JP2000500558A - 境界層制御用の電磁タイルのジグザグ作動 - Google Patents

境界層制御用の電磁タイルのジグザグ作動

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Abstract

(57)【要約】 フリーストリーム方向において表面に対して動いている電気伝導性流体の流れ中で境界層を制御する装置は、フリーストリーム方向およびそれに対して横切る方向に延びるアレイの形で表面(104)上に分配された選択的に作動可能な複数の制御領域タイル(406、506)を含む。各タイル(406、506)は、フリーストリーム方向に対して所定の配向を有する磁束線を有する磁界を流体中に発生する磁界発生手段(101、102)によって画定される。結果としての渦度分布は、アレイ上で、フリーストリーム方向に対して横切る方向における壁における渦度が小さくなり、かつフリーストリーム方向における境界層渦度集中の発生が抑制されるように、各制御領域上の流れ中に渦度分布を導入する制御領域を形成するためにタイル(406、506)を作動させる。

Description

【発明の詳細な説明】 境界層制御用の電磁タイルのジグザグ作動 関連出願のクロスリファレンス 本出願は、1995年11月20日出願の米国仮出願第60/007379号 の利点を請求する。 発明の背景 発明の分野 本発明は、多数の電磁タイル(tile)を使用して、壁に沿って流体の流れを制 御する方法に関し、さらに詳細には、壁に沿って境界層を極めて効率的に制御す るそのようなタイルのアレイの改善された作動技法および代替幾何形状に関する 。関連技術の説明 粘性流体、および流体中に完全に浸された物体は、流体および物体が互いに動 いたときに物体の表面において境界層を形成する。すなわち、物体に接触する流 体の層は実質上静止しているが、物体から離間した領域内では、流体はそのフリ ーストリーム速度で動く。物体とその領域との間の領域は、境界層と呼ばれる。 境界層は、小さいレイノルズ数において層流である。(Re=UL/ν。Uは フリーストリーム速度など固有の速度であり、Lは翼弦や船殻の長さなど物体の 固有の寸法であり、νは流体の動粘性率である)。レイノルズ数が大きくなると 、境界層は不安定かつ乱流になる。場合によっては、境界層は物体から「分離」 することがある。 第1(a)図および第1(b)図に翼など物体上の流体流れを示す。第1(a )図に示すように、翼10が小さい迎え角αで動作しているとき、フリーストリ ーム速度Uを有する流体ストリーム12は翼の上面14上を滑らかに流れる。 迎え角αおよび/またはレイノルズ数が大きくなると、第1(b)図に概略的に 示される不規則な流れ17によって示されるように、境界層は乱流になる。(説 明のために、境界層は、実際よりもはるかに厚いものとして第1図に示してある 。)非常に大きい迎え角αにおいて、境界層は、翼から分離し、次いで失速する 。境界層分離によってもたらされる揚力の損失の他に、渦および乱流18が境界 層中に発生する。 境界層乱流は粘性抵抗を増大させ、したがって追加の推進力の必要が生じ、し たがってまた航空機、潜水艦、推進機などの 速度を維持するためにより多くの燃料を消費する必要がある。さらに、流れが完 全に分離した場合、追加の圧力抵抗が生じる。さらに、乱流境界層は、雑音およ び振動を誘導する大きい速度および圧力変動を示す。第2図に、平坦なプレート の壁(y=0)における流体中および境界層の領域中の速度をプロットする。y =0において、速度uは、一般に零であると考えられる。速度は、yが増大する につれて増大し、フリーストリーム速度Uに近づく。したがって、平均流れ方 向における速度uは、u(y)と表すことができる。 平均流れ方向における平均壁せん断応力τwは次の関係式によって表される。 上式で、μは流体の粘度である。(各項上の線は、それらが時間平均を表すこと を示し、したがってこの式は層流ならびに乱流に対して有効である)。 また、壁せん断応力は次のように粘性抵抗に関連する。 上式で、dAは壁の基本領域である。 式(1)および式(2)は、壁におけるdu/dyが増大するにつれてτwな らびにDviscousが増大することを示す。 第2図に、同じ外部条件に対して、実線として示された層流境界層のu(y) 、および点線で示された乱流境界層のu(y)を示す。壁におけるdu/dyは 、壁上の同じ位置において乱流境界層よりも層流境界層のほうが小さいことを理 解されたい。したがって、境界層中の流れが層流に維持される場合、粘性抵抗が 小さくなる。 境界層流れを安定化させるためかつ/または境界層分離を遅らせるための様々 な手法がとられている。