JP2000501817A - 減少した制御磁束−誘導回転子損失を有する磁気ベアリング - Google Patents

減少した制御磁束−誘導回転子損失を有する磁気ベアリング

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Abstract

(57)【要約】 減少した制御磁束−誘導固定子損失を有する磁気ベアリングは、回転子(14)と、第1の相Aのコイル(150〜156)と第2の相Bのコイル(160〜166)が巻装されている複数のスロット(S1〜S16)を有する固定子(12)を含んでいる。巻線構造は、正弦波であるとともにギャップ(15)に沿っていかなる位置にも向けられる回転子/固定子ギャップ(15)のまわりに2極磁界を供給する。巻線構造は、ギャップにおける制御磁束の不連続性と鋭い変化を小さくし、回転子損失を減少させる。また、固定子歯ギャップ(g1)は、回転子/固定子ギャップ(15)に沿う円滑な磁束分布を供給するために、小さくされる。より多くの相とより多い又はより少ない固定子スロットを使用できる。

Description

【発明の詳細な説明】 減少した制御磁束−誘導回転子損失を有する磁気ベアリング 関連出願との関係 “減少したバイアス磁束−誘導回転子損失を有する磁気ベアリング”と題する 、同時出願中の米国特許出願No.08/500,721はここで述べられてい る主題を含んでいる。 技術分野 この出願は、磁気ベアリングに係り、特に減少した回転子損失を備えた磁気ベ アリングに関する。 背景技術 磁気ベアリングが互に同心状に配置された回転部材(又は回転子)と静止部材 (又は固定子)を有することと、磁気ベアリング(およびその関連する制御回路 )が回転している回転子と静止している固定子間の径方向又は軸方向の間隔を制 御することは、技術分野において知られている。例えば、固定子に対して同心状 に配置されている。もちろん、知られているように、磁気ベアリングは、固定子 と回転子間の間隔を調節するために、固定子のまわりに巻装されたコイルを通し て流れる電流によって発生される調節可能な電磁力を使用する制御回路によって 制御される。 特に、“径方向”磁気ベアリングは同心状に配置された固定子と 回転子間の径方向の間隔を調節する。径方向の力が回転子に作用されるので、電 磁力は、固定子と回転子間のギャップを回転子/固定子の円周方向まわりに本質 的に一定の同じ値に戻すように調節されなければならない。もちろん、間隔セン サは、ギャップの間隔を測定するとともに制御回路に入力信号を入力するために 使用され、コイルを通して流れる電流を調節することによって、電磁力を調節す る。 可変電気磁気制御磁束に加えて、磁気ベアリングは、知られているように、ベ アリング制御(例えば、電流−力の関係を直線化する)を改良するために、一定 のDCバイアス磁束を持っている。バイアス磁束は永久磁石又は電磁石によって 発生される。 可変電気磁気制御力を径方向磁気ベアリングに作用させるために使用される現 在の技術は反対方向の外部径方向の力に対して、磁気マグネット電磁力を発生す るための電流で一つ又はそれ以上のコイルを励起又はパルシングすることを含ん でいる。 コイルとコイル構造を励起するための技術は、“磁気ベアリング機構”と題す るミークス(Meeks)による米国特許第5,111,102号と、“高速低 損失反摩擦ベアリング”と題するマルスキー(Malsky)による米国特許第 5,179,308号で開示されているものを含んでいる。しかしながら、その ような技術と構造は、ギャップに沿う分布を、ギャップのまわりの角度関数とし て不連続又は鋭敏なものにする。そのような鋭い磁束の変化は、渦電流とヒステ リシス損を発生し、回転子に熱を発生させ、効率を低下させる。また、回転子が 高速であればそれだけ損失が大きくなる。 それ故に、高速回転子、例えばエネルギー蓄積フライホイールに対して損失は重 要である。 加えて、回転子の上昇した熱は回転子に設けられている永久磁石を減磁する。 さらに、回転子が絶縁された真空室内例えばエネルギー蓄積フライホイール装置 内に配設されていれば、回転子を冷却することは困難である。従って、そのよう な損失を減少させることは回転子に発生した熱の減少に直接関係する。 従って、そのような回転子の損失を示さない磁気マグネットを設けることは望 ましいことである。 発明の開示 本発明の目的は、回転子損失が減少している磁気ベアリングの提供を含んでい る。 本発明によれば、磁気ベアリングは、回転子と、固定子に対して同心状に配設 され固定子に対して回転するとともにギャップに沿ういかなる点にも向けられる ギャップに向けることができる2極磁界分布を供給するための固定子に配設され た巻線手段によって構成される。 さらに、本発明によれば、ギャップのまわりの2極磁界分布は本質的に正弦波 である。 さらにまた、本発明によれば、固定子は、複数の固定子歯と、各溝(スロット )が固定子歯の隣り合うものの間にある複数のスロットによって構成されており 、回転子/固定子ギャップのスロットは回転子損失を小さくするために最小の間 隔に設定されている。 この発明は、制御巻線(又はコイル)の改良された構造を有する磁気ベアリン グを設けることにより、従来技術に勝る改良を示す。制御巻線(又はコイル)は 回転子/固定子ギャップ磁束における大きな不連続を避ける2極磁界分布を提す る。回転子損失の減少は渦電流とヒステリシス損失の減少を含んでおり、そのよ うな損失に関連する電気磁気ドラッグと熱放散を減少させる。もちろん、発明は そのような2極コイル構造を可能にし、この2極コイル構造は固定子上の歯の数 とコイル駆動位相とは独立である。さらに、本発明の2極磁気制御磁界分布は、 コイル位相によって供給される電流を調節することによって、ギャップの円周ま わりのいかなる位置にも配置できる。使用される固定子が多ければ多い程、正弦 波がより円滑になるとともに回転子の損失がより少なくなる。また、発明は、回 転子/固定子ギャップでの固定子歯を少なくする固定子積層に使用でき、磁束分 布の円滑さを最大にできる。 本発明の前述および他の目的,特徴および利点は、添付図面に示すような実施 例の次の詳細な説明に鑑みて、より明白になる。 [図面の簡単な説明] 第1図は、バイアス磁束通路を示す4つの固定子歯を有する従来技術の磁気ベ アリングの、側面図である。 第2図は、4つの歯の固定子を示す第1図の磁気ベアリングの頂部の切断図で ある。 第3図は、固定子歯に沿う力に対する、第1および第2図の4つの歯の固定子 の回転子/固定子に沿う制御磁束のグラフである。 第4図は、2つの固定子歯間に向かう力に対する、第1および第2図の4つの 歯の固定子の回転子/固定子に沿う制御磁束のグラフである。 第5図は、本発明による、巻線構造を有する16歯固定子を有する磁気ベアリ ングの頂部切断図である。 第6図は、本発明による、巻線接続を示す第5図の16歯固定子の側面レイア ウト図である。 