JP2000505899A - 環状面の限界入射角での干渉計測法 - Google Patents

環状面の限界入射角での干渉計測法

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Abstract

(57)【要約】 環状面は、透明な支持板に据え付けられており、検査光束を参照光束に対して回折させる一対の先行および後続の回折光学手段を用い限界入射角で計測される。先行する回折光学手段は、検査光束の各光線をさまざまの回折角で回折させる。それにより、各光線は、透明な支持板を通過した後、環状面に一定の限界角で入射する。後続の回折光学手段は、検査光束の各光線を他の回折角だけさらに回折させ、参照光束と再度一列に並ばせる。

Description

【発明の詳細な説明】 環状面の限界入射角での干渉計測法 技術分野 環状面の計測のために、すれすれの入射角(grazing incidence;以下限界入 射角という。)の干渉法が用いられる。環状面に入射する波面(wavefront)は 、回折光学手段によって形成される。 発明の背景 干渉法による検査面の計測は、一般に、平面または球面に限定されていた。こ れらの面に適合する波面は、容易に造り出すことができるからである。通常、二 つの波面が必要である。検査波面と参照波面とである。両者は、同一の波面とし て始まる。しかし、検査波面と参照波面とは、異なる光路上を進み、その後再結 合する。検査面は、検査波面の光路に沿って配置されている。検査面におけるど のような誤差も、検査波面を参照波面に対して変化させる。これらの波面間の相 違は、再結合された波面によって作り出される干渉縞にはっきりと現われる。 検査波面は、検査面を透過するか、検査面で反射され、比較のための関連情報 をもたらす。非光学的な検査面は、反射によって計測される。その反射は、通常 、入射角が垂直である。検査波面は、検査面の望ましい形態に垂直な入射角で接 近するように形成される。したがって、検査面におけるどのような誤差も、検査 波面の反射後の形状を変化させる。平坦面は、しばしば限界入射角で計測される 。限界入射角では、検査面が平坦な検査波形を対応する平坦な参照波面とは無関 係に光路に沿って折り返す。 最近、この発明者は、検査波面を相対的に形成するための回折光学手段、特に 非平坦面を限界入射角で計測するための回折光学手段の使用法を開発している。 この試みは、Johannes Schwider博士によって先行されている。彼は、1974 年の東ドイツの特許番号106769において、円筒面を限界入射角で計測する ために二つの同一の回折格子を用いることを最初に提案している。二つの回折格 子は、円筒面の軸と一列に並べられる。第1の回折格子は、平坦な初期波面を検 査波面と参照波面とに分割するとともに、検査波面を円筒検査面において一定の 限界入射角で反射するアキシコニック(axiconic)な形態に作り直す。参照波面 は、変化することなく第2の回折格子まで直接に通過する。検査波面および参照 波面は、第2の回折光学手段によって再結合されて、干渉縞を作り出す。 その後の多年間、Schwider博士のアイデアは、実用的な開発がほとんどなされ ていない。実際の検査物のための装備および他の検査面を計測するための回折格 子の精細度(definition)を含む各種の実用的な考慮すべき要件が未解決のまま 残されている。このような以前に放置されていた領域の技術を発展させるための この発明者の成果が、1995年1月19日に出願され、1995年6月7日の 米国特許出願番号08/483737によって置き換えられた米国特許出願番号 08/375499で始まる米国特許出願の一まとまりによって証明される。共 同発明者である他の出願が、1995年7月31日に米国特許出願番号08/8 09161として提出されている。1996年4月12日に共同出願された米国 特許出願番号08/631071は、この技術をさらに発展させるものである。 これらの出願のすべての内容は、参照としてここに取り入れられている。 発明の要約 この発明は、平面、円筒面および円錐面の計測に回折光学手段を適合するとい うこれまでの研究の上に、そのような回折光学手段の使用を環状面の計測にまで 拡張することによって構築されている。新規な回折光学手段は、環状面において 一定の限界入射角で反射するように検査光路に沿う検査光束を作り直す。回折角 は、回折光学手段の各部で変化する。それにより、限界入射角が環状面の湾曲し た部分に沿って一定に維持されるとともに、検査光束をさらに作り直す1または それ以上の据付要素に関する補償が行われる。 環状面(toroid)とも称される環状面(toric surface)は、中心軸の周りを 回る弧状の母線を有する回転面である。弧状の母線は、中心軸の一方の側から延 びる円または円のどのような一部であってもよい。球面は、中心軸から延びる曲 率半径を有する円弧母線によって創生される環状面の特別な例であるとみなされ る。 新規な回折光学手段は、互いに関連するとともに、新規な限界入射角干渉計に おける環状検査面に関連している。