２Ｈ）；４．２９（ｄ，Ｊ＝８．６７Ｈｚ，１Ｈ） ；４．１４（ｄ，Ｊ＝８．４３Ｈｚ，１Ｈ）；４．１３−４．０７（ｍ，１Ｈ） ；３．７７（ｄ，Ｊ＝７．１６Ｈｚ，１Ｈ）；３．５７（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；２ ．４０（ｓ，３Ｈ）；２．３５−２．１９（ｍ，５Ｈ）；２．０５−１．９７（ ｍ，３Ｈ）；１．８１（ｓ，３Ｈ）；１．７０（ｓ，４Ｈ）；１．８９（ｓ，３ Ｈ）；１．１１（ｓ，３Ｈ）．例 ８ 〔IIIｉ〕の製造−（反応式VIII） ジオールIIIｆ（０．９４５ｇ、１．１２５ミリモル）とＮＭＯ（０．２７６ ｇ、２．３６ミリモル）をＣＨ₂Ｃｌ₂にとかし、４Åモレキュラーシーブ上で１ ０分間攪拌し、０℃に冷却し、その後にＴＰＡＰ（０．０４０ｇ、０．１１２５ ミ リモル）を加えた。反応を０℃で１時間攪拌した。反応をセライトを介して濾過 し、濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃにとかし、Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₃、塩水で洗った。溶液 をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグ ラフ処理（１：１ ヘキサン／ＥｔＯＡｃ）して、０．３２７ｇのケトンIIIｉ （３５％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₄₃Ｈ₅₀Ｏ₁₆Ｎ：計算値８３６．実測値：８３６． ＩＲ（ＫＢｒ）３５４０（ｂｒ．），２９８２，１７３０，１４９８，１３７ ０，１２４０ｃｍ^-1． Ｃ₄₃Ｈ₅₁Ｏ₁₆Ｎ：計算値Ｃ，６１．６４；Ｈ，６．１３；Ｎ，１．６７．実測 値：Ｃ，６１．５９；Ｈ，６．２４；Ｎ，１．６９． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈ ｚ，２Ｈ）；６２−７．５８（ｍ，１）；７．５２−７．４７（ｍ，２Ｈ）；７ ．４１（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；６．４２（ｓ，１Ｈ）；６．３８−６．３６（ｍ， １Ｈ）；６．３２−６．３１（ｍ，１Ｈ）；６．２４（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ） ；５．６９（ｄ，Ｊ＝７．１５Ｈｚ，１Ｈ）；５．２７（ａｂ ｑ，Ｊ＝４０． ２５，９．８９Ｈｚ，２Ｈ）；４．８０（ｓ，１Ｈ）；４．７２−４．７０（ｍ ，１Ｈ）；４．３６（ａｂ ｑ，Ｊ＝２８．４，８．３６Ｈｚ，２Ｈ）；４．１ ４（ｄ，Ｊ＝７．１２Ｈｚ，１Ｈ）；３．２５（ｄ，Ｊ＝５．４９Ｈｚ，１Ｈ） ；３．１２（ｄ，Ｊ＝１３．９２Ｈｚ，１Ｈ）；２．４６−２．４１（ｍ，４Ｈ ）；２．３７−２．２９（ｍ，２Ｈ）；２．２１（ｓ，３Ｈ）；１．９０（ｓ， ３Ｈ）；１．６９−１．６５（ｍ，４Ｈ）；１．３２（ｓ，９Ｈ）；１．２４（ ｓ，３Ｈ）；１．１３（ｓ，３Ｈ）．例 ９ 〔IIIｊ〕の製造−（反応式VIII） ケトンIIIｉ（０．３００ｇ、０．３５８ミリモル）をＥｔＯＨにとかし、０ ℃に冷却し、その後にＮａＢＨ₄（０．０１４ｇ、０．３５８ミリモル）を固体 として加えた。反応を０℃で１時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、Ｈ₂ Ｏで、次いで塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。 残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：１ ヘキサン／ＥｔＯＡｃ）し て、０．２３７ｇのジオールIIIｊ（７９％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₄₃Ｈ₅₂Ｏ₁₆Ｎ：計算値８３８．実測値：８３８． ＩＲ（ＫＢｒ）３５４０（ｂｒ．），２９８０，１７１６，１４９８，１４５ ２，１３７０，１２４０ｃｍ^-1． Ｃ₄₃Ｈ₅₃Ｏ₁₆Ｎ：計算値Ｃ，６１．４９；Ｈ，６．３６；Ｎ，１．６７．実測 値：Ｃ，６１．３４；Ｈ，６．４２；Ｎ，１．５７． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．１９Ｈ ｚ，２Ｈ）；７．６１−７．５８（ｍ，１Ｈ）；７．５１−７．４８（ｍ，２Ｈ ）；７．４０（ｓ，１Ｈ）；６．４５（ｓ，１Ｈ），６．３５（ｍ，１Ｈ）；６ ．３１（ｍ，１Ｈ）；６．２３（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ），５．６９−５．６７ （ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）；５．２７（ａｂ ｑ，Ｊ＝４０．２５，９．８ ９Ｈｚ，２Ｈ）；４．９６（ｄ，Ｊ＝８．５１Ｈｚ，１Ｈ）；４．６８（ｍ，１ Ｈ）；４．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）；４．２１（ｍ，２Ｈ）；３．６ ７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）；３．２７（ｂｒ．ｄ，１Ｈ）；２．７２（ｂ ｒ．ｄ，１Ｈ）；２．４０−２．２０（ｍ，９Ｈ）；１．８５（ｓ，３Ｈ）；１ ．７６（ｓ，３Ｈ）；１．６８（ｓ，１Ｈ）；１．４４−１．４０（ｍ，１Ｈ） ；１．３２（ｓ，９Ｈ）；１．２１（ｓ，３Ｈ）；１．１２（ｓ，３Ｈ）．例 １０ 〔IIIｋ〕の製造−（反応式IX，Ｖ） ビスシリルエーテル９ｄ（０．９１７ｇ、０．８５３ミリモル）をＭｅＯＨに とかし、０℃に冷却した。触媒量のＤｏｗｅｘ Ｈ⁺樹脂を加え、反応を０℃で ３時間攪拌した。反応を濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラ フ処理（１．５：１ ヘキサン／ＥｔＯＡｃ）して、０．７２９ｇのモノ脱保護 アルコール６ｂ（８９％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₂Ｈ₇₂Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値９６２．実測値：９６ ２． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３８（ｂｒ．），２９５６，１７３３，１４９６，１３７ １，１２４３ｃｍ^-1． Ｃ₅₂Ｈ₇₁Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値Ｃ，６４．９１；Ｈ，７．４４；Ｎ，１．４６． 実測値：Ｃ，６４．７６；Ｈ，７．３３；Ｎ，１．５０． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１１（ｄ，Ｊ＝８．５２Ｈ ｚ，２Ｈ）；７．５９−７．５６（ｍ，１Ｈ）；７．５３−７．４８（ｍ，２Ｈ ）；７．３７−７．２２（ｍ，５Ｈ）；６．４６（ｓ，１Ｈ）；６．３３（ｄ， Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ）；６．２２（ｂｒ．ｔ，１Ｈ）；５．６５（ｄ，Ｊ＝７．３ Ｈｚ，１Ｈ）；５．５３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）；４．７９（ｓ，１Ｈ） ；４．５５（ｄ，Ｊ＝２．０５Ｈｚ，１Ｈ）；４．３０（ｄ，Ｊ＝８．１３Ｈｚ ，１Ｈ）；４．１５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）；４．１２（ｍ，１Ｈ）；３ ．７８（ｄ，Ｊ＝７．４５Ｈｚ，１Ｈ）；２．５０（ｓ，３Ｈ）；２．４５−２ ．３７（ｍ，２Ｈ）；２．２２−２．１７（ｍ，７Ｈ）；２．０３（ｄ，Ｊ＝９ Ｈｚ，２Ｈ）；１．８９（ｓ，４Ｈ）；１．７１（ｓ，４Ｈ）；１．２４−１． １２（ｍ，１２Ｈ）；０．７９−０．７４（ｍ，９Ｈ）；０．４５−０．２９（ ｍ，６Ｈ）． モノシリルアルコール６ｂ（０．７２０ｇ、０．７４９ミリモル）とＮＭＯ（ ０．１８４ｇ、１．５７３ミリモル）をＣＨ₂Ｃｌ₂にとかし、４Åモレキュラー シーブ上で５分間攪拌し、その後にＴＰＡＰ（０．０２６ｇ、０．０７５ミリモ ル）を加えた。反応を１時間攪拌した。反応をセライトを介して濾過し、濃縮し た。残渣をＥｔＯＡｃにとかし、Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₃、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄ 上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（２ ：１ヘキサン／ＥｔＯＡｃ）して０．６４８ｇのシリルケトン１１ｂ（９０％） を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₂Ｈ₇₀Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値９６０．実測値：９６ ０． ＩＲ（フィルム）３４３７（ｂｒ．），２９５６，１７２９，１６７６，１２ ４１，７５２，７０９ｃｍ^-1． Ｃ₅₂Ｈ₆₉Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値Ｃ，６５．０５；Ｈ，７．２４；Ｎ，１．４６． 実測値：Ｃ，６４．８３；Ｈ，７．２３；Ｎ，１．４９． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝８．５５Ｈ ｚ，２Ｈ）；７．６２−７．５７（ｍ，１Ｈ）；７．５３−７．４８（ｍ，２ Ｈ）；７．３９−７．２３（ｍ，５Ｈ）；６．４３（ｓ，１Ｈ）；６．３５（ｄ ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，１Ｈ）；６．２５（ｔ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ）；５．７１ （ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）；５．５７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）；４． ８１（ｓ，１Ｈ）；４．５８（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ）；４．３８（ｄｄ， Ｊ＝１７，８．４Ｈｚ，２Ｈ）；４．１２（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ）；３． １４（ｄ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ，１Ｈ）；２．５５（ｓ，３Ｈ）；２．４７−２． １７（ｍ，８Ｈ）；１．９１−１．８７（ｍ，４Ｈ）；１．６７（ｓ，３Ｈ）； １．６２（ｓ，３Ｈ）；１．５３（ｍ，２Ｈ）；１．２６（ｓ，３Ｈ）；１．２ ３−１．１８（ｍ，４Ｈ）；１．１２（ｓ，３Ｈ）；０．８１−０．７４（ｍ， ９Ｈ）；０．４９−０．２８（ｍ，６Ｈ）． シリルケトン１１ｂ（０．３００ｇ、０．３１３ミリモル）をＥｔＯＨにとか し、０℃に冷却し、その後にＮａＢＨ₄（０．０１２ｇ、０．３１３ミリモル） を固体として加えた。反応を０℃で１時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し 、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣 をシリカゲル上でクロマトグラフ処理した。残渣をＣＨ₃ＣＮにとかし、０℃に 冷却した。ＨＣｌ（０．６２６ｍｌ、１Ｎ、０．６２６ミリモル）を加え、反応 を０℃で１時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃、塩水で洗 った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上で クロマトグラフ処理（１：２ ヘキサン／ＥｔＯＡｃ）して０．２１６ｇのジオ ールIIIｋ（８２％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₄₆Ｈ₅₆Ｏ₁₄Ｎ：計算値８４６．実測値：８４６． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４０（ｂｒ．），２９３１，１７３５，１６３７，１４５ ２，１３７１，１２３９ｃｍ^-1． Ｃ₄₆Ｈ₅₇Ｏ₁₄Ｎ：計算値Ｃ，６５．１６；Ｈ，６．７８；Ｎ，１．６５．実測 値：Ｃ，６４．８６；Ｈ，６．７２；Ｎ，１．５６． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ）；７．６０−７．２９（ｍ，８Ｈ）；６．４１（ｓ，１Ｈ）；６．１７ −６．１４（ｍ，２Ｈ）；５．６６（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ）；５．５４（ ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ）；４．９１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）；４．６ ５− ４．６２（ｍ，１Ｈ）；４．４１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ）；４．２０（ｄ ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ）；３．