JP2000504124A - 光導波路構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 光ファイバには長手方向に延びる溝（１１，１２）が作られていて、それがクラッド領域（２）を通ってコア（３）に向って延びている。この溝がガラスで作られた電極構造（２０ａ，ｂ）を受入れ、この構造には凸縁（トング）（２３ａ，ｂ）があって溝にはめ合い、その上には金属電極ストリップ（２４ａ，ｂ）が形成されている。このストリップ（２４ａ，ｂ）の間に印加された電位差がコア内に電子光学効果を誘起できる。

Description

【発明の詳細な説明】 光導波路構造 発明の分野 この発明は光導波路構造であって、電子光学効果を得るために電界を印加する ことができ、かつ光ファイバへの特別な応用ができるものに関する。背景 リチウムナイオベートは印加電界に応答してその光学特性を変え、電子光学変 調器ともしくは非線形光学素子として、とくに光ファイバ内で使用できることが 知られている。しかしながら、いくつもの問題点があり、とくに標準ファイバと 接続されたときの大きな接続（結合）損失と光屈折損傷しきい値が低いこととが あり、これがガラス状材料の電子光学効果、とくにシリカについての研究を刺戟 した。 熱的な支援を加えたシリカのポーリング（ｐｏｌｉｎｇ）がバルクのシリカと 光ファイバの両方に電子光学係数をもたらすことが知られており、参考文献とし てL.Li & D.N.Payne“Permanently-Induced Linear Electro-Optic Effect in S ilica Optical Fibres”,Dig.Conf.Integrated and Guided Wave Optics,1989,O SA,Parer TuAA2-1(1989)をあげる。しかし、このやり方でもたらされた係数は十 分に大きくはなく、実用デバイスを組立てることはできない。 最近になってゲルマノシリケートファイバで光感応性を紫外（Ｕ．Ｖ．）光に 対してもつものが入射紫外線によって光励起されて、リチウムナイオベートと比 較できる電子光学係数を作り出すことができることが見つけられた。参考文献と して、T.Fujiwara,D.Wong,Y.Zhao,S.Fleming,V.Grishina & S.Poole,“UV-Excit ed Poling and Electrically Tunable Bragg Grating in Germanosilicate Fibr e” ,Postdeadline Paper OFC'95(Feb'95)をあげる。このＵ．Ｖ．技法はファ イバ内にグレーテングや他の構造を書込みできるようにする点で熱的ポーリング よりも著しい別の特徴を備えている。 ファイバに対して十分大きな印加電界を得るために、以前に提案されたのは従 来形のゲルマノシリケートファイバであって比較的大きな屈折率をもつＧｅをド ープしたコアが比較的小さな屈折率のＳｉＯ₂クラッド層によって囲まれた構成 のものを変形して、クラッド層内に延在する開口（アパーチャ）を備えるように し、そこに電極を受け入れて、金属線がコアに両側でほぼ平行に走るようにする ものであった。電極をコアに近づけてクラッド層内部に置くことにより、十分に 高い電界がコアをまたいで生じ、コアの屈折率内に変化がもたらされる。参考文 献としてS.C.F1eming,T.Fujisawa and D.Wong“UV Excited Poling of Germanos ilicate Fibre ”OSA'95 Photosensitive non-linearity in Glass waveguides- Fundamentals and Applications,OSA Technical Digest Vol.22 1995がある。こ のファイバは、１対の孔がプレフォームの端面でコアに近いところにしかも互に コアを横切って直径方向に位置してあけられて、組立てがされていた。このプレ フォームは次に通常のやり方でファイバに引かれてファイバを形成し、コアの直 径が８μｍ、電極を受入れる開口間の間隔が１８μｍとなっていた。