一つの実施例は、二つの特に適合された回折 光学手段と、環状検査面のための透明な支持手段とを有する。第1の回折光学手 段は、初期光束を検査光束と参照光束とに分割するとともに、検査光束が環状検 査面の環状の帯部分の各部において一定の限界入射角で反射するよう、検査光束 を参照光束と異なる形態に作り直す。第2の回折光学手段は、環状検査面で反射 した検査光束を参照光束と共通の形態にさらに作り直すとともに、検査光束と参 照光束とを再度結合させて結合光束にする。透明な支持手段は、平面平行板であ ることが望ましく、環状検査面を支持するとともに、検査光束を第1および第2 の回折光学手段の間で伝達する。 両方の回折光学手段は、それぞれの半径と環状の光路によって形成されるそれ ぞれの表面形態とを有している。環状の光路は、回折格子がその半径に伴って変 化する回折角の分だけ検査光束を回折させるよう、回折格子の半径に沿って不等 間隔で配置されている。平坦面、円筒面または円錐面を計測するための従来の技 術においては、全ての回折角が等しい。それ故、透明な支持手段を通る検査光束 の光路は、小さな軸方向の調節以上に検査光束に影響を及ぼすことがほとんどな い。しかしながら、この発明の新規な回折光学手段の変化する回折角は、環状検 査面の軸方向の湾曲した部分全体において一定の限界入射角を維持することが要 求されるのであるが、透明な支持板内での様々な屈折量を作り出す。 二つの回折光学手段と支持板とが共通の光軸に対して垂直な方向に向けられて いるものと仮定すると、検査光束の各光線は、支持板を通過することにより、各 光線が回折された分の角度で変化する量だけオフセットされる。より大きい回折 角は、より大きいオフセット量を生じさせる。新規な回折光学手段の少なくとも 一方の表面形態は、検査光束の透明な支持板での屈折を補償する必要上、環状の 光路間のさらに変化した配置を含む。 検査光束が参照光束に対して回折される回折角の範囲も、いわゆる位相変更( phase shifting)という技術への変化が要求される。この位相変更という技術は 、計測の精度を改良する。位相変更は、検査光束と参照光束との相対位相に関す るより正確な情報を得るために、それらの光束間の光路長を調整することを含む 。この発明の新規な干渉計は、いずれかの回折光学手段の軸方向の位置を調節す ることにより、または検査光束と参照光束との波長を調節することにより、位相 変更を達成している。調節量は、検査光束が相対的に回折される回折角を補償す るように変えられる。 図面の簡単な説明 図1は、環状面を計測するために構成された新規な干渉計の概略側面図である 。 図2は、環状面の赤道近傍に入射する検査光束の一つの光線を示す干渉計の一 部の拡大図である。 図3は、環状面の一端近傍に入射する検査光束の他の光線を示す同様の拡大図 である。 図4は、回折光学手段におけるピッチの変化と光学手段の中心から半径方向へ の距離との関係を示すグラフである。 図5は、一対の回折光学手段によって形成された検査光束の光線の軌跡によっ て計測されるテーパローラーベアリングの環状面を示す図である。 図6は、別の一対の回折光学手段によって形成された検査光束の構成の軌跡に よって計測されるボールベアリングの球面を示す図である。 図7は、他の一対の回折光学手段によって形成された検査光束の光線の軌跡に よって計測されるベアリングの内輪の断面における環状外面を示す図である。 図8は、さらに他の一対の回折光学手段によって形成された検査光束の光線の 軌跡によって計測されるボールベアリングの外輪の断面における環状内面を示す 図である。 発明の詳細な説明 この発明の新規な干渉計は、図1に概略的に描かれたMach-Zenderの配置構造 に適用するのが望ましい。レーザーダイオードまたはヘリーム−ネオン(HeN e)レーザーのような光源10は、干渉性を有する光の発散光束12を作り出す 。コリメータ14は、発散光束を参照光軸18に沿って伝播する平坦な波面(wa vefront)を有する平行な初期光束16に作り直す。 円形の光透過可能な回折格子または二値光学素子のような先行の回折光学手段 20は、一次光束16を参照光束22と検査光束24とに分割する。参照光束2 2は、平坦な波面として平行に維持されている。検査光束24は、先行の回折光 学手段により各光線26からなる収束ビームに作り直される。各光線は、参照光 軸18に対して種々の回折角μでそれぞれ傾斜している。各回折角のうちの二つ の回折角μが図2および図3に示されている。 環状の検査面(toric test surface)34を有する検査対象物32を支持する 透明な平面平行板28は、角光線26を回折角μに伴って増大する量だけ参照光 軸からオフセットする。このオフセットは、平面平行板での屈折によって引き起 こされる。屈折量は、各光線26が平面平行板28に入射する入射角に伴って変 化する。入射角は、この実施例の場合、回折角μと同一である。板28が平面平 行であるから、各光線26は、それが板に入射した角度と同一の角度で、かつ入 射光路と平行である光路に沿って板28から出射する。 