一つのそのような手法は、最大限の迎え角を達成するた めに翼の幾何形状を最適化するステップから構成される。しかしながら、最適な 翼形状でも翼は限られた迎え角でしか動作することができない。他の手法は、層 流境界層が早く乱流になるように層流境界層を「トリッピング」するステップを 含む。これは粘性抵抗を増大させるが、境界層分離が遅くなる。 対象物の表面に沿って境界層を制御する従来の手法はまた、境界層からエネル ギーを供給するか、または引き出すために翼 表面中の細いスリットを介して空気を吸引するか、または注入するステップを含 んでいた。しかしながら、対象物の表面上に細いスリットを形成する負担の他に 、そのような手法は、吸入または注入のために必要な力を与える広範囲の配管網 を必要とする。したがって、この手法は、対象物の全体的な重量および複雑さを かなり増大させ、これは、一般に(航空機や潜水艦など)たいていの用途の設計 目的に一致しない。 したがって、それらのより従来の構成は、境界層制御を効率的、実際的かつ容 易に実施される形で達成しない。 一方、電磁力を利用して、抵抗を小さくするまったく新規の形で境界層流れを 再編成する特に有効な境界層制御技法が米国特許第5437421号に記載され ている。その技法は、第3図に示すように、それぞれN磁極およびS磁極および アノードおよびカソードを形成する電極によって形成される多数の電磁制御領域 を使用する。第4図に、磁石Mおよび電極Eによって形成される制御領域タイル の二次元アレイを示す。タイルは、概してフリーストリーム流れ方向に沿った方 向ならびに一般にその方向に対して直角な方向において整列される。 米国特許第5537421号の発明の好ましい実施形態では、 アレイ中の個々のタイルは、アレイ全体を構成する多数の4タイルサブアレイの 中の各タイルサブアレイ中の同様に位置しているタイルが同時に作動するように 作動する。サブアレイ中のそれらの「同相」タイル(φ1、φ2、φ3、φ4)が適 切な周波しい低下をもたらす複数の回転流れ領域R中に編成される。臨界作動周波数fcr it は、実験によって決定され、境界層流れプロファイル中の結果u(y)critを 第5図に概略的に示す。その重要性は、本発明の好ましい実施形態の詳細な説明 に関して以下で詳細に説明する。 米国特許第5437421号に記載されている技法は、それ以前の従来の境界 層制御技法に比べて大幅に改善された。しかしながら、その技法は、以下で詳細 に論じるいくつかの欠点および制限を有する。それらの欠点および制限を克服す る努力は、米国特許第5437421号(および関連する米国特許第53203 09号)で論じられているように、電磁力を使用して境界層流れを制御する技法 に改善を加えたものである本発明をもたらした。発明の概要 本発明の目的は、物体上の粘性抵抗を小さくするために物体上の流れ中で境界 層の改善された制御を提供することである。 本発明の一態様によれば、フリーストリーム方向において表面に対して動いて いる電気伝導性流体の流れ中で境界層を制御する装置は、フリーストリーム方向 およびそれに対して横切る方向に延びるアレイの形で表面上に分配され、流体中 でフリーストリーム方向に対して所定の配向を有する磁束線を有する磁 電流発生手段によってそれぞれ画定された選択的に作動可能な複数の制御領域タ イルであって、磁界発生手段および電流発生互いに配置され、アレイ上で、フリーストリーム方向に対して横切る方向におい て壁における渦度が小さくなり、かつフリーストリーム方向における境界層渦度 集中の発生が抑制されるように、各制御領域上の流れ中に渦度分布を導入する制 御領域を 形成するためにタイルを選択的に作動させる制御手段とを含む。 図面の簡単な説明 本発明の様々な態様は、図面とともに行う以下に記載する好ましい実施形態の 詳細な説明を読めば最もよく理解できよう。 第1(a)図および第1(b)図は、翼のまわりの流体流れ、および翼表面上 に形成された境界層に対する流れ条件の影響を概略的に示す図である。 第2図は、代表的な境界層の流体速度プロファイルを示す図である。 第3(a)図は、本発明の原理を示す単一の制御領域とともに、米国特許第5 437421号に開示されている磁気境界層制御装置の平面図であり、第3(b )図は、第3(a)図の線B−Bの断面図である。 第4図は、制御領域タイルの二次元アレイを米国特許第5437421号の技 法に従って作動させたときに得られた流れの様式化された図である。 第5図は、近似的な従来の層流境界層速度プロファイルおよび乱流境界層速度 プロファイル、および第4図に示される流れ中の境界層速度プロファイルu(y )critを概念的に示す図 である。 第6(a)図から第6(d)図を含む第6図は、制御領域タイルの二次元アレ イの一実施形態、および本発明によるタイルを作動させる方法を示す図である。 