６２（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ）；２．７０ （ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）；２．３４（ｓ，３Ｈ）；２．３１−２．１３（ ｍ，８Ｈ）；１．８４−１．７５（ｍ，８Ｈ）；１．５２（ｍ，２Ｈ）；１．２ ５−１．１７（ｍ，８Ｈ）；１．０９（ｓ，３Ｈ）；０．７９（ｍ，３Ｈ）．例 １１ 〔III１〕の製造−（反応式IX，Ｖ） ビスシリルエーテル９ｅ（０．５７５ｇ、０．５２３ミリモル）をＭｅＯＨに とかし、０℃に冷却した。触媒量のＤｏｗｅｘ Ｈ⁺樹脂を加え、反応を０℃で ３時間攪拌した。反応を濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラ フ処理（２：１ ヘキサン／ＥｔＯＡｃ）して、０．３１３ｇのモノシリルエー テル６ｃ（６１％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₃Ｈ₆₅Ｏ₁₄ＮＳｉＦ：計算値９８６．実測値：９ ８６． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３９（ｂｒ．），２９５５，１７３２，１５１０，１４８ ３，１３７１，１２３５ｃｍ^-1． Ｃ₅₃Ｈ₆₄Ｏ₁₄ＮＳｉＦ：計算値Ｃ，６４．５５；Ｈ，６．５４；Ｎ，１．４２ ． 実測値：Ｃ，６４．５４；Ｈ，６．４６；Ｎ，１．４９． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ ，２Ｈ）；７．７０（ｄ，Ｊ＝７．１６Ｈｚ，２Ｈ）；７．６０−７．２９（ｍ ，８Ｈ）；７．０７（ｍ，３Ｈ）；６．４５（ｓ，１Ｈ）；６．２３（ｂｒ．ｔ ，１Ｈ）；５．６４（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）；４．８０（ｓ，１Ｈ）；４ ．６１（ｓ，１Ｈ）；４．３１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）；４．１７−４． １０（ｍ，２Ｈ）；３．７９−３．７２（ｍ，２Ｈ）；２．５２（ｓ，３Ｈ）； ２．５０−２．３７（ｍ，２Ｈ）；２．１９（ｓ，３Ｈ）；２．０１（ｄ，Ｊ＝ ８．９Ｈｚ，２Ｈ）；１．８９（ｓ，３Ｈ）；１．８５−１．８１（ｍ，１Ｈ） ；１．７１−１．６７（ｍ，４Ｈ）；１．１９（ｓ，３Ｈ）；１．１０（ｓ，３ Ｈ）；０．８３−０．７８（ｍ，９Ｈ）；０．５１−０．３６（ｍ，６Ｈ）． モノシリルアルコール６ｃ（０．３０５ｇ、０．３０９ミリモル）とＮＭＯ（ ０．０７６ｇ、０．６４９ミリモル）をＣＨ₂Ｃｌ₂にとかし、４Åモレキュラー シーブ上で１０分間攪拌し、その後にＴＰＡＰ（０．０１１ｇ、０．０３ミリモ ル）を加えた。反応をセライトを介して濾過し、濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃに とかし、Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₃、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃 縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（２：１ ヘキサン／ＥｔＯ Ａｃ）して０．２６６ｇの１１ｃ（８７％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₅₃Ｈ₆₁Ｏ₁₄ＮＳｉＦ：計算値９８２．実測値：９ ８２． ＩＲ（フィルム）３４３９（ｂｒ．），２９５６，１７２８，１６７９，１３ ７１，１２４１ｃｍ^-1． Ｃ₅₃Ｈ₆₂Ｏ₁₄ＮＳｉＦ：計算値Ｃ，６４．６８；Ｈ，６．３５；Ｎ，１．４２ ． 実測値：Ｃ，６４．６６；Ｈ，７．０８；Ｎ，１．４９． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ ，２Ｈ）；７．７１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ）；７．５８−７．４５（ｍ， ４Ｈ）；７．４０−７．２８（ｍ，４Ｈ）；７．１１−７．０５（ｍ，３Ｈ）； ６．４２（Ｓ，１Ｈ）；６．２７（ｔ，Ｊ＝９．２ＨＺ，１Ｈ）；５．７１−５ ．６９（ｍ，２Ｈ）；４．８１（ｓ，１Ｈ）；４．６４（ｍ，１Ｈ）；４．３９ （ａｂ ｑ，Ｊ＝１９．４，８．１９Ｈｚ，２Ｈ）；４．１２（ｄ，Ｊ＝７．３ Ｈｚ，１Ｈ）；３．１３（ｄ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ，１Ｈ）；２．５７（ｓ，３Ｈ ）；２．４９−２．４０（ｍ，２Ｈ）；２．１９−２．１０（ｍ，４Ｈ）；１． ９１（ｓ，３Ｈ）；１．７４（ｓ，１Ｈ）；１．６６（ｓ，３Ｈ）；１．２１（ ｓ，３Ｈ）；１．１１（ｓ，３Ｈ）；０．８４−０．７９（ｍ，９Ｈ）；０．５ ５−０．３７（ｍ，６Ｈ）． シリルケトン１１ｃ（０．２６０ｇ、０．２６４ミリモル）をＥｔＯＨにとか し、０℃に冷却し、その後にＮａＢＨ₄（０．０１０ｇ、０．２６４ミリモル） を固体として加えた。反応を０℃で１時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し 、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣 をＣＨ₃ＣＮにとかし、０℃に冷却した。ＨＣｌ（０．５２８ｍｌ、１Ｎ、０． ５２８ミリモル）を加え、反応を０℃で１時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希 釈し、ＮａＨＣＯ₃、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮 した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：２ ヘキサン／ＥｔＯＡ ｃ）して、０．１８２ｇ（７９％）のジオールIII１を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₄₇Ｈ₄₉Ｏ₁₄ＮＦ：計算値８７０．実測値：８７０ ． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３０（ｂｒ．），２９４４，１７３１，１６５２，１５１ ０，１４８５，１３７１，１２３８ｃｍ^-1． Ｃ₄₇Ｈ₅₀Ｏ₁₄ＮＦ：計算値Ｃ，６４．７４；Ｈ，５．７８；Ｎ，１．６１．実 測値：Ｃ，６４．４４；Ｈ，５．７７；Ｎ，１．５５． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ）；７．６８（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ）；７．６０−７．３４（ｍ， ９Ｈ）；７．０７（ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）；６．９１（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈ ｚ， １Ｈ）；６．４０（ｓ，１Ｈ）；６．１９（ｂｒ．ｔ，１Ｈ）；５．７４（ｄ， Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ）；５．６７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ）；４．９３（ ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）；４．７２（ｍ，１Ｈ）；４．４３（ｄ，Ｊ＝７． ８Ｈｚ，１Ｈ）；４．２１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ，２Ｈ）；３．６４（ｄ，Ｊ＝６ ．９Ｈｚ，１Ｈ）；３．５３（ｄ，Ｊ＝４．７３Ｈｚ，１Ｈ）；２．６９（ｄ， Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）；２．３８−２．３２（ｍ，４Ｈ）；２．２８−２．１ ５（ｍ，４Ｈ）；１．８５−１．７４（ｍ，８Ｈ）；１．２０（ｓ，３Ｈ）；１ ．０９（ｓ，３Ｈ）．例 １２ 〔IIIｍ〕の製造−（反応式Ｘ） アルコール６ａ（０．５１３ｇ、０．５３１ミリモル）をＴＨＦ（１０ｍｌ） にとかし、−５０℃に冷却した。ＬｉＨＭＤＳ（０．６３７ｍｌ、ＴＨＦ中１． Ｍ、０．６３７ミリモル）を加え、反応を−５０℃で１５分間攪拌した。ＭＯＭ Ｂｒ（０．０５２ｍｌ、０．６３７ミリモル）を加え、反応を０℃に３０分間加 温し、０℃で１時間攪拌した。反応をＨ₂Ｏで急冷し、エチルアセテートで抽出 した。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマト グラフ処理（１：１ ヘキサン／エチルアセテート）して、０．４７６ｇのメト キシメチルエーテル１７ａ（８９％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₅Ｈ₇₀Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値１０１２．実測値：１ ０１２． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４２（ｂｒ．），２９５４，１７３４，１６７０，１４８ ３，１３７１，１２３２ｃｍ^-1． Ｃ₅₅Ｈ₆₉Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値Ｃ，６５．２６：Ｈ，６．８７；Ｎ，１．３８． 実測値：Ｃ，６５．５８；Ｈ，６．８８；Ｎ，１．４３． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ）；７．７１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）；７．６１−７．２８（ｍ， １１Ｈ）；７．１１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）；６．４８（ｓ，１Ｈ）；６ ．２４（ｂｒ．ｔ，１Ｈ）；５．６９（ｔ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，２Ｈ）；４．８６ （ｓ，１Ｈ）；４．７７−４．６３（ｍ，３Ｈ）；４．３０（ａｂ ｑ，Ｊ＝２ ０．５，８．５Ｈｚ，２Ｈ）；４．１４（ｍ，１Ｈ）；３．９０（ｄ，Ｊ＝７． ０Ｈｚ，１Ｈ）；３．３２（ｓ，３Ｈ）；２．５５−２．４２（ｍ，４Ｈ）；２ ．２１−２．１０（ｍ，５Ｈ）；２．０４−１．９１（ｍ，４Ｈ）；１．２５− １．１２（ｍ，６Ｈ）；０．９３−０．７７（ｍ，９Ｈ）；０．５０−０．３７ （ｍ，６Ｈ）． シリルエーテル１７ａ（０．４４６ｇ、０．４４１ミリモル）を１５ｍｌのＣ Ｈ₃ＣＮにとかし、０℃に冷却した。ＨＣｌ（０．８８２ｍｌ、１Ｎ、０．８８ ２ミリモル）を加え、反応を０℃で１時間攪拌した。反応をＮａＨＣＯ₃（飽和 ）で急冷し、エチルアセテートで抽出した。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過 し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：２ ヘキサン／ エチルアセテート）して、０．３４４ｇのメトキシメチルエーテルIIIｍ（８７ ％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₄₉Ｈ₅₆Ｏ₁₅Ｎ：計算値８９８．実測値：８９８． ＩＲ（ＫＢｒ）３４２８（ｂｒ．），２９４８，１７３４，１６６４，１４８ ５，１３７１，１２３２ｃｍ^-1． Ｃ₄₉Ｈ₅₅Ｏ₁₅Ｎ：計算値Ｃ，６５．５４；Ｈ，６．１７；Ｎ，１．５６．実測 値：Ｃ，６５．３７；Ｈ，６．０６；Ｎ，１．３７． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ）；７．７１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）；７．６３−７．３４（ｍ， １１Ｈ）；６．９４（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ）；６．４３（ｓ，１Ｈ）；６ ．２１（ｔ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１Ｈ）；５．８０（ｄｄ，Ｊ＝１７．８，９．９ Ｈｚ，１Ｈ）；５．６４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）；４．８１（ｓ，１Ｈ） ；４．７７−４．７４（ｍ，１Ｈ）；４．６０（ａｂ ｑ，Ｊ＝８．９，６．８ Ｈｚ，２Ｈ）；４．２７（ａｂ ｑ，Ｊ＝１８．８，８．４Ｈｚ，２Ｈ）；４． １４−４．０７（ｍ，１Ｈ）；３．８７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）；３．４ １（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ）；３．３０（ｓ，３Ｈ）；２．４６−２．３７ （ｍ，４Ｈ）；２．２８−２．１０（ｍ，５Ｈ）；１．９３−１．８７（ｍ，１ Ｈ）；１．８１（ｓ，３Ｈ）；１．７１−１．６８（ｍ，４Ｈ）；１．２０（ｓ ，３Ｈ）；１．１２（ｓ，３Ｈ）．例 １３ 〔IIIｎ〕の製造−（反応式XI） アルコール７ａ（０．４７２ｇ、０．４８８ミリモル）をＴＨＦ（６ｍｌ）に とかし、−５０℃に冷却した。