検査光束24の種々に傾斜した各光線26は、各光線26間の計測反射性およ び計測感度が同一になるように、環状検査面34から一定の限界入射角(grazin gangle)θで反射するのが望ましい。検査光束24は、環状検査面34で反射し た後、後続の回折光学手段30により、両方の回折光学手段20,30を変化す ることなく通過した参照光束22に適合する平坦な形態に作り直される。軸方向 平面(すなわち、図3および図3の描画平面)における環状検査面34の曲率は 、検査光束24の各光線26を平行な形態に戻るように異なる回折角νで回折す ることが要求される。 参照光束22および検査光束24は、後続の回線光学手段から平行な結合光束 36として出射する。結合光束は、拡散板38に映し出される干渉平坦波面を含 む。拡散板38に形成される干渉縞は、ヌルパターン(null pattern)を作り出 すであろう理論的な環状面からの環状検査面34の誤差を表す。 干渉縞の各計測点での干渉波面間の位相差を変化させるために、後続の回折光 学手段30は、慣用されている位置調節システム40により参照光軸18に沿っ て位置調節可能である。そのような位相変更は、計測の正確さを改良するととも に、近接の計測値を互いに関係付け、かつ干渉縞の残りの部分を関係付ける。位 相変更の種々の増加分Δsが、回折光学手段30の半径方向の各位置に対応して 要求される。しかし、この増加分は、次の不等式によって示すように、光路長差 δλの1波長と2波長との間のどのような有理数(rational fraction)として も選択することができる。 δλ≦Δs≦2δλ ここで、δλは、参照光束22および検査光束24の実際の波長λに関連し、後 続の回折光学手段30の回折角νは、次のとおりである。 δλ=λ/(Secν−1) ズームレンズ44は、拡散板38における干渉図形の像をカメラ46のような 画像記録装置に中継する。この画像は、通常、カメラ46の記録領域を最もよく 満たすように縮小される。カメラ46内において、固定撮像素子または電荷結合 素子(CCD)は、干渉縞をコンピュータ48が処理可能なように記録するのが 望ましい。陰極管、平面パネル装置、またはプリンタのような表示装置50が、 検査面34に関する情報を有用な形態で表示する。形状的な情報に加え、曲率お よび丸みのような誘導可能な計測値も表示可能である。表示に代えて、情報は、 製造過程へのフィードバックのような他の処理に有用なように電気的に貯蔵し、 または伝達することも可能である。 環状検査面34のような回転面である検査面に関し、先行および後続の回折光 学手段20,30は、参照光軸18からの半径方向の距離A(μ)およびA(ν)の 全範囲においてそれらのある瞬間のピッチP(μ)およびP(ν)によって決定され る。変数P(μ),P(ν)の組と変数A(μ),A(ν)の組との両者は、それぞれの回 折角μ,νによりパラメトリカリー(parametrically)に決定される。例えば、 ある瞬間のピッチP(μ),P(ν)は、次のように決定される。 P(μ)=λ/Sinμ または P(ν)=λ/Sinν 演算のために好都合な最初の点は、検査対象物32の赤道上の点である。そこ では、計測の感度を決定する限界入射角θが両方の回折角μ,νと等しい。赤道 52または環状検査面34の他の箇所に入射する光線26が透過する回折光学手 段の対応する半径A(μ),A(ν)は、それぞれの回折角μ,νの関数として次の ように決定される。 ここに、rは赤道52における検査対象物32の半径であり、Rは参照光軸1 8を含む平面上における環状検査面の曲率半径であり、sは回折光学手段20, 30から赤道までの距離であり、tは透明板28の厚さであり、nは板28の屈 折率であり、σ1,σ2は符号の取り決めである。σ1は、検査凸面に関しては+ 1であり、検査凹面に関しては−1である。σ2は、外面計測の場合には+1で あり、内面計測の場合は−1である。 検査面4のいずれの部分における回折角μ,νも、次のように演算することが できる。 μ=θ+Sin-1(z/R) または ν=θ−Sin-1(z/R) ここに、zは赤道52から検査面34の各点までの縦方向の距離である。回折角 μ,νの最大値および最小値は、検査面の縦方向の全高さHをzに代入すること によって演算することができる。例えば、最小および最大回折角μmin、μmaxは 次のように演算することができる。 μmin=θ−Sin-1(H/2R) および μmax=θ+Sin-1(H/2R) 検査面34に対して入射および出射する波面W(μ),W(ν)も、回折角μ,ν の関数として次のように決定される。 ピッチP(μ),P(ν)および半径A(μ),A(ν)は、計測の全範囲において波面の 値をλ/2だけ増加させることによって演算することができる。 回折角μ,νは、次の関係を代入することにより、上記方程式から除去するこ とができる。 Cosμ=(rcAμ+sDμ)/(Aμ2+s2) Cosν=(rcAν+sDν)/(Aν2+s2) ここに、上式における記号rc,DμおよびDνは、前に導かれた変数のいくつ かと次のように関連している。 