第7図は、本発明による、電流方向を示す第5図の16歯固定子の頂部レイア ウト図である。 第8図は、本発明による、励起された1相を有する第5図の16歯固定子磁気 ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラフである。 第9図は、本発明による、励起された2相を有する第5図の16歯固定子磁気 ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラフである。 第10図は、本発明による、2位相システムの各位相に対して必要とされる力 と磁束ベクトルを示すベクトルグラフである。 第11図は、本発明による巻線構造を有する12歯固定子を有する磁気ベアリ ングの頂部切断図である。 第12図は、本発明による、巻線接続を示す第11図の第12歯固定子側面レ イアウト図である。 第13図は、本発明による、電流方向を示す第11図の12歯固定子の頂部レ イアウト図である。 第14図は、本発明による、励起された1相を有する第11図の 12歯固定子の磁気ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラ フである。 第15図は、本発明による、励起された2相を有する第11図の12歯固定子 の磁気ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラフである。 第16図は、本発明による、3相システムの各相に対して必要とされる力と磁 束ベクトルを示すグラフである。 第17図は、本発明による、励起された3相を有する第11図の12歯固定子 の磁気ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラフである。 [発明を実施するための最良な形態] 第1図を参照すると、従来の径方向磁気ベアリング10は、固定子部材又は固 定子12と、回転部材又は回転子14、および固定子12の外径と回転子14の 内径間のギャップ15によって構成されている。固定子12は、高周波数応答特 性例えばロテロイ5R,コバルトマグネチックスチールを有する高級低損失高透 磁率電気スチールからなる複数の中心配置積層16によって構成される。各積層 16の厚さは約0.004”から0.010”(0.010から0.0254c m)であり、全ての積層16に対する全体のstached厚さは約3cmであ る。他の積層厚さ、積層stackの厚さ、および物質を、必要ならば、用いる ことが出来る。回転子/固定子エアギャップ15の間隔は0.005”から0. 020”にでき、かつあるフライホイールへの応用に対して精度例えば0.00 2” に制御することができる。適用に応じて、必要ならば、他のギャップサイズを用 いることができる。 積層16は2つの永久磁石18,20間に挾設されている。永久磁石18,2 0の各々はトロイダル(又はドーナツ)構造である。永久磁石18,20に対し て必要ならば他の構造を用いることが出来る。固定子の中心部は空洞領域22で ある。領域22は必要ならば固体とすることができる。 永久磁石18,20の南極は、それぞれ、支持アーム24,26の一端に接続 されており、北極は積層116の対向する側に接続されている。アーム24,2 6の他端は固定子12の外径の一部を形成する。アーム24,26は、高強度高 透磁率低損失スチール、例えばアルノン(Arnon)5R又はAISI101 8スチールの如き低カーボン(例えば0.01〜0.02%カーボン)によって 作られている。アーム24,26として、必要ならば、他の物質を使用できる。 永久磁石18,20は一定のDC磁界バイアスφbを提し、このバイアスφb は回転子14と固定子12の各固定子歯間で吸引力を提する。磁石18のバイア ス磁束通路(又は回路)は、点線28によって示されており、永久磁石18の北 極を出て、積層16に沿って移動し、回転子/固定子ギャップを通過し、回転子 14に沿って移動し、ギャップ15を横切り、永久磁石18の磁気回路磁束通路 を完成する。対称的な磁気バイアス磁束回路は、点線30で示すように、永久磁 石20のために存在する。電線又はコイル31,32,33,34は、第1図, 第2図に示すように、積層16に巻装され ている。電磁気バイアス磁束を発生させるために、固定子歯の一部又は全てのま わり又は分離するトロイダル構造の電磁石(永久磁石のような)のどちらかに巻 装されているコイルを使用するバイアス磁束を供給することは、知られている。 その場合において、永久磁石18,20は必要でない。他の共通の磁気ベアリン グ構造は、ミークス(Meeks)による“磁気ベアリング構造”と題する米国 特許No.5,111,102と、マルスキー(Malsky)による“高速低 損失反摩擦ベアリングアッセンブリー”と題する米国特許No.5,179,3 08と、スタッダ(Studer)による“磁気ベアリング”と題する米国特許 No.3,865,442,およびスタッダによる“リニア磁気ベアリング”と 題する米国特許No.4,387,935、に述べられている。 第2図を参照すると、固定子12の積層16は、それぞれ、コイルが巻装され ている4つの歯35,36,37,38を持っている。必要ならば、固定子はよ り多いかより少ない歯を持ってもよい。コイル31〜34は、後述するように外 部径方向の力を補償するために制御された力を発生するためのバイアス磁束と結 合する可変電磁界を発生する電流を運ぶ。 また、ギャップ15は、積層16の歯35〜38の中心又は中心近傍の4つの 場所で測定される。特に、測定される間隔は固定子12のまわりに反時計方向に わたってy1,x1,y2,x2として示されている。ギャップの囲りの多少の位置 を必要に応じて測定することが出来る。 電磁力は、回転子14又は固定子12に作用する外部方向の力を 計算するように働く。例えば、第2図において、外方径方向の力が回転子14を 、ライン42に示すように、下方に働かせると、間隔y2はギャップ間隔y1より も大きくなる。その場合において、電流は制御磁束φcを生成するような方向に おけるコイル31,32を介して駆動され、制御磁束φcはギャップy1のバイ アス磁束φbと反対方向であり、かつギャップy2のバイアス磁束φbと同じ方 向である。結果として、ギャップy1の全吸引力は減少し、ギャップy2の吸引力 は増加してy1とy2が等しくなる。同様にして、もし水平径方向の力がライン4 3に示すように固定子に作用し、ギャップ間隔x2がギャップ間隔x1よりも大き くなれば、電流はコイル33,34を通して流れ、ギャップx2のバイアス磁束 φbと同じ方向でありかつギャップx1の制御磁束φbと反対方向である制御磁 束φcを生成する。この制御磁束φcの発生により、ギャップx2の吸引力は増 加しギャップx1の吸引力は減少して、ギャップx2をギャップx1に等しくする 。 ギャップy1とy2を調節する制御磁束を生成するコイル31,32を通しての 電流は、点線39によって示されており、例えば上部固定歯35に沿って発生さ れ、固定子の背後鉄心に沿う2つの等しい通路に分割し、それから固定子12の 下部歯36に再結合する。