この開口は 直径が７０μｍ程度であり、また電極ワイヤの直径は５０μｍ程度であった。電 極の長さは１列では６ｃｍであった。 この構造が不具合なのは、形成後のファイバ内に電極が挿入されなければなら ないことである。電極ワイヤは非常に直径が小さいものであり、したがって取扱 いがむづかしい。さらに加えて、構造が非常に小さく、電極については接触の危 険を回避するためにデバイスの両端にある開口の外までそれを引き延ばしておく 必要があり、したがって長い接続リードを必要とした。ファイバの端面内にリー ドを入れることは通常の光ファイバとこのファイバとをスプライスするのを非常 に困難とし、光回路内に直接には取り込めなくする。通常のやり方のスプライス に使用できず、その理由は必要とされる熱が孔の中の空気を膨張させ、ひずみを 生じさせ、熱軟化したファイバのガラスを破損する原因となることである。また 、孔は電極ワイヤがはめ込まれるにはそれよりも大きな直径である必要があり、 その結果、ファイバのコアから一定の距離に保てないことになる。これが使用の 際に、ファイバに沿って加えられる電界の不均一を生じさせる。 ファイバのクラッド層の部分的な除去はUS5,265,178で提案されており、変調 の目的で光ファイバの近くにドープしたポリマが置けるようにすることを目的と しており、コアに電界を加えるためではない。プレーナ（平面状の）構造で変調 用の電極を備えたものが文献“Low-loss Strain Induced Optical Waveguides i n Strontium Barium Niobate at 1.3 μm wavelength ”,J.M.Marx et al Appl. Phys.Letts.66(3)January 1995,pp274-276に提案されている。発明の要約 この発明は、違った、もっと丈夫な構造で先行技術の上述の不都合を克服する ものを提供する。 この発明によると、光ファイバ導波路構造であって次の構成のものが提供され る：コアとコアの周りのクラッド層とを含む延在する導波路本体と、ただし、こ の本体には長手方向に延在する第１と第２の領域とを含んだ外側表面があり、こ の第１の領域は第２の領域よりもコアに近いところにあるとし、またコアをまた いで電界を加えるために第１の領域上にある電極とから成る。 本体の外側表面には長手方向の溝があり、第１の領域がこの溝の中に置かれて いる。 電極手段は延在する電極支持体であって、溝の中に延びたものと、その長さに 沿って延びる支持体上の導電領域とで成る。この支持体は溝の中にはめ合う直立 した凸縁（トング）を備えた延在する本体部材を含んでいる。この本体はガラス で作ることができ、導電領域はこのガラス上に作られた金属のコーテングを含ん でいてよい。 この発明によると、電極は装置中に細線を通す必要がなく、すぐにはめ合いが でき、これが製造を大幅に簡単にしている。 代って、電極手段は第１の領域上に、メタライズした層のような、蒸着技法で 形成された導電層で構成されてもよい。溝は堆積に対するマスク効果を生じさせ るために使用できて、第１の領域上に金属が選択的に形成できるようにする。 この発明による構造はシリカガラスで作られたコアとクラッドとを含む光ファ イバ導波路に対して特別な応用があり、この場合にコアはＧｅかＢでドープされ ていて、この構造がＵ．Ｖ．光に対して光感応性を示すようにしている。しかし 、この発明は数多くの他の材料システムにも幅広く応用できる。 この発明による構造は位相変調器として有利な使用ができ、十分に小さく作れ るので、ファイバ構造は単一モード伝送として動作できるように作られる。 こ の発明による導波路はプレフォームを引いて形成することができ、この発明は導 波路構造を組立てる方法を含み、この方法は：導波路クラッド層を形成するため の材料によって囲まれた導波路コアを形成するための材料でプレフォームを準備 し、このプレフォームは第１と第２の領域を含む外側の表面を備え、第１の領域 は第２の領域よりもコア材料の近くにあり、プレフォームを引いてプレフォーム と同じおおよその断面構成をもつが、延びた長さと小さくなった横方向寸法をも ち、第１と第２の領域はその長さの長手方向に走っているような光ファイバ導波 路を作るようにし、また外側の表面の第１の領域に長手方向に延びる電極を用意 することで成る。 