rc=RCosθ Dμ=(Aμ2+s2−rc2)1/2 Dν=(Aν2+s2−rc2)1/2 これらの代入により、上記波長の方程式は、半径A(μ),A(ν)の関数として 書くことができる。A(μ),A(ν)は、次の方程式においてAμ,Aνとして表 されている。 球面を計測する際の半径A(μ)に対するピッチP(μ)の変化の例が図4に描か れている。ビッチP(μ)は、半径A(μ)が増大すると非直線的な割合で減少する 。 回折角μによって記載された方程式は、回折角νに関して記載された方程式と 透明板28に起因するオフセットに関する項だけ異なる。換言すれば、仮に透明 板がなければ、回折角μ,νで記載された各方程式は同一になる。 検査面34の赤道半径rおよび曲率半径Rが回折光学手段20,30の設計に 関与するので、環状面の絶対的な計測は、初期検度(calibration)に基づいて なされる。初期検度を得るために、既知の寸法を有するマスター環状面が環状検 査面34に代えて据え付けられる。球面の場合において、検査面がより大きいか 、より小さい場合には、屈折力項(power term)が導入される。この屈折力項は 、高い計測精度をもたらす最小二乗法(a least squares polynomial fit)を用 いて求めることができる。 回折光学手段20,30は、感光性材料をレーザー写真術的(holographicall y)に、または写真平版術的(photolithographically)に用いることを含む各種 の方法で作ることができる。同様に、個々の溝は、光学素子を光硬化性樹脂で被 覆し たり、あるいは正確に収束されたレーザービームを照射しながら光学素子を回転 させることによって形成することができる。 参照光束22は、ゼロ次回折オーダー(zero diffractio norder)で回折され るのが望ましく、検査光束24は、一次回折オーダー(first diffraction order )で回折されるのが望ましい。溝間に残っている表面の割合であるデューティー サイクル(duty cycle)と、波長の割合としての溝の深さである位相変更は、干渉 縞の明暗を改良するために、二つのオーダー間のエネルギーがバランスするよう に調節される。すなわち、検査面34での反射損失を補償するために、より多く のエネルギーが1次回折オーダー(検査光束24)に向けられる。 平面平行板28は、検査対象物を支持するための上面54を有している。検査 対象物は、その中心軸を参照軸18と一致させるために平坦な底面56を有して いるのがよい。他の検査対象物では、板28上に固定することが必要であるかも しれないし、あるいは検査対象物の両端を固定するために第2の同様な板が必要 であるかもしれない。中心軸33を参照軸18と一致させるために、中心合わせ 装置(図示せず)を用いるのが望ましい。そのような中心合わせ装置は、透明板 を有する他の適切な据え付け機構と同様に、1996年4月18に共同出願され た米国特許出願番号08/634218に開示されている。この出願は、この発 明において参照として取り入れられている。 位相変更は、参照光束22と検査光束24との間の光路長を調整することを含 む他の各種の方法で達成することができる。例えば、先行の回折光学手段20は 、位相変更を達成するためにそれに対応した量だけ参照軸18に沿って調節して もよい。同様に、光源10は、波長λを初期値λ0から次の範囲内の増分Δλだ け変化させるために、可変波長のダイオードレーザーであってもよい。 Δλ0≦Δλ≦2λ0 ここに、変数Δλ0は、次のように決定される。 Δλ0=λ0 2/OPD そして、ここに変数OPDは、参照光束22と検査光束24との間の光路差であ る。板28を無視し、かつ回折光学手段20,30を等しい距離sで配置した場 合、光路OPDのための単純化された方程式は、次のとおりである。 残りの図5〜図8は、この発明によって計測することができる他の各種の環状 面を示す。それぞれの図には、二つの回折光学手段間を伝播する検査光束の光線 が描かれている。光線は、透明な支持板を通過し、環状面の環状の帯部分全体に 一定の限界角で入射する。 例えば、図5には、中高のローラーベアリング58の計測法が描かれている。 この場合、中高の量は図示のために誇張されている。先行する回折光学手段60 は、検査光束64の各光線62を異なる回折角で回折させる。それ故、各光線6 2は、透明な支持板66を通過した後、環状面68の全域に一定の限界角で入射 する。後続の回折光学手段70は、各光線が参照光束の対応する光線と一致する ように、つまり二つの回折光学手段60,70の共通軸72に沿うように、各光 線を回折させる。 図6において、ボールベアリング78の球面88が、その計測のために透明な 支持板86上に据え付けされている。検査光束84の光線82は、球面88を一 定の限界角で横切るよう、先行する回折光学手段80および後続の回折光学手段 90によって回折される。その後、定められた方向に向けられる。球面の配置に 大きな誤差があると、計測領域が球面88の赤道を含む環状の帯の部分に制限さ れる。球面88の約半分がこの方法で計測可能である。