磁束通路39はギャップy2を介して移動し、それか ら再び2つの等しい通路に分割し、固定子12の半周の囲りを移動し、再結合し 、それから固定子12の上部歯35までギャップy1を横切る。積層29が固定 子14で使用されると、制御磁束φcはほとんど積層29に残る。 同様に、上記実施例に対するギャップx1とx2を調節する制御磁束φcを生成 するコイル33,34における電流は、磁束φcを固定子12の歯37に沿って 右から左に伝播させ、かつ固定子の背後鉄に沿う2つの等しい通路に分離し、そ れから点線40に示すように固定子12の歯38に再結合する。磁束39と同様 に、磁束40はギャップx2を介して移行し、ギャップx1を横切って右側の歯3 7に入る。XとY方向間に作用する外方回転子力を計算するために、コイルの両 側からの磁束は使用される(後述のように)。 コイル31,32は、共に直列に接続され、これらに供給される電圧によって 駆動され、y方向における制御磁束を発生する。同様にして、コイル33,34 は共に直列に接続され、それらに供給される電圧によって駆動され、x方向にお ける制御磁束を発生する。また、コイル31〜34は個々に駆動されることが出 来る。さらにまた、バイアス磁束φbは反対方向例えば径方向内方においても発 生する。その場合において制御磁束φcの方向は上述の例とは逆である。さらに また、バイアス磁束φbは使用する必要がなく、制御磁束φcのみを使用して回 転子に力を発生させることができる。 第2図と第3図を参照すると、ライン42に示すように、外力が回転子にy方 向における下方に及ぼされかつ回転子/固定子エアギャップ15における磁気制 御磁束φc(又は磁束分布又は磁束密度)が固定子12のまわりに回転子が時計 方向に回転するにつれて回転子14上の点から表れると、制御磁束φcは+/− φc1の値からゼロまでの一連の大きな変化を示す。その場合に、コイル31は 励起されバイアス磁束とは反対の制御磁束φcを発生し、コイル3 2が励起されバイアス磁束と同じ方向の制御磁束を発生する。ここで使用される ように、磁束φは、磁束,磁束分布,磁束密度(φ/面積)として使用される。 特に、点50が固定子歯35からであると、−φcの大きさを有する第1のパ ルス100が回転子100に表れる。一般に、径方向に向う磁束は正として示さ れ、径方向内方に向う磁束は負として示される。点50が固定子歯37から歯3 5,37の間でありかつ歯37,36間であると、領域102に示すように、回 転子は低磁束値(すなわちゼロに近い)を示す。点50が歯36からであると、 φc1の大きさを有する第2のパルスは回転子に表れる。同様にして、点50が 固定子歯38から歯36,38の間でありかつ歯38,35の間であると、領域 106に示すように回転子は低磁束値である。第3図に示すような方形波の代り に丸いコーナを有する波形を使用できる。 かくして、回転子14の単一回転に対して、回転子の与えられた点(例えば前 の例では4)では制御磁束が急速に変化する。これらの磁束の変化は回転子にお ける渦電流とヒステリシス損を生じ、背景技術の項で前述したように回転子は熱 とトルク(電気−磁気ドラッグ)を生じる。回転子が速く回れば、それだけこれ らの損失が大きくなる。10,000rpm以上の速度に対して、損失はかなり 大きなものになる。また、制御磁束の変化が鋭ければ、高い周波数が回転子は発 生し損失も大きくなる。 また、第2図と第4図を参照すると、上述の例に対して回転子の力ベクトルが 、ライン44に示すように、径方向外方(すなわち、 X軸とY軸間の−45度方向)を示す固定子歯38,35間の中途であれば、全 ての4つのコイルが励起される。特に、コイル31,34はバイアス磁束φbと 反対方向の制御磁束φcを生じ、コイル33,32は励起されバイアス磁束と同 じ方向における制御磁束φcを生じて、X軸とY軸間の−45度において吸引力 を生じる。その場合において、回転子/固定子エアギャップ15における磁気制 御磁束φcが回転子14上の点50から表れると、回転子が固定子12のまわり に時計方向に360度回転するにつれて、第4図に示すように、制御磁束φcは +/−φc1の値から約ゼロまでの一連の大きな変化を示す。 特に、点50が固定子歯35からのものであると、−φc1の大きさを有する 第1のパルス110が回転子から表れる。点50,歯35,37の間にある時、 回転子は、領域112に示すように、低い磁束値(例えばゼロに近い)を示す。 点50が固定子歯37からであると、φc1の大きさを有する第2のパルス11 4は回転子によって表される。同様に、点50が歯37,36の間であると、回 転子は領域116に示すように低磁束値になる。点50が固定子歯36にあると 、φc1の大きさを持つ第3のパルス118は回転子に表れる。同様に、点50 が歯36,38間であると、回転子は領域120に示すように、低磁束値である 。同様に、点50が固定子歯38からのものであると、−φc1の大きさを持つ 第4のパルス122は回転子に表れる。最後に、点50が歯38,35の間であ ると、領域124で示すように回転子は低磁束値を示す。第4図に示すような方 形波の代りに、波形のコーナが丸みを持ったものであ ってもよい。 かくして、回転子14の単独回転に対して、回転子上の与えられた点(例えば 点50)は、制御磁束の多数(たとえば前の例において8)の急激に変化する。 これらの磁束の変化は回転子に渦電流とヒステリシス損を生じさせ、回転子は前 述のように熱とトルク(電気−磁気ドラッグ)を誘起する。 第5図と第6図を参照すると、本発明の径方向磁気ベアリングは、制御磁束φ cに対して基質的に正弦波方向性2極磁界を供給することによって、そのような 誘起した回転子損失を最小にする巻線構造を持っている。もちろん、ベアリング は、16歯固定子と、第1図と第2図で述べたような固定子歯の各々から径方向 外方に発生する永久磁石バイアス磁束φbを持っている。バイアス磁束の方向は 、必要ならば、前述したように逆方向であってもよい。特に、磁気ベアリングは 、対向するスロットを通して巻装された4つのコイル150,152,154, 156によって構成される第1の相Aを備える2つの相巻線構造を持っている。 さらに詳しくは、相Aに対して、コイル150はスロットS1,S6を通して巻 装され、コイル152はスロットS16,S7を通して巻装され、コイル154 はスロットS15,S8を通して巻装され、およびコイル156はスロットS1 4,S9を通して巻装される。相Aのコイル150〜156は、第6図に示すよ うに、直列,並列,又はこれらの混合に接続され、相A電圧源157によって駆 動される。また、巻線構造は、残りの対向するスロットを通して巻装された4つ のコイル160,162,164,166によって構成される第2の相Bを持っ てい る。