ＬｉＨＭＤＳ（０．５８６ｍｌ、ＴＨＦ中１Ｍ、 ０．５８６ミリモル）を加え、反応を−５０℃で１５分間攪拌した。ＭＯＭＢｒ （０．０４８ｍｌ、０．５８６ミリモル）を加え、反応を３０分にわたって０℃ に加温し、０℃で１時間攪拌した。反応をＨ₂Ｏで急冷し、エチルアセテートで 抽出した。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル 上でクロマトグラフ処理（１：１ ヘキサン／メチルアセテート）して、０．４ ５１ｇのモノシリルメトキシメチルエーテル１８ａ（９１％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₅Ｈ₇₀Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値１０１２．実測値：１ ０１２． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４５（ｂｒ．），２９５５，１７３１，１６７０，１４８ ３，１３７１，１２４２ｃｍ^-1． Ｃ₅₅Ｈ₆₉Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値Ｃ，６５．２６；Ｈ，６．８７；Ｎ，１．３８． 測値：Ｃ，６５．２３；Ｈ，６．８８；Ｎ，１．３３． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１５（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ ，２Ｈ）；７．７３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ）；７．６０−７．２９（ｍ， １１Ｈ）；７．１０（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ）；６．４７（ｓ，１Ｈ）；６ ．２３（ｂｒ．ｔ，１Ｈ）；５．７４−５．６８（ｍ，２Ｈ）；５．０２（ｄ， Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）；４．６７（ｍ，１Ｈ）；４．５７（ａｂ ｑ，Ｊ＝１ １．４，６．９Ｈｚ，２Ｈ）；４．３０−４．１７（ｍ，２Ｈ）；３．６４（ｄ ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ）；３．３２（ｓ，３Ｈ）；２．５２（ｓ，３Ｈ）；２ ．３８−２．１０（ｍ，６Ｈ）；１．８８−１．８４（ｍ，６Ｈ）；１．７６（ ｓ，１Ｈ）；１．２０（ｓ，３Ｈ）；１．１２（ｓ，４Ｈ）；０．８３−０．７ ８（ｍ，９Ｈ）；０．５０−０．３５（ｍ，６Ｈ）． シリルエーテル１８ａ（０．４２８ｇ、０．４２３ミリモル）を１０ｍｌのＣ Ｈ₃ＣＮにとかし、０℃に冷却した。ＨＣｌ（０．８４６ｍｌ、１Ｎ、０．８４ ６ミリモル）を加え、反応を０℃で１時間攪拌した。反応をＮａＨＣＯ₃（飽 和）で急冷し、エチルアセテートで抽出した。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾 過し、濃縮した。残渣をシリカゲル（１：２ ヘキサン／エチルアセテート）上 でクロマトグラフ処理して、０．３４３ｇのメトキシメチルエーテルIIIｎ（９ ０％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₄₉Ｈ₅₆Ｏ₁₅Ｎ：計算値８９８．実測値：８９８． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３６（ｂｒ．），２９３０，１７３０，１６６４，１４８ ５，１３７１，１２４１ｃｍ^-1． Ｃ₄₉Ｈ₅₅Ｏ₁₅Ｎ：計算値Ｃ，６５．５４；Ｈ，６．１７；Ｎ，１．５６．実測 値：Ｃ，６５．５２；Ｈ，６．２２：Ｎ，１．５２． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１５（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ ，２Ｈ）；７．７３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）；７．６４−７．３２（ｍ， １１Ｈ）；６．９８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ）；６．４４（ｓ，１Ｈ）；６ ．１８（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ）；５．７８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ） ；５．７１（ｄ，Ｊ＝７．２５Ｈｚ，１Ｈ）；５．００（ｄ，Ｊ＝７．０５Ｈｚ ，１Ｈ）；４．７９−４．７６（ｍ，１Ｈ）；４．５６（ａｂ ｑ，Ｊ＝１１． ５，６．９Ｈｚ，２Ｈ）；４．３９（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ）；４．２６− ４．２１（ｍ，１Ｈ）；４．１６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）；３．６４（ｄ ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）；３．５１（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ）；３．３３ −３．３０（ｍ，３Ｈ）；２．３８（ｓ，３Ｈ）；２．３３−２．２２（ｍ，６ Ｈ）；１．８８（ｓ，４Ｈ）；１．７９−１．７１（ｍ，４Ｈ）；１．２０（ｓ ，３Ｈ）；１．１３（ｓ，３Ｈ）．例 １４ 〔１９ａ〕〔２０ａ〕の製造−（反応式XII） シリルケトン１１ａ（０．２５１ｇ、０．２６０ミリモル）を５ｍｌのＭｅＯ Ｈに、ＮＨ₂ＯＨ−ＨＣｌ（０．１１２ｇ、１．６１３ミリモル）およびＤＡＢ ＣＯ（０．０５０ｇ、０．４４２ミリモル）と共に加熱しながらとかし、２０分 間攪拌した。反応をエチルアセテートで希釈し、Ｈ₂Ｏで２回及び塩水で洗った 。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル（２０％ ＣＨ₃ＣＮ／ＣＨ₂Ｃｌ₂）上でクロマトグラフ処理して、０．１１６ｇ（４６％ ）のオキシム１９ａ、及び０．０８７６ｇ（３６％）のオキシム２０ａを得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₃Ｈ₆₅Ｏ₁₄Ｎ₂Ｓｉ：計算値９８１．実測値：９ ８１． Ｃ₅₃Ｈ₆₄Ｏ₁₄Ｎ₂Ｓｉ−Ｈ₂Ｏ:計算値Ｃ，６３．７１；Ｈ，６．４６；Ｎ，２ ．８０．実測値：Ｃ，６３．６５；Ｈ，６．４８；Ｎ，２．７４． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４０（ｂｒ．），２９５６，１７３４，１２３６，７１０ ｃｍ^-1．¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ ，２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７６．９Ｈｚ，２Ｈ），７．５４−７．２９（ｍ ，１１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），６．４３（ｓ，１Ｈ）， ６．２４（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．７０（ｍ，２Ｈ），５．５６（ｄ，Ｊ＝８ ．４Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｓ，１Ｈ），４．４６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１ Ｈ），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），３．８８（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ ，１Ｈ），２．９０（ｂｒ．ｄ．，１Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），２．４５− ２．３５（ｍ，２Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），２．１５（ｍ，１Ｈ），１．８ ９（ｓ，１Ｈ），１．７０（ｓ，３Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１２（ｓ ，３Ｈ），０．７８（ｍ，９Ｈ），０．４１（ｍ，６Ｈ）． ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₃Ｈ₆₅Ｏ₁₄Ｎ₂Ｓｉ：計算値９８１．実測値：９ ８１． Ｃ₅₃Ｈ₆₄Ｏ₁₄Ｎ₂Ｓｉ−２Ｈ₂Ｏ：計算値Ｃ，６２．５８；Ｈ，６．７４；Ｎ， ２．７５．実測値：Ｃ，６３．０１；Ｈ，６．４０：Ｎ，２．７５． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３８（ｂｒ．），２９５６，１７３４，１２３８，７１０ ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ ，２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７６．９Ｈｚ，Ｈ），７．５４−７．２９（ｍ， １１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），６．５２（ｓ，１Ｈ），６ ．２４（ｂｒ．ｔ．，１Ｈ），５．７０（ｍ，２Ｈ），５．１６（ｄ，Ｊ＝８． ４Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｓ，１Ｈ），４．４６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ ），４．２４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），３．８８（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ， １ Ｈ），３．１０（ｂｒ．ｄ．，１Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），２．４５−２． ３５（ｍ，２Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），２．１５（ｍ，１Ｈ），１．８９（ ｓ，１Ｈ），１．８１（ｓ，３Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１２（ｓ，３ Ｈ），０．７８（ｍ，９Ｈ），０．４１（ｍ，６Ｈ）．例 １５ 〔IIIｏ〕の製造−（反応式XII） シリルオキシム１９ａ（０．０８０ｇ、０．０８１６ミリモル）を３ｍｌのＴ ＨＦにとかし、Ｂｕ₄ＮＦ（ＴＨＦ中１．０Ｍ、０．０９０ｍｌ、０．０９０ミ リモル）と共に振とうし、エチルアセテートで希釈し、そして塩水で洗った。溶 液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処 理（２０％ ＣＨ₃ＣＮ／ＣＨ₂Ｃｌ₂）して、０．０６０ｇのオキシムIIIｏ（８ ５％）を得た。 Ｅ ＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₄₇Ｈ₅₁Ｏ₁₄Ｎ₂：計算値８６７．実測値：８６ ７． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３０（ｂｒ．），１７３４，１６４８，１３７２，１２４ ０ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ ，２Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６４−７．３１（ｍ， １２Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．４９（ｓ，１Ｈ），６ ．１９（ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），５．７８−５．７１（ｍ，２Ｈ），５． １４（ｓ，１Ｈ），４．７７−４．７５（ｍ，１Ｈ），４．４１（ｄ，Ｊ＝８． １Ｈｚ，１Ｈ），４．２３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），３．８５（ｄ，Ｊ＝ ７．２Ｈｚ，１Ｈ），３．５１（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），３．５１（ｂｒ ．ｓ．，１Ｈ），３．０７（ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ，１Ｈ），２．４９−２．３ ０（ｍ， ２Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ），２．２１（ｓ，３Ｈ），１．８９（ｓ，１Ｈ） ，１．８１（ｓ，３Ｈ），１．７８（ｓ，３Ｈ），１．５５（ｍ，１Ｈ），１． ２０（ｓ，３Ｈ），１．１４（ｓ，３Ｈ）． ¹³Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）δ２０４．４，１７２．６，１７０ ．４，１６９．１，１６６．２，１６５．３，１５０．３，１４０．４，１３９ ．２，１３４．５，１３３．６，１３２．７，１３１．３，１２９．８，１２９ ．６，１２８．８，１２８．