二つの回折光学手段80 ,90の共通参照軸92に沿って球面の位置合わせを行うために、三点支持固定 手段(図示せず)を板86上に据え付けるのが望ましい。 図7および図8には、ボールベアリングの内輪98および外輪118の計測法 がそれぞれ描かれている。図7において、屈折光学手段100,110は、検査 光束104の各光線102を参照軸112と一列に並んだ状態から外れるように 回折させ、環状外面108の環状の帯部分全体に一定の限界入射角で入射させる 。回折光学手段100は、支持板106での屈折を補償するための回折光学手段 110と異なる。 ベアリングの外輪118の環状内面は、図8の検査光束124の光線122に よって同様に計測される。回折光学手段120,130は、環状面128を計測 すべき検査光束を、支持板126を所定の限界入射角で通るように作り直す。し かしながら、他の図に描かれたものと比較すると、光線122は、二つの回折光 学手段120,130の参照軸132に面する環状内面に達することができるよ う、逆符号の回折オーダーで回折される。 先行する実施例の透明な支持板は、位相変更を単純化するために、先行する回 折光学手段と環状検査面との間に配置するのが望ましい。それに代えて、透明な 支持板は、環状検査面と後続の回折光学素子との間に配置してもよく、あるいは 環状検査面の両端部にそれぞれ配置してもよい。前者の場合、同一の回折光学手 段を用いることができる。ただし、光の進行方向が逆である。 この発明の望ましい実施例においては、参照光束が検査光束と共に先行および 後続の回折光学手段を通って伝達される。しかしながら、参照光束は、回折光学 手段とは無関係に伝達し、後で半反射、半透過面を通って検査光束と再結合させ てもよい。後続の回折光学手段は、検査光束および参照光束を共通の光路に沿っ て反射するような反射面で形成してもよい。
【手続補正書】 【提出日】1999年6月11日(1999.6.11) 【補正内容】 請求の範囲 1.初期光束を検査光束と参照光束とに分割するとともに、検査光束を、環状検 査面の環状の帯部分において一定の限界入射角で反射するように、参照光束と異 なる形態に作り直す第1の回折光学手段と、 上記環状検査面で反射した上記検査光束を上記参照光束と共通の形態にさらに 作り直すとともに、上記検査光束と上記参照光束を結合させて結合光線にする第 2の回折光学手段と、 上記環状検査面を支持するとともに、上記第1および第2の回折光学手段間に おいて上記検査光束を伝達する透明な支持手段とを備え、 上記第1、第2の回折光学手段が、それぞれの半径と表面形状とを有し、この 表面形状が、上記検査光束を格子の半径に伴って変化する回折角で回折させるよ う、格子の半径に沿って不等間隔で配置された環状の光路によって形成され、 上記第1、第2の回折光学手段の少なくとも一方の上記表面形状が、上記透明 な支持手段での上記検査光束の屈折を補償するのに必要なさらなる配置的変更を 上記環状の光路間に含む、環状面を限界入射角で計測するための干渉計。 2.上記環状検査面が中心軸を有し、この中心軸の周りに環状検査面が生成され 、上記第1および第2の回折光学手段もそれぞれ軸を有し、上記透明な支持手段 が、上記環状検査面の中心軸を上記回折光学手段の軸の方向に向ける 請求項1の 干渉計。3. 上記透明な支持手段が平面平行板である請求項2の干渉計。4. 上記検査光束が、上記透明な平面平行板での屈折によって上記環状検査面の 中心に対してオフセットさせられた個々の光線によって構成され、上記個々の光 線のオフセット量が、上記回折光学手段の一方の回折角の関数として変化し、上 記透明な支持手段での検査光束の屈折を補償するために必要とされる、上記環状 の光路間の配置的変更により、上記第1、第2の回折光学手段の表面形状が互い に相違させられている請求項2の干渉計。5. 上記環状検査面が、その中心軸に対して垂直な平面上において半径がrであ る赤道と、その中心軸を含む縦平面上におけろ曲率半径Rとを有し、上記回折光 学手段の一方の回折角νが、この一方の回折光学手段の半径A(ν)と次の関係 で関連している請求項2の干渉計。 ここに、θは検査光束の環状検査面についての限界入射角であり、sは当該一方 の回折光学手段から検査面の赤道までの距離であり、σ1、σ2は異なる環状面に 対する符号の取り決めである。6. 上記環状検査面が、その中心軸に対して垂直な平面上において半径がrであ る赤道と、その中心軸を含む縦平面上における曲率半径Rとを有し、上記透明な 支持手段が、厚さtおよび屈折率nを有する平面平行板であり、上記透明な支持 手段が、上記回折光学手段の一方と上記環状検査面との間に配置され、当該一方 の光学回折手段の回折角μが、同回折光学手段の半径と次の関係で関連している 請求項2の干渉計。 ここに、θは検査光束の環状検査面についての限界入射角であり、sは当該一方 の回折光学手段から上記赤道までの距離であり、σ1、σ2は異なる環状面に対す る符号の取り決めである。7. 上記透明な支持手段が、上記検査光束を上記環状検査面への光路上に屈折さ せるために、上記第1の回折光学手段と上記環状検査面との間に配置されており 、上記第2の回折光学手段を上記環状検査面の中心軸に沿って移動させて位相変 更を達成する位置調節システムをさらに備えている請求項2の干渉計。