さらに詳しくは、相Bに対して、コイル160はスロットS2,S13を通 して巻装され、コイル162はスロットS3,S12を通して巻装され、コイル 164はスロットS4,S11を通して巻装されているとともに、コイル166 はスロットS5,S10を通して巻装されている。相Bのコイル160〜166 は、直列,並列,又はこれらの混合で共に接続され相Bを形成するとともに、第 6図に示すように相B電圧源158によって駆動される。実際には、電源157 ,158は、背景技術節で論じたように、ギャップ間隔(ギャップ間隔センサか らの)に基づいて供給されるべき電流を計算する制御回路(図示せず)内に設け られる。 固定子歯の設計は、“バイアス−磁束−誘導回転子損失を減少した磁気ベアリ ング”と題する同時出願中の米国特許出願No.(社内整理番号No.R−38 88)におけるどの実施例のものと同じである。望むならば、例えば真直ぐに径 方向に突出する方形歯、又は上述の特許出願において開示されているようにギャ ップ15の近くの円周状に突出する頭部領域を有する真直ぐな歯を使用できる。 しかしながら、歯のギャップg1が小さければ、ギャップ15に沿う合成制御磁 束分布は2つの磁界正弦波の円滑さを示し、制御磁束回転子損失を小さくする。 第7図を参照すると、ライン180で切断して平らに広げられた(第6図のよ うに)第5図の16歯固定12の頂面図が示されている。スロット(S1〜S1 6)を通して紙面の外に流れる電流はドット(・)によって示され、スロット( S1〜S16)を通して紙面内に流れる電流はクロス(X)によって示されてい る。第5図を 参照すると、所定の相に対する制御磁束の方向はその相のコイルに対するライン 150〜156,160〜166に直角である。特に、正相Aに対する制御磁束 の方向はライン179によって示され、正相Bに対する制御磁束の方向はライン 181によって示されている。 第5〜8図を参照すると、力がライン182(第5図)の方向で回転子14に 及ぼされると、電流は相Aを通して流れ、力182の方向が相Aに対する磁束に 平行であるので相Bを通しては電流が流れない。相Aに供給される電流はコイル 150〜156に対する磁束の各々のものと同じである。第8図を参照すると、 各コイル150〜156を通して流れる電流によってギャップ15に発生する制 御磁束は、個々に、曲線200〜206によってそれぞれ示されている。曲線2 00〜206のゼロ以上の領域は、ライン186(第5図)によって集約的に示 されているように、第7図に示されているギャップ15の対応する部分における ギャップ15を横切って径方向外方(バイアス磁束と同じ方向)に突出する制御 磁束を示し、ギャップ15のその領域における回転子/固定子吸引力を増加させ る。対称的に、曲線200〜206のゼロ以下の領域は、ライン188(第5図 )によって集約的に示されているように、第7図に示されているギャップ15の 対応する部分におけるギャップ15を横切って径方向内方(バイアス磁束と反対 方向)に突出する制御磁束を示し、ギャップ15のその領域における回転子/固 定子吸引力を減少させる。 全磁束がギャップ15のまわりに保存されるので、ゼロ以上の曲線200の下 の領域はゼロ以下の曲線200の領域に等しくなけれ ばならない。 特に、第7図におけるS1からS6までの左から右まで見て(又は第5図にお けるS1〜S6まで時計方向に見て)、コイル150とその関連する磁束曲線2 00に対して、歯S1〜S6間に発生する磁束分布(又は磁束密度)は大きな値 であり、第7図におけるS6からS1まで左から右まで見て(又は第5図におい てS6からS1まで時計方向に見て)、歯S6〜S1間に発生する磁束密度は、 磁束が分布するギャップ領域(特に、長さ)が大きいので、上述の曲線のものよ りも小さい。 第8図に示すように、コイル152〜156と関連する磁束曲線202〜20 6に対して同様な関係が存在する。曲線200〜206が共に加算されると、相 Aによって誘起されるギャップ15における合成磁束は点線210によって示さ れる。実際には、波形202〜206の縁は丸みを持っており、点線212に示 すように正弦波に似ている。波形212の正の半分は第1の磁極であり、波形2 12の負の半分は第2の磁極である。両方の極は回転子に作用する力182を計 算するのに役立つ。かくして、回転子14が回転するにつれて、回転子上のある 点例えば点50は、本質的に円滑な2極磁界のようであり、制御磁束における大 きな不連続性を減少又は低減し、ギャップ15における制御磁束の方向での変化 の数を小さくする。かくして、本発明は制御磁束の誘起した回転子損失を減らす 。 第9図を参照すると、本発明の2極磁気制御磁束は、コイルに供給される電流 すなわち2つの相A,Bのコイルによって発生される磁束を調節することによっ て、ギャップ15の円周まわりのいかな る位置にも向けられる。特に、ライン190(第5図)に示すように、相A(ラ イン179)と相B(ライン181)コイルの磁束方向間の方向45度において 、力が回転子14に作用されると、双方の相Aと相Bの磁束が力を計算するのに 必要とされる。特に、相Aに対する合成磁束曲線は曲線230によって示され、 相Bに対する合成磁束曲線は曲線232によって示されている。ギャップ15に おける磁束は、実線234で示すように、2つの相の磁束曲線230,232の 和である。実際の磁束は丸みをおびており、点線236で示すように正弦波に似 ている。 前述のように、ゼロ上の曲線236の領域は、ライン192(第5図)に示す ように、第7図に示されているギャップ15の対応する部分におけるギャップ1 5を介して径方向外方に突出する(パイアス磁束と同じ方向における)制御磁束 を示し、ギャップ15のその領域における回転子/固定子吸引力を増加させる。 対称的に、ゼロ以下の曲線230の領域は、ライン194(第5図)に示すよう に、第7図に示されているギャップ15の対応する部分におけるギャップ15を 介して径方向内方に突出する(バイアスとは反対方向における)制御磁束を示し 、ギャップ15における回転子/固定子吸引力を減少させる。 第10図を参照すると、前述したように、2極制御磁束は、相A,Bのコイル (従って、コイルを流れる電流を調節することによって、ギャップ15の周まわ りのどの部分にも向けられる。これは、2つの相A,Bを見ることによって、9 0度離れて発生される2つのベクトルとして示される。一般に、コイルによって 発生された磁束は コイルを通して流れる電流に比例する。力ベクトルFが単に相Aの磁束路に沿う ものであれば、第8図の第1の例に示すように、相Aのみが使用され、電流の値 は相Aに沿う力Fの量によって決められる。力ベクトルFが、第9図の例のよう に、2つの相A,B間の角度θで発生されると、相A,Bで必要とされる電流の 量は力ベクトルFのべクトル成分である。特に、2つの相のシステムに対して、 相Aの電流はF*Sin(θ)であり、相Bの電流はF*Cos(θ)である。 