JP2000509718A - 1,2―ベンゾオキサチインおよびチエピン 2,2―ジオキシド除草剤 - Google Patents

1,2―ベンゾオキサチインおよびチエピン 2,2―ジオキシド除草剤

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JP2000509718A JP9540027A JP54002797A JP2000509718A JP 2000509718 A JP2000509718 A JP 2000509718A JP 9540027 A JP9540027 A JP 9540027A JP 54002797 A JP54002797 A JP 54002797A JP 2000509718 A JP2000509718 A JP 2000509718A
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ローラー,モリス・パジエツト
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イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
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Abstract

(57)【要約】 望ましくない植生を抑制するのに有用である、式(I)で示される化合物、並びにそれらのN−オキシドおよび農業的に適した塩が開示される。前記式(I)では、Qは(Q−1)、(Q−2)または(Q−3)であり;そしてA、R1〜R7、およびqは開示中で定義した通りである。また、式(I)で示される化合物を含有する組成物、並びに植生またはその環境に式(I)で示される化合物の有効量を接触させることを含む、望ましくない植生の防除方法も開示される。

Description

【発明の詳細な説明】 1,2−ベンゾオキサチインおよびチエピン 2,2−ジオキシド除草剤 発明の背景 本発明は、一定の1,2−ベンゾオキサチイン(benzoxathiin)および1,2 −ベンゾチエピン 2,2−ジオキシド、それらのN−オキシド、農業的に適し た塩および組成物、並びに望ましくない植生を抑制するためにそれらを利用する 方法に関する。 望ましくない植生の抑制は高い作物効率を達成するのに極めて重要である。特 にイネ、ダイズ、サトウダイコン、トウモロコシ(メイズ)、ジャガイモ、コム ギ、オオムギ、トマトおよび農園作物のような有用作物の間の雑草の成長の選択 的抑制を達成することは、中でも、非常に望まれている。かかる有用な作物中で の雑草の成長を抑制しないと、生産性は顕著に低下しそして消費者に対するコス トが上昇する結果となることがある。非作物地域中の望ましくない植生の抑制も また重要である。これらの目的のために多数の製品が市販されているが、より有 効で、より低コストで、より低毒性で、より環境に安全であるかまたは異なった 作用様式を有する新規な化合物に対する要望が継続している。 米国特許第5,089,046号明細書は、除草剤として、式i 式中、特に X1およびX2の一つはCR1a2aを表しそしてその他はCR34を表しR1、R1 a 、R2、R2a、R3およびR4は独立して水素またはC1−C8アルキルであり; R5はC1−C8アルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、−(O)nS(O)m12また は−NR15SO212であり; R6およびR7は独立して水素、C1−C8アルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、 −(O)nS(O)m12または−NR15SO212であり、但し、R5、R6また はR7の少なくとも一つは基−OS(O)212または−NR15SO212であり ; R8は水素または塩形成部分であり; R12は場合により1〜6個のハロゲンで置換されていてもよいC1−C8アルキル であり; R15は水素またはC1−C8アルキルであり; nは0または1であり;そして mは0、1または2である、 で示されるケトンを開示している。 本発明の1,2−ベンゾオキサチインおよび1,2−ベンゾチエピン 2,2 −ジオキシドはこの特許には開示されていない。 発明の要旨 本発明は、式I 式中、 Qは であり; R1はOR8、SH、C1−C6アルキルチオ、C1−C6ハロアルキルチオ、C1− C6アルキルスルフィニル、C1−C6ハロアルキルスルフィニル、C1−C6アル キルスルホニル、C1−C6ハロアルキルスルホニル、ハロゲンまたはNR21a2 1b であるか;或いはR1はフェニルチオ、フェニルスルホニルまたは−SCH2C (O)Phであり、各々は場合によりC1−C3アルキル、ハロゲン、シアノまた はニトロで置換されていてもよく; 各R2は独立してH、C1−C3アルキル、C3−C6アルケニル、C3−C6アルキ ニル、C1−C3アルコキシ、ホルミル、C2−C6アルコキシカルボニル、−CH (C1−C3アルコキシ)2、C1−C3アルキルチオ、C2−C4アルキルチオアル キル、シアノまたはハロゲンであるか;或いは二つのR2が同一の炭素原子に結 合している場合、前記R2の対は一緒になって、−OCH2CH2O−、−OCH2 CH2CH2O−、−SCH2CH2S−または−SCH2CH2CH2S−を形成し 、各基は場合により1〜4個のCH3で置換されていてもよく; R3はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、ハロゲン、シア ノまたはニトロであり; R4はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C3−C6アルケニルまた はC3−C6アルキニルであるか;或いはR4はフェニルまたはベンジルであり、 各々は場合によりフェニル環上でC1−C3アルキル、ハロゲン、シアノまたはニ トロで置換されていてもよく; R5はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2−C6アルコキシアル キル、ホルミル、C2−C6アルキルカルボニル、C2−C6アルコキシカルボニル 、C2−C6アルキルアミノカルボニル、C3−C7ジアルキルアミノカルボニル、 C1−C6アルキルスルホニルまたはC1−C6ハロアルギルスルホニルであるか; 或いはR5はベンゾイルまたはフェニルスルホニルであり、各々は場合によりC1 −C3アルキル、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換されていてもよく; R6はH、C2−C6アルコキシカルボニル、C2−C6ハロアルコキシカルボニル 、CO2Hまたはシアノであり; R7はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C3−C6シクロアルキル またはC3−C6ハロシクロアルキルであり; R8はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2−C6アルコキシアル キル、ホルミル、C2−C6アルキルカルボニル、C2−C6アルコキシカルボニル 、C(O)NR21a21b、C1−C6アルキルスルホニルまたはC1−C6ハロアル キルスルホニルであるか;或いはR8はフェニル、ベンジル、ベンゾイル、−C H2C(O)フェニルまたはフェニルスルホニルであり、各々は場合によりフェ ニル環上でC1−C3アルキル、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換されていて もよく; Aは であり; R9およびR10は独立してH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C1− C6アルコキシ、C1−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチオ、C1−C6ハ ロアルキルチオ、C1−C6アルキルスルフィニル、C1−C6ハロアルキルスルフ ィニル、C1−C6アルキルスルホニル、C1−C6ハロアルキルスルホニル、アミ ノスルホニル、C1−C2アルキルアミノスルホニル、C2−C4ジアルキルアミノ スルホニル、ハロゲン、シアノまたはニトロであり; R11、R12、R13、R17およびR18は独立してH、ハロゲン、シアノ、C1−C6 アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2−C6アルケニル、C2−C6ハロアルケニ ル、C2−C6アルキニル、C2−C6ハロアルキニル、C1−C6アルコキシ、C1 −C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチオまたはC1−C6ハロアルキルチオ であり; R14はH、ハロゲン、C1−C6アルキルまたはC1−C6ハロアルキルであり: R15はH、ハロゲン、シアノ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2 −C6アルケニル、C2−C6ハロアルケニル、C2−C6アルキニル、C2−C6ハ ロアルキニル、C1−C6アルコキシ、C1−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキ ルチオまたはC1−C6ハロアルキルチオであり; R16はH、C1−C6アルコキシ、C2−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチ オ、C2−C6ハロアルキルチオであるか;或いは R15およびR16は一緒になって、−X1−(CH2r−X2−、−(CH2s−X3 −、−(CH2t−X3−CH2−、−(CH2v−X3−CH2CH2−または− (CH2w−を形成し、各基は場合により1〜6個のハロゲン、1〜6個のCH3 および一つのC1−C3アルコキシから選ばれる少なくとも一つの員で置換され ていてもよいか;或いはR15およびR16は一緒になって、−O−N(C1−C3ア ルキル)−CHR20−CH2−または−O−N=CHR20−CH2−を形成し、各 基は場合により1〜2個のハロゲンおよび1〜2個のCH3から選ばれる少なく とも一つの員で置換されていてもよいか;或いはR15およびR16はそれらが結合 している炭素と一緒になって、C(=O)、C(=S)またはC(=NOR21) を形成し; X1およびX2は各々独立してO、SまたはN(C1−C3アルキル)であり; X3はOまたはSであり; GはOまたはCH2であり; R19はH、C1−C3アルキル、C3−C4アルケニルまたはC3−C4アルキニルで あり; R20はC1−C3アルキルであるか;或いはR20は、場合によりC1−C3アルキル 、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換されていてもよいフェニルであり; R21はH、C1−C3アルキル、C3−C4アルケニルまたはC3−C4アルキニルで あり; R21aはHまたはC1−C6アルキルであり; R21bはC1−C6アルキルまたはC1−C6アルコキシであるか;或いは R21aおよびR21bは一緒になって−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−C H2CH2CH2CH2−、−CH2CH2CH2CH2CH2−または−CH2CH2O CH2CH2−となることができ; YおよびZは、それらが結合している炭素と一緒になって、場合によりハロゲン およびC1−C8アルキルよりなる群から独立して選ばれる三つまでの基で置換さ れていてもよい融合1H−4,5−ジヒドロピラゾールまたはピリジン環を形成 するが、但し、融合1H−4,5−ジヒドロピラゾール環の窒素原子が置換され ている場合、窒素置換基はC1−C8アルキルであることを条件とするか;或いは YおよびZは、それらが結合している炭素と一緒になって、融合ピラゾール、ピ リミジンまたはチオフェン環を形成し、各々は場合によりハロゲンおよびC1− C8アルキルよりなる群から独立して選ばれる二つまでの基で置換されていても よいが、但し、融合ピラゾール環の窒素原子が置換されている場合、窒素置換基 はC1−C8アルキルであることを条件とするか;或いはYおよびZは、それらが 結合している炭素と一緒になって、場合によりハロゲン およびC1−C8アルキルで置換されていてもよい融合イソオキサゾールを形成し ; kは0または1であり; mは0または1であり; nは1または2であり; qは0、1、2、3または4であり; rは2、3または4であり; sは2、3、4または5であり; tは1、2、3または4であり; vは2または3であり;そして wは2、3、4、5または6であるが; 但し、 (i)kとmの合計は0または1であり; (ii)R16がH以外である場合、R15はハロゲンではなくそしておよびC1ハ ロアルコキシでもなく;そして (iii)AがA−1、A−2またはA−4である場合、QはQ−1またはQ− 2であることを条件とする、 で示される化合物、すべての幾何異性体および立体異性体を含めて、それらのN −オキシド、並びにそれらの農業的に適した塩、それらを含有する農業的組成物 および望ましくない植生を抑制するためのそれらの使用を目的とする。 上記の記載において、用語「アルキル」は、単独または「アルキルチオ」もし くは「ハロアルキル」のような組合せ語で使用され、メチル、エチル、n−プロ ピル、i−プロピル、または種々のブチル、ペンチル もしくはヘキシル異性体のような直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキルを含む。用 語「1−2アルキル」は、その置換基のために利用できる位置の1乃至2が独立 して選ばれるアルキルであってもよいことを示す。「アルケニル」は、エテニル 、1−プロペニル、2−プロペニル、並びに種々のブテニル、ペンテニルおよび ヘキセニル異性体のような直鎖状もしくは分岐鎖状のアルケンを含む。「アルケ ニル」はまた、1,2−プロパジエニルおよび2,4−ヘキサジエニルのような ポリエンを含む。「アルキニル」は、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニ ル並びに種々のブチニル、ペンチニルおよびヘキシニル異性体のような直鎖状も しくは分岐鎖状のアルキンを含む。「アルキニル」はまた、2,5−ヘキサジイ ニルのような複数三重結合を含んでなる部分を含むことができる。「アルコキシ 」は例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ並 びに種々のブトキシ、ペントキシおよびヘキシルオキシ異性体を含む。「アルコ キシアルキル」はアルキル上のアルコキシ置換を表す。「アルコキシアルキル」 の例として、CH3OCH2、CH3OCH2CH2、CH3CH2OCH2、CH3C H2CH2CH2OCH2およびCH3CH2OCH2CH2が挙げられる。「アルキル チオ」は、メチルチオ、エチルチオ、並びに種々のプロピルチオ、ブチルチオ、 ペンチルチオおよびヘキシルチオ異性体のような分岐鎖状もしくは直鎖状のアル キルチオ部分を含む。「アルキルチオアルキル」はアルキル上のアルキルチオ置 換を示す。「アルキルチオアルキル」の例として、CH3SCH2、CH3SCH2 CH2、CH3CH2SCH2、CH3CH2CH2CH2SCH2およびCH3CH2S CH2CH2が挙げられる。「アルキルチオアルコキシ」はアルコキシ上のアルキ ルチオ置換を示す。「アルキル スルフィニル」はアルキルスルフィニル基の両方の鏡像異性体を含む。「アルキ ルスルフィニル」の例として、CH3S(O)、CH3CH2S(O)、CH3CH2 CH2S(O)、(CH32CHS(O)および種々のブチルスルフィニル、ペ ンチルスルフィニルおよびヘキシルスルフィニル異性体が挙げられる。「アルキ ルスルホニル」の例として、CH3S(O)2、CH3CH2S(O)2、CH3CH2 CH2S(O)2、(CH32CHS(O)2および種々のブチルスルホニル、ペ ンチルスホニルおよびヘキシルスルホニル異性体が挙げられる。「アルキルアミ ノ」「ジアルキルアミノ」「アルケニルチオ」「アルケニルスルフィニル」「ア ルケニルスルホニル」「アルキニルチオ」「アルキニルスルフィニル」「アルキ ニルスルホニル」などは上記の例と同様に定義される。「シクロアルキル」は、 例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、およびシクロヘキシ ルを含む。 当業者は、窒素は酸化物に酸化するためには有効孤立電子対を必要とするので 、窒素含有複素環のすべてがN−オキシドを形成できるわけではないことを理解 している;当業者は、N−オキシドを形成できるそれらの窒素含有複素環を認識 している。当業者はまた第三アミンがN−オキシドを形成することができること を認識している。複素環式化合物および第三アミンのN−オキシドの合成法は、 過酢酸およびm−クロロ過安息香酸(MCPBA)のようなペルオキシ酸、過酸 化水素、t−ブチルヒドロペルオキシドのようなアルキルヒドロペルオキシド、 過ホウ酸ナトリウム、並びにジメチルジオキシランのようなジオキシランによる 複素環式化合物および第三アミンの酸化を含めて、当業者には極めてよく知られ ている。N−オキシドのこれらの製造方法は、文献中に広範に 記載されそして総説された。例えば、T.L.Gilchrist,包括的有機 合成,(Comprehensive Organic Synthesis) ,7巻、748−750頁,S.L.Ley編,Pergamon Press ;M.Tisler and B.Stanovnik,包括的複素環化学(C omprehennsive Heterocyclic Chemistry ),3巻,18−20頁,A.J.Boulton and A.McKill op編,Pergamon Press;M.R.Grimmett and B.R.T.Keene,複素環化学の進歩(Advances in Het erocyclic Chemistry),43巻,149−161頁,A. R.Katritzky編,Academic Press;M.Tisler and B.Stanovnik,複素環化学の進歩(Advances i n Heterocyclic Chemistry),9巻,285−291 頁,A.R.Katritzky and A.J.Boulton編,Aca demic Press;およびG.W.H.Chesseman and E .S.G.Werstiuk,複素環化学の進歩(Advances in H eterocyclic Chemistry),22巻,390−392頁, A.R.Katritzky and A.J.Boulton編,Acade mic Pressを参照。 用語「ハロゲン」は、単独かまたは「ハロアルキル」のよう組合せ語で使用さ れ、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を含む。用語「1〜2ハロゲン」は、その 置換基について利用できる位置の1乃至2が独立して選ばれるハロゲンであって もよいことを示す。さらに、「ハロアルキル」 のような組合せ語で使用される場合、前記アルキルは、同一かまたは相違しても よいハロゲン原子で部分的にかまたは全部置換されてもよい。「ハロアルキル」 の例として、F3C、ClCH2、CF3CH2およびCF3CCl2が挙げられる。 