JP2000506545A - チタノセンの合成 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
オレフィン重合触媒として有用な、束縛された形状のチタン錯体を含めたチタン含有メタロセン化合物の製造法が開示されている。本発明によれば、非妨害性溶媒中にて四塩化チタンを金属化合物と反応させて三塩化チタンに転化させ、これによって脱プロトン化されたメタロセンリガンドとの反応に直接使用できる混合物を生成させる。本発明にしたがって生成されるチタノセン化合物は、重合反応に悪影響を及ぼすことのある微量のアルミニウムを含有しない。
Description
【発明の詳細な説明】
チタノセンの合成 発明の分野
本発明は、特異な三塩化チタンを使用する、束縛された形状のチタノセン触媒
を含むチタノセンの合成に関する。
発明の背景
エチレン及びより高級のα-オレフィンの重合用のメタロセンベース触媒の進
展が、H.H.Brintzingerらによる“Angew.Chem.Int.Ed .Engl.34:1143-1170
(1995)”およびP.C.Mohringらによる“J.Organometal.Chem.479:1-29(199
4)”に概説されている。有機合成におけるキラルメタロセンの応用が、R.L.H
altermanによる“Chem.Rev. 92:965-994(1992)”に概説されている。これらの
レビューでは特に、最新のメタロセンの応用を説明している。これらの応用は、
他の第IV族メタロセンを含有するチタンの使用に集中していることが多い。
第IV族メタロセンの初期における製造では、金属の四ハロゲン化物(一般には
四塩化物)と脱プロトン化されたリガンド(例えば、ナトリウムシクロペンタジ
エニド)とを反応させてメタロセンを高収率で得た。現在重要とされているメタ
ロセンはかなり複雑なリガンド構造を有しており、それらの製造は簡単とは言え
ない。これらメタロセンの製造に対して四塩化チタンを使用すると、所望のメタ
ロセンの収率は低いことが多い。四塩化チタンの代わりにしばしば三塩化チタン
が使用され、引き続き酸化を施すことによって、所望のメタロセンが大幅に改良
された収率で得られる。
三塩化チタンを使用を詳細に説明している最近の幾つかの例に対しては、L.
A.Paquetteらによる“Organometallics 14:4865-4878(1995)”、F.Zaegelら
による“Organometallics 14:4576-4587(1995)”、およびM.E.Huttenlochら
による“Organometallics 11:3600-3607(1992)”を参照のこと。前記のHalter
manの文献では、幾つかのメタロセン製造において三塩化チタンを使用している
文献を引用している。このようにして使用される三塩化チタンは、工業
用の四塩化チタンから製造される。四塩化チタンの水素還元によって得られる三
塩化チタンは、実験室規模の製造において最も頻繁に使用される。工業規模の製
造に対しては、三塩化チタンは、コストが高く、酸性の不純物が存在するために
実際的ではない。こうした不純物が存在するために、一般にはエーテル錯体(通
常はテトラヒドロフラン錯体)の作製と単離によって三塩化チタンを精製しなけ
ればならない。
市販の三塩化チタンは、アルキルアルミニウム化合物による四塩化物の還元に
よって製造される。このようにして得られる三塩化チタンは塩化アルミニウムを
含有し、これは除去することができない。典型的な分析によれば、76〜79重
量%が三塩化チタンであって、残部の重量%は殆どが塩化アルミニウムで構成さ
れている。メタロセンの製造にアルミニウム還元した三塩化チタンを使用すると
、種々の量のアルミニウム含有不純物を含有する生成物が得られることが多い。
これらの不純物をチタノセン生成物から分離することは、ほとんどの場合におい
て簡単ではなく、特に工業規模の場合には困難である。これら不純物の存在は、
チタノセンのその後の使用時において(特に、オレフィンの重合において)顕著
な悪影響を及ぼすことがある。