あるべクトルを得るために相A,Bの1つ又は両方における電流が第5,6,7 図に示すものとは逆である必要があることは、理解されるべきである。 もちろん、回転子14の一部が回転子の他の部分よりも多い(又は少ない)外 方径方向の力を作用するという回転子の不平衡があれば、例えば、回転子の一部 が重ければ、回転子とともに回転する力べクトルが有る。その場合において、発 明はもちろん従来技術よりも回転子損失を減少させる。特に、発明は、不平衡力 を発生する回転子の領域にしたがう回転磁極磁束分布を提する。従って、回転子 は常に同じ制御磁束を受け、回転子損失を小さくする。 第11と12図を参照すると、本発明の3相コイル巻線を有する12歯固定子 が示されている。特に、3相巻線構造は対向するスロットを通して巻装された2 つのコイル300,302からなる第1の相を有する。さらに詳しくは、相Aに 対して、コイル300はスロットS1,S8を通して巻かれており、コイル30 2はスロットS2,S7を通して巻かれている。相Aのコイル300,302は 、もちろん、第12図に示すように直列,並列,又はこれらの混合で 共に接続され、相Aを形成する。同様にして、巻線構造は、対向するスロットを 通して巻かれた2つのコイル304,306からなる第2の相Bを有する。より 詳しくは、相Bに対して、コイル304はスロットS3,S10を通して巻かれ ており、コイル306はスロットS4,S9を通して巻かれている。相Bのコイ ル304,306はもちろん共に直列,並列,又はこれらの混合で接続され、第 12図に示すように相Bを形成する。同様にして、巻線構造は、対向するスロッ トを通して巻かれたコイル308,310からなる第3の相Cを有する。 さらに詳しくは、相Cに対して、コイル308はスロットS5,S12を通し て巻かれており、コイル310はスロットS6,S11を通して巻かれている。 C相のコイル308,310は直列,並列又はこれらの混合で共に接続され、第 12図に示すように相Cを形成する。固定子歯設計は第5図で述べたものと同じ である。 第13図を参照すると、ライン314で切断されかつ平らに広げられた(第1 2図のように)第11図の12歯固定子の頂面図が示されている。前述のように 、与えられたスロットS1〜S12を通して紙面の外に流れる電流はドット(・ )で示され、所定のスロット(S1〜S12)を通して紙面の中に流れる電流は クロス(X)によって示されている。第11図を参照すると、所定の相の制御磁 束の方向は、その相に対するコイルに対して、第11図に描かれているラインに 直角である。特に、正相Aに対する制御磁束の方向はライン316で示され、負 相Bに対する制御磁束の方向(すなわち、相−B)はライン317で示され、正 相Cに対する制御磁束の方向 はライン318で示されている。 第11〜14図を参照すると、力がライン320(第11図)の方向における 回転子14に作用すれば、電流は、相Aを通して流れ、力320の方向が相Aに 対する磁束の方向に平行であるから相BとCを通しては流れない。もちろん、相 Aに供給される電流は相Aのコイル300,302の各々に対して同じである。 第14図を参照すると、コイル303,302の各々を通して流れる電流によ ってギャップ15に発生される制御磁束が、曲線350,352によって個々に 示されている。第8図で前述したものと同様に、ゼロより上の曲線350,35 2の領域は、ライン322(第11図)によって集約的に示されているように、 第13図に示されているギャップ15の対応する部分におけるギャップを介して 径方向外方に突出する制御磁束(バイアス磁束と同じ方向における)を示し、ギ ャップ15のその領域における回転子/固定子吸引力を増加させる。対称的に、 ゼロの下の曲線350,352の領域は、ライン322(第11図)によって集 約的に示されているように、第13図に示すギャップ15の対応する部分におけ るギャップ15を介して径方向外方(バイアス磁束と同じ方向における)に突出 する制御磁束を示し、ギャップ15における回転子/固定子吸引力を増加させる 。 前述したように、ゼロより上の磁束曲線の領域は、ゼロより下の磁束曲線35 2の領域に等しくなければならない。特に、コイル302とその関連する磁束曲 線352に対して、左から右すなわち第13図においてS2からS7まで見て( 又は第11図においてS2 からS7まで見て)、歯S2〜S7間で発生した磁束分布(又は磁束密度)は大 きな値であり、左から右まで見て、すなわち第13図におけるS7からS2まで 見て、歯S7からS2までの間で発生した磁束密度は、磁束が分布されるギャッ プ領域(特に長さ)は大きいので、曲線の上のものよりも小さな値である。小さ い関係は、第14図に示すように、コイル300とその関連する磁束曲線350 に存在する。 曲線150,152が共に加え合されると、相Aによって誘起されたギャップ 15における合成磁束は点線356によって示される。実際には、波形350〜 352の縁は丸みを持ったものであり、合成磁束曲線は、点線358で示すよう に、正弦波に近似している。波形358の正の半分は第1の磁極であり、波形3 58の負の半分は第2の磁極である。両方の極は回転子に作用される力320を 計算するのに約に立つ。従って、回転子14が回転するにつれて、回転子の所定 の点、例えば点50は円滑な2極磁界になり、制御磁束における不連続性を減少 又は低減させ、またギャップ15における制御磁束の方向の多くの変化を減少さ せる。従って、本発明のこの実施例によれば、制御磁束によって誘起される回転 子損が減少される。 第15図を参照すると、本発明の2極制御磁束界は、2つの相16歯固定子に ついて述べたと同様に、コイルに供給される電流3つの相A,B,Cの、すなわ ちコイルによって発生される磁束を調節することによって、ギャップ15の周辺 まわりのどの位置にも向けることが出来る。 特に、ライン326(第11図)によって示されているように、力が相Aと相 −Cコイルの磁束方向間の30度方向において回転子14に作用されると、相A とC磁束については力を計算する必要があり、力326が相B(又は−B)に対 して力がノーマルであるので相B磁束を計算する必要はない。特に、相Aの合成 磁束曲線は曲線360によって示され、相−Cに対する合成磁束曲線は曲線36 2によって示されている。ギャップ15の磁束は、実線364で示すように、2 つの相磁束曲線360,362の和である。実際の磁束は丸みを持っており、全 体の曲線は、点線366で示すように、正弦波に近似している。 前述のように、ゼロより上の曲線366の領域は、ライン328(第11図) に示すように、第13図におけるの対応する部分のギャップ15を介して径方向 外方(バイアス磁束と同じ方向)に突出する制御磁束を示し、ギャップ15のそ の領域における回転子/固定子吸引力を増加させる。対称的に、ゼロより下の曲 線366の領域は、ライン330(第11図)に示すように、第13図に示すギ ャップ15の対応する部分におけるギャップ15を介して径方向内方(バイアス 磁束に反対)に突出する制御磁束を示し、ギャップ15のその領域における回転 子/固定子吸引力を減少させる。 