第7(a)図から第7(d)図を含む第7図は、流体中で生成される様々な力 および場の数学的に生成された図である。 第8(a)図は、本発明の流れ制御を使用せずに平坦なプレート上の境界層中 の速度プロファイルおよびスパン方向渦度プロファイルを概略的に示す図である 。第8(b)図は、本発明に従って制御された流れ中のそのようなプロファイル を概略的に示す図である。 第9(a)図から第9(h)図を含む第9図は、本発明の他の実施形態を示す 図である。 第10(a)図は、作動していないアレイを使用したテスト装置中の実際の流 れを示す図である。第10(b)図は、米国特許第5437421号に従って作 動するアレイを使用した同じテスト装置中の実際の流れを示す図である。第10 (c)図は、本発明に従って作動するアレイを使用した同じテスト装置中の実際 の流れを示す図である。好ましい実施形態の詳細な説明 本発明は、米国特許第5320309号および米国特許第5437421号の 技法よりも粘性抵抗を一層小さくする形で境界層中の流れを編成する。 第3(a)図および第3(b)図に、上記特許に開示されているシステムの要 素ならびに本発明の要素を形成する単一の電磁制御領域を示す。(この制御領域 は、本発明および米国特許第5437421号のアレイの基本的ビルディングブ ロックを形成し、またどちらも全部記載されているように参照により本発明の一 部となる米国特許第5437421号および米国特許第5320309号に開示 されている。) 壁またはプレート100は、磁束線103を有する磁界Bを発生するN極10 1およびS極102を有する磁石を備える。磁束線103は、壁の表面104に 出入りし、したがって一般に壁の表面104に対して平行であり、かつフリース トリーム流体流れ方向xに対して直角であるが、磁石に近接して重要なy成分を 有する。(全体にわたって使用される座標系は第3(a)図および第3(b)図 に示されている。) 第3(a)図に示される磁極101および102は、プレー ト100の下(すなわち、表面104に対向する側)に適切な磁石(図示せず) によって与えられ、またプレートは、磁束が自由に通過できる非鉄材料である。 電磁石も使用できる。もちろん、磁極は、適切な構造によって与えられる。例え ば、一つまたは複数の磁石の極は、表面104自体の一部をなすように表面に対 して同一平面に配置することができ、また表面から突出することもできる。 電極106および107の両端間に取り付けられた電源105は、流体中の二 つの電極間で、矢印109によって示される電 である場合、電極106および107はプレートから絶縁される。 流体は伝導性であり、またフリーストリーム流体流れは大きい矢印Uによっ て示される。伝導性流体中の電流の方向は、電流密度が一般に流体媒質の平均流 れ方向xに対して平行なベ からカソード電極107に向かう方向であるが、電流の線はまた、電極に近接し て重要なy成分を有する。第3(b)図に示すように、電流と磁界との介在によ って発生する矢印131に て直角であり、かつ壁100に向かう方向において制御領域内で作用するが、磁 極と電極とによって画定された制御領域の縁 びz成分を有する。 第6図に、本発明に従って作動する制御領域タイルの新規の二次元アレイを使 用した流れ制御を示す本発明の一実施形態を示す。アレイは、一連の離間した永 久磁石401を含んでいる。磁極は、第6図に記号「N」および「S」によって 示される交番N極およびS極として構成される。(さらに、米国特許第5437 421号の第10(b)図に示されるような連結磁石は、その特許の議論によれ ば、磁束を強くする。)制御領域タイル406の二次元アレイは、別々に差動で きる電極407によって形成される。第6(a)図から第6(d)図では、磁束 線Bは、図が見やすいようにほとんどの作動しているタイルから省略してある。 第6図に示されるアレイは、自由に大きくすることができる。電極407は、 制御領域タイルが米国特許第5437421号 の場合のように平均流れ方向またはx方向に沿って整列するのではなく、スパン 方向またはz方向にジグザグになったアレイを形成するように配置される。すな わち、制御領域タイル、例えば行の406a1、406a2、406a3...は、 次の行の制御領域タイルから(z方向において)タイル幅の二分の一のピッチ でずれている。したがって、一つおきの行のタイルはx方向において整列する。 本発明では、タイルの隣接する行がタイル幅の二分の一のピッチで配置される 必要はない。本発明のこの実施形態の原理によれば、ずれはタイル幅の数分の一 でよい。例えば、ピッチは、三分の一でよい。