8. 上記初期光束を形成するための波長可変光源をさらに備え、上記光源が、上 記初期光束の波長を変えることにより、位相変更を達成するための調節が可能で ある請求項1の干渉計。9. 初期光束を検査光束と参照光束とに分割する工程と、 第1の回折光学手段により検査光束を参照光束に対し第1の回折光学手段の半 径に伴って変化する回折角のある範囲だけ回折させる工程と、 環状検査面の環状の計測帯部分に上記検査光束を照射する工程と、 上記検査光束が上記環状検査面の環状計測帯部分全体に一定の限界入射角で入 射するよう、上記第1の回折光学手段の回折角を調節する工程と、 第2の回折光学手段により検査光束を参照光束に対し上記第2の回折光学手段 の半径に伴って変化する回折角のある異なる範囲だけ再度回折させる工程と、 上記検査光束と上記参照光束とを再結合させて、上記環状面のヌル状態からの 誤差を示す干渉縞を作り出す工程とを備えた環状面の計測法。10. 上記環状面を透明板で支持する工程と、上記透明板に上記検査光束を透過 させる工程とをさらに備え、上記環状面が中心軸を有し、上記透明板での屈折が 、上記検査光束の各部を上記回折光学手段のうちの一方の回折角に伴って変化す る量だけ上記中心軸から半径方向にオフセットさせ、上記調節工程が、上記第1 の回折光学手段の回折角を調節して、上記透明板での屈折を補償することを含む 請求項9の計測法。11. 上記環状面が中心軸を有し、上記第1および第2の回折光学手段がそれぞ れの軸を有し、上記環状面の中心軸を上記第2の回折光学手段の軸と一列に並べ る工程と、上記第1および第2の回折光学手段の一方を、位相変更を達成するた めにその軸に沿って移動させる工程とをさらに備えた請求項9の計測法。12. 上記第2の回折光学手段を、位相変更を達成するためにその軸に沿って移 動させる工程をさらに含む請求項11の計測法。13. 位相変更の各種の増分が、上記検査光束の各種の回折角に応じて必要とさ れる請求項11の計測法。14. 初期光束の波長を変化させて、位相変更を達成する工程をさらに備えた請 求項9の計測法。15. 中心軸を有する環状検査面を支持するための透明板と、 検査波面を、上記環状検査面のある領域全体において限界入射角で反射するよ う、第1の形態から第2の形態に作り直す第1の回折光学手段と、 上記検査波面を上記環状検査面での反射後に上記第1の形態にさらに作り直す 第2の回折光学手段とを備え、 上記第1および第2の回折光学手段が、それぞれの軸と、それぞれの軸からの 半径方向の距離に伴ってピッチが変化する表面形状とを有し、 上記第1,第2の回折光学手段の上記表面形状が、上記透明板での上記検査光 束の屈折を補償するのに必要とされるより一層のピッチの変更により、互いに相 違している、限界入射角干渉計における環状面の計測のための据付システム。16. 上記第1、第2の回折光学手段が、それぞれの軸からの半径方向の距離に 伴って変化するそれぞれの回折角で上記検査光束を回折させる請求項15の据付 システム。17. 上記透明板での屈折が、上記検査光束の各部を、上記回折光学手段のうち の一方の回折角に伴って変化する量だけ、上記環状検査面の中心軸から半径方向 へオフセットさせ、上記透明板が、上記第1の回折光学手段と上記環状検査面と の間に配置され、上記第1の回折光学手段が、上記透明板での屈折を補償するの に必要であるより一層のピッチの変化を含む請求項16の据付システム。18. 上記第2の回折光学手段に連結され、上記第2の回折光学手段を、位相変 更を達成するためにその軸に沿って移動させる位置調節システムをさらに備えた 請求項16の据付システム。19. 初期光束を検査光束と参照光束とに分割する工程と、 上記検査光束を、上記参照光束との一列状態から外して、上記検査面のある領 域に限界入射角で反射する光路に沿う方向に向ける工程と、 上記参照光束を上記検査光束と無関係の光路に沿う方向に向ける工程と、 上記検査光束が上記参照光束と再び一列に並ぶように、上記検査光束を回折光 学手段により上記回折光学手段の半径に伴って変化する回折角のある範囲の分だ け回折させる工程と、 上記検査光束と上記参照光束とを再度結合させ、上記環状面の誤差を示す干渉 縞を作り出す工程と、 位相変更を達成するために、上記検査光束と上記参照光束との間の光路長差を 、上記検査光束の回折角に伴って変化する増分だけ調節する工程とを備えた環状 面の計測法。20. 上記調節工程が、上記回折角に伴って変化する増分Δsだけ上記回折光学 手段を移動させることを含む請求項19の計測法。21. 上記増分Δsが、次の不等式で示すように、光路差δλの1波長と2波長 との間の値であり、 δλ≦Δs≦2δλ 光路差δλが、参照光束および検査光束の波長λと、回折光学手段の変化する回 折角νとに次のように関連している請求項20の計測法。 δλ=λ/(Secν−1)22. 上記調節工程が、上記参照光束および上記検査光束の波長λを初期値λ0 から上記回折角に伴って変化する増分Δλの分だけ変化させる請求項19の計測 法。23. 上記増分Δλが、次の範囲内から選択される請求項22の計測法。 Δλ0≦Δλ≦2Δλ0 ここに、変数Δλ0は、光路差OPDと初期波長λ0との関数として次のように決 定される。 Δλ0=λ0 2/OPD