第16図を参照すると、上述のように、2極制御磁束は、3つの相A,B,C のコイル(およびコイルを通して流れる電流)によって発生される磁束を調節す ることによって、ギャップ15の円周まわりのどの部分にも向けられる。このこ とは、3つの相A,B,Cを、120度間隔で発生される3つのベクトル316 ,317,3 18として見ることによって示される。 ー般に、コイルによって発生された磁束はコイルを通して流れる電流に比例す る。力Fが単に相Aの磁束通路に沿うものであれば、第11図の上記実施例の場 合と同じように、相Aの磁束が使用され、相A軸にのみ沿う力Fの量によって電 流が決められる。力ベクトルFが、第15図の第2実施例における場合と同じよ うに、2つの相A,−C間の角度θで発生され、相A,Cで必要な電流の量は力 ベクトルFのベクトル成分である。ある力ベクトルを得るために相A,B,Cの 一部又は全てにおける電流が、第15図の実施例に示されているように、第11 ,12,13図に示すものと逆である必要があることは、理解されるべきである 。また、コイルの電流(したがって、磁束)に対する極性は、任意であり、かつ 必要ならば逆であってもよい。例えば、コイル308,310の電流が逆であれ ば、相−Bは相+Bとして定義される。3つの相A,B,Cに対して2極磁界を 生じるのに必要とされる磁束は関連する式のグループによって規定される。特に 、零度が、第16図におけるライン326すなわちゼロ磁束効果が相Bから起こ れば、次の式のセットは、電流およびその相に関連するものによって定義される 。 相B磁束=M*Sin(θ) ………(式1) 相A磁束=M*Sin(θ+120゜) ………(式2) 相C磁束=M*Sin(θ−120゜) ………(式3) ここで、Mは各相の大きさを調節し力Fを計算するために必要なピーク磁束を 得るための乗数である。それ故に、力ベクトルFに対して、そのような力を計算 するために相A,B,Cに対する一セッ トの磁束ベクトルが存在する。 さらに詳しくは、第16と17図を参照すると、力ベクトル320が相Aの磁 束ライン316(θ=−30度)に沿って発生される第14図の例に対して、各 相の制御磁束(および対応する駆動制御電流)が式1〜3によって定義されるよ うに設定されると、磁束はそれぞれ相A,B,Cに対して−0.5,1.0,− 0.50である。相A磁束は点線380によって示され、相B磁束はライン38 2によって示され、相C磁束はライン384によって示されている。 ギャップの全制御磁束は実線386によって示されている。前述したように、実 際の磁束は丸みを持っており、全体の磁束は、点線388に示すように正弦波に 近似している。第14と17図を比較すると、第14図の一つの相のみによるも のとは反対に、3つの相を使用する合成曲線388は第14図のものよりもより 正弦波曲線になっている。しかしながら、第14図のプロフィルはある適用に対 して受け入れ可能である。 本発明の第5図の16歯固定子巻線構造に対する回転子損失は、表1に示され ており、ここで0.658cmの歯ギャップ,ギャップでの1.317cmの固 定歯幅,約2cmの回転子厚み,10.16cmの固定子外径,0.05cmの 公称の回転子/固定子エアギャップ15,および回転子に印加される4つの異な る外部負荷を使用する。これらの損失は第1〜4図で前述した従来技術(P/A )設計と比較されており、従来技術の設計では4.78cmの歯のギャップ,ギ ャップでの3.22cmの固定子歯幅w1を使用しており、残りの寸法は本質的 に第5図のものと同じである。もちろん、 表1において従来技術(P/A)と発明(Invtn)との比較のために使用さ れた材料は、第1,2図の従来技術に対して前述したものと同じである。 発明は12と16歯固定子を使用しているものとして述べられているけれども 、望むなら、より多くの又はより少ない歯を使用できる。しかしながら、歯の数 が少なければ、それだけ多くのサンプルされた又はステップ状の2極磁束正弦波 が現れ、高い周波数成分が導出されるので、回転子損失が大きくなる。逆に、固 定子歯が多ければ、正弦波形がより円滑になりかつ方向制御がより良くなる。 もちろん、望むならば相の数は2つ又はそれ以上であってもよい。さらに、各 相に対するコイルの数,コイル巻線パターン,および使用される固定子スロット の数は前述のものに限定されるものではなく、提示された巻線構造は、ギャップ のまわりのどの点にも向けることが出来るギャップに沿う2極磁界分布を提する 。特に、我々は、多相(2つ又はそれ以上の相)インダクションモータ又はシン クロナスモータは、そのようなモータが回転磁界を提するので、使用できる。使 用可能な巻線構造について述べている本の例として、R.Engelmanによ る“電動機ハンドブック,Unive.ofCincinnati,Ohio( Dec.1994)や、P.Cochranによる“多相インダクションモータ 、解析、設計、応用”、Marcel Dexter Inc,NY(1989 )や、C.Velnottによる“フラクショナルおよびサブフラクショナル馬 力電動機”、McGrow Hill(1992)がある。 もちろん、磁界の構造は、純粋な正弦波である必要はない。例え ば、磁界は三角構造、ステップ状正弦波、又はここで述べられている基準に適合 する他の構造であっても良い。 さらに、固定子と回転子は、本発明の動作の基準に制限されるもの(すなわち 、回転子は固定子内に同心状に配置される)に制限されない。もちろん、回転子 と固定子は、互いに同じ又は反対に回転できる。また、バイアス磁束を使用する と、他の構造およびバイアス磁束の発生,および積層を使用できる。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1997年2月7日(1997.2.7) 【補正内容】 回転子間の径方向の間隔を調節する。径方向の力が回転子に作用されるので、電 磁力は、固定子と回転子間のギャップを回転子/固定子の円周方向まわりに本質 的に一定の同じ値に戻すように調節されなければならない。もちろん、間隔セン サは、ギャップの間隔を測定するとともに制御回路に入力信号を入力するために 使用され、コイルを通して流れる電流を調節することによって、電磁力を調節す る。 可変電気磁気制御磁束に加えて、磁気ベアリングは、知られているように、ベ アリング制御(例えば、電流−力の関係を直線化する)を改良するために、一定 のDCバイアス磁束を持っている。バイアス磁束は永久磁石又は電磁石によって 発生される。 可変電気磁気制御力を径方向磁気ベアリングに作用させるために使用される現 在の技術は反対方向の外部径方向の力に対して、磁気マグネット電磁力を発生す るための電流で一つ又はそれ以上のコイルを励起又はパルシングすることを含ん でいる。 