したがって、アルミニウム含有不純物を含まないチタノセンを生成させるのに
有用な三塩化チタン試剤が求められている。
用語の意味
本発明の目的に対し、下記の用語は以下のような意味を有する。
チタノセン化合物 − 1つ以上のシクロペンタジエニル環に結合したチタン
を含む化合物。
チタノセンリガンド − チタノセン化合物を製造するのに使用される、シク
ロペンタジエニル部分または置換シクロペンタジエニル部分(インデニルやフル
オレニル等も含めて)を含有する化学的前駆体。
束縛された形状の触媒(CGC)− 金属中心が環構造中に含まれ、非局在化
されたπ系を介して環状基に共有結合しており、そしてシグマ結合を介して他の
原子(例えば、炭素、窒素、および酸素など)に共有結合している触媒。環のサ
イズが小さいために、金属原子中心の周りに束縛を誘起する。チタン含有CGC
の場合、導入されたチタン原子は、正式の+4、+3、または+2のいずれの酸
化状態であってもよい。ヨーロッパ特許出願90309496.9、国際出願95/00526、お
よび米国特許第5,470,996号を参照のこと。
CpSAリガンド − (t−ブチルアミノ)(テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルシラン
(CpSA)2- − 二重に脱プロトン化されたCpSAリガンド
(CpSA)2-TiCl2 − 二塩化[(t-ブチルアミノ)(テトラメチルシクロペ
ンタジエニル)ジメチルシラン]チタン
実質的化学量論量 − 化学量論量の90%以上で110%以下の量。
発明の総括
本発明は、アルミニウム含有不純物を含有しない束縛形状のTi(IV)錯体、Ti(
III)錯体、およびTi(II)錯体を含めたチタン含有メタロセンを製造するのに適
した、三塩化チタン含有混合物の一般的な製造法を含む。
三塩化チタン含有混合物は、有機金属化合物(例えば、n-ブチルリチウムま
たはn-ブチルマグネシウムクロライド)と四塩化チタンとを、非妨害性溶媒媒
体中で化学量論(1:1)反応させることによって得るのが好ましい。これらの
混合物を、適切なリガンドと反応させた状態で、三塩化チタンを単離せずに直接
使用して、束縛形状のチタン錯体を含めた所望のチタノセンを高収率で得ること
ができる。こうして得られるチタノセン生成物は、明らかにアルミニウム含有不
純物を含有していない。
発明の詳細な説明
本発明は、三塩化チタンを含有する第1の反応混合物と、メタロセン化合物リ
ガンドのマグネシウム塩またはアルカリ金属塩もしくはアルカリ土類金属塩を含
有する第2の反応混合物とを別々に供給することを含む、チタン含有メタロセン
化合物の製造法に関する。反応させるために第1と第2の混合物を混合して中間
体を生成させ、この中間体から、オレフィン重合触媒として有用なアルミニウム
非含有のチタノセンを合成することができる。
第1の反応混合物は、式Rx−Mのアルカリ金属化合物または式RMgXのグリ
ニャール試薬とTiCl4とを反応させることによって生成させる。それぞれの式
において、Rは直鎖または枝分かれ鎖の脂肪族炭化水素基であり、好ましくは2
〜10個の炭素原子を有するアルキル基である。Rは、カルシウム、バリウム、
又はストロンチウム等のアルカリ土類金属であってもよい。xはMの価数である
。式Rx−Mにおいて、Mは、ナトリウム、カリウム、またはリチウム等のアル
カリ金属である。式RMgXにおいて、Xはハロゲンであり、好ましくは塩素で
ある。n-ブチルリチウムクロライドまたはn-ブチルマグネシウムクロライドが
好ましい。反応物を、非妨害性溶媒(好ましくは炭化水素)中において実質的化
学量論量にて混合する。
有用な炭化水素媒体としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、およびキシレン等の脂肪族もしくは芳香族の炭化水素がある。本
明細書に記載の特定の実施例に対してはトルエンが好ましい。有用なエーテル溶
媒およびポリエーテル溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、