用語「ハロアルケニル」、「ハロアルキニル」、「ハロアルコキシ」、「ハロア ルキルチオ」などは用語「ハロアルキル」と同様に定義される。「ハロアルケニ ル」の例として、(Cl)2=CHCH2およびCF3CH2CH=CHCH2が挙 げられる。「ハロアルキニル」の例として、HC≡CCHCl、CF3C≡C、 CCl3C≡CおよびFCH2C≡CCH2が挙げられる。「ハロアルコキシ」の 例として、CF3O、CCl3CH2O、HCF2CH2CH2OおよびCF3CH2O が挙げられる。「ハロアルキルチオ」の例として、CCl3S、CF3S、CCl3 CH2SおよびClCH2CH2CH2Sが挙げられる。「ハロアルキルスルホニ ル」の例として、CF3S(O)2、CCl3S(O)2、CF3CHS(O)2およ びCF3CF2S(O)2が挙げられる。「ハロアルキルスルホニル」の例として CF3S(O)2O、Cl3S(O)2O、CF3CH2S(O)2OおよびCF3CF2 S(O)2Oがあげられる。 置換基中の炭素原子の総数は、iおよびjが1〜7からの数字である「Ci− Cj」接頭語によって示される。例えば、C1−C3アルキルスルホニルはメチル スルホニル乃至プロピルスルホニルを示し;C2アルコキシアルキルはCH3OC H2を示し;C3アルコキシアルキルは、例えば、CH3CH(OCH3)、CH3 OCH2CH2またはCH3CH2OCH2を示し;そしてC4アルコキシアルキルは 、総数4個の炭素原子を含有するアルコキシ基で置換されたアルキル基の各種異 性体を示し、例としてCH3CH2CH2OCH2およびCH3CH2OCH2CH2が 挙げら れる。「アルキルカルボニル」の例として、C(O)CH3、C(O)CH2CH2 CH3およびC(O)CH(CH32が挙げられる。「アルコキシカルボニル」 の例として、CH3OC(=O)、CH3CH2OC(=O)、CH3CH2CH2O C(=O)、(CH32CHOC(=O)および各種ブトキシ−またはペントキ シカルボニル異性体が挙げられる。上記の記載において、式Iで示される化合物 が一つまたはそれ以上の複素環式環を含んでなる場合、すべての置換基は、いず れの利用できる炭素または窒素をも介して、前記炭素または窒素上での水素との 置換によって、これらの環に結合する。 化合物が、置換基の数が1を超え得ることを示す下付き数字を有する置換基で 置換されている場合、前記置換基(それらが1を超える場合)は定義された置換 基の群から独立して選ばれる。さらに、下付き数字が範囲、例えば、(R)i-j を示す場合、置換基の数はiからjまでの間の整数から選ばれてもよい。 基が、水素でありうる置換基、例えば、R3またはR12を含有する場合、次い で、この置換基が水素として取られる場合、これは前記の基が非置換であること と同等であると認められる。 本発明の化合物は一つまたはそれ以上の立体異性体として存在することができ る。種々の立体異性体として、鏡像異性体、ジアステレオマー、アトロプ異性体 および幾何異性体が挙げられる。当業者は、一つの立体異性体は、他の立体異性 体に比して強化された場合、または他の立体異性体から分離された場合、より活 性であってもよくそして/または有益な効果を示してもよいことを理解している 。追加的に、当業者は、前記立体異性体を分離、強化する方法、および/または 選択的に製造する方 法を知っている。従って、本発明は、式Iから選ばれる化合物、N−オキシドお ょびそれらの農業的に適した塩を含んでなる。本発明の化合物は、立体異性体の 混合物、個々の立体異性体としてか、または光学的活性型として存在してもよい 。 本発明の幾つかの化合物は一つまたはそれ以上の互変異性体として存在するこ とができる。当業者は、例えば、式Ia(QがQ−1であり、R1がOR8であり 、そしてR8がHである式I)で示される化合物はまた、下記に示すように、式 IbおよびIcで示される互変異性体として存在することができることを認識し ている。当業者は、前記互変異性体が相互に平衡して存在することが多いことを 認識している。本発明は式Iで示されるかかる互変異性体の混合物並びに個々の 互変異性体を含む。 本発明の化合物の塩は、無機酸または有機酸、例えば、臭化水素酸、塩酸、硝 酸、リン酸、硫酸、酢酸、酪酸、フマル酸、乳酸、マレイン酸、マロン酸、シュ ウ酸、プロピオン酸、サリチル酸、酒石酸、4−トルエンスルホン酸または吉草 酸との酸付加塩を包む。本発明の化合物の塩は また、化合物がカルボン酸またはフェノールのような酸性基を含有する場合、有 機塩基(例えば、ピリジン、アンモニアもしくはトリエチルアミン)または無機 塩基(例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウムも しくはバリウムの水素化物、水酸化物、または炭酸塩)を用いて形成されるもの を包含する。 良好な活性および/または合成の容易性の理由から好適な化合物は次の通りで ある: 好適物1。上記の式1、式中、 AがA−1、A−2およびA−6から選ばれ; R9およびR10が独立してH、ハロゲン、ニトロ、C1−C3アルキルまたはC1− C3アルコキシであり; R11およびR12が独立してH、ハロゲンまたはC1−C3アルキルであり; R13およびR14が独立してHまたはC1−C3アルキルであり; R15およびR16が独立してH、C1−C3アルキル、C1−C3アルコキシ、C2− C3ハロアルコキシ、C1−C3アルキルチオまたはC2−C3ハロアルキルチオで あるか;或いはR15およびR16が一緒になって、場合により1〜2個のハロゲン および1〜3個のCH3から選ばれる少なくとも一つの員で置換されていてもよ い−X1−(CH2r−X2−を形成するか;或いはR15およびR16が、それらが 結合している炭素と一緒になって、C(=C)またはC(=NOR21)を形成し ; rが2または3であり; R21がHまたはC1−C3アルキルであり; A−6がA−6a、A−6b、A−6c、A−6d、A−6eおよびA −6fから選ばれるものである: ここで、 R22、R24およびR30は独立してC1−C6アルキルであり;そして R23、R25、R26、R27、R28およびR29は独立してHまたはC1−C4アル キルであり;そして R31およびR32は独立してHまたはC1−C2アルキルである、 で示される化合物、並びにそれらのN−オキシドおよびそれらの農業的に適した 塩。 好適物2。 kが0であり; mが0であり; R9およびR10が独立してC1−C3アルキルまたはハロゲンであり; R11およびR12が独立してHまたはC1−C3アルキルであり; R15およびR16が一緒になって−OCH2CH2O−または−SCH2CH2S−と なるか;或いはR15およびR16が、それらが結合している炭素と一緒になって、 C(=O)、C(=NOR21)を形成し; R21がC1−C2アルキルであり;そして R22、R24およびR30が独立してC1−C3アルキルであり;そして R23、R25、R26、R27、R28およびR29が独立してHまたはC1−C2アルキル であり;そして R31およびR32は独立してHまたはC1−C2アルキルである、 好適物1の化合物。 好適物3。QがQ−1である好適物2の化合物。 好適物4。QがQ−2である好適物2の化合物。 好適物5。QがQ−3である好適物2の化合物。 (a)3−ヒドロキシ−2−[(3,5,8−トリメチル−1,2−ベンゾオキ サチイン−6−イル)カルボニル]−2−シクロヘキセン−1−オン S,S− ジオキシド、それはあるいはその互変異性体 2−[(3,5,8−トリメチル−1,2−ベンゾオキサチイン−6−イル)カ ルボニル]−1,3−シクロヘキサンジオン=S,S−ジオキシドと呼ばれる; (b)3−ヒドロキシ−2−[(2,6,9−トリメチル−4,4−ジオキシド −2H−[1,2]ベンゾオキサチイノ[4,3−c]ピラゾール−8−イル) カルボニル]−2−シクロヘキセン−1−オン;および (c)2−[(5,8−ジメチル−1,2−ベンゾオキサチイン−6− イル)カルボニル]−3−ヒドロキシ−2−シクロヘキセン−1−オンS,S− ジオキシド、 よりなるから選ばれる好適物3の化合物は最も好適である。 本発明はまた、本発明の化合物の除草的有効量並びに界面活性剤、固体希釈剤 または液体希釈剤の少なくとも一種を含んでなる除草組成物に関する。本発明の 好適な組成物は上記の好適な化合物を含んでなるものである。 本発明はまた、植生の部位に本発明の化合物の除草的有効量を(例えば、本明 細書に記載の組成物として)適用することを含んでなる望ましくない植生を抑制 する方法に関する。好適な使用方法は上記の好適な化合物を包含するものである 。 発明の詳細 式Iで示される化合物は、スキーム1〜63に記載の以下の方法および変法の 一つまたはそれ以上によって製造することができる。特記しない限り、下記の式 Id−Ifおよび式1−49中のQ、A、R1−R32、X1−X3、G、Y、Z、 k、m、n、q、r、s、t、vおよびwの定義は本発明の要旨に記載した通り である。式Id−Ifで示される化合物は式Iで示される化合物の種々の部分集 合である。例えば、下記の式Idで示される化合物は、QがQ−1である式Iで 示される化合物である。 一般式Idで示される化合物は、当業者によって、この節のスキーム1〜55 および63に記載の反応および技法を使用することによって並びに実施例1、2 および3に記載の特定の操作法に従うことによって製造することができる。 スキーム1は、式Id(AはA−1〜A−6fであり、ここでA−2の場合、 R15およびR16はそれらが結合している炭素と一緒になってC(=O)およびC (=S)を形成する以外であり;R1はOR33でありそしてR33は発明の要旨に 記載した通りR8と同一であり、Hではない)で示される化合物の製造を説明し 、それによれば、式Id(Aは上記で定義した通りであり;R1はOHである) で示される化合物を、式1(R33は上記で定義した通りであり;X4は塩素、臭 素、フッ素、トリフルオロスルホニルオキシ(OTf)またはアセチルオキシ( OAc)である)で示される試薬と、塩基の存在下に反応させる。結合は該技術 分野で既知の一般的方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行われる ;例えば、K.Nakamura et al.国際公開第95/04054号 明細書を参照。 スキーム1 スキーム2は、式Id(Aはスキーム1で定義した通りであり;R1はS(O )x34であり、ここでxは1または2であり、そしてR34はC1−C6アルキル またはC1−Cハロアルキルである)で示される化合物の製造を説明し、それに よれば、式Id(Aはスキーム1で定義した通りであり;R1はSR34である) で示される化合物を、ペルオキシ酢 酸、m−クロロペルオキシ安息香酸、ペルオキシモノ硫酸カリウム(例えば、O xone(商標))または過酸化水素のような酸化剤と反応させる(反応は酢酸 ナトリウムまたは炭酸ナトリウムのような塩基で緩衝化されてもよい)。酸化は 該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正によって)によって 行われる;例えば、B.M.Trost et al.,J.Org.Chem .(1988)、53、532;B.M.Trost et al.,Tetr ahedron Lett.(1981),21,1287;S.Patai et al.,スルホンおよびスルホキシドの化学(The Chemistr y of Sulphones and Sulphoxides),John Wiley & Sons,(1988);205−213,235−253 頁を参照。反応条件と適合できない官能基を保護および脱保護することはかかる 官能基を持つ化合物に必要であってもよい(操作法については、T.W.Gre ene et al.,有機合成における保護基(Protective Gr oups in Organic Synthesis),第2版,John Wiley & Sonsを参照)。 スキーム2 式Id(Aはスキーム1で定義した通りであり;R1はNuであり;NuはS R34またはOR35であり、ここでR34はスキーム2で定義した通りでありそして R35はC1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキルまたはC2−C6アルコキシアル キルである)で示される化合物は、当業者に よって、式Id(Aはスキーム1で定義した通りであり;R1はハロゲンである )で示される化合物から、スキーム3で示すような式2(NuはSR34またはO R35であり;MはNa、KまたはLiである)で示される求核試薬による処理に よって、文献に記載の方法(またはこれらの方法の少しの修正)を使用して製造 することができる;例えば、S.Miyano et al.,Chem.So c.,Perkin Trans.1(1976),1146を参照。 スキーム3 式Id(Aはスキーム1で定義した通りであり;R1はハロゲンである)で示 される化合物は、式Id(Aはスキーム1で定義した通りであり;R1はOHで ある)で示される化合物を臭化オキサリルまたは塩化オキサリルのようなハロゲ ン化剤と反応させることによって製造することができる(スキーム4)。この転 化は、該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行 われる;例えば、S.Muller et al.,国際公開第94/1361 9号明細書、Muller et,al.,西独特許第4,241,999号明細 書を参照。 スキーム4 スキーム5は、式Id(AはA−2であり、ここでR15およびR16はそれらが 結合している炭素と一緒になってC(=O)を形成する)で示 される化合物の製造を説明し、それによれば、式Id(AはA−2であり、ここ でR15およびR16は独立してC1−C6アルコキシであるかまたはR15およびR16 は一緒になって−O−(CH2r−O−を形成する)で示される化合物を塩化水 素酸または臭化水素酸水溶液(0.1〜12N)中で0〜100℃の温度で30 分から3日までの間の期間撹拌する。この転化は該技術分野で既知の方法(また はこれらの方法の少しの修正)によって行われる;例えば、P.A.Griec o et al.,J.Am.Chem.Soc.(1977),99,577 3;P.A.Grieco et al.,J.Org.Chem.(1978 ),43,4178を参照。 スキーム5 スキーム6は、式Id(Aはスキーム1で定義した通りである)で示される化 合物の製造を説明し、それによれば、式3(Aはスキーム1で定義した通りであ る)で示されるエノールエステルを、トリエチルアミンのような塩基と、触媒量 のシアン化物(例えば、アセオンシアノヒドリンまたはシアン化キリウム)の存 在下で反応させる。この転位は該技術分野で既知の一般的方法によって行われる ;例えば、W.J.Michaely,欧州特許第369,803号明細書を参 照。スキーム6 式3(Aはスキーム1で定義した通りである)で示されるエノールエステルは 、式4で示されるジオンを式5(Aはスキーム1で定義した通りである)で示さ れる酸塩化物と、トリエチルアミンのような塩基の少し過剰のモルの存在下に、 アセトニトリル、ジクロロメタンまたはトルエンのような不活性有機溶媒中で、 0〜110℃の温度で反応させることによって製造することができる。 スキーム7 式5(Aはスキーム1で定義した通りである)で示される酸塩化物は、式6( Aはスキーム1で定義した通りである)で示される酸を塩化オキサリル(または 塩化チオニル)および触媒量のN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)と反応 させる(スキーム8)ことによって製造することができる。この塩素化は該技術 分野で十分既知である;例えば、M.J.Michaely,欧州特許第369 ,803号明細書を参照。スキーム8 スキーム9に示すように、式6で示される酸はまた、ジオン4と直接エステル 形成反応で反応して、式3で示されるエステルを得るのに利用することができる 。1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,1−カルボニルジイミダゾー ル、またはヨウ化2−クロロ−N−メチルピリジニウムのような促進剤および酸 とアルコールもしくはフェノールとを結合することが知られている他の試薬は、 酸受容体と一緒に利用することができる。酸受容体は通常トリエチルアミンまた はピリジンのようなアミン塩基である;例えば、Larock,包括的有機転換 反応(Comprehensive Organic Transformat ions),VCH出版,New York(1989),978−979頁; K.Saigo et al.,Bull.Chem.Soc.Jap.(19 77),50,1863;L.Strekowskiet al.,Synth esis(1983),493;S.G.Amin et al.,Synth esis Commun.(1979),210を参照。 スキーム9 スキーム10は式Id(AはA−2であり、ここでR15およびR16はそれらが 結合している炭素と一緒になってC(=S)を形成する)で示 される化合物の製造を説明し、それによれば、式Id(AはA−2であり、ここ でR15およびR16はそれらが結合している炭素と一緒になってC(=O)を形成 する)で示される化合物を、P410またはLawesson試薬(2,4−ビ ス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン−2, 4−ジスルフィド)と反応させる。この転化は該技術分野で既知の一般的方法( またはこれらの方法の少しの修正)によって行われる;例えば、V.K.Lus is et al.,Khim.Geterotsiklt.(1986),5 ,709;T.A.Chibisova et al.,Zh.Ory.Khi m.(1986),22(9),2019を参照。 スキーム10 式6で示される酸は、当業者によって、以下のスキーム11−55および63 に記載の反応および技法(またはこれらの方法の少しの修正によって)を使用す ることによって容易に製造することができる。例えば、式6aで示される酸の製 造はスキーム11−23および63に記載されている。 式6a(mは0であり;kは0または1である)で示される多数の酸は製造す ることができ、それによれば、式7(kは0または1である)で示される酸をク ロロスルホン酸と反応させる(スキーム11)。クロロスルホン酸は過剰で(少 なくとも2〜10モル過剰)使用されそして反応物および溶媒として働く。反応 は約25〜80℃の温度で1時間〜約72時間の範囲内の時間行われる。反応を 過剰の氷中で停止した後、混合物を濾過するか(固体が存在する場合)、または ジクロロメタンのような溶媒で抽出しそして濃縮する。直後の残渣(または濾過 からの固体)はさらに、当業者によって、再結晶またはシリカゲルによるフラッ シュクロマトグラフィー法によって精製することができる。同様な反応について は、W.Werner,米国特許第4,560,771号明細書(1985年公 告)を参照。 スキーム11 式中、R11はC1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2−C6アルケニル、 C2−C6ハロアルケニル、C2−C6アルキニルまたはC2−C6ハロアルキニルで あり;そしてR12は定義した通りR11でありそしてまたHである。 