この発明はこの方法で使うように構成されたプレフォームを含む。図面の簡単な説明 この発明をより完璧に理解するために、その実施例を上記Ｆｌｅｍｉｎｇらに よって記述された先行技術のデバイスと対比し、添付の図面を参照しながら以下 に記述していく。 図１は、先行技術の導波路構造の断面図である。 図２は、図１に示したデバイスの長手方向断面図である。 図３は、この発明による導波路構造を製造するのに使用するためのプレフォー ムを示す。 図４は、この発明による導波路と関連の電極構造の１つとについて短い長さの ものの斜視図を模式的に示した。 図５は、図４に示した導波路に対応する導波路の例についての断面の写真であ る。 図６は、この発明の例による全体の導波路構造の断面図である。 図７は、通常の光ファイバに両端で溶融スプライスされたこの発明によるファ イバを示す。 図８は、ファイバの溝内に電極を堆積させる別のやり方を示す。 図９は、電極堆積後に絶縁材料で充填した溝をもつ図８のファイバを示す。 図１０は、この発明の光ファイバの別な実施例の断面図で単一のほぼ矩形の溝 をもつものを示す。 図１１は、この発明の別な実施例で、フィラメント状電極を含む曲線状の溝を もつものを示す。 図１２は、この発明のテープファイバの断面を示す。 図１３は、この発明の別のテープファイバの横断面を示す。 図１４は、この発明のファイバの断面図で、同じ側からファイバ内に入る２つ の溝のあるものを示す。詳細な記述 図１と２とを参照すると、従来技術の構造が前掲Flemingらによって開示され たように示されている。シリカ応用ファイバ１は図１では横断面が示されており 、コア領域３はコア直径が８μｍで、外径が１２５μｍをもつＳｉＯ₂クラッド 層領域２によって囲まれている。クラッド層領域２はコア３よりも小さな屈折率 をもち、今日よく知られている方法でコアに沿って光が導波される。コアはまた 開口４，５を含み、それらがファイバの長手方向に走っていて、コアを中心に直 径方向に対向した位置にある。この開口は直径が７０μｍであり、直径５０μｍ の電極ワイヤ７，８を受入れている。この導波路構造は図１に示したのと概ね同 じ形をしたプレフォームを引いて作られ、開口４，５は引延し工程の前に孔あけ をして作られている。 この導波路構造は電極がコアの近くに置けるという点で利点がある。一例では 、孔の間隔は１８μｍであり、１００Ｖ／μｍという高電界強度を得ることがで きる。 しかしながら、この構造には数多くの難点がある。電極の小直径はそれが機械 的に取扱いを非常にむづかしくすることを意味し、開口４，５内に挿入すること がむづかしい。両電極ともに構造の同じ端から延びているのが望ましいが、小直 径が原因して、裸の電極ワイヤが互に接触して短絡回路を作るという大きな危険 がある。この理由により、図２に示すようにワイヤを反対側に引延ばすことにす るのが普通である。この構造の典型的な長さは６ｃｍであり、その結果、ワイヤ はこの構造の外部で一緒にされて電源にもってくる必要があり、裸の電極ワイヤ を外部で張り延す必要があるという、デバイスを実用的でなくする不利益を伴う 。また、電極ワイヤを孔の中にはめ込む必要があるので、必然的にゆるゆるとな り、その結果、コアからの間隔がファイバの長さに沿って変化してしまうことに なる。 これはファイバの長さに沿ってコアをまたいで加えられる電界が不均一となる結 果をもたらす。さらに、通常のファイバに対して、突出している電極を有するフ ァイバをスプライスすることはむづかしい。溶融スプライス法は孔４，５の中の 空気の膨張が原因して問題を生じさせることになり、通常の溶融スプライスに対 して使われる加熱によって作られる軟かなガラスを曲げてしまう。 この発明はこういった問題に解決を与える。 図３を参照すると、プレフォームが示されていて、これからこの発明による構 造をもつ導波路が作られる。