その場合、三つおきの行のタイル はx方向において整列することになる。 第6(a)図から第6(d)図に、本発明の図示の実施形態による流れ制御用 に与えられた制御回路によって隣接する行がどのようにして流れ制御のために作 動するかを示す。またそれらの図は、それぞれ四相作動サイクルの中の一つの相 における電極407の作動状態を示す。タイルの各行ごとに、電極407は、第 6(a)図から第6(d)図に示すように正および負の電圧に選択的に接続され る。 制御領域タイルは、四相サイクル中に作動する。第6(a)図、第6(b)図 、第6(c)図、第6(d)図はそれぞれ、相φ1、φ2、φ3、φ4を示す。第6 (a)図から第6(d)図の「+」符号は正の電極を示し、「−」符号は負の電 極を示す。各相は25%デューティーサイクルを有し、したがって所与の相の作 動時間は四つのすべての相について全作動時間の25%になる。本明細書に開示 する原理に従ってアレイを作動させる適切な制御回路を備えることが当業者なら 容易にできよう。例えば、適切なクロック回路の影響下で動作する半導体スイッ チング回路は、適切な時刻において選択された電極407への必要な電気接続を 実施する。作動周波数は、次の関係式に従って決定される。 上式で、fは作動周波数であり、Ucは(フリーストリーム速度Uおよびアレ イの幾何形状および作動条件に関連する)タイル作動によってもたらされる動揺 の固有対流速度であり、Δxは、同じスパン方向(z)座標を有する二つのタイ ルのストリーム方向(x)における間隔である。また、最適な作動周波 数は実験的に決定される。 第6(a)図から第6(c)図を参照すると、四相サイクルの作動パターンは 表1に示すようなものになることが理解できよう(表1の見出しは、第6図のタ イルの下付文字を表す。例えば、表1の「a2」は第6図のタイル406a2を表 す)。 この作動パターンは、上で論じたように決定された適切な周波数において、以 下の原理に従って境界層流れを制御する。 米国特許第5437421号(その第4図およびその説明文粘性を発生することが説明されている。同じ機構が本明細書の第6図に示される 実施形態でも働く。この実施形態では、米国特許第5437421号の第10図 に示される実施形態の場合 域タイルの縁部または周縁部における流れ中の磁束線および電流がプレートの表 面に出入りするときに実際に曲がるために発 米国特許第5437421号では、その特許出願で論じられているように制御 領域タイルのアレイを作動させることによって生じる境界層中の速度プロファイ ルの観点から流れを検討している。米国特許第5437421号に記載されてい るように、抵抗Dは、次のように境界層速度プロファイルu(y)の形で表すこ とができる。 上式で、ρは流体の質量密度である。 式4中の丸括弧中の項は、プレートの表面において零になる流体速度によって もたらされた「失われた運動量」の尺度と考えられる。その項が大きくなると、 「失われた運動量」がx方向におけるプレートに対する力中に現れるので、プレ ートに対する抵抗が大きくなる。その項は、第5図の曲線u(y)の下の領域を 表し、プレート上の所与の位置において、米国特許第5437421号に開示さ れている発明によって抵抗が小さく なることを意味する。 しかしながら、その発明によって作成される流体流の物理特性を理解すれば、 本発明が抵抗を低下させるのに有効な理由はこれに使用されるアレイおよび作動 パターンによって課される流れの状態を共振現象とみなせるからである。すなわ ち、所与の制御タイル領域の各作動が各制御領域の所与の位置における流体に増 分量の渦度を発生するだけであっても、このような流体が通過する他の領域の適 正な時間における作動は、流れがこの特許において説明されているように編成さ れるようになるまで局部渦度を連続的に強化する。 しかし、その後の調査により、抵抗の低下が翼幅(z)方向では一様ではなく 、また抵抗の低下がかなり狭い範囲のローレンツ力の大きさ(すなわち、電極に 印加される狭い範囲の電圧)でピークとなるか、いくら大きい電圧を電極に印加 しても上限にすぐ達してしまうかのいずれかであることが判明した。 これらの現象を考慮すると、米国特許第5437421号に記載されている流 れ制御を分析する他の方法が、結果として得られる速度のプロファイルではなく 、流れ内の渦度の分布の観点からの流れの観察によるものであることが認識され る。その 場合にのみ、流れを強制的に再編成する態様が局部的な長手方向での渦度の集中 も引き起こすことが理解されよう。本発明はアレイに沿った長手方向の渦度の局 部集中を防止するか、あるいは理想的には排除するとともに、電磁制御領域タイ ルによって発生するローレンツ力を使用して流れ内に渦度を発生させることによ って得られる抵抗の低下を達成することによって、この見識を利用する。 