スキーム12は式7で示される多数の酸を製造する方法を説明し、それによれ ば、式8で示される対応するブロモ化合物を、n−ブチルリチウム(またはマグ ネシウム)と反応させ、次いでその場で生成したリチ ウム塩(またはGrignard試薬)を二酸化炭素と反応させ、次いで塩酸の ような酸で酸性化する。この転化は該技術分野で既知の方法(またはこれらの方 法の少しの修正)によって行われる;例えば、M.A.Ogliaruso e t al.,カルボン酸、エステルおよびそれらの誘導体の合成(Synthe sis of Carboxylic Acids,Esters and T heir Derivatives),John Wiley & Sons, 1991;27−28頁;A.J.Bridges et al.,J.Org .Chem.(1990),55,773;C.Franke et al., Angew.Chem.Int.Ed.(1969),8,68を参照。 スキーム12 式中、R11およびR12はスキーム11で定義した通りである。 スキーム13は式8(LはHまたはBrであり;kは0である)で示される多 数のジヒドロベンゾフランの製造を説明し、それによれば、式9(LはHおよび Brである)で示されるアリルフェニルを、Claisen転位条件下(例えば 、約200℃、場合により無水臭化マグネシウムのような触媒の存在下)、該技 術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって加熱する;例 えば、J.March,上級有機化学(Advanced Organic C hemistry),3版(1985),John Wiley & Sons ,1028 −1032頁およびその中の参考文献を参照。式9で示されるアリルフェニルエ ーテルは、対応するフェノールおよび臭化アリルもしくは塩化アリルから、炭酸 カリウムのような塩基の存在下での反応によって、該技術分野で既知の方法によ って製造することができる;例えば、M.P.Rorer,米国特許第4,51 4,211号明細書(1985年公告)を参照。また、式8(LはHである)で 示されるジヒドロベンゾフランを該技術分野で一般的に既知である方法によって 臭素化すると、式8(LはBrである)で示されるブロモ化合物を得ることがで きる。 スキーム13 式中、R11aはH、C1−C5アルキルまたはC1−C5ハロアルキルであり;R11 はC1−C6アルキルまたはC1−C6ハロアルキルであり;R12はR11でありそし てまたHである。 式8(kは1である)で示されるクロマンは、当業者によってまた該技術分野 で既知の方法によって製造することができる;例えば、複素環式化合物の化学( The Chemistry of Heterocyclic Compou nds),G.P.Ellis編,(1981),36巻,John Wile y & Sons,New Yorkを参照。 式6aで示される多数の酸はまた、スキーム14に示すように、容易に製造す ることができ、それによれば、式10(LはCO2CH3である) で示されるエステルを鹸化するか(例えば、メタノール中で水酸化カリウム、次 いで塩酸のような酸で酸性化)、または別法として、該技術分野で既知の方法( またはこれらの方法の少しの修正)によって酸加水分解する;例えば、M.A. Ogliaruso et al.,カルボン酸、エステルおよびそれらの誘導 体の合成(Synthesis of Carboxylic Acids,E sters and Their Derivatives),John Wi ley & Sons,(1991),5−7頁を参照。 スキーム14 式中、k、m、R11およびR12は初めに定義した通りである。 その他、スキーム15は、式6aで示される多数の酸は製造することができる ことを説明し、それによれば、式10(LはIである)で示されるヨウド化合物 を一酸化炭素と、酢酸パラジウム(Pd(OAc)2)のようなパラジウム触媒 、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(dppp)のようなホスフ ィン触媒、メタノールのようなアルコールの過剰、およびトリエチルアミンのよ うな塩基の存在下で反応させて、式10(LはCO2CH3である)で示される対 応するエステルを生成する。この反応は該技術分野で既知の方法(またはこれら の方法の少しの修正)によって行われる;例えば、有機合成におけるパラジウム 試 薬(Palladium Reagents in Orgnic Synth esis),R.F.Heck版(1985),Academic Press ,New Yorkを参照。スキーム14に記載の方法によって続いて鹸化また は酸加水分解すると、式6aで示される酸を得ることができる。 スキーム15 式中、k、m、R11およびR12は初めに定義した通りである。 スキーム16は式10(LはCO2CH3である)で示される多数のエステルま たは式10(LはIである)で示されるヨウド化合物の製造を説明し、それによ れば、式11(LはCO2CH3またはIである)で示される対応するヒドロキシ 化合物を該技術分野で既知の適切な試薬と反応させて、水を除去する(例えば、 ピリジン中でオキシ塩化リン(POCl3)によって)。この反応は該技術分野 で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行うことができる; 例えば、J.Erhrenfreund et al.,米国特許第4,589 ,911号明細書(1986年公告)およびJ.M.Clancy et al .,Int.J.Sulfur Chem.,A(1972),2,249を参 照。スキーム16 式中、R11およびR12は初めに定義した通りであり、R12を除いてハロゲン、シ アノ、C1−C6アルコキシ、C1−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチオま たはC1−C6ハロアルキルチオではない。 スキーム17は式11で示される多数のヒドロキシ化合物の製造を説明し、そ れによれば、式12で示されるスルホネートを1,8−ジアザビスクロ[5.4 .0]ウンデク−7−エン(DBU)のような適切な塩基と反応させて、環化す る。この反応は該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)に よって行われる;例えば、J.Erhrenfreund et al.,米国 特許第4,589,911号明細書(1986年公告);J.M.Clancy et al.,Int.J.Sulfur Chem.,A(1972),2 ,249を参照。 スキーム11 式中、R11およびR12はスキーム16で定義した通りである。 スキーム18は式12で示される多数のスルホネートの製造を説明し、それに よれば、式13で示されるフェノールを式14で示される塩化スルホニルと、ト リエチルアミンのような塩基の存在下で、該技術分野で既知の方法(またはこれ らの方法の少しの修正)によって反応させる;例えば、スキーム17に引用した 二つの引例およびJ.F.King et al.,J.Am.Chem.So c.(1964),86,287を参照。 スキーム18 式中、L、k、R11およびR12はスキーム17で定義した通りである。 スキーム19は式13(kは0であり;R12はHである)で示される多数のア ルデヒドの製造を説明し、それによれば、式15で示されるフェノールを適切な 試薬と反応させて、アルデヒド基をフェニルヒドロキシ基にオルトに導入する。 この反応は該技術分野で既知の多種類の方法(またはこれらの方法の少しの修正 )によって行われる;例えば、J.March,上級有機化学(Advance d Organic Chemistry),第3版(1985),John Wiley $ Sons,487−491頁;G.Casiraghi et al.,J.Chem.Soc.Perkin I(1980),1862; R.X.wang et al.,Synthetic Commun.(19 94),24,(12),1757を参照。好適な方法は、ポリリン酸 のような酸中のヘキサメチレンテトラミン(HMT)である;例えば、Y.Su zuki et al.,Chem.Pharm.Bull.(1983),3 1,1751を参照。 スキーム19 スキーム20は式13で示される多数のケトンの製造を説明し、それによれば 、式16で示されるエステルを、Fries転位条件下で(例えば、約150〜 200℃、塩化アルミニウムのような適切なLewis触媒の存在下で)、該技 術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって加熱する;例 えば、F.Shawcross et al.,J.Het.Chem.(19 95),32,1393;J.March,上級有機化学(Advanced Organic Chemistry)(1985),第3版,John Wi ley & Sons,499−501頁を参照。 スキーム20 式中、R12はスキーム18で定義した通りである。 式13、15および16(ここでLはIである)で示される多数のヨウド化合 物は、当業者によって、式13、15および16(ここでLはIである)で示さ れる対応する化合物を、該技術分野で既知の適切なヨウ素化剤と(例えば、酢酸 中の一塩化ヨウ素と、場合により酢酸ナトリウムのような塩基と)反応させるこ とによって製造することができる;例えば、K.M.Tramposch et al.,J.Am.Chem.Soc.(1983),26,121;J.M arch,上級有機化学(Advanced Organic Chemist ry),第3版,John Wiley & Sons,478頁を参照。 エステル基を含有する式13で示される多数のアルドフェノール(即ち、Lは CO2CH3であり;kは0であり;R12はHである)は、当業者によって、スキ ーム21に示す一連の反応によって製造することができる。これらの反応は該技 術分野で既知の方法によって行われ、それによれば、(a)式17で示されるフ ェニルエーテルをオキシ塩化リンおよびDMFと反応させて、式17aで示され るアルデヒドを生成し(例えば、F.Balkau et al.,Aust. J.Chem.(1969),22,2489;Buu−Hoi et al. ,Seanc.Acad.Sci.,Paris(1955),240,224 1を参照);(b)アルデヒドを脱保護して(例えば、ベンゼン中の塩化アルミ ニウム)式17bで示されるフェノールを生成し(例えば、T.W.Green e et al.,有機化学における保護基(protective Grou ps in Organic Chemistry),第2版、John Wi ley & Sons,145−174頁を参照);(c)塩化メタンスルホニ ルおよびトリエチルアミンと の反応によってフェノールを保護して、式17cで示されるスルホネートを生成 し;(d)Jones試薬のような適切な試薬で酸化して、式17dで示される 酸を生成し(例えば、S.Lee,米国特許第5,089,046号明細書(1 992年公告)を参照);(e)脱保護(例えば、水酸化ナトリウム水溶液)し た後エステル化して、式17eで示されるエステルを生成し(例えば、T.W. Greene et al.,有機化学における保護基(Protective Groups in Organic Chemistry),第2版,Jo hn Wiley & Sons,162頁および169頁を参照);そして( f)エステルを、アルド基をフェニルヒドロキシ基にオルトに導入するための該 技術分野で既知の適切な試薬、例えば、ポリリン酸(PPA)のような酸中のヘ キサメチレンテトラミン(HMT)と反応させる;例えば、Y.Suzuki et al.,Chem.Pharm.Bull.(1983),31,175 1を参照。 スキーム21 スキーム22に示すように、式10(LはCO2CH3またはIであり;kは0 、mまたはIである)で示される多数の他の化合物は製造することができ、それ によれば、式18で示される臭化アリルを、亜硫酸ナトリウムと次いでオキシ塩 化リンと、該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によっ て反応させる;例えば、J.M.Clancy,Int.J.Sulfur C hem.A(1972),2,249を参照。式18で示される化合物は当業者 によって該技術分野で既知の方法によって製造することができる。 スキーム22 式中、R11およびR12は初めに定義した通りである。 また、スキーム23に示すように、式10(R11はClであり;R12はH、C1 −C6アルキルまたはC1−C6ハロアルキルであり;そしてLはCO2CH3また はIである)および式10(R11はBrであり;R12はH、C1−C6アルキルま たはC1−C6ハロアルキルであり;そしてLはCO2CH3またはIである)で示 されるさらに他の化合物は製造することができ、それによれば、式10(R11は Hであり;R12はH、C1−C6アルキルまたはC1−C6ハロアルキルであり;そ してLはCO2CH3またはIである)で示される対応する化合物を、塩素または 臭素との反応によってハロゲン化し、次いでピリジンのような適切な塩基との 反応によって脱ハロゲン化する。これらの反応は該技術分野で既知の方法(また ほこれらの方法の少しの修正)によって行われる;例えば、J.M.Clanc y et al.,Int.J.Sulfur Chem.,A(1972), 2,249を参照。 スキーム23 式中、R12はH、C1−C6アルキルまたはC1−C6ハロアルキルである。 式6bで示される酸はスキーム24−36で示される方法によって当業者によ って製造することができる。 スキーム24は式6bで示される多数の酸の製造を説明し、それによれば、式 6aで示される対応する酸を該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少 しの修正)によって触媒的にハロゲン化する;例えば、W.Werner,米国 特許第4,560,771号明細書(1985年公告)を参照。 スキーム24 スキーム25に示すように、式6bで示される多数の酸もまた製造することが でき、それによれば、式19(LはCO2CH3である)で示される対応するエス テルを鹸化するか、または別法として酸加水分解する。この反応は当業者によっ てスキーム14に記載のものと同様な方法を使用して行うことができる。 スキーム25 その他、スキーム26に示すように、式6bで示される多数の酸もまた、式1 9(LはIである)で示される対応するヨウド化合物から製造することができる 。この反応はスキーム15に記載のものと同様な方法によって当業者によって行 うことができる。 スキーム26 スキーム27は、式19(LはIまたはCO2CH3であり;R15は塩素、臭素ま たはフッ素であり;R16はHである)で示される多数のハロゲン化化合物の製造 を説明し、それによれば、式11で示されるヒドロキシ化合物を、塩化チオニル 、臭化チオニルまたは三フッ化ジエチルアミノ スルファ(DAST)と、該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少し の修正)によって反応させる;例えば、J.March,上級有機化学(Adv anced Organic Chemistry)(1985),3版,Jo hn Wiley & Sons,382−384頁;Larock,包括的有 機転換反応(Comprehensive Organic Transfor mations),VCH出版,New York,(1989),353−3 60頁を参照。 スキーム27 式中、kは0または1であり;mは0であり;R12、R14およびR16はHであり ;R13およびR11はハロゲン以外である。 スキーム28は、式19(LはIまたはCO2CH3であり;R15はC1−C6ア ルコキシ、C1−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチオ、C1−C6ハロアル キルチオまたはシアノであり;R16はHである)で示される化合物の製造を説明 し、それによれば、式19(LはIまたはCO2CH3であり;R15はClまたは Brであり;R16はHである)で示されるハロゲン化化合物を式10(R37はC1 −C6アルコキシ、C1−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチオ、C1−C6 ハロアルキルチオまたはシアノであり;MはNa、KまたはLiである)で示さ れる求核試薬と反応させる。反応は、メタノール、DMFまたはテトラヒドロフ ラン(好適には、メタノール)のような適切な溶媒中で、約0〜80℃の範囲内 の温度で、約1〜8時間行われる。濃縮の後、直後の残渣は さらに、酢酸エチルおよびヘキサンのような混合溶離剤を用いるシリカゲルによ るフラッシュクロマトグラフィー法によって、当業者によって精製することがで きる。 スキーム28 式中、k、m、R12−R14、R16はスキーム27で定義した通りである。 スキーム29は、式19(LはIまたはCO2CH3であり;R15およびR16は 独立してC1−C6アルコキシ、C1−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチオ またはC1−C6ハロアルキルチオであるか;またはR15およびR16は一緒になっ て、場合により1−6個のハロゲン、1−6個のCH3および1個のC1−C3ア ルコキシから選ばれる少なくとも一員で置換されていてもよい−X−(CH2r −X2−を形成し;X1およびX2は発明の要旨で定義した通りである)で示され る化合物の製造を説明し、それによれば、式21で示されるケトンを、アルコー ル、アルキルチオール、またはHX1−(CH2r−X2H(場合により1−6個 のハロゲン、1−6個のCH3および1−6個のC1−C3アルコキシから選ばれ る少なくとも一員で置換されていてもよく;X1、X2は発明の要旨で定義した通 りである)と、p−トルエンスルホン酸(またはBF3のようなLewis酸) のようなプロトン性酸触媒の存在下で、トルエンのような不活性な有機溶媒中ま たはアルコール中で(アルコールが試薬である場合)、反応させる。この転化は 該技術分野で既知の一般 的方法によって行われる;例えば、T.W.Greene et al.,有機 化学における保護基(Protective Groups in Organ ic Chemistry)(第2版),175−221頁,John Wil ey & Sons,Inc.を参照。 スキーム29 スキーム30は、式19(LはIまたはCO2CH3であり;R15およびR16は 一緒になって、−(CH2s−O−、−(CH2t−X3−CH2、−(CH2v −X3−CH2CH2−または−(CH2w−を形成し、各基は1−6個のハロゲ ン、1−6個のCH3および1個のC1−C3アルコキシから選ばれる少なくとも 一員で置換されていてもよい)で示される化合物の製造を説明し、そこでは、式 21で示されるケトンを、Grignard試薬、スルホニウムシクロアルキリ ド、リチウムリチオアルコキシド、有機パラジウム試薬、スルホニウムイリドま たは他の同等な試薬と、不活性有機溶媒中で反応させる。スキーム30の反応か ら の直後の生成物の幾つかをさらに修飾して、式19で示される所望の化合物を得 てもよい。