３，１２７．４，８１．３，７９．１，７６．９， ７５．９，７５．１，７３．６，６９．３，５６．３，５２．５，４４．９，４ ２．６，４１．３，３４．９，２５．９，２２．４，２１．４，２０．５，１４ ．８，１３．９．例 １６ 〔IIIｐ〕の製造−（反応式XII） シリルオキシム２０ａ（０．１１０ｇ、０．１１２ミリモル）を３ｍｌのＴＨ Ｆにとかし、エチルアセテートで希釈したＢｕ₄ＮＦ（ＴＨＦ中１．０Ｍ、０． １２３ｍｌ、０．１２３ミリモル）と共に振とうした。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾 燥し、濃縮した。固体をアセトン／ヘキサンから結晶化させて０．０６０ｇのオ キシムIIIｐ（６２％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₄₇Ｈ₅₁Ｏ₁₄Ｎ₂：計算値８６７．実測値：８６７ ． ＩＲ（ＫＢｒ）３４３２（ｂｒ．），１７１６，１６４６，１３７２，１２３ ８ｃｍ^-1． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ ，２Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６３−７．３３（ｍ， １１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４０（ｓ，１Ｈ），６ ． ２０（ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），５．７７（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ）， ５．６７（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），５．５３（ｓ，１Ｈ），４．７７（ｍ ，１Ｈ），４．３７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２８（ｄ，Ｊ＝８．７ Ｈｚ，１Ｈ），３．８７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），３．５４（ｄ，Ｊ＝５ ．１Ｈｚ，１Ｈ），２．８４（ｄ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ，１Ｈ），２．４４−２． ２３（ｍ，４Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），１．９３（ ｓ，１Ｈ），１．８０（ｓ，３Ｈ），１．６９（ｓ，３Ｈ），１．２０（ｓ，３ Ｈ），１．１３（ｓ，３Ｈ）． ¹³Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）δ２０４．３，１７２．６，１７０ ．２，１６９．２，１６６．２，１６５．４，１４９．８，１４０．２，１３９ ．２，１３４．４，１３３．５，１３２．７，１３１．３，１２９．８，１２９ ．６，１２８．８，１２８．３，１２７．４，１２７．４，８２．３，８０．１ ，７６．８，７５．４，７５．２，７３．６，７３．２，６９．３，５６．３， ５１．７，４３．４，４２．６，３５．６，３４．８，３０．７，２５．８，２ ２．２，２１．４，２０．５，１５．４，１３．８．例 １７ 〔９ｆ〕の製造−（反応式VII） モノシリルバカチン誘導体１５ａ（１．２６１ｇ、１．８０ミリモル）をＴＨ Ｆ（１５ｍｌ）にとかし、−５０℃に冷却した。ｎ−ＢｕＬｉ（１．３５ｍｌ、 ヘキサン中１．６Ｍ、２．１６ミリモル）を加え、反応を−５０℃で１５分間攪 拌した。ラクタム１６Ｃ（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−べンゾイル−４−イソブテニル− ３−トリエチレンシリオキシアゼチヂン−２−オン（３．２４ｇ、９．００ミリ モル）を０℃に加温し、０℃で４５分間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、 ＮＨ₄Ｃｌ、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮 した。残渣をシリカゲル上で２回クロマトグラフ処理（３０％ エチルアセテー ト／ヘキサン）して、１．７１８ｇの生成物（９０％）を、４：１のジアステレ オマー混合物として得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₇Ｈ₈₂Ｏ₁₄ＮＳｉ₂:計算値１０６０．実測値：１ ０６０． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４５（ｂｒ．），２９５６，２８７８，１７３７，１７１ ７，１２７１ｃｍ^-1． Ｃ₅₇Ｈ₈₁Ｏ₁₄ＮＳｉ₂：計算値Ｃ，６４．５６；Ｈ，７．７０；Ｎ，１．３２ ．実測値：Ｃ，６４．６９；Ｈ，７．７４；Ｎ，１．３６． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ ，２Ｈ），７．７２−７．３３（ｍ，８Ｈ），６．６３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ， １Ｈ），６．４４（ｓ，１Ｈ），６．１１（ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），５． ６３（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），５．３９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ）， ５．３０−５．２４（ｍ，１Ｈ），４．６９（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），４ ．３９（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），４．３３−４．２５（ｍ，２Ｈ），４． １６（ｍ，１Ｈ），３．９０（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），２．５３−２．３ ８（ｍ，４Ｈ），２．３２−２．１４（ｍ，８Ｈ），２．０４−１．８７（ｍ， ７Ｈ），１．７８（ｓ，４Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ） ，１．０３−０．９７（ｍ，９Ｈ），０．９５−０．８７（ｍ，９Ｈ），０．７ １−０．６３（ｍ，６Ｈ），０．５８−０．５０（ｍ，６Ｈ）．例 １８ 〔IIIｑ〕の製造−（反応式IX，Ｘ） ビスシリルエーテル９ｆ（０．４４ｇ、０．４１５ミリモル）をＭｅＯＨにと かし、触媒量のＤｏｗｅｘ Ｈ⁺を加えた。反応を一夜攪拌した。反応をＥｔＯ Ａｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃（飽和）、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄ 上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１ ：１ エチルアセテート／ヘキセン）して、０．１５１ｇの生成物（３９％）を 得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₁Ｈ₆₈Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値９４６．実測値：９４ ６． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４５（ｂｒ．），２９５６，１７３３，１４５２，１２７ １，１２４２ｃｍ^-1． Ｃ₅₁Ｈ₆₇Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値Ｃ，６４．７４；Ｈ，７．１４；Ｎ，１．４８． 実測値：Ｃ，６４．６０；Ｈ，７．２５；Ｎ，１．３７． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ ，２Ｈ），７．７２−７．５７（ｍ，３Ｈ），７．４９−７．３３（ｍ，５Ｈ） ，６．５１−６．４５（ｍ，２Ｈ），６．１０（ｔ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ）， ５．６５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），５．３８（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ ），５．２９−５．２３（ｍ，１Ｈ），４．８０（ｓ，１Ｈ），４．３９（ｄ， Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．１９（ ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．１４−４．０３（ｍ，２Ｈ），３．８１（ｄ ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），２．５３−２．４０（ｍ，４Ｈ），２．３４−２． ２３（ｍ，２Ｈ），２．２０−２．１８（ｍ，６Ｈ），２．０３−１．８６（ｍ ，７Ｈ），１．７８（ｓ，４Ｈ），１．１７（ｓ，３Ｈ），１．０８（ｓ，３Ｈ ），１．０２−０．８９（ｍ，９Ｈ），０．７１−０．５６（ｍ，６Ｈ）． アルコール６ｄ（１．１６２ｇ、１．２３ミリモル）をＣＨ₂Ｃｌ₂（３０ｍｌ ）にとかし、４Åシーブを加え、反応を１５分間攪拌した。ＮＭＯ（０．３０２ ｇ、２．５８３ミリモル）を加え、反応を１．５時間攪拌した。反応混合物をセ ライトを介して濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（ １：１ エチルアセテート／ヘキセン）して、１．０４６ｇの生成物（９０％） を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₁Ｈ₆₆Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値９４４．実測値：９４ ４． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４２（ｂｒ．），２９５７，１７３２，１４８５，１２６ ９，１２４１ｃｍ^-1． Ｃ₅₁Ｈ₆₅Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値Ｃ，６４．８８；Ｈ，６．９４；Ｎ，１．４８． 実測値：Ｃ，６４．９９；Ｈ，７．００：Ｎ，１．４０． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ），７．７２−７．５９（ｍ，３Ｈ），７．５０−７．３４（ｍ，５Ｈ） ，６．６４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），６．４７（ｓ，１Ｈ），６．１５（ ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），５．７１（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），５．４ １（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），５．３２−５．２５（ｍ，１Ｈ），４．８２ （ｓ，１Ｈ），４．４４−４．３５（ｍ，３Ｈ），４．１６（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈ ｚ，１Ｈ），３．１６（ｄ，Ｊ＝１３．７Ｈｚ，１Ｈ），２．５６−２．４４（ ｍ，４Ｈ），２．４０−２．２１（ｍ，４Ｈ），２．２０−２．１４（ｍ，４Ｈ ），１．９１（ｓ，３Ｈ），１．８７（ｓ，３Ｈ），１．７９（ｓ，４Ｈ），１ ．２１（ｓ，３Ｈ），１．１２（ｓ，３Ｈ），１．０４−０．９３（ｍ，９Ｈ） ，０．７２−０．５６（ｍ，６Ｈ）． ケトン１１ｄ（１．０５ｇ、１．１１ミリモル）をＥｔＯＨ（４０ｍｌ）にと かし、０℃に冷却した。ＮａＢＨ₄（０．０４２ｇ、１．１１ミリモル）を加え 、反応を０℃で２５分間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、Ｈ₂Ｏで急冷し 、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリ カゲル上でクロマトグラフ処理（７５％ ジエチルエーテル／ヘキサン）して、 ０．８１１ｇの２’−Ｏ−トリエチルシリル保護生成物（７７％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₁Ｈ₆₈Ｏ₁₄ＮＳｉ：計算値９４６．実測値：９４ ６． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４６（ｂｒ．），２９５７，１７３２，１６６０，１２７ ２，１２４０ｃｍ^-1． Ｃ₅₁Ｈ₆₉Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値Ｃ，６３．５３；Ｈ，７．２１；Ｎ，１．４５． 実測値：Ｃ，６３．９５；Ｈ，７．２６；Ｎ，１．２１． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ），７．７２−７．５９（ｍ，３Ｈ），７．５０−７．３３（ｍ，５Ｈ） ，６．４９−６．４１（ｍ，２Ｈ），６．１０（ｔ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ）， ５．