コイルとコイル構造を励起するための技術は、“磁気ベアリング機構”と題す るミークス(Meeks)による米国特許第5,111,102号と、“高速低 損失反摩擦ベアリング”と題するマルスキー(Malsky)による米国特許第 5,179,308号で開示されているものを含んでいる。しかしながら、その ような技術と構造は、ギャップに沿う分布を、ギャップのまわりの角度関数とし て不連続又は鋭敏なものにする。そのような鋭い磁束の変化は、渦電流とヒステ リシス損を発生し、回転子に熱を発生させ、効率を低下させる。また、回転子が 高速であればそれだけ損失が大きくなる。 それ故に、高速回転子、例えばエネルギー蓄積フライホイールに対して損失は重 要である。 加えて、回転子の上昇した熱は回転子に設けられている永久磁石を減磁する。 さらに、回転子が絶縁された真空室内例えばエネルギー蓄積フライホイール装置 内に配設されていれば、回転子を冷却することは困難である。従って、そのよう な損失を減少させることは回転子に発生した熱の減少に直接関係する。 従って、そのような回転子の損失を示さない磁気マグネットを設けることは望 ましいことである。 発明の開示 本発明の目的は、回転子損失が減少している磁気ベアリングの提供を含んでい る。 本発明によれば、磁気ベアリングは、回転子と、固定子に対して同心状に配設 され固定子に対して回転するとともにギャップに沿ういかなる点にも向けられる ギャップに向けることができる2極磁界分布を供給するための固定子に配設され た巻線手段によって構成され、分布はギャップの全周に沿って分布される。 さらに、本発明によれば、ギャップのまわりの2極磁界分布は本質的に正弦波 である。 さらにまた、本発明によれば、固定子は、複数の固定子歯と、各溝(スロット )が固定子歯の隣り合うものの間にある複数のスロットによって構成されており 、回転子/固定子ギャップのスロットは回転子損失を小さくするために最小の間 隔に設定されている。 第4図は、2つの固定子歯間に向かう力に対する、第1および第2図の4つの 歯の固定子の回転子/固定子に沿う制御磁束のグラフである。 第5図は、本発明による、巻線構造を有する16歯固定子を有する磁気ベアリ ングの頂部切断図である。 第6図は、本発明による、巻線接続を示す第5図の16歯固定子の側面レイア ウト図である。 第7図は、本発明による、電流方向を示す第5図の16歯固定子の頂部レイア ウト図である。 第8図は、本発明による、励起された1相を有する第5図の16歯固定子磁気 ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラフである。 第9図は、本発明による、励起された2相を有する第5図の16歯固定子磁気 ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラフである。 第10図は、本発明による、2位相システムの各位相に対して必要とされる力 と磁束ベクトルを示すベクトルグラフである。 第11図は、本発明による巻線構造を有する12歯固定子を有する磁気ベアリ ングの頂部切断図である。 第12図は、本発明による、巻線接続を示す第11図の第12歯固定子側面レ イアウト図である。 第13図は、本発明による、電流方向を示す第11図の12歯固定子の頂部レ イアウト図である。 第14図は、本発明による、励起された1相を有する第11図の 12歯固定子の磁気ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラ フである。 第15図は、本発明による、励起された2相を有する第11図の12歯固定子 の磁気ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラフである。 第16図は、本発明による、3相システムの各相に対して必要とされる力と磁 束ベクトルを示すグラフである。 第17図は、本発明による、励起された3相を有する第11図の12歯固定子 の磁気ベアリングの回転子/固定子ギャップに沿う制御磁束のグラフである。 [発明を実施するための最良な形態] 第1図を参照すると、従来の径方向磁気ベアリング10は、固定子部材又は固 定子12と、回転部材、又は外部領域を有する回転子14、および固定子12の 外径と回転子14の内径間のギャップ15によって構成されている。固定子12 は、高周波数応答特性例えばロテロイ5R,コバルトマグネチックスチールを有 する高級低損失高透磁率電気スチールからなる複数の中心配置積層16によって 構成される。各積層16の厚さは約0.004”から0.010”(0.010 から0.0254cm)であり、全ての積層16に対する全体のstached 厚さは約3cmである。他の積層厚さ、積層stackの厚さ、および物質を、 必要ならば、用いることが出来る。回転子/固定子エアギャップ15の間隔は0 .005”から0.020”にでき、かつあるフライホイールへの応用に対して 精度例えば0.002”に制御することができる。適用に応じて、必要ならば、 他のギャップサイズを用いることができる。 積層16は2つの永久磁石18,20間に挾設されている。永久磁石18,2 0の各々はトロイダル(又はドーナツ)構造である。永久磁石18,20に対し て必要ならば他の構造を用いることが出来る。固定子の中心部は空洞領域22で ある。領域22は必要ならば固体とすることができる。 永久磁石18,20の南極は、それぞれ、支持アーム24,26の一端に接続 されており、北極は積層116の対向する側に接続されている。アーム24,2 6の他端は固定子12の外径の一部を形成する。アーム24,26は、高強度高 透磁率低損失スチール、例えばアルノン(Arnon)5R又はAISI101 8スチールの如き低カーボン(例えば0.01〜0.02%カーボン)によって 作られている。アーム24,26として、必要ならば、他の物質を使用できる。 永久磁石18,20は一定のDC磁界バイアスφbを提し、このバイアスφb は回転子14と固定子12の各固定子歯間で吸引力を提する。磁石18のバイア ス磁束通路(又は回路)は、点線28によって示されており、永久磁石18の北 極を出て、積層16に沿って移動し、回転子/固定子ギャップを通過し、回転子 14に沿って移動し、ギャップ15を横切り、永久磁石18の磁気回路磁束通路 を完成する。対称的な磁気バイアス磁束回路は、点線30で示すように、永久磁 石20のために存在する。電線又はコイル31,32,33,34は、第1図, 第2図に示すように、積層16に巻装され 【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1997年7月11日(1997.7.11) 【補正内容】 特許請求の範囲 1.固定子(12)と、 前記固定子(12)に関して同心状に配置され、前記固定子(12)に関して 回転するとともに、回転子(14)と前記固定子(12)間に回転子/固定子ギ ャップ(15)を有する回転子(12)、 および 前記ギャップ(15)の円周に沿ういかなる点にも向けることができる前記ギ ャップ(15)に沿って方向付け可能な2極磁界分布を供給するために、前記固 定子(12)に配設された巻線手段(150〜156,160〜166)、 によって構成され、前記分布は前記ギャップ(15)の全周に沿って分布され ることを特徴とする、磁気ベアリング。 