このプレフォームはシリガラス１のほぼ円筒状のブ ロックで成り、そこには中央のＧｅかＧｅとＢをドープした領域３が含まれてい て、この領域が低ドーパント濃度をもつ領域２によって囲まれた相対的に高い屈 折率の導波路コア用の材料となっており、領域２は最終的な導波路の取囲みクラ ッド層のための材料を用意している。このプレフォームにはミリング加工がされ て、対向する平行平面状の表面領域９，１０を形成している。窪んだ溝の領域１ １，１２が平らな表面領域９，１０からコア領域３に向って延びている。 つぎに、プレフォームは通常の技術によって引き延ばされて光ファイバを形成 するようにされ、その短い長さのものを図４の参照番号１３で示した。このファ イバはプレフォームとほぼ同じ形をしているが、その寸法はプレフォームと比べ ると長さが延びているのでぐんと小さい。横断面で見ると、このファイバは比較 的広幅の寸法ｂを第１の方向にもち、また比較的狭い寸法ｗを第１の方向と直角 の第２の方向にもっている。２つの溝１１，１２で深さがｄのものが、平らな平 面領域９，１０からファイバの長さに沿ってコア３に向って延びており、この溝 は幅ｅをもつ。溝１４，１５の底はコアからそれぞれｆ_1'，ｆ₂だけ離れている 。平らな表面領域９，１０はファイバの長さに沿って延びるカーブのついた円筒 状表面領域１６，１８に接続している。この構造の寸法例を次表に示す。 この例ではクラッド層材料２の屈折率は１．４５４であり、コアとクラッド層 の屈折率間の差δｎは０．０１である。この導波路のサンプルの写真が図５に示 されている。以上のことから、溝１１，１２の底は光ファイバ導波路本体の第１ の表面領域を形成し、また本体の外側表面のその他の部分、すなわち平らな表面 領域９，１０とカーブした表面領域１６，１７とが第２の表面領域を形成し、そ れが第１の表面領域よりもコアから離れて位置していることが分るであろう。 この構造は電極が各溝１１，１２内に、第１の表面領域上でコア３をまたいで置 くことができる。さらに、電極はコアから等しくない距離に置けるのであり、望 むならば非対称電界を作るためにｆ₁≠ｆ₂となっている。 電極構造２０の適切な形は図４に示してあり、紫外光に対して透明なガラスで 作られた延在する支持体で成り、それがエッチングされ、ミリング加工され、の こぎりの刃状とか他の形に切り込まれて、長く延びた対称のチャンネル２１，２ １を作り、このチャンネルが直立する凸縁（トング）２３を規定し、その上には 金属のコーテング２４が堆積されている。金属のコーテング２４はチャンネル２ １，２２の形成に先行して、通常のホトリソグラフィ技術を用いて堆積できる。 支持体２０は幅がｐ、高さがｑで、各チャンネル２１，２２は幅がｒ、深さがｓ である。寸法パラメータの例を次表に示す。 これから支持体２０の凸縁２３はその寸法が溝１２にはめ合うものであることが 分ると思う。 同じような支持体が凸縁を備えて用意されており、この凸縁は溝１１にはめ合 うものであり、その構造が図６に断面として示されていて、そこでは電極支持体 はそれぞれ２０ａ，ｂとしてある。図６から分ることは、金属の層２４ａ，ｂが すぐに溝１１，１２内に挿入できて、コアとに近いところに置かれて、それによ り電界がその光特性を変えるためにコアをまたいで加えられるようにしている。 金属層２４ａ，ｂは支持体の側端上の外側表面２５ａ，ｂ上にまで支持体２０ａ ，ｂの端で走ることができて、通常の外部接続をとるために外側の接点パッドを 作 るようにしている。 この構造を組立てることは記述した先行技術に比べて比較的簡単であり、その 理由は、単に構成部品を一組に押し込むだけでよく、以前のように電極を通す面 倒な作業がいらないことにある。 前述のように、この構造のコアは紫外光に対して光感応性をもつ。ＧｅかＧｅ とＢかでドープしたときは、波長２４４ｎｍで放射に対して光感応性となる。そ の結果、もし必要であれば、屈折率Ｂｒａｇｇグレーテングが位相マスクを用い てコア内に書込みできる。