７０（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．３９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ ），５．３１−５．２２（ｍ，１Ｈ），４．９７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ） ，４．４５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），４．３９（ｍ，１Ｈ），４．２８− ４．２３（ｍ，２Ｈ），３．６９（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），２．７６（ｂ ｒ．ｓ，１Ｈ），２．５０−２．４０（ｍ，４Ｈ），２．３５−２．１６（ｍ， ５Ｈ），２．０８−２．０４（ｍ，１Ｈ），１．９５（ｓ，３Ｈ），１．８７（ ｓ，３Ｈ），１．８６−１．７８（ｍ，７Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．１ １（ｓ，３Ｈ），１．０２−０．９３（ｍ，９Ｈ），０．７１−０．５４（ｍ， ６Ｈ）． シリルエーテル（０．７７５ｇ、０．８１９ミリモル）をＣＨ₃ＣＮ（４５ｍ ｌ）にとかし、０℃に冷却した。ＨＣｌ（１．６４ｍｌ、１Ｎ、１．６４ミリモ ル）を加え、反応を０℃で４５分間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、Ｎａ ＨＣＯ₃（飽和）、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し 、供給した。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（３０％ ＣＨ₃ＣＮ／ ＣＨ₂Ｃｌ₂）して、０．５００４ｇのIIIｑ（７３％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₄₅Ｈ₅₄Ｏ₁₄Ｎ：計算値８３２．実測値：８３２． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４２（ｂｒ．），２９３８，１７３２，１６４６，１２７ １，１２４０ｃｍ^-1． Ｃ₄₅Ｈ₅₃Ｏ₁₄Ｎ：計算値Ｃ，６４．９７；Ｈ，６．４２：Ｎ，１．６８．実測 値：Ｃ，６４．８５；Ｈ，６．５０；Ｎ，１．５３． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ），７．７０−７．５９（ｍ，３Ｈ），７．５１−７．４５（ｍ，３Ｈ） ，７．４０−７．３５（ｍ，２Ｈ），６．４４−６．４１（ｍ，２Ｈ），６．１ ７（ｔ，Ｊ＝７．６ＨＺ，１Ｈ），５．７０（ｄ，Ｊ＝７．２ＨＺ，１Ｈ），５ ．４５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），５．３０−５．２３（ｍ，１Ｈ），４． ９７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．４５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）， ４．３５（ｓ，１Ｈ），４．２４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），３．６８（ｄ ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），３．５８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），２．７４（ｂｒ．ｓ ，１Ｈ），２．４１−２．３８（ｍ，５Ｈ），２．２５−２．１４（ｍ，５Ｈ） ，１．８６（ｓ，３Ｈ），１．８２−１．７８（ｍ，１０Ｈ），１．２２（ｓ， ３Ｈ），１．１２（ｓ，３Ｈ）．例 １９ 〔９ｇ〕の製造−（反応式VII） モノシリルバカチン誘導体１５ａ（１．００１ｇ、１．４３ミリモル）をＴＨ Ｆ（１０ｍｌ）にとかし、−５０℃に冷却した。ｎ−ＢｕＬｉ（１．０７２５ｍ ｌ、ヘキサン中１．６Ｍ、１．７１６ミリモル）を加え、反応を−５０℃で１５ 分間攪拌した。ラクタム１６ｄ（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカーバモイル −４−フェニル−３−トリエチルシロキシアゼチジン−２−オン（１．１８８ｇ 、３．１４６ミリモル）をＴＨＦ（１０ｍｌ）中の溶液として加え、フラスコを ＴＨＦ（２×５ｍｌ）で洗った。反応を３０分にわたって０℃に加温し、０℃で ３０分間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮＨ₄Ｃｌ、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗っ た。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲル上でク ロマトグラフ処理（１０％〜２０％ エチルアセテート／ヘキサン）して、１． ４５３ｇの生成物９ｇ（９４％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₇Ｈ₈₄Ｏ₁₅ＮＳｉ₂：計算値１０７８．実測値： １０７８． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４８（ｂｒ．），２９５７，１７１７，１４９４，１３６ ９，１２４３ｃｍ^-1． Ｃ₅₇Ｈ₈₃Ｏ₁₅ＮＳｉ₂：計算値Ｃ，６３．４８；Ｈ，７．７６；Ｎ，１．３０ ．実測値：Ｃ，６３．５４；Ｈ，７．５６；Ｎ，１．３３． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ），７．６０−７．２５（ｍ，８Ｈ），６．４６（ｓ，１Ｈ），６．２９ （ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），５．６３（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），５． ４９（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，１Ｈ），５．２９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ）， ４．７１（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），４．５３（ｓ，１Ｈ），４．２６（ａ ｂ ｑ，Ｊ＝１２．４，８．６Ｈｚ，２Ｈ），４．１６（ｍ，１Ｈ），３．９０ （ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），２．４６−２．３５（ ｍ，１Ｈ），２．２４−２．１６（ｍ，５Ｈ），２．０３（ｓ，３Ｈ），１．７ ２−１．６２（ｍ，５Ｈ），１．２８（ｓ，９Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１ ．１２（ｓ，３Ｈ），０．９８−０．８７（ｍ，９Ｈ），０．８３−０．７２（ ｍ，９Ｈ），０．６２−０．５０（ｍ，６Ｈ），０．４５−０．２９（ｍ，６Ｈ ）．例 ２０ 〔IIIｒ〕の製造−（反応式IX，Ｘ） ビスシリルエーテル９ｇ（１．４３１ｇ、１．３２８ミリモル）をＭｅＯＨ（ ６０ｍｌ）にとかし、−０℃に冷却し、触媒量のＤｏｗｅｘ Ｈ⁺を加えた。反 応を０℃で５時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃（飽和） 、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣 をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：１ エチルアセテート／ヘキサン） して、０．８３２ｇの６ｅ（６５％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₁Ｈ₇₀Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値９６４．実測値：９６ ４． ＩＲ（ＫＢｒ）３４５１（ｂｒ．），２９５７，１７１６，１３６９，１２７ １，１２４３ｃｍ^-1． Ｃ₅₁Ｈ₆₉Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値Ｃ，６５．５３：Ｈ，７．２１；Ｎ，１．４５． 実測値：Ｃ，６３．４９：Ｈ，７．４５：Ｎ，１．３２． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ），７．６２−７．２５（ｍ，８Ｈ），６．４８（ｓ，１Ｈ），６．２７ （ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），５．６６（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），５． ４５（ｂｒ．ｄ，１Ｈ），５．２９（ｂｒ．ｄ，１Ｈ），４．８２（ｓ，１Ｈ） ，４．５３（ｓ，１Ｈ），４．３１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），４．１６− ４．０８（ｍ，２Ｈ），３．８１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），２．５３（ｓ ，３Ｈ），２．４６−２．３８（ｍ，１Ｈ），２．２１（ｓ，４Ｈ），２．０６ −２．０３（ｍ，２Ｈ），１．９０（ｓ，３Ｈ），１．７２（ｓ，５Ｈ），１． ２９（ｓ，９Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．１３（ｓ，３Ｈ），０．７９− ０．７４（ｍ，９Ｈ），０．４７−０．２６（ｍ，６Ｈ）． アルコール６ｅ（０．８０９ｇ、０．８４０ミリモル）をＣＨ₂Ｃｌ₂にとかし 、ＮＭＯおよび４Åモレキュラーシーブを加え、反応を１５分間攪拌した。ＴＰ ＡＰを加え、反応を一夜攪拌した。反応をセライトを介して濾過し、濃縮した。 残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（１：１ エチルアセテート／ヘキサ ン）して、０．６２９ｇのケトン１１ｅ（７８％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ−Ｈ：Ｃ₅₁Ｈ₆₆Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値９６０．実測値：９６ ０． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４６（ｂｒ．），２９５８，１７３１，１７１８，１２６ ９，１２４２ｃｍ^-1． Ｃ₅₁Ｈ₆₇Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値Ｃ，６３．６６；Ｈ，７．０２；Ｎ，１．４６． 実測値：Ｃ，６３．８５；Ｈ，７．０８；Ｎ，１．３７． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ ，２Ｈ），７．６３−７．２７（ｍ，８Ｈ），６．４４（ｓ，１Ｈ），６．３１ （ｔ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），５．７１（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），５． ４７（ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ，１Ｈ），５．２９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ）， ４．８４（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．４３（ｄ ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．３４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．１５ （ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），３．１５（ｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，１Ｈ），２ ．５８（ｓ，３Ｈ），２．４９−２．２４（ｍ，３Ｈ），２．２１（ｓ，３Ｈ） ，１．９１（ｓ，３Ｈ），１．７５（ｓ，１Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ），１． ２９（ｓ，９Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．１３（ｓ，３Ｈ），０．７９− ０．７４（ｍ，９Ｈ），０．４７−０．２６（ｍ，６Ｈ）． ケトン１１ｅ（０．６００、０．６２４ミリモル）をＥｔＯＨ（１５ｍｌ）に とかし、０℃に冷却した。ＮａＢＨ₄（０．０２４ｇ、０．６２４ミリモル）を 加え、反応を０℃で３０分間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、Ｈ₂Ｏで急 冷し、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した。残渣を シリカゲル上でクロマトグラフ処理（１．５：１ ヘキサン／エチルアセテート ）して、０．４８１ｇの２’−Ｏ−トリエチルシリルエーテル（８０％）を得た 。