上記の反応は、該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少し の修正)によって行われる;例えば、S.Umio et al.,J.Med .Chem.(1972),15,855;B.Mudryk et al., J.Org.Chem.(1989),54(24),5657;Z.Pary zekt et al.,Can.J.Chem.(1987),65(1), 229;B.M.Trost et al.,J.Am.Chem.Soc.( 1972),94,4777;B.M.Trost et al.,J.Am. Chem.Soc.(1985),107,1778;S.Fukuzawa et al.,J.Chem.Soc.Chem.Comm.(1986),8 ,624;J.F.Gil et al.,Tetrahedron(1994 ),50(11),3437;T.J.Jenkins et al.,J.O rg.Chem.(1994),59(6),1485;C,J.Li et al.,Organometallics(1991),10(8),2548 ;E.J.Corey et al.,J.Am.Chem.Soc.(196 5),87,1353;K.Okuma et al.,J.Org.Chem .(1983),48,5133を参照。 スキーム30 スキーム31は、式19(LはIまたはCO2CH3であり;R15およびR16は 一緒になって、場合により1−6個のハロゲン、1−6個のCH3および1個の C1−C3アルコキシから選ばれる少なくとも一員で置換されていてもよい−(C H2s−S−を形成する)で示される化合物の製造を説明し、それによれば、式 22で示されるチオケトンを式23で示されるジブロモアルカンと、当モル量ま たはそれ以上のイッテルビウム(Yb)金属の存在下で、ベンゼンおよびヘキサ メチルリン酸トリアミドのような不活性な有機溶媒中で反応させる。この転化は 該技術分野で既知の一般的方法によって行われる;例えば、Y.Nakioka et al.,Chem,Lett.(1994),(3),611を参照。 スキーム31 スキーム32は、式19(R15およびR16は一緒になって−CH2O−または −CH2CH2O−を形成し、各基は場合により1−4個のハロゲン、1−4個の CH3および1個のC1−C3アルコキシから選ばれる少なくとも一員で置換され ていてもよいか;或いはR15およびR16は一緒になって−O−N(C1−C3アル キル)−CHR20−CH2−または −O−N=CHR20−CH2−を形成し、各基は1〜2個のハロゲンおよび1〜 2個のCH3から選ぱれる少なくとも一つの員で置換されていてもよい)で示さ れる化合物の製造を説明し、それによれば、式24で示されるアルケンを、過酸 、Wittig試薬、ニトロン、シリルニトロネート、ニトリルオキシドまたは Simmons−Smith試薬と、不活性な有機溶媒中で反応させる。スキー ム32の反応からの直後の生成物の幾つかをさらに修飾して、式19で示される 所望の化合物を得てもよい。上記の反応は該技術分野で既知の方法(またはこれ らの方法の少しの修正)によって行われる;例えば、M.Chini et a l.,J.Org.Chem.(1989),54,3930;B.Chene ra et al.,Tetrahedron(1986),42,(13), 3443;R.Mechoulam et al.,J.Am.Chem.So c.(1958),80,4386;A.Hosomi et al.,Che m.Lett.(1985),(7),1049;S.Mzengeza et al.,J.Chem.Soc.Chem.Commun.(1984),9 ,606;H.Mitsu et al.,Tetrahedron Lett .(1983)24(10),1049;J.E.Baldwin et al .,J.Chem.Soc.Chem.Commun.(1968),373; S.L.Ioffe et al.,J.Gen.Chem.USSR(英訳) (1973)、43,1699;A Brandi et al.,Tetra hedron Lett.(1987),28(33),3845;D.P.C urran et al.,J.Org.Chem.(1984),49(19 ),3474;R.J.Rawson et al.,J.Org.Chem.(1970),35(6),2057を 参照。 スキーム32 スキーム33は、式21(R15およびR16はそれらが結合している炭素と一緒 になってC(=O)を形成する)で示される多数のケトンの製造を説明し、それ によれば、式11で示されるヒドロキシ化合物を、過マンガン酸カリウム、二酸 化マグネシウム、Jones試薬または好適にはクロロクロム酸ピリジニウム( PCC)のような適切な酸化剤と、該技術分野で既知の方法(またはこれらの方 法の少しの修正)によって反応させる;例えば、J.Marsh,上級有機化学 (Advanced Organic Chemistry),第3版(198 5),John Wiley & Sons,New York,1057−1 058頁を参照。 スキーム33 式中、k,mおよびR13は初めに定義した通りであり;そしてR14はH である。 式21で示される多数のケトンもまた、スキーム34に示すように、製造する ことができ、それによれば、式25で示される臭化プロピオニルを、亜硫酸ナト リウム次いでオキシ塩化リンと反応させる。これらの反応は該技術分野で既知の 方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行われる;例えば、J.M. Clancy,Int.J.Sulfur Chem.A(1972),2,2 49を参照。式25で示される化合物は当業者によって該技術分野で既知の方法 によって製造することができる。 スキーム34 式中、kは0であり;mは1であり;R13およびR14はHである。 式24で示されるアルケン化合物は、式21で示されるケトンから、該技術分 野で既知の一般的方法によって製造することができる;例えば、J.Hibin o et al.,Tetrahedron Lett.(1985),26( 45),5579;A.S.Rao,Synthetic Commun.(1 989),19(5−6),931−942;R.G.Gentles et al.,J.Chem.Soc.Perkin Trans.1(1991), (6),1423;F.A.Davis,Tetrahedron Lett. (1991), 32(52),7671を参照。 式22で示されるチオケトンは、式21で示されるケトンから、該技術分野で 既知の一般的方法によって製造することができる(スキーム35);例えば、V .K.Lusis et al.,Khim.Geterotsiklt.(1 986),(5),709;T.A.Chibisova et al.,Zh .Org.Khim.(1986),22(9),2019を参照。 スキーム35 スキーム36は、式19(LはIまたはCO2CH3であり;R15およびR16は それらが結合している炭素と一緒になってC(=NOR21)を形成する)で示さ れるオキシムの製造を説明し、それによれば、式21(LはIまたはCO2CH3 である)で示されるケトンを式26で示されるヒドロキシルアミン化合物と反応 させる。その他として、式19(R21はHである)で示されるオキシムはさらに 、式27(R21はC1−C3アルキル、C3−C4アルケニル、またはC3−C4アル キニルであり;そしてX5はBr、Iまたはトリフルオロスルホニルオキシであ る)で示されるアルキル化剤による反応によって、水素化ナトリウムまたは炭酸 カリウムのような適切な塩基の存在下で、テトラヒドロフランまたはDMFのよ うな適切な溶媒中でO−アルキル化することができる。これらの反応は、該技術 分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行うことができ る;例えば、Sandler and Kar o,有機官能基の製造(Organic Functional Group preparations)(1972),第3巻,Academic Pre ss,New York,372−381頁;J.March,上級有機化学( Advanced Organic Chemistry)(1985),第3 版,John Wiley & Sons,New York,805頁を参照 。 スキーム36 式6cで示される酸は、当業者によって、以下のスキーム37−40に記載の 反応および技法を使用することによって(またはこれらの方法の少しの修正によ って)、当業者によって容易に製造することができる。 スキーム37に示すように、式6cで示される多数の酸は容易に製造すること ができ、それによれば、式28(LははCO2CH3である)で示される対応する エステルを鹸化するか、または別法として酸加水分解する。この反応は、スキー ム14に記載のものと同様な方法によって、当業者によって行うことができる。スキーム37 その他として、スキーム38に示すように、式6cで示される酸は、式28( LはIである)で示される対応するヨウド化合物から、スキーム15に記載のも のと同様な方法によって、当業者によって製造することができる。 スキーム38 スキーム39は、式28(LはIまたはCO2CH3であり;GはOである)で 示されるエポキシドの製造を説明し、それによれば、式10(LはIまたはCO2 CH3である)で示される対応するアルケンを、過酸化水素水溶液(好適には) またはペルオキシトリフルオロ酢酸のような適切な酸化剤と反応させる。この反 応は該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行わ れる;例えば、B.Z.Zwanenburg et al.,Tetrahe dron Lett.(1970),935;G.B.Payne et al .,J.Org.Chem.(1959),24,54;W.D.Emmons et al.,J.Am.Chem.Soc.(1955),77,89 を参照。同様に、式6aの酸(スキーム11、14および15)もまた反応させ て、式6c(LはCO2Hである)で示される対応するエポキシドを生成するこ とができる。この反応は上記の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によっ て、当業者によって行うことができる。 スキーム39 スキーム40は、式28(LはIまたはCO2CH3であり;GはCH2である )で示されるシクロプロピル化合物の製造を説明し、それによれば、式10(L はIまたはCO2CH3である)で示される対応するアルケン化合物を、ジメチル スルホニウムメチリドのような適切な硫黄イリドと反応させる。この反応は該技 術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行われる;例 えば、W.E.Truce et.al.,J.Org.Chem.(1964 ),29,3277を参照。 スキーム40 式6dで示される酸は、当業者によって、以下のスキーム41−43に記載の 反応および技法を使用することによって、当業者によって製造することができる 。 スキーム41に示すように、式6dで示される多数の酸は容易に製造すること ができ、それによれば、式29(LはCO2CH3である)で示される対応するエ ステルを鹸化するか、または別法として酸加水分解する。この反応は、スキーム 14に記載のものと同様な方法によって、当業者によって行うことができる。 スキーム41 その他として、スキーム42に示すように、式6dで示される多数の酸もまた 、式29(LはIである)で示される対応するヨウド化合物から、スキーム15 に記載のものと同様な方法によって、当業者によって製造することができる。 スキーム42 式29(R19はHであり、kは0または1であり、mは0である)で示される 多数の化合物は、当業者によって、スキーム43に記載の一連の反応によって製 造することができる。これらの反応は該技術分野で既知の方法(またはこれらの 方法の少しの修正)によって行うことができ、それによれば、(a)式30(R40 はCO2Hであり;R41はベンジルである)で示される酸をイソシアン酸フル オロスルホニル(FSI)と反応させ;(b)生成した式30a(R40はC(= O)NHS(O)2Fであり;R41はベンジルである)で示されるフッ化スルフ ァニルを、触媒的水素化によって脱ベンジル化し;そして(c)生成した式30 b(R40はNHC(=O)S(O)2Fであり;R41はHである)を水酸化ナト リウム水溶液のような適切な塩基と反応させて、環化させる;例えば、K.Cl auss et al.,Angew.Chem.Int.Ed.Engl.( 1973),12,869を参照。さらに、スキーム43に示すように、式29 (ここでR19はHである)で示される化合物は、式31(R19はC1−C3アルキ ル、C3−C4アルケニルまたはC3−C4アルキニルであり;X6はBrまたはI である)で示されるアルキル化剤および炭酸カリウムのような適切な塩基との反 応によってN−アルキル化され、式29(ここでR19はC1−C3アルキル、C3 −C4アルケニルまたはC3−C4アルキニルである)で示される対応する化合物 を生成してもよい。この反応は、アセトニトリルのような適切な溶媒中で、約− 10〜80℃の範囲内の温度で、約1〜8時間の範囲内の時間行われる。濃縮し た後、直後の残渣はさらに、酢酸エチルおよびヘキサンのような混合溶離液を用 いるシリカゲルによるフラッシュクロマトグラフィーによって、当業者によって 精製されてもよい。式30で 示される化合物は当業者によって該技術分野で既知の方法によって製造すること ができる。 スキーム43 式6eで示される酸は、以下のスキーム44−47に記載の反応および技法( またはこれらの方法の少しの修正)を使用することによって、当業者によって容 易に製造することができる。 スキーム44に示すように、式6eで示される多数酸は容易に製造することが でき、それによれば、式32(LはCO2CH3である)で示さ れる対応するエステルを鹸化するか、または別法として酸加水分解する。この反 応は、スキーム14に記載のものと同様な方法によって当業者によって行うこと ができる。 スキーム44 その他として、スキーム45に示すように、式6eで示される多数の酸はまた 、式32(LはIである)で示される対応ヨウド化合物から製造することができ る。反応は、スキーム15に記載のものと同様な方法によって当業者によって行 うことができる。 スキーム45 スキーム46は、式32(LはIまたはCO2CH3である)で示される多数の 化合物の、式33(LはIまたはCO2CH3である)で示される対応する化合物 からの製造を説明する。反応は、スキーム22に記載のものと同様な方法によっ て、当業者によって行うことができる。式33で示される化合物は当業者によっ て該技術分野で既知の方法によって製造することができる。スキーム46 さらに、スキーム47は、式6e(kは0またはIであり;mは0である)で 示される多数の酸のその他の製造方法を説明し、それによれば、式34で示され る酸をクロロスルホン酸と反応させる。反応は当業者によってスキーム11に記 載のものと同様な方法に従って行うことができる。式34(kは0または1であ る)で示される酸は当業者によって該技術分野で既知の方法によって製造するこ とができる。 スキーム47 式6fで示される酸は、当業者によって、以下のスキーム48−55および6 3に記載の反応および技法(またはこれらの方法の少しの修正)を使用すること によって容易に製造することができる。 スキーム48に示すように、式6fで示される多数の酸は容易に製造すること ができ、それによれば、式35(LはCO2CH3である)で示される対応するエ ステルを鹸化するか、または別法として酸加水分解する。この反応は、スキーム 14に記載のものと同様な方法によって、当業者によって製造することができる 。 スキーム48 その他として、スキーム49に示すように、式6fで示される多数の酸はまた 式35(LはIである)で示される対応するヨウド化合物から製造することがで きる。反応は、当業者によって、スキーム15に記載のものと同様な方法に従っ て製造することができる。 スキーム49 スキーム50は式35a(LはIまたはCO2CH3である)および式35b( LはIまたはCO2CH3である)で示される化合物の製造を説明し、それによれ ば、式36(LはIまたはCO2CH3である)で示されるケトンを式37で示さ れるヒドラジンと、氷酢酸のような不活性な有機酸性溶媒中で、約15〜120 ℃の温度で、約1〜24時間の範囲 内の時間反応させる。反応を過剰の水で停止しそして固体が生成する場合は濾過 する。別法として、懸濁液を、ジクロロメタンのような適切な非活性な有機溶媒 で抽出し、乾燥し(例えば、硫酸マグネシウムにより)、そして濃縮することが できる。濾過からの固体または濃縮からの残渣はさらに、必要な場合、アセトニ トリルまたは1−クロロブタンのような不活性な有機溶媒からの再結晶によって 精製するか、或いは酢酸エチルおよびヘキサンの混合物のような溶離液を用いる はシリカゲルによるフラッシュクロマトグラフィー処理して、式35aおよび式 35bで示される化合物を得ることができる。式35a(R22はHである)また は式35b(R24はHである)で示される化合物はさらに、臭化エチルのような アルキル化剤およびカリウムt−ブトキシドのような塩基との反応によってN− アルキル化して、式35a(R22はC1−C3アルキルである)および式35b( R24はC1−C3アルキルである)で示される化合物を得てもよい。反応はDMF のような適切な不活性な有機溶媒中で行われ、そして単離および精製操作法はい ま記載したものと同様である。 スキーム50 式中、R40はHまたはC1−C2アルキルであり;R41はC1−C3アルキルである 。 同様に、スキーム51に示すように、式35c(LはCO2CH3またはIであ る)および式35b(LはCO2CH3またはIである)で示される化合物は、式 36で示されるケトンをヒドロキシルアミンまたはヒドロキシルアミン塩酸塩と 、エタノールまたは氷酢酸のような不活性な有機溶媒中で反応させることによっ て製造することができる。反応は該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法 の少しの修正)によって行うことができる;例えば、A.R.Katritzk y et al.包括的複素環式化学(Comprehensive Hete rocyclic Chemistry),第6巻(1984),Pergam on press,61−64頁および118頁;H.Boshagen,C hem.Ber.(1967),100,3326を参照。スキーム51 スキーム52は式35e(LはIまたはCO2CH3である)で示される化合物 の製造を説明し、それによれば、式36(LはIまたはCO2CH3である)で示 されるケトンを式38で示されるアミジンと反応させる。反応は該技術分野で既 知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行うことができる;例え ば、A.R.Katritzky et al.包括的複素環式化学(Comp rehensive Heterocyclic Chemistry),第3 巻(1984),Pergamon press,112−114頁;D.J. Brown et al.,J.Chem.Soc.C.(1967),192 2;I.Kogon et al.,Org.Synth.