2.前記巻線手段(150〜156,160〜166)が少なくとも2つの相に よって構成されていることを特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の磁気ベ アリング。 3.前記ギャップ(15)に沿う前記2極磁界分布が、本質的に、正弦波である ことを特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の磁気ベアリング。 4.前記固定子(12)が複数の固定子歯と複数の固定子スロット(S1〜S1 6)によって構成され、各スロットは前記固定子歯の 隣り合う一つ間にあることを特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の磁気ベ アリング。 5.前記固定子(12)が16スロットによって構成されていることを特徴とす る、特許請求の範囲第4項に記載の磁気ベアリング。 6.前記回転子/固定子ギャップ(15)の前記スロット(S1〜S16)は、 前記回転子(14)における損失を小さくするために、最小の間隔に設定されて いることを特徴とする、特許請求の範囲第4項に記載の磁気ベアリング。 7.さらに、前記回転子手段(14)と前記固定子手段(12)との間に前記回 転子/固定子ギャップ(15)を介して磁気バイアス磁束(φb)を発生させる ためのバイアス磁束手段(18,20)によって構成されていることを特徴とす る、特許請求の範囲第1項に記載の磁気ベアリング。 8.複数の固定子歯と複数の固定子スロット(S1〜S16)を有し、各スロッ トが前記固定子歯の隣り合う一つの間にある固定子(12)と、 前記固定子(12)に関して同心状に配置され、前記固定子(12)に関して 回転するとともに、回転子(14)と前記固定子(12)間に回転子/固定子ギ ャップ(15)を有する回転子(12)、 および 前記ギャップ(15)の円周に沿ういかなる点にも向けることができる前記ギ ャップ(15)の円周に沿って方向付け可能な2極磁界分布を供給するために、 前記固定子スロット(S1〜S16)に巻装された固定子巻線(150〜156 ,160〜166)、 によって構成され、前記分布は前記ギャップ(15)の全周に沿って分布され ることを特徴とする、磁気ベアリング。 9.前記巻線手段(150〜156,160〜166))が少なくとも2つの相 によって構成されていることを特徴とする、特許請求の範囲第8項に記載の磁気 ベアリング。 10.前記ギャップ(15)に沿う前記2極磁界分布が、本質的に、正弦波であ ることを特徴とする、特許請求の範囲第8項に記載の磁気ベアリング。 11.前記固定子(12)が16スロットによって構成されていることを特徴と する、特許請求の範囲第8項に記載の磁気ベアリング。 12.前記回転子/固定子ギャップ(15)の前記スロットは、前記回転子(1 4)における損失を小さくするために、最小の間隔に設定されていることを特徴 とする、特許請求の範囲第8項に記載の磁気ベアリング。 13.さらに、前記回転子手段(14)と前記固定子手段(12) との間に前記回転子/固定子ギャップ(15)を介して磁気バイアス磁束(φb )を発生させるためのバイアス磁束手段(18,20)によって構成されている ことを特徴とする、特許請求の範囲第8項に記載の磁気ベアリング。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.固定子と、 前記固定子に関して同心状に配置され、前記固定子に関して回転するとともに 、回転子と前記固定子間に回転子/固定子ギャップを有する回転子、および 前記ギャップに沿ういかなる点にも向けることができる前記ギャップに沿って 方向付け可能な2極磁界分布を供給するために、前記固定子に配設された巻線手 段、 によって構成されていることを特徴とする磁気ベアリング。 2.前記巻線手段が少なくとも2つの相によって構成されていることを特徴とす る、特許請求の範囲第1項に記載の磁気ベアリング。 3.前記ギャップに沿う前記2極磁界分布が、本質的に、正弦波であることを特 徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の磁気ベアリング。 4.前記固定子が複数の固定子歯と複数の固定子スロットによって構成され、各 スロットは前記固定子歯の隣り合う一つ間にあることを特徴とする、特許請求の 範囲第1項に記載の磁気ベアリング。 5.前記固定子が16スロットによって構成されていることを特徴とする、特許 請求の範囲第4項に記載の磁気ベアリング。 6.前記回転子/固定子ギャップの前記スロットは、前記回転子における損失を 小さくするために、最小の間隔に設定されていることを特徴とする、特許請求の 範囲第4項に記載の磁気ベアリング。 7.さらに、前記回転子手段と前記固定子手段との間に前記回転子/固定子ギャ ップを介して磁気バイアス磁束を発生させるためのバイアス磁束手段によって構 成されていることを特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の磁気ベアリング 。 8.複数の固定子歯と複数の固定子スロットを有し、各スロットが前記固定子歯 の隣り合う一つの間にある固定子と、 前記固定子に関して同心状に配置され、前記固定子に関して回転するとともに 、回転子と前記固定子間に回転子/固定子ギャップを有する回転子、および 前記ギャップに沿ういかなる点にも向けることができる前記ギャップに沿って 方向付け可能な2極磁界分布を供給するために、前記固定子スロットに巻装され た固定子巻線、 によって構成されていることを特徴とする磁気ベアリング。 9.前記巻線手段が少なくとも2つの相によって構成されていることを特徴とす る、特許請求の範囲第8項に記載の磁気ベアリング。 10.前記ギャップに沿う前記2極磁界分布が、本質的に、正弦波 であることを特徴とする、特許請求の範囲第8項に記載の磁気ベアリング。 11.前記固定子が16スロットによって構成されていることを特徴とする、特 許請求の範囲第8項に記載の磁気ベアリング。 12.前記回転子/固定子ギャップの前記スロットは、前記回転子における損失 を小さくするために、最小の間隔に設定されていることを特徴とする、特許請求 の範囲第8項に記載の磁気ベアリング。 13.さらに、前記回転子手段と前記固定子手段との間に前記回転子/固定子ギ ャップを介して磁気バイアス磁束を発生させるためのバイアス磁束手段によって 構成されていることを特徴とする、特許請求の範囲第8項に記載の磁気ベアリン グ。
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