参考文献として、G.Meltz et al “Formation of Bra gg Gratings in Optical Fibres by Transverse Holographic Method”Opt.Lett .Vol.14,No.15,15,823(1989). さらにファイバの中に有極性構造が記録できるの であって、それは前提Ｆｕｊｉｗａｒａらの記述したやり方で層２４ａ，ｂによ って形成された電極間に電界を印加して紫外光パターンを記録することにより可 能となる。ファイバポーリング方法の詳細については文献（“Phase material s econd-harmonic generation by periodic poling of fused silica”R.Kashyap et al,Appl.Phys.Lett.64(11),14March 1994 pp1332-1334; “High second-orde r nonlinearities in poled silicate fibres”P.G.Kazansky et al,Optics Let ters,15 May 1994,Vol.19,No.10,pp701-703 and “Electro-optic phase modula tion in a silica channel waveguide”,A.C.Liu et al,Optics Letters,Vol.1 9,No.7,1 April 1994,pp466-468）に記載されている。結果として得られる屈折 率グレーテングは電界の印加によって同調をとることができ、電界は金属層２４ ａ，ｂに電圧を加えることによりコアの屈折率を変えることになる。さらに、こ のデバイスはＢｒａｇｇグレーテングが記録されていないときは位相変調器とし て使用することができる。印加電界はコアの屈折率を変え、したがってファイバ に沿って進行する光信号に対して位相シフトを導入する。これがＭａｃｈ−Ｚｅ ｈｎｄｅｒ干渉計とかその他の光デバイスの利点と一緒に使用できる。 この発明による構造は、長さの長い状態で製造できるという特長を備えており 、例えば５０ｃｍ以上が作れ、これに対して従来技術では１０ｃｍを越えるデバ イスを構築することはむづかしかった。 この構造はすぐに通常の光導波路とスプライスでき、図７は図６を参照して記 述したところにより構築されたある長さの導波路構造３０が、シリカ応用光ファ イバのある長さのもの３１，３２にスプライスされたものを示す。溶融スプライ スが３３と３４とに当業者によく知られた通常の技法によって形成されている。 電極ワイヤ３５，３６は金属層２４ａ，ｂに接続され、それが図６を参照して記 述した表面２５ａ，ｂにまで走っている。このようにして、この構造の端は電極 ワイヤがなく、すぐに溶融スプライス法により、あるいは通常のバットジョイン ト技法により光ファイバ３１，３２に接合できる。図７には、ワイヤ３５，３６ が導波路構造の同じ端で示されているが、両端にあってもよい。 電極構造を形成する別のやり方が図８と９とに示されている。この例では、メ タライズした層が溝１１，１２内に直接形成されている。図８を見ると、金が通 常の技術で蒸着されていて、この技術は真空チャンバ（図示せず）内で電力源3 ８により駆動される抵抗ヒータ３７を用いる。蒸気は矢印３９の方向に進んで第 １の表面領域、すなわち溝１２の底に堆積がされる。同じような堆積が溝１１の 底の上にもされる。金の層は溝１１，１２の側壁上には著しく堆積されずに、平 面状の表面９，１０上で堆積が生ずる。表面９，１０上の層は後にこするとか自 己接着性テープを表面にあてて金をリフトオフするとかして取除かれる。こうし て、溝１１，１２は堆積された電極を自己マスクするために使用できる。 ここで図９を見ると、堆積したＡｕ材料で作られたメタライズ層４０ａ，ｂは 溝１１，１２の底に沿って延びて、電極を用意している。その後、溝は適当な材 料４１で充填されてもよく、例えばシリコンゴムのような電気的絶縁組成物が使 われて、誘電破壊やフラッシュオーバからファイバを保護するようにする。この 構成は図４に示したような別個のガラス電極構造がファイバにはめ合わされる必 要がないという点で長所となっている。