エチレングリコールジメチルエーテル、およびジオキサンがある。炭化水素溶媒
とエーテル溶媒との混合物も、反応に対して有用である。
反応は、酸素非含有の乾燥条件下で行うのが好ましい。反応が適切に行われる
温度は−20℃〜120℃であり、最適の温度範囲は30〜40℃である。
第2の反応混合物は、公知の方法にしたがって、所望のメタロセンリガンドを
適切な塩基で脱プロトン化することによって別個に調製する。一般的な説明に関
しては、Paquetteらによる“Organometallics 14:4865-4878(1995)”;Zaegel
らによる“Organometallics 14:4576-4587(1995)”;およびHaltermanによる
“Chem .Rev. 92:965-994(1992)”を参照のこと。
第1の反応混合物〔媒体もしくは溶媒、三塩化チタン、および金属ハロゲン化
物(例えば、LiClやMCl2等)を含む〕を、三塩化チタンを単離することなく
、脱プロトン化されたリガンドを含む第2の反応混合物に直接加えて、第1のチ
タノセンを生成させる。
図面の説明
図1は、束縛形状のTi(IV)錯体触媒を製造するための本発明の1つの実施態
様によって構成される、工程(1)、(2)、および(3)を含んだ一般的な図
である。工程(1)− アルミニウム非含有のTiCl3
図1の工程(1)は、TiCl4とn-ブチルリチウムもしくはn-ブチルマグネシ
ウムクロライドとを実質的化学両論量にて、炭化水素媒体、エーテル媒体、また
は炭化水素/エーテル混合媒体中で反応させて、TiCl3と塩化リチウムもしく
は塩化マグネシウムを生成させることを示している。
工程(2)− メタロセン化合物リガンドの脱プロトン化
図1の工程(2)は、炭化水素媒体(好ましくはトルエン)中における、メタ
ロセン化合物リガンド(t−ブチルアミノ)(テトラメチルシクロペンタジエニル)
ジメチルシラン(CpSAリガンド)の有機金属脱プロトン化剤〔好ましくは、
有機リチウム化合物または有機マグネシウム化合物(グリニャール試薬)〕によ
る二重脱プロトン化を示している。
溶媒媒体と有機金属化合物は、工程(1)において使用されている溶媒媒体お
よび有機金属化合物と同じでもあるいは異なっていてもよい。溶媒中のCpSA
リガンドの濃度は0.05〜1.5Mであるのが適切であり、0.45〜0.6Mで
あるのが好ましい。
メタロセン化合物リガンド(例えばCpSA)を脱プロトンするのに、いかな
るグリニャール試薬も使用することができる。有用なグリニャール試薬は、前記
したようにRMgXという式で表される。好ましいのは、イソプロピルマグネシ
ウムクロライドである。溶媒中のグリニャール試薬の実際的な濃度範囲は0.5
〜3.0Mであり、好ましくは1.9〜2.3Mである。CpSAの場合、グリニャ
ール試薬の供給終了時において温度を45〜50℃に制御し、次いで所定時間に
て85〜90℃に加熱する。
工程(2)の反応混合物を、工程(3)において、反応容器中に存在するトル
エン溶液として直接使用するのが好ましい。
工程(3)− TiCl3と脱プロトン化リガンドとの反応 −(CpSA)2−Ti Cl2の生成
図1の工程(3)は、工程(1)の三塩化チタン含有反応混合物と、工程(2
)の(CpSA)2-含有の第2の反応混合物とを反応させて、二塩化[(t-ブチルア
ミド)(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジメチルシラン]チタン〔(CpS
A)2-TiCl2〕を得るための1つの方法を示している。
本発明のこの実施態様においては、工程(1)の攪拌反応混合物を、工程(2
)の攪拌反応混合物を収容している反応器中に直接移入して混合する。工程(1
)の混合物を収容していた容器をトルエンですすぎ洗いし、次いでこのトルエン
を工程(3)の反応器に仕込む。この反応混合物は発熱性であり、赤褐色に変化
する。通常は、約15℃の温度上昇が観察される。
工程(3)において使用される反応容器に、塩化物含有酸化剤(例えば、ジク
ロロメタンや塩化銀)を仕込む。こうして得られる反応混合物を、工程(3)の