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.初期光束を検査光束と参照光束とに分割するとともに、検査光束を、環状検 査面の環状の帯部分において一定の限界入射角で反射するように、参照光束と異 なる形態に作り直す第1の回折光学手段と、 上記環状検査面で反射した上記検査光束を上記参照光束と共通の形態にさらに 作り直すとともに、上記検査光束と上記参照光束を結合させて結合光線にする第 2の回折光学手段と、 上記環状検査面を支持するとともに、上記第1および第2の回折光学手段間に おいて上記検査光束を伝達する透明な支持手段とを備え、 上記第1、第2の回折光学手段が、それぞれの半径と表面形状とを有し、この 表面形状が、上記検査光束を格子の半径に伴って変化する回折角で回折させるよ う、格子の半径に沿って不等間隔で配置された環状の光路によって形成され、 上記第1、第2の回折光学手段の少なくとも一方の上記表面形状が、上記透明 な支持手段での上記検査光束の屈折を補償するのに必要なさらなる配置的変更を 上記環状の光路間に含む、環状面を限界入射角で計測するための干渉計。 2.上記環状検査面が中心軸を有し、この中心軸の周りに環状検査面が生成され 、上記第1および第2の回折光学手段もそれぞれ軸を有している請求項1の干渉 計。 3.上記透明な支持手段が、上記環状検査面の中心軸を上記回折光学手段の軸の 方向に向ける請求項2の干渉計。 4.両方の回折光学手段および環状検査面が、共通の軸に直角な方向に向けられ ている請求項3の干渉計。 5.上記透明な支持手段が平面平行板である請求項3の干渉計。 6.上記検査光束が、上記透明な平面平行板での屈折によって上記環状検査面の 中心に対してオフセットさせられた個々の光線によって構成されている請求項3 の干渉計。 7.上記個々の光線のオフセット量が、上記回折光学手段の一方の回折角の関数 として変化する請求項6の干渉計。 8.上記透明な支持手段での検査光束の屈折を補償するために必要とされる、上 記環状の光路間の配置的変更により、上記第1、第2の回折光学手段の表面形状 が互いに相違させられている請求項7の干渉計。 9.上記第1の回折光学手段が、上記参照光束を上記初期光束に対して変化させ ることなく透過させる請求項1の干渉計。 10.上記両方の回折光学手段が、上記参照光束を零次の回折オーダーで回折さ せ、かつ上記検査光束を一次の回折オーダーで回折させる請求項9の干渉計。 11.上記環状検査面が、その中心軸に対して垂直な平面上において半径がrで ある赤道と、その中心軸を含む縦平面上における曲率半径Rとを有する請求項3 の干渉計。 12.上記回折光学手段の一方の回折角νが、この一方の回折光学手段の半径A (ν)と次の関係で関連している請求項11の干渉計。 ここに、θは検査光束の環状検査面についての限界入射角であり、sは当該一方 の回折光学手段から検査面の赤道までの距離であり、σ1、σ2は異なる環状面に 対する符号の取り決めである。 13.上記透明な支持手段が、厚さtと屈折率nを有する請求項11の干渉計。 14.上記透明な支持手段が、上記回折光学手段の一方と上記環状検査面との間 に配置され、当該一方の光学回折手段の回折角μが、同回折光学手段の半径と次 の関係で関連している請求項13の干渉計。 ここに、θは検査光束の環状検査面についての限界入射角であり、sは当該一方 の回折光学手段から上記赤道までの距離であり、σ1、σ2は異なる環状面に対す る符号の取り決めである。 15.上記透明な支持手段が、上記検査光束を上記環状検査面への光路上に屈折 させるために、上記第1の回折光学手段と上記環状検査面との間に配置されてい る請求項3の干渉計。 16.上記第2の回折光学手段を上記環状検査面の中心軸に沿って移動させて位 相変更を達成する位置調節システムをさらに備えている請求項15の干渉計。 17.上記初期光束を形成するための波長可変光源をさらに備えている請求項1 の干渉計。 18.上記光源が、上記初期光束の波長を変えることにより、位相変更を達成す るための調節が可能である請求項17の干渉計。 19.中心軸を有する環状検査面を支持するための透明板と、 検査波面を、上記環状検査面のある領域全体において限界入射角で反射するよ う、第1の形態から第2の形態に作り直す第1の回折光学手段と、 上記検査波面を上記環状検査面での反射後に上記第1の形態にさらに作り直す 第2の回折光学手段とを備え、 上記第1および第2の回折光学手段が、それぞれの軸と、それぞれの軸からの 半径方向の距離に伴ってピッチが変化する表面形状とを有し、 上記第1,第2の回折光学手段の上記表面形状が、上記透明板での上記検査光 束の屈折を補償するのに必要とされるより一層のピッチの変更により、互いに相 違している、限界入射角干渉計における環状面の計測のための据付システム。 20.