第7図は本発明の基礎を成す物理的機構のきわめて概略的な図である。これは ある種の想定条件下で示されるパラメータの概念値をコンピュータによって視覚 化したものである。第7(a)図は第6図に示したアレイの単一のタイル406 を画定 ある。第7(a)図が示しているように、電流密度は特にタイルの縁部近傍にお いてxおよびy方向の成分を有しているが、主な成分は一方の電極から他方への z方向のものである。第7近傍においてy方向の成分を有しているが、主な成分はx方向のものである。第 6図に示すアレイ内の磁石がz方向へ連続して延びているため、磁界には感知で きるz成分がない。磁石の 端部において、磁界は第7(a)図に示した電流と同様なz方向性分を有するこ ととなる。したがって、得られるローレンツ力場は第7(c)図に示すように表 すことができ、制御領域全 は矢印の先端におけるローレンツ力を概念的に示したものである。 当分野の技術者には、流れの任意所定の点におけるモーメン きよう。渦度の式がモーメントの式の回転であるから、渦度の 関係式で表される既知の「回転」ないし「del」演算子である)。 ツ力の回転)は二次元アレイのタイルにおける流れ内の渦源となるが、これはパ ターン内のそれぞれのタイルの作動がアレイ らである。ローレンツ力が存在している場合に発生する渦度を第7(d)図に示 すように純粋に概念的に視覚化できるが、こ 域にプロットしたものである。第7(d)図はしたがって、第 作動によって発生する渦度の性質を定性的に視覚化することを可能とする。 上記したように、本発明につながる見識は流れを境界層において結果として得 られる速度のプロファイルではなく、アレイ内の渦度の分布という観点から考慮 すべきであるということを認識したものである。この手法が本発明につながった ものであり、米国特許第5437421号で検討されている技法によって得られ る大きい抵抗の低下に比較しても、抵抗をさらに大幅に低下させることが達成さ れる。 翼幅方向の渦度(すなわち、ωz)に関し、式5は次の関係式を与える。 ただし、uxおよびuyはそれぞれxおよびy方向での流れの速度成分である。 ∂uy/∂uxは壁においてゼロとなり、したがって次のようになる。 式7を式1および2と比較すると、抵抗がy=0におけるωのz成分(すなわ ち、ωz,o)によって決定されることがわかる。したがって、ωz,o(壁における 翼幅方向渦度)を少なくすると、抵抗が低下する。 第8(a)図および第8(b)図の略図はこの現象を示す。(ω(y)のプロ ットの横座標に対するマイナス記号は明確とするため省略されている)。 第8(a)図は速度とωzのプロファイルを示す(方向は紙面に垂直である )。第8(a)図に示した速度プロファイルにより、式7による図示のωz,oを もたらす。 第8(b)図に示したものと同様な速度プロファイルが、上述のように第6図 に示したアレイを作動させることによって生 じる。これが定性的には第5図のu(y)critと同様なものであるから、これも 式4による抵抗の低下をもたらす。また、∂ux/∂yが小さいため、ωz,oのω ′z,oへの減少ももたらす。 本発明は壁における翼幅方向渦度(ωz,o)を減少させるとともに、一つの制 御領域によって誘導される長手方向渦度が下流の制御領域によって誘導される長 手方向渦度によって大幅に打ち消されるように、流れに渦度を導入するものであ るから、抵抗のさらに大幅な低下を達成するものである。米国特許第54374 21号の従来の手法は長手(x)方向の渦度を局所に集中させるものであった。 これは以下の原理により抵抗の低下量を制限していた。 当分野の技術者には、所与の制御領域タイルの作動が流れ内の総渦度を変えな いことが即座に認識されよう。これは渦度の分布を変えるが、実際には等しい量 の正負方向の渦度を導く。物理的な原理(すなわち、角モーメントの保存)は、 総誘起渦度が制御される流れにおいてゼロでなければならないのであるから、同 じ量の正および負方向の渦度が翼幅および長手方向へ導入されることを必要とす る。 従来の構成では、流体が後で作動した下流の制御領域の影響を受けるようにな ったときに、所与の制御領域によって流体に導入された正負の長手方向渦度が強 められることが認識されている。実際には、その発明の目標は一つの制御領域に よって導入された渦度が後で遭遇する制御領域によって強められるように制御領 域を実際に作動させることである。 米国特許第5437421号の発明は驚くべき抵抗の低下をもたらすものであ るが、本発明はその発明によって達成された抵抗の低下が実際には、境界層にお ける速度プロファイルの再分布による翼幅方向の壁の近くでの渦度の減少の結果 (すなわちωz,o、第8図参照)であると認識することから始まっている。