反応が起こるための適切な時間(通常は約2時間)にわたって攪拌する。
減圧(すなわち、60〜80mmHg)にて溶媒を蒸発除去して、体積を初期体積
の約1/2にする。炭化水素溶媒(例えばトルエン)を加え、セライトR濾過助剤
を加え、そして混合物を濾過する。溶媒を蒸留して生成物を濃縮する。
得ようとする実際の化合物に応じた方法によって、本混合物から固体チタノセ
ンを単離することができる。図1に示す(CpSA)2-TiCl2の場合、実施例6に
記載のように、固体生成物ば75〜80%の収率で得られた。母液をさらに処理
することにより、より低い純度のさらなる固体物質を単離することができる。こ
れとは別に、マグネシウム塩の除去後に得られる生成物溶液を直接使用して、実
施例6に記載の他のメタロセンを生成させることもできる。
発明の例示 三塩化チタン反応物混合物および得られるメタロセンの製造手順
四塩化チタンと有機金属化合物との不活性雰囲気下での反応による三塩化チタ
ン含有混合物の一般的製造法を先ず説明し、次いで特定の実施例について説明す
る。反応装置は、機械的攪拌機を備えた500mlの三つ口フラスコで構成した。
還流凝縮器の付いたクライゼンアダプターを1つの口に装着し、反応混合物中に
温度計を挿入した。この装置をあらかじめ乾燥し、組み立て後に窒素でパージし
た。反応フラスコの他の口を介して溶媒を加え、ゴム栓で蓋をした。TiCl4(
約25ml、42〜44g、0.22〜0.23モル)を、シリンジを使用して秤量
ビンから反応フラスコに仕込んだ。ゴム栓を、乾燥し窒素パージした滴下ロート
と取り換えた。THFおよび/または有機金属化合物を滴下ロート中に仕込み、
所望の温度にてTiCl4/溶媒の反応混合物に加えた。
実施例1
n-ブチルリチウム(BuLi)のヘキサン溶液(156mlの1.60M溶液、0
.250モルのBuLi)を、TiCl4(43.0g,0.227モル)の300mlト
ルエン溶液に30分で加えた。反応混合物の初期温度は10℃であり、滴下中に
温度が40℃に上昇し、外部冷却を使用して温度を35〜40℃に保持した。B
uLiの滴下後、反応混合物を35〜40℃で1時間攪拌した。室温に冷却した後
、TiCl3生成物混合物に対する不活性雰囲気を保持しながら、滴下ロート、凝
縮器、およびクライゼンアダプターを取り外した。得られたTiCl3含有混合物
を、脱プロトン化されたメタロセンリガンドとの反応に直接使用した。
実施例2
TiCl4(43.4g,0.229モル)を200mlのトルエン中に溶解して得
られた溶液に、0〜15℃にて30分でTHF(100ml)を加えた。次いでB
uLiのヘキサン溶液(156mlの1.60M溶液、0.250モル)を、5〜10
℃にて40分で加えた。得られた混合物を35〜40℃に加熱し、1時間攪拌し
た。冷却後、得られたTiCl3スラリーを、脱プロトン化されたリガンドとの反
応に直接使用した。
実施例3
TiCl4(42.0g,0.221モル)を150mlのトルエン中に溶解して得
た溶液に、0〜15℃にて20分でTHF(75ml)を加えた。次いで、ブチル
マグネシウムクロライド(BuMgCl)をTHF中に溶解して得た溶液(115m
lの2.10M溶液、0.242モルのBuMgCl)を30分で加えた。反応混合物
の初期温度は0℃であった。滴下中に温度が40℃に上昇し、外部冷却を使用し
て温度を35〜40℃に保持した。BuMgClを加えた後、反応混合物を35〜
40℃にて1時間攪拌した。こうして得られたTiCl3生成物スラリーを、脱プ
ロトン化されたリガンドとの反応に直接使用した。
実施例4 イソプロピルマグネシウムクロライドによるCpSAリガンドの脱プロトン化
反応装置は、機械的攪拌機を取り付けた200mlの三つ口フラスコで構成した
。
1つの口に、ビグローカラムと溶媒を蒸留するための蒸留ヘッドを備えたクライ
ゼンアダプターを取り付けた。温度計を、クライゼンアダプターを通して反応フ
ラスコ中に挿入した。このガラス装置をあらかじめ乾燥しておき、組み立て後に
窒素でパージした。トルエン(425ml)とCpSAリガンド(55.0g,0.