(1963),IV ,182を参照。スキーム52 スキーム53は式35fで示される化合物の製造を説明し、それによれば、式 39で示されるケトンを式40で示されるヒドラジンと反応させる。この転化は 該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行われる ;例えば、A.R.Katritzky et al.包括的複素環式化学(C omprehensive Heterocyclic Chemistry) (1984),第5巻,278−279頁,Pergamon pressを参 照。 スキーム53 式36で示されるケトンは、当業者によって、式21で示されるケトンを式4 1で示されるアミド=ジメチル=アセタールと反応させることによって製造する ことができる(スキーム54)。反応は該技術分野で既知の方法(またはこれら の方法の少しの修正)によって行うことがで きる;例えば、G.Litkei et al.,Org.Prep.Proc ed.Int.(1990),22,47−56;N.Dereu et al .,J.Organomet.Chem.(1981),208,11;B.G ammill,Synthesis(1979),901を参照。 スキーム54 式39で示されるケトンは、当業者によって、式21で示されるケトンを式4 2で示されるアルデヒドまたはケトン(またはそれの均等物)と、酸または塩基 の存在下で反応させることによって製造することができる(スキーム55)。こ の転化は該技術分野で十分に知られている;例えば、J.L.Gras,Tet rahedron Lett.(1978),2111;L.Engman e t al.,Tetrahedron Lett.(1981),5251;A .Roediget al.,Chem.Ber.(1960),2294;T .Girija et al.,J.Chem.Soc.Perk.Trans .1(1991),1467;A.J.Laurent et al.,Tet rahedron Lett.(1992),8091を参照。 スキーム55 一般式Ieで示される化合物は、当業者によって、この節のスキーム56−5 8に示す反応および技法を使用することによって容易に製造することができる。 スキーム56は式Ie(R5はR5aであり、R5aは、Hを除いて発明の要旨に 記載したようにR5と同一である)で示される化合物の製造を説明し、それによ れば、式Ie(R5はHである)で示される化合物を式43で示される試薬と、 塩基(ここで、X7は塩素、臭素、フッ素、OTf、OAcであり、そしてR5は 既に定義した通りである)の存在下で反応させる。この結合は該技術分野で既知 の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行われる;例えば、K.N akamura et al.,国際公開第95/04054号明細書を参照。 スキーム56 スキーム57は式Ie(R5はHである)で示される化合物の製造を説明し、 それによれば、式44で示されるエステルをトリエチルアミンのような塩基と、 触媒量のシアン化物源(例えば、アセトンシアノヒドリンまたはシアン化カリウ ム)の存在下で反応させる。この転位は該技術分野で既知の方法(またはこれら の方法の少しの修正)よって行われ る;例えば、W.J.Michaely,欧州特許第369,803号明細書を 参照。 スキーム57 式44で示されるエステルは、式45で示されるヒドロキシピラゾールを式5 で示される酸塩化物と、トリエチルアミンのような塩基の少しモル過剰の存在下 で、アセトニトリル、ジクロロメタンまたはトリエンのような不活性な有機溶媒 中で、0〜110℃の温度で反応させることによって製造することができる(ス キーム58)。この種の結合は該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の 少しの修正)によって行われる;例えば、W.J.Michaely,欧州特許 第369,803号明細書を参照。 スキーム58 一般式Ifで示される化合物は、当業者によって、この節のスキーム59−6 2に記載の反応および技法を使用することによって容易に製造することができる 。 スキーム59は式Ifで示される化合物の製造を説明し、それによれば、式4 6で示される化合物を、ヒドロキシルアミン塩酸塩のようなヒドロキシルアミン の塩と、トリエチルアミンまたは酢酸ナトリウムのような塩基または酸受容体の 存在下で反応させる。直後生成物の置換基はさらに適切には修飾されてもよい。 この環化は該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によっ て行われる;例えば、P.A.Cain et al.,欧州特許第560,4 83号明細書;C.J.Pearson et al.,欧州特許第636,6 22号明細書を参照。 スキーム59 式中、L1はC1−C4アルコキシのような離脱基(例えば、OC25)またはN ,N−ジアルキルアミノ(例えば、ジメチルアミノ)であり、R6aはR6または CONH2である。 スキーム60は式46で示される化合物の製造を説明し、それによれば、式4 7で示される化合物を式48または式49で示される試薬と反応させる。この転 化は該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の 少しの修正)によって行われる;例えば、P.A.Cain et al.,欧 州特許第560,483号明細書;C.J.Pearson et al.,欧 州特許第636,622号明細書を参照。 スキーム60 式中、R42はC1−C4アルキルである。 スキーム61は式47で示される化合物の製造を説明し、それによれば、式4 8で示されるエステルを、p−トルエンスルホン酸のような触媒の存在下で、ト ルエンのような不活性な溶媒中で脱炭酸する。この転化は該技術分野で既知の方 法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行われる;例えば、P.A.C ain et al.,欧州特許第560,483号明細書;C.J.Pear son et al.,欧州特許第636,622号明細書を参照。 スキーム61 式48で示されるエステルは、式49で示される化合物の金属塩を式5で示さ れる酸塩化物と反応させることによって製造することができる (スキーム62)。この種の結合は該技術分野で既知である;例えば、P.A. Cain et al.,欧州特許第560,483号明細書;C.J.Pea rson et al.,欧州特許第636,622号明細書を参照。 スキーム62 さらに、式6aおよび式6fで示される多数の中間カルボン酸は、当業者によ って、スキーム63に示す一連の反応によって製造することができる。これらの 反応は該技術分野で既知の方法(またはこれらの方法の少しの修正)によって行 うことができ、それによれば、(a)式10(LはBrまたはIである)または 式35(LはBrまたはIである)で示されるブロモまたはヨウド化合物をシア ン化第一銅と、還流ジメチルホルムアミドのような不活性な溶媒中で反応させ; (b)生成した対応するシアノ誘導体を、ポリリン酸または硫酸のような適切な 試薬で加水分解して、式10(LはC(O)NH2である)または式35(Lは C(O)NH2である)で示される対応するアミドを得て;例えば、Laroc k,包括的有機転換反応(Comprehensive Organic Tr ansformations),VCH出版,New York,1989,9 94頁を参照;そして(c)生成したアミドを、アセトニトリル中のテトラフル オロホウ酸ニトロソニウムのような適切な亜硝酸試薬で処理して、式6aまたは 式6fで示される対応するカルボン酸を得る;例えば、Olah,G.et.a l.J.Org. Chem.(1965),30,2386を参照。 スキーム63 式Iで示される化合物を製造するための上記の幾つかの試薬および反応条件は 、中間体中に存在する一定の官能性と適合しなくてもよいと認められる。これら の例では、保護/脱保護のシーケンスまたは官能基の相互転化を合成に取り込む ことは、所望の生成物を得る助けとなる。保護基の使用および選択は化学合成の 当業者には明白である(例えば、Greene,T.W.,Wuts,P.G. ,有機合成における保護基(Protective Groups in Or ganic Synthesis),第2版,Wiley,New York, 1991を参照)。当業者は、幾つかの場合、いづれの個々のスキームにも示さ れるように、一定の試薬を導入した後、式Iで示される化合物の合成を完結する ためには、詳細には記載されていない追加の日常的合成ステップを行うことが必 要であってもよいことを認識している。当業者はまた、上記のスキーム中に示さ れるステップの組合せを、式Iで示される化合物を製造するために提示された特 定のシーケンスによって含まれるもの以外の順序で行うことが必要であってもよ いことを認識している。 当業者は、本明細書中に記載の式Iで示される化合物および中間体は種々の求 電子性、求核性、ラジカル性、有機金属性、酸化、および還元反応を受けて、置 換基を添加するかまたは現存の置換基を修飾することができる。 さらに詳しく記載するまでもなく、前記の説明を使用する当業者は本発明を最 大限に利用することができると考えられる。それ故、以下の実施例は、単に説明 するものであり、本開示内容を決して限定するものではないと解釈されるべきで ある。パーセントは、クロマトグラフィーの溶媒混合物を除いてまたは特記しな い限り重量単位である。クロマトグラフィーの溶媒混合物についての部およびパ ーセントは特記しない限り容積単位である。1H NMRスペクトルは、テトラ メチルシランからのダウンフィールド(ppm)で報告される;s=一重線、d =二重線、t=三重線、q=四重線、m=多重線、dd=二重線の二重線、dt =三重線の二重線、br s=幅広な一重線。 実施例1 ステップA1,4−ジメチル−2−(2−プロペニルオキシ)ベン ゼンの製造 アセトン(350ml)中の2,5−ジメチルフェノール(Aldrich Chemical Companyから購入、50.0g、0.41モル)およ び無水炭酸カリウム(66.3g、0.48モル)の懸濁液に、3−ブロモ−1 −プロペン(Janssen Chemical Companyから購入、5 8.5g)を迅速に滴下した。懸濁液を還流で一晩(約22時間)加熱し、室温 まで冷却し、濾過し、濾液を蒸発乾固して、油を得た。油をヘキサン中に溶解し 、1N NaOHで 3回抽出し、乾燥し(MgSO4)、減圧濃縮して、51.9gのステップAの 表題の化合物を油として得た。1H NMR(CDCl3):δ2.2(s,3H )、2.3(s、3H)、4.5(m、2H)、5.25(m、1H)、5.4 (m、1H)、6.0−6.1(m、1H)、6.6(s、1H)、6.65( m、1H)、7.0(m、1H)。ステップB3,6−ジメチル−2−(2−プロペニル)フェノール の製造 温度計および磁気撹拌棒を備えそしてステップAの表題化合物(31.7g、 0.195モル)を含有する100mlの二首丸底フラスコを200℃まで前加 熱した油槽中に入れた。フラスコ中の油を撹拌し、窒素下200℃で2時間加熱 し、次いでフラスコを油槽から取り出し、油を室温まで冷却した。油残渣をヘキ サン(約100ml)中に溶解し、溶液を1N NaOH水溶液で抽出した(毎 回50mlで4回)。水性抽出液を合併し、濃塩酸を添加してpH1に酸性化し 、次いでジクロロメタンで抽出した。有機層を乾燥し(MgSO4)、減圧濃縮 して、24.8gのステップBの表題化合物を油状物として得た。1NMR(C DCl3):δ2.2(s、3H)、2.25(s、3H)、3.45(m、2 H)、4.85(s、1H)、5.0−5.1(m、2H)、5.9−6.0( m、1H)、6.7(d、1H)、6.9(d、1H)。ステップC2,3−ジヒドロ−2,4,7−トリメチルベンゾフラ ンの製造 60mlの氷酢酸中の23.9g(0.147モル)のステップBの表題化合 物の溶液に30mlの48.5%臭化水素酸水溶液を添加した。懸濁液を撹拌し 、2時間還流し、次いで室温まで冷却し、破砕氷(50 0g)上に注ぎ込んだ。水性懸濁液をヘキサンで抽出し(毎回75mlで3回) 。ヘキサン抽出液を合併し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液で抽出し(毎回50m lで3回)、次いで1N NaOH(50ml)で抽出し、次いで乾燥し(Mg SO4)、減圧濃縮して、21.1gの油を得た。油を、最初にヘキサンを用い 、次いでヘキサンと酢酸エチル(8:2比)の混合物を用いるシリカゲルによる フラッシュクロマトグラフィーを行って、14.4gのステップCの表題化合物 を油として得た。1H NMR(CDCl3):δ1.45(d、3H)、2.1 5(d、6H)、2.7(q、1H)、3.2(q、1H)、4.9(m、1H )、6.55(d、1H)、6.85(d、1H)。ステップD5−ブロモ−2,3−ジヒドロ−2,4,7−トリメチ ルベンゾフランの製造 40mlのジクロロメタンおよび100mlの水中に10.0g(0.062 モル)のステップCの表題化合物および5.18g(0.062モル)の重炭酸 ナトリウムを含有する懸濁液に、10mlのジクロロメタン中に9.85g(0 .062モル)の臭素を含有する溶液を滴下し、その間外部冷却によって反応温 度を0〜5℃に維持した。添加が完了した後、外部冷却を取り除き、反応混合物 を室温で約1.25時間撹拌させた。有機層を分離し、水で洗浄し、乾燥し(M gSO4)、減圧濃縮して、14.4gのステップDの表題化合物を油として得 た。1NMR(CDCl3):δ1.45(d、3H)、2.15(s、3H)、 2.25(s、3H)、2.75(q、1H)、3.25(q、1H)、4.9 (m、1H)、7.1(s、1H)。ステップE2,3−ジヒドロ−2,4,7−トリメチル−5−ベン ゾフランカルボン酸の製造 −70℃の窒素下で冷却した160mlのテトラヒドロフランに、ヘキサン中 のn−ブチルリチウム(Aldrich Chemical companyか ら購入、2.5N、18.4ml、0.046モル)を添加した。窒素下のこの 溶液に、40mlのテトラヒドロフラン中に溶解したステップDの表題化合物( 10.0g、0.042モル)を含有する溶液を滴下し、その間反応温度を約− 72〜−60℃に維持した。懸濁液を約−65〜−72℃で1時間撹拌し、次い で破砕した固体二酸化炭素(約7.0g、0.16モル)を小分けして−72〜 −60℃で添加した。懸濁液を約−75℃で1時間撹拌し、次いで冷却を取り除 き、反応温度を上昇させながら、120mlの1N NaOH水溶液を滴下した 。約10℃に達した後、テトラヒドロフランの大部分が除去されるまで、懸濁液 を減圧下で濃縮した。水性残渣を200mlの水で希釈し、ジエチルエーテルで 抽出し(毎回40mlで2回)、濃塩酸を添加してpH1に酸性化し、次いで濾 過した。単離した固体を水で洗浄し、次いでジクロロメタン中に溶解し、乾燥し (MgSO4)、溶液を減圧濃縮して、5.7gのステップEの表題化合物を融 点155−158℃の固体として得た。1NMR(CDCl3):δ1.5(d、 3H)、2.2(s、3H)、2.5(s、3H)、2.7−2.85(q、1 H)、3.3−3.4(q、1H)、5.0(m、1H)、7.8(s、1H) ;IR(ヌジョール):1679cm-1ステップF3,5,8−トリメチル−1,2−ベンゾオキサチイン6−カルボン酸 2,2−ジオキシドの製造 クロロスルホン酸(60ml)に、ステップEの表題化合物(9.5 g、0.046モル)を小分けして添加して、幾らか発熱して(29℃まで)黒 色の懸濁液を得た。懸濁液を撹拌し、窒素下60℃で3.5時間加熱し、次いで 80℃で約42時間加熱した。黒色の懸濁液を室温まで冷却し、過剰の破砕氷上 に徐々にかつ注意深く注ぎ込んだ。得られた淡黄褐色の懸濁液を濾過し、単離し た固体を1N NaOH水溶液中に溶解し、酢酸エチルで抽出し(毎回30ml で2回)、次いで水性層を濃塩酸でpH1に酸性化し、濾過した。単離した固体 をジクロロメタンおよび少量のテトラヒドロフラン中に溶解した。溶液を乾燥し (MgSO4)、次いで減圧濃縮して、4.4gのステップFの表題化合物を融 点208−210℃の淡黄褐色の固体として得た。1H NMR(CCD32S O):δ2.3(s、3H)、2.35(s、3H)、2.6(s、3H)、7 .65(s、1H)、7.75(s、1H)、13.1−13.3(幅広s、1 H)。ステップG3,5,8−トリメチル−1,2−ベンゾオキサチイン −6−カルボン酸3−オキソ−1−シクロヘキセン−1 −イル=2,2−ジオキシドの製造 塩化オキサリル(約15ml)に、ステップFの表題化合物(2.0g、0. 0075モル)を添加した。懸濁液を還流で窒素下で約2.5時間加熱し(溶液 となる)、次いで減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン(30ml)中に2回溶 かし、減圧濃縮した。追加部分のジクロロメタン(25ml)を残留ゴムに添加 し、溶液を約5℃まで冷却した。1,3−ジクロヘキサンジオン(Aldric h Chemical Companyから購入、0.84g、0.0075モ ル)を添加し、次いでトリエチルアミン(1.52g、0.015モル)を添加 し、懸濁液 を一晩撹拌し、その間室温まで加温した。溶液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル (30ml)中に溶解した。酢酸エチル溶液を水(30ml)、重炭酸ナトリウ ム希水溶液(1N、30ml)、水酸化ナトリウム(1N、20ml)および再 び水(30ml)で抽出した。酢酸エチル溶液を乾燥し(MgSO4)、減圧濃 縮して、1.4gのステップGの表題化合物を融点199−203℃の固体とし て得た。1NMR(CDCl3):δ2.15(m、2H)、2.4−2.5(m 、8H)、2.7(m、5H)、6.0(s、1H)、7.2(s、1H)、7 .85(s、1H)。ステップH3−ヒドロキシ−2−[(3,5,8−トリメチル−1 ,2−ベンゾオキサチイン−6−イル)カルボニル]− 2−シクロヘキセン−1−オン=S,S−ジオキシドの 製造 ステップGの表題化合物(2.16g、0.006モル)、トリエチルアミン (1.2g、0.012モル)およびアセトンシアノヒドリン(Aldrich Chemical ComPanyから購入、6滴)をアセトニトリル(10 0ml)に添加し、懸濁液を室温で窒素下で一晩撹拌させた。得られた溶液を蒸 発乾固し、残渣に酢酸エチル(100ml)および水酸化ナトリウム水溶液(1 N、200ml)を添加した。水性層を分離し、酢酸エチルで2回抽出し(毎回 75ml)、次いで濃塩酸を添加してpH1に酸性化した。懸濁液を濾過し、固 体を水で洗浄し、吸引乾燥して、約85%のステップHの表題化合物、本発明の 化合物、融点205−230℃および約15%のステップFの表題化合物である 1.2gの固体を得た。1H NMR(CDCl3):δ2.05 (m、2H)、2.25−2.5(m、11H)、2.8(m、1H)、6.9 5(s、1H)、7.1(s、1H)、17.4−17.7(幅広s、 1H) 。 