渦度 の分布の観点から考えた場合、以前の手法が流れを、粘性抵抗の大きい原因であ ることが知られている長手方向(すなわち、ストリーム方向)の渦度ωxを強め る状況にするものであることが判明した。 長手方向の渦度は乱流境界層の存在に必須のものであることが知られており、 したがって、粘性抵抗の主要な源である。第2図および第5図を、式1および2 とともに参照されたい。乱流境界層においては、逆回転の長手方向渦が翼幅(z )方向で ある程度規則正しく発生する。このような渦が壁の近くの流体の剥離につながり 、その後その流体に高速なフリーストリーム流体が補充される(いわゆる「バー ストスウィープ」現象)ことが実験的に観察された。従来の発明は実際にこの長 手方向渦度を高め、したがって抵抗の低下が必然的に制限される。本発明は抵抗 をさらに低下させることを実現するものであるが、物理的な原理から本発明の制 御領域を使用して長手方向の渦度の導入を回避することは不可能である。 上記の説明にしたがい適切な制御回路によって作動させられた第6図によるア レイが、上流の制御領域によって生じた長手方向渦度を減衰するように分布され た長手方向渦度を、下流の制御領域が生じさせるような態様で長手方向渦度を導 入することが判明した。その結果、壁における翼幅方向の渦度ωzの減少による 抵抗の低下を最大限とすることができる。 第9図は本発明の他の実施の形態を示し、この実施の形態において制御領域タ イルはx方向へそろえられているが、陰のついた作動制御領域をもたらし、これ によって個々のタイルによって生じた長手方向渦度の集中が本発明により作成さ れた下流タイルによって打ち消される態様で作動させられる。 第9図に示したもののようなアレイについて、作動パターンを表2に示す。 第9図の実施の形態においてx方向にそろえられている制御領域タイルは表2 に概要を示した八相サイクルで作動し、各相におけるデューティサイクルは12 .5%である。作動周波数は上述のようにして決定される。 以下の実施形態は本発明を説明し、上述のような理論的根拠を検証するもので ある。実施形態 第9図に示したもののようなアレイを、米国特許第5437 421号に示されているもの(第7図参照)と類似した流れチャネルでテストし た。チャネルの寸法はその特許で論じられているものから若干改変されており、 テスト部分は流動流体によって完全に満たされた密閉円筒であった。x方向で約 0.22m(十六個の制御領域)、z方向で約0.072m(七個の制御領域) という全体的な寸法のテストアレイを使用した。制御領域は第9図に関して上述 したようにして作動させた。テストアレイは、各タイルの中央において約0.4 ガウスのピーク横断磁束を発生する永久磁石を含んでいた。約1.0ma/cm2 程度の大きさのピーク電流を関連する電極の間に流すことによってタイルを作 動させた。作動周波数は5Hzであり、デューティサイクルは12.5%であり 、したがって1.6秒で所与の作動シーケンスの八相のすべてが作動した。流速 は約7.50cm/秒であった。流体は導電性(約2.55S/m)であり、上 述の特許で論じられているように、流れを視覚化するために染料を使用した。 比較例として、等相のタイルを上述の特許の第10図に関連して述べられてい るようにして作動させた。 第10(a)図から第10(c)図はテストの結果を示す。 x方向下流に向けた(第10図左上のy−z軸で示すように)ビデオレコーダを 使用し、薄いレーザエネルギーの層を境界層に当てて、染料を蛍光発光させて、 流れを視覚化した。(米国特許第5437421号の第7図参照。) 第10(a)図はアレイを不作動化させた場合の流れの状態を示す。アレイを 有する板体上の抵抗Dを測定した。明るい領域Bは境界層内の流れを表す。 第10(b)図は電極に0.4ワットの総電力を印加して、上述の特許で述べ られている発明にしたがってアレイを作動させた場合の流れの状態を示す。抵抗 は制御領域がいずれも作動していない場合(第10(a)図)の抵抗に比較して 25%低下した。すなわち、ΔD/D=−0.25である。さらに、上記の特許 で論じられている(第11図および第12図参照)強い回転流の領域が、第10 (b)図において、境界層流を表面から引き離す集中した長手方向渦度の領域B1 、B2、B3として示されている。 第10(c)図はアレイを第9図に関連して上述したようにして作動させた場 合の流れの状態を示す。抵抗は制御領域を作動させていないアレイに比較して8 5%、第10(b)図に示 した従来の技術と比較して25%低下しており、印加電力は僅か0.02ワット であった(第10(b)図の5%)。