219モル)を反応フラスコに加えた。反応混合物の温度を45〜50℃に調節
した。イソプロピルマグネシウムクロライド(i-PrMgCl)をエーテル中に溶
解して得た溶液(205mlの2.30M溶液、0.472モルのi-PrMgCl)を
、滴下ロートを使用して1時間で加えた。i-PrMgClを加えた後、反応混合物
を2時間で85〜90℃に徐々に加熱し、この温度でさらに2時間攪拌した。(
CpSA)2-(MgCl)2は、この段階ではゴム質の固体を形成した。加熱を止め、
反応混合物の温度を60〜65℃に冷却した。この温度でTHF(150ml)を
15分で滴下すると、(CpSA)2-(MgCl)2が溶解した。次いで、反応混合物を
室温に冷却した。生成物混合物に対して窒素の不活性雰囲気を保持しながら、蒸
留ヘッド、ビグローカラム、及び滴下ロートを反応装置から取り外した。この(
CpSA)2-(MgCl)2溶液を、あらかじめ作製したおいたTiCl3スラリーとの反
応に直接使用した。
実施例5 n-ブチルリチウムによるCpSAリガンドの脱プロトン化
反応装置は、機械的攪拌機を取り付けた200mlの三つ口フラスコで構成した
。1つの口に、還流凝縮器を備えたクライゼンアダプターを取り付け、温度計を
反応フラスコ中に挿入した。このガラス装置をあらかじめ乾燥しておき、組み立
て後に窒素でパージした。エーテル(300ml)とCpSAリガンド(62.9g
、0.250モル)を反応フラスコに加えた。反応混合物を−20℃に冷却した
。BuLiのヘキサン溶液(305mlの0.170M溶液,0.518モルのBuLi)
を1.5時間で加えた。この滴下中、温度を−20〜−15℃に保持した。次い
で反応混合物を1.5時間で0〜5℃に加温し、この温度で3時間攪拌した。こ
うして得られた(CpSA)2-Li2スラリー(淡黄色の上澄み液を含んだ白色固体
で構成)を、実施例1〜3に記載の手順にしたがって製造したTiCl3スラリー
との反応に直接使用した。実施例6 ( CpSA)2-TiCl2の製造
上記実施例1からのTiCl3含有混合物を、窒素加圧下で口径の大きいカニュ
ーレを介して、上記実施例4からの(CpSA)2-(MgCl)2溶液に2〜3分で移入
した。幾らかの残留TiCl3を含むTiCl3フラスコにトルエン(100ml)を加
え、この洗浄液を反応フラスコに速やかに移した。反応混合物の初期温度は22
℃であり、TiCl3の滴下中に温度が35℃に上昇した。反応混合物を35℃で
15分攪拌し、この時点でジクロロメタン(13.5g)を1分で加えた。温度
が38℃に上昇した。こうして得られた赤褐色混合物を2時間攪拌し、このとき
温度は徐々に25℃に低下した。減圧下(60〜80mmHg)での単なる蒸留によ
って溶媒を除去して、最終的な体積を約600mlにした。この蒸留中、温度は3
0〜60℃の範囲で変化した。20℃に冷却し、窒素で加圧した後、生成物混合
物にトルエン(400ml)を加えた。セライトR濾過助剤を使用した窒素加圧濾
過によって、本混合物からマグネシウム塩を除去した。反応フラスコと濾過ケー
クを、200mlずつのフレッシュなトルエンで数回洗浄した。赤褐色濾液を減圧
下での単なる蒸留によって濃縮して、体積を400mlにした。このトルエン溶液
を再び窒素加圧下で濾過して、残留しているマグネシウム塩を除去した。減圧下
での単なる蒸留によって、再び濾液を200mlの濃縮した。20〜25℃で攪拌
しながら、ヘプタン(400ml)を30分で加えた。第1のオレンジ色生成物〔
結晶質の(CpSA)2-TiCl2〕を窒素加圧濾過によって捕集し、これをヘプタン
で洗浄して61.1gの生成物を76%の収率で得た。母液を約100mlに濃縮し
、そしてヘプタンで希釈することによって第2の生成物を得た。
これとは別に、マグネシウム塩の除去後に得られた生成物トルエン溶液を直接
使用して他のメタロセンを製造した。例えば、(CpSA)2-TiCl2のトルエン溶
液を2当量のメチルマグネシウムクロライド(THF溶液)で処理して、(CpS
A)2-Ti(CH3)2を70〜75%の総収率で得た。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
C08F 4/642 C08F 4/642
10/00 10/00
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 三塩化チタン試剤とチタノセンリガンドとを反応させるチタノセンの製 造法であって、このとき改良点が、 (i) 式R−M(式中、Rは、2〜8個の炭素原子を有する直鎖または枝 分かれ鎖のアルキル基であり、Mはアルカリ金属である)または式RMgX (式中、Xはハロゲンである)を有する化合物と四塩化チタンとを、非妨害性 溶媒中で実質的化学量論量にて反応させることによって得られる、三塩化チタ ン、前記溶媒、およびMClもしくはMgCl2を含有する反応混合物を前記三塩 化チタン試剤として使用すること;および (ii) 前記工程(i)の反応混合物を前記チタノセンリガンドと直接反応 させてチタノセンを生成させること; にある製造法。 2. 前記三塩化チタンと前記リガンドを−20〜120℃の範囲の温度で反 応させる、請求項1記載の製造法。 3. 前記化合物RMを10〜20℃の初期温度範囲にて四塩化チタンに加え 、その後、反応混合物を34〜40℃にて約1時間加熱する、請求項1記載の製 造法。 4. 前記非妨害性溶媒が炭化水素である、請求項1記載の製造法。 5. 前記非妨害性溶媒がヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレ ン、またはこれらの混合物である、請求項1記載の製造法。 6. 