実施例2 ステップA2−ヒドロキシ−3,6−ジメチルベンズアルデヒドの 製造 G.Casiraghi et al.,J.Chem.Soc.Perk. Trans.1(1980),第1862頁の操作法によって、2,5−ジメチ ルフェノール(Aldrich Chemical Companyから購入、 30.6g、0.25モル)を、パラホルムアルデヒド(17.4g、0.55 モル)、トリブチルアミン(18.6g、0.1モル)および四塩化スズ(2. 92ml、0.025モル)と、約50mlの還流トルエン中で反応させた。上 記の引例に記載の操作法による後処理の後、粗油をさらに、ヘキサン:酢酸エチ ルの混合物(9.7:0.3次いで9.5:0.5)で溶出するシリカゲルによ るフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、16.9gのステップAの 表題化合物を融点47−50℃の固体として得た。1NMR(CDCl3):δ2 .2(s、3H)、2.55(s、3H)、6.6(d、1H)、7.2(d、 1H)、10.35(s、1H)、12.1(s、1H)。ステップB3−ブロモ−6−ヒドロキシ−2,5−ジメチルベンズ アルデヒドの製造 250mlの酢酸中に30.0g(0.2モル)のステップAの表題化合物お よび17.2g(0.21モル)の無水酢酸ナトリウムを含有 する懸濁液に、35mlの酢酸中に33.6g(0.21モル)の臭素を含有す る溶液を滴下し、その間反応温度を外部冷却によって25と40℃との間に維持 した。懸濁液を室温で1時間撹拌し、次いで過剰の水(500ml)中に注ぎ込 んだ。水性混合物を濾過し、単離した固体を水で洗浄し、次いで吸引乾燥して、 44.3gのステップBの表題化合物を融点72−76℃の固体として得た。1 H NMR(CDCl3):δ2.2(s、3H)、2.6(s、3H)、7. 3(s、1H)、10.35(s、1H)、12.35(s、1H)。ステップC3−ブロモ−2,5−ジメチル−6−[(メチルスルホ ニル)オキシ]ベンズアルデヒドの製造 290mlのジクロロメタン中に44.0g(0.19モル)のステップBの 表題化合物および29.1g(0.29モル)のトリエチルアミンを含有する溶 液に、30mlのジクロロメタン中に24.2g(0.21モル)の塩化メタン スルホニルを含有する溶液を滴下し、その間反応温度を外部冷却によって0と5 ℃の間に維持した。懸濁液を0℃で0.7時間撹拌し、次いで追加の1.0gの 塩化メタンスルホニルを添加して反応を完結させた。0〜5℃で追加の0.15 時間撹拌した後、懸濁液を1N HCl水溶液(300ml)に添加した。有機 層を分離し、1N HCl水溶液で抽出し(100mlで2回)、乾燥し(Mg SO4)、次いで減圧濃縮して、57.8gのステップCの表題化合物を融点1 01−105℃の固体として得た。1H NMR(CDCl3):δ2.35(s 、3H)、2.6(s、3H)、3.35(s、3H)、7.7(s、1H)、 10.35(s、1H)。ステップD6−ブロモ−5,8−ジメチル−1,2−ベンゾオキサ チイン−4(3H)−オン=2,2−ジオキシドの製造 188mlのジクロロメタン中に36.7g(0.12モル)のステップCの 表題化合物を含有する溶液に、20mlのジクロロメタン中に18.2g(0. 12モル)の1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン(DB U)を含有する溶液を滴下し、その間反応温度を外部冷却によって0と5℃の間 に維持した。0〜5℃で1時間撹拌した後、溶液を200mlのジクロロメタン で希釈し、1N HCl水溶液で抽出し(毎回75mlで2回)、次いで水で駐 質し、次いで乾燥し(MgSO4)、減圧濃縮して、39.9gの粗固体を得た 。同様な方式で、この反応を、307mlのジクロロメタン中の60.2g(0 .196モル)のステップCの表題化合物および29.8g(0.194モル) のDBUを使用して反復して、71.7gの粗固体を得た。上記の粗固体を一緒 にした。1.67リットルのジクロロメタン中に97.0gの一緒にした固体を 含有する溶液を、1.34リットルのジクロロメタン中に102.5g(0.4 75モル)のクロロクロム酸ピリジニウムおよび114.3gのCelite( 商標)を含有する懸濁液(粗固体溶液を添加する前に約0.25時間撹拌した) に、室温で滴下した。懸濁液を25℃で一晩(約16時間)撹拌し、次いでCe lite(商標)の厚いパッドを通して濾過した。濾液を減圧濃縮した。残渣を ジクロロメタン中に溶解し、ジクロロメタンを用いるシリカゲルによるフラッシ ュクロマトグラフィーを行って、68.9gの粗固体を得た。固体を1N Na OH水溶液(300ml)中に溶解した。水溶液をジエチルエーテルで抽出し( 100mlで2回)、次いで濃塩酸で酸性化し、濾過した。単離した固体をジク ロロメタン中に溶解し、乾燥し(MgSO4 )、溶液を減圧濃縮して、49.5gのステップDの表題化合物を融点132 −135℃の固体として得た。1NMR(CDCl3):δ2.35(s、3H) 、2.7(s、3H)、4.45(s、2H)、7.75(s、1H)。IR( ヌジョール):1698cm-1ステップE6−ブロモ−3−[(ジメチルアミノ)メチレン]−5 ,8−ジメチル−1.2−ベンゾオキサチイン−4(3 H)−オン=2,2−ジオキシドの製造 4.9g(0.04モル)の94%ジメチルホルムアミド=ジメチル=アセタ ール(Aldrich Chemical Company)を、38mlのト ルエン中に10.0g(0.033モル)のステップDの表題化合物を含有する 懸濁液に添加した。懸濁液を2.5時間還流し、次いで15℃に冷却し、濾過し た。残渣をヘキサンで洗浄し、吸引乾燥して、10gのステップEの表題化合物 を融点145−148℃の固体として得た。1H NMR(CDCl3):δ2. 3(m、3H)、2.65(m、3H)、3.4(m、6H)、7.6(s、1 H)、8.1(s、1H)。ステップF:8−ブロモ−2,6,9−トリメチル−2H−[1,2 ]ベンゾオキサチイノ[4,3−c]ピラゾール=4, 4−ジオキシドの製造 1.8g(0.036モル)のヒドラジン一水和物を、約80mlの酢酸中に 10.0g(0.028モル)のステップEの表題化合物を含有する懸濁液に添 加した。懸濁液を25℃で一晩(約16時間)撹拌し、2時間還流し、次いで室 温に冷却し、過剰の氷/水中に注ぎ込んだ。混合物を濾過し、単離した固体をジ クロロメタンおよび少量のテトラヒド ロフラン中に溶解した。溶液を乾燥し(MgSO4)、濾液を減圧濃縮して、9 .0gの固体、融点233−237℃、を得た。この固体の8.05gを50m lのジメチルホルムアミド中に溶解し、それに、2.9g(0.0245モル) の95%カリウムtert−ブトキシド(Aldrich)を添加した。窒素下 で1時間撹拌した後、6.95g(0.049モル)のヨウ化メチルを添加した 。懸濁液を室温で3時間撹拌し、次いで過剰の氷/水中に注ぎ込んだ。約0.2 5時間撹拌した後、懸濁液を濾過し、単離した固体を吸引乾燥して、7.8gの ステップFの表題化合物を融点214−217℃の固体として得た。1H NM R(CDCl3):δ2.4(s、3H)、2.85(s、3H)、7.5(s 、1H)、7.95(s、1H)。ステップG2,6,9−トリメチル−2H−[1,2]ベンゾオキ サチイノ[4,3−c]ピラゾール−8−カルボニトリ ル=4,4−ジオキシドの製造 約70mlのジメチルホルムアミド中に5.6g(0.016モル)のステッ プFの表題化合物および2.1g(0.023モル)のシアン化銅(I)を含有 する懸濁液を窒素下で21時間還流し、次いで25℃に冷却し、過剰の水中に注 ぎ込んだ。混合物を濾過し、単離した固体を、ヘキサン:酢酸エチル(1:1、 次いで1:9、次いで100%酢酸エチル)を用いるシリカゲルによるフラッシ ュクロマトグラフィー処理して、4.0gのステップGの表題化合物を融点22 7−230℃の固体として得た。1H NMR((CD32SO):δ2.35 (s、3H)、2.85(s、3H)、4.1(s、3H)、7.9(s、1H )、8.9(s、1H);IR(ヌジョール):2229cm-1ステップH2,6,9−トリメチル−2H−[1,2]ベンゾオキ サチイノ[4,3−c]ピラゾール−8−カルボキサミ ド=4,4−ジオキシドの製造 115℃の油槽中で撹拌および加熱した約37mlのポリリン酸に、1.95 g(0.0068モル)のステップGの表題化合物を小分けして添加した。懸濁 液を撹拌し、約120℃で6.5時間加熱し、次いで25℃に冷却した。過剰の 氷水を懸濁液に添加した。得られた混合物を濾過し、単離した固体を水で洗浄し 、次いで吸引乾燥して、1.5gのステップHの表題化合物を、融点240−2 43℃(分解)の固体として得た。1H NMR((CD32SO):2.35 (s、3H)、2.7(s、3H)、4.1(s、3H)、7.4(s、1H) 、7.6(s、1H)、7.9(s、1H)、8.85(s、1H)。ステップI2,6,9−トリメチル−2H−[1,2]ベンゾオキ サチイノ[4,3−c]ピラゾール−8−カルボン酸= 4,4−ジオキシドの製造 30mlのアセトニトリル中に1.68g(0.0055モル)のステップH の表題化合物を窒素下で含有する懸濁液に、1.28g(0.011モル)のテ トラフルオロホウ酸ニトロソニウム(Aldrich Chemical Co mpany)を滴下し、その間反応混合物を外部冷却によって20〜27℃の間 に維持した。懸濁液を25℃で1.5時間撹拌し、50℃で油槽中で4時間加熱 し、次いで25℃に冷却した。5mlの水を添加し数分撹拌した後、懸濁液を3 0℃で減圧濃縮した。水を残渣に添加し、混合物を濾過した。単離した固体を水 で洗浄し、次いで暖かいアセトニトリル(15ml)中にスラリーとした。スラ リ ーを25℃に冷却し、濾過して、0.96gの表題化合物を融点287℃(分解 )の固体として得た。1H NMR((CD32SO):δ2.35(s、3H )、2.95(s、3H)、4.1(s、3H)、7.85(s、1H)、8. 9(s、1H)、13.3(s、1H)。ステップJ2,6,9−トリメチル−2H−[1,2]ベンゾオキ サチイノ[4,3−c]ピラゾール−8−カルボン酸5 ,5−ジメチル−3−オキソ−1−シクロヘキセン−1 −イル=4,4−ジオキシドの製造 20mlの塩化オキサリルに、1.5g(0.0049モル)のステップIの 表題化合物を添加した。懸濁液を還流で3時間加熱し(溶液となる)、減圧濃縮 した。残渣をジクロロメタン(20ml)中に2回溶かし、減圧濃縮して、1. 59gの固体を得た。固体を30mlのジクロロメタンに添加し、溶液を10℃ に冷却した。0.86g(0.0058モル)の5,5−ジメチルシクロヘキサ ンジオン(Aldrich Chemical Company)を添加した後 、1.76g(0.0174モル)のトリエチルアミンを添加した。懸濁液を室 温で一晩撹拌し、次いで減圧濃縮した。残渣を水(30ml)で希釈し、懸濁液 を濾過した。残渣を75mlの1N NaOH水溶液に添加し、数分撹拌し、次 いで懸濁液を濾過した。残渣を水(20ml)で洗浄し、吸引乾燥して、1.8 7gのステップJの表題化合物を融点199−202℃の固体として得た。1H NMR((CD32SO):δ1.1(s、6H)、2.3(s、2H)、2 .35(s、3H)、2.6(s、2H)、2.9(s、3H)、4.1(s、 3H)、6.05(s、1H)、8.0(s、1H)、8.9(s、1H)。ステップK3−ヒドロキシ−5,5−ジメチル−2−[(2,6, 9−トリメチル−4,4−ジオキシド−2H−[1,2 ]ベンゾオキサチイノ[4,3−c]ピラゾール−8− イル)カルボニル]−2−シクロヘキセン−1−オンの 製造 1.72g(0.004モル)のステップJの表題化合物、0.81g(0. 008モル)のトリエチルアミンおよび10滴のアセトンシアノヒドリンを順番 に、75mlのアセトニトリルに添加し、懸濁液を窒素下で一晩(約24時間) 撹拌した。得られた溶液を125mlの水に添加して、溶液を得た。溶液を濃塩 酸で酸性化し、次いで濾過し、単離した固体を水で洗浄した。固体をさらに、熱 いアセトニトリル(5−10m1)中で撹拌し、25℃に冷却し、濾過すること によって精製して、1.26gのステップKの表題化合物、本発明の化合物を融 点256−259℃の固体として得た。1H NMR((CD32SO):δ1 .05(s、6H)、2.35(s、3H)、2.4−2.65(m、7H)、 4.05(s、3H)、7.25(s、1H)、8.85(s、1H)、16. 8(幅広s、1H)。 実施例3 ステップA:2,6,9−トリメチル−2H−[1,2]ベンゾオキ サチイノ[4,3−c]ピラゾール−8−カルボン酸1 −エチル−1H−ピラゾール−5−イル=4,4−ジオ キシドの製造 20mlの塩化オキサリルに、1.5g(0.0049モル)の実施例2のス テップIの表題化合物を添加した。懸濁液を還流で3時間加熱 し(溶液となる)、次いで減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン(20ml)中 に2回溶かし、減圧濃縮して、1.59gの固体を得た。固体を25mlのジク ロロメタンに添加し、10℃に冷却した。0.66g(0.00584モル)の 1−エチル−1H−ピラゾール−5−オールを添加した後、1.5g(0.01 5モル)のトリエチルアミンを添加した。懸濁液を室温で約48時間撹拌し、次 いで蒸発乾固した。水(30ml)を残渣に添加し、懸濁液を濾過した。単離し た固体をさらに、ヘキサン:酢酸エチルの混合物(6:4)を使用するシリカゲ ルによるフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、1.2gのステップ Aの表題化合物を融点202−205℃の固体として得た。1H NMR((C D32SO):δ1.3(m、3H)、2.4(s、3H)、3.0(s、3H )、4.05(m、5H)、6.25(s、1H)、7.5(s、1H)、8. 15(s、1H)、8.9(s、1H)。 テップB: (1−エチル−5−ヒドロキシ−1H−ピラゾール−4 −イル)(2,6,9−トリメチル−4,4−ジオキシ ド−2H−[1,2]ベンゾオキサチイノ[4,3−c ]ピラゾール−8−イル)メタノンの製造 1.1g(0.0027モル)のステップAの表題化合物、0.55g(0. 0055モル)のトリエチルアミンおよび7滴のアセトンシアノヒドリンを順番 に、50mlのアセトニトリルに添加し、懸濁液を窒素下で一晩(約16時間) 撹拌した。少量の結晶シアン化カリウムを添加し、溶液を追加の3時間撹拌し、 減圧濃縮した。水(40ml)を残渣に添加し、生成した曇り溶液を濃塩酸で酸 性化した。得られた混合物を濾過した。単離した固体を水で洗浄し(20mlで 2回)、次いでア セオニトリルから再結晶して、0.72gのステップBの表題化合物、本発明の 化合物を融点155℃(分解)の固体として得た。1H NMR(CDCl3): δ1.5(m、3H)、2.4(s、3H)、2.75(s、3H)、4.1( m、5H)、5.8(幅広s、2H)、7.35(s、1H)、7.4(s、1 H)、8.0(s、1H)。 該技術分野で既知の方法と共に本明細書に記載の操作法によって、表1〜36 の以下の化合物を製造することができる。以下の略語を以下の表中で使用する: t=第三級、s=第二級、n=直鎖、i=イソ、c=シクロ、Me=メチル、E t=エチル、Pr=プロピル、i−Pr=イソプロピル、Bu=ブチル、Ph= フェニル、OMe=メトキシ、OEt=エトキシ、SMe=メチルチオ、SEt =エチルチオ、CN=シアノ、NO2=ニトロ、TMS=トリメチルシリル、S (O)Me=メチルスルフィニルおよびS(O)2Me=メチルスルホニル。 製剤/効用 本発明の化合物は一般的に、液状希釈剤、固形希釈剤または界面活性剤の少な くとも一つを含んでなる、農業的に適した担体との製剤または組成物として使用 される。製剤または組成物の成分は、活性成分の物理的性質、適用様式並びに土 壌の種類、湿度および温度のような環境因子と調和するように選ばれる。有用な 製剤は、場合によりゲルにまで濃厚化され得る溶液剤(乳剤原液を含む)、懸濁 剤、乳濁剤(マイクロエマルジョンおよび/またはサスポエマルジョンを含む) などのような液剤を含む。有用な製剤はさらに、水分散性(「水和性」)または 水溶性であり得る粉剤、散剤、粒剤、ペッレト剤、錠剤、フィルム剤などのよう な固体剤を含む。活性成分は(マイクロ)カプセル化され、さらに懸濁または固 形製剤に形成されることができる;別法として活性成分の製剤全体をカプセル化 (または「オーバーコート」)することができる。カプセル化によって、活性成 分の放出は調節または遅延させることができる。噴霧性製剤は適切な媒体中で伸 ばして、そしてヘクタール当たり約1〜数百リットルの噴霧容量で使用すること ができる。高濃度組成物は主としてさらなる製剤のための中間体として使用され る。 製剤は典型的には、下記の概算範囲内の有効量の活性成分、希釈剤および界面 活性剤を含有して、合計が100重量%となる。 重量パーセント 活性成分 希釈剤 界面活性剤 水分散性および水溶性 5−90 0−94 1−15 粒剤、錠剤および散剤 懸濁剤、乳濁剤、溶液剤 5−50 40−95 0−15 (乳剤原液を含む) 粉剤 1−25 70−99 0−5 粒剤およびペレット剤 0.01−99 5−99.99 0−15 高濃度組成物 90−99 0−10 0−2 典型的な固形希釈剤は、Watkins等,殺虫剤、粉剤希釈剤および担体の ハンドブック(Handbook of Insecticide Dust Diluents and Carriers),第2版,Dorland B ooks,Caldwell,New Jerseyに記載されている。典型的 な液状希釈剤は、Marsden,溶剤ガイド(Solvents Guide ),第2版, Interscience,New York,1950年に記 載されている。McCutcheonの洗浄剤および乳化剤年鑑(McCutc heon′s Detergents and Emulsifiers An nual),Allured Publ.Corp.,Ridgewood,N ew Jersey,並びにSisely and Wood,表面活性剤の百 科辞典(Encyclopedia of Surface Active A gents),Chemical Publ.Co.,Inc.,New Yo rk,1964年には、界面活性剤および推奨使用法がリストされている。すべ ての製剤は、発泡、ケーキング、腐食、微生物の増殖などを低下させる少量の添 加剤か、または粘度を増加させる増粘剤を含有することができる。 界面活性剤として、例えば、ポリエトキシ化アルコール、ポリエトキシ化アル キルフェノール、ポリエトキシ化ソルビタン脂肪酸エステル、スルホコハク酸ジ アルキル、硫酸アルキル、スルホン酸アルキルベンゼ ン、オルガノシリコーン、N,N−ジアルキルタウレート、リグニンスルホネー ト、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド縮合物、ポリカルボキシレート、 およびポリオキシエチレン/ポリオキシプロピレンブロックコポリマーが挙げら れる。固形希釈剤として、例えば、ベンドナイトのような粘土、モンモリロナイ ト、アタパルギャイトおよびカオリン、澱粉、糖、シリカ、タルク、珪藻土、尿 素、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウムおよび重炭酸塩、並びに硫酸ナトリウムが 挙げられる。