第10(c)図は境界層内の流れが翼幅( z)方向へより均一に持ち上がっていることも示しており、壁におけるωzの減 少を実証している(第8(b)図参照)。 第10図が長手(x)方向で見た図であるから、第10(b)図の高くなった 明るい領域B1、B2、B3は長手方向の渦度が強くなった領域を示している。第 10(c)図は長手方向の渦度がどのようにして減らされたかを示し、制御領域 タイルによって導入された渦度を再分布させることによって長手方向渦度の集中 を減少させた結果、翼幅方向の渦度がより一様に増加し、翼幅方向に沿った表面 (第8(b)図参照)におけるωzが減少したことを示している。これらの図に 示した境界層は層流であるが、これらの図は全体として、従来の手法を使用して 導入された長手方向渦度の集中を本発明が減衰させることを確認するものである 。 これらの図は、流れを米国特許第5437421号に記載されている発明にし たがって制御した場合に生じる翼幅方向の抵抗の変動源も確認している。したが って、これらの実験により、 その発明で発生した抵抗の低下に関する制限が、境界層における長手方向渦度を 打ち消そうと試みた結果ではなく、強化しようとしたことによる悪影響の結果で あることが明確となった。 上述したような磁気境界層制御装置を境界層の制御が望まれるあらゆる表面に 設けることができることが理解されよう。 本発明は別々の要素として製造することが簡単であり、現在稼働中の船舶、航 空機を簡単に改装できる装置を提供する。したがって、磁気境界制御装置は大量 生産が簡単に行え、これが装着される船舶、航空機の稼動場所へ配送することが 簡単に行えるものである。この装置は最小限の時間および作業で、船舶、航空機 などの内皮、たとえば潜水艦のセールに簡単に取り付けることができるものであ る。 もちろん、本発明が詳細に説明したもの以外の形状を取ることができ、本発明 の範囲が以下の請求の範囲のみによって決定されるものであることが理解されよ う。
【手続補正書】特許法第184条の4第4項 【提出日】1997年5月8日(1997.5.8) 【補正内容】 請求の範囲 1.フリーストリーム方向において表面に対して動いている電気伝導性流体の流 れ中で境界層を制御する装置において、 フリーストリーム方向およびそれに対して横切る方向に延びるアレイの形で表 面上に分配され、流体中でフリーストリーム y、z、t)を発生する磁界発生手段、および流体中で磁束線 段によってそれぞれ画定され、それにより特定のタイルの作動 域タイルと、 前記アレイ上で、フリーストリーム方向に対して横切る方向において壁におけ る渦度が小さくなり、かつフリーストリーム方向における境界層渦度集中の発生 が抑制されるように、各前記制御領域上の流れ中に渦度分布を導入する制御領域 を形成するために前記タイルを選択的に作動させる制御手段とを含む装 置。 2.前記アレイが、それぞれ複数の前記タイルを含む前記制御領域タイルの複数 の隣接する行を含む請求の範囲第1項に記載の装置。 3.前記磁界発生手段が複数の平行な磁石を含み、かつ前記電流発生手段が前記 磁石の間に複数の平行な電極を含む請求の範囲第2項に記載の装置。 4.前記磁石が一般にフリーストリーム方向に対して横切る方向に延びる永久磁 石を含み、かつ前記電極が一般にフリーストリーム方向に延びる請求の範囲第3 項に記載の装置。 5.隣接する前記行中の隣接する前記制御領域タイルがずれている請求の範囲第 4項に記載の装置。 6.各前記制御領域タイルが、フリーストリーム方向およびそれに対して横切る 方向において他の前記制御領域タイルと実質上同じ寸法を有し、 各前記制御領域タイルが、フリーストリーム方向に対して横切る方向において 前記タイルの寸法の二分の一の距離だけ隣接する前記行中の各前記制御領域タイ ルからずれており、 前記制御手段が、前記制御領域タイルを含む前記電極を作動 させることによって一つおきの前記行中の四つおきの制御領域タイルを作動させ るように構成され、一つおきの前記行中の作動している前記制御領域タイルが、 一つの制御領域タイルだけずれるよう整列され前記行に隣接しており、前記制御 手段が、各前記行中の隣接する前記制御領域タイルを連続的に作動させ、それに より前記行中の各前記制御領域タイルが、前記行中のすべての前記制御領域タイ ルを作動させるのに必要な周期の25%の間作動する請求の範囲第5項に記載の 装置。 7.隣接する前記行中の隣接する前記制御領域タイルが整列している請求の範囲 第4項に記載の装置。 8.