Ａｕに代って他のメタライズ層が使用で きることは理解されよう。また、非金属的な導電材料、例えば多結晶シリコンの ようなものが使用できる。 たくさんの違った、特殊設計のファイバがこの発明の範疇に入るのであり多数 の代りのものを例として記述して行く。 図１０を見ると、代ったファイバ断面をもつこの発明が示されており、これは 図８と９とを参照して記述した方法で作られた金属の堆積電極４３を含んだ単一 の矩形溝４２を備えている。第２の電極４４は電極４３とはファイバ２の反対側 の平面状の表面４５上に蒸着で形成されている。このファイバは、図３，４，５ を参照して前述した方法で大きな寸法をもつ対応する形のプレフォームから引か れたものど理解できよう。第２の電極４４の縁端はファイバのカーブした表面１ ６，１７を選択的にこすって、そこから堆積されている金属材料を取除いて、表 面４５上に金属材料を選択的に残すようにしている。代って、適当な通常のマス ク用技法を蒸着プロセスの際に使用してよい。 図１１を見ると、ファイバの別な形態が示されており、これは図１０のものと 似ていて、一番下の電極４４は平面状の表面４５上に前述の方法で形成されてい る。しかしながら、溝４６は概ねカーブした断面をもち、電極４７はフィラメン ト状の素子で作られていて、それが溝４６内部に物理的にはめ合うようになって いる。この素子４７のはめ合わせは先行技術の場合よりもずっと単純であり、そ の理由は、素子を開口に通すということが実際は必要なく、それに代って、ファ イバの外側から溝４６内に置けば良いことである。さらに、唯一つだけのフィラ メント素子４７が使用されるので、他の電極４４に触れるという可能性が著しく 減っている。 図１２を見ると、テープの形体をした光ファイバであり、その断面幅寸法ｗ＝ ５０μｍ、広がり寸法ｂ＝１ｍｍである。このテープファイバには長手方向の溝 ４７，４８があり、それが導波路本体の外側表面からファイバのコア３に向って 延びており、それが両側にある。各溝４７，４８の底は金属性の堆積された層４ ９，５０で覆われて、電極が作られており、それがコア３をまたいで電界が印加 されるようにしている。図１２に示すのと少し違い、コアは電極４９，５０の間 で非対称に置かれていてよい。コア直径の典型例は８μｍである。 代りの配置が図１３に示されており、ここではテープファイバが図１２に示し たのと同じ寸法をもっているが、溝を作る代りに、電極が導波路の外側本体上に 形成されたメタライズ層５１，５２で成り、層５１，５２が作られた第１の表面 領域５３，５４は層５１，５２が作られていない対向する領域５５，５６よりも コアに近い。コア２は電極５１，５２の間に非対称に置かれている。 図１４を見ると、別の光ファイバ導波路断面が示されていて、そこには平坦な 表面４５で図１１に示した表面に対応するものと、それと一緒に第１と第２の溝 ５５，５６とがあり、溝はファイバの同じ側に平行に、コア３とは対向して、ク ラッド層領域２内で延在している。 図１０ないし１４に示した実施例のすべては対応する形状のプレフォームから 図３と４を参照して概ね記述した方法で引き延ばして作られていることは理解で きよう。図１０ないし１４の各実施例に対するプレフォームは図３を参照して記 述した材料から作ることができ、コアの寸法はほぼ同じようになる。 記述した発明の構造の数多くの修正と変形とが可能である。例えば共通のクラ ッド層内に間をあけて２つのコアを含んだデバイスを構築することが可能で、各 々には図６に示した１１，１２のような関係した対の溝があり、電極支持体２０ には複数の凸縁（トング）があってコアの各々に対する溝内にはめ合うようにす るものである。 さらに、このデバイスはゲルマノシリケートファイバと関係して記述してきた けれど、この発明はこれらの材料に限定されることなく、電子光学特性を示す他 の適当な材料にも使用できる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．