液状希釈剤として、例えば、水、N,N−ジメチルホルムアミド、 ジメチルスルホキシド、N−アルキルピロリドン、エチレングリコール、ポリプ ロピレングリコール、パラフィン、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン、オ リーブ、ヒマ、亜麻仁、シナアブラギ(tung)、ゴマ、トウモロコシ、落花 生、綿実、大豆、セイヨウアブラナおよびココナツの油、脂肪酸エステル、シク ロヘキサノン、2−ヘプタノン、イソホロンおよび4−ヒドロキシ−4−メチル −ペンタノンのようなケトン、並びにメタノール、シクロヘキサノール、デカノ ールおよびテトラヒドロフルフリルアルコールのようなアルコールが挙げられる 。 乳剤原液を含む溶液剤は、成分を単に混合することによって製造することがで きる。粉剤および散剤は、混合および通常はハンマーミルまたは流体エネルギー ミル中のような粉砕によって製造することができる。懸濁剤は通常は湿式粉砕に よって製造することができる;例えば、米国特許第3,060,084号明細書 を参照のこと。粒剤およびペレット剤は、予備成形された顆粒状担体上に活性物 質を噴霧するかまたは凝集法によって製造することができる。Browning ,アグロメレーション(agglomeration),化学工学(Chemi cal E ngineering),1967年10月4日,第147−48頁;Perr yの化学工学ハンドブック(Perry’s Chemical Engine er’s Handbook),第4版,McGraw−Hill,New Y ork,1963年,第8−57頁および下記のもの、並びに国際公開第91/ 13546号明細書を参照のこと。ペレット剤は、米国特許第4,172,71 4号明細書に記載の通りに製造することができる。水分散性および水溶性粒剤は 、米国特許第4,144,050号明細書、米国特許第3,920,442号明 細書および西独特許第3,246,493号明細書に教示の通りに製造すること ができる。錠剤は、米国特許第5,180,587号明細書、米国特許第5,2 32,701号明細書および米国特許第5,208,030号明細書に教示の通 りに製造することができる。フィイルム剤は、西独特許第2,095,558号 明細書および米国特許第3,299,566号明細書に教示の通りに製造するこ とができる。 配合技術に関するさらなる情報については、米国特許第3,235,361号 明細書、第6欄、第16行〜第7欄、第19行および実施例10〜41;米国特 許第3,309,192号明細書、第5欄、第43行〜第7欄、第62行および 実施例8、12、15、39、41、52、53、58、132、138〜14 0、162〜164、166、167および169〜182;米国特許第2,8 91,855号明細書、第3欄、第66行〜第5欄、第17行および実施例1〜 4;K1ingman,科学としての雑草防除(Weed Contro1 a s a Science),John Wiley and Sons Inc .,New York,1961年,第81〜96頁;並びにHance 等,雑草防除ハンドブック(Weed Control Handbook), 第8版,Blackwell Scientific Publication s,Oxford,1989年を参照のこと。 下記の実施例おいては、すべてのパーセントは重量単位であり、すべての製剤 は常法で製造される。化合物番号は、索引表A−C中の化合物を指す。 実施例A 高濃度濃厚剤 化合物4 98.5% シリカエアゾール 0.5% 合成無水微細シリカ 1.0% 実施例B 水和剤 化合物5 65.0% ドデシルフェニルポリエチレングリコールエーテル 2.0% リグニンスルホン酸ナトリウム 4.0% シリコアルミン酸ナトリウム 6.0% モンモリロナイト(焼成された) 23.0% 実施例C 粒剤 化合物6 10.0% アタパルギャイト粒剤(低揮発性物質、0.71 90.0% /0.30mm;U.S.S.No.25−50篩)実施例D 押出しペレット剤 化合物7 25.0% 無水硫酸ナトリウム 10.0% 粗リグニンスルホン酸カルシウム 5.0% アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 1.0% カルシウム/マグネシウムベントナイト 59.0% 試験結果は、本発明の化合物は高度に活性な発芽前および発芽後除草剤または 植物生長調節剤であることを示している。それらの多くは、燃料貯蔵タンク、工 業貯蔵区域、駐車場、ドライブイン劇場、空港、堤防、灌漑および他の水路の近 辺、広告および高速道路と道路構造物の近辺のようなすべての植生の完全な防除 が望まれる区域で広範なスペクトルの発芽前および/または発芽後雑草防除を行 う効用を有する。化合物の幾つかは、それらに限定されないが、アルファルファ 、オオムギ、ワタ、コムギ、セイヨウアブラナ、テンサイ、トウモロコシ(メイ ズ)、サトウモロコシ、ダイズ、イネ、カラスムギ、ラッカセイ、野菜、トマト 、ジャガイモ;コーヒー、ココア、パーム油、生ゴム、サトウキビ、カンキツ類 、ブドウ、果樹、ナッツ樹、バナナ、パインナップル、ホップ、チャノキを含む 多年生農園作物並びにユーカリおよび針葉樹(例えば、タエダマツ)ような森林 樹、並びに芝生種(例えば、ケンタッキーブルーグラス、聖アウグスティヌスグ ラス、ケンタッキーフェスツゥーカおよびギョウギシバ)を含む重要な農業作物 に対する耐性を持つ選ばれた草雑草および広葉雑草の防除に有用である。当業者 は必ずしもすべての 化合物がすべての雑草に対して等しく有効ではないことを理解している。その他 、主題化合物は植物の成長を改善するのに有用である。 本発明の化合物の除草的有効量は多数の要因によって決定される。これらの要 因は、選ばれた製剤、適用方法、存在する植生の量および種類、成長条件などを 含む。一般的に、本発明の除草的有効量は0.001〜20kg/haであり、 好適な範囲は0.004〜1.0kg/haである。当業者は所望の水準の雑草 防除のために必要な除草的有効量を容易に決定することができる。 本発明の化合物は、単独または他の市販の除草剤、殺虫剤または殺菌・殺カビ 剤との組合せで使用することができる。本発明の化合物はまた、一定の作物に対 する安全性を向上させるために、ベノキサコル、ジクロルミドおよびフリラゾー ルのような市販の除草剤の安全化剤(safener)と組合せて使用すること ができる。本発明の化合物と一つまたはそれ以上の以下の除草剤との混合物は特 に雑草防除に有用であってもよい:アセトクロル、アシフルオロフェンおよびそ のナトリウム塩、アクロニフェン、アクロレイン(2−プロペナル)、アラクロ ル、アメトリン、アミドスルフロン、アミトロール、スルタミン酸アンモニウム 、アニロフォス、アスラム、アトラジン、アザフェニジン、アジムスルフロン、 ベナゾリン、ベナゾリン−エチル、ベンフルラリン、ベンフレサート、、ベンス ルフロン−メチル、ベンスリド、ベンタゾン、ビフェノックス、ビスピリバック およびそのナトリウム塩、ブロマシル、オクタン酸ブロモキシニル、ブタクロル 、ブトラリン、ブトロキシジム(ICIA“500)、ブチレート、カロキシジ ム(BAS62OH)、カルフェントラゾン−エチル、クロメトキシフェン、ク ロラムベン、クロルブロ ムロン、クロリダゾン、クロリムロン−エチル、クロルニトロフェン、クロロト ルロン、クロッルプロファム、クロルスルフロン、クロルタル−ジメチル、シン メチリン、シノスルフロン、クレトジム、クロマゾン、クロピラリド、クロピラ リド−オラミン、シアナジン、シクロアート、シクロスルファムロン、2,4− Dおよびそのブトチル、ブチル、イソクチルおよびイソプロピルエステル並びに そのジメチルアンモニウム、ジオラミンおよびトロラミン塩、ダイムロン、ダラ ポン、ダラポン−ナトリウム、ダゾメト、2,4−DBおよびそのジメチルアン モニウム、カリウムおよびナトリウム塩、デスメジファム、デスメトリン、ジカ ムバおよびそのジグリコルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、カリウムおよ びナトリウム塩、ジクロベニル、ジクロルプロプ、ジクロフォプ−メチル、2− [4,5−ジヒドロ−4−メチル−4−(1−メチルエチル)−5−オキソ−1 H−イミダゾール−2−イル]−5−メチル−3−ピリジンカルボン酸(AC2 63,222)、ジフェンゾクアート=メチルスルファート、ジフルフェニカン 、ジメピペラート、ジメテンアミド、ジメチルアルシン酸およびそのナトリウム 塩、ジニトラミン、ジフェンアミド、ジクアート、ジブロミド、ジチオピル、ジ ウロン、DNOC、エンドタール、EPTC、エスプロカルブ、エタルフルラリ ン、エタメツルフロンメチル、エトフメサート、エトキシスルフロン、フェノキ サプロプーエチル、フェノキサプロプ−P−エチル、フェヌロン、フェヌロン− TCA、フランンプロプ−メチル、フラムプロプ−M−イソプロピル、フラムプ ロプ−M−メチル、フラザスルフロン、フルアジフォプ−ブチル、フルアジフォ プ−P−ブチル、フルクロラリン、フルメツラム、フルミクロラック−ペンチル 、フルミオキサジン、フルオメ ツロン、フルオログリコフェン−エチル、フルポキサム、フルピルスルフロン− メチルおよびそのナトリウム塩、フルリドン、フルロクロリドン、フルロキシピ ル、フルチアセト−メチル、フォメサフェン、フォサミン−アンモニウム、グル フォシナート、グルフォシナート−アンモニウム、グリホサート、グリホサート −イソプロピルアンモニウム、グリホサート−セスキソジウム、グリホサート− トリメシウム、ハロスルフロン−メチル、ハロキシフォプ−エトチル、ハロキシ フォプ−メチル、ヘキサジノン、イマザメタベンズ−メチル、イマザモックス、 イマザピル、イマザキン、イマザキン−アンモニウム、イマゼタピル、イマゼタ ピル−アンモニウム、イマゾスルフロン、イオキシニル、オクタン酸イオキシニ ル、イオキシニル−ナトリウム、イソウロン、イソキサベン、イソキサフルトー ル、ラクトフェン、レナシル、リヌロン、マレイン酸ヒドロジド、MCPAおよ びそのジメチルアンモニウム、カリウムおよびナトリウム塩、MCPA−イソク チル、メコプロプ、メコプロプ−P、メフェナセト、メフルイヂド、メタム−ナ トリウム、メタベンズチアズロン、メチルアルソン酸およびそのカルシウム、モ ノアンモニウム、モノナトリウム、ジナトリウム塩、[[[1−[5−[2−ク ロロ−4−(トリフルオロメチル)フェノキシ]−2−ニトロフェニル]−2− メトキシエチリデン]アミノ]オキシ]酢酸メチル(AKH−7088)、5− [[[[(4,6−ジメチル−2−ピリミジニル)アミノ]カルボニル]アミノ ]スルホニル]−1−(2−ピリジニル)−1H−ピラゾール−4−カルボン酸 メチル(NC−330)、メトベンズロン、メトラクロル、メトスラム、メトキ スロン、メトリブジン、メタスルフロン−メチル、モリナート、モノリムロン、 ナプロパミド、ナプタラム、ネ ブロン、ニコスルフロン、ノルフルラゾン、オリザリン、オキサジアゾン、オキ サスルフロン、オキシフルオルフェン、オアラクアート、ジクロリド、ペブラー ト、ペンジメタリン、ペントキサゾン(KPP−314)、ペルフイドン、フェ ンメジファム、ピクララム、ピクロラム−カリウム、プレチラクロル、プリミス ルフロン−メチル、プロメトン、プロメトン、プロメトリン、プロパクロル、プ ロパニル、プロパキザフォプ、プロパジン、プロファム、プロピザミド、プロス ルフロン、ピラゾリナート、ピラゾスルフロン−エチル、ピリダート、ピリミノ バック−メチル、ピリチオバック、ピリチオバック−ナトリウム、キノクロラッ ク、キザロフォプ−エチル、キザロフォプ−P−エチル、キザロフォプ−P−テ ルリル、リムスルフロン、セトキシジム、シズロン、シマジン、スルコトリオン (ICIA0051)、スルフェントラゾン、スルフォメツロン−メチル、TC A、TCA−ナトリウム、テブチウロン、テルバシル、テルブチラジン、テルブ トリン、テニルクロル、チアフルアミド(BAY11390)、チフェンスルフ ロン−メチル、チオベンカルブ、トラルコキシジム、トリ−アレート、トリアス ルフロン、トリアジフラム、トリベヌロン−メチル、トリクロピル、トリクロピ ル−ブトチル、トリクロピル−トリエチルアンモニウム、トリジファン、トリフ ルラリン、トリフルスルフロン−メチル、並びにベルノラート。 一定の例では、同様なスペクトルの防除を有するが異なる様式の作用を有する 他の除草剤との組合せ物は、特に抵抗性雑草の発育を防止するのに有利である。 以下の試験は、特定の雑草に対する本発明の化合物の防除効能を示している。 本化合物によって与えられる雑草防除はこれらの種に限定され ない。化合物の説明については索引表A〜Cを参照のこと。略語「dec」は化 合物が融解のときに分解するようであることを示す。略語「Ex.」は「実施例 」を表し、そして化合物が製造される実施例を示す番号が続く。 発明の生物学的実施例 試験A オオムギ(barley)(Hordeum vulgare)、イヌビエ( barnyardgrass)(Echinochloa crus−gall i)、ヤエムグラ(bedstraw)(Galium aparine)、ノ スズメノテッポウ(blackgrass)(Alopecurus myos uroides)、コハコベ(chickweed)(Stellaria m edia)、オナモミ(cocklebur)(Xanthium strum arium)、トウモロコシ(corn)(Zea mays)、キヌワタ(c otton)(Gossypium hirsutum)、メヒシバ(crab grass)(Digitaria sanguinalis)、ウマノチャヒ キ(downy brome)(Bromus tectorum)、アキノエ ノコログサ(giant foxtail)(Setaria faberii )、シロザ(lambsquaters)(Chenopodium albu m)、アメリカアサガオ(morningglory)(Ipomoea he deracea)、セイヨウアブラナ(rape)(Brassica nap us)、イネ(rice)(Oryza sativa)、ナミモロコシ(so rghum)(sorghum bicolor)、ダイズ(soybean) (G lycine max)、サトウダイコン(sugar beet)(Beta vulgaris)、イチビ(velvetleaf)(Abutilon theophrasti)、コムギ(wheat)(Triticum aes tivum)、ソバカズラ(wild buckwheat)(Polygon um convolvulus)、カラスムギ(wild oat)(Aven a fatua)の種子およびハマスゲ(purple nutsedge)( Cyperus rotundus)の塊茎を植付け、そして界面活性剤を含む 非植物毒性溶媒混合物中に製剤した試験化学品で発芽前処理した。 同時に、これらの作物および雑草種を、同様な方式で製剤した試験化学品の発 芽後適用で処理した。植物は、発芽後処理のために、2〜8cmの高さ(1〜4 葉期)の範囲とした。処理植物および対照は12〜16日間温室中に維持した後 、すべての種を対照と比較し、そして目視的に評価した。表Aに要約した植物反 応評定は、0〜10の尺度の基づくものであり、そこでは0は効果なしでありそ して10は完全な対照である。ダッシュ(−)反応は試験結果がないことを意味 する。 試験B この試験で評価した化合物は、界面活性剤を含む非植物毒性溶媒混合物中に製 剤し、そして植物苗が出現する前に土壌表面に適用し(発芽前適用)、土壌表面 を覆う水に適用し(湛水適用)、そして1〜4葉期の植物に適用した(発芽後適 用)。発芽前および発芽後試験のためには砂質ローム土壌を使用し、他方湛水試 験ではシルトローム土壌を使用した。水深は湛水試験の場合約2.5cmであり そして試験の間この水準を維持した。 発芽前および発芽後試験での植物種は、オオムギ(barley)(Hord eum vulgare)、イヌビエ(barnyardgrass)(Ech inochloa crus−galli)、ヤエムグラ(bedstraw) (Galium aparine)、ノスズメノテッポウ(blackgras s)(Alopecurus myosuroides)、コハコベ(chic kweed)(Stellaria media)、オナモミ(cockleb ur)(Xanthium strumarium)、トウモロコシ(corn )(Zeamays v.Pioneer 3394)、キヌワタ(cotto n)(Gossypium hirsutum)、メヒシバ(crabgras s)(Digitaria sanguinalis)、ウマノチャヒキ(do wny brome)(Bromus tectorum)、アキノエノコログ サ(giant foxtail)(Setaria faberii)、ネズ ミムギ(ryegrass)(Lolium multiflorum)、セイ バンモロコシ(johnsongrass)(Sorghum halepen se)、シロザ(l ambsquarters)(Chenopodium album)、アメリ カアサガオ(morningglory)(Ipomoea hederace a)、セイヨウアブラナ(rape)(Brassica napus)、アオ ゲイトウ(pigweed)(Amaranthus retroflexus )、ダイズ(soybean)(Glycine max)、オオイヌノフグリ (speedwell)(Veronica persica)、サトウダイコ ン(sugar beet)(Beta vulgaris)、イチビ(vel vetleaf)(Abutilon theophrasti)、コムギ(w heat)(Triticum aestivum)、ソバカズラ(wild buckwheat)(Polygonum convolvulus)および カラスムギ(wild oat)(Avena fatua)からなった。 すべての植物種は、この試験の発芽前部分のための化合物を適用する一日前に 植付けた。これらの種の植付けは、試験の発芽前部分のために適切な大きさの植 物を作成するように調節した。湛水試験での植物種は、試験のために2葉期まで 生育した、イネ(rice)(Oryza sativa)、タマガヤツリ(u mberella sedge)(Cyperus difformis)、ダ ックサラダ(duck salad)(Heteranthera 1imos a)、イヌビエ2(barnyardgrass 2)(Echinochlo a crus−galli)およびタイヌビエ(late watergras s)(Echinochloa oryzicola)からなった。 すべての植物種は通常の温室使用基準を使用して成育した。処理植物 に現れた損傷の目視評価は、未処理対照と比較した場合、試験化合物の適用の、 約14〜21日後に記録した。表Bに要約した植物反応評定は、0〜100の尺 度で記録され、そこでは0は効果なしでありそして100は完全な対照である。 ダッシュ(−)反応は試験結果がないことを意味する。 試験C プラスチックポットにシルトローム土壌を部分的に充填した。次いで土壌を水 で飽和させた。