各前記制御領域タイルが、フリーストリーム方向およびそれに対して横切る 方向において他の前記制御領域タイルと実質上同じ寸法を有し、 前記制御手段が、作動している制御領域を画定する前記二つの電極を作動させ ることによって前記作動している制御領域を形成する形で前記電極を作動させる ように構成され、一つおきの前記行中の前記作動している制御領域が、整列して おり、かつ隣接する前記行中で、隣接する前記行中の前記作動している制御領域 の中間にあり、前記制御手段が、各前記行中の各作動 している制御領域が前記行中のすべての前記作動している制御領域を作動させる のに必要な周期の12.5%の間作動するように各行中の隣接する前記電極を連 続的に作動させる請求の範囲第7項に記載の装置。 ある請求の範囲第1項に記載の装置。 る請求の範囲第9項に記載の装置。 11.前記磁界発生手段が、前記電流発生手段によって生成された電流に対して 直角な磁束線を有する磁界を提供するように配置された請求の範囲第1項に記載 の装置。 12.表面が揚力面を含む請求の範囲第1項から第8項のいずれか一項に記載の 装置。 13.前記揚力面が制御表面である請求の範囲第12項に記載の装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.フリーストリーム方向において表面に対して動いている電気伝導性流体の流 れ中で境界層を制御する装置において、 フリーストリーム方向およびそれに対して横切る方向に延びるアレイの形で表 面上に分配され、流体中でフリーストリーム y、z、t)を発生する磁界発生手段、および流体中で磁束線 段によってそれぞれ画定され、それにより特定のタイルの作動 域タイルと、 前記アレイ上で、フリーストリーム方向に対して横切る方向において壁におけ る渦度が小さくなり、かつフリーストリーム方向における境界層渦度集中の発生 が抑制されるように、各前記制御領域上の流れ中に渦度分布を導入する制御領域 を形成するために前記タイルを選択的に作動させる制御手段とを含む装 置。 2.前記アレイが、それぞれ複数の前記タイルを含む前記制御領域タイルの複数 の隣接する行を含む請求の範囲第1項に記載の装置。 3.前記磁界発生手段が複数の平行な磁石を含み、かつ前記電流発生手段が前記 磁石の間に複数の平行な電極を含む請求の範囲第2項に記載の装置。 4.前記磁石が一般にフリーストリーム方向に対して横切る方向に延びる永久磁 石を含み、かつ前記電極が一般にフリーストリーム方向に延びる請求の範囲第3 項に記載の装置。 5.隣接する前記行中の隣接する前記制御領域タイルがずれている請求の範囲第 4項に記載の装置。 6.各前記制御領域タイルが、フリーストリーム方向およびそれに対して横切る 方向において他の前記制御領域タイルと実質上同じ寸法を有し、 各前記制御領域タイルが、フリーストリーム方向に対して横切る方向において 前記タイルの寸法の二分の一の距離だけ隣接する前記行中の各前記制御領域タイ ルからずれており、 前記制御手段が、前記制御領域タイルを含む前記電極を作動 させることによって一つおきの前記行中の四つおきの制御領域タイルを作動させ るように構成され、一つおきの前記行中の作動している前記制御領域タイルが、 一つの制御領域タイルだけずれるよう整列され前記行に隣接しており、前記制御 手段が、各前記行中の隣接する前記制御領域タイルを連続的に作動させ、それに より前記行中の各前記制御領域タイルが、前記行中のすべての前記制御領域タイ ルを作動させるのに必要な周期の25%の間作動する請求の範囲第5項に記載の 装置。 7.隣接する前記行中の隣接する前記制御領域タイルが整列している請求の範囲 第4項に記載の装置。 8.各前記制御領域タイルが、フリーストリーム方向およびそれに対して横切る 方向において他の前記制御領域タイルと実質上同じ寸法を有し、 前記制御手段が、作動している制御領域を画定する前記二つの電極を作動させ ることによって前記作動している制御領域を形成する形で前記電極を作動させる ように構成され、一つおきの前記行中の前記作動している制御領域が、整列して おり、かつ隣接する前記行中で、隣接する前記行中の前記作動している制御領域 の中間にあり、前記制御手段が、各前記行中の各作動 している制御領域が前記行中のすべての前記作動している制御領域を作動させる のに必要な周期の12.5%の間作動するように各行中の隣接する前記電極を連 続的に作動させる請求の範囲第7項に記載の装置。ある請求の範囲第1項に記載の装置。 る請求の範囲第9項に記載の装置。 11.前記磁界発生手段が、前記電流発生手段によって生成された電流に対して 直角な磁束線を有する磁界を提供するように配置された請求の範囲第1項に記載 の装置。 12.表面が揚力面を含む請求の範囲第1項から第8項のいずれか一項に記載の 装置。 13.前記揚力面が制御表面である請求の範囲第9項に記載の装置。
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