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₅₁Ｈ₇₀Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値９６４．実測値：９６ ４． ＩＲ（ＫＢｒ）３５４２（ｂｒ．），２９５６，１７３２，１７１６，１２７ １，１２４２ｃｍ^-1． Ｃ₅₁Ｈ₆₉Ｏ₁₅ＮＳｉ：計算値Ｃ，６３．５３；Ｈ，７．２１：Ｎ，１．４５． 実測値：Ｃ，６３．３１；Ｈ，７．２０：Ｎ，１．４０． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ），７．６２−７．２４（ｍ，８Ｈ），６．４６（ｓ，１Ｈ），６．２６ （ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），５．７０（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），５． ４６（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，１Ｈ），５．２８（ｂｒ．ｄ，１Ｈ），４．９８（ ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５２（ｄ，Ｊ＝１．９５Ｈｚ，１Ｈ），４． ４７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．２２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ）， ３．６８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），２．７４（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），２．５ ３（ｓ，３Ｈ），２．４３−２．３４（ｍ，１Ｈ），２．２３−２．１３（ｍ， ５Ｈ），１．８８−１．８４（ｍ，４Ｈ），１．７８−１．７２（ｍ，４Ｈ）， １．２８（ｓ，９Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ），１．１２（ｓ，３Ｈ），０．７ ６−０．７３（ｍ，９Ｈ），０．４６−２５（ｍ，６Ｈ）． シリルエーテル（０．４７０ｇ、０．４８８ミリモル）をＣＨ₃ＣＮにとかし 、０℃に冷却した。ＨＣｌ（０．９７６ｍｌ、１Ｎ、０．９７６ミリモル）を加 え、反応を０℃で１時間攪拌した。反応をＥｔＯＡｃで希釈し、ＮａＨＣＯ₃（ 飽和）、Ｈ₂Ｏ、塩水で洗った。溶液をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、濾過し、濃縮した 。残渣をシリカゲル上でクロマトグラフ処理（２：１ ヘキサン／エチルアセテ ート）して、０．３８５ｇのIIIｒ（９３％）を得た。 ＥＳＩＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ：Ｃ₄₅Ｈ₅₆Ｏ₁₅Ｎ：計算値８５０．実測値：８５０． ＩＲ（ＫＢｒ）３４４８（ｂｒ．），２９８０，１７３４，１７１５，１２７ １，１２４２ｃｍ^-1． Ｃ₄₅Ｈ₅₅Ｏ₁₅Ｎ：計算値Ｃ，６３．５９；Ｈ，６．５２；Ｎ，１．６５．実測 値：Ｃ，６３．６４；Ｈ，６．２０；Ｎ，１．５６． ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）ｄ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ ，２Ｈ），７．６４−７．２９（ｍ，８Ｈ），６．４４（ｓ，１Ｈ），６．２１ （ｂｒ．ｔ，１Ｈ），５．６８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），５．３６（ｄ， Ｊ＝９．４Ｈｚ，１Ｈ），５．２６（ｂｒ．ｄ，１Ｈ），４．９５（ｄ，Ｊ＝８ ．４Ｈｚ，１Ｈ），４．６０（ｓ，１Ｈ），４．４５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１ Ｈ），４．２０（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６６（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ ，１Ｈ），３．３１（ｓ，１Ｈ），２．７３（ｓ，１Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ ），２．３３−２．１３（ｍ，５Ｈ），１．８７−１．８２（ｍ，４Ｈ），１． ７７−１．７１（ｍ，４Ｈ），１．３１（ｓ，１０Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ） ，１．１２（ｓ，３Ｈ）． 上記の方法に実質的に従って、本発明の範囲内の次の化合物を合成することが できる。 さらに； 本発明の化合物は生体内モデル及び／又は試験管内モデルで抗腫瘍活性を示す 。たとえば、次の試験は本発明の代表的な化合物を評価するのに使用する生体内 試験を記述している。マウスＭ１０９モデル Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ｏｆ Ｍａｄｉｓｏｎ １０９ Ｌｕｎｇ Ｃａｒｃ ｉｎｏｍａ ａｓ ａ Ｍｏｄｅｌ ｆｏｒ Ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ Ａｎｔｉｔ ｕｍｏｒ Ｄｒｕｇｓ，Ｃａｎｃｅｒ Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ Ｒｅｐｏｒｔｓ， ６５，Ｎｏ．３−４（１９８１）にＷｉｌｌｉａｍ Ｒｏｓｅによって記載され ているように、バルブ／ＣＸＤＢＡ／２Ｆ、ビブリドマウスに、５ｍｌの２％（ ｗ／ｖ）ブライのＭ１０９肺カルシノーマを腹膜内移植した。 １、５及び９日後の後腫瘍移植のいずれかの日に、又は５及び８日後の後移植 の日に、種々の薬量を腹膜内投与することによって、マウスを本発明の化合物で 処理した。約７５−９０日の後腫瘍移植までマウスを毎日検査して生存率を求め た。マウスの実験当り１群は処理せず、対照標準として役立てた。 化合物で処理した（Ｔ）マウスの中央生存時間を対照標準（Ｃ）マウスの中央 生存時間と比べた。それぞれの化合物処理群の２つの値の比を１００倍し、％と して表示した値（すなわち％ Ｔ／Ｃ）として次の表に代表的な化合物の表とし て示す。 ｉｎｊ：注射マウスＭ１０９モデル バルブ／ＣＸＤＢＡ ２Ｆ₁（ＣＤＦ₁）ヒブリドマウスに、０．１ｍｌの２％ （ｗ／ｖ）ブライのＭ１０９肺カルシノーマを、（Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ｏｆ Ｍａｄｉｓｏｎ １０９ ｌｕｎｇ Ｃａｒｃｉｎｏｍａ ａｓ ａ Ｍｏｄ ｅｌ ｆｏｒ Ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ Ａｎｔｉｔｕｍｏｒ Ｄｒｕｇｓ，Ｃａｎ ｃｅｒ Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ Ｒｅｐｏｒｔｓ ，６５，Ｎｏ．３−４（１９８１ ）にＷｉｌｌｉａｍｓ Ｒｏｓｅによって述べられているように）皮下（ＳＣ） 移植した。 試験化合物および基準薬剤パクリタクセルをマウスの群に静脈投与した：それ ぞれの群は異なった水準で化合物を受取り、化合物当り３又は４の異なった水準 の薬量を試験した。マウスを４、５、６、７及び８日の後腫瘍の日数について一 日に一回、これらの化合物で静脈処理した。マウスを、それらの死まで又は腫瘍 移植後６０−９０日まで毎日生存させた。実験当り１群のマウスを非処理のまま でおき、主たる対照標準群として役立てた。第２対照標準群はマウスの他の群の すべての腫瘍接種の１／１０を代表的に含み受け取った。腫瘍はまた２週間に１ 度又はそれ以上測定して刊行された方法（同上）により腫瘍重量を推定した。 化合物−処理した（Ｔ）マウスの中央生存時間を対照標準（マウス）の中央生 存時間と比べた。各化合物で処理したマウス群の２つの値の比を１００倍し％と して表示して次の表にそれぞれの化合物について示す。また、処理群の中央生存 時間と腫瘍を１ｇ生長させる対照標準群のそれとの差をＴ−Ｃ値（日数）として 示し、これも次の表に示す。Ｔ−Ｃ値が大きいほど、主要腫瘍生成は大きい。Ｔ ／Ｃ＞１２５％及び／又はＴ−Ｃ＞４．０日を示す化合物はＭＣ１０９ ＳＣモ デルにおいて活性であると考えられる。ただし前記の第２制御群は１ｇの腫瘍の 生成に対して１次対照制御群とは４日以上異なっていないものとする。１次およ び２次対照標準群の双方の１ｇの腫瘍の生長時間の差が４日以上であるとき、そ 差は活性の基準になる。 パクリタクセル誘導体の改良遠位サイト抗腫瘍IVテスト 従って、本発明の別の面は、腫瘍をもつ宿主に式Ｉの化合物の抗腫瘍有効量を 投与することからなるヒト及び／又は他の哺乳動物の腫瘍を抑止する方法に関す る。 多くの腫瘍を治療するために、本発明の式Ｉの化合物をパクリタクセルのそれ と類似の方法で使用することができる。たとえば、Ｐｈｙｓｉｃｉａｎ’ｓ Ｄ ｓｅｋ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ，４９版，Ｍｅｄｉｃａｌ Ｅｃｏｎｏｍｉｃｓ， ｐ６８２，１９９５参照。本発明の化合物の薬量、投与のモデル及びスケジュー ルは特に制限されない。腫瘍治療に習熟する腫瘍治療学者は、不当な実験なしに 、本発明の化合物を投与するための適当な治療ブロトコールを確かめることがで きる。すなわち式Ｉの化合物はいずれかの好適な投与ルートにより、非経口的に 、又は経口的に投与することができる。非経口投与として、静脈、腹膜内、筋肉 内、及び皮下の投与があげられる。 本発明の方法を実施するのに使用する薬量は、予防治療を受けさせるか又は最 大治療応答を誘発することを可能にする薬量である。薬量は投与の種類、えらば れた特定の生成物、及び治療すべき主体の個人的特性に応じて変わる。一般に、 薬量は異性な細胞増殖によって生ずる疾患の治療に治療上有効な薬量である。本 発明による生成物は多くの場合、所望の治療効果を得るために必要な量で投与す ることができる。ある患者は比較的高い又は低い薬量に迅速に応答して、温和な 保持を必要とし、又は保持薬量を全く必要としない。静脈ルートにより、薬量は １〜１００時間にわたってたとえば約２０〜約５００ｍｇ／ｍ²の範囲でありう る。経口ルートでは、５〜１０００ｍｇ／ｋｇ／日の体重の範囲でありうる。使 用する実際の薬量は、処方された特定の組成物、投与ルート、及び治療すべき腫 瘍の測定の場所、宿主、及び腫瘍の種類により変わる。患者の年令、体重、性別 、食餌および肉体条件を含めて、薬剤の作用を変性する多くの因子を薬量の決定 の際に考慮に入れるべきである。 本発明はまた、抗腫瘍有効量の式Ｉの化合物と、１以上の医薬的に許容しうる 担体、補薬、希釈剤または補助薬とを組合せて含む製薬処方物（組成物）に関す る。この組成物は通常の方法により製造することができる。パクリタクセルまた はその誘導体の配合例はたとえば米国特許第４，９６０，７９０および４，８１ ４，４７０号に見出され、これらの例は本発明の化合物を処方するのに使用する のに使用することができる。たとえば、式Ｉの化合物は、錠剤、ピル、粉末混合 物、カプセル、注射液、溶液、座薬、エマルジョン、懸濁液、食品プレミックス 、 及び他の好適な形体に処方することができる。殺菌固体−組成物たとえば凍結乾 燥品の形体で製造することもでき、所望ならば他の医薬的に許容しうる補助薬と 組合せることもできる。このような固体組成物は、殺菌水、生理学的食塩水、ま たは水と有機溶媒たとえばプロピレングリコール、エタノールなどとの混合物、 により再構成することができ、または非経口投与に使用する直前に他の殺菌注射 用媒質と組合せて使用することができる。 代表的な医薬的に許容しうる担体の例は、たとえばマニトール、尿素、デキス トラン、ラクトース、ポテト及びトウモロコシでんぷん、ステアリン酸マグネシ ウム、タルク、植物油、ポリアルキレングリコール、エチルセルロース、ポリ（ ビニルピロリドン）、炭酸カルシウム、オレイン酸エチル、ミリスチン酸イソプ ロピル、安息香酸ベンジル、炭酸ナトリウム、ゼラチン炭酸カリウム、ケイ酸で ある。医薬処方物はまた非毒性の補助物質たとえば乳化剤、保有剤、湿潤剤など 、ならびにたとえばソルビタンモノラウレート、トリエタノールアミンオレート 、ポリオキシエチレンモノステアレート、グリセリルトリパルミテート、ジオク チルナトリウムスルホスクシネートなどを含むこともできる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/4523 Ａ６１Ｋ 31/445 ６１０ Ｃ０７Ｄ 407/12 Ｃ０７Ｄ 407/12 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ， ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ， ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，Ｎ Ｚ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ， ＶＮ (72)発明者 ウィットマン，マーク ディ アメリカ合衆国コネチカット州 06410 チエシャー サウス ブルックスベール ロード 328 (72)発明者 アルトスタット，トーマス ジェイ アメリカ合衆国コネチカット州 06457 ミドルタウン サウス メイン ストリー ト 57 (72)発明者 カドウ，ジョン エフ アメリカ合衆国コネチカット州 06492 ウォーリンフォード クオリー ラン ９ (72)発明者 キングストン，デビッド ジー アイ アメリカ合衆国バージニア州 24060 ブ ラックスバーグ ローカスト アベニュー 1409 (72)発明者 リーアン，シアン アメリカ合衆国コロラド州 80301 ボー ルダー ＃2011，ハビタット ドライブ 6255