上記第1の回折光学手段が、上記検査光束を上記環状検査面の環状帯部分 で反射するように作り直す請求項19の据付システム。 21.上記回折角が、上記環状の帯部分全体で一定である請求項20の据付シス テム。 22.上記第1、第2の回折光学手段のそれぞれの軸が、互いに一列に並び、か つ上記環状検査面の中心軸と一列に並んでいる請求項19の据付システム。 23.上記透明板が、平面平行板である請求項19の据付システム。 24.上記第1、第2の回折光学手段が、それぞれの軸からの半径方向の距離に 伴って変化するそれぞれの回折角で上記検査光束を回折させる請求項19の据付 システム。 25.上記透明板での屈折が、上記検査光束の各部を、上記回折光学手段のうち の一方の回折角に伴って変化する量だけ、上記環状検査面の中心軸から半径方向 へオフセットさせる請求項24の据付システム。 26.上記透明板が、上記第1の回折光学手段と上記環状検査面との間に配置さ れている請求項25の据付システム。 27.上記第1の回折光学手段が、上記透明板での屈折を補償するのに必要であ るより一層のピッチの変化を含む請求項26の据付システム。 28.上記第2の回折光学手段に連結され、上記第2の回折光学手段を、位相変 更を達成するためにその軸に沿って移動させる位置調節システムをさらに備えた 請求項26の据付システム。 29.初期光束を検査光束と参照光束とに分割する工程と、 第1の回折光学手段により検査光束を参照光束に対し第1の回折光学手段の半 径に伴って変化する回折角のある範囲だけ回折させる工程と、 環状検査面の環状の計測帯部分に上記検査光束を照射する工程と、 上記検査光束が上記環状検査面の環状計測帯部分全体に一定の限界入射角で入 射するよう、上記第1の回折光学手段の回折角を調節する工程と、 第2の回折光学手段により検査光束を参照光束に対し上記第2の回折光学手段 の半径に伴って変化する回折角のある異なる範囲だけ再度回折させる工程と、 上記検査光束と上記参照光束とを再結合させて、上記環状面のヌル状態からの 誤差を示す干渉縞を作り出す工程とを備えた環状面の計測法。 30.上記環状面を透明板で支持する工程と、上記透明板に上記検査光束を透過 させる工程とをさらに備えた請求項29の計測法。 31.上記環状面が中心軸を有し、上記透明板での屈折が、上記検査光束の各部 を上記回折光学手段のうちの一方の回折角に伴って変化する量だけ上記中心軸か ら半径方向にオフセットさせる請求項30の計測法。 32.上記調節工程が、上記第1の回折光学手段の回折角を調節して、上記透明 板での屈折を補償することを含む請求項31の計測法。 33.上記環状面が中心軸を有し、上記第1および第2の回折光学手段がそれぞ れの軸を有し、上記環状面の中心軸を上記第2の回折光学手段の軸と一列に並べ る工程をさらに備えた請求項29の計測法。 34.上記第1および第2の回折光学手段の一方を、位相変更を達成するために その軸に沿って移動させる工程をさらに備えた請求項33の計測法。 35.上記第2の回折光学手段を、位相変更を達成するためにその軸に沿って移 動させる工程をさらに含む請求項34の計測法。 36.位相変更の各種の増分が、上記検査光束の各種の回折角に応じて必要とさ れる請求項34の計測法。 37.初期光束の波長を変化させて、位相変更を達成する工程をさらに備えた請 求項29の計測法。 38.初期光束を検査光束と参照光束とに分割する工程と、 上記検査光束を、上記参照光束との一列状態から外して、上記検査面のある領 域に限界入射角で反射する光路に沿う方向に向ける工程と、 上記参照光束を上記検査光束と無関係の光路に沿う方向に向ける工程と、 上記検査光束が上記参照光束と再び一列に並ぶように、上記検査光束を回折光 学手段により上記回折光学手段の半径に伴って変化する回折角のある範囲の分だ け回折させる工程と、 上記検査光束と上記参照光束とを再度結合させ、上記環状面の誤差を示す干渉 縞を作り出す工程と、 位相変更を達成するために、上記検査光束と上記参照光束との間の光路長差を 、上記検査光束の回折角に伴って変化する増分だけ調節する工程とを備えた環状 面の計測法。 39.上記調節工程が、上記回折角に伴って変化する増分Δsだけ上記回折光学 手段を移動させることを含む請求項38の計測法。 40.上記増分Δsが、次の不等式で示すように、光路差δλの1波長と2波長 との間の値である請求項39の計測法 δλ≦Δs≦2δλ 41.光路差δλが、参照光束および検査光束の波長λと、回折光学手段の変化 する回折角νとに次のように関連している請求項40の計測法。 δλ=λ/(Secν−1) 42.上記調節工程が、上記参照光束および上記検査光束の波長λを初期値λ0 から上記回折角に伴って変化する増分Δλの分だけ変化させる請求項38の計測 法。 43.上記増分Δλが、次の範囲内から選択される請求項42の計測法。 Δλ0≦Δλ≦2Δλ0 ここに、変数Δλ0は、光路差OPDと初期波長λ との関数として次のように決 定される。 Δλ0=λ0 2/OPD
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