インドイネ(Indica Rice)(Oryza sati va)の種子または2.0葉期の苗;イヌビエ(barnyardgrass) (Echinochloa crus−galli)の種子、塊茎または選ばれ た植物部分、2葉期のダックサラダ(duck salad)(Heteran thera limosa)、コヒメビエ(junglerice)(Echi nochloa colonum)、タイヌビエ(late watergra ss)(Echinochloa oryzicola)、ヒメミソハギ(re dstem)(Ammania speies)、コゴメガヤツリ(rice flatsedge)(Cyperus iria)、タマガヤッリ(smal lflower flatsedge)(Cyperus difformus )およびハマガヤ(tighthead sprangletop)(Lept ochoa fasicularis)をこの土壌に植付けた。これらの作物お よび雑草種の植付けおよび灌水は、試験のために適切な大きさの植物を作成する ように調節した。2葉期には、水の水準を土壌表面上3cmまで上昇させ、そし て試験を通してこの水準に維持した。化学処理物は、界面活性剤を含む非植物毒 性溶媒混合物中に製剤し、そして水田に、ピペットによって直接に、または植物 の茎葉に、空気圧補助、較正ベルト−コンベア−噴霧システムによって適用した 。 処理植物および対照は約21日間温室中に維持した後、すべての種を対照と比 較しそして目視的に評価した。表Cに要約した植物反応評定は 0〜100尺度で報告され、そこでは0は効果なしでありそして100は完全な 対照である。ダッシュ(−)反応は試験結果がないことを意味する。 試験D この試験で評価した化合物は非植物毒性溶媒混合物中に製剤し、そして各ポッ ト中に含まれる水の表面に適用した。タイヌビエ(barnyardgrass )(Echinochloa oryzicola)、タマガヤツリ(smal l flower umberella sedge)(Cyperus di fformus)、アゼナ(common falsepimpernel)( Lindernia procumbens)、コナギ(monochoria )(Monochoria vaginalis)、ホタルイ(bulrush )(Scirpus juncoides)の個々のコンテナを播移し、発育の 1.5葉期(早期)および2.5葉期(晩期)まで成長させた。この繁殖のため には粘度ローム土壌を使用した。ニッポンイネ(Japonica rice) (Oryza sativa)を、試験化合物の適用の5日前に水表面に0およ び2cmの深さに移植した。 処理植物および未処理対照を温室条件下で20〜30日間維持し、その時点で 処理植物を未処理対照と比較し目視的に評価した。表Dに要約した植物の反応評 定は、0〜100の尺度に基づくものであり、そこでは0は効果なしでありそし て100は完全な対照である。 試験E この試験で評価した化合物は非植物毒性溶媒混合物中に製剤し、そして1〜4 葉期にある植物に適用した(発芽後適用)。発芽後試験のためには、砂質ローム 土壌と温室ポッティングミックスとの60:40の混合物を使用した。この試験 種の発芽前植付けは、化合物適用の直前に、植付け培地として砂質ローム土壌を 使用して行った。 これらの作物および雑草種の植付けは、発芽後試験のために適切な大きさの植 物を作成するように調節した。すべての植物種は通常の温室使用基準を使用して 成育した。作物および雑草種は、スズメノカタビラ(bluegrass)(P oa annua)、ノスズメノテッポウ(blackgrass)(Alop ecurus myosuroides)、イヌホウズキ(black nig htshade)(Solanum nigra)、コハコベ(chickwe ed)(Stellaria media)、ヒナゲシ(common pop py)(Papaver rhoeas)、ホトケノザ(deadnttle) (Lamium amplexicaule)、ウマノチャヒキ(downy brome)(Bromus tectorum)、フィールドバイオレット( field violet)(Viola arvensis)、ヤエムグラ( galium)(Galium aparine)、エノコログサ(green foxtail)(Setaria viridis)、ヤギムギ(join ted goatgrass)(Aegilops cylindrica)、 ホウキギ(kochia)(Kochia scoparia)、シロザ(la mbsquarters)(Chenopodium album)、ヒメヤリ クサヨシ (littleseed canarygrass)(Phalaris mi nor)、セイヨウアブラナ(rape)(Brassicanapus)、ア オゲイトウ(redroot pigweed)(Amaranthus re troflexus)、ノハラヒジキ(Russian thistle)(S alsola kali)、ネズミムギ(ryegrass)(Lolium multiflorum)、イヌカミツレ(scentless chamom ile)(Matricaria inodora)、ハルオオムギ(spri ng barley)(Hordeum vulgare)、サトウダイコン( sugar beet)(Beta vulgaris)、ヒマワリ(sunf lower)(Helianthus annuus)、フラサバソウ(ivy leaf speedwell)(Veronicahederaefolia )、ハルコムギ(spring wheat)(Triticum aesti vum)、フユコムギ(winter wheat)(Triticum ae stivum)、ソバカズラ(wild buckwheat)(Polygo num convolvulus)、ノハラガラシ(wild mustard )(Sinapis arvensis)、カラスムギ(wild oat)( Avena fatua)3〜4葉期(2)および1〜2葉期(1)、セイヨウ ヌカボ(windgrass)(Apera spica−venti)および フユオオムギ(winter barley)(Hordeum vulgar e)を含む。 処理植物および未処理対照は温室中に約21〜28日間維持した後、すべての 処理植物を未処理対照と比較し、目視的に評価した。表Eに要 約した植物の反応評定は、0〜100の尺度に基づくものであり、そこでは0は 効果なしでありそして100は完全な対照である。ダッシュ反応(−)は試験結 果がないことを意味する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A01N 43/90 102 A01N 43/90 102 103 103 C07D 327/02 C07D 327/02 411/06 411/06 497/04 497/04 //(C07D 497/04 327:00 231:00) (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AU,AZ ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CN,CU, CZ,EE,GE,HU,IL,IS,JP,KG,K P,KR,KZ,LC,LK,LR,LT,LV,MD ,MG,MK,MN,MX,NO,NZ,PL,RO, RU,SG,SI,SK,TJ,TM,TR,TT,U A,US,UZ,VN,YU

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式I 式中、 Qは であり; R1はOR8、SH、C1−C6アルキルチオ、C1−C6ハロアルキルチオ、C1− C6アルキルスルフィニル、C1−C6ハロアルキルスルフィニル、C1−C6アル キルスルホニル、C1−C6ハロアルキルスルホニル、ハロゲンまたはNR21a2 1b であるか;或いはR1はフェニルチオ、フェニルスルホニルまたは−SCH2C (O)Phであり、各々は場合によりC1−C3アルキル、ハロゲン、シアノまた はニトロで置換されていてもよく; 各R2は独立してH、C1−C3アルキル、C3−C6アルケニル、C3−C6アルキ ニル、C1−C3アルコキシ、ホルミル、C2−C6アルコキシカルボニル、−CH (C1−C3アルコキシ)2、C1−C3アルキルチオ、C2−C4アルキルチオアル キル、シアノまたはハロゲンであるか;或い は二つのR2が同一の炭素原子に結合している場合、前記R2の対は一緒になって 、−OCH2CH2O−、−OCH2CH2CH2O−、−SCH2CH2S−または −SCH2CH2CH2S−を形成し、各基は場合により1〜4個のCH3で置換さ れていてもよく; R3はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、ハロゲン、シアノまたは ニトロであり; R4はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C3−C6アルケニルまた はC3−C6アルキニルであるか;或いはR4はフェニルまたはベンジルであり、 各々は場合によりフェニル環上でC1−C3アルキル、ハロゲン、シアノまたはニ トロで置換されていてもよく; R5はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2−C6アルコキシアル キル、ホルミル、C2−C6アルキルカルボニル、C2−C6アルコキシカルボニル 、C2−C6アルキルアミノカルボニル、C3−C7ジアルキルアミノカルボニル、 C1−C6アルキルスルホニルまたはC1−C6ハロアルキルスルホニルであるか; 或いはR5はベンゾイルまたはフェニルスルホニルであり、各々は場合によりC1 −C3アルキル、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換されていてもよく; R6はH、C2−C6アルコキシカルボニル、C2−C6ハロアルコキシカルボニル 、CO2Hまたはシアノであり; R7はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C3−C6シクロアルキル またはC3−C6ハロシクロアルキルであり; R8はH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2−C6アルコキシアル キル、ホルミル、C2−C6アルキルカルボニル、C2−C6アルコキシカルボニル 、C(O)NR21a21b、C1−C6アルキルスルホニ ルまたはC1−C6ハロアルキルスルホニルであるか;或いはR8はフェニル、ベ ンジル、ベンゾイル、−CH2C(O)フェニルまたはフェニルスルホニルであ り、各々は場合によりフェニル環上でC1−C3アルキル、ハロゲン、シアノまた はニトロで置換されていてもよく; Aはであり; R9およびR10は独立してH、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C1− C6アルコキシ、C1−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチオ、C1−C6ハ ロアルキルチオ、C1−C6アルキルスルフィニル、C1−C6ハロアルキルスルフ ィニル、C1−C6アルキルスルホニル、C1−C6ハロアルキルスルホニル、アミ ノスルホニル、C1−C2アルキルアミノスルホニル、C2−C4ジアルキルアミノ スルホニル、ハロゲン、シアノまたはニトロであり; R11、R12、R13、R17およびR18は独立してH、ハロゲン、シアノ、C1−C6 アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2−C6アルケニル、C2−C6ハロアルケニ ル、C2−C6アルキニル、C2−C6ハロアルキニル、C1−C6アルコキシ、C1 −C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチオまたはC1−C6ハロアルキルチオ であり; R14はH、ハロゲン、C1−C6アルキルまたはC1−C6ハロアルキルであり; R15はH、ハロゲン、シアノ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル、C2 −C6アルケニル、C2−C6ハロアルケニル、C2−C6アルキニル、C2−C6ハ ロアルキニル、C1−C6アルコキシ、C1−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキ ルチオまたはC1−C6ハロアルキルチオであり; R16はH、C1−C6アルコキシ、C2−C6ハロアルコキシ、C1−C6アルキルチ オ、C2−C6ハロアルキルチオであるか;或いは R15およびR16は一緒になって、−X1−(CH2r−X2−、−(CH2s−X3 −、−(CH2t−X3−CH2−、−(CH2v−X3−CH2CH2−または− (CH2w−を形成し、各基は場合により1〜6個のハロゲン、1〜6個のCH3 および一つのC1−C3アルコキシから選ばれる少なくとも一つの員で置換され ていてもよいか;或いはR15およびR16は一緒になって、−O−N(C1−C3ア ルキル)−CHR20−CH2−または−O−N=CHR20−CH2−を形成し、各 基は場合により1〜2個のハロゲンおよび1〜2個のCH3から選ばれる少なく とも一つの員で置換されていてもよいか;或いはR15およびR16はそれらが結合 している炭素と一緒になって、C(=O)、C(=S)またはC(=N OR21)を形成し; X1およびX2は各々独立してO、SまたはN(C1−C3アルキル)であり; X3はOまたはSであり; GはOまたはCH2であり; R19はH、C1−C3アルキル、C3−C4アルケニルまたはC3−C4アルキニルで あり; R20はC1−C3アルキルであるか;或いはR20は、場合によりC1−C3アルキル 、ハロゲン、シアノまたはニトロで置換されていてもよいフェニルであり; R21はH、C1−C3アルキル、C3−C4アルケニルまたはC3−C4アルキニルで あり; R21aはHまたはC1−C6アルキルであり; R21bはC1−C6アルキルまたはC1−C6アルコキシであるか;或いはR21aおよ びR21bは一緒になって−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH2CH2C H2CH2−、−CH2CH2CH2CH2CH2−または−CH2CH2OCH2CH2 −となることができ; YおよびZは、それらが結合している炭素と一緒になって、場合によりハロゲン およびC1−C8アルキルよりなる群から独立して選ばれる三つまでの基で置換さ れていてもよい融合1H−4,5−ジヒドロピラゾールまたはピリジン環を形成 するが、但し、融合1H−4,5−ジヒドロピラゾール環の窒素原子が置換され ている場合、窒素置換基はC1−C8アルキルであることを条件とするか;或いは YおよびZは、それらが結合している炭素と一緒になって、融合ピラゾール、ピ リミジンまた はチオフェン環を形成し、各々は場合によりハロゲンおよびC1−C8アルキルよ りなる群から独立して選ばれる二つまでの基で置換されていてもよいが、但し、 融合ピラゾール環の窒素原子が置換されている場合、窒素置換基はC1−C8アル キルであることを条件とするか;或いはYおよびZは、それらが結合している炭 素と一緒になって、場合によりハロゲンおよびC1−C8アルキルで置換されてい てもよい融合イソオキサゾールを形成し; kは0または1であり; mは0または1であり; nは1または2であり; qは0、1、2、3または4であり; rは2、3または4であり; sは2、3、4または5であり; tは1、2、3または4であり; vは2または3であり;そして wは2、3、4、5または6であるが; 但し、 (i)kとmの合計は0または1であり; (ii)R16がH以外である場合、R15はハロゲンではなくそしてC1ハロアル コキシでもなく;そして (iii)AがA−1、A−2またはA−4である場合、QはQ−1またはQ− 2であることを条件とする、 から選ばれる化合物、それらのN−オキシドおよびそれらの農業的に適した塩。 2.AがA−1、A−2およびA−6から選ばれ; R9およびR10が独立してH、ハロゲン、ニトロ、C1−C3アルキルまたはC1− C3アルコキシであり; R11およびR12が独立してH、ハロゲンまたはC1−C3アルキルであり; R13およびR14が独立してHまたはC1−C3アルキルであり; R15およびR16が独立してH、C1−C3アルキル、C1−C3アルコキシ、C2− C3ハロアルコキシ、C1−C3アルキルチオまたはC2−C3ハロアルキルチオで あるか;或いはR15およびR16が一緒になって、場合により1〜2個のハロゲン および1〜3個のCH3から選ばれる少なくとも一つの員で置換されていてもよ い−X1−(CH2r−X2−を形成するか;或いはR15およびR16が、それらが 結合している炭素と一緒になって、C(=C)またはC(=NOR21)を形成し ; rが2または3であり; R21がHまたはC1−C3アルキルであり; A−6がA−6a、A−6b、A−6c、A−6d、A−6eおよびA−6fか ら選ばれるものである: ここで、 R22、R24およびR30は独立してC1−C6アルキルであり;そして R23、R25、R26、R27、R28およびR29は独立してHまたはC1−C4アル キルであり;そして R31およびR32は独立してHまたはC1−C2アルキルである、 請求の範囲第1項に記載の化合物。 3.kが0であり; mが0であり; R9およびR10が独立してC1−C3アルキルまたはハロゲンであり; R11およびR12が独立してHまたはC1−C3アルキルであり; R15およびR16が一緒になって−OCH2CH2O−または−SCH2CH2S−と なるか;或いはR15およびR16が、それらが結合している炭素と一緒になって、 C(=O)、C(=NOR21)を形成し; R21がC1−C2アルキルであり;そして R22、R24およびR30が独立してC1−C3アルキルであり;そして R23、R25、R26、R27、R28およびR29が独立してHまたはC1−C2アルキル であり;そして R31およびR32は独立してHまたはC1−C2アルキルである、 請求の範囲第2項に記載の化合物。 4.QがQ−1である請求の範囲第3項に記載の化合物。 5.QがQ−2である請求の範囲第3項に記載の化合物。 6.QがQ−3である請求の範囲第3項に記載の化合物。 7.(a)3−ヒドロキシ−2−[(3,5,8−トリメチル−1,2−ベン ゾオキサチイン−6−イル)カルボニル]−2−シクロヘキセン−1−オン S ,S−ジオキシド、それはあるいはその互変異性体2−[(3,5,8−トリメ チル−1,2−ベンゾオキサチイン−6−イル)カルボニル]−1,3−シクロ ヘキサンジオン=S,S−ジオキシドと呼ばれる、 (b)3−ヒドロキシ−2−[(2,6,9−トリメチル−4,4−ジオキシド −2H−[1,2]ベンゾオキサチイノ[4,3−c]ピラゾール−8−イル) カルボニル]−2−シクロヘキセン−1−オン;および (c)2−[(5,8−ジメチル−1,2−ベンゾオキサチイン−6−イル)カ ルボニル]−3−ヒドロキシ−2−シクロヘキセン−1−オン S,S−ジオキ シド、 よりなる群から選ばれる請求の範囲第4項に記載の化合物。 8.請求の範囲第1項に記載の化合物の除草的有効量並びに界面活性剤、固体 希釈剤または液体希釈剤の少なくとも一種を含んでなる除草組成物。 9.植生またはその環境に請求の範囲第1項に記載の化合物の除草的有効量を 接触させることを含んでなる望ましくない植生の成長を抑制する方法。
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