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1．式（Ｉ）： 式中、Ｒは水素、Ｃ_1-6アルキル、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_2-6アルキニル、Ｃ_3-6シ クロアルキル、Ｃ_3-6シクロアルケニル、ヘテロ原子１個または２個を含有する 環状３−７員環、ヘテロアリールまたは−Ｚ¹−Ｒ³であり； Ｚ¹は直接結合、Ｃ_1-6アルキルまたは−Ｏ−Ｃ_1-6アルキルであり； Ｒ³はアリール、置換アリール、Ｃ_3-6シクロアルキル、Ｃ_3-6シクロアルケニル 、ヘテロ原子１個または２個を含有する環状３−７員環またはヘテロアリールで あり； Ｒ^AおよびＢ^Bは独立して水素、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＲ、−ＮＨ Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ）₂、−ＮＨＳ（Ｏ）_mＲ、−ＮＨＰ（＝ Ｏ）（ＯＲ）₂、−ＮＨＰ＝Ｓ（ＯＲ）₂、（ここでｍは１または２である）であ り； Ｒ^CおよびＲ^Dは独立して水素、ヒドロキシ、フルオロ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−Ｏ Ｃ（Ｏ）ＯＲ^x、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ ＯＣＨ₂ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇（ここでｎは０−３である）、−Ｏ ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ³⁺ＨＣＯＯ^-、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（Ｃ Ｈ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G、（ここでｎは０−３である ）、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ（Ｒ”）ＮＨ₂、−ＯＣ （Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨまたは−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ） −Ｒ’であり； Ｚはエチレン（−ＣＨ₂−ＣＨ₂−）、プロピレン（−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−）、− ＣＨ＝ＣＨ−、１，２−シクロヘキサンまたは１，２−フェニレンであり； Ｒ’は−ＯＨ、−ＯＨ塩基、−ＮＲ’₂Ｒ’₃、−ＯＲ’₃、−ＳＲ’₃、−ＯＣＨ₂ Ｃ（Ｏ）ＮＲ’₄Ｒ’₅であり； Ｒ’₂は−Ｈまたは−ＣＨ₃であり； Ｒ’₃は−（ＣＨ₂）_nＮＲ’₆Ｒ’₇または（ＣＨ₂）_nＮ⁺Ｒ’₆Ｒ’₇Ｒ’₈Ｘ^-であ り（ここでｎは１−３である）； Ｒ’₄は−Ｈまたは−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルであり； Ｒ’₅は−Ｈ、−Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、ベンジル、ヒドロキシエチル、−ＣＨ₂ＣＯ₂ Ｈまたはジメチルアミノエチルであり； Ｒ’₆およびＲ’₇は独立して−Ｈ、−ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ₃、ベンジルであるか 、またはＲ’₆およびＲ’₇はＮＲ’₆Ｒ’₇の窒素と一緒になってピロリジノ、ピ ペリジノ、モルホリノまたはＮ−メチルピペリジノ基を形成し； Ｒ’₈は−ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ₃またはベンジルであり； Ｘ^-はハライドであり； 塩基はＮＨ₃、（ＨＯＣ₂Ｈ₄）₃Ｎ、Ｎ（ＣＨ₃）₃、ＣＨ₃Ｎ（Ｃ₂Ｈ₄）₂ＮＨ、Ｎ Ｈ₂（ＣＨ₂）₆ＮＨ₂、Ｎ−メチルグルカミン、ＮａＯＨまたはＫＯＨであり； Ｒ^FおよびＲ^Gは独立して−Ｈまたは−Ｃ₁−Ｃ₃アルキルであり、またはＲ^Fおよ びＲ^GはＮＲ^FＲ^Gの窒素と一緒になってピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノま たはＮ−メチルピペリジノ基を形成し； Ｒ”は−Ｈ、−ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）₂、−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＣＨ₃、 −ＣＨ（ＣＨ₃）₂、−ＣＨ₂フェニル、−（ＣＨ₂）₃ＮＨ₂、−（ＣＨ₂）₄ＮＨ₂ 、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−（ＣＨ₂）₃ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ₂、アミノ酸プロ リン残基、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ₂ ＣＨ₂ＳＯ₃−Ｙ＋または−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ ＳＯ₃−Ｙ＋であり； Ｙ＋はＮａ＋またはＮ＋（Ｂｕ）₄であり； Ｒ²はＲ^x、Ｒ^yまたはＲ^y’であり； Ｒ⁴はＣ_1-6アルキル、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_2-6アルキニル、Ｃ_3-6シクロアルキ ル、Ｃ_3-6シクロアルケニル、Ｃ_3-6ヘテロアリール、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、− Ｏ−Ｃ_3-6アルケニル、−Ｏ−Ｃ_2-6アルキニル、−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨＯＣ Ｈ₂（オキシラン）、または−Ｓ−Ｃ_1-6アルキルであり； ＬはＯまたはＳであり； Ｒ⁶およびＲ⁶'は独立して水素、ヒドロキシ、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣ（Ｏ ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ’₆Ｒ’₇ 、−ＯＣＨ₂ＯＲ、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ＯＲ、−ＯＣＨＲ^xＯＲ、−ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、 −ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂ 、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x 、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ｎは０−３である）、− Ｃ_1-6アルキル、−ＣＨ₂ＯＲ、−ＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−Ｏ Ｃ（Ｒ^x）₂ＳＲ、−ＯＣＨＲ^xＳＲ、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ＨＣＯＯ^-、−Ｏ ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂ ）_nＮＲ^FＲ^G、（ｎは０−３である）、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ’また は−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨであり、 但しＲ⁶およびＲ⁶'は共に水素ではなく、Ｒ⁶および⁶'は一緒になってオキソ基ま たはチオカルボニル基を形成していてもよく、またはＲ⁶およびＲ⁶'は一緒にな って式−Ｃ＝Ｎ−Ｒ、−Ｃ＝Ｎ−ＯＲまたは−Ｃ＝Ｎ−ＮＨＲまたは−Ｃ＝Ｎ− ＮＲ’₆Ｒ’₇の炭素−窒素二重結合を形成していてもよく、ここでＲは先の定義 のとおりであり、但し水素ではない； Ｒ⁷'は水素であり；Ｒ⁷は水素またはＲ¹⁹と一緒になってシクロプロパン環を形 成していてもよく； Ｒ⁹およびＲ⁹'は独立して水素、ヒドロキシであるか、または一緒になってオキ ソ（ケト）基を形成し； Ｒ¹⁰およびＲ¹⁰’は独立して水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃ 、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ ）ＮＲ’₆Ｒ’₇、Ｃ_1-6アルキル、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）Ｒ^x、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（ Ｏ）ＯＲ^x、−（ＣＨ₂）₃ＣＮ、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ） （ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣ Ｈ₂ＮＨＲ^x、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ｎは０−３で ある）、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ＨＣＯＯ^-、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、 −ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ’、−ＯＣ（Ｏ ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G（ｎは０−３である）、または−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ （Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨであり； Ｒ¹⁴は水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6 アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、− ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂Ｏ Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯ （Ｃ＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＨＲ^xまたは−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇ （ｎは０−３である）であり； Ｒ¹⁹はメチル、ヒドロキシメチルであるか、またはＲ¹⁹およびＲ⁷は一緒になっ てシクロプロパン環を形成していてもよく、但しこれらの置換分がシクロプロパ ン環であるときはＲ⁷'は水素であり； Ｒ^xはＣ_1-6アルキル、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_2-6アルケニル、Ｃ_3-6シクロアルキ ルであり、これらの基のいずれは場合によっては同一または異なったハロゲン原 子１〜６個で置換されていてもよく； Ｒ^yは式：（式中、Ｗは結合であり、そしてＲ^m、ＲⁿおよびＲ^oは独立して水素、ニトロ、 シアノ、アジド、アミノ、Ｃ_1-6アルキルアミノ、ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ、ハ ロゲン、Ｃ_1-6アルキル、ヒドロキシまたはＣ_1-6アルコキシである）を有する基 であり；そして Ｒ^y’は式： （式中、ＷはＣ_1-6アルキルまたは−Ｏ−Ｃ_1-6アルキルであり、そしてＲ^m、Ｒⁿ およびＲ^oは独立して水素、ニトロ、シアノ、アジド、アミノ、Ｃ_1-6アルキルア ミノ、ジ−Ｃ_1-6アルキルアミノ、ハロゲン、Ｃ_1-6アルキル、ヒドロキシまたは Ｃ_1-6アルコキシである）を有する基である、 で示される化合物またはその製薬上許容しうる塩。 2．