コアとコアの周りのクラッドとを含む延在する導波路本体とを有し、該本 体は長手方向に延びる第１と第２の領域を含む外側表面を有しており、該第１の 領域は該第２の領域よりもコアに近いものであり、さらにコアをまたいで電界を 加えるために該第１の領域上に電極手段を備えて成る光ファイバ導波路構造。 ２．前記本体の外側表面は長手方向の溝を含み、かつ前記第１の領域がこの溝 内部にある請求項１記載の構造。 ３．前記溝はクラッド内にコア内には達することなく延びて、コアをまたいで 前記電界を加えるために電極手段が置かれるようにした請求項２記載の構造。 ４．前記電極手段は第１の領域上の導電層を含む請求項１ないし３のいずれか １項記載の構造。 ５．前記電極手段は溝内に延在する電極支持体と、その長さに沿って延びる支 持体上の導電領域とを含む請求項２又は３記載の構造。 ６．前記支持体は延在する本体部材としてその長さに沿って前記溝内にはめ合 う直立した凸縁を備えたものを含む請求項５記載の方法。 ７．前記支持体はガラスで作られ、また導電領域はガラス上に形成された金属 のコーテングを含む請求項５又は６記載の構造。 ８．前記導波路は横断面内に相対的に広幅の寸法（ｂ）を第１の方向に、また 相対的に狭幅の寸法（ｗ）を第１の方向とは直角方向に延びる第２の方向にもち 、かつ前記溝はクラッドの外側からコアに向けて該第２の方向に内側に延びてい る請求項２ないし７のいずれか１項記載の構造。 ９．前記第１の方向の広幅の寸法（ｂ）は約２５０μｍであり、前記狭幅の寸 法（ｗ）は約１００μｍであり、前記溝は約３０μｍの深さをもつ請求項８記載 の構造。 １０．前記溝として第１と第２の溝と、それぞれの溝の中に前記電極手段の第 １と第２のものとがあり、コアは両電極手段の間に置かれている請求項２ないし ９のいずれか１項記載の構造。 １１．前記外側表面は外部表面として導波路の長手方向に延びる平面状の表面 領域と、対向する平面状領域の間に延びるほぼ円筒状の表面領域とを含むものを 備え、前記溝は該平面状領域内にそれぞれ置かれていてコアに向って延びている 請求項１０記載の構造。 １２．前記クラッドの外側平面は長手方向の表面領域と、対向する平面状領域 間に延びているカーブしたほぼ円筒状の表面領域と、コアに向かってそれぞれが 延びるようにされている該平面状領域内に形成された電極受入れ用溝とを含む請 求項１０記載の構造。 １３．前記導波路はコアを作るためにドープされたシリカガラスで形成されて いる請求項１ないし１２のいずれか１項記載の構造。 １４．前記コアドーパントとしてはＧｅとＢとを含む請求項１３記載の構造。 １５．位相変調器として動作するように構成されている請求項１ないし１４の いずれか１項記載の構造。 １６．単一モード伝送として動作可能な請求項１ないし１５のいずれか１項記 載の構造。 １７．その一端で他の光ファイバ導波路と接続している請求項１ないし１６の いずれか１項記載の構造。 １８．前記接続は溶融スプライスで成る請求項１７記載の構造。 １９．前記ファイバ内にグレーテングを含む請求項１ないし１８のいずれか１ 項記載の方法。 ２０．導波路クラッドを形成するための材料により囲まれた導波路コアを形成 する材料を備えたプレフォームを用意し、このプレフォームが第１と第２の領域 を含み、該第１の領域が該第２の領域よりもコア材料の近くにあるような外側表 面をもつようにすることと、 このプレフォームとほぼ同じ断面構成をもつが長く延び横寸法が小さくなった 光ファイバ導波路を作るためにプレフォームを引いて第１と第２の領域がその長 さの方向に延在するようにすることと、 該外側表面の第１の領域上で長手方向に延びる電極を用意することとで成る導 波路構造の製作方法。 ２１．請求項２０に記載された方法により作られた光ファイバ導波路。 ２２．電子光学効果を示すように有極性状態に光励起された材料を含み、長手 方向の外側表面を有する延在するほぼ円筒状の光を伝えて導波路本体と、 該導波路本体に電界を加えて前記電子光学係数を変えるための電極手段とを含 み、 長手方向の外側表面には少くとも１つの長手方向の溝が含まれており、また該 電極手段は該溝内に置かれていて、導波路本体にその長さに沿って電界を加える ようにされている光導波路構造。