前記エーテル溶媒が環状または環状のエーテルもしくはポリエーテルで ある、請求項1記載の製造法。 7. 非妨害性溶媒がエーテルである、請求項1記載の製造法。 8. 前記非妨害性溶媒がジメチルエーテル、ジエチルエーテル、またはジブ チルエーテルである、請求項1記載の製造法。 9. 三塩化チタン試剤とチタノセンリガンドとを反応させるチタノセンの製 造法であって、このとき改良点が、 (i) 式R−M(式中、Rは、2〜8個の炭素原子を有する直鎖または枝 分かれ鎖のアルキル基であり、Mはアルカリ金属である)または式RMgX (式中、Xはハロゲンである)を有する化合物と四塩化チタンとを、非妨害性 の液体媒体中で実質的化学量論量にて反応させることによって得られる、三塩 化チタン、前記溶媒、およびMClもしくはMgCl2を含有する反応混合物を前 記三塩化チタン試剤として使用すること; (ii) 前記工程(i)の反応混合物と脱プロトン化されたチタノセンリガ ンドとを反応させて、前記液体媒体および前記チタノセンリガンドに対応する チタノセンを含んだ第2の反応混合物を生成させること;および (iii) 必要に応じて、工程(ii)の前記チタノセンを工程(ii)の前記 第2の反応混合物から単離すること; にある製造法。 10. 三塩化チタン反応物とチタノセンリガンドとを反応させるチタノセン の製造法であって、このとき改良点が、 (i) 式R−M(式中、Rは、2〜10個の炭素原子を有する直鎖または 枝分かれ鎖のアルキル基であり、Mはアルカリ金属である)または式RMgX (式中、Xはハロゲンである)を有する化合物と四塩化チタンとを、非妨害性 溶媒中で実質的化学量論量にて反応させることによって得られる、三塩化チタ ン、前記溶媒、およびMClもしくはMgCl2を含有する反応混合物を前記三塩 化チタン反応物として使用すること; (ii) 前記工程(i)の混合物と脱プロトン化されたチタノセンリガンド とを反応させて、前記溶媒、前記チタノセンリガンドに対応するチタノセン、 およびMClもしくはMgCl2を含んだ反応混合物を生成させること; (iii) 工程(ii)の前記反応混合物から前記MClもしくはMgCl2を分 離すること;およびその後に (iv) 工程(ii)の前記反応混合物を使用して、別のチタノセンを製造す ること; にある製造法。 11. (i) n-ブチルリチウムまたはイソブチルリチウムと四塩化チタ ンとを、非妨害性の炭化水素媒体中で実質的化学量論量にて反応させて、三塩 化チタンと塩化リチウムを含有する第1の反応混合物を生成させる工程;およ び (ii) 前記第1の反応混合物とチタノセンリガンドとを非妨害性媒体中で 混合して反応を起こさせ、これによって前記リガンドに対応するチタノセンを 生成させる工程; を含む、束縛された形状のチタノセンを製造する方法。 12. 工程(ii)において生成される前記リガンドに対応する前記チタノセ ンが(CpSA)2-TiCl2、すなわち二塩化[(t-ブチルアミド)(テトラメチルシ クロペンタジエニル)ジメチルシラン]チタンである、請求項11記載の製造法 。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US1996/018666 WO1998022476A1 (en) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | Synthesis of titanocenes |
Publications (1)
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JP2000506545A true JP2000506545A (ja) | 2000-05-30 |
Family
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Family Applications (1)
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JP10523601A Pending JP2000506545A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | チタノセンの合成 |
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JP (1) | JP2000506545A (ja) |
AU (1) | AU719067B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5350723A (en) * | 1992-05-15 | 1994-09-27 | The Dow Chemical Company | Process for preparation of monocyclopentadienyl metal complex compounds and method of use |
-
1996
- 1996-11-22 AU AU11612/97A patent/AU719067B2/en not_active Ceased
- 1996-11-22 JP JP10523601A patent/JP2000506545A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
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AU719067B2 (en) | 2000-05-04 |
AU1161297A (en) | 1998-06-10 |
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