式（II）： 式中Ｒは２−フラニル（２−フリル）、２−チエニル、３−フラニル（３−フリ ル）、３−チェニル、フェニル、ナフチル、４−ヒドロキシフェニル、４−メト キシフェニル、４−フルオロフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、２− プロピニル、ベンジル、フェネチル、フェニルエテニル、３，４−ジメトキシフ ェニル、２−（２−フラニル）エテニル、２−メチルプロピル、Ｃ_3-6シクロア ルキル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、Ｃ_3-6アルキル、Ｃ_3-6 アルケニル、ｔ−ブチルまたは−Ｚ¹−Ｒ³であり； Ｒ³はアリール又は置換アリールであり； Ｒ^Bは−ＮＨＣ（Ｏ）Ｐｈ（ここでＰｈは置換または非置換である）、−ＮＨＣ （Ｏ）Ｏ（Ｃ_1-6アルキル）、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｐｈ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｔ（ ここでＴはヘテロ原子１個または２個を含有する３−７員環である）、−ＮＨＣ （Ｏ）ＮＨＲまたは−ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ₂）であり； Ｒ^Dはヒドロキシ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_mＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ ＯＣＨ₂）_mＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｍは０−３である）、− ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｃ（Ｃｌ）₃、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ ＨＣＯＯ^-、ＮＨＣ（Ｏ）フェニル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣ（ＣＨ₃）₃、−ＯＣＯ ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ ）−Ｒ’、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G（ここでｎは０−３である）、また は−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨであり； Ｒ²はフェニルまたは置換フェニルであり； Ｒ⁴はメチルを包含するＣ_1-4アルキル、Ｃ_3-5シクロアルキル、−Ｏ−Ｃ_1-4アル キル、−ＣＨ₂ＯＣＨ₃、ＣＨＯＣＨ₂（オキシラン）、または−Ｓ−Ｃ_1-4アルキ ルであり； Ｒ⁶およびＲ⁶'は独立して水素、ヒドロキシ、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣ（Ｏ ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＲ、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ２、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ＯＲ、 −ＯＣＨＲ^xＯＲ、−ＯＣＨ₂ＳＲ、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ ＳＲ、−ＯＣＨＲ^xＳＲ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、 −ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、− （ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆ Ｒ’₇、（ここでｎは０−３である）、−Ｃ_1-6アルキル、−ＣＨ₂ＯＲ、−ＣＨ₂ ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、 −ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃である が、Ｒ⁶およびＲ⁶'は共に水素ではなく、またＲ⁶およびＲ⁶'は一緒になってオキ ソ基を形成していてもよく、またＲ⁶およびＲ⁶'は一緒になって式Ｃ＝Ｎ−Ｒま たは−Ｃ＝Ｎ−ＯＲの炭素−窒素二重結合を形成していてもよい； Ｒ¹⁰は水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6 アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、− ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ’₆Ｒ’₇、Ｃ_1-6 アルキル、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）Ｒ^x、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）ＯＲ^xまたは−（Ｃ Ｈ₂）₃ＣＮであり；そして Ｒ¹⁹は−ＣＨ₃であるか、またはＲ¹⁹およびＲ⁷は一緒になってシクロプロパン環 を形成していてもよく、但しこれらの置換分がシクロプロパン環であるときはＲ⁷ 'は水素である、 で示される化合物またはその製薬上許容しうる塩である請求項１の化合物。 3．式（III）： 式中、Ｒは２−フラニル（２−フリル）、２−チエニル、３−フラニル（３−フ リル）、３−チェニル、フェニル、ナフチル、４−ヒドロキシフェニル、４−メ トキシフェニル、４−フルオロフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、２ −プロペニル、ベンジル、フェネチル、フェニルエテニル、３，４−ジメトキシ フェニル、２−（２−フラニル）エテニル、２−メチルプロピル、Ｃ_3-6シクロ アルキル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、Ｃ_3-6アルキル、Ｃ_{3 -6} アルケニルまたは−Ｚ¹−Ｒ³であり； Ｚ¹は直接結合であり； Ｒ³アリールまたは置換アリールであり； Ｒ^Bは−ＮＨＣ（Ｏ）Ｐｈ（ここでＰｈは置換または非置換である）、−ＮＨＣ （Ｏ）Ｏ（Ｃ_1-6アルキル）、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｐｈ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｔ（ ここでＴはヘテロ原子１個または２個を含有する３−７員環である）、−ＮＨＣ （Ｏ）ＮＨＲまたは−ＮＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ₂）であり； Ｒ^Dはヒドロキシ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_mＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、−（ ＯＣＨ₂）_mＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇（ここでｍは０−３である）、−Ｏ Ｃ（Ｏ）ＣＨ₃、−ＯＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｃ（Ｃｌ）₃、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₃ ⁺ ＨＣＯＯ^-、ＮＨＣ（Ｏ）フェニル、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣ（ＣＨ₃）₃、−ＯＣＯ ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ、−ＯＣＯ（ＣＨ₂）₃ＣＯＯＨ、−ＯＣ（Ｏ）−Ｚ−Ｃ（Ｏ ）−Ｒ’、−ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ₂）_nＮＲ^FＲ^G（ここでｎは０−３である）、また は−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨであり； Ｒ⁶およびＲ⁶'は独立して水素、ヒドロキシ、−Ｏ−Ｃ_1-6アルキル、−ＯＣ（Ｏ ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ₂、−ＯＣ Ｈ₂ＯＲ、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＯＣ（Ｒ^x）₂ＯＲ、− ＯＣＨＲ^xＯＲ、−ＯＣＨ₂ＳＲ、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣ（Ｒ^x）₂Ｓ Ｒ、−ＯＣＨＲ^xＳＲ、ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、− ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）₂、−（ＯＣＨ₂）_nＯＣ＝ＯＣＨ₂ＮＨＲ^x、 −（ＯＣＨ₂）_nＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ₂ＮＲ’₆Ｒ’₇、（ここでｎは０−３である） 、−Ｃ_1-6アルキル、−ＣＨ₂ＯＲ、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₃、−ＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＣＨ₂ ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃であるが、Ｒ⁶およびＲ⁶'は共に水素ではなく、またＲ⁶およびＲ⁶ 'は一緒になってオキソ基を形成していてもよく、またＲ⁶およびＲ⁶'は一緒に なって式Ｃ＝Ｎ−Ｒまたは−Ｃ＝Ｎ−ＯＲの炭素一窒素二重結合を形成していて もよい； Ｒ¹⁰は水素、ヒドロキシ、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ^x、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ^x、−Ｏ−Ｃ_1-6 アルキル、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ ＣＨ₂ＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ、− ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＣＨ₃または−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ’₆Ｒ’₇、 Ｃ_1-6アルキル、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）Ｒ^x、−（ＣＨ₂）₃Ｃ（Ｏ）ＯＲ^xまたは −（ＣＨ₂）₃ＣＮである、 で示される化合物またはその製薬上許容しうる塩である請求項１の化合物。 4． Ｒ^Bが−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｔＢｕ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｎＢｕ、−ＮＨＣ（Ｏ） ＯｉＰｒ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｐｈ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＰｈまたはＮＨＣ（Ｏ ）−２−フリルであり； Ｒ²がフェニル、モノ−もしくはジ置換フェニルであり； Ｒ⁴がメチルであり； Ｒ⁶およびＲ⁶'が独立して−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣ Ｈ₂ＳＣＨ₃または−ＣＨ₂ＯＨであり；そして Ｒ¹⁰が−Ｈ、−ＯＨまたは−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃である請求項２の化合物。 5． Ｒがフェニル、イソブテニル、ｐ−フルオロ−フェニルまたはｐ−メチル− フェニルであり； Ｒ^Bが−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｔＢｕ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯｎＢｕ、−ＮＨＣ（Ｏ）Ｏｉ Ｐｒ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＣＨ₂Ｐｈ、−ＮＨＣ（Ｏ）ＰｈまたはＮＨＣ（Ｏ）− ２−フリルであり； Ｒ^Dが−ＯＨであり； Ｒ⁶およびＲ⁶'が独立して−Ｈ、−ＯＣＨ₃、−ＯＨ、−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃、−ＯＣ Ｈ₂ＳＣＨ₃または−ＣＨ₂ＯＣＨ₃であり；そして Ｒ¹⁰が−Ｈ、−ＯＨまたは−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ₃である請求項３の化合物。 6． Ｒ⁶が−ＯＨであり、そしてＲ⁶'が−Ｈである請求項３の化合物。 7． 下記に示す化合物IIIａ〜IIIｒからなる群から選ばれる式（IV）： で示される請求項１の化合物： 8． 製薬上許容しうる塩も包含する請求項７の化合物IIIｄ。 9． 請求項１−８のいずれか１項の式Ｉの化合物の抗腫瘍有効量をもつ医薬。 10．請求項１−８のいずれか１項の式Ｉの化合物の腫瘍